JP4127113B2 - 光ファイバへの入射光モニタ装置及びこれを備えた光伝送装置 - Google Patents

光ファイバへの入射光モニタ装置及びこれを備えた光伝送装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバへの光入射状況をモニタする入射光モニタ装置、及びこれを備えている光伝送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、逆分散型二重分光器等を用いて、光ファイバから出力された光のうち、特定波長の光を抽出して、この特定波長の光を他の光ファイバに戻す技術が開発されてきている。
【0003】
このような技術において、特定波長の光を光ファイバに戻す際に、確実に、光ファイバに光が入射しているかをモニタする技術がある。
【0004】
光ファイバに光が確実に入射しているかをモニタするためには、例えば、以下の非特許文献1や特許文献1に記載されている技術を利用することができる。
【0005】
非特許文献1に記載されている技術は、特定波長の光が入射する光ファイバに、光カップラを接続し、この光カップラで光ファイバに入射した光の一部をタッピングして、この一部の光をモニタする技術である。この技術を用いることで、光ファイバに光が入射しているかを確認することができる。
【0006】
また、特許文献1に記載されている技術は、光ファイバの端面に、例えば、4分割センサを取り付けて、入射ビームの位置ズレを検出する方法である。
【0007】
【非特許文献1】
著 波平宜敬 「DWDM光測定技術」 (株)オプトロニクス社出版
平成13年3月10日発行 P95
【特許文献1】
US6,483,962B1
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、非特許文献1に記載されている技術を利用する場合、光ファイバに入射した光の一部をモニタに利用するために、光ファイバ毎に光カップラが必要で構成が煩雑になるという問題点がある。また、特許文献1に記載されている方法では、実際の製造が困難な上に、入射角度のズレは検知できないという問題点がある。
【0009】
本発明は、このような問題点に着目し、簡易な構成で、光ファイバへの入射状況をモニタできる入射光モニタ装及びこれを備えている光伝送装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための請求項1に係る発明の入射光モニタ装置は、
光ファイバの入射端面に至った光のうち、該入射端面で反射した光を所定の方向に導くモニタ光学系と、該モニタ光学系により導かれた光を受光し、受光面内での受光位置を出力する受光手段とを有し、
前記モニタ光学系は、コリメート光学系であって、前記コリメート光学系はその焦点位置が前記モニタ面上にあるように配置され、
前記受光面内での光の受光位置により、前記入射端面に対する光の入射角度を検出する、ことを特徴とする。
【0017】
前記問題点を解決するための請求項2に係る発明の光伝送装置は、
請求項1に記載の入射モニタ装置と、前記光ファイバと、前記光ファイバに対する入射光の入射角度を調整するビームステアリング機構とを備え、
前記ビームステアリング機構は、前記入射光モニタ装置が検出した前記光ファイバに対する光の入射角度に応じて、前記光ファイバに対する光の入射角度を調整する、ことを特徴とする。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る光伝送装置の各種実施形態について、図面を用いて説明する。
【0023】
まず、図1及び図2を用いて、本発明に係る光伝送装置の第一の実施形態について説明する。
【0024】
本実施形態の光伝送装置は、図2に示すように、1つの入力用光ファイバ11及び複数の出力用光ファイバ12,12,…より成る光ファイバ束10と、入力用光ファイバ11からの光のうちの特定波長の光を出力用光ファイバ12に導く逆分散二重分光器20と、出力用光ファイバ12への光の入射状況をモニタする入射光モニタ装置30と、を備えている。
【0025】
逆分散二重分光器20は、入力用光ファイバ11からの光を分光する回折格子21と、MEMS(Mycro Electro Mechanical System)22と、入力用光ファイバ11からの光を回折格子21へ導き、回折格子21を通過した光をMEMS22に導いた後、回折格子21を介して出力用光ファイバ12,12aへ導く光学系25と、を備えている。
【0026】
MEMS22は、複数のマイクロミラーを1次元的に並べたマイクロミラーアレイ23と、このマイクロミラーアレイ23を構成する各マイクロミラーを個別に駆動させるミラードライバ24と、を有している。各マイクロミラーは、全て同じ大きさの平面鏡で、その大きさは、およそ数10μm〜数100μm角である。このMEMS22は、ビームステアリング機構として機能し、後述するように、入射光モニタ装置30からの信号に応じて、出力用光ファイバ12に対する光の入射位置を調整する。
【0027】
この逆分散二重分光器20は、入力用光ファイバ11からの光を回折格子21で分光し、分光された光の各々の波長域の光をマイクロミラーアレイ23のうちの前記波長域に対応する各々のマイクロミラーで反射して、光学系25及び回折格子21を介して、複数の出力用光ファイバ12,12,…のうちの所望の出力用光ファイバ12へ入射させる。なお、図2では、回折格子21で分光された各波長域のうちの1つの波長域の光路のみを例示している。
【0028】
入射光モニタ装置30は、図1に示すように、出力用光ファイバ12の入射端面13からの反射光を特定の方向に導くモニタ光学系と、このモニタ光学系により導かれた光を受光する2次元受光センサ35と、を有している。
【0029】
光ファイバの端面13は、一般的に、ファイバ光軸Cに対して90°にカットされておらず、この端面13からの反射による戻りを防止するために、ファイバ光軸Cに対して(90+α)°でカットされている。このα°は、例えば、8°程度である。モニタ光学系は、ファイバ光軸Cに対して傾いている入射端面13からの反射光を捕えて、2次元受光センサ35に導く。モニタ光学系は、結像光学系31で構成されている。モニタ面である出力用光ファイバ12の入射端面13と2次元受光センサ35の受光面とは、この結像光学系31に対して、光学的に共役な位置に配置されている。
【0030】
2次元受光センサ35は、複数の受光素子が二次元的に並べられたもので、複数の受光素子のうち、光を受けた受光素子が受光量に応じた電気信号を逆分散二重分光器20のミラードライバ24へ出力する。すなわち、2次元受光センサ35は、どの位置にどの程度の光を受光したかを示す信号を出力する。逆分散二重分光器20のミラードライバ24は、この出力信号に基づいて、マイクロミラーアレイを駆動する。
【0031】
例えば、逆分散二重分光器20から出力用光ファイバ12の入射端面13へ特定波長の光Aが出射されたとする。この光Aは、一部が出力用光ファイバ12に入射し、残りの一部が入射端面13で反射して、結像光学系31により、2次元受光センサ35上のある位置を照らす。2次元受光センサ35は、入射端面13からの光Aを受光すると、前述したように、どの位置にどの程度の光を受光したかを示す信号を逆分散二重分光器20のミラードライバ24へ出力する。ミラードライバ24は、目標受光パターンを予め記憶しており、2次元受光センサ35からの信号が示す受光パターンと、目標受光パターンとを比較し、目標受光パターンに対する実際の受光パターンの偏差に応じて、マイクロミラーアレイの駆動量を定める。この結果、逆分散二重分光器20からの光を的確に目的の出力用光ファイバ12へ入射させることができる。
【0032】
以上のように、本実施形態では、本来、捨ててしまう光である、出力用光ファイバ12の入力端面13からの反射光をモニタしているので、この出力用光ファイバに入射した光を損なうことはない。しかも、入力端面13からの反射光をモニタしているだけであるため、わざわざ、光ファイバに光カップラを設ける必要もなく、装置としての構成が簡略化し、装置コストを抑えることができる。
【0033】
次に、図3及び図4を用いて、本発明に係る第二の実施形態としての光伝送装置について説明する。
【0034】
本実施形態の光伝送装置も、第一の実施形態と同様に、光ファイバ束、逆分散二重分光器、入射光モニタ装置30aとを備えている。
【0035】
図3に示すように、本実施形態の出力用光ファイバ12の入力端面13には、屈折率マッチング媒質29を介して、透明固体媒体26が密着している。この透明固体媒体26は、光ファイバ束側面27aと逆分散二重分光器側面27bのいずれもが平面研磨されている。透明固体媒体26は、図示されていない光ファイバ束が並んでいる方向に伸び、複数の出力用光ファイバの入力端面、さらに、入力用光ファイバの出力端面とも、この透明固体媒体26の光ファイバ束側面27aに、屈折率マッチング媒質29を介して密着している。屈折率マッチング媒質29は、入力用光ファイバの出力端面から透明固体媒体26に光が入射する際、及び、透明固体媒体26から入力用光ファイバ12に光が入射する際、反射等による光量損失をできる限り少なくするために使用されている。
【0036】
透明固体媒体26の光ファイバ束側面(光出射面)27aのうち、透明固体媒体26から出力用光ファイバ12への光が通る目標部分28aを除く部分、言い換えると、出力用光ファイバ12のコア端面14に対応する部分28aを除く部分には、裏面反射膜28が施されている。このため、出力用光ファイバ12への光が通る目標部分28aは、ピンホール状に光学的に透明で、ここに至った光は、そのほとんどが出力用光ファイバ12のコアに入射する。一方、ピンホール28aの回りに至った光は、そのほとんどが、裏面反射膜28で反射してしまう。
【0037】
入力用光ファイバからの光は、透明固体媒体26を介して、逆分散二重分光器に入射し、この逆分散二重分光器で特定波長の光のみが抽出される。逆分散二重分光器からは、この特定波長の光が透明固体媒体26を介して、出力用光ファイバ12に入射する。
【0038】
入射モニタ装置30aは、この出力用光ファイバ12への光の入射状況をモニタする。この入射モニタ装置30aも、第一の実施形態と同様、図3及び図4に示すように、結像光学系と2次元受光センサ35とを有している。結像光学系は、透明固体媒体26の逆分散二重分光器側面27bに取り付けられているマイクロレンズ31bを有している。この実施形態において、結像光学系31bに対して、2次元受光センサ35の受光面と光学的に共役な位置にあるのは、モニタ面である反射膜28の反射面、つまり透明固体媒体26の光ファイバ束側面27aである。
【0039】
この入射モニタ装置30aも、第一の実施形態と同様に、モニタ面である反射膜28からの反射光を2次元受光センサ35で受光し、受光した位置及び光量に応じた信号を出力する。
【0040】
ミラードライバ24は、2次元受光センサ35からの信号を受信すると、この信号が示す受光パターンと、目標受光パターンとを比較して、マイクロミラーアレイの駆動量を定める。但し、本実施形態では、ミラードライバ24が予め記憶している目標受光パターンが第一の実施形態と異なる。第一の実施形態は、モニタ面のどこで反射しても、2次元受光センサ35上の受光位置が変わるだけで、2次元受光センサ35が受光する光量は基本的にほとんど変わらない。したがって、第一の実施形態の目標受光パターンは、2次元受光センサ35上で、目標部分に対応する位置の光量が最大になるパターンである。一方、本実施形態では、モニタ面中で、目標部分28aに光が至った場合、そのほとんどが反射せず、目標部分28aに光が至らなかった場合に、そのほとんどが反射して、これが2次元受光センサ35に導かれるため、目標受光パターンは、2次元受光センサ35上で、目標部分28aに対応する位置の光量が最小になるパターンである。
【0041】
以上、本実施形態でも、出力用光ファイバ12に入射しない光である、透明固体媒体26に形成した反射材28からの反射光をモニタしているので、この出力用光ファイバに入射した光を損なうことはない。
【0042】
なお、本実施形態では、透明固体媒体26の光ファイバ束側面(光出射面)27aに反射材28を施したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば、透明固体媒体26の逆分散二重分光器側面(光入射面)27bや、出力用光ファイバ12の入射端面13に反射材を施し、この反射材で反射した光をモニタするようにしてもよい。
【0043】
次に、図5を用いて、本発明に係る第三の実施形態としての光伝送装置について説明する。
【0044】
本実施形態の光伝送装置も、第一の実施形態と同様に、光ファイバ束、逆分散二重分光器、入射光モニタ装置30bとを備えている。
【0045】
入射光モニタ装置30bは、出力用光ファイバ12の入射端面13からの反射光を特定の方向に導くモニタ光学系と、このモニタ光学系により導かれた光を受光する2次元受光センサ35と、を有している。モニタ光学系は、第一の実施形態と異なり、コリーメタ光学系31bで構成されている。このコリーメータ光学系31bの焦点位置には、モニタ面である出力用光ファイバ12の入射端面13が位置している。このため、出力用光ファイバ12の入射端面13に反射して、コリーメータ光学系31bを通過した光は平行光となる。
【0046】
ところで、本実施形態の逆分散二重分光器は、出力用光ファイバ12に対する光の照射位置は、入力端面中のコア端面14の位置で基本的に変化しないが、出力用光ファイバ12に対する光の照射角度が変わるものである。このため、第一の実施形態のように、モニタ光学系として結像光学系31を用いると、出力用光ファイバ12に対する光の照射角度が変わっても、2次元受光センサ35での受光位置はほとんど変化しない。そこで、本実施形態では、出力用光ファイバ12に対する光の照射角度が変わった場合に、2次元受光センサ35での受光位置が変わるように、モニタ光学系としてコリーメータ光学系31bを採用している。
【0047】
2次元受光センサ35は、第一の実施形態と同様に、受光した位置及び光量に応じた信号をミラードライバ24に出力する。
【0048】
なお、先に述べた第一及び第二の実施形態でも、出力用光ファイバ12に対する光の照射位置は、入力端面中のコア端面14の位置で基本的に変化しないが、出力用光ファイバ12に対する光の照射角度が変わる場合には、モニタ光学系として、コリーメータ光学系を用いる必要があることは言うまでもない。
【0049】
次に、図6を用いて、本発明に係る第四の実施形態としての光伝送装置について説明する。
【0050】
本実施形態の光伝送装置も、以上の実施形態と同様に、光ファイバ束、逆分散二重分光器、入射光モニタ装置30cとを備えている。
【0051】
入射光モニタ装置30cは、出力用光ファイバ12の入射端面13からの反射光を特定の方向に導くモニタ光学系と、このモニタ光学系により導かれた光を受光する第一及び第二の2次元受光センサ35a,35bと、を有している。モニタ光学系は、出力用光ファイバ12の入射端面13からの反射光を2方向に分離するビームスプリッタ32と、ビームスプリッタ32により分離された一方の光を第一の受光センサ35aに導く結像光学系31と、ブームスプリッタ32により分離された他方の光を第二の受光センサ35bに導くコリーメータ光学系31bと、を備えている。モニタ面である出力用光ファイバ12の入射端面13と第一の受光センサ35あの受光面とは、モニタ光学系の結像光学系31に対して、光学的に共役な位置に配置されている。また、コリーメータ光学系31bの焦点位置には、モニタ面である出力用光ファイバ12の入射端面13が位置している。
【0052】
本実施形態の逆分散二重分光器は、出力用光ファイバ12に対する光の照射位置も照射角度も変わるものである。このため、光の照射位置の変化に対しては、結像光学系31からの光を受ける第一の受光センサ35aからの出力で対応し、光の照射角度の変化に対しては、コリーメータ光学系31bから光を受ける第二の受光センサ35bからの出力で対応するようにしている。
【0053】
ミラードライバ24は、第一の受光センサ35aからの信号を受信して、この信号が示す受光パターンと、目標受光パターンとを比較して、マルチミラーアレイの第一の駆動量を求めると共に、第二の受光センサ35bからの信号も受信して、この信号が示す受光パターンと、目標受光パターンとを比較して、マルチミラーアレイの第二の駆動量を求める。そして、ミラードライバ24は、第一の駆動量と第二の駆動量とを合成した駆動量を求め、この駆動量に応じてマルチミラーアレイを駆動する。
【0054】
なお、先に述べた第一及び第二の実施形態でも、出力用光ファイバ12に対する光の照射位置及び照射角度が変わる場合には、モニタ光学系として、結像光学系及びコリーメータ光学系を用いることが好ましい。但し、光の照射角度がほとんど変わらず、照射位置が大きく変わる場合には、モニタ光学系として、第一の実施形態と同様に、結像光学系のみでもよいし、逆に、光の照射位置がほとんど変わらず、照射角度が大きく変わる場合には、モニタ光学系として、第二の実施形態と同様に、コリーメータ光学系のみでもよい。
【0055】
また、以上の実施形態は、受光センサとして、いずれも2次元受光センサを採用しているが、入射端面に対する光の入射位置がこの入射端面に平行な面内の1次元方向でしか変わらない場合や、入射端面に対する光の入射角度がこの入射端面に平行な面内の1次元方向を含む面内でしか変わらない場合には、1次元受光センサを用いて、該1次元方向の光の入射位置や、該1次元方向に広がっている面内での光の入射角度を検出するようにしてもよい。
【0056】
また、以上では、ビームステアリング機能を備えた装置として、逆分散二重分光器を例にしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、光ファイバに対する光の照射位置及び/又は照射角度が変化するものであれば、如何なる装置であってもよい。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、光ファイバへの光の入射状況をモニタするため、光ファイバに入射しない光であるファイバの入射端面からの反射光をモニタしているので、簡単な構成で、簡易に入射角度を検知することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第一の実施形態における入射光モニタ装置の構成を示す説明図である。
【図2】本発明に係る第一の実施形態における光伝送装置の構成を示す説明図である。
【図3】本発明に係る第二の実施形態における入射光モニタ装置の側面図である。
【図4】本発明に係る第二の実施形態における入射光モニタ装置の構成を示す説明図である。
【図5】本発明に係る第三の実施形態における入射光モニタ装置の構成を示す説明図である。
【図6】本発明に係る第四の実施形態における入射光モニタ装置の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
10…光ファイバ束 11…入力用光ファイバ
12…出力用光ファイバ 13…入射端面
20…逆分散二重分光器 21…回折格子
22…MEMS 23…マイクロミラーアレイ
24…ミラードライバ
30,30a,30b,30c…入射光モニタ装置
31,31a…結像光学系 31b…コリーメータ光学系
35,35a,35b…2次元受光センサ

Claims (2)

  1. 光ファイバの入射端面に至った光のうち、該入射端面で反射した光を所定の方向に導くモニタ光学系と、該モニタ光学系により導かれた光を受光し、受光面内での受光位置を出力する受光手段とを有し、
    前記モニタ光学系は、コリメート光学系であって、前記コリメート光学系はその焦点位置が前記モニタ面上にあるように配置され、
    前記受光面内での光の受光位置により、前記入射端面に対する光の入射角度を検出する、
    ことを特徴とする入射光モニタ装置。
  2. 請求項1に記載の入射モニタ装置と、
    前記光ファイバと、
    前記光ファイバに対する入射光の入射角度を調整するビームステアリング機構とを備え、
    前記ビームステアリング機構は、前記入射光モニタ装置が検出した前記光ファイバに対する光の入射角度に応じて、前記光ファイバに対する光の入射角度を調整する、
    ことを特徴とする光伝送装置。
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