JP2004213774A - Write-once type optical recording medium and its recording method - Google Patents

Write-once type optical recording medium and its recording method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a write-once type optical recording medium, which deters voids making recording and reproduction characteristic worse from being formed in a substrate or a cover layer and has excellent recording and reproduction characteristics and excellent tracking characteristics and is adaptive to a short-wavelength laser, and to provide its recording method. <P>SOLUTION: (1) A light absorption layer is provided adjacently to the substrate or a light absorption layer, a recording layer formed of an organic compound, and a reflecting layer are provided on the substrate to obtain a write once read many optical recording medium which can have its recording part formed without forming any gap part in the substrate nor cover layer. (2) A write once read many optical recording medium is formed by providing a gap deterring layer for deterring a gap part from being formed in a substrate or cover layer and a light absorbing layer in order adjacently to the substrate or cover layer. (3) The write-once type optical recording medium is is provided on a substrate with a gap deterring layer for deterring a gap part from being formed in the substrate owing to recording, a light absorbing layer, a recording layer made of an organic compound, and a reflecting layer. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】 [0001]
【発明の属する技術分野】 BACKGROUND OF THE INVENTION
本発明は、追記型(WORM:Write Once Read Many)光記録媒体に係わり、特に青色レーザ波長でも高密度の記録が可能な追記型光記録媒体に関する。 The present invention, write-once: relates to (WORM Write Once Read Many) optical recording medium, particularly to high-density recording can be write-once optical recording medium with a blue laser wavelength.
【0002】 [0002]
【従来の技術】 BACKGROUND OF THE INVENTION
超高密度の記録が可能となる青色レーザの開発は急速に進んでおり、それに対応した追記型光記録媒体の開発が行われている。 Development of a blue laser ultra-high density recording is possible has been developed rapidly progressing and is, write-once optical recording medium corresponding thereto.
従来の追記型光記録媒体では、有機材料からなる記録層にレーザ光を照射し、主に有機材料の分解・変質による屈折率変化を生じさせることで記録ピットを形成させており、記録層に用いられる有機材料の光学定数や分解挙動が、良好な記録ピットを形成させるための重要な要素となっている。 In conventional recordable optical recording medium, a laser beam is irradiated onto the recording layer made of an organic material, which primarily form a recording pit by causing a refractive index change by decomposition and deterioration of the organic material, the recording layer the optical constants and decomposition behavior of the organic materials used are an important element for forming a good recording pit.
従って、記録層に用いる有機材料としては、青色レーザ波長に対する光学的性質や分解挙動の適切な材料を選択する必要がある。 Therefore, as the organic material used for the recording layer, it is necessary to select a suitable material for optical properties and decomposition behavior against a blue laser wavelength. 即ち、未記録時の反射率を高め、またレーザの照射によって有機材料が分解し大きな屈折率変化が生じるようにするため(これによって大きな変調度が得られる)、記録再生波長は大きな吸収帯の長波長側の裾に位置するように選択される。 That is, increasing the reflectance at non-recorded, and because the organic material by irradiation of the laser is so decomposed is large refractive index change caused (this large degree of modulation is obtained), the recording and reproducing wavelength is large absorption band It is selected to be located at the foot of the long wavelength side.
何故ならば、有機材料の大きな吸収帯の長波長側の裾は、適度な吸収係数を有し且つ大きな屈折率が得られる波長領域となるためである。 Since the skirt of the long wavelength side of a large absorption band of the organic material is to be and a large refractive index is obtained wavelength region has an appropriate absorption coefficient.
しかしながら、青色レーザ波長に対する光学的性質が従来並みの値を有する有機材料は未だ見出されていない。 However, organic material optical properties with respect to the blue laser wavelength has a value of conventional par has not yet been found. これは、青色レーザ波長近傍に吸収帯を持つ有機材料を得るためには、分子骨格を小さくするか又は共役系を短くする必要があるが、そうすると吸収係数の低下、即ち屈折率の低下を招くためである。 This is in order to obtain an organic material having an absorption band in the vicinity of the blue laser wavelength, it is necessary to shorten the or conjugated to reduce the molecular skeleton, Then cause decrease in absorption coefficient, i.e., a reduction in the refractive index This is because.
つまり、青色レーザ波長近傍に吸収帯を持つ有機材料は多数存在し、吸収係数を制御することは可能となるが、大きな屈折率を持たないため、大きな変調度を得ることができなくなる。 That is, there are many organic materials having an absorption band in the vicinity of the blue laser wavelength, but is allowed to control the absorption coefficient, because it does not have a large refractive index, it becomes impossible to obtain a large modulation depth.
【0003】 [0003]
青色レーザ対応の有機材料としては、例えば、特許文献1〜5に記載がある。 As the organic material of the blue laser corresponding, for example, is described in Patent Documents 1 to 5. しかし、これらの文献では、実施例を見ても溶液と薄膜のスペクトルを測定しているのみで、記録再生に関する記載はない。 However, in these documents, only measures the spectrum of the solution and the thin film even look at examples, there is no description about the recording.
特許文献6〜8には、実施例に記録の記載があるものの、記録波長は488nmであり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な記録ピットが形成できた旨の記載があるのみである。 Patent Document 6-8, although there is described the recording in the Examples, the recording wavelength is 488 nm, also no description relating to the recording conditions and recording density, there is a description that excellent recording pits could be formed only it is.
特許文献9には、実施例に記録の記載があるものの、記録波長は430nmであり、また記録条件や記録密度に関する記載はなく、良好な変調度が得られた旨の記載があるのみである。 Patent Document 9, although there is a description of recording in the Examples, the recording wavelength is 430 nm, also no description relating to the recording conditions and recording density, there is only description that good modulation degree is obtained .
特許文献10〜19には、実施例に記録波長430nm、NA0.65での記録例があるが、最短ピットが0.4μmという低記録密度条件(DVDと同等の記録密度)である。 Patent Document 10 to 19, the recording wavelength 430nm to embodiments, there are recorded examples in NA 0.65, a low recording density condition that the shortest pit 0.4 .mu.m (DVD equivalent recording density).
特許文献20には、記録再生波長405〜408nmでの記録があるが、記録密度に関する具体的な記載がなく、14T−EFM信号の記録という低記録密度条件である。 Patent Document 20, there are recorded in the recording and reproducing wavelength 405~408Nm, no concrete description relating to the recording density, a low recording density condition that the recording of the 14T-EFM signals.
【0004】 [0004]
また、従来のCD、DVD系光記録媒体と異なる層構成及び記録方法に関して、以下のような技術が公開されている。 Further, the conventional CD, with respect to DVD-system optical recording medium with different layer structure and a recording method, the following techniques have been published.
特許文献21には、基板/可飽和吸収色素含有層/反射層という層構成で、可飽和吸収色素の消衰係数(本発明でいう吸収係数)の変化により記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 21, a layer structure of substrate / saturable absorber dye containing layer / reflective layer, a technique for recording has been disclosed by a change in the extinction coefficient of the saturable absorption dye (absorption coefficient of the present invention) .
特許文献22には、基板/金属蒸着層/光吸収層/保護シートという層構成で、光吸収層によって発生した熱によって、金属蒸着層を変色又は変形させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 22, a layer structure of substrate / metal deposition layer / light-absorbing layer / protective sheet, by heat generated by the light-absorbing layer, a technique for performing recording by causing discoloration or deformation of the metal deposition layer is disclosed there.
特許文献23には、基板/誘電体層/光吸収体を含む記録層/反射層という層構成で、記録層の膜厚を変えることにより溝部の深さを変えて記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 23, a layer configuration of a recording layer / reflective layer comprising a substrate / dielectric layer / a light absorber, a technique for recording is disclosed by changing the depth of the groove by changing the film thickness of the recording layer ing.
特許文献24には、基板/光吸収体を含む記録層/金属反射層という層構成で、記録層の膜厚を10〜30%変化させることにより記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 24, a layer configuration of a recording layer / metal reflection layer comprising a substrate / light absorber, a technique for recording has been disclosed by varying 10-30% the thickness of the recording layer.
【0005】 [0005]
特許文献25には、基板/有機色素を含有する記録層/金属反射層/保護層という層構成で、基板の溝幅を未記録部に対して20〜40%広くすることにより記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 25, a recording layer / metal reflective layer / protective layer having a layer structure that contains the substrate / the organic dye, performs recording by 20-40% wider relative to the unrecorded portion of the groove width of the substrate technology There has been disclosed.
特許文献26には、基板/中間層/金属薄膜という層構成で、金属薄膜が変形しバブルを形成することにより記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 26, a layer structure of substrate / intermediate layer / metal thin film, a technique for recording has been disclosed by the metal thin film to form the deformed bubble.
特許文献27には、基板/光吸収層/記録補助層/光反射層という層構成で、記録補助層を凹状に変形させると共に、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 27, a layer structure of substrate / light-absorbing layer / recording auxiliary layer / light-reflecting layer, the deformation of the recording auxiliary layer in a concave shape, deforming the light-reflecting layer in a concave shape along the deformation of the recording auxiliary layer a technique for recording is disclosed by.
特許文献28には、基板/光吸収層/多孔質な記録補助層/光反射層、或いは、基板/多孔質な記録補助層/光吸収層/光反射層という層構成で、記録補助層を凹状に変形させると共に、記録補助層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 28, the substrate / light-absorbing layer / porous recording auxiliary layer / light-reflecting layer, or a layer structure of substrate / porous recording auxiliary layer / light-absorbing layer / light-reflecting layer, a recording auxiliary layer with deforming concavely technique for recording is disclosed by which the light reflecting layer along the deformation of the recording auxiliary layer is deformed in a concave shape.
特許文献29には、基板/多孔質な光吸収層/光反射層という層構成で、光吸収層を凹状に変形させると共に、光吸収層の変形に沿って光反射層を凹状に変形させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 29, a layer structure of substrate / porous light-absorbing layer / light-reflecting layer, the deformation of the light absorbing layer concavely deforming the light-reflecting layer in a concave shape along the deformation of the light absorbing layer a technique for recording is disclosed in.
【0006】 [0006]
特許文献30には、基板/有機色素を含む記録層/記録補助層という層構成で、記録補助層と有機色素が相溶して、有機色素の吸収スペクトルを短波長側へシフトさせることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 30, recorded in a layer configuration of a recording layer / auxiliary recording layer containing a substrate / the organic dye, the recording auxiliary layer and the organic dye is compatible, to shift the absorption spectrum of the organic dye to a shorter wavelength side technique for is disclosed.
特許文献31には、基板上に反射層と記録層の機能を有する複合機能層、保護層を順次形成した層構成で、基板と複合機能層がバンプを形成することで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 31, the composite functional layer, sequentially formed a layer structure of the protective layer, a technique of the substrate and the composite functional layer performs recording by forming bumps disclosure having the function of the reflective layer and the recording layer on a substrate It is. なお、複合機能層には、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金を用いるという規定がある。 Note that the multi-function layer, there is a provision that used nickel, chromium, titanium, or other metal, or alloys thereof.
特許文献32には、基板上に金属薄膜層、変形可能な緩衝層、反射層、保護層を順次形成した層構成で、基板と金属薄膜層を変形させ、同時にこの変形部での緩衝層膜厚を薄くさせることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 32, the metal thin film layer on a substrate, deformable buffer layer, the reflective layer, sequentially formed a layer structure of the protective layer, to deform the substrate and the metal thin film layer, at the same time the buffer layer film at this deformed portion a technique for recording by causing thinner is disclosed. なお、金属薄膜層には、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金を用いるという規定がある。 Incidentally, the metal thin film layer may define that used nickel, chromium, titanium, or other metal, or alloys thereof. また、緩衝層としては、変形し易く適当な流動性を持つ樹脂が用いられ、変形を促進させるために色素を含有させても良いとの記載がある。 As the buffer layer, a resin is used having a deformed easily proper fluidity, there is a description that modifications may be incorporated a dye in order to promote.
【0007】 [0007]
特許文献33には、基板上に金属薄膜層、緩衝層、反射層を順次積層した層構成で、基板と金属薄膜層を変形させ、同時にこの変形部での緩衝層膜厚と光学定数とを変化させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 33, the metal thin film layer on a substrate, a buffer layer, the reflective layer sequentially stacked layer structure of, to deform the substrate and the metal thin film layer, at the same time and a buffer layer thickness and the optical constants of this deformed portion a technique for recording is disclosed by changing. なお、金属薄膜層としては、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金が好ましいとの記載がある。 The metal thin film layer is described with nickel, chromium, titanium, or other metal, or alloys thereof are preferred. また、緩衝層は色素と有機高分子の混合物からなり、記録再生波長近傍に大きな吸収帯を有する色素が用いられる。 Further, the buffer layer is made of a mixture of the dye and an organic polymer, dyes having large absorption band in the vicinity recording wavelengths are used.
特許文献34には、基板上に金属記録層、バッファ層、反射層を順次積層した層構成で、基板と金属記録層を変形させ、同時にこの変形部でのバッファ層膜厚と光学定数とを変化させることで記録を行う技術が開示されている。 Patent Document 34, the metal recording layer on a substrate, a buffer layer, the reflective layer sequentially stacked layer structure of, to deform the substrate and the metal recording layer, at the same time and the buffer layer thickness and the optical constants of this deformed portion a technique for recording is disclosed by changing. なお、金属記録層としては、ニッケル、クロム、チタン等の金属、又はそれらの合金が好ましいとの記載がある。 The metal recording layer is described with nickel, chromium, titanium, or other metal, or alloys thereof are preferred. また、バッファ層は色素と樹脂の混合物からなり、記録再生波長近傍に大きな吸収帯を有する色素が用いられる。 The buffer layer is made of a mixture of dye and resin, dyes having large absorption band in the vicinity recording wavelengths are used.
【0008】 [0008]
以上のように、上記諸々の従来技術は、青色レーザ波長領域での追記型光記録媒体の実現を狙ったものではなく、青色レーザ波長領域で有効となる層構成や記録方法ではない。 As described above, the various prior art, not aimed at the realization of a write-once optical recording medium of a blue laser wavelength region, not a valid become a layer structure and a recording method in the blue laser wavelength region. 特に現在実用化されている青色半導体レーザの発振波長の中心である405nm近傍においては、従来の追記型光記録媒体の記録層に要求される光学定数と同程度の光学定数を有する有機材料が殆んど存在しない。 Particularly in 405nm near the center of the oscillation wavelength of the blue semiconductor lasers that are currently in practical use, organic material 殆 having comparable optical constant and optical constants required for the recording layer of a conventional write-once type optical recording medium command does not exist.
また、405nm近傍で記録条件を明確にし、DVDよりも高記録密度で記録された例はない。 Further, to clarify the recording condition at 405nm vicinity been examples are not recorded in the higher recording density than DVD.
更に、上記従来技術における実施例の多くは、従来のディスク構成(図1参照)での実験であり、また、従来のディスク構成と異なる構成も提案されてはいるが、そこに用いられる色素は従来と同じ光学特性と機能が要求されており、青色レーザ波長領域で、有機材料からなる追記型光記録媒体を容易に実現できる層構成や記録原理、記録方式についての有効な提案はない。 Furthermore, many examples in the prior art, an experiment in a conventional disk configuration (see FIG. 1), also it has been proposed configuration different from the conventional disk configuration, used therein dyes and conventional same optical characteristics and functions are required, in the blue laser wavelength region, the layer structure and principle of recording can be easily realized once optical recording medium made of an organic material, there is no effective proposals for recording.
【0009】 [0009]
また、従来の有機材料を用いた追記型光記録媒体では、変調度と反射率の確保の点から、記録再生波長に対し大きな屈折率と比較的小さな吸収係数(0.05〜0.07程度)を持つ有機材料しか使用することができない。 Further, in the write-once optical recording medium using a conventional organic material, from the modulation degree and the point of securing the reflectance, a relatively small absorption coefficient (about 0.05 to 0.07 and a large refractive index with respect to the recording and reproducing wavelength ) organic material can only be used with.
即ち、有機材料は記録光に対して十分な吸収能を持たないため、有機材料の膜厚を薄膜化することが不可能であり、従って、深い溝を持った基板を使用する必要があった(有機材料は通常スピンコート法によって形成されるため、有機材料を深い溝に埋めて厚膜化していた)。 That is, since the organic material does not have sufficient absorption capacity to the recording light, the film thickness of the organic materials is not possible to thinning, therefore, it is necessary to use a substrate having a deep groove (since the organic material which is usually formed by a spin coat method had thickened fills the organic material in the deep grooves). そのため、深い溝を有する基板の形成が非常に難しくなり、追記型光記録媒体としての品質を低下させる要因になっていた。 Therefore, formation of a substrate with deep grooves becomes very difficult, it has become a cause of lowering the quality of the write-once optical recording medium. 更に、従来の有機材料を用いた追記型光記録媒体では、記録再生波長近傍に有機材料の主吸収帯が存在するため、有機材料の光学定数の波長依存性が大きくなり(波長によって光学定数が大きく変動する)、レーザの個体差や環境温度の変化等による記録再生波長の変動に対し、記録感度、変調度、ジッタ、エラー率といったような記録特性や、反射率等が大きく変化するという問題があった。 Furthermore, in the write-once optical recording medium using a conventional organic material, since the main absorption band of the organic material in the vicinity of the recording and reproducing wavelength is present, the optical constant by the wavelength dependence is large (wavelength of the optical constants of the organic material greatly fluctuates), with respect to fluctuations of the recording and reproducing wavelength due to changes in laser individual differences and environmental temperature, the recording sensitivity, degree of modulation, jitter, and recording properties such as error rates, a problem that the reflectivity or the like varies greatly was there.
【0010】 [0010]
上記のような問題点を解決するために、本発明者は、例えば、特願2002−144415号(以下、先願という)において、従来、有機化合物からなる記録層に要求された光吸収機能と記録機能という2つの機能を分離することを考え、有機化合物からなる記録層から光吸収機能を除き、光吸収機能を担う層として、新たに光吸収層を導入するという追記型光記録媒体構造を提案した。 In order to solve the above problems, the present inventors have, for example, Japanese Patent Application No. 2002-144415 (hereinafter, referred to as prior application), the prior art, a light-absorbing function requested on the recording layer comprising an organic compound I thought to separate the two functions recording function, except for the light-absorbing function from the recording layer comprising an organic compound, a layer which has a light absorption function, a write-once optical recording medium structure of newly introducing light absorbing layer Proposed.
この追記型光記録媒体構造では、有機化合物から光吸収機能を除いたため、また、光吸収層の変形等を記録に用いることができるため、有機化合物への規制が大幅に緩和でき、CD−RやDVD−R等で用いられている色素をも利用できるというメリットを有する。 This write-once optical recording medium structure, except for the light absorption function of an organic compound, it is possible to use the deformation of the light-absorbing layer to the recording, can regulation greatly relaxed into an organic compound, CD-R has an advantage dye can also be used to that and is used in DVD-R or the like.
本発明者が提案した上記先願の追記型光記録媒体の一構成例では、即ち、基板上又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体では、例えば、記録によって光吸収層を変形させたり、或いは光吸収層の光吸収機能によって、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層の隣接層に物理的、化学的、光学的変化等を与えることで記録が行われる。 In one configuration example of a write-once optical recording medium of the prior application of the present inventor has proposed, i.e., adjacent to the substrate or the cover layer, the light absorbing layer having a light absorption function is provided for recording light in write-once optical recording medium having a structure, for example, it can be deformed light absorbing layer by the recording, or by light absorption function of the light absorbing layer, physically adjacent layers of the opposite side of the light-absorbing layer and the substrate or the cover layer , chemical, recording by giving optical changes or the like is performed.
しかしながら、この追記型光記録媒体では、低記録パワーでの記録時は、良好なジッタ特性(記録再生特性)を得ることができるが、高記録パワーでの記録時には急激にジッタが悪化する場合があり、ジッタのパワーマージンを狭めることにつながっている。 However, in this write once optical recording medium, when recording at a low recording power, if it is possible to obtain a good jitter characteristics (recording characteristics), which rapidly jitter deteriorates during recording at a high recording power Yes, it has led to narrowing the power margin of the jitter. また、どのような種類の光記録媒体でも同様な傾向はあるが、高記録パワーで記録した部分ではトラッキングが外れ易いという現象も発生する場合がある。 Further, what kind of albeit similar trend in the optical recording medium, a recorded portion with a high recording power is sometimes also occur a phenomenon that tends tracking off.
【0011】 [0011]
【特許文献1】 [Patent Document 1]
特開2001−181524号公報【特許文献2】 JP 2001-181524 Publication [Patent Document 2]
特開2001−158865号公報【特許文献3】 JP 2001-158865 Publication [Patent Document 3]
特開2000−343824号公報【特許文献4】 JP 2000-343824 Publication [Patent Document 4]
特開2000−343825号公報【特許文献5】 JP 2000-343825 Publication [Patent Document 5]
特開2000−335110号公報【特許文献6】 JP 2000-335110 Publication [Patent Document 6]
特開平11−221964号公報【特許文献7】 JP 11-221964 [Patent Document 7]
特開平11−334206号公報【特許文献8】 JP 11-334206 [Patent Document 8]
特開2000−43423号公報【特許文献9】 JP 2000-43423 Unexamined Patent Document 9]
特開平11−58955号公報【特許文献10】 JP 11-58955 [Patent Document 10]
特開2001−39034号公報【特許文献11】 JP 2001-39034 Publication Patent Document 11]
特開2000−149320号公報【特許文献12】 JP 2000-149320 Publication [Patent Document 12]
特開2000−113504号公報【特許文献13】 JP 2000-113504 Publication [Patent Document 13]
特開2000−108513号公報【特許文献14】 JP 2000-108513 Publication [Patent Document 14]
特開2000−222772号公報【特許文献15】 JP 2000-222772 Publication [Patent Document 15]
特開2000−218940号公報【特許文献16】 JP 2000-218940 Publication [Patent Document 16]
特開2000−222771号公報【特許文献17】 JP 2000-222771 Publication [Patent Document 17]
特開2000−158818号公報【特許文献18】 JP 2000-158818 Publication [Patent Document 18]
特開2000−280621号公報【特許文献19】 JP 2000-280621 Publication [Patent Document 19]
特開2000−280620号公報【特許文献20】 JP 2000-280620 Publication [Patent Document 20]
特開2001−146074号公報【特許文献21】 JP 2001-146074 Publication [Patent Document 21]
特開平7−304258号公報【特許文献22】 JP 7-304258 [Patent Document 22]
特開平8−83439号公報【特許文献23】 JP 8-83439 [Patent Document 23]
特開平8−138245号公報【特許文献24】 JP 8-138245 [Patent Document 24]
特開平8−297838号公報【特許文献25】 JP 8-297838 [Patent Document 25]
特開平9−198714号公報【特許文献26】 JP 9-198714 [Patent Document 26]
特許第2506374号公報【特許文献27】 Japanese Patent No. 2506374 [Patent Document 27]
特許第2591939号公報【特許文献28】 Japanese Patent No. 2591939 [Patent Document 28]
特許第2591940号公報【特許文献29】 Japanese Patent No. 2591940 [Patent Document 29]
特許第2591941号公報【特許文献30】 Japanese Patent No. 2591941 [Patent Document 30]
特許第2982925号公報【特許文献31】 Japanese Patent No. 2982925 [Patent Document 31]
特開平9−265660号公報【特許文献32】 JP 9-265660 [Patent Document 32]
特開平10−134415号公報【特許文献33】 JP 10-134415 [Patent Document 33]
特開平11−306591号公報【特許文献34】 JP 11-306591 [Patent Document 34]
特開平10−124926号公報【0012】 Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-124926 [0012]
【発明が解決しようとする課題】 [Problems that the Invention is to Solve
本発明は、上記先願発明を更に発展させることにより、基板又はカバー層に隣接して記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体について、次の(1)〜(3)の実現を目的とする。 The present invention, by further development of the prior invention, the write-once optical recording medium having a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to the recording light adjacent to the substrate or the cover layer, for the purpose of realization of the following (1) to (3).
(1)記録再生特性やトラッキング性能を低下させる原因をなくした追記型光記録媒体の提供。 (1) provides a write-once optical recording medium which eliminates the cause of reducing the recording and reproduction characteristics and tracking performance.
(2)記録再生特性やトラッキング性能の悪化を抑制した層構成の提供。 (2) providing a recording and reproduction characteristics and tracking layer suppressed the deterioration of the performance configuration.
(3)記録再生特性やトラッキング性能の悪化を抑制した記録方法の提供。 (3) providing a recording and reproduction characteristics and tracking performance recording method capable of suppressing deterioration of.
【0013】 [0013]
【課題を解決するための手段】 In order to solve the problems]
本発明者らは、鋭意検討の結果、基板上又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体においては、一般的に大きな吸収係数を持つ光吸収層が基板又はカバー層と接するため、記録パワーを増大させて行くと、光吸収層の変形や、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層に隣接する層の物理的、化学的、光学的等の変化に加えて、基板内又はカバー層内に空隙部が発生することがあることを見出した。 The present inventors have intensive studies results, adjacent to the substrate or the cover layer, the write-once optical recording medium having a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to the recording light, in general specifically for large light absorbing layer having an absorption coefficient is in contact with the substrate or cover layer, if we increase the recording power, deformation of the light-absorbing layer, the substrate or cover layer adjacent to the light absorbing layer on the opposite side physical layer, chemical, in addition to the change in optical, etc., have found that air gap may occur in or cover layer in the substrate.
そして、この基板内又はカバー層内の空隙は、大きな変調度を発生させるという効果はあるものの、設定可能なレ−ザの記録パワ−範囲において、記録極性を変化させたり、再生信号波形を微分波形化させたり、短マークと長マークの変調度のアンバランス等を引き起こし、記録再生特性を悪化させる場合があることを見出した。 The voids in the substrate or the cover layer, although the effect of generating a large degree of modulation is settable Le - recording power of The - in the range, or to change the recording polarity, differentiating the reproduced signal waveform or is corrugated, cause such imbalance of the short and long marks of the modulation degree, it has been found that it may worsen the recording and reproducing characteristics. 特に、設定可能なレ−ザの記録パワ−範囲において、記録極性が変化すると(記録極性が混在すると)、ジッタや、ジッタのパワーマージンを悪化させ、また変調度を減少させることを見出した。 In particular, configurable Le - recording power of The - in the range, when the recording polarity is changed (when the recording polarity are mixed), jitter and exacerbates power margin of jitter, also found that reducing the degree of modulation.
そこで本発明では、記録再生特性、及びトラッキング性能を悪化させる場合の多い、基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制するような追記型光記録媒体、層構成、記録方法を提供する。 Therefore, in the present invention, the recording and reproducing characteristics, and which often exacerbate the tracking performance, write-once optical recording media such as to suppress the voids generated in the substrate or cover layer, the layer structure, to provide a recording method.
なお、一般的にマーク長記録では、記録マークを再生した場合の再生信号(RF信号)は、図2(a)のようになる。 In the general mark length recording, reproduction signal when reproducing a recording mark (RF signal) is as shown in FIG. 2 (a). これに対し、図2(b)や(c)のように、記録マークの前後エッジ近傍と記録マークの中心近傍で変極点を持つような信号を、本発明では微分波形(微分波形化)と言う。 In contrast, as shown in FIG. 2 (b) and (c), a signal such as having a turning point near the center of the recording mark before and after the vicinity of the edge of the recording mark, in the present invention and the differential waveform (differential waveform of) say.
【0014】 [0014]
即ち、上記課題は、次の1)〜9)の発明によって解決される。 That is, the above problem is solved by the invention of the following 1) to 9).
1) 基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有し、基板内又はカバー層内に空隙部を形成させることなく記録部を形成できることを特徴とする追記型光記録媒体。 1) adjacent to the substrate or the cover layer has a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to recording light, a recording unit without forming a gap portion in or cover layer in the substrate write-once optical recording medium, characterized in that can be formed.
2) 基板上に、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が設けられた構造を有し、基板内に空隙部を形成させることなく記録部を形成できることを特徴とする追記型光記録媒体。 2) on a substrate, a light absorbing layer having a light absorption function with respect to recording light, a recording layer comprising an organic compound, and a reflecting layer is provided structure, recording without forming a void portion in the substrate write-once optical recording medium, characterized in that parts can be formed.
3) 基板又はカバー層に隣接して、記録による基板内又はカバー層内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。 3) adjacent to the substrate or the cover layer, void inhibiting layer for suppressing the air gap occurs in or cover layer in the substrate by recording the light absorption layer having light absorption function is sequentially provided with respect to the recording light write-once optical recording medium characterized by having a structure.
4) 基板上に、記録による基板内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。 4) on a substrate, provided void inhibiting layer for suppressing the air gap occurs in the substrate by recording the light absorption layer having light absorption function with respect to recording light, a recording layer comprising an organic compound, and a reflective layer are sequentially write-once optical recording medium characterized by having obtained structure.
5) 空隙抑制層が、SiO 、ZnS−SiO 、ZrO の何れかを主成分とすることを特徴とする3)又は4)記載の追記型光記録媒体。 5) void inhibiting layer, 3, characterized in that the main component either SiO 2, ZnS-SiO 2, ZrO 2) or 4) recordable optical recording medium according.
6) 空隙抑制層が、ZnS、ZrO 、Y 及びSiO からなる酸化物であることを特徴とする3)又は4)記載の追記型光記録媒体。 6) void inhibiting layer, ZnS, 3, characterized in that an oxide consisting of ZrO 2, Y 2 O 3 and SiO 2) or 4) recordable optical recording medium according.
7) 空隙抑制層が、ZrO 、TiO 、SiO 、及びXからなり、XがAl 、MgO、CaO、NbO、Y 、CeOから選ばれた少なくとも1つであることを特徴とする3)又は4)記載の追記型光記録媒体。 7) void inhibiting layer, ZrO 2, consists TiO 2, SiO 2, and X, X is Al 2 O 3, MgO, CaO , NbO, Y 2 O 3, at least is one selected from CeO wherein the 3) or 4) recordable optical recording medium according.
8) 1)〜7)の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録パワーの範囲で記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。 8) 1) to 7 to recordable optical recording medium according to any one of) the write-once optical recording and performing the recording range of the recording power void portion in or cover layer in the substrate is not formed recording method of the media.
9) 1)〜7)の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録ストラテジで記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。 9) 1) to 7 to recordable optical recording medium according to any one of) the write-once optical recording medium and performs recording in the recording strategy void portion is not formed in the substrate or cover layer Recording method.
【0015】 [0015]
【発明の実施の形態】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
以下、上記本発明について詳細に説明する。 It will be described in detail above the invention.
基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体においては、記録パワーを増大させて行くと、光吸収層の変形や、基板又はカバー層とは反対側の光吸収層に隣接する層の物理的、化学的、光学的等の変化が生ずる。 Substrate or adjacent to the cover layer, the write-once optical recording medium having a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to the recording light and gradually increase the recording power of the light absorbing layer deformation and physical layer adjacent to the light-absorbing layer on the opposite side, chemical, changes in the optical or the like is generated from the substrate or cover layer.
例えば、具体的に例を示すと、基板/光吸収層/色素層/反射層という構成からなる追記型光記録媒体では、光吸収層の光吸収機能により、次のイ)〜チ)のような変化を生じ、記録部が形成される。 For example, when showing a specific example, the write-once optical recording medium having the structure of substrate / light-absorbing layer / dye layer / reflective layer, the light absorption function of the light absorbing layer, the following a) to h) of such It does result in changes, recording portion.
イ)光吸収層が変形するロ)光吸収層の複素屈折率が変化するハ)光吸収層の体積が変化するニ)光吸収層内に空隙等の低屈折率部が発生するホ)色素層の複素屈折率変化が変化するヘ)色素層が体積変化するト)色素層内に空隙等の低屈折率部が発生するチ)基板が変形する【0016】 B) the light absorbing layer is deformed b) E low refractive index portion of the air gap, etc. d) the light-absorbing layer having a volume of c) a light-absorbing layer complex refractive index of the light absorbing layer is changed to change occurs) dye is H) substrate f) dye layer complex refractive index change varies the low refractive index portion of the gap or the like occurs in the volume changing g) the dye layer of the layer is deformed [0016]
この追記型光記録媒体では、従来のように色素層に光吸収機能を要求しないため、色素選択の自由度が格段に広がり、青色レーザ波長以下のレーザ波長に対応した追記型光記録媒体が容易に提供できるというメリットがある。 In the write-once optical recording medium, since the conventional it does not require a light absorption function in the dye layer as spread remarkably freedom of the dye selection, easily recordable optical recording medium corresponding to the laser wavelength of less blue laser wavelength there is an advantage that can be provided to.
しかし、光吸収層が変形し難い場合、光吸収層の光学的変化が生じ難い場合、色素層の光学的変化が生じ難い場合等には、記録を行うために、光吸収層や色素層に光学的、化学的、或いは物理的変化を生じるまで記録パワーを高める必要があり、この時、基板やカバー層等が光吸収層と接する構造では、基板が必要以上に加熱されてしまう。 However, when the light absorbing layer is hardly deformed, if the optical change of the light absorption layer does not easily occur, the like when the optical change of the dye layer hardly occurs, for recording, the light absorbing layer and the dye layer it is necessary to increase the recording power to produce optical, chemical, or physical change, at this time, in the structure in which the substrate or the cover layer or the like is in contact with the light-absorbing layer, the substrate from being heated more than necessary. そして、この必要以上の加熱によって、基板内に空隙が発生する場合がある。 Then, by heating this excessive, there is a case where voids are generated in the substrate.
即ち、低記録パワー時には光吸収層の光吸収機能によって、光吸収層や色素層に光学的、化学的、或いは物理的変化が生じ、これによって記録部が形成されるが、高記録パワー時には、光吸収層や色素層の光学的、化学的、或いは物理的変化が生じる以外に、基板が必要以上に加熱されるため、基板内の空隙発生によっても記録部が形成される。 That is, the light absorption function of the light absorbing layer at a low recording power, optical light absorption layer and the dye layer, chemical, or physical changes occur, but this by the recording unit is formed, at the time of high recording power, optical light-absorbing layer and the dye layer, in addition to chemical or physical change occurs, because the substrate is heated more than necessary, the recording portion is formed by voids generated in the substrate.
【0017】 [0017]
この基板内の空隙発生は、その発生する記録パワー範囲が光吸収層や色素層の光学的、化学的、或いは物理的変化を起す記録パワー範囲と大きく異なる場合が一般的であるため(基板内空隙は、一般的に光吸収層や色素層の変化よりも高い記録パワーで発生する)、ジッタの悪化や、ジッタの記録パワーマージンの悪化を誘発する。 The voids generated in the substrate, the optical recording power range light absorption layer and the dye layer in which they occur, chemical, or because if a recording power range to cause physical changes greatly different are common (the substrate voids, typically occurring at a higher recording power than a change of the light-absorbing layer and the dye layer), worsening of jitter, inducing deterioration of the recording power margin of jitter.
また、基板内の空隙発生は、一般的に閾値を持って発生するため、急激な変調度の変化や記録極性の変化等を引き起こす場合が多く、これによって、ジッタの悪化や、ジッタの記録パワーマージンの悪化を誘発する。 Also, voids generated in the substrate, to generate with the general threshold, often cause changes in rapid modulation of the change and the recording polarity, thereby worsening the jitter, the jitter of the recording power to induce the deterioration of the margin.
更に、この基板内空隙の発生によって、光吸収層の変形が非常に大きくなったり、光吸収層の変形形状を乱したり、基板自身の溝形状をも大きく変形させる場合があるため、クロストークが大きくなったり、トラッキング性能が悪化する。 Furthermore, the occurrence of the substrate in the gap, or deformation very large light absorption layer, or disturb the deformed shape of the light-absorbing layer, because it may also greatly deform the substrate itself of groove shape, crosstalk is or becomes large, tracking performance is worse. そこで、本発明では、トラッキング性能の悪化、記録極性の変化、ジッタの悪化、或いは、ジッタの記録パワーマージンを狭くする可能性の高い、基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制する。 Therefore, in the present invention, deterioration of the tracking performance, the change of the recording polarity, deterioration of jitter, or likely to narrow the recording power margin of jitter, suppressing a void generation in the substrate or cover layer.
【0018】 [0018]
基板内又はカバー層内の空隙は、上述のように、記録パワーが高くなった場合、或いは、長マークにおいて発生し易い。 Voids in or cover layer in the substrate, as described above, when the recording power is increased, or liable to occur in the long marks.
従って、高記録パワー側で急激にジッタが悪化したり(ジッタの記録パワーマージンが急激に悪化する)、記録マーク長によって記録極性が変わったり、記録マーク長によって振幅が大きく変化するという現象が発生する。 Thus, rapid jitter deteriorated or (recording power margin of jitter is deteriorated rapidly) with a high recording power side, or change the recording polarity by the recording mark length, a phenomenon that the amplitude varies greatly depending on the recording mark length occurs to.
この記録マーク長によって記録極性が変わったり、記録マーク長によって振幅が大きく変化するという現象のため、単一周期の記録マークでは、良好な記録再生特性が得られるが、ランダムパターンを記録すると記録再生特性が劣悪となる場合がある。 Or change the recording polarity by the recording mark length because of the phenomenon that the amplitude varies greatly depending on the recording mark length, the recording marks of a single cycle, but excellent recording and reproducing characteristics can be obtained, recorded for scoring random pattern reproduction there is a case that a characteristic becomes poor.
基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制する方法としては、次のイ)〜ホ)が挙げられる。 As a method of suppressing the voids generated in or cover layer in the substrate, the following a) to e) are mentioned.
イ)基板又はカバー層と光吸収層の間に、断熱層(空隙抑制層)を設ける。 B) between the substrate or the cover layer and the light absorbing layer is provided thermal insulation layer (void inhibiting layer).
ロ)基板又はカバー層と光吸収層の間に、放熱層(空隙抑制層)を設ける。 B) between the substrate or the cover layer and the light absorbing layer is provided with a heat radiation layer (void inhibiting layer).
ハ)記録パワーを制御する(空隙が発生しない記録パワー範囲で記録を行う)。 C) controlling the recording power (perform recording at a recording power range in which the air gap is not generated).
ニ)記録ストラテジを制御し最適化する(長マークにおいて必要以上に蓄熱されないようにする)。 D) controlling and optimizing the write strategy (to prevent heat accumulated excessively in the long mark).
ホ)基板の分解特性を制御する(空隙が発生しない材料を選択する)。 E) controlling the degradation properties of the substrate (to select a material that voids do not occur).
【0019】 [0019]
基板又はカバー層と光吸収層の間に、空隙抑制層を設ける場合、空隙抑制層をいわゆる断熱層とするか放熱層とするかは、光吸収層の光吸収機能の大小と、光吸収層の熱伝導率等の熱物性に依存する。 Between the substrate or the cover layer and the light absorbing layer, when providing a void inhibiting layer, is either a or radiating layer void inhibiting layer a so-called heat insulating layer, and the magnitude of light absorption function of the light absorbing layer, the light absorbing layer depending of the thermal properties of the thermal conductivity and the like.
即ち、光吸収層の光吸収機能が比較的低い場合は、記録感度を損なわないために(低記録パワーで記録するために)、光吸収層で発生した熱を放熱層で逃がして基板内空隙の発生を抑制するよりも、断熱層で基板へ伝わる熱量を制限して基板内空隙の発生を抑制する方が有利である。 That is, when the light absorption function of the light absorbing layer is relatively low, (for recording at a low recording power) in order not to impair the recording sensitivity, the substrate heat generated in the light absorbing layer to dissipate heat dissipating layer void than the generation suppressing, it is advantageous to limit the amount of heat transferred to the substrate with a heat insulating layer to suppress the occurrence of the substrate cavity.
逆に、光吸収層の光吸収機能が比較的高い場合は、光吸収層で発生した熱を放熱層で逃がして基板内空隙の発生を抑制することも効果的である。 Conversely, if the light absorption function of the light absorbing layer is relatively high, it is also effective to heat generated in the light absorbing layer to dissipate heat radiating layer to suppress the occurrence of the substrate cavity.
記録パワーを制御することは、光吸収層で発生する熱量を制御することであるため、基板内空隙の発生を直接的に制御することができる。 Controlling the recording power, because it is possible to control the amount of heat generated by the light absorption layer, it is possible to directly control the generation of the substrate in the gap.
記録ストラテジを制御することも、記録パワー同様、光吸収層で発生する熱量を制御することであるため、基板内空隙の発生を直接的に制御することができる。 Controlling the recording strategy is similarly recorded power, because it is possible to control the amount of heat generated by the light absorption layer, it is possible to directly control the generation of the substrate in the gap. 更に記録ストラテジを制御する場合は、記録マーク長ごとに光吸収層で発生する熱量を制御できるため、記録マーク長によって基板内空隙の発生有無が異なるという現象を抑制することが可能である。 If further controls the recording strategy, it is possible to control the amount of heat generated by the light absorption layer in each recording mark length, presence or absence of the occurrence of the substrate in the gap by the recording mark length can be suppressed phenomenon different.
基板の分解特性を制御するとは、例えば、基板材料の分解温度を高めることを意味し、高分子材料の場合は、高分解の高分子材料を用いることや、分子量を高めること(重合度を高めること)で、空隙発生を抑制することができる。 And controlling the degradation properties of the substrate, for example, it means to increase the decomposition temperature of the substrate material, in the case of polymeric materials, it and the use of high resolution of the polymeric material, increasing the (degree of polymerization to increase the molecular weight by), it is possible to suppress the voids generation. また、基板をガラス材料とすることも効果的である。 It is also effective to a substrate a glass material.
【0020】 [0020]
本発明の追記型光記録媒体及びその記録方法は、例えば次の(i)(ii)のような構成の追記型光記録媒体、或いはそれらを二つ貼り合わせた二層構造の追記型光記録媒体に対して有効である。 Write-once optical recording medium and its recording method of the present invention, for example, the following (i) construction of the write-once optical recording media such as (ii), or write-once optical recording their two bonded two-layer structure it is effective with respect to the medium.
(i)基板側から記録再生を行う追記型光記録媒体・基板/光吸収層・基板/光吸収層/記録層・基板/光吸収層/下引層/記録層・基板/光吸収層/記録層/上引層・基板/光吸収層/記録層/反射層・基板/光吸収層/下引層/記録層/反射層・基板/光吸収層/記録層/上引層/反射層・基板/光吸収層/記録層/反射層/保護層(ii)カバー層側から記録再生を行う追記型光記録媒体・基板/光吸収層/カバー層・基板/光吸収層/記録層/カバー層・基板/光吸収層/記録層/下引層/カバー層・基板/光吸収層/上引層/記録層/カバー層・基板/反射層/記録層/光吸収層/カバー層・基板/反射層/記録層/光吸収層/下引層/カバー層・基板/反射層/上引層/記録層/光吸収層/カバー層好ましい態様としては、上記 (I) write-once optical recording medium, the substrate / light-absorbing layer for recording and reproducing from the substrate side and the substrate / light-absorbing layer / recording layer, the substrate / light-absorbing layer / undercoating layer / recording layer, the substrate / light-absorbing layer / recording layer / upper coating layer, the substrate / light-absorbing layer / recording layer / reflective layer, the substrate / light-absorbing layer / undercoating layer / recording layer / reflective layer, the substrate / light-absorbing layer / recording layer / upper coating layer / reflective layer substrate / light-absorbing layer / recording layer / reflective layer / protective layer (ii) from the cover layer side for recording and reproducing a write-once type optical recording medium, the substrate / light-absorbing layer / covering layer, the substrate / light-absorbing layer / recording layer / cover layer substrate / light-absorbing layer / recording layer / undercoating layer / covering layer, the substrate / light-absorbing layer / upper coating layer / recording layer / covering layer, the substrate / reflective layer / recording layer / light-absorbing layer / covering layer, substrate / the reflective layer / recording layer / light-absorbing layer / undercoating layer / covering layer, the substrate / reflective layer / upper coating layer / recording layer / light-absorbing layer / cover layer a preferred embodiment, the 構造を有する追記型光記録媒体において、基板と光吸収層、或いはカバー層と光吸収層の間に空隙抑制層を設ける。 In write-once optical recording medium having a structure, provided with a void inhibiting layer between the substrate and the light absorbing layer, or the cover layer and the light absorbing layer.
【0021】 [0021]
上記構成例にも示したように、本発明の追記型光記録媒体は、基本的には基板又はカバー層と光吸収層を必須の構成層とするものであるが、空隙抑制層を設けることが好ましく、必要に応じて基板上に有機化合物等の記録層、下引層、上引層、金属反射層、保護層等を設けても良い。 As shown in the above configuration example, write-once optical recording medium of the present invention is basically as an essential constituent layers of the substrate or the cover layer and the light absorbing layer, the provision of the void inhibiting layer preferably, the recording layer of the organic compound or the like on the substrate as needed, the undercoat layer, the upper sublayer, the metal reflective layer may be a protective layer.
なお、本発明において記録層とは、光学定数変化、化学的変化又は物理的変化を起す層を指す。 Note that the recording layer in the present invention refers to a layer that causes optical constant changes, chemical changes or physical changes. 具体的には、記録によって複素屈折率変化、位相差変化、分解、昇華、凝集等の状態変化、結晶状態変化、溶解性変化、構造変化、体積変化、空隙部の形成等を起す層である。 Specifically, the complex refractive index change by recording, a phase difference change, decomposition, sublimation, state change such as aggregation, the crystalline state changes, solubility changes, structural change, volume change, is a layer of causing formation like the air gap .
同じく、下引層や上引層は、記録再生特性の改善を図るための干渉層、膜形成時の保護層(例えば、塗布溶剤に溶解性を持つ膜上にスピンコート法で膜を形成させる場合の保護層)、隣接層の膜状態を保持する保護層等(保存性を改善する等)を指す。 Also, the undercoat layer and top coating layer, the interference layer to improve the recording and reproduction characteristics, the protective layer during the film formation (e.g., to form a film by spin coating on a membrane having a solubility in a coating solvent protective layer of the case), refers to a protective layer or the like for holding the film state of the adjacent layer (like for improving the storage stability).
【0022】 [0022]
本発明の追記型光記録媒体における基板の材質としては、基本的には記録光及び再生光の波長において透明であればよい。 The material of the substrate in the recordable optical recording medium of the present invention, is basically as long as transparent at the wavelength of recording light and reproducing light.
このような材質の材料としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の各種樹脂、ガラス、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等を使用することができるが、高生産性、コスト、耐吸湿性などの点からは、射出成型したポリカーボネートが好ましく、耐薬品性、耐吸湿性などの点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましく、高速応答、或いは空隙が発生しないなどの点からは、ガラス基板が好ましい。 As the material of such a material, for example, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefin), polyester resin, polystyrene resin, various resins such as epoxy resin, glass, glass can be used, such as those having a resin layer made of radiation-curable resin such as a photocurable resin on a high productivity, cost, in view of moisture resistance, the polycarbonate is preferably injection molded , chemical resistance, in view of the moisture-absorption resistance, amorphous polyolefins are preferred, fast response, or from the viewpoint of voids does not occur, a glass substrate is preferable.
更に、記録層に接して樹脂基板又は樹脂層を設け、その樹脂基板又は樹脂層上に記録再生光の案内溝やピットを有していてもよい。 Further, the resin substrate or a resin layer provided in contact with the recording layer may have a guide groove or pits for recording and reproducing light to the resin substrate or a resin layer.
【0023】 [0023]
記録層材料としては、例えば有機材料が挙げられ、色素も好ましい。 As the recording layer materials, such as organic materials and the like, dyes are also preferable.
色素としては含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。 Metal-containing azo dye as a dye, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, squarylium dyes, metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, azulenium dyes , naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, and pyrylium dyes, and the like.
また、記録層は、記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン)等を含有してもよく、記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。 Further, the recording layer, for the stability and light resistance improvement of the recording layer, a transition metal chelate compound as a singlet oxygen quencher (e.g., acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, Bisujichio -α- diketone) etc. may contain may contain a recording sensitivity improving agent of the metal-based compound for the recording sensitivity improves.
ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。 Here, the metal-based compounds, metal atoms such as a transition metal, ion, refers to those contained in the compound in the form of clusters such as, for example, ethylenediamine complex, azomethine complexes, phenyl hydroxy amine complexes, phenanthroline complexes, dihydroxy azobenzene complexes, dioxime-based complex, nitrosoaminophenol-based complex, pyridyl triazine complexes, acetylacetonato-based complexes, metallocene complexes, and organometallic compounds such as porphyrin complexes. 金属原子としては特に限定されないが、遷移金属が好ましい。 No particular limitation is imposed on the metal atom, a transition metal is preferable.
【0024】 [0024]
また、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。 It is also possible to use other strains of the dye if necessary.
更に、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。 Further, if necessary, a binder, a leveling agent, also be used in combination antifoaming agent.
好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。 Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resins, acrylic resins, polystyrene resins, urethane resins, polyvinyl butyral, polycarbonate, and polyolefin.
記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、通常50〜300nmである。 The film thickness of the recording layer, since the suitable film thickness due recording method is different, is not particularly limited, is usually 50 to 300 nm.
【0025】 [0025]
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。 As the film forming method of the recording layer, a vacuum vapor deposition method, sputtering method, doctor blade method, cast method, spin coating method, dipping method generally performed in which thin film forming method and the like.
中でも、量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましく、厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。 Among them, mass productivity, preferably spin coating from the viewpoint of cost, from the viewpoint of uniform recording layer thickness is obtained, it is preferable for the vacuum deposition method than coating.
スピンコート法による成膜の場合、回転数は500〜15000rpmが好ましく、スピンコートの後、場合によっては加熱又は溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。 For film formation by spin coating, the rotation speed is preferably 500~15000Rpm, after spin-coating, may be subjected to a treatment such as exposure to heat or solvent vapor as the case may be.
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。 A doctor blade method, cast method, spin coating method, as the coating solvent when forming the recording layer by the coating method of dipping method or the like may be any solvent which does not attack the substrate is not particularly limited.
【0026】 [0026]
例えば、ジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。 For example, diacetone alcohol, ketone alcohol solvents such as 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; methyl cellosolve, cellosolve solvents such as ethyl cellosolve; n- hexane, chain hydrocarbon type solvents n- octane ; cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n- butyl cyclohexane, tert- butyl cyclohexane, cyclic hydrocarbon solvents cyclooctane; tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, perfluoroalkyl alcohols such as hexafluoro-butanol system solvent; methyl lactate, ethyl lactate, hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl isobutyrate and the like.
記録層材料としては上記の他に、高分子材料、相変化材料、フォトークロミック材料、サーモクロミック材料等も好ましく用いることができる。 In addition to the above as a recording layer material, a polymer material, phase change material, photo chromatography electrochromic material can be preferably used thermochromic materials.
【0027】 [0027]
光吸収層の材料としては、十分な記録感度を確保するという点で、記録波長に対する吸収係数がある程度大きいものを用いることが好ましく、SiC、B C、TiC、WCなどの炭化物系の非酸化物、アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物、フェライト等に代表されるセラミックス、或いはTe−TeO 、Te−TeO −Pd、Sb Se /Bi Te 、Ge−Te−Sb−S、Te−TeO −Ge−Sn、Te−Ge−Sn−Au、Ge−Te−Sn、Sn−Se−Te、Sb−Se−Te、Sb−Se、Ga−Se−Te、Ga−Se−Te−Ge、In−Se、In−Se−Tl−Co、Ge−Sb−Te、In−Se−Te、Ag−In−Sb−Te、Ag−Zn、Cu−Al−Ni As a material of the light absorbing layer, in terms of ensuring sufficient recording sensitivity, it is preferable to use those absorption coefficient for a recording wavelength is large to some extent, SiC, B 4 C, TiC, unoxidized carbide such as WC things, amorphous carbon, graphite, non-oxides of carbon such as diamond, ceramics typified by ferrite, or Te-TeO 2, Te-TeO 2 -Pd, Sb 2 Se 3 / Bi 2 Te 3, Ge- Te-Sb-S, Te- TeO 2 -Ge-Sn, Te-Ge-Sn-Au, Ge-Te-Sn, Sn-Se-Te, Sb-Se-Te, Sb-Se, Ga-Se-Te , Ga-Se-Te-Ge, In-Se, In-Se-Tl-Co, Ge-Sb-Te, In-Se-Te, Ag-In-Sb-Te, Ag-Zn, Cu-Al-Ni 、In−Sb、In−Sb−Se、In−Sb−Te等の相変化記録材料、ニッケル、クロム、チタン、タンタル等の純粋金属、又は銅/アルミニウム、ニッケル/鉄等の合金、シリコン等の半金属、Ge等の半導体等を用いることが可能である。 , In-Sb, In-Sb-Se, the phase change recording material such as an In-Sb-Te, nickel, chromium, titanium, pure metals, or copper / aluminum tantalum, and nickel / iron alloys, such as silicon metalloid, it is possible to use a semiconductor or the like such as Ge.
中でも、Si又はGeを含有する材料を用いることが好ましく、例えば、Si、Ge、或いはSiC等が好ましい例として挙げられる。 Among them, it is preferable to use a material containing Si or Ge, for example, Si, Ge, or SiC, and the like as a preferable example.
光吸収層の膜厚は、通常5〜150nmである。 Thickness of the light absorbing layer is usually 5 to 150 nm.
【0028】 [0028]
空隙抑制層の材料としては、例えば、Al 、MgO、BeO、ZrO 、TiO 、UO 、ThO 、CaO、NbO、Y 、CeOなどの単純酸化物系の酸化物;SiO 、2MgO・SiO 、MgO・SiO 、CaO・SiO 、ZrO ・SiO 、3Al ・2SiO 、2MgO・2Al ・5SiO 、Li O・Al ・4SiO などのケイ酸塩系の酸化物;Al TiO 、MgAl 、Ca 10 (PO (OH) 、BaTiO 、LiNbO 、PZT〔Pb(Zr,Ti)O 〕、PLZT〔(Pb,La)(Zr,Ti)O 〕、フェライトなどの複酸化物系の酸化物;或いは、Si 、Si 6−Z Al As the material of the void inhibiting layer, for example, Al 2 O 3, MgO, BeO, ZrO 2, TiO 2, UO 2, ThO 2, CaO, NbO, Y 2 O 3, a simple oxide-based oxide such as CeO ; SiO 2, 2MgO · SiO 2 , MgO · SiO 2, CaO · SiO 3, ZrO 2 · SiO 2, 3Al 2 O 3 · 2SiO 2, 2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2, Li 2 O · Al 2 O oxides of silicate such as 3 · 4SiO 2; Al 2 TiO 5, MgAl 2 O 4, Ca 10 (PO 4) 6 (OH) 2, BaTiO 3, LiNbO 3, PZT [Pb (Zr, Ti) O 3], PLZT [(Pb, La) (Zr, Ti) O 3 ], oxides of multiple oxide such as ferrite; or, Si 3 N 4, Si 6 -Z Al Z O Z 8−Z 、AlN、BN、TiNなどの窒化物系の非酸化物;SiC、B C、TiC、WCなどの炭化物系の非酸化物;LaB 、TiB 、ZrB などのホウ化物系の非酸化物;ZnS、CdS、MoS などの硫化物系の非酸化物;MoSi などのケイ化物系の非酸化物;アモルファス炭素、黒鉛、ダイアモンド等の炭素系の非酸化物、或いはそれらの混合物を用いることができる。 8-Z, AlN, BN, non-oxide of the nitride such as TiN; SiC, B 4 C, TiC, non-oxide carbide system such as WC; LaB 6, TiB 2, boride system such as ZrB 2 non oxide; ZnS, CdS, non-oxide sulfide-based, such as MoS 2; MoSi non-oxide silicides system such as 2; amorphous carbon, graphite, non-oxides of carbon such as diamond, or they it can be a mixture of.
記録再生光に対する透明性や、生産性の観点からは、SiO を主体(主成分)とする材料、或いはZnS・SiO を主体(主成分)とする材料が好ましい。 Transparency and for recording and reproducing light, in terms of productivity, material of SiO 2 as a main component (main component), or materials that the ZnS · SiO 2 as a main component (main component) is preferred.
また、断熱効果を十分得るためには、ZrO を主体(主成分)とすることも好ましい。 Further, in order to heat insulating effect can sufficiently, it is also preferable that the ZrO 2 mainly (main component).
また、ZnS、ZrO 、Y 及びSiO からなる酸化物、或いはZrO 、TiO 、SiO 、及びXからなり、Xが、Al 、MgO、CaO、NbO、Y 、CeOから選ばれた少なくとも1種である材料が好ましい。 Further, ZnS, ZrO 2, Y 2 O 3 and oxides consisting of SiO 2, or consist ZrO 2, TiO 2, SiO 2 , and X, X is, Al 2 O 3, MgO, CaO, NbO, Y 2 O 3, is the material is preferably at least one selected from CeO.
【0029】 [0029]
記録層の上には、直接又は上引層等を介して、反射層を形成してもよく、その膜厚は、好ましくは、50〜300nmである。 On the recording layer directly or via a top coating layer, etc., may be formed a reflective layer, its thickness is preferably from 50 to 300 nm.
反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Cr、Pdから選ばれる金属を単独で或いは合金にして用いることができる。 As the material of the reflective layer, sufficiently high reflectance at a wavelength of reproduction light, for example, a single Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr, a metal selected from Pd, or it can be used in the alloy. 中でもAu、Al、Agは、反射率が高く反射層の材料として適している。 , Among others Au, Al Ag, the reflectance is suitable as a material of high reflection layer.
また、上記の材料を主成分とし、Mg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及び半金属を含む材料でもよい。 Also, the above materials as the main component, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, or a material containing a metal and semi-metal such as Bi.
中でもAgを主成分とするものは、コストが安いこと、高反射率が出易いことから特に好ましい。 Among these as the main component Ag, it low cost, particularly preferred since it easily out high reflectivity.
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。 A material other than metal stacked alternately a low refractive index film and a high refractive index film to form a multilayer film, it can be used as the reflective layer.
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。 As a method for forming a reflective layer, for example, sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum deposition.
【0030】 [0030]
また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のため、公知の無機系又は有機系の上引層、下引層、或いは接着層を設けることもできる。 Further, under the top of the substrate and the reflective layer, the improvement of the reflectance, improving recording properties, such as for improving the adhesion, coating layer on the known inorganic or organic, undercoat layer, or adhesive layer It can also be provided.
上引層又は下引層に光吸収機能を付与する場合は、前述の光吸収層材料と同様の材料を使用することができる。 When imparting light absorption function in the upper coating layer or undercoat layer, it is possible to use the same material as the light absorbent layer material. また、機械的な保護、保存安定性の向上、耐溶剤性の向上、或いは干渉層として上引層又は下引層を使用する場合は、前述の空隙抑制層材料と同様の材料を使用することができる。 Also, mechanical protection, improved storage stability, improved solvent resistance, or when using a top coating layer or undercoat layer as an interference layer using the same material as the aforementioned void inhibiting layer material can.
反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されないが、有機材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。 As the material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from an external force, as the organic material, a thermoplastic resin, thermosetting resin, electron beam curable resin, It may be mentioned UV curable resin or the like. また、無機材料としては、SiO 、SiN 、MgF 、SnO 等が挙げられる。 Examples of the inorganic materials, SiO 2, SiN 4, MgF 2, SnO 2 and the like.
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。 Thermoplastic resins, thermosetting resins, etc. can be formed by a coating liquid was applied dissolved in a suitable solvent, and dried.
UV硬化性樹脂は、そのまま又は適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって形成することができる。 UV curable resin may be a coating liquid is applied after the preparation of the intact or coating liquid was dissolved in a suitable solvent, it is formed by curing by irradiation with UV light. UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。 The UV-curable resin, for example, urethane acrylate, epoxy acrylate, and acrylate resins such as polyester acrylates.
【0031】 [0031]
これらの材料は単独で或いは混合して用いても良いし、1層だけではなく多層膜にして用いても良い。 It These materials may be used alone or in combination, it may be used in the multilayered film not just one layer.
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。 As a method for forming the protective layer, a method such as coating method, a sputtering method, a chemical vapor deposition of a spin coating method or a cast method, or the like similarly to the recording layer is used, the spin coating method is preferred among these.
保護層の膜厚は、一般に0.1〜100μmの範囲であるが、本発明においては、3〜30μmが好ましい。 The thickness of the protective layer is generally a range of 0.1 to 100 [mu] m, in the present invention, 3 to 30 .mu.m are preferred.
また、反射層面に更に基板を貼り合わせてもよく、また、反射層面相互を内面として対向させ追記型光記録媒体2枚を貼り合わせた構造としても良い。 Also, it may further bonded to the substrate to the reflective layer surface, or may be a combined structure bonding two write-once optical recording medium is opposed to the reflecting layer surface cross as the inner surface.
基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のため、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜してもよい。 The substrate mirror side, for preventing adhesion of such surface protection, dust may be deposited an ultraviolet curable resin layer and an inorganic thin film or the like.
【0032】 [0032]
カバー層は、高密度化を図るため高NAのレンズを用いる場合に必要となる。 Cover layer is required when using a high NA lens for increase the density.
例えば高NA化すると、再生光が透過する部分の厚さを薄くする必要がある。 For example, when a higher NA, it is necessary to reduce the thickness of the portion where the reproduction light passes.
これは、高NA化に伴い、光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直からズレる角度(いわゆるチルト角、光源の波長の逆数と対物レンズの開口数の積の2乗に比例する)により発生する収差の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け易いためである。 This is due to the higher NA, the angle deviated disk surface with respect to the optical axis of the optical pickup from the vertical (so-called tilt angle is proportional to the square of the numerical aperture of the product of the reciprocal and the objective lens in the wavelength of the light source) it is because the allowable amount of aberration generated decreases, the tilt angle is liable to be affected in the aberration due to the thickness of the substrate.
従って、基板の厚さを薄くしてチルト角に対する収差の影響をなるべく小さくするようにしている。 Therefore, so as to minimize the effect of aberrations relative to the tilt angle and the thickness of the substrate.
そこで、例えば基板上に凹凸を形成して記録層とし、その上に反射膜を設け、更にその上に光を透過する薄膜である光透過性のカバー層を設けて、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような追記型光記録媒体や、基板上に反射膜を設け、その上に記録膜を形成して記録層とし、更にこの上に光透過性を有するカバー層を設けて、カバー層側から再生光を照射して記録層の情報を再生するような追記型光記録媒体が提案されている。 Therefore, for example, forming irregularities on the substrate and recording layer, thereon a reflective film, further thereon by providing a light transmissive cover layer is a thin film that transmits light, reproduction light from the cover layer side the or write-once optical recording medium to reproduce the information of irradiating the recording layer, a reflection film provided on the substrate, and a recording film formed by the recording layer thereon, further comprising a light transmitting thereon and a cover layer, write-once optical recording medium to reproduce the information recording layer by irradiating a reproducing light from the cover layer side is proposed.
【0033】 [0033]
このようにすれば、カバー層を薄型化していくことで対物レンズの高NA化に対応可能である。 In this way, it can correspond to high NA objective lens by going to thinner cover layer. つまり、薄いカバー層を設け、このカバー層側から記録再生することで、更なる高記録密度化を図ることができる。 That is, the thin cover layer is provided, by recording reproduced from the cover layer side, it is possible to achieve a further higher recording density.
なお、このようなカバー層は、ポリカーボネートシートや、紫外線硬化型樹脂により形成されるのが一般的である。 Such a cover layer, a polycarbonate sheet or, they are generally formed by the ultraviolet curable resin.
また、本発明で言うカバー層には、カバー層を接着するための層を含めてもよい。 Furthermore, the cover layer used in the present invention may include a layer for bonding the cover layer.
本発明の追記型光記録媒体に使用されるレーザ光の波長は、高密度記録を行うため短いほど好ましいが、特に350〜530nmの範囲が好ましい。 Wavelength of the laser beam used in the write-once type optical recording medium of the present invention is preferably as short for performing high-density recording, in particular in the range of 350~530nm is preferred. このようなレーザ光の代表例としては、中心波長405nmのレーザ光が挙げられる。 As the typical example of a laser beam, and the center wavelength of 405nm of the laser beam.
【0034】 [0034]
【実施例】 【Example】
以下、本発明を実施例及び参考例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。 The present invention will be described below examples and in more detail by reference examples, the present invention is not intended to be limited to these examples.
【0035】 [0035]
参考例1 Reference Example 1
まず初めに、基板上に光吸収層としてSiCを厚さ10nm設けた追記型光記録媒体を作成し、基板側からの記録再生特性を評価した。 First, create a write-once optical recording medium having 10nm thickness of SiC as a light absorbing layer on the substrate, to evaluate recording and reproducing characteristics from the substrate side.
図3〜図6に、参考例1−A〜1−Dの記録結果を示す。 In FIGS. 3 to 6 shows a recording result of Reference Example 1-A~1-D.
図3(a)〜図6(a)は、参考例1−A〜1−Dの再生信号(RFレベル)の記録マーク長(Mark Length)依存性の測定結果を示す図であり、各図中の、Unrecは未記録時の再生信号(RFレベル)を、Topはマーク列を記録した時の最大再生信号レベル(一般的にはスペース部)を、Bottomはマーク列を記録した時の最小再生信号レベルを、MAは(Top−Bottom)/Topで計算される変調度を示す。 Figure 3 (a) ~ FIG. 6 (a) is a diagram showing the recording mark length (Mark Length) dependence of the measurement results of Example 1-A to 1-D of the reproduced signal (RF level), the figures the minimum time in, UNREC is unrecorded when the reproduction signal (RF level), Top is the maximum reproduction signal level (typically in the space portion) when the recording mark train, Bottom is recorded mark train a reproduction signal level, MA denotes a modulation factor calculated in (Top-Bottom) / Top.
また、図3(b)〜図6(b)には、3Tマークを連続して記録した場合の再生信号、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを、図3(c)〜図6(c)には、6Tマークを連続して記録した場合の再生信号、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを、図3(d)〜図6(d)には、3Tマークを連続して記録した場合の再生信号、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示した。 Further, in FIG. 3 (b) ~ FIG 6 (b), the reproduced signal in the case of continuously recording 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 4T mark, and, unrecorded when the reproduction signal level, in FIG. 3 (c) ~ FIG. 6 (c), the reproduced signal in the case of continuously recording 6T mark, the reproduction signal in the case of continuously recording 8T marks, and playback at non-recorded the signal level, FIG. 3 (d) ~ FIG 6 (d), the reproduced signal in the case of continuously recording 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 14T marks, and, at the time of unrecorded It shows a reproduction signal level.
【0036】 [0036]
<参考例1−A> <Reference Example 1-A>
溝深さ55nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、光吸収機能を有する変形層としてSiC層を厚さ10nm設けた追記型光記録媒体を作製した。 On a polycarbonate substrate having a groove depth 55nm of the guide groove, to prepare a recordable optical recording medium having 10nm thickness of SiC layer as the active layer having a light absorption function. この光記録媒体に対して、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側から5.0mWのレーザ光を照射し、グルーブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで3T〜14Tマークをそれぞれ単独で記録した。 For this optical recording medium, Pulstec Industrial manufactured optical disc evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405nm, NA: 0.65) was used to irradiate a laser beam of 5.0mW from the substrate side, a groove portion (as viewed from the incident laser beam side, a groove located on the front side), the recording frequency 65.4MHz, 3T to 14T marks were each recorded alone recording linear velocity 6.0 m / s.
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFM(原子間力顕微鏡)により確認した。 It was confirmed by SiC layer AFM that are deformed on the opposite side (anti-substrate side) to the incident light (atomic force microscope).
また、図3(a)の結果から、記録マーク長によらずHigh to Low(ハイ・ツー・ロー)記録が行えている可能性があることが確認できる。 From the results of FIG. 3 (a), High to Low (High-to-Low) regardless of the recording mark length can be confirmed that there is a possibility that the recording is performed.
更に、図3(b)〜図3(d)の結果から、3T、4T、6T、8T、14Tとも、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すことが分る。 Furthermore, from the results of FIG. 3 (b) ~ FIG 3 (d), 3T, 4T, 6T, 8T, 14T both, it can be seen that shows the reproduced signal waveform which can mark length recording.
【0037】 [0037]
<参考例1−B> <Reference Example 1-B>
記録パワーを6.0mWに変えた点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。 Except for changing the recording power 6.0mW it was conducted in exactly the same experiment as in Reference Example 1-A.
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。 Incidentally, SiC layer was confirmed by AFM that are deformed on the opposite side (anti-substrate side) to the incident light.
また、図4(a)の結果から、記録マーク長によって記録極性が変化すること、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生し、マーク長記録が困難となることが分る。 From the results of FIG. 4 (a), changing the recording polarity by the recording mark length, i.e., in the short mark is High to Low recording, High to Low recording and Low to High recording are mixed at a long mark signal is generated as it can be seen that the mark length recording becomes difficult.
更に、図4(b)〜図4(d)の結果から、3T、4Tはマーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、6T、8T、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し〔6T、8Tでは、再生信号の周期が本来の再生信号の倍に見える。 Furthermore, from the results of FIG. 4 (b) ~ FIG 4 (d), 3T, 4T is showing a reproduced signal waveform which can mark length recording, 6T, 8T, 14T is RF level mark central portion is increased significantly It shows the reproduced signal waveform [6T, the 8T, the period of the reproduction signal is visible to the multiple of the original reproduction signal. このことは図3(c)と比べるとよく分る〕、マーク長記録が困難となることが分る。 This is seen better than 3 and (c)], it can be seen that the mark length recording becomes difficult.
【0038】 [0038]
<参考例1−C> <Reference Example 1-C>
基板側から6.0mWのレーザ光を照射してランド部(入射レーザ光側から見て奥側にある溝位置)に記録した点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。 Except recorded in (the groove position in the back side when viewed from the incident laser beam side) a laser beam of 6.0mW from the substrate side land portion and irradiation was conducted in exactly the same experiment as in Reference Example 1-A .
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。 Incidentally, SiC layer was confirmed by AFM that are deformed on the opposite side (anti-substrate side) to the incident light.
また、図5(a)の結果から、若干ではあるが、記録マーク長によって記録極性が変化する傾向、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生する傾向が見られ、マーク長記録が困難となる可能性があることが分る。 From the results of FIG. 5 (a), although somewhat there is, it tends to change the recording polarity by the recording mark length, i.e., in the short mark is High to Low recording, High to Low recording and Low to a long mark signal, such as High recording is a mix of a tendency to occur, the mark length recording is understood that it may be difficult.
更に、図5(b)〜図5(d)の結果から、3T、4T、6T、8Tは、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し、マーク長記録が困難となることが分る。 Furthermore, from the results of FIG. 5 (b) ~ FIG 5 (d), 3T, 4T, 6T, 8T, while indicating a reproduction signal waveform which can mark length recording, 14T has greatly increased the RF level of the mark central portion shows the reproduction signal waveform, it can be seen that the mark length recording becomes difficult.
【0039】 [0039]
<参考例1−D> <Reference Example 1-D>
基板側から7.0mWのレーザ光を照射してランド部(入射レーザ光側から見て奥側にある溝位置)に記録した点以外は、参考例1−Aと全く同様の実験を行った。 Except recorded in (the groove position in the back side when viewed from the incident laser beam side) a laser beam of 7.0mW from the substrate side land portion and irradiation was conducted in exactly the same experiment as in Reference Example 1-A .
なお、SiC層は入射光とは反対側(反基板側)に変形していることをAFMにより確認した。 Incidentally, SiC layer was confirmed by AFM that are deformed on the opposite side (anti-substrate side) to the incident light.
また、図6(a)の結果から、記録マーク長によって記録極性が変化すること、即ち、短マークではHigh to Low記録であるが、長マークではHigh to Low記録とLow to High記録が混在したような信号が発生し、マーク長記録が困難となることが分る。 Further, from the results of FIG. 6 (a), changing the recording polarity by the recording mark length, i.e., in the short mark is High to Low recording, High to Low recording and Low to High recording are mixed at a long mark signal is generated as it can be seen that the mark length recording becomes difficult.
更に、図6(b)〜図6(d)の結果から、3T、4Tは、マーク長記録が可能な再生信号波形を示すが、6T、8T、14Tはマーク中央部のRFレベルが大きく上昇した再生信号波形を示し〔例えば6Tでは再生信号の周期が本来の再生信号の倍に見える。 Furthermore, from the results of FIG. 6 (b) ~ FIG 6 (d), 3T, 4T, as shown in the reproduced signal waveform which can mark length recording, 6T, 8T, 14T has greatly increased the RF level of the mark central portion period of the shows the reproduced signal waveform [e.g. 6T the reproduction signal is visible to the multiple of the original reproduction signal. このことは図3(c)と比べるとよく分る〕、マーク長記録が困難となることが分る。 This is seen better than 3 and (c)], it can be seen that the mark length recording becomes difficult.
【0040】 [0040]
以上、参考例1−A〜1−Dの結果から、基板上にSiC層を設けた追記型光記録媒体では、低記録パワー時には、High to Low極性の再生信号が得られているが、記録パワーが高まると、記録マークの中央部が盛り上がったような、いわゆる微分波形化が起こり、更なる高記録パワーによる記録では、記録極性があたかもLow to Highであるかのように見えることが分った。 Above, from the results of Reference Example 1-A to 1-D, the write-once optical recording medium having a SiC layer on the substrate, at the time of low recording power, but High to Low polarity of the reproduced signal is obtained, the recording When power is increased, such as the central portion of the recording mark is raised, so-called differential corrugated occurs, the recording by the high recording power further, found that the recording polarity is though appears to be a Low to high It was. また、この微分波形化の度合いは、記録マーク長によって異なり、長マークでは微分波形化が非常に起り易いことが確認できた。 Also, the degree of the differential waveform of is different depending on the recording mark length, in long mark was confirmed that tends to occur quite the differential corrugated.
このように、通常は、記録パワーの増大と伴に記録マーク部の反射率が一方向に変化していくのに対し、この参考例1で用いた追記型光記録媒体では、記録部の再生信号波形が変化するためにジッタ等の記録再生特性が悪化することが容易に理解される。 Thus, normally, whereas increased and accompanied in the recording mark portion reflectance of the recording power is gradually changed in one direction, in the write-once type optical recording medium used in this Example 1, the reproduction of the recording unit recording and reproducing characteristics such as jitter can be readily understood that the worse for the signal waveform changes.
【0041】 [0041]
参考例2 Reference Example 2
次に、参考例1で、再生信号が微分波形化する原因を明らかにするため、下記の条件でシュミレ−ションを行った。 Next, in Reference Example 1, the reproduction signal to reveal the cause of reduction differential waveform, Shumire under the following conditions - were Deployment.
基板/SiC(厚さ10nm)という層構成で、約8T(2.0λ)のマーク長を有する記録マーク(Pitを仮定。図7を参照)を形成し、この記録マークについてi)記録位置(Land or Groove) Layer structure of the substrate / SiC (thickness 10 nm), to form a recording mark having a mark length of about 8T (2.0Ramuda) (see assuming Pit. 7), the recording mark i) recording position ( Land or Groove)
ii)空隙の有り無し([No Bubble] or [Bubble]) ii) or without air gap ([No Bubble] or [Bubble])
を変えて、基板側からレーザ光を走査して再生した場合に、どのような再生信号が得られるかを計算した。 It changing the, in case of reproducing by scanning the laser beam from the substrate side, was calculated what reproduced signal is obtained.
基板の溝形状は、(A,B,C,D,ζ)=(0.2,1.0525,1.2525,1.8525,0.1375)とし、(記録マーク長さ,記録マーク幅,高さ)=(2.0λ,0.8525λ,−0.3λ)とした(数字は波長λを単位としたものである。また記録マークの高さのマイナス表示は、記録部がPitを形成すること、即ち変形が基板側から遠ざかる方向に生じることを意味する)。 Groove shape of the substrate, and (A, B, C, D, ζ) = and (0.2,1.0525,1.2525,1.8525,0.1375) (recording mark length, recording mark width , height) = (2.0λ, 0.8525λ, was -0.3λ) (numbers are as hereinbefore wavelength λ units. the negative display of the height of the recording mark, the recording portion Pit formed by, i.e., deformation means to cause the direction away from the substrate side). また、空隙の有り無しは、図8のような状態を指し、図8(a)のような記録状態を空隙なし、図8(b)のような記録状態を空隙ありと定めた。 Also, and without voids refers to the state of FIG. 8, no gap a recording state such as FIG. 8 (a), the determined that there is a void recording state shown in FIG. 8 (b).
図9は、ランド部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を、図10は、グル−ブ部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図である。 9, the results obtained by reproducing the recording unit Pit is formed on the land portion from the substrate side, Fig. 10, Group - results when the recording unit Pit is formed on the blanking portion is reproduced from the substrate side is a diagram illustrating a.
なお、図10の凡例で(N)の表示は、変形領域の幅が0.8525λの場合、(W)の表示は変形領域の幅が1.8525λの場合を示す。 The display of the (N) in the legend of Figure 10, if the width of the deformation region is 0.8525Ramuda, the width of the display is deformed region of the (W) shows the case of a 1.8525Ramuda.
その結果(図9〜図10参照)、光吸収層と基板の間、或いは基板内に空隙が発生すると微分波形化が起こる可能性があることが証明された。 The results (see FIGS. 9 10), between the light-absorbing layer and the substrate, or voids in the substrate it has been demonstrated that there is a possibility that differential waveform of happen to occur.
【0042】 [0042]
参考例3 Reference Example 3
参考例2のシュミレ−ションによって、記録再生特性の悪化の原因は、基板と光吸収層間、或いは基板内に発生する空隙の可能性があることが証明された。 Shumire of Reference Example 2 - by Deployment, the cause of deterioration of the recording and reproducing characteristics, it has been demonstrated that the possibility of voids occurring in the substrate and the light absorbing layer, or the substrate is.
そこで、本参考例では、実際に空隙が発生する場所とメカニズムを明確にするため、基板/SiC(厚さ15nm)/化1で示される化合物のCo金属錯体/Ag反射層(厚さ150nm)/保護層という追記型光記録媒体を作成し、グル−ブ部に下記の条件で記録を行った。 Therefore, in the present embodiment, in order to clarify actually the location and mechanism of void occurs, Co metal complex / Ag reflective layer of the substrate / SiC (thickness 15 nm) / compound represented by 1 (thickness 150 nm) / created once optical recording medium of the protective layer, Group - was recorded at the blanking portion of the following conditions.
【化1】 [Formula 1]
なお、この記録において、6Tは記録極性がLow to Highであり、14Tは記録極性がHigh to Lowであった。 Incidentally, in this recording, 6T is recorded polarity Low-to High, 14T recording polarity were High-to Low.
また、記録マークが14Tの場合は、その記録部の信号振幅(変調度に相当)が、6Tの2倍程度あった。 The recording mark in the case of 14T, the signal amplitude of the recording unit (corresponding to a degree of modulation) is, were two times of 6T.
【0043】 [0043]
次いで、この光記録媒体をFIB(Focused Ion Beam=集束イオンビーム加工装置)でトラック方向、又は半径方向に切断し、記録部をFE−SEM(電界放射型走査電子顕微鏡)又はTEM(透過電子顕微鏡)で観察した。 Then, the optical recording medium FIB (Focused Ion Beam = focused ion beam processing apparatus) in the track direction, or radially cut, the recording unit FE-SEM (field emission scanning electron microscope) or TEM (transmission electron microscopy was observed in).
その結果、図11(FIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図)に示すように、記録マーク長が6Tの場合は、記録部がSiC層の基板側への変形、及び色素層の状態変化によって記録部が形成されていることが確認できた。 As a result, as shown in FIG. 11 (FIG observed by cutting in the track direction in FIB FE-SEM), when the recording mark length is 6T, the recording portion is deformed to the substrate side of the SiC layer, and a dye layer it was confirmed that the recording unit is formed by a state change.
一方、記録マーク長が14Tの場合には、記録マーク長が6Tの場合と比べて記録極性が反転し、変調度が急増した記録部には、図12〜13に示すように、基板内に空隙が発生していることが確認できた(マーク長が6Tの場合には、基板内に空隙が発生していなかった)。 On the other hand, if the recording mark length is 14T, the recording mark length recording polarity is reversed as compared with the case of 6T, the recording unit modulation increased rapidly, as shown in FIG. 12 to 13, in the substrate voids was confirmed that has occurred (when the mark length is 6T, the gap did not occur in the substrate). 即ち、記録再生特性の悪化の原因は、基板内に発生する空隙であることが確認された。 That is, the cause of deterioration of the recording and reproducing characteristics, it was confirmed that voids occurring in the substrate.
なお、図12はFIBで半径方向に切断しTEMで観察した(写真)であり、図13は同様の観察を行った(写真)の拡大図である(図13のTEM写真は、それぞれ切断位置が異なる4枚の写真を並べて示してある。)。 Note that FIG. 12 is a was observed by TEM were cut radially FIB (photograph), TEM photograph of FIG. 13 is an enlarged view of the were subjected to the same observations (photograph) (FIG. 13, respectively the cutting position is shown side by side four different photos.).
更に、上記実験ではマーク長の違いによって記録極性が異なる例を示したが、記録パワーが低い時と高い時でも同様の現象(高記録パワー時には基板内に空隙が発生する)が起ることを確認した。 Furthermore, although in the above experiment showed an example in which the recording polarity is different due to the difference in mark length, that similar phenomena even when time and high low recording power (at the time of high recording power voids are generated in the substrate) occurs confirmed.
【0044】 [0044]
実施例1 Example 1
溝深さ50nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、空隙抑制層としてZnS−SiO を厚さ65nm、光吸収機能を有する層としてSiCを厚さ10nm、有機化合物からなる記録層としてDVD−Rに利用できる前記化1で示される化合物のCo金属錯体層(色素層)を厚さ約60nm、Ag反射層を厚さ約100nm、紫外線硬化型樹脂からなる保護層を順次積層して追記型光記録媒体を作成した。 On a polycarbonate substrate having a guide groove depth 50 nm, a thickness of 65nm to ZnS-SiO 2 as a void inhibiting layer, a thickness of 10nm with SiC as a layer having a light absorption function, DVD-R as a recording layer comprising an organic compound Co-metal-complex layer (dye layer) having a thickness of about 60 nm, Ag reflective layer having a thickness of about 100 nm, protective layer sequentially laminated to a write-once optical consisting ultraviolet curable resin of the compound represented by Formula 1 that can be used for It created the recording medium.
この光記録媒体に対し、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側からレーザ光を照射し、グル−ブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで8−16変調の信号を記録した。 To this optical recording medium, Pulstec Industrial manufactured optical disc evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405nm, NA: 0.65) was used to irradiate the laser beam from the substrate side, Group - blanking portion (incident laser when viewed from the light side, the groove position) on the front side, the recording frequency 65.4MHz, 8-16 were recorded modulation signal at a recording linear velocity 6.0 m / s.
その結果、本実施例で使用した評価装置が設定できる記録パワ−範囲内において、記録極性がLow to Highで単一化され、図14に示すような、良好なジッタ特性と変調度を得ることができた。 As a result, the recording power can be evaluated setting device used in this example - in the range, the recording polarity is unified with Low-to High, as shown in FIG. 14, to obtain the degree of modulation good jitter characteristics It could be.
【0045】 [0045]
比較例1 Comparative Example 1
基板/SiC(厚さ10nm)/化1で示される化合物のCo金属錯体(厚さ約60nm)/Ag反射層(厚さ150nm)/保護層という構成の追記型光記録媒体を作成し、下記の条件で記録を行った(実施例1において、空隙抑制層がない場合)。 Create a write-once optical recording medium of the structure of the substrate / SiC (thickness 10 nm) / reduction 1 Co metal complex (having a thickness of about 60 nm) of the compound represented by / Ag reflective layer (thickness 150 nm) / protective layer, the following the recording was carried out in conditions (in example 1, when there is no void inhibiting layer).
その結果は図15に示す通りで、記録パワー約9.0mWでジッタ11.6%という良好な記録を行うことができたが、本比較例で使用した評価装置が設定できる記録パワーの範囲内において、記録極性の変化が見られ(10.5mw近傍で記録極性がLow to HighからHigh to Lowに変わる)、ジッタの記録パワーマージンが非常に狭くなったことが確認できた。 The results were as shown in FIG. 15, it was possible to make a good record of jitter 11.6% at a recording power of about 9.0 mW, the range of recording power that can be evaluated setting device used in this comparative example in the change is observed in the recording polarity (recording polarity 10.5mw vicinity changes from Low to High to the High-to Low), the recording power margin of jitter was confirmed that the very narrow.
この光記録媒体に、改めて記録パワー8.0mWで6Tマーク及び14Tマークを記録し、参考例3と同様に、この光記録媒体をFIBで半径方向に切断し、記録部をTEMで観察した。 This optical recording medium, recording a 6T mark and 14T marks again recording power 8.0 mW, in the same manner as in Reference Example 3, the optical recording medium is cut radially FIB, was observed recording unit in TEM.
その結果、記録パワー8.0mWによる記録部では、基板内に空隙が発生していないことが確認できた。 As a result, in the recording unit by the recording power 8.0 mW, voids was confirmed that not occurred in the substrate. また、記録再生時にトラッキングエラ−(トラック外れ)を生じることがなかった。 The tracking error when reproducing - never produce (off-track).
一方、図12〜13のように基板内に空隙が発生するような記録パワー、即ち記録パワー9.5mW以上による記録では、ジッタが15.0%を下回らなかった。 On the other hand, the recording power that voids occurring in the substrate as shown in FIG. 12 to 13, that is, the recording by the above recording power 9.5 mW, jitter was less than 15.0%. また、9.5mW程度以上の記録パワーでは、記録パワーの増加と伴に、記録再生時のトラッキングエラ−(トラック外れ)を起す割合が増加した。 In the above recording power of about 9.5 mW, to increase the wake of the recording power, tracking during recording and reproduction error - rate cause (off-track) is increased.
【0046】 [0046]
実施例2 Example 2
溝深さ50nmの案内溝を有するポリカーボネート基板上に、空隙抑制層としてZrO を厚さ35nm、光吸収機能を有する層としてSiを厚さ15nm、有機化合物からなる記録層としてDVD−Rに利用できる前記化1で示される化合物のCo金属錯体層(色素層)を厚さ約60nm、Ag反射層を厚さ約100nm、紫外線硬化型樹脂からなる保護層を順次積層した追記型光記録媒体を作成した。 On a polycarbonate substrate having a guide groove depth 50 nm, a thickness of 35nm to ZrO 2 as void inhibiting layer, the Si as a layer having a light absorption function thickness 15 nm, a DVD-R as a recording layer comprising an organic compound utilized Co-metal-complex layer (dye layer) having a thickness of about 60nm of the compound represented by Formula 1 that can be a thickness of about 100nm the Ag reflective layer, the write-once optical recording medium having sequentially laminated a protective layer of a UV-curable resin Created.
この光記録媒体に対し、パルステック工業製の光ディスク評価装置、DDU−1000(波長:405nm、NA:0.65)を用いて、基板側からレーザ光を照射し、グル−ブ部(入射レーザ光側から見て、手前側にある溝位置)に、記録周波数65.4MHz、記録線速度6.0m/sで8−16変調の信号を記録した。 To this optical recording medium, Pulstec Industrial manufactured optical disc evaluation apparatus, DDU-1000 (wavelength: 405nm, NA: 0.65) was used to irradiate the laser beam from the substrate side, Group - blanking portion (incident laser when viewed from the light side, the groove position) on the front side, the recording frequency 65.4MHz, 8-16 were recorded modulation signal at a recording linear velocity 6.0 m / s.
その結果、本実施例で使用した評価装置が設定できる記録パワ−範囲内において、記録極性がLow to Highで単一化され、図16に示すような、良好なジッタ特性と変調度を得ることができた。 As a result, the recording power can be evaluated setting device used in this example - in the range, the recording polarity is unified with Low-to High, as shown in FIG. 16, to obtain the degree of modulation good jitter characteristics It could be.
【0047】 [0047]
以上の参考例及び実施例の結果から、本発明の「基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有し、基板内又はカバー層内に空隙部を形成させずに記録部を形成した追記型光記録媒体」が、良好な記録再生特性を得る上で、非常に重要であることが裏付けられた。 From the results of Reference Examples and Examples, adjacent to the "substrate or the cover layer of the present invention has a structure where the light-absorbing layer is provided with a light absorption function with respect to recording light, substrate or cover to form a recording unit write-once optical recording medium "without forming a gap portion in the layer is for obtaining good recording and reproducing characteristics, it has been confirmed is very important.
なお、上記実施例の記録再生特性は一例を示すものであって、例えば記録極性をLow to Highに限定するものではない。 The recording and reproducing characteristics of the above examples are only an example and does not limit the Low to High, for example recording polarity.
【0048】 [0048]
実施例3 Example 3
図11〜13の観察の結果、基板内に空隙が発生し易いのは長マークであり、3T〜4Tのような短い記録マークには空隙が発生し難いことが確認できた。 Results of observation of 11-13, the likely void is generated in the substrate is a long mark, the short recording marks as 3T~4T voids was confirmed that hardly occurs.
そこで、図15(a)に示すような記録ストラテジにおいて、長マークになるほどTEMPを0.02(T)ずつ小さくする設定を用い、長マークの温度を必要以上に上昇させない(基板内に空隙が発生しない温度以下にする)ようにし、比較例1で作成したものと同じ構成の追記型光記録媒体に記録を行った。 Accordingly, the recording strategy as shown in FIG. 15 (a), using the setting of smaller the TEMP by 0.02 (T) becomes long mark, does not increase more than necessary the temperature of the long mark (voids in the substrate to occur to a temperature below that do not), as were recorded on write-once optical recording medium having the same configuration as that produced in Comparative example 1.
その結果、通常の記録ストラテジ〔図17(a)において、記録マーク長に拘わらずTEMPを固定〕では、約9.5mW程度で、14Tマークに基板内空隙が観測されたが、本実施例での記録ストラテジを用いることにより、約9.5mW程度で記録を行っても14Tマークに基板内空隙は観測されなかった。 As a result, [In FIG. 17 (a), fixing the TEMP regardless recording mark length] Normal recording strategy in at approximately 9.5 mW, although substrate gap 14T mark was observed, in this embodiment by using the recording strategy, substrate voids 14T marks even if the recording at about 9.5mW was observed.
即ち、本実施例で適用した記録ストラテジを用いることで、記録パワーを増加していっても、長マークに発生し易い空隙の発生を抑制できるため、良好なジッタ特性(ジッタの記録パワーマージンの拡大)が得られた。 That is, by using the recording strategy is applied in the present embodiment, even began to increase the recording power, it is possible to suppress the generation of easy gap occurs long mark, good jitter characteristics (recording power margin of jitter enlargement) was obtained.
なお、本実施例で用いた記録ストラテジ以外に、例えば次のイ)〜リ)などの設定でも、同様の効果を発揮する。 In addition to the recording strategy used in this embodiment, for example, in the following a) to re) setting, such as the same effect.
・図17(a)において、 • In FIG. 17 (a), the
イ)長マークほどTELPを小さくする。 B) to reduce the TELP as long mark.
ロ)長マークほどTEFPを小さくする。 B) to reduce the TEFP as long mark.
ハ)長マークほどPw1又はPw2を低くする。 C) to lower the long mark as Pw1 or Pw2.
・図17(b)において、 • In FIG. 17 (b), the
ニ)長マークほどPw1又はPw2を小さくする。 D) to reduce the length mark as Pw1 or Pw2.
ホ)長マークほどTEFPを小さくする。 E) to reduce the TEFP as long mark.
・図17(c)において、 In-FIG. 17 (c), the
ヘ)長マークほどPw1又はPw2を小さくする。 F) to reduce the long mark as Pw1 or Pw2.
ト)長マークほどTEFPを小さくする。 G) to reduce the TEFP as long mark.
チ)長マークほどTELPを小さくする。 H) reducing the TELP as long mark.
リ)長マークほどTSLPを大きくする。 Li) to increase the TSLP as long mark.
なお、本発明で有効な記録ストラテジの設定は、本実施例で説明したものに限定されるものではない。 The setting of the valid write strategy in the present invention is not limited to those described in the embodiment.
【0049】 [0049]
上記参考例及び実施例では、光吸収層が基板と接する場合を取り上げたが、カバー層の場合も、基本的に基板と材料が同一であるため、カバー層と光吸収層が接する場合も同様である。 Above the reference examples and examples, the light absorbing layer is taken up when in contact with the substrate, even if the cover layer, because basically the substrate and material are the same, also when the cover layer and the light-absorbing layer is in contact it is.
なお、本発明は、基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有する追記型光記録媒体の記録再生特性の改善を図る一つの有効な方法を示したものであって、基板内の空隙の発生がある追記型光記録媒体を否定するものではない。 The present invention is adjacent to the substrate or the cover layer, one to improve the recording and reproduction characteristics of the write-once optical recording medium having a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to the recording light merely indicate an effective method, it does not deny the write-once optical recording medium with the generation of voids in the substrate.
また、記録極性は、色素層や光吸収層の光学定数や膜厚、光吸収層の変形形態、或いは基板の溝深さ等の形状などに依存するため、実施例における構造の追記型光記録媒体の記録極性を限定するものではない。 The recording polarity, optical constants and thickness of the dye layer or the light-absorbing layer, variations of the light absorption layer, or to depends on the shape of the groove depth of the substrate, the write-once type optical recording structures in Example It does not limit the recording polarity of the medium.
【0050】 [0050]
【発明の効果】 【Effect of the invention】
本発明の追記型光記録媒体とその記録方法によって、記録再生特性を悪化させる基板内又はカバー層内の空隙発生を抑制することが可能となるため、良好な記録再生特性、及び良好なトラッキング特性が得られる短波長レーザ対応の追記型光記録媒体とその記録方法を提供できる。 By the recording method and the write-once optical recording medium of the present invention, since it is possible to suppress a void generated in the recording substrate deteriorating reproduction characteristics or cover layer, excellent recording and reproducing characteristics, and excellent tracking characteristics short-wavelength laser corresponding write-once optical recording medium which is obtained be able to provide a recording method thereof.
【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
【図1】従来のディスクの層構成を示す図。 FIG. 1 is a diagram showing a layer structure of a conventional disk.
【図2】マーク長記録の記録マークを再生した場合の再生信号の波形を説明する図。 Diagram illustrating the waveform of the reproduction signal when the [2] obtained by reproducing the recording mark of the mark length recording.
(a) 一般的な場合(b) 記録マークの前後エッジ近傍で変極点を持つ微分波形(c) 記録マークの中心近傍で変極点を持つ微分波形【図3】参考例1−Aの記録結果を示す図。 (A) the general case (b) the differential waveform having inflection point near the center of the differential waveform (c) recording mark having a inflection point before and after the vicinity of the edge of the recording mark [3] recording the results of Reference Example 1-A It shows a.
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。 (A) shows a record mark length and the reproduction signal (RF level) and degree of modulation relationship.
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (B) 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 4T mark, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (C) 6T mark, the reproduction signal in the case of continuously recording 8T marks, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。 (D) 3T mark, shows a reproduction signal level at the time of reproduction signals, and unrecorded in the case of continuously recording 14T mark.
【図4】参考例1−Bの記録結果を示す図。 FIG. 4 shows a recording result of Reference Example 1-B.
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。 (A) shows a record mark length and the reproduction signal (RF level) and degree of modulation relationship.
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (B) 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 4T mark, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (C) 6T mark, the reproduction signal in the case of continuously recording 8T marks, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。 (D) 3T mark, shows a reproduction signal level at the time of reproduction signals, and unrecorded in the case of continuously recording 14T mark.
【図5】参考例1−Cの記録結果を示す図。 FIG. 5 shows a recording result of Reference Example 1-C.
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。 (A) shows a record mark length and the reproduction signal (RF level) and degree of modulation relationship.
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (B) 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 4T mark, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (C) 6T mark, the reproduction signal in the case of continuously recording 8T marks, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。 (D) 3T mark, shows a reproduction signal level at the time of reproduction signals, and unrecorded in the case of continuously recording 14T mark.
【図6】参考例1−Dの記録結果を示す図。 6 shows the recording results of Reference Example 1-D.
(a) 記録マーク長と再生信号(RFレベル)及び変調度の関係を示す。 (A) shows a record mark length and the reproduction signal (RF level) and degree of modulation relationship.
(b) 3Tマーク、4Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (B) 3T mark, a reproduction signal in the case of continuously recording 4T mark, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(c) 6Tマーク、8Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び、未記録時の再生信号レベルを示す。 (C) 6T mark, the reproduction signal in the case of continuously recording 8T marks, and shows a reproduction signal level at the time of unrecorded.
(d) 3Tマーク、14Tマークを連続して記録した場合の再生信号、及び未記録時の再生信号レベルを示す。 (D) 3T mark, shows a reproduction signal level at the time of reproduction signals, and unrecorded in the case of continuously recording 14T mark.
【図7】Pitが形成された状態における溝パラメータの説明図。 Figure 7 is an explanatory view of the groove parameters in a state where Pit is formed.
【図8】空隙の有り無しの記録状態を説明するための図。 Figure 8 is a diagram for explaining a recording state of the presence or absence of voids.
(a) 空隙無しの記録状態(b) 空隙有りの記録状態【図9】参考例2において、ランド部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図。 (A) In the recording state [9] Reference Example 2 there recording state (b) void without voids, shows results in the case of reproducing a recording portion Pit is formed on the land portion from the substrate side.
【図10】参考例2において、グル−ブ部にPitが形成された記録部を基板側から再生した場合の結果を示す図。 In Figure 10 Reference Example 2, Group - shows the results when the recording unit Pit is formed on the blanking portion is reproduced from the substrate side.
【図11】参考例3の記録マーク長が6Tの場合について、光記録媒体をFIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図。 [11] For the case where the recording mark length of Reference Example 3 is 6T, the optical recording medium by FIB to cut the track direction was observed by FE-SEM FIG.
(a)記録部を観察した図(b)未記録部を観察した図【図12】参考例3の記録マーク長が14Tの場合について、光記録媒体をFIBで半径方向に切断しFE−SEMで観察した図。 (A) Figure was observed FIG. (B) non-recorded portion of observing the recording unit 12 is a case recording mark length of Reference Example 3 is 14T, the optical recording medium is cut radially FIB FE-SEM the observed Figure in.
【図13】参考例3の記録マーク長が14Tの場合について、光記録媒体をFIBでトラック方向に切断しFE−SEMで観察した図。 [13] For the case where the recording mark length of Reference Example 3 is 14T, an optical recording medium by FIB to cut the track direction was observed by FE-SEM FIG.
【図14】実施例1の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。 [14] jitter when recording was carried out on the optical recording medium of Example 1, and shows a reproduction signal level of a space portion and the mark portion.
【図15】比較例1の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。 15 is a diagram showing jitter when recording was carried out on the optical recording medium of Comparative Example 1, and the playback signal level of the space portion and the mark portion.
【図16】実施例2の光記録媒体に記録を行った場合のジッタ、及びスペース部とマーク部の再生信号レベルを示す図。 [16] jitter when recording was carried out on the optical recording medium of Example 2, and illustrates a reproduced signal level of the space portion and the mark portion.
【図17】参考例3で用いた記録ストラテジを示す図。 17 illustrates a recording strategy used in Reference Example 3.
(a) 通常の記録ストラテジ(b) 他の記録ストラテジ(c) 更に他の記録ストラテジ【符号の説明】 (A) Normal recording strategy (b) Other recording strategy (c) further [EXPLANATION OF SYMBOLS] Other recording strategy
Mark Length マーク長T 基準クロックRF Lebel(V) RF(再生信号)レベル(ボルト) Mark Length mark length T reference clock RF Lebel (V) RF (reproducing signal) level (volts)
Modulated amplitude 変調度Unrec 未記録時の再生信号(RF)レベルTop マーク列を記録した時の最大再生信号レベル(即ちスペース部) Modulated Amplitude modulation Unrec unrecorded when the reproduction signal (RF) level Top mark string maximum reproduced signal level at the time of recording (i.e., the space portion)
Bottom マーク列を記録した時の最小再生信号レベル(即ちマーク部) Minimum reproduction signal level when recording the Bottom mark string (ie mark portion)
MA. MA. (Top−Bottom)/Topで計算される変調度Time0.5(μs/div) 時間(1メモリ0.5マイクロ秒) (Top-Bottom) / degree of modulation is calculated by Top Time0.5 (μs / div) Time (1 memory 0.5 microsecond)
A 基準点から隣接するランド又はグルーブの近い方の端部までの幅B 基準点から隣接するランド又はグルーブの遠い方の端部までの幅C 基準点から次のグルーブ又はランドの近い方の端部までの幅D 基準点から次のグルーブ又はランドの遠い方の端部までの幅ζ グルーブ底部からランド上面までの高さPit レーザ光の入射方向とは逆に変形した記録マークBump レーザ光の入射方向に変形した記録マークSum 和信号(再生信号) End nearer the width C reference point from A reference point to the end of the farther of the adjacent land or groove the width B the reference point to the end of the closer of the adjacent land or groove of the next groove or lands the width D reference point to parts of the recording mark Bump laser beam deformation as opposed to the height direction of incidence of the Pit laser beam from the width ζ groove bottom to the end of the farther the following groove or land to land top recording mark sum sum signal deformed in the incident direction (reproduction signal)
Beam Position(μm) ビーム位置(マーク中心からのビーム中心のズレ量) Beam Position ([mu] m) beam position (shift amount of the center of the beam from the mark center)
From Sub,Land 基板側からランド記録From Sub,Groove 基板側からグルーブ記録No Bubble 空隙無しBubble 空隙有り(N) 変形領域の幅が0.8525λの場合(W) 変形領域の幅が1.8525λの場合σ/Tw ジッタPw1 記録パワーPw2 ボトムパワーPr バイアスパワーTEFP 基準時間から先頭パルス立下り時間までの時間TSFP 基準時間から先頭パルス立上り時間までの時間TEMP 基準時間からマルチパルス立下り時間までの時間TSMP 基準時間からマルチパルス立上り時間までの時間TELP 基準時間から最終パルス立下り時間までの時間TSLP 基準時間から最終パルス立上り時間までの時間 The From Sub, land recording the From Sub from Land substrate side, the Groove substrate side groove recording No Bubble gap without Bubble gap there (N) the width of the deformation region width when (W) deformation region of 0.8525λ is 1.8525λ If sigma / Tw jitter Pw1 recording power Pw2 bottom power Pr bias power TEFP from a reference time from time TEMP reference time to the start pulse rise time from the time TSFP reference time to the start pulse fall time to the multi-pulse fall time time TSMP time from the reference time from the time TELP reference time to the multi-pulse rise time from the time TSLP reference time to final pulse fall time to the last pulse rise time

Claims (9)

  1. 基板又はカバー層に隣接して、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が設けられた構造を有し、基板内又はカバー層内に空隙部を形成させることなく記録部を形成できることを特徴とする追記型光記録媒体。 Substrate or adjacent to the cover layer has a structure in which the light absorption layer is provided with a light absorption function with respect to the recording light, it can form a recording portion without forming a gap portion in or cover layer in the substrate write-once optical recording medium characterized.
  2. 基板上に、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が設けられた構造を有し、基板内に空隙部を形成させることなく記録部を形成できることを特徴とする追記型光記録媒体。 On a substrate, a light absorbing layer having a light absorption function with respect to recording light, a recording layer comprising an organic compound, and a reflecting layer is provided structure, a recording unit without forming a void portion in the substrate write-once optical recording medium, characterized in that can be formed.
  3. 基板又はカバー層に隣接して、記録による基板内又はカバー層内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。 Substrate or adjacent to the cover layer, void inhibiting layer for suppressing the air gap occurs in or cover layer in the substrate by recording, a structure in which the light absorption layer is sequentially provided with a light absorption function with respect to the recording light write-once optical recording medium characterized by having.
  4. 基板上に、記録による基板内の空隙部発生を抑制するための空隙抑制層、記録光に対して光吸収機能を有する光吸収層、有機化合物からなる記録層、及び反射層が順次設けられた構造を有することを特徴とする追記型光記録媒体。 On a substrate, the void suppression layer for suppressing the air gap occurs in the substrate by recording the light absorption layer having light absorption function with respect to recording light, a recording layer comprising an organic compound, and a reflective layer are sequentially provided write-once optical recording medium characterized by having a structure.
  5. 空隙抑制層が、SiO 、ZnS−SiO 、ZrO の何れかを主成分とすることを特徴とする請求項3又は4記載の追記型光記録媒体。 Void inhibiting layer, SiO 2, ZnS-SiO 2 , write-once optical recording medium according to claim 3 or 4, wherein one of ZrO 2, characterized in that a main component.
  6. 空隙抑制層が、ZnS、ZrO 、Y 及びSiO からなる酸化物であることを特徴とする請求項3又は4記載の追記型光記録媒体。 Void inhibiting layer, ZnS, ZrO 2, Y 2 O 3 and write-once optical recording medium according to claim 3 or 4, wherein the is an oxide composed of SiO 2.
  7. 空隙抑制層が、ZrO 、TiO 、SiO 、及びXからなり、XがAl 、MgO、CaO、NbO、Y 、CeOから選ばれた少なくとも1つであることを特徴とする請求項3又は4記載の追記型光記録媒体。 Wherein void inhibiting layer, ZrO 2, TiO 2, SiO 2, and consists of X, X is Al 2 O 3, MgO, CaO , NbO, that Y 2 O 3, is at least one selected from CeO write-once optical recording medium according to claim 3 or 4, wherein the.
  8. 請求項1〜7の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録パワーの範囲で記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。 To write-once optical recording medium according to claim 1, of a write-once optical recording medium and performs recording in the range of recording power void portion in or cover layer in the substrate is not formed Recording method.
  9. 請求項1〜7の何れかに記載の追記型光記録媒体に対し、基板内又はカバー層内に空隙部が形成されない記録ストラテジで記録を行うことを特徴とする追記型光記録媒体の記録方法。 To write-once optical recording medium according to any one of claims 1 to 7, a method of recording write-once optical recording medium and performs recording in the recording strategy void portion is not formed in or cover layer in the substrate .
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006022360A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-02 Ricoh Company, Ltd. Optical-recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical-recording medium
US20070037095A1 (en) * 2005-07-28 2007-02-15 Noboru Sasa Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording
US20080170484A1 (en) * 2007-01-15 2008-07-17 Tdk Corporation Optical recording medium
US7663997B2 (en) 2003-05-09 2010-02-16 Lg Electronics, Inc. Write once optical disc, and method and apparatus for recovering disc management information from the write once optical disc
US7672208B2 (en) 2003-08-05 2010-03-02 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording/playback management information on/from optical disc
US7672204B2 (en) 2003-01-27 2010-03-02 Lg Electronics Inc. Optical disc, method and apparatus for managing a defective area on an optical disc
US7684293B2 (en) 2003-05-09 2010-03-23 Lg Electronics Inc. Write once optical disc, and method and apparatus for recovering disc management information from the write once optical disc
US7701823B2 (en) 2002-09-30 2010-04-20 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information on write-once optical disc
US7778145B2 (en) 2004-07-16 2010-08-17 Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. Optical recording medium and optical recording method of the same
US7783829B2 (en) 2003-09-08 2010-08-24 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc and method for recording management information thereon
US7813243B2 (en) 2003-01-11 2010-10-12 Lg Electronics Inc. Optical disc of write once type, method, and apparatus for managing defect information on the optical disc
US7911900B2 (en) 2003-09-08 2011-03-22 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information on the write-once optical disc
US20110141872A1 (en) * 2005-04-14 2011-06-16 Hideo Ando Storage medium, reproducing method, and recording method
US8045430B2 (en) 2002-09-30 2011-10-25 Lg Electronics Inc. Write-once type optical disc, and method and apparatus for managing defective areas on write-once type optical disc using TDMA information
US8054718B2 (en) 2003-07-15 2011-11-08 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information thereon
US8137894B2 (en) 2005-02-22 2012-03-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium, reproducing method, and recording method
US8296529B2 (en) 2003-09-08 2012-10-23 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc and method for recording management information thereon

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7701823B2 (en) 2002-09-30 2010-04-20 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information on write-once optical disc
US7911904B2 (en) 2002-09-30 2011-03-22 Lg Electronics, Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information on write-once optical disc
US8045430B2 (en) 2002-09-30 2011-10-25 Lg Electronics Inc. Write-once type optical disc, and method and apparatus for managing defective areas on write-once type optical disc using TDMA information
US7813243B2 (en) 2003-01-11 2010-10-12 Lg Electronics Inc. Optical disc of write once type, method, and apparatus for managing defect information on the optical disc
US8072853B2 (en) 2003-01-27 2011-12-06 Lg Electronics Inc. Optical disc of write once type, method, and apparatus for managing defect information on the optical disc
US7672204B2 (en) 2003-01-27 2010-03-02 Lg Electronics Inc. Optical disc, method and apparatus for managing a defective area on an optical disc
US8107336B2 (en) 2003-05-09 2012-01-31 Lg Electronics Inc. Write once optical disc, and method and apparatus for recovering disc management information from the write once optical disc
US7663997B2 (en) 2003-05-09 2010-02-16 Lg Electronics, Inc. Write once optical disc, and method and apparatus for recovering disc management information from the write once optical disc
US7684293B2 (en) 2003-05-09 2010-03-23 Lg Electronics Inc. Write once optical disc, and method and apparatus for recovering disc management information from the write once optical disc
US8054718B2 (en) 2003-07-15 2011-11-08 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information thereon
US7952972B2 (en) 2003-08-05 2011-05-31 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording/playback management information on/from optical disc
US7672208B2 (en) 2003-08-05 2010-03-02 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording/playback management information on/from optical disc
US7783829B2 (en) 2003-09-08 2010-08-24 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc and method for recording management information thereon
US8296529B2 (en) 2003-09-08 2012-10-23 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc and method for recording management information thereon
US7911900B2 (en) 2003-09-08 2011-03-22 Lg Electronics Inc. Write-once optical disc, and method and apparatus for recording management information on the write-once optical disc
US7778145B2 (en) 2004-07-16 2010-08-17 Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. Optical recording medium and optical recording method of the same
US7636289B2 (en) 2004-08-27 2009-12-22 Ricoh Company, Ltd. Optical-recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical-recording
KR100834427B1 (en) * 2004-08-27 2008-06-04 가부시키가이샤 리코 Optical-recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical-recording medium
WO2006022360A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-02 Ricoh Company, Ltd. Optical-recording medium, method for producing the same, and method for recording and reproducing optical-recording medium
US8137894B2 (en) 2005-02-22 2012-03-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium, reproducing method, and recording method
US8531936B2 (en) 2005-02-22 2013-09-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Storage medium, reproducing method, and recording method
US20110141872A1 (en) * 2005-04-14 2011-06-16 Hideo Ando Storage medium, reproducing method, and recording method
US20110116353A1 (en) * 2005-07-28 2011-05-19 Noboru Sasa Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording
US20070037095A1 (en) * 2005-07-28 2007-02-15 Noboru Sasa Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording
US8846298B2 (en) * 2005-07-28 2014-09-30 Ricoh Company, Ltd. Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording
US8859184B2 (en) * 2005-07-28 2014-10-14 Ricoh Company, Ltd. Write-once-read-many optical disk having low-to-high recording property accommodating short wavelength recording
US20080170484A1 (en) * 2007-01-15 2008-07-17 Tdk Corporation Optical recording medium

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