JP4117878B2 - Write-once optical recording medium and recording method thereof - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、追記型(WORM:Write Once Read Many)光記録媒体に係わり、特に青色レーザ波長でも高密度の記録が可能な追記型光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型光記録媒体の開発が行われている。
従来の追記型光記録媒体では、有機材料からなる記録層にレーザ光を照射し、主に有機材料の分解・変質による屈折率変化を生じさせることで記録ピットを形成させており、記録層に用いられる有機材料の光学定数や分解挙動が、良好な記録ピットを形成させるための重要な要素となっている。
従って、記録層に用いる有機材料としては、青色レーザ波長に対する光学的性質や分解挙動の適切な材料を選択する必要がある。即ち、未記録時の反射率を高め、またレーザの照射によって有機材料が分解し大きな屈折率変化が生じるようにするため(これによって大きな変調度が得られる)、記録再生波長は大きな吸収帯の長波長側の裾に位置するように選択される。
何故ならば、有機材料の大きな吸収帯の長波長側の裾は、適度な吸収係数を有し且つ大きな屈折率が得られる波長領域となるためである。
しかしながら、青色レーザ波長に対する光学的性質が従来並みの値を有する有機材料は未だ見出されていない。これは、青色レーザ波長近傍に吸収帯を持つ有機材料を得るためには、分子骨格を小さくするか又は共役系を短くする必要があるが、そうすると吸収係数の低下、即ち屈折率の低下を招くためである。
つまり、青色レーザ波長近傍に吸収帯を持つ有機材料は多数存在し、吸収係数を制御することは可能となるが、大きな屈折率を持たないため、大きな変調度を得ることができなくなる。
【0003】
青色レーザ対応の有機材料としては、例えば、特許文献1〜5に記載がある。
しかし、これらの文献では、実施例を見ても溶液と薄膜のスペクトルを測定しているのみで、記録再生に関する記載はない。
特許文献6〜8には、実施例に記録の記載があるものの、記録波長は488nmであり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な記録ピットが形成できた旨の記載があるのみである。
特許文献9には、実施例に記録の記載があるものの、記録波長は430nmであり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な変調度が得られた旨の記載があるのみである。
特許文献10〜19には、実施例に記録波長430nm、NA0.65での記録例があるが、最短ピットが0.4μmという低記録密度条件(DVDと同等の記録密度)である。
特許文献20には、記録再生波長405〜408nmでの記録があるが、記録密度に関する具体的な記載がなく、14T−EFM信号の記録という低記録密度条件である。
【0004】
また、従来のCD、DVD系光記録媒体と異なる層構成及び記録方法に関して、以下のような技術が公開されている。
特許文献21には、基板/可飽和吸収色素含有層/反射層という層構成で、可飽和吸収色素の消衰係数(本発明でいう吸収係数)の変化により記録を行う技術が開示されている。
特許文献22には、基板/金属蒸着層/光吸収層/保護シートという層構成で、光吸収層によって発生した熱によって、金属蒸着層を変色又は変形させることで記録を行う技術が開示されている。
特許文献23には、基板/誘電体層/光吸収体を含む記録層/反射層という層構成で、記録層の膜厚を変えることにより溝部の深さを変えて記録を行う技術が開示されている。
特許文献24には、基板/光吸収体を含む記録層/金属反射層という層構成で、記録層の膜厚を10〜30%変化させることにより記録を行う技術が開示されている。
【0005】
特許文献25には、基板/有機色素を含有する記録層/金属反射層/保護層という層構成で、基板の溝幅を未記録部に対して20〜40%広くすることにより記録を行う技術が開示されている。
特許文献26には、基板/中間層/金属薄膜という層構成で、金属薄膜が変形しバブルを形成することにより記録を行う技術が開示されている。
特許文献27には、基板/光吸収層/記録補助層/光反射層という層構成で、記録補助層を凹状に変形させると共に、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。
特許文献28には、基板/光吸収層/多孔質な記録補助層/光反射層、或いは、基板/多孔質な記録補助層/光吸収層/光反射層という層構成で、記録補助層を凹状に変形させると共に、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。
特許文献29には、基板/多孔質な光吸収層/光反射層という層構成で、光吸収層を凹状に変形させると共に、光吸収層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。
【0006】
特許文献30には、基板/有機色素を含む記録層/記録補助層という層構成で、記録補助層と有機色素が相溶して、有機色素の吸収スペクトルを短波長側へシフトさせることで記録を行う技術が開示されている。
特許文献31には、基板上に反射層と記録層の機能を有する複合機能層、保護層を順次形成した層構成で、基板と複合機能層がバンプを形成することで記録を行う技術が開示されている。なお、複合機能層には、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金を用いるという規定がある。
特許文献32には、基板上に金属薄膜層、変形可能な緩衝層、反射層、保護層を順次形成した層構成で、基板と金属薄膜層を変形させ、同時にこの変形部での緩衝層膜厚を薄くさせることで記録を行う技術が開示されている。なお、金属薄膜層には、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金を用いるという規定がある。また、緩衝層としては、変形し易く適当な流動性を持つ樹脂が用いられ、変形を促進させるために色素を含有させても良いとの記載がある。
【0007】
特許文献33には、基板上に金属薄膜層、緩衝層、反射層を順次積層した層構成で、基板と金属薄膜層を変形させ、同時にこの変形部での緩衝層膜厚と光学定数とを変化させることで記録を行う技術が開示されている。なお、金属薄膜層としては、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金が好ましいとの記載がある。また、緩衝層は色素と有機高分子の混合物からなり、記録再生波長近傍に大きな吸収帯を有する色素が用いられる。
特許文献34には、基板上に金属記録層、バッファ層、反射層を順次積層した層構成で、基板と金属記録層を変形させ、同時にこの変形部でのバッファ層膜厚と光学定数とを変化させることで記録を行う技術が開示されている。なお、金属記録層としては、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金が好ましいとの記載がある。また、バッファ層は色素と樹脂の混合物からなり、記録再生波長近傍に大きな吸収帯を有する色素が用いられる。
【0008】
以上のように、上記諸々の従来技術は、青色レーザ波長領域での追記型光記録媒体の実現を狙ったものではなく、青色レーザ波長領域で有効となる層構成や記録方法ではない。特に現在実用化されている青色半導体レーザの発振波長の中心である405nm近傍においては、従来の追記型光記録媒体の記録層に要求される光学定数と同程度の光学定数を有する有機材料が殆んど存在しない。
また、405nm近傍で記録条件を明確にし、DVDよりも高記録密度で記録された例はない。
更に、上記従来技術における実施例の多くは、従来のディスク構成(図1参照)での実験であり、また、従来のディスク構成と異なる構成も提案されてはいるが、そこに用いられる色素は従来と同じ光学特性と機能が要求されており、青色レーザ波長領域で、有機材料からなる追記型光記録媒体を容易に実現できる層構成や記録原理、記録方式についての有効な提案はない。
【0009】
また、従来の有機材料を用いた追記型光記録媒体では、変調度と反射率の確保の点から、記録再生波長に対し大きな屈折率と比較的小さな吸収係数(0.05〜0.07程度)を持つ有機材料しか使用することができない。
即ち、有機材料は記録光に対して十分な吸収能を持たないため、有機材料の膜厚を薄膜化することが不可能であり、従って、深い溝を持った基板を使用する必要があった(有機材料は通常スピンコート法によって形成されるため、有機材料を深い溝に埋めて厚膜化していた)。そのため、深い溝を有する基板の形成が非常に難しくなり、追記型光記録媒体としての品質を低下させる要因になっていた。更に、従来の有機材料を用いた追記型光記録媒体では、記録再生波長近傍に有機材料の主吸収帯が存在するため、有機材料の光学定数の波長依存性が大きくなり(波長によって光学定数が大きく変動する)、レーザの個体差や環境温度の変化等による記録再生波長の変動に対し、記録感度、変調度、ジッタ、エラー率といったような記録特性や、反射率等が大きく変化するという問題があった。
【0010】
上記のような問題点を解決するために、本発明者は、例えば、特願2002−144415号(以下、先願という)において、従来、有機化合物からなる記録層に要求された光吸収機能と記録機能という2つの機能を分離することを考え、有機化合物からなる記録層から光吸収機能を除き、光吸収機能を担う層として、新たに光吸収層を導入するという追記型光記録媒体構造を提案した。
この追記型光記録媒体構造では、有機化合物から光吸収機能を除いたため、また、光吸収層の変形等を記録に用いることができるため、有機化合物への規制が大幅に緩和でき、CD−RやDVD−R等で用いられている色素をも利用できるというメリットを有する。
本発明者が提案した上記先願の追記型光記録媒体の一構成例では、即ち、基板上又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体では、例えば、記録によって光吸収層を変形させたり、或いは光吸収層の光吸収機能によって、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層の隣接層に物理的、化学的、光学的変化等を与えることで記録が行われる。
しかしながら、この追記型光記録媒体では、低記録パワーでの記録時は、良好なジッタ特性(記録再生特性)を得ることができるが、高記録パワーでの記録時には急激にジッタが悪化する場合があり、ジッタのパワーマージンを狭めることにつながっている。また、どのような種類の光記録媒体でも同様な傾向はあるが、高記録パワーで記録した部分ではトラッキングが外れ易いという現象も発生する場合がある。
【0011】
【特許文献1】
特開2001−181524号公報
【特許文献2】
特開2001−158865号公報
【特許文献3】
特開2000−343824号公報
【特許文献4】
特開2000−343825号公報
【特許文献5】
特開2000−335110号公報
【特許文献6】
特開平11−221964号公報
【特許文献7】
特開平11−334206号公報
【特許文献8】
特開2000−43423号公報
【特許文献9】
特開平11−58955号公報
【特許文献10】
特開2001−39034号公報
【特許文献11】
特開2000−149320号公報
【特許文献12】
特開2000−113504号公報
【特許文献13】
特開2000−108513号公報
【特許文献14】
特開2000−222772号公報
【特許文献15】
特開2000−218940号公報
【特許文献16】
特開2000−222771号公報
【特許文献17】
特開2000−158818号公報
【特許文献18】
特開2000−280621号公報
【特許文献19】
特開2000−280620号公報
【特許文献20】
特開2001−146074号公報
【特許文献21】
特開平7−304258号公報
【特許文献22】
特開平8−83439号公報
【特許文献23】
特開平8−138245号公報
【特許文献24】
特開平8−297838号公報
【特許文献25】
特開平9−198714号公報
【特許文献26】
特許第2506374号公報
【特許文献27】
特許第2591939号公報
【特許文献28】
特許第2591940号公報
【特許文献29】
特許第2591941号公報
【特許文献30】
特許第2982925号公報
【特許文献31】
特開平9−265660号公報
【特許文献32】
特開平10−134415号公報
【特許文献33】
特開平11−306591号公報
【特許文献34】
特開平10−124926号公報
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記先願発明を更に発展させることにより、基板又はカバー層に隣接して記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体について、次の(1)〜(3)の実現を目的とする。
(1)記録再生特性やトラッキング性能を低下させる原因をなくした追記型光記録媒体の提供。
(2)記録再生特性やトラッキング性能の悪化を抑制した層構成の提供。
(3)記録再生特性やトラッキング性能の悪化を抑制した記録方法の提供。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討の結果、基板上又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体においては、一般的に大きな吸収係数を持つ光吸収層が基板又はカバー層と接するため、記録パワーを増大させて行くと、光吸収層の変形や、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層に隣接する層の物理的、化学的、光学的等の変化に加えて、基板内又はカバー層内に空隙部が発生することがあることを見出した。
そして、この基板内又はカバー層内の空隙は、大きな変調度を発生させるという効果はあるものの、設定可能なレ−ザの記録パワ−範囲において、記録極性を変化させたり、再生信号波形を微分波形化させたり、短マークと長マークの変調度のアンバランス等を引き起こし、記録再生特性を悪化させる場合があることを見出した。特に、設定可能なレ−ザの記録パワ−範囲において、記録極性が変化すると(記録極性が混在すると)、ジッタや、ジッタのパワーマージンを悪化させ、また変調度を減少させることを見出した。
そこで本発明では、記録再生特性、及びトラッキング性能を悪化させる場合の多い、基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制するような追記型光記録媒体、層構成、記録方法を提供する。
なお、一般的にマーク長記録では、記録マークを再生した場合の再生信号(RF信号)は、図2(a)のようになる。これに対し、図2(b)や(c)のように、記録マークの前後エッジ近傍と記録マークの中心近傍で変極点を持つような信号を、本発明では微分波形(微分波形化)と言う。
【0014】
即ち、上記課題は、次の1)〜9)の発明によって解決される。
1) 基板又はカバー層と、記録光に対して光吸収機能を有する無機材料からなる光吸収層との間に、記録による基板内又はカバー層内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。
2) 基板上に、記録による基板内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する無機材料からなる光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。
3) 前記空隙抑制層が、SiO、ZnS−SiO、ZrOの何れかを主成分とすることを特徴とする1)又は2)記載の追記型光記録媒体。
4) 前記空隙抑制層が、ZnS、ZrO、Y及びSiOからなる酸化物であることを特徴とする1)又は2)記載の追記型光記録媒体。
5) 前記空隙抑制層が、ZrO、TiO、SiO、及びXからなり、XがAl、MgO、CaO、NbO、Y、CeOから選ばれた少なくとも1つであることを特徴とする1)又は2)記載の追記型光記録媒体。
6) 405nmの記録再生波長に対応可能であることを特徴とする1)〜5)の何れかに記載の追記型光記録媒体。
7) 記録後の記録極性がLow to Highであることを特徴とする1)〜6)の何れかに記載の追記型光記録媒体。
8) 1)〜7)の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録パワーの範囲で記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。
9) 1)〜7)の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録ストラテジで記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、上記本発明について詳細に説明する。
基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体においては、記録パワーを増大させて行くと、光吸収層の変形や、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層に隣接する層の物理的、化学的、光学的等の変化が生ずる。
例えば、具体的に例を示すと、基板/光吸収層/色素層/反射層という構成からなる追記型光記録媒体では、光吸収層の光吸収機能により、次のイ)〜チ)のような変化を生じ、記録部が形成される。
イ)光吸収層が変形する
ロ)光吸収層の複素屈折率が変化する
ハ)光吸収層の体積が変化する
ニ)光吸収層内に空隙等の低屈折率部が発生する
ホ)色素層の複素屈折率変化が変化する
ヘ)色素層が体積変化する
ト)色素層内に空隙等の低屈折率部が発生する
チ)基板が変形する
【0016】
この追記型光記録媒体では、従来のように色素層に光吸収機能を要求しないため、色素選択の自由度が格段に広がり、青色レーザ波長以下のレーザ波長に対応した追記型光記録媒体が容易に提供できるというメリットがある。
しかし、光吸収層が変形し難い場合、光吸収層の光学的変化が生じ難い場合、色素層の光学的変化が生じ難い場合等には、記録を行うために、光吸収層や色素層に光学的、化学的、或いは物理的変化を生じるまで記録パワーを高める必要があり、この時、基板やカバー層等が光吸収層と接する構造では、基板が必要以上に加熱されてしまう。そして、この必要以上の加熱によって、基板内に空隙が発生する場合がある。
即ち、低記録パワー時には光吸収層の光吸収機能によって、光吸収層や色素層に光学的、化学的、或いは物理的変化が生じ、これによって記録部が形成されるが、高記録パワー時には、光吸収層や色素層の光学的、化学的、或いは物理的変化が生じる以外に、基板が必要以上に加熱されるため、基板内の空隙発生によっても記録部が形成される。
【0017】
この基板内の空隙発生は、その発生する記録パワー範囲が光吸収層や色素層の光学的、化学的、或いは物理的変化を起す記録パワー範囲と大きく異なる場合が一般的であるため(基板内空隙は、一般的に光吸収層や色素層の変化よりも高い記録パワーで発生する)、ジッタの悪化や、ジッタの記録パワーマージンの悪化を誘発する。
また、基板内の空隙発生は、一般的に閾値を持って発生するため、急激な変調度の変化や記録極性の変化等を引き起こす場合が多く、これによって、ジッタの悪化や、ジッタの記録パワーマージンの悪化を誘発する。
更に、この基板内空隙の発生によって、光吸収層の変形が非常に大きくなったり、光吸収層の変形形状を乱したり、基板自身の溝形状をも大きく変形させる場合があるため、クロストークが大きくなったり、トラッキング性能が悪化する。
そこで、本発明では、トラッキング性能の悪化、記録極性の変化、ジッタの悪化、或いは、ジッタの記録パワーマージンを狭くする可能性の高い、基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制する。
【0018】
基板内又はカバー層内の空隙は、上述のように、記録パワーが高くなった場合、或いは、長マークにおいて発生し易い。
従って、高記録パワー側で急激にジッタが悪化したり(ジッタの記録パワーマージンが急激に悪化する)、記録マーク長によって記録極性が変わったり、記録マーク長によって振幅が大きく変化するという現象が発生する。
この記録マーク長によって記録極性が変わったり、記録マーク長によって振幅が大きく変化するという現象のため、単一周期の記録マークでは、良好な記録再生特性が得られるが、ランダムパターンを記録すると記録再生特性が劣悪となる場合がある。
基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制する方法としては、次のイ)〜ホ)が挙げられる。
イ)基板又はカバー層と光吸収層の間に、断熱層(空隙抑制層)を設ける。
ロ)基板又はカバー層と光吸収層の間に、放熱層(空隙抑制層)を設ける。
ハ)記録パワーを制御する(空隙が発生しない記録パワー範囲で記録を行う)。
ニ)記録ストラテジを制御し最適化する(長マークにおいて必要以上に蓄熱されないようにする)。
ホ)基板の分解特性を制御する(空隙が発生しない材料を選択する)。
【0019】
基板又はカバー層と光吸収層の間に、空隙抑制層を設ける場合、空隙抑制層をいわゆる断熱層とするか放熱層とするかは、光吸収層の光吸収機能の大小と、光吸収層の熱伝導率等の熱物性に依存する。
即ち、光吸収層の光吸収機能が比較的低い場合は、記録感度を損なわないために(低記録パワーで記録するために)、光吸収層で発生した熱を放熱層で逃がして基板内空隙の発生を抑制するよりも、断熱層で基板へ伝わる熱量を制限して基板内空隙の発生を抑制する方が有利である。
逆に、光吸収層の光吸収機能が比較的高い場合は、光吸収層で発生した熱を放熱層で逃がして基板内空隙の発生を抑制することも効果的である。
記録パワーを制御することは、光吸収層で発生する熱量を制御することであるため、基板内空隙の発生を直接的に制御することができる。
記録ストラテジを制御することも、記録パワー同様、光吸収層で発生する熱量を制御することであるため、基板内空隙の発生を直接的に制御することができる。更に記録ストラテジを制御する場合は、記録マーク長ごとに光吸収層で発生する熱量を制御できるため、記録マーク長によって基板内空隙の発生有無が異なるという現象を抑制することが可能である。
基板の分解特性を制御するとは、例えば、基板材料の分解温度を高めることを意味し、高分子材料の場合は、高分解の高分子材料を用いることや、分子量を高めること(重合度を高めること)で、空隙発生を抑制することができる。また、基板をガラス材料とすることも効果的である。
【0020】
本発明の追記型光記録媒体及びその記録方法は、例えば次の(i)(ii)のような構成の追記型光記録媒体、或いはそれらを二つ貼り合わせた二層構造の追記型光記録媒体に対して有効である。
(i)基板側から記録再生を行う追記型光記録媒体
・基板/光吸収層
・基板/光吸収層/記録層
・基板/光吸収層/下引層/記録層
・基板/光吸収層/記録層/上引層
・基板/光吸収層/記録層/反射層
・基板/光吸収層/下引層/記録層/反射層
・基板/光吸収層/記録層/上引層/反射層
・基板/光吸収層/記録層/反射層/保護層
(ii)カバー層側から記録再生を行う追記型光記録媒体
・基板/光吸収層/カバー層
・基板/光吸収層/記録層/カバー層
・基板/光吸収層/記録層/下引層/カバー層
・基板/光吸収層/上引層/記録層/カバー層
・基板/反射層/記録層/光吸収層/カバー層
・基板/反射層/記録層/光吸収層/下引層/カバー層
・基板/反射層/上引層/記録層/光吸収層/カバー層
好ましい態様としては、上記の構造を有する追記型光記録媒体において、基板と光吸収層、或いはカバー層と光吸収層の間に空隙抑制層を設ける。
【0021】
上記構成例にも示したように、本発明の追記型光記録媒体は、基本的には基板又はカバー層と光吸収層を必須の構成層とするものであるが、空隙抑制層を設けることが好ましく、必要に応じて基板上に有機化合物等の記録層、下引層、上引層、金属反射層、保護層等を設けても良い。
なお、本発明において記録層とは、光学定数変化、化学的変化又は物理的変化を起す層を指す。具体的には、記録によって複素屈折率変化、位相差変化、分解、昇華、凝集等の状態変化、結晶状態変化、溶解性変化、構造変化、体積変化、空隙部の形成等を起す層である。
同じく、下引層や上引層は、記録再生特性の改善を図るための干渉層、膜形成時の保護層(例えば、塗布溶剤に溶解性を持つ膜上にスピンコート法で膜を形成させる場合の保護層)、隣接層の膜状態を保持する保護層等(保存性を改善する等)を指す。
【0022】
本発明の追記型光記録媒体における基板の材質としては、基本的には記録光及び再生光の波長において透明であればよい。
このような材質の材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の各種樹脂、ガラス、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等を使用することができるが、高生産性、コスト、耐吸湿性などの点からは、射出成型したポリカーボネートが好ましく、耐薬品性、耐吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましく、高速応答、或いは空隙が発生しないなどの点からは、ガラス基板が好ましい。
更に、記録層に接して樹脂基板又は樹脂層を設け、その樹脂基板又は樹脂層上に記録再生光の案内溝やピットを有していてもよい。
【0023】
記録層材料としては、例えば有機材料が挙げられ、色素も好ましい。
色素としては含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
また、記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン)等を含有してもよく、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。
ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属が好ましい。
【0024】
また、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。
更に、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。
好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、通常50〜300nmである。
【0025】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。
中でも、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましく、厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。
スピンコート法による成膜の場合、回転数は500〜15000rpmが好ましく、スピンコートの後、場合によっては加熱又は溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。
【0026】
例えば、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
記録層材料としては上記の他に、高分子材料、相変化材料、フォトークロミック材料、サーモクロミック材料等も好ましく用いることができる。
【0027】
光吸収層の材料としては、十分な記録感度を確保するという点で、記録波長に対する吸収係数がある程度大きいものを用いることが好ましく、SiC、BC、TiC、WCなどの炭化物系の非酸化物、アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物、フェライト等に代表されるセラミックス、或いはTe−TeO、Te−TeO−Pd、SbSe/BiTe、Ge−Te−Sb−S、Te−TeO−Ge−Sn、Te−Ge−Sn−Au、Ge−Te−Sn、Sn−Se−Te、Sb−Se−Te、Sb−Se、Ga−Se−Te、Ga−Se−Te−Ge、In−Se、In−Se−Tl−Co、Ge−Sb−Te、In−Se−Te、Ag−In−Sb−Te、Ag−Zn、Cu−Al−Ni、In−Sb、In−Sb−Se、In−Sb−Te等の相変化記録材料、ニッケル、クロム、チタン、タンタル等の純粋金属、又は銅/アルミニウム、ニッケル/鉄等の合金、シリコン等の半金属、Ge等の半導体等を用いることが可能である。
中でも、Si又はGeを含有する材料を用いることが好ましく、例えば、Si、Ge、或いはSiC等が好ましい例として挙げられる。
光吸収層の膜厚は、通常5〜150nmである。
【0028】
空隙抑制層の材料としては、例えば、Al、MgO、BeO、ZrO、TiO、UO、ThO、CaO、NbO、Y、CeOなどの単純酸化物系の酸化物;SiO、2MgO・SiO、MgO・SiO、CaO・SiO、ZrO・SiO、3Al・2SiO、2MgO・2Al・5SiO、LiO・Al・4SiOなどのケイ酸塩系の酸化物;AlTiO、MgAl、Ca10(PO(OH)、BaTiO、LiNbO、PZT〔Pb(Zr,Ti)O〕、PLZT〔(Pb,La)(Zr,Ti)O〕、フェライトなどの複酸化物系の酸化物;或いは、Si、Si6−ZAl8−Z、AlN、BN、TiNなどの窒化物系の非酸化物;SiC、BC、TiC、WCなどの炭化物系の非酸化物;LaB、TiB、ZrBなどのホウ化物系の非酸化物;ZnS、CdS、MoSなどの硫化物系の非酸化物;MoSiなどのケイ化物系の非酸化物;アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物、或いはそれらの混合物を用いることができる。
記録再生光に対する透明性や、生産性の観点からは、SiOを主体(主成分)とする材料、或いはZnS・SiOを主体(主成分)とする材料が好ましい。
また、断熱効果を十分得るためには、ZrOを主体(主成分)とすることも好ましい。
また、ZnS、ZrO、Y及びSiOからなる酸化物、或いはZrO、TiO、SiO、及びXからなり、Xが、Al、MgO、CaO、NbO、Y、CeOから選ばれた少なくとも1種である材料が好ましい。
【0029】
記録層の上には、直接又は上引層等を介して、反射層を形成してもよく、その膜厚は、好ましくは、50〜300nmである。
反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Cr、Pdから選ばれる金属を単独で或いは合金にして用いることができる。中でもAu、Al、Agは、反射率が高く反射層の材料として適している。
また、上記の材料を主成分とし、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属を含む材料でもよい。
中でもAgを主成分とするものは、コストが安いこと、高反射率が出易いことから特に好ましい。
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。
【0030】
また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のため、公知の無機系又は有機系の上引層、下引層、或いは接着層を設けることもできる。
上引層又は下引層に光吸収機能を付与する場合は、前述の光吸収層材料と同様の材料を使用することができる。また、機械的な保護、保存安定性の向上、耐溶剤性の向上、或いは干渉層として上引層又は下引層を使用する場合は、前述の空隙抑制層材料と同様の材料を使用することができる。
反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されないが、有機材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機材料としては、SiO、SiN、MgF、SnO等が挙げられる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。
UV硬化性樹脂は、そのまま又は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって形成することができる。UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。
【0031】
これらの材料は単独で或いは混合して用いても良いし、1層だけではなく多層膜にして用いても良い。
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に0.1〜100μmの範囲であるが、本発明においては、3〜30μmが好ましい。
また、反射層面に更に基板を貼り合わせてもよく、また、反射層面相互を内面として対向させ追記型光記録媒体2枚を貼り合わせた構造としても良い。
基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のため、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜してもよい。
【0032】
カバー層は、高密度化を図るため高NAのレンズを用いる場合に必要となる。
例えば高NA化すると、再生光が透過する部分の厚さを薄くする必要がある。これは、高NA化に伴い、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度(いわゆるチルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積の2乗に比例する)により発生する収差の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け易いためである。
従って、基板の厚さを薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さくするようにしている。
そこで、例えば基板上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射膜を設け、更にその上に光を透過する薄膜である光透過性のカバー層を設けて、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような追記型光記録媒体や、基板上に反射膜を設け、その上に記録膜を形成して記録層とし、更にこの上に光透過性を有するカバー層を設けて、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような追記型光記録媒体が提案されている。
【0033】
このようにすれば、カバー層を薄型化していくことで対物レンズの高NA化に対応可能である。つまり、薄いカバー層を設け、このカバー層側から記録再生することで、更なる高記録密度化を図ることができる。
なお、このようなカバー層は、ポリカーボネートシートや、紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的である。
また、本発明で言うカバー層には、カバー層を接着するための層を含めてもよい。
本発明の追記型光記録媒体に使用されるレーザ光の波長は、高密度記録を行うため短いほど好ましいが、特に350〜530nmの範囲が好ましい。このようなレーザ光の代表例としては、中心波長405nmのレーザ光が挙げられる。
【0034】
【実施例】
以下、本発明を実施例及び参考例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【0035】
参考例1
まず初めに、基板上に光吸収層としてSiCを厚さ10nm設けた追記型光記録媒体を作成し、基板側からの記録再生特性を評価した。
図3〜図6に、参考例1−A〜1−Dの記録結果を示す。
図3(a)〜図6(a)は、参考例1−A〜1−Dの再生信号(RFレベル)の記録マーク長(Mark Length)依存性の測定結果を示す図であり、各図中の、Unrecは未記録時の再生信号(RFレベル)を、Topはマーク列を記録した時の最大再生信号レベル(一般的にはスペース部)を、Bottomはマーク列を記録した時の最小再生信号レベルを、MAは(Top−Bottom)/Topで計算される変調度を示す。
また、図3(b)〜図6(b)には、3Tマークを連続して記録した場合の再生信号、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを、図3(c)〜図6(c)には、6Tマークを連続して記録した場合の再生信号、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを、図3(d)〜図6(d)には、3Tマークを連続して記録した場合の再生信号、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示した。
【0036】
<参考例1−A>
溝深さ55nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、光吸収機能を有する変形層としてSiC層を厚さ10nm設けた追記型光記録媒体を作製した。
この光記録媒体に対して、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側から5.0mWのレーザ光を照射し、グルーブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで3T〜14Tマークをそれぞれ単独で記録した。
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFM(原子間力顕微鏡)により確認した。
また、図3(a)の結果から、記録マーク長によらずHigh to Low(ハイ・ツー・ロー)記録が行えている可能性があることが確認できる。
更に、図3(b)〜図3(d)の結果から、3T、4T、6T、8T、14Tとも、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すことが分る。
【0037】
<参考例1−B>
記録パワーを6.0mWに変えた点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。
また、図4(a)の結果から、記録マーク長によって記録極性が変化すること、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生し、マーク長記録が困難となることが分る。
更に、図4(b)〜図4(d)の結果から、3T、4Tはマーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、6T、8T、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し〔6T、8Tでは、再生信号の周期が本来の再生信号の倍に見える。このことは図3(c)と比べるとよく分る〕、マーク長記録が困難となることが分る。
【0038】
<参考例1−C>
基板側から6.0mWのレーザ光を照射してランド部(入射レーザ光側から見て奥側にある溝位置)に記録した点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。
また、図5(a)の結果から、若干ではあるが、記録マーク長によって記録極性が変化する傾向、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生する傾向が見られ、マーク長記録が困難となる可能性があることが分る。
更に、図5(b)〜図5(d)の結果から、3T、4T、6T、8Tは、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し、マーク長記録が困難となることが分る。
【0039】
<参考例1−D>
基板側から7.0mWのレーザ光を照射してランド部(入射レーザ光側から見て奥側にある溝位置)に記録した点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。
また、図6(a)の結果から、記録マーク長によって記録極性が変化すること、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生し、マーク長記録が困難となることが分る。
更に、図6(b)〜図6(d)の結果から、3T、4Tは、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、6T、8T、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し〔例えば6Tでは再生信号の周期が本来の再生信号の倍に見える。このことは図3(c)と比べるとよく分る〕、マーク長記録が困難となることが分る。
【0040】
以上、参考例1−A〜1−Dの結果から、基板上にSiC層を設けた追記型光記録媒体では、低記録パワー時には、High to Low極性の再生信号が得られているが、記録パワーが高まると、記録マークの中央部が盛り上がったような、いわゆる微分波形化が起こり、更なる高記録パワーによる記録では、記録極性があたかもLow to Highであるかのように見えることが分った。
また、この微分波形化の度合いは、記録マーク長によって異なり、長マークでは微分波形化が非常に起り易いことが確認できた。
このように、通常は、記録パワーの増大と伴に記録マーク部の反射率が一方向に変化していくのに対し、この参考例1で用いた追記型光記録媒体では、記録部の再生信号波形が変化するためにジッタ等の記録再生特性が悪化することが容易に理解される。
【0041】
参考例2
次に、参考例1で、再生信号が微分波形化する原因を明らかにするため、下記の条件でシュミレ−ションを行った。
基板/SiC(厚さ10nm)という層構成で、約8T(2.0λ)のマーク長を有する記録マーク(Pitを仮定。図7を参照)を形成し、この記録マークについて
i)記録位置(Land or Groove)
ii)空隙の有り無し([No Bubble] or [Bubble])を変えて、基板側からレーザ光を走査して再生した場合に、どのような再生信号が得られるかを計算した。
基板の溝形状は、(A,B,C,D,ζ)=(0.2,1.0525,1.2525,1.8525,0.1375)とし、(記録マーク長さ,記録マーク幅,高さ)=(2.0λ,0.8525λ,−0.3λ)とした(数字は波長λを単位としたものである。また記録マークの高さのマイナス表示は、記録部がPitを形成すること、即ち変形が基板側から遠ざかる方向に生じることを意味する)。また、空隙の有り無しは、図8のような状態を指し、図8(a)のような記録状態を空隙なし、図8(b)のような記録状態を空隙ありと定めた。
図9は、ランド部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を、図10は、グル−ブ部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図である。
なお、図10の凡例で(N)の表示は、変形領域の幅が0.8525λの場合、(W)の表示は変形領域の幅が1.8525λの場合を示す。
その結果(図9〜図10参照)、光吸収層と基板の間、或いは基板内に空隙が発生すると微分波形化が起こる可能性があることが証明された。
【0042】
参考例3
参考例2のシュミレ−ションによって、記録再生特性の悪化の原因は、基板と光吸収層間、或いは基板内に発生する空隙の可能性があることが証明された。
そこで、本参考例では、実際に空隙が発生する場所とメカニズムを明確にするため、基板/SiC(厚さ15nm)/化1で示される化合物のCo金属錯体/Ag反射層(厚さ150nm)/保護層という追記型光記録媒体を作成し、グル−ブ部に下記の条件で記録を行った。
<記録条件>
・記録線密度 :1T=0.0917μm
・記録マーク長 :6T及び14T
・記録パワー :9.0mW
・記録ストラテジ:Basic strategy(基本ストラテジ)
Top−Tmp=1.20−0.60(T)
【化1】

Figure 0004117878
なお、この記録において、6Tは記録極性がLow to Highであり、14Tは記録極性がHigh to Lowであった。
また、記録マークが14Tの場合は、その記録部の信号振幅(変調度に相当)が、6Tの2倍程度あった。
【0043】
次いで、この光記録媒体をFIB(Focused Ion Beam=集束イオンビーム加工装置)でトラック方向、又は半径方向に切断し、記録部をFE−SEM(電界放射型走査電子顕微鏡)又はTEM(透過電子顕微鏡)で観察した。
その結果、図11(FIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図)に示すように、記録マーク長が6Tの場合は、記録部がSiC層の基板側への変形、及び色素層の状態変化によって記録部が形成されていることが確認できた。
一方、記録マーク長が14Tの場合には、記録マーク長が6Tの場合と比べて記録極性が反転し、変調度が急増した記録部には、図12〜13に示すように、基板内に空隙が発生していることが確認できた(マーク長が6Tの場合には、基板内に空隙が発生していなかった)。即ち、記録再生特性の悪化の原因は、基板内に発生する空隙であることが確認された。
なお、図12はFIBで半径方向に切断しTEMで観察した(写真)であり、図13は同様の観察を行った(写真)の拡大図である(図13のTEM写真は、それぞれ切断位置が異なる4枚の写真を並べて示してある。)。
更に、上記実験ではマーク長の違いによって記録極性が異なる例を示したが、記録パワーが低い時と高い時でも同様の現象(高記録パワー時には基板内に空隙が発生する)が起ることを確認した。
【0044】
実施例1
溝深さ50nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、空隙抑制層としてZnS-SiOを厚さ65nm、光吸収機能を有する層としてSiCを厚さ10nm、有機化合物からなる記録層としてDVD−Rに利用できる前記化1で示される化合物のCo金属錯体層(色素層)を厚さ約60nm、Ag反射層を厚さ約100nm、紫外線硬化型樹脂からなる保護層を順次積層して追記型光記録媒体を作成した。
この光記録媒体に対し、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側からレーザ光を照射し、グル−ブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで8−16変調の信号を記録した。
その結果、本実施例で使用した評価装置が設定できる記録パワ−範囲内において、記録極性がLow to Highで単一化され、図14に示すような、良好なジッタ特性と変調度を得ることができた。
【0045】
比較例1
基板/SiC(厚さ10nm)/化1で示される化合物のCo金属錯体(厚さ約60nm)/Ag反射層(厚さ150nm)/保護層という構成の追記型光記録媒体を作成し、下記の条件で記録を行った(実施例1において、空隙抑制層がない場合)。
<記録条件>
・記録線密度 :1T=0.0917μm
・変調方式 :8−16変調
・記録ストラテジ:Basic strategy(基本ストラテジ)
Top−Tmp=1.20−0.60(T)
その結果は図15に示す通りで、記録パワー約9.0mWでジッタ11.6%という良好な記録を行うことができたが、本比較例で使用した評価装置が設定できる記録パワーの範囲内において、記録極性の変化が見られ(10.5mw近傍で記録極性がLow to HighからHigh to Lowに変わる)、ジッタの記録パワーマージンが非常に狭くなったことが確認できた。
この光記録媒体に、改めて記録パワー8.0mWで6Tマーク及び14Tマークを記録し、参考例3と同様に、この光記録媒体をFIBで半径方向に切断し、記録部をTEMで観察した。
その結果、記録パワー8.0mWによる記録部では、基板内に空隙が発生していないことが確認できた。また、記録再生時にトラッキングエラ−(トラック外れ)を生じることがなかった。
一方、図12〜13のように基板内に空隙が発生するような記録パワー、即ち記録パワー9.5mW以上による記録では、ジッタが15.0%を下回らなかった。また、9.5mW程度以上の記録パワーでは、記録パワーの増加と伴に、記録再生時のトラッキングエラ−(トラック外れ)を起す割合が増加した。
【0046】
実施例2
溝深さ50nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、空隙抑制層としてZrOを厚さ35nm、光吸収機能を有する層としてSiを厚さ15nm、有機化合物からなる記録層としてDVD−Rに利用できる前記化1で示される化合物のCo金属錯体層(色素層)を厚さ約60nm、Ag反射層を厚さ約100nm、紫外線硬化型樹脂からなる保護層を順次積層した追記型光記録媒体を作成した。
この光記録媒体に対し、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側からレーザ光を照射し、グル−ブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで8−16変調の信号を記録した。
その結果、本実施例で使用した評価装置が設定できる記録パワ−範囲内において、記録極性がLow to Highで単一化され、図16に示すような、良好なジッタ特性と変調度を得ることができた。
【0047】
以上の参考例及び実施例の結果から、本発明の「基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有し、基板内又はカバー層内に空隙部を形成させずに記録部を形成した追記型光記録媒体」が、良好な記録再生特性を得る上で、非常に重要であることが裏付けられた。
なお、上記実施例の記録再生特性は一例を示すものであって、例えば記録極性をLow to Highに限定するものではない。
【0048】
実施例3
図11〜13の観察の結果、基板内に空隙が発生し易いのは長マークであり、3T〜4Tのような短い記録マークには空隙が発生し難いことが確認できた。
そこで、図15(a)に示すような記録ストラテジにおいて、長マークになるほどTEMPを0.02(T)ずつ小さくする設定を用い、長マークの温度を必要以上に上昇させない(基板内に空隙が発生しない温度以下にする)ようにし、比較例1で作成したものと同じ構成の追記型光記録媒体に記録を行った。
その結果、通常の記録ストラテジ〔図17(a)において、記録マーク長に拘わらずTEMPを固定〕では、約9.5mW程度で、14Tマークに基板内空隙が観測されたが、本実施例での記録ストラテジを用いることにより、約9.5mW程度で記録を行っても14Tマークに基板内空隙は観測されなかった。
即ち、本実施例で適用した記録ストラテジを用いることで、記録パワーを増加していっても、長マークに発生し易い空隙の発生を抑制できるため、良好なジッタ特性(ジッタの記録パワーマージンの拡大)が得られた。
なお、本実施例で用いた記録ストラテジ以外に、例えば次のイ)〜リ)などの設定でも、同様の効果を発揮する。
・図17(a)において、
イ)長マークほどTELPを小さくする。
ロ)長マークほどTEFPを小さくする。
ハ)長マークほどPw1又はPw2を低くする。
・図17(b)において、
ニ)長マークほどPw1又はPw2を小さくする。
ホ)長マークほどTEFPを小さくする。
・図17(c)において、
ヘ)長マークほどPw1又はPw2を小さくする。
ト)長マークほどTEFPを小さくする。
チ)長マークほどTELPを小さくする。
リ)長マークほどTSLPを大きくする。
なお、本発明で有効な記録ストラテジの設定は、本実施例で説明したものに限定されるものではない。
【0049】
上記参考例及び実施例では、光吸収層が基板と接する場合を取り上げたが、カバー層の場合も、基本的に基板と材料が同一であるため、カバー層と光吸収層が接する場合も同様である。
なお、本発明は、基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体の記録再生特性の改善を図る一つの有効な方法を示したものであって、基板内の空隙の発生がある追記型光記録媒体を否定するものではない。
また、記録極性は、色素層や光吸収層の光学定数や膜厚、光吸収層の変形形態、或いは基板の溝深さ等の形状などに依存するため、実施例における構造の追記型光記録媒体の記録極性を限定するものではない。
【0050】
【発明の効果】
本発明の追記型光記録媒体とその記録方法によって、記録再生特性を悪化させる基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制することが可能となるため、良好な記録再生特性、及び良好なトラッキング特性が得られる短波長レーザ対応の追記型光記録媒体とその記録方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のディスクの層構成を示す図。
【図2】マーク長記録の記録マークを再生した場合の再生信号の波形を説明する図。
(a) 一般的な場合
(b) 記録マークの前後エッジ近傍で変極点を持つ微分波形
(c) 記録マークの中心近傍で変極点を持つ微分波形
【図3】参考例1−Aの記録結果を示す図。
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。
【図4】参考例1−Bの記録結果を示す図。
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。
【図5】参考例1−Cの記録結果を示す図。
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。
【図6】参考例1−Dの記録結果を示す図。
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。
【図7】Pitが形成された状態における溝パラメータの説明図。
【図8】空隙の有り無しの記録状態を説明するための図。
(a) 空隙無しの記録状態
(b) 空隙有りの記録状態
【図9】参考例2において、ランド部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図。
【図10】参考例2において、グル−ブ部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図。
【図11】参考例3の記録マーク長が6Tの場合について、光記録媒体をFIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図。
(a)記録部を観察した図
(b)未記録部を観察した図
【図12】参考例3の記録マーク長が14Tの場合について、光記録媒体をFIBで半径方向に切断しFE−SEMで観察した図。
【図13】参考例3の記録マーク長が14Tの場合について、光記録媒体をFIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図。
【図14】実施例1の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。
【図15】比較例1の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。
【図16】実施例2の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。
【図17】参考例3で用いた記録ストラテジを示す図。
(a) 通常の記録ストラテジ
(b) 他の記録ストラテジ
(c) 更に他の記録ストラテジ
【符号の説明】
Mark Length マーク長
T 基準クロック
RF Lebel(V) RF(再生信号)レベル(ボルト)
Modulated amplitude 変調度
Unrec 未記録時の再生信号(RF)レベル
Top マーク列を記録した時の最大再生信号レベル(即ちスペース部)
Bottom マーク列を記録した時の最小再生信号レベル(即ちマーク部)
MA. (Top−Bottom)/Topで計算される変調度
Time0.5(μs/div) 時間(1メモリ0.5マイクロ秒)
A 基準点から隣接するランド又はグルーブの近い方の端部までの幅
B 基準点から隣接するランド又はグルーブの遠い方の端部までの幅
C 基準点から次のグルーブ又はランドの近い方の端部までの幅
D 基準点から次のグルーブ又はランドの遠い方の端部までの幅
ζ グルーブ底部からランド上面までの高さ
Pit レーザ光の入射方向とは逆に変形した記録マーク
Bump レーザ光の入射方向に変形した記録マーク
Sum 和信号(再生信号)
Beam Position(μm) ビーム位置(マーク中心からのビーム中心のズレ量)
From Sub,Land 基板側からランド記録
From Sub,Groove 基板側からグルーブ記録
No Bubble 空隙無し
Bubble 空隙有り
(N) 変形領域の幅が0.8525λの場合
(W) 変形領域の幅が1.8525λの場合
σ/Tw ジッタ
Pw1 記録パワー
Pw2 ボトムパワー
Pr バイアスパワー
TEFP 基準時間から先頭パルス立下り時間までの時間
TSFP 基準時間から先頭パルス立上り時間までの時間
TEMP 基準時間からマルチパルス立下り時間までの時間
TSMP 基準時間からマルチパルス立上り時間までの時間
TELP 基準時間から最終パルス立下り時間までの時間
TSLP 基準時間から最終パルス立上り時間までの時間[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a write once read many (WORM) optical recording medium, and more particularly to a write once optical recording medium capable of high density recording even at a blue laser wavelength.
[0002]
[Prior art]
Development of blue lasers capable of ultra-high density recording is rapidly progressing, and write-once type optical recording media corresponding thereto are being developed.
In conventional write-once optical recording media, recording pits are formed by irradiating a recording layer made of an organic material with laser light and causing a change in refractive index mainly due to decomposition and alteration of the organic material. The optical constant and decomposition behavior of the organic material used are important factors for forming good recording pits.
Accordingly, it is necessary to select an organic material used for the recording layer that is suitable for optical properties and decomposition behavior with respect to the blue laser wavelength. In other words, the recording / reproducing wavelength has a large absorption band in order to increase the reflectivity when unrecorded, and to cause a large change in refractive index due to decomposition of the organic material by laser irradiation (this provides a large degree of modulation). It is selected so as to be located at the bottom of the long wavelength side.
This is because the skirt on the long wavelength side of the large absorption band of the organic material is a wavelength region having an appropriate absorption coefficient and a large refractive index.
However, an organic material having an optical property with respect to a blue laser wavelength that is the same as the conventional value has not yet been found. This is because in order to obtain an organic material having an absorption band near the blue laser wavelength, it is necessary to reduce the molecular skeleton or shorten the conjugated system, but this leads to a decrease in absorption coefficient, that is, a decrease in refractive index. Because.
That is, there are many organic materials having an absorption band near the blue laser wavelength, and the absorption coefficient can be controlled. However, since there is no large refractive index, a large degree of modulation cannot be obtained.
[0003]
For example, Patent Documents 1 to 5 describe organic materials for blue lasers.
However, these documents only measure the spectra of the solution and the thin film even when looking at the examples, and there is no description regarding recording and reproduction.
In Patent Documents 6 to 8, although there is a description of recording in the examples, the recording wavelength is 488 nm, and there is no description regarding recording conditions and recording density, and only a description that good recording pits can be formed. It is.
Although Patent Document 9 has a description of recording in the examples, the recording wavelength is 430 nm, and there is no description regarding recording conditions and recording density, but only a description that a good degree of modulation has been obtained. .
In Patent Documents 10 to 19, there is an example of recording at a recording wavelength of 430 nm and NA of 0.65 in the examples, but the low recording density condition (recording density equivalent to DVD) is that the shortest pit is 0.4 μm.
In Patent Document 20, there is recording at a recording / reproducing wavelength of 405 to 408 nm, but there is no specific description regarding the recording density, which is a low recording density condition of recording a 14T-EFM signal.
[0004]
Further, the following technologies are disclosed regarding the layer configuration and recording method different from those of conventional CD and DVD optical recording media.
Patent Document 21 discloses a technique for recording by changing the extinction coefficient (absorption coefficient in the present invention) of a saturable absorbing dye in a layer structure of substrate / saturable absorbing dye-containing layer / reflective layer. .
Patent Document 22 discloses a technique for recording by changing the color or deformation of a metal vapor deposition layer by heat generated by the light absorption layer in a layer configuration of substrate / metal vapor deposition layer / light absorption layer / protective sheet. Yes.
Patent Document 23 discloses a technique for recording by changing the depth of the groove portion by changing the film thickness of the recording layer in a layer configuration of substrate / dielectric layer / recording layer including a light absorber / reflective layer. ing.
Patent Document 24 discloses a technique for performing recording by changing the film thickness of the recording layer by 10 to 30% in a layer configuration of substrate / recording layer including light absorber / metal reflective layer.
[0005]
Patent Document 25 discloses a technique for recording by increasing the groove width of a substrate by 20 to 40% with respect to an unrecorded portion in a layer configuration of substrate / recording layer containing organic dye / metal reflective layer / protective layer. Is disclosed.
Patent Document 26 discloses a technique for recording by forming a bubble by deforming a metal thin film with a layer structure of substrate / intermediate layer / metal thin film.
In Patent Document 27, the recording auxiliary layer is deformed into a concave shape in a layer configuration of substrate / light absorption layer / recording auxiliary layer / light reflecting layer, and the light reflecting layer is deformed into a concave shape along with the deformation of the recording auxiliary layer. Thus, a technique for recording is disclosed.
In Patent Document 28, a recording auxiliary layer having a layer structure of substrate / light absorbing layer / porous recording auxiliary layer / light reflecting layer or substrate / porous recording auxiliary layer / light absorbing layer / light reflecting layer is provided. A technique is disclosed in which recording is performed by deforming into a concave shape and deforming the light reflecting layer into a concave shape along with the deformation of the recording auxiliary layer.
In Patent Document 29, the light absorption layer is deformed into a concave shape in a layer configuration of substrate / porous light absorption layer / light reflection layer, and the light reflection layer is deformed into a concave shape along with the deformation of the light absorption layer. A technique for recording with the above is disclosed.
[0006]
In Patent Document 30, recording is performed by shifting the absorption spectrum of an organic dye to the short wavelength side in a layer structure of a substrate / recording layer containing an organic dye / recording auxiliary layer, in which the recording auxiliary layer and the organic dye are compatible. Techniques for performing are disclosed.
Patent Document 31 discloses a technique in which recording is performed by forming bumps on a substrate and the composite functional layer in a layer configuration in which a composite functional layer having a function of a reflective layer and a recording layer and a protective layer are sequentially formed on the substrate. Has been. Note that the composite functional layer is prescribed to use a metal such as nickel, chromium, titanium, or an alloy thereof.
In Patent Document 32, a metal thin film layer, a deformable buffer layer, a reflective layer, and a protective layer are sequentially formed on a substrate, and the substrate and the metal thin film layer are deformed at the same time. A technique for recording by reducing the thickness is disclosed. Note that the metal thin film layer has a rule that a metal such as nickel, chromium, titanium, or an alloy thereof is used. In addition, as the buffer layer, there is a description that a resin that is easily deformable and has an appropriate fluidity is used, and a pigment may be contained in order to promote deformation.
[0007]
In Patent Document 33, a metal thin film layer, a buffer layer, and a reflective layer are sequentially laminated on a substrate, and the substrate and the metal thin film layer are deformed. At the same time, the buffer layer thickness and the optical constant at the deformed portion are set. A technique for recording by changing is disclosed. In addition, as a metal thin film layer, there exists a description that metals, such as nickel, chromium, titanium, or those alloys are preferable. The buffer layer is made of a mixture of a dye and an organic polymer, and a dye having a large absorption band near the recording / reproducing wavelength is used.
In Patent Document 34, a metal recording layer, a buffer layer, and a reflective layer are sequentially laminated on a substrate, and the substrate and the metal recording layer are deformed. At the same time, the buffer layer thickness and the optical constant at the deformed portion are set. A technique for recording by changing is disclosed. In addition, as a metal recording layer, there exists a description that metals, such as nickel, chromium, titanium, or those alloys are preferable. The buffer layer is made of a mixture of a dye and a resin, and a dye having a large absorption band near the recording / reproducing wavelength is used.
[0008]
As described above, the above-described various conventional techniques are not aimed at realizing a write-once type optical recording medium in the blue laser wavelength region, and are not a layer configuration or a recording method effective in the blue laser wavelength region. In particular, in the vicinity of 405 nm, which is the center of the oscillation wavelength of a blue semiconductor laser that is currently in practical use, most organic materials have an optical constant comparable to that required for the recording layer of conventional write-once type optical recording media. It does n’t exist.
In addition, there are no examples in which recording conditions are clarified near 405 nm and recording is performed at a higher recording density than DVD.
Further, many of the above-described prior art examples are experiments with a conventional disk configuration (see FIG. 1), and a configuration different from the conventional disk configuration has been proposed. The same optical characteristics and functions as before are required, and there is no effective proposal for a layer structure, a recording principle, and a recording method that can easily realize a write-once type optical recording medium made of an organic material in the blue laser wavelength region.
[0009]
In addition, in a write-once type optical recording medium using a conventional organic material, a large refractive index and a relatively small absorption coefficient (about 0.05 to 0.07) with respect to the recording / reproducing wavelength from the viewpoint of securing the degree of modulation and the reflectance. ) Can only be used.
That is, since the organic material does not have sufficient absorption capability for the recording light, it is impossible to reduce the film thickness of the organic material, and thus it is necessary to use a substrate having a deep groove. (Organic materials are usually formed by spin coating, so organic materials were buried in deep grooves to increase the thickness). Therefore, it becomes very difficult to form a substrate having a deep groove, which has been a factor of deteriorating the quality as a write once optical recording medium. Furthermore, in a write-once optical recording medium using a conventional organic material, the main absorption band of the organic material exists in the vicinity of the recording / reproducing wavelength, so the wavelength dependence of the optical constant of the organic material increases (the optical constant depends on the wavelength). Recording characteristics such as recording sensitivity, modulation factor, jitter, error rate, and reflectivity greatly change with respect to fluctuations in recording / reproducing wavelength due to individual differences of lasers, environmental temperature changes, etc. was there.
[0010]
In order to solve the above-described problems, the present inventor, for example, in Japanese Patent Application No. 2002-144415 (hereinafter referred to as a prior application), has been proposed a light absorption function conventionally required for a recording layer made of an organic compound. Considering the separation of the two functions of the recording function, the write-once type optical recording medium structure in which the light absorbing function is removed from the recording layer made of an organic compound, and a light absorbing layer is newly introduced as a layer responsible for the light absorbing function. Proposed.
In this write-once type optical recording medium structure, the light absorption function is removed from the organic compound, and the deformation of the light absorption layer can be used for recording. Therefore, the restrictions on the organic compound can be greatly relaxed, and the CD-R And the dye used in DVD-R and the like can be used.
In one configuration example of the above-mentioned write-once type optical recording medium proposed by the present inventor, that is, a light absorption layer having a light absorption function for recording light is provided on the substrate or adjacent to the cover layer. In a write once optical recording medium having a structure, for example, a light absorbing layer is deformed by recording, or a light absorbing function of the light absorbing layer is used to physically apply a layer adjacent to the light absorbing layer on the side opposite to the substrate or the cover layer. Recording is performed by applying a chemical or optical change.
However, this write-once type optical recording medium can obtain good jitter characteristics (recording / reproducing characteristics) when recording at low recording power, but the jitter may suddenly deteriorate when recording at high recording power. Yes, leading to a narrow power margin for jitter. In addition, although there is a similar tendency in any type of optical recording medium, there may be a phenomenon that tracking is easily lost in a portion recorded with a high recording power.
[0011]
[Patent Document 1]
JP 2001-181524 A
[Patent Document 2]
JP 2001-158865 A
[Patent Document 3]
JP 2000-343824 A
[Patent Document 4]
JP 2000-343825 A
[Patent Document 5]
JP 2000-335110 A
[Patent Document 6]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-221964
[Patent Document 7]
Japanese Patent Laid-Open No. 11-334206
[Patent Document 8]
JP 2000-43423 A
[Patent Document 9]
JP-A-11-58955
[Patent Document 10]
JP 2001-39034 A
[Patent Document 11]
JP 2000-149320 A
[Patent Document 12]
JP 2000-113504 A
[Patent Document 13]
JP 2000-108513 A
[Patent Document 14]
JP 2000-222772 A
[Patent Document 15]
JP 2000-218940 A
[Patent Document 16]
JP 2000-222771 A
[Patent Document 17]
JP 2000-158818 A
[Patent Document 18]
JP 2000-280621 A
[Patent Document 19]
JP 2000-280620 A
[Patent Document 20]
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-146074
[Patent Document 21]
JP-A-7-304258
[Patent Document 22]
JP-A-8-83439
[Patent Document 23]
JP-A-8-138245
[Patent Document 24]
JP-A-8-297838
[Patent Document 25]
JP-A-9-198714
[Patent Document 26]
Japanese Patent No. 2506374
[Patent Document 27]
Japanese Patent No. 2591939
[Patent Document 28]
Japanese Patent No. 2591940
[Patent Document 29]
Japanese Patent No. 2591941
[Patent Document 30]
Japanese Patent No. 2998925
[Patent Document 31]
JP-A-9-265660
[Patent Document 32]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-134415
[Patent Document 33]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-306591
[Patent Document 34]
JP-A-10-124926
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention relates to a write-once type optical recording medium having a structure in which a light absorbing layer having a light absorbing function for recording light is provided adjacent to a substrate or a cover layer by further developing the above-mentioned prior invention. The purpose is to realize the following (1) to (3).
(1) Providing a write-once optical recording medium that eliminates the cause of deteriorating recording / reproducing characteristics and tracking performance.
(2) Providing a layer structure that suppresses deterioration of recording / reproduction characteristics and tracking performance.
(3) Providing a recording method that suppresses deterioration of recording / reproduction characteristics and tracking performance.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a write-once optical recording medium having a structure in which a light absorption layer having a light absorption function with respect to recording light is provided on a substrate or adjacent to a cover layer, Since the light absorption layer having a large absorption coefficient is in contact with the substrate or the cover layer, when the recording power is increased, the light absorption layer is deformed or adjacent to the light absorption layer opposite to the substrate or the cover layer. It has been found that in addition to changes in the physical, chemical, optical, etc. of the layer, voids may occur in the substrate or in the cover layer.
Although the gap in the substrate or cover layer has the effect of generating a large degree of modulation, the recording polarity can be changed or the reproduction signal waveform can be differentiated within the settable recording power range of the laser. It has been found that there is a case where the recording / reproducing characteristics are deteriorated by making the waveform or imbalance of the modulation degree of the short mark and the long mark. In particular, it has been found that when the recording polarity changes in the settable recording power range of the laser (when the recording polarity is mixed), the jitter and the power margin of the jitter are deteriorated and the modulation degree is decreased.
Therefore, the present invention provides a write-once type optical recording medium, a layer structure, and a recording method that suppress the generation of voids in a substrate or a cover layer, which often deteriorates recording / reproducing characteristics and tracking performance.
In general, in mark length recording, a reproduction signal (RF signal) when a recording mark is reproduced is as shown in FIG. On the other hand, as shown in FIGS. 2B and 2C, a signal having an inflection point near the front and rear edges of the recording mark and near the center of the recording mark is converted into a differential waveform (differential waveform) in the present invention. To tell.
[0014]
  That is, the above-described problems are solved by the following inventions 1) to 9).
  1) Substrate or cover layerAnd a light absorption layer made of an inorganic material having a light absorption function for recording light,Gap suppression layer for suppressing generation of voids in the substrate or cover layer due to recordingButA write-once type optical recording medium having a provided structure.
  2) On the substrate, a void suppressing layer for suppressing void generation in the substrate due to recording, and a light absorption function for recording lightMade of inorganic materialA write-once optical recording medium having a structure in which a light absorbing layer, a recording layer made of an organic compound, and a reflective layer are sequentially provided.
  3)SaidThe void suppression layer is made of SiO.2ZnS-SiO2, ZrO2The main component is any of1) or 2)The write-once type optical recording medium as described.
  4)SaidThe void suppression layer is made of ZnS, ZrO.2, Y2O3And SiO2It is characterized by being an oxide consisting of1) or 2)The write-once type optical recording medium as described.
  5)SaidThe void suppressing layer is made of ZrO.2TiO2, SiO2And X, where X is Al2O3, MgO, CaO, NbO, Y2O3, At least one selected from CeO1) or 2)The write-once type optical recording medium as described.
  6)The write-once type optical recording medium as described in any one of 1) to 5), which is compatible with a recording / reproducing wavelength of 405 nm.
  7)The write-once type optical recording medium according to any one of 1) to 6), wherein the recording polarity after recording is Low to High.
  8) Write-once type optical recording, wherein the write-once type optical recording medium according to any one of 1) to 7) is recorded in a recording power range in which no gap is formed in the substrate or the cover layer. Media recording method.
  9) A write-once optical recording medium according to any one of 1) to 7), wherein recording is performed with a recording strategy in which no gap is formed in a substrate or a cover layer. Recording method.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In a write once optical recording medium having a structure in which a light absorption layer having a light absorption function for recording light is provided adjacent to the substrate or the cover layer, when the recording power is increased, the light absorption layer Deformation and changes in physical, chemical, optical, etc. of the layer adjacent to the light absorption layer on the side opposite to the substrate or cover layer occur.
For example, in a specific example, in a write-once type optical recording medium having a structure of substrate / light absorption layer / dye layer / reflection layer, the following a) to h) are performed depending on the light absorption function of the light absorption layer. A change occurs and a recording part is formed.
B) The light absorption layer is deformed
B) The complex refractive index of the light absorption layer changes.
C) The volume of the light absorption layer changes.
D) Low refractive index parts such as voids are generated in the light absorption layer.
E) Change in complex refractive index of the dye layer changes
F) The volume of the dye layer changes
G) Low refractive index parts such as voids are generated in the dye layer.
H) The substrate is deformed
[0016]
Since this write-once optical recording medium does not require a light absorption function in the dye layer as in the prior art, the degree of freedom in dye selection is greatly increased, and a write-once optical recording medium corresponding to a laser wavelength equal to or less than the blue laser wavelength is easy. There is an advantage that can be provided.
However, when the light absorption layer is difficult to deform, when the optical change of the light absorption layer is difficult to occur, or when the optical change of the dye layer is difficult to occur, the light absorption layer or the dye layer is used for recording. It is necessary to increase the recording power until an optical, chemical, or physical change occurs. At this time, in a structure in which the substrate, the cover layer, etc. are in contact with the light absorption layer, the substrate is heated more than necessary. In addition, voids may be generated in the substrate due to the heating more than necessary.
That is, when the recording power is low, the light absorption function of the light absorption layer causes an optical, chemical, or physical change in the light absorption layer or the dye layer, thereby forming a recording portion. In addition to the optical, chemical, or physical change of the light absorption layer or the dye layer, the substrate is heated more than necessary, so that the recording portion is also formed by the generation of voids in the substrate.
[0017]
The generation of voids in the substrate is generally because the generated recording power range is greatly different from the recording power range causing optical, chemical, or physical changes in the light absorption layer or the dye layer (inside the substrate). The air gap is generally generated with a recording power higher than the change of the light absorption layer and the dye layer), and causes a deterioration of jitter and a recording power margin of jitter.
In addition, since voids in the substrate generally occur with a threshold value, it often causes a sudden change in modulation degree or a change in recording polarity, which causes jitter deterioration or jitter recording power. Induces margin deterioration.
In addition, the generation of the voids in the substrate may cause the deformation of the light absorption layer to become very large, disturb the deformation shape of the light absorption layer, or greatly change the groove shape of the substrate itself. Increases or tracking performance deteriorates.
Therefore, the present invention suppresses the generation of voids in the substrate or the cover layer, which is highly likely to deteriorate the tracking performance, change in recording polarity, jitter, or reduce the recording power margin of jitter.
[0018]
As described above, the gap in the substrate or the cover layer is likely to occur when the recording power is increased or in the long mark.
Therefore, there is a phenomenon in which the jitter suddenly deteriorates on the high recording power side (the recording power margin of jitter suddenly deteriorates), the recording polarity changes depending on the recording mark length, or the amplitude changes greatly depending on the recording mark length. To do.
Due to the phenomenon that the recording polarity changes depending on the recording mark length or the amplitude changes greatly depending on the recording mark length, good recording / reproducing characteristics can be obtained with a single-period recording mark, but recording / reproducing can be performed when a random pattern is recorded. The characteristics may be deteriorated.
Examples of a method for suppressing the generation of voids in the substrate or the cover layer include the following a) to e).
B) A heat insulating layer (void suppressing layer) is provided between the substrate or cover layer and the light absorbing layer.
B) A heat dissipation layer (void suppression layer) is provided between the substrate or cover layer and the light absorption layer.
C) Control recording power (recording is performed in a recording power range in which no gap is generated).
D) Control and optimize the recording strategy (make sure the long mark does not store more heat than necessary).
E) Control the decomposition characteristics of the substrate (select a material that does not generate voids).
[0019]
When a void suppressing layer is provided between the substrate or the cover layer and the light absorbing layer, whether the void suppressing layer is a so-called heat insulating layer or a heat radiating layer depends on the size of the light absorbing function of the light absorbing layer and the light absorbing layer. Depends on thermal properties such as thermal conductivity.
That is, when the light absorption function of the light absorption layer is relatively low, the heat generated in the light absorption layer is released by the heat dissipation layer so that the recording sensitivity is not impaired (for recording with low recording power). It is more advantageous to suppress the generation of voids in the substrate by limiting the amount of heat transmitted to the substrate by the heat insulating layer, rather than suppressing the generation of.
On the contrary, when the light absorption function of the light absorption layer is relatively high, it is also effective to suppress the generation of voids in the substrate by releasing the heat generated in the light absorption layer through the heat dissipation layer.
Controlling the recording power is to control the amount of heat generated in the light absorption layer, so that the generation of voids in the substrate can be directly controlled.
Controlling the recording strategy is also controlling the amount of heat generated in the light absorption layer as well as the recording power, so that the generation of voids in the substrate can be directly controlled. Further, when controlling the recording strategy, the amount of heat generated in the light absorption layer can be controlled for each recording mark length, so that it is possible to suppress the phenomenon that the presence or absence of voids in the substrate differs depending on the recording mark length.
Controlling the decomposition characteristics of the substrate means, for example, increasing the decomposition temperature of the substrate material, and in the case of a polymer material, using a high-decomposition polymer material or increasing the molecular weight (increasing the degree of polymerization) Therefore, the generation of voids can be suppressed. It is also effective to use a glass material for the substrate.
[0020]
The write-once type optical recording medium and the recording method thereof according to the present invention include, for example, the write-once type optical recording medium having the following structures (i) and (ii), or a write-once type optical recording having a two-layer structure in which two of them are bonded. Valid for media.
(I) Write-once type optical recording medium for recording / reproducing from the substrate side
・ Substrate / light absorption layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer
・ Substrate / light absorption layer / undercoat layer / recording layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer / overcoat layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer / reflection layer
・ Substrate / light absorption layer / undercoat layer / recording layer / reflection layer
Substrate / light absorption layer / recording layer / overcoat layer / reflective layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer / reflection layer / protective layer
(Ii) Write-once optical recording medium for recording / reproduction from the cover layer side
・ Substrate / light absorption layer / cover layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer / cover layer
・ Substrate / light absorption layer / recording layer / undercoat layer / cover layer
・ Substrate / light absorption layer / overcoat layer / recording layer / cover layer
・ Substrate / reflection layer / recording layer / light absorption layer / cover layer
Substrate / reflection layer / recording layer / light absorption layer / undercoat layer / cover layer
Substrate / reflection layer / overcoat layer / recording layer / light absorption layer / cover layer
As a preferred embodiment, in the write-once type optical recording medium having the above structure, a void suppressing layer is provided between the substrate and the light absorbing layer or between the cover layer and the light absorbing layer.
[0021]
As shown in the above configuration example, the write-once type optical recording medium of the present invention basically comprises a substrate or a cover layer and a light absorption layer as essential components, but is provided with a void suppressing layer. Preferably, a recording layer such as an organic compound, an undercoat layer, an overcoat layer, a metal reflective layer, a protective layer, and the like may be provided on the substrate as necessary.
In the present invention, the recording layer refers to a layer that causes an optical constant change, a chemical change, or a physical change. Specifically, it is a layer that causes changes in complex refractive index, phase difference, decomposition, sublimation, aggregation, etc., crystal state change, solubility change, structural change, volume change, void formation, etc. by recording. .
Similarly, the undercoat layer and the overcoat layer are formed as an interference layer for improving recording / reproduction characteristics, a protective layer during film formation (for example, a film is formed on a film soluble in a coating solvent by a spin coating method). Protective layer), a protective layer that maintains the film state of the adjacent layer, etc. (improves storage stability, etc.).
[0022]
The material of the substrate in the write-once type optical recording medium of the present invention may basically be transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light.
Examples of such materials include acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefins), polyester resins, polystyrene resins, epoxy resins, and other resins, glass, and glass. Those having a resin layer made of a radiation curable resin such as a photocurable resin can be used, but injection molded polycarbonate is preferable in terms of high productivity, cost, moisture absorption resistance, and the like. From the viewpoints of chemical resistance and moisture absorption resistance, amorphous polyolefin is preferable, and from the viewpoint of high-speed response or no generation of voids, a glass substrate is preferable.
Further, a resin substrate or a resin layer may be provided in contact with the recording layer, and guide grooves and pits for recording / reproducing light may be provided on the resin substrate or resin layer.
[0023]
Examples of the recording layer material include organic materials, and dyes are also preferable.
Examples of the dye include metal-containing azo dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, squarylium dyes, metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, and azurenium dyes. Naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, pyrylium dyes, and the like.
In addition, the recording layer has a transition metal chelate compound (for example, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone) as a singlet oxygen quencher to improve the stability and light resistance of the recording layer. And a recording sensitivity improver such as a metal compound may be contained for improving the recording sensitivity.
Here, the metal compound means a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, ethylenediamine complex, azomethine complex, phenylhydroxyamine complex, phenanthroline complex, Organic metal compounds such as dihydroxyazobenzene complex, dioxime complex, nitrosoaminophenol complex, pyridyltriazine complex, acetylacetonate complex, metallocene complex and porphyrin complex can be mentioned. Although it does not specifically limit as a metal atom, A transition metal is preferable.
[0024]
Moreover, the pigment | dye of another system | strain can also be used together as needed.
Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed.
Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
The film thickness of the recording layer varies depending on the recording method and the like, and is not particularly limited, but is usually 50 to 300 nm.
[0025]
Examples of the method for forming the recording layer include generally used thin film forming methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method.
Among them, the spin coating method is preferable from the viewpoint of mass productivity and cost, and the vacuum evaporation method is more preferable than the coating method from the viewpoint that a recording layer having a uniform thickness can be obtained.
In the case of film formation by a spin coating method, the number of rotations is preferably 500 to 15000 rpm, and after spin coating, treatment such as heating or solvent vapor may be performed in some cases.
The coating solvent for forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, or a dipping method may be any solvent that does not attack the substrate and is not particularly limited.
[0026]
For example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chain hydrocarbon solvents such as n-hexane and n-octane Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane and cyclooctane; perfluoroalkyl alcohols such as tetrafluoropropanol, octafluoropentanol and hexafluorobutanol Examples of the solvent include hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl isobutyrate.
As the recording layer material, in addition to the above, a polymer material, a phase change material, a photochromic material, a thermochromic material, and the like can be preferably used.
[0027]
As a material for the light absorption layer, it is preferable to use a material having a certain absorption coefficient with respect to the recording wavelength in terms of ensuring sufficient recording sensitivity.4Carbon-based non-oxides such as C, TiC, WC, carbon-based non-oxides such as amorphous carbon, graphite, diamond, ceramics typified by ferrite, or Te-TeO2, Te-TeO2-Pd, Sb2Se3/ Bi2Te3, Ge-Te-Sb-S, Te-TeO2-Ge-Sn, Te-Ge-Sn-Au, Ge-Te-Sn, Sn-Se-Te, Sb-Se-Te, Sb-Se, Ga-Se-Te, Ga-Se-Te-Ge, In -Se, In-Se-Tl-Co, Ge-Sb-Te, In-Se-Te, Ag-In-Sb-Te, Ag-Zn, Cu-Al-Ni, In-Sb, In-Sb-Se Phase change recording materials such as In-Sb-Te, pure metals such as nickel, chromium, titanium and tantalum, alloys such as copper / aluminum and nickel / iron, semimetals such as silicon, semiconductors such as Ge, etc. It is possible.
Among them, it is preferable to use a material containing Si or Ge. For example, Si, Ge, SiC, or the like is preferable.
The film thickness of the light absorption layer is usually 5 to 150 nm.
[0028]
As a material of the void suppression layer, for example, Al2O3, MgO, BeO, ZrO2TiO2, UO2, ThO2, CaO, NbO, Y2O3, Simple oxides such as CeO; SiO22MgO · SiO2, MgO / SiO2, CaO · SiO3, ZrO2・ SiO23Al2O3・ 2SiO22MgO · 2Al2O3・ 5SiO2, Li2O ・ Al2O3・ 4SiO2Silicate oxides such as Al2TiO5, MgAl2O4, Ca10(PO4)6(OH)2, BaTiO3LiNbO3, PZT [Pb (Zr, Ti) O3], PLZT [(Pb, La) (Zr, Ti) O3], Double oxide oxides such as ferrite; or Si3N4, Si6-ZAlZOZN8-ZNon-oxides of nitrides such as AlN, BN, TiN; SiC, B4Non-oxides of carbides such as C, TiC and WC; LaB6TiB2, ZrB2Non-oxides of borides such as ZnS, CdS, MoS2Sulfide non-oxide such as MoSi2Silicide-based non-oxides such as amorphous carbon, graphite, diamond and other carbon-based non-oxides, or mixtures thereof can be used.
From the viewpoint of transparency to recording / reproducing light and productivity, SiO2Material mainly composed of ZnS or SiO2A material mainly composed of (main component) is preferred.
In order to obtain a sufficient heat insulation effect, ZrO2It is also preferable to use as a main component (main component).
ZnS, ZrO2, Y2O3And SiO2An oxide comprising ZrO2TiO2, SiO2And X, where X is Al2O3, MgO, CaO, NbO, Y2O3A material that is at least one selected from CeO is preferable.
[0029]
A reflective layer may be formed on the recording layer directly or via an overcoat layer, and the thickness thereof is preferably 50 to 300 nm.
As a material of the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal selected from Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr, and Pd alone or It can be used as an alloy. Among them, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as a material for the reflective layer.
Further, the main component is the above material, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, A material containing a metal and a semimetal such as Te, Pb, Po, Sn, and Bi may be used.
Among these, those containing Ag as a main component are particularly preferable because of low cost and high reflectivity.
It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking a low refractive index thin film and a high refractive index thin film using a material other than metal, and use it as a reflective layer.
Examples of the method for forming the reflective layer include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition.
[0030]
In addition, a known inorganic or organic overcoat layer, undercoat layer, or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, or improve adhesion. It can also be provided.
In the case of imparting a light absorption function to the overcoat layer or the undercoat layer, a material similar to the above-described light absorption layer material can be used. In addition, when using an overcoat layer or undercoat layer as a mechanical protection, improved storage stability, improved solvent resistance, or interference layer, use the same material as the above-mentioned void suppressing layer material. Can do.
The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic material include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, Examples thereof include UV curable resins. In addition, as an inorganic material, SiO2, SiN4, MgF2, SnO2Etc.
A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying.
The UV curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with UV light. As the UV curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used.
[0031]
These materials may be used alone or in combination, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used as in the recording layer. Among these, a spin coating method is preferable.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 to 100 μm, but is preferably 3 to 30 μm in the present invention.
Further, a substrate may be further bonded to the reflective layer surface, or two write-once optical recording media may be bonded with the reflective layer surfaces facing each other as the inner surface.
An ultraviolet curable resin layer, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface side of the substrate in order to protect the surface and prevent adhesion of dust and the like.
[0032]
The cover layer is necessary when using a lens with a high NA in order to increase the density.
For example, when the NA is increased, it is necessary to reduce the thickness of the portion through which the reproduction light is transmitted. This is due to the angle at which the disk surface deviates from the optical axis of the optical pickup as the NA increases (so-called tilt angle, proportional to the square of the product of the reciprocal of the wavelength of the light source and the numerical aperture of the objective lens). This is because the allowable amount of generated aberration is reduced, and this tilt angle is easily affected by the aberration due to the thickness of the substrate.
Therefore, the thickness of the substrate is reduced to minimize the influence of aberration on the tilt angle.
Therefore, for example, a recording layer is formed by forming irregularities on a substrate, a reflective film is provided on the recording layer, and a light-transmitting cover layer, which is a thin film that transmits light, is provided on the recording layer. A write-once optical recording medium that reproduces information on the recording layer by irradiating the recording layer, a reflective film on the substrate, and a recording film is formed thereon to form a recording layer, which further has optical transparency A write-once optical recording medium has been proposed in which a cover layer is provided and information on the recording layer is reproduced by irradiating the reproducing light from the cover layer side.
[0033]
In this way, the NA of the objective lens can be increased by reducing the thickness of the cover layer. That is, it is possible to further increase the recording density by providing a thin cover layer and recording / reproducing from the cover layer side.
Such a cover layer is generally formed of a polycarbonate sheet or an ultraviolet curable resin.
Further, the cover layer referred to in the present invention may include a layer for adhering the cover layer.
The wavelength of the laser beam used in the write-once type optical recording medium of the present invention is preferably as short as possible for high-density recording, but is particularly preferably in the range of 350 to 530 nm. A typical example of such a laser beam is a laser beam having a center wavelength of 405 nm.
[0034]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a reference example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited at all by these Examples.
[0035]
Reference example 1
First, a write-once type optical recording medium having SiC having a thickness of 10 nm as a light absorption layer was formed on a substrate, and recording / reproducing characteristics from the substrate side were evaluated.
3 to 6 show the recording results of Reference Examples 1-A to 1-D.
FIGS. 3A to 6A are diagrams showing measurement results of the recording mark length (Mark Length) dependence of the reproduction signals (RF levels) of Reference Examples 1-A to 1-D. Among them, Unrec is a reproduction signal (RF level) when recording is not performed, Top is a maximum reproduction signal level (generally a space portion) when a mark string is recorded, and Bottom is a minimum when a mark string is recorded. The reproduction signal level, MA, indicates the modulation degree calculated by (Top-Bottom) / Top.
FIGS. 3B to 6B show a reproduction signal when 3T marks are continuously recorded, a reproduction signal when 4T marks are continuously recorded, and a reproduction signal when no recording is performed. 3 (c) to FIG. 6 (c), the reproduction signal when the 6T mark is continuously recorded, the reproduction signal when the 8T mark is continuously recorded, and the reproduction when not recorded are shown in FIG. 3 (d) to 6 (d) show signal levels when a 3T mark is continuously recorded, a playback signal when a 14T mark is continuously recorded, and an unrecorded signal. The reproduction signal level is shown.
[0036]
<Reference Example 1-A>
A write-once type optical recording medium was produced in which a SiC layer having a thickness of 10 nm was provided as a deformable layer having a light absorption function on a polycarbonate substrate having a guide groove with a groove depth of 55 nm.
This optical recording medium was irradiated with 5.0 mW of laser light from the substrate side using an optical disk evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.65) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. 3T to 14T marks were individually recorded at a recording frequency of 65.4 MHz and a recording linear velocity of 6.0 m / s at the groove position on the near side as viewed from the incident laser beam side.
Note that it was confirmed by AFM (atomic force microscope) that the SiC layer was deformed to the side opposite to the incident light (on the side opposite to the substrate).
Further, from the result of FIG. 3A, it can be confirmed that there is a possibility that High to Low recording can be performed regardless of the recording mark length.
Furthermore, it can be seen from the results of FIGS. 3B to 3D that all of 3T, 4T, 6T, 8T, and 14T show reproduced signal waveforms that allow mark length recording.
[0037]
<Reference Example 1-B>
Except that the recording power was changed to 6.0 mW, the same experiment as Reference Example 1-A was performed.
It was confirmed by AFM that the SiC layer was deformed to the side opposite to the incident light (on the side opposite to the substrate).
Further, from the result of FIG. 4A, the recording polarity changes depending on the recording mark length, that is, the high mark is high to low recording in the short mark, but the high to low recording and the low to high recording are mixed in the long mark. It can be seen that such a signal is generated and it becomes difficult to record the mark length.
Further, from the results shown in FIGS. 4B to 4D, 3T and 4T show reproduction signal waveforms that can be recorded in the mark length, but 6T, 8T, and 14T have greatly increased the RF level at the center of the mark. Reproduction signal waveform is shown [In 6T and 8T, the period of the reproduction signal appears to be double that of the original reproduction signal. This is well understood when compared with FIG. 3 (c)], and it is found that mark length recording becomes difficult.
[0038]
<Reference Example 1-C>
Except that the laser beam of 6.0 mW was irradiated from the substrate side and recorded in the land portion (groove position on the back side when viewed from the incident laser beam side), the same experiment as Reference Example 1-A was performed. .
It was confirmed by AFM that the SiC layer was deformed to the side opposite to the incident light (on the side opposite to the substrate).
Further, from the result of FIG. 5A, the recording polarity tends to change depending on the length of the recording mark, that is, slightly, that is, the high mark is high to low and the low mark is high to low and low to. It can be seen that there is a tendency to generate a signal in which high recording is mixed, and mark length recording may be difficult.
Further, from the results shown in FIGS. 5B to 5D, 3T, 4T, 6T, and 8T indicate reproduction signal waveforms that can be recorded in the mark length, but 14T has a large increase in the RF level at the center of the mark. It can be seen that it is difficult to record the mark length.
[0039]
<Reference Example 1-D>
Exactly the same experiment as Reference Example 1-A was performed, except that 7.0 mW laser light was irradiated from the substrate side and recorded in the land portion (groove position on the back side when viewed from the incident laser light side). .
It was confirmed by AFM that the SiC layer was deformed to the side opposite to the incident light (on the side opposite to the substrate).
Further, from the result of FIG. 6A, the recording polarity changes depending on the recording mark length, that is, the short mark is High to Low recording, but the long mark is a mixture of High to Low recording and Low to High recording. It can be seen that such a signal is generated and it becomes difficult to record the mark length.
Further, from the results shown in FIGS. 6B to 6D, 3T and 4T show reproduction signal waveforms that can be recorded in the mark length, but 6T, 8T, and 14T show a significant increase in the RF level at the center of the mark. [For example, at 6T, the period of the reproduced signal appears to be double that of the original reproduced signal. This is well understood when compared with FIG. 3 (c)], and it is found that mark length recording becomes difficult.
[0040]
As described above, from the results of Reference Examples 1-A to 1-D, the write-once type optical recording medium in which the SiC layer is provided on the substrate has a high to low polarity reproduction signal at low recording power. When the power is increased, so-called differential waveform occurs such that the central portion of the recording mark is raised, and it can be seen that the recording polarity looks as if it is Low to High when recording at a higher recording power. It was.
In addition, the degree of differential waveform formation differs depending on the recording mark length, and it has been confirmed that differentiation waveform formation is very likely to occur with long marks.
As described above, normally, the reflectance of the recording mark portion changes in one direction as the recording power increases. On the write-once optical recording medium used in Reference Example 1, the recording portion is reproduced. It can be easily understood that the recording / reproduction characteristics such as jitter deteriorate due to the change of the signal waveform.
[0041]
Reference example 2
Next, in Reference Example 1, simulation was performed under the following conditions in order to clarify the cause of the reproduction signal having a differential waveform.
A recording mark (assuming Pit, see FIG. 7) having a mark length of about 8T (2.0λ) is formed with a layer structure of substrate / SiC (thickness 10 nm).
i) Recording position (Land or Groove)
ii) When reproduction was performed by scanning with a laser beam from the substrate side while changing the presence or absence of a gap ([No Bubble] or [Bubble]), what kind of reproduction signal was obtained was calculated.
The groove shape of the substrate is (A, B, C, D, ζ) = (0.2, 1.0525, 1.2525, 1.8525, 0.1375), and (record mark length, record mark width) , Height) = (2.0λ, 0.8525λ, −0.3λ) (numbers are in units of wavelength λ). Forming, that is, deformation occurs in a direction away from the substrate side). The presence / absence of a gap refers to the state as shown in FIG. 8, the recording state as shown in FIG. 8A is defined as having no gap, and the recording state as shown in FIG.
FIG. 9 shows the result when the recording part with the Pit formed in the land part is reproduced from the substrate side, and FIG. 10 shows the result when the recording part with the Pit formed in the groove part is reproduced from the substrate side. FIG.
In the legend of FIG. 10, (N) indicates the case where the width of the deformation area is 0.8525λ, and (W) indicates the case where the width of the deformation area is 1.8525λ.
As a result (see FIGS. 9 to 10), it was proved that there is a possibility that differential waveform may occur when a gap is generated between the light absorption layer and the substrate or in the substrate.
[0042]
Reference example 3
The simulation of Reference Example 2 proves that the cause of the deterioration of the recording / reproducing characteristics may be a gap generated between the substrate and the light absorption layer or in the substrate.
Therefore, in this reference example, in order to clarify the location and mechanism where voids are actually generated, the substrate / SiC (thickness 15 nm) / Co metal complex of the compound represented by the formula 1 / Ag reflective layer (thickness 150 nm) A write-once optical recording medium called a protective layer was prepared, and recording was performed on the groove part under the following conditions.
<Recording conditions>
Recording linear density: 1T = 0.0917 μm
Record mark length: 6T and 14T
・ Recording power: 9.0mW
・ Recording strategy: Basic strategy
Top-Tmp = 1.20-0.60 (T)
[Chemical 1]
Figure 0004117878
In this recording, 6T had a recording polarity of Low to High, and 14T had a recording polarity of High to Low.
When the recording mark was 14T, the signal amplitude (corresponding to the modulation degree) of the recording portion was about twice that of 6T.
[0043]
Next, the optical recording medium is cut in a track direction or a radial direction with an FIB (Focused Ion Beam = focused ion beam processing apparatus), and the recording unit is subjected to FE-SEM (field emission scanning electron microscope) or TEM (transmission electron microscope). ).
As a result, as shown in FIG. 11 (a view cut by FIB in the track direction and observed by FE-SEM), when the recording mark length is 6T, the recording portion is deformed to the substrate side of the SiC layer, and the dye layer It was confirmed that the recording part was formed by the state change.
On the other hand, when the recording mark length is 14T, the recording polarity is reversed as compared with the recording mark length of 6T, and the recording portion where the modulation degree has increased rapidly is formed in the substrate as shown in FIGS. It was confirmed that voids were generated (when the mark length was 6T, no voids were generated in the substrate). That is, it was confirmed that the cause of the deterioration of the recording / reproducing characteristics was a gap generated in the substrate.
12 is a photograph (photograph) cut in the radial direction by FIB and observed by TEM, and FIG. 13 is an enlarged view of (photograph) obtained by performing the same observation (the TEM photograph in FIG. Are shown side by side.
Furthermore, in the above experiment, an example in which the recording polarity is different depending on the mark length is shown. However, the same phenomenon (a gap is generated in the substrate at a high recording power) occurs when the recording power is low and high. confirmed.
[0044]
Example 1
On a polycarbonate substrate having guide grooves with a groove depth of 50 nm, ZnS-SiO as a void suppressing layer is formed.2A thickness of 65 nm, a thickness of 6 nm of SiC as a layer having a light absorption function, and a thickness of a Co metal complex layer (dye layer) of the compound represented by Chemical Formula 1 that can be used for a DVD-R as a recording layer made of an organic compound. A write-once type optical recording medium was prepared by sequentially laminating a protective layer made of an ultraviolet curable resin with a thickness of about 60 nm, an Ag reflection layer of about 100 nm and an ultraviolet curable resin.
This optical recording medium is irradiated with laser light from the substrate side using an optical disk evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.65) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. A signal of 8-16 modulation was recorded at a recording frequency of 65.4 MHz and a recording linear velocity of 6.0 m / s in the groove position on the near side as viewed from the light side.
As a result, the recording polarity is unified to Low to High within the recording power range that can be set by the evaluation apparatus used in this embodiment, and good jitter characteristics and modulation degree as shown in FIG. 14 are obtained. I was able to.
[0045]
Comparative Example 1
A write-once type optical recording medium having a structure of substrate / SiC (thickness 10 nm) / Co metal complex of compound represented by chemical formula (thickness: about 60 nm) / Ag reflection layer (thickness 150 nm) / protective layer was prepared. Recording was performed under the conditions (when there was no void suppression layer in Example 1).
<Recording conditions>
Recording linear density: 1T = 0.0917 μm
・ Modulation method: 8-16 modulation
・ Recording strategy: Basic strategy
Top-Tmp = 1.20-0.60 (T)
As a result, as shown in FIG. 15, a good recording with a recording power of about 9.0 mW and a jitter of 11.6% could be performed, but it was within the recording power range that can be set by the evaluation apparatus used in this comparative example. In FIG. 5, the change in recording polarity was observed (the recording polarity changed from Low to High to High to Low in the vicinity of 10.5 mw), and it was confirmed that the recording power margin of jitter was very narrow.
A 6T mark and a 14T mark were recorded again on this optical recording medium at a recording power of 8.0 mW. Similarly to Reference Example 3, this optical recording medium was cut in the radial direction by FIB, and the recording portion was observed by TEM.
As a result, it was confirmed that no gap was generated in the substrate in the recording portion with a recording power of 8.0 mW. Further, no tracking error (out of track) occurred during recording / reproduction.
On the other hand, as shown in FIGS. 12 to 13, the jitter did not fall below 15.0% in the recording power at which a gap was generated in the substrate, that is, the recording with a recording power of 9.5 mW or more. Further, at a recording power of about 9.5 mW or more, the ratio of causing a tracking error (out of track) during recording / reproduction increased with an increase in recording power.
[0046]
Example 2
On a polycarbonate substrate having a guide groove with a groove depth of 50 nm, ZrO is used as a void suppressing layer.235 nm in thickness, Si as a layer having a light absorption function, 15 nm in thickness, and a Co metal complex layer (dye layer) of the compound represented by Chemical Formula 1 that can be used for DVD-R as a recording layer made of an organic compound. A write-once type optical recording medium having a thickness of about 60 nm, an Ag reflecting layer thickness of about 100 nm, and a protective layer made of an ultraviolet curable resin was sequentially formed.
This optical recording medium is irradiated with laser light from the substrate side using an optical disk evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405 nm, NA: 0.65) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd. A signal of 8-16 modulation was recorded at a recording frequency of 65.4 MHz and a recording linear velocity of 6.0 m / s in the groove position on the near side as viewed from the light side.
As a result, the recording polarity is unified to Low to High within the recording power range that can be set by the evaluation apparatus used in the present embodiment, and good jitter characteristics and modulation degree as shown in FIG. 16 can be obtained. I was able to.
[0047]
From the results of the above reference examples and examples, the present invention “having a structure in which a light absorption layer having a light absorption function with respect to recording light is provided adjacent to the substrate or cover layer, in the substrate or in the cover. It was confirmed that the “write-once type optical recording medium in which the recording part is formed without forming the void part in the layer” is very important in obtaining good recording / reproducing characteristics.
Note that the recording / reproduction characteristics of the above-described embodiment are merely examples, and the recording polarity is not limited to, for example, Low to High.
[0048]
Example 3
As a result of the observation in FIGS. 11 to 13, it was confirmed that the long mark is likely to be generated in the substrate, and that it is difficult for the short recording mark such as 3T to 4T to be generated.
Therefore, in the recording strategy as shown in FIG. 15A, the setting is made such that the TEMP is decreased by 0.02 (T) for longer marks, and the temperature of the long marks is not increased more than necessary (there is no gap in the substrate). Recording was performed on a write-once optical recording medium having the same configuration as that prepared in Comparative Example 1.
As a result, in the normal recording strategy (in FIG. 17A, TEMP is fixed regardless of the recording mark length), a gap in the substrate was observed at about 14 m mark at about 9.5 mW. By using this recording strategy, no gap in the substrate was observed at the 14T mark even when recording was performed at about 9.5 mW.
That is, by using the recording strategy applied in the present embodiment, even when the recording power is increased, it is possible to suppress the generation of voids that are likely to occur in the long mark. (Enlarged) was obtained.
In addition to the recording strategy used in the present embodiment, the same effect can be achieved by setting, for example, the following a) to re).
In FIG. 17 (a)
B) The longer the mark, the smaller the TELP.
B) The TEFP is made smaller for longer marks.
C) Lower Pw1 or Pw2 for longer marks.
In FIG. 17 (b)
D) Decreasing Pw1 or Pw2 for longer marks.
E) The TEFP is made smaller for the longer mark.
In FIG. 17 (c)
F) Pw1 or Pw2 is made smaller for longer marks.
G) The TEFP is made smaller for the longer mark.
H) The longer the mark, the smaller the TELP.
B) Increase TSLP for longer marks.
Note that the recording strategy setting effective in the present invention is not limited to that described in this embodiment.
[0049]
In the above reference examples and examples, the case where the light absorption layer is in contact with the substrate is taken up. However, in the case of the cover layer, since the substrate and the material are basically the same, the same applies when the cover layer and the light absorption layer are in contact. It is.
The present invention is a method for improving the recording / reproducing characteristics of a write-once optical recording medium having a structure in which a light absorption layer having a light absorption function for recording light is provided adjacent to a substrate or a cover layer. This is an effective method, and does not deny a write-once optical recording medium having voids in the substrate.
The recording polarity depends on the optical constants and thicknesses of the dye layer and the light absorption layer, the deformation of the light absorption layer, the shape of the groove depth of the substrate, and the like. The recording polarity of the medium is not limited.
[0050]
【The invention's effect】
Since the write-once optical recording medium and the recording method of the present invention can suppress the generation of voids in the substrate or the cover layer that deteriorates the recording / reproducing characteristics, good recording / reproducing characteristics and good tracking characteristics The write-once type optical recording medium compatible with a short wavelength laser and the recording method therefor can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a layer structure of a conventional disk.
FIG. 2 is a diagram for explaining a waveform of a reproduction signal when a mark length recording mark is reproduced.
(A) General case
(B) Differential waveform having an inflection point near the front and rear edges of the recording mark.
(C) Differential waveform with an inflection point near the center of the recording mark
FIG. 3 is a view showing a recording result of Reference Example 1-A.
(A) The relationship between the recording mark length, the reproduction signal (RF level), and the modulation degree is shown.
(B) Reproduction signal when 3T mark and 4T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(C) Reproduction signal when 6T mark and 8T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(D) A reproduction signal when 3T mark and 14T mark are continuously recorded, and a reproduction signal level when not recorded.
FIG. 4 is a diagram showing a recording result of Reference Example 1-B.
(A) The relationship between the recording mark length, the reproduction signal (RF level), and the modulation degree is shown.
(B) Reproduction signal when 3T mark and 4T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(C) Reproduction signal when 6T mark and 8T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(D) A reproduction signal when 3T mark and 14T mark are continuously recorded, and a reproduction signal level when not recorded.
FIG. 5 is a diagram showing a recording result of Reference Example 1-C.
(A) The relationship between the recording mark length, the reproduction signal (RF level), and the modulation degree is shown.
(B) Reproduction signal when 3T mark and 4T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(C) Reproduction signal when 6T mark and 8T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(D) A reproduction signal when 3T mark and 14T mark are continuously recorded, and a reproduction signal level when not recorded.
FIG. 6 is a diagram showing a recording result of Reference Example 1-D.
(A) The relationship between the recording mark length, the reproduction signal (RF level), and the modulation degree is shown.
(B) Reproduction signal when 3T mark and 4T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(C) Reproduction signal when 6T mark and 8T mark are continuously recorded, and reproduction signal level when not recorded.
(D) A reproduction signal when 3T mark and 14T mark are continuously recorded, and a reproduction signal level when not recorded.
FIG. 7 is an explanatory diagram of groove parameters in a state where Pit is formed.
FIG. 8 is a diagram for explaining a recording state with and without a gap.
(A) Recording state without gaps
(B) Recording state with a gap
FIG. 9 is a diagram illustrating a result when a recording unit in which a Pit is formed in a land part is reproduced from the substrate side in Reference Example 2;
FIG. 10 is a diagram illustrating a result of reproducing a recording part in which a Pit is formed in a groove part from the substrate side in Reference Example 2;
FIG. 11 is a diagram in which the optical recording medium is cut in the track direction with an FIB and observed with an FE-SEM when the recording mark length in Reference Example 3 is 6T.
(A) The figure which observed the recording part
(B) The figure which observed the unrecorded part
12 is a diagram obtained by observing an optical recording medium in a radial direction with an FIB and observing with an FE-SEM when the recording mark length in Reference Example 3 is 14T. FIG.
FIG. 13 is a diagram of an optical recording medium cut in a track direction with an FIB and observed with an FE-SEM when the recording mark length of Reference Example 3 is 14T.
FIG. 14 is a diagram showing jitter and recording signal levels in a space portion and a mark portion when recording is performed on the optical recording medium of Example 1.
FIG. 15 is a diagram showing jitter when recording is performed on the optical recording medium of Comparative Example 1, and reproduction signal levels of the space portion and the mark portion.
FIG. 16 is a diagram showing jitter when recording is performed on the optical recording medium of Example 2, and reproduction signal levels of the space portion and the mark portion.
17 is a diagram showing a recording strategy used in Reference Example 3. FIG.
(A) Normal recording strategy
(B) Other recording strategies
(C) Still other recording strategies
[Explanation of symbols]
Mark Length Mark Head
T Reference clock
RF Level (V) RF (reproduction signal) level (volts)
Modulated amplitude modulation degree
Playback signal (RF) level when Unrec is not recorded
Top playback signal level (ie space part) when Top mark row is recorded
Bottom Minimum playback signal level when a mark row is recorded (ie, mark portion)
MA. Degree of modulation calculated by (Top-Bottom) / Top
Time0.5 (μs / div) Time (1 memory 0.5 microsecond)
A Width from the reference point to the near end of the adjacent land or groove
B Width from the reference point to the far end of the adjacent land or groove
C Width from the reference point to the near end of the next groove or land
D Width from the reference point to the far end of the next groove or land
ζ Height from groove bottom to land top
Recording mark deformed in the opposite direction to the incident direction of the Pit laser beam
Bump Recording mark deformed in the incident direction of laser light
Sum sum signal (playback signal)
Beam Position (μm) Beam position (deviation of beam center from mark center)
From Sub, Land Land recording from the substrate side
From Sub, Groove Groove recording from substrate side
No Bubble No gap
Bubble There is a gap
(N) When the width of the deformation area is 0.8525λ
(W) When the width of the deformation region is 1.8525λ
σ / Tw jitter
Pw1 recording power
Pw2 Bottom power
Pr bias power
Time from TEFP reference time to first pulse fall time
Time from TSFP reference time to leading pulse rise time
Time from TEMP reference time to multipulse fall time
Time from TSMP reference time to multi-pulse rise time
Time from TELP reference time to final pulse fall time
Time from TSLP reference time to final pulse rise time

Claims (9)

基板又はカバー層と、記録光に対して光吸収機能を有する無機材料からなる光吸収層との間に、記録による基板内又はカバー層内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。Between the substrate or the cover layer and the light absorption layer made of an inorganic material having a light absorption function with respect to the recording light, a void suppression layer is provided to suppress generation of voids in the substrate or the cover layer due to recording. A write-once optical recording medium characterized by having the above structure. 基板上に、記録による基板内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する無機材料からなる光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。On the substrate, there are a void suppressing layer for suppressing generation of voids in the substrate due to recording, a light absorbing layer made of an inorganic material having a light absorbing function for recording light, a recording layer made of an organic compound, and a reflective layer. A write-once optical recording medium characterized by having a sequentially provided structure. 前記空隙抑制層が、SiO、ZnS−SiO、ZrOの何れかを主成分とすることを特徴とする請求項1又は2記載の追記型光記録媒体。 The void inhibiting layer, SiO 2, ZnS-SiO 2 , write-once optical recording medium according to claim 1 or 2, wherein one of ZrO 2, characterized in that a main component. 前記空隙抑制層が、ZnS、ZrO、Y及びSiOからなる酸化物であることを特徴とする請求項1又は2記載の追記型光記録媒体。 The void inhibiting layer, ZnS, ZrO 2, Y 2 O 3 and write-once optical recording medium according to claim 1 or 2, wherein the is an oxide composed of SiO 2. 前記空隙抑制層が、ZrO、TiO、SiO、及びXからなり、XがAl、MgO、CaO、NbO、Y、CeOから選ばれた少なくとも1つであることを特徴とする請求項1又は2記載の追記型光記録媒体。 The void suppression layer is made of ZrO 2 , TiO 2 , SiO 2 , and X, and X is at least one selected from Al 2 O 3 , MgO, CaO, NbO, Y 2 O 3 , and CeO. The write-once type optical recording medium according to claim 1 or 2, characterized in that: 405nmの記録再生波長に対応可能であることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の追記型光記録媒体。The write-once type optical recording medium according to any one of claims 1 to 5, wherein the write-once type optical recording medium is compatible with a recording / reproducing wavelength of 405 nm. 記録後の記録極性がLow to Highであることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の追記型光記録媒体。The write-once type optical recording medium according to any one of claims 1 to 6, wherein the recording polarity after recording is Low to High. 請求項1〜7の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録パワーの範囲で記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。  A write-once optical recording medium according to any one of claims 1 to 7, wherein recording is performed within a recording power range in which no gap is formed in the substrate or the cover layer. Recording method. 請求項1〜7の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録ストラテジで記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。  8. A recording method for a write-once optical recording medium according to claim 1, wherein recording is performed with a recording strategy in which no gap is formed in the substrate or the cover layer. .
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