JP4108018B2 - Method for producing ethylene wax - Google Patents

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JP4108018B2 JP2003290529A JP2003290529A JP4108018B2 JP 4108018 B2 JP4108018 B2 JP 4108018B2 JP 2003290529 A JP2003290529 A JP 2003290529A JP 2003290529 A JP2003290529 A JP 2003290529A JP 4108018 B2 JP4108018 B2 JP 4108018B2
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  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Description

本発明は、エチレン系ワックスの製造方法に関し、さらに詳しくは、分子量分布の狭いエチレン系ワックスを高い生産性で製造するエチレン系ワックスの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an ethylene wax, and more particularly to a method for producing an ethylene wax that produces an ethylene wax having a narrow molecular weight distribution with high productivity.

ポリエチレンワックスなどのオレフィン系低分子量重合体は、たとえば顔料分散剤、樹脂加工助剤、印刷インキ用添加剤、塗料用添加剤、ゴム加工助剤、繊維処理剤などの用途に用いられている。また、オレフィン系低分子量重合体は、トナー用離型剤にも用いられている。近年、省エネルギー化の観点から低温定着トナーが求められており、低温での離型性のよいワックス、すなわち同一組成、同一分子量であっても、融点の低いワックスの出現が望まれている。   Olefinic low molecular weight polymers such as polyethylene wax are used in applications such as pigment dispersants, resin processing aids, printing ink additives, paint additives, rubber processing aids, fiber treatment agents, and the like. Olefin-based low molecular weight polymers are also used as toner release agents. In recent years, a low-temperature fixing toner has been demanded from the viewpoint of energy saving, and a wax having a good releasability at a low temperature, that is, a wax having a low melting point even with the same composition and the same molecular weight is desired.

ところでこのようなオレフィン系低分子量重合体を製造する方法としては、従来から工業的には通常チタン系触媒が使用されている。しかし、この触媒系では触媒単位量当たりの低分子量重合体の収量は大きく、高活性であるという利点はあるが、重合系内の気相の水素分圧を大きく維持することが必要であり、その結果、アルカンの副生が多いという欠点があった。さらには、得られた低分子量重合体の分子量分布が広く、とくに分子量が1000以下の低分子量重合体においては、ベタつきが大きいために、低分子量部を除去しなければ上記の用途には使用することが困難であった。   By the way, as a method for producing such an olefin-based low molecular weight polymer, a titanium-based catalyst has been conventionally used industrially. However, this catalyst system has the advantage that the yield of low molecular weight polymer per unit amount of catalyst is large and highly active, but it is necessary to maintain a large hydrogen partial pressure in the gas phase in the polymerization system, As a result, there was a drawback that there were many by-products of alkane. Furthermore, the molecular weight distribution of the obtained low molecular weight polymer is wide, especially in the case of a low molecular weight polymer having a molecular weight of 1000 or less, the stickiness is large. It was difficult.

これらの欠点を改善する方法として、バナジウム系触媒による低分子量重合体を製造する方法が提案されている(特許文献1参照)。この公報にはチタン系触媒に比べ、低水素分圧下で分子量分布の狭い低分子量重合体を製造できることが記載されているが、分子量分布などが必ずしも充分ではなかった。   As a method for improving these drawbacks, a method for producing a low molecular weight polymer using a vanadium catalyst has been proposed (see Patent Document 1). This publication describes that a low molecular weight polymer having a narrow molecular weight distribution can be produced under a low hydrogen partial pressure as compared with a titanium-based catalyst, but the molecular weight distribution is not always sufficient.

また、本願出願人は、(A) 周期律表のIVb族、Vb族及びVIb族よりなる群から選ばれた遷移金属の化合物、(B) アルミノオキサンからなるメタロセン系触媒の存在下に、エチレンを重合させるかまたはエチレンをα−オレフィンとを重合させるエチレン系ワックスの製造方法を提案している(特許文献2参照)。この方法によると、分子量分布の狭いエチレン系ワックスを製造することが可能であるが、さらに生産性に優れたエチレン系ワックスの製造方法が望まれている。   In the presence of a metallocene catalyst comprising (A) a transition metal compound selected from the group consisting of groups IVb, Vb and VIb of the periodic table, and (B) an aluminoxane, A method for producing an ethylene-based wax in which ethylene is polymerized or ethylene is polymerized with an α-olefin has been proposed (see Patent Document 2). According to this method, it is possible to produce an ethylene wax having a narrow molecular weight distribution, but there is a demand for a method for producing an ethylene wax having excellent productivity.

さらに、メタロセンとアルミノキサンとからなるメタロセン系触媒を用いてエチレン系ワックスを製造することが開示されているが(例えば特許文献3、4参照)、これらの方法も生産性が必ずしも充分ではない。重合温度を高くすると、重合熱の除熱が容易になり、生産性を向上させることができるが、触媒単位重量当りの低分子量重合体の収量が低下するという問題があった。   Furthermore, although it is disclosed that an ethylene-based wax is produced using a metallocene-based catalyst composed of a metallocene and an aluminoxane (see, for example, Patent Documents 3 and 4), the productivity of these methods is not always sufficient. Increasing the polymerization temperature facilitates removal of the polymerization heat and can improve productivity, but there is a problem that the yield of the low molecular weight polymer per unit weight of the catalyst decreases.

本発明者らは、上記のような従来技術における問題点に鑑み鋭意検討した結果、特定のメタロセン系触媒の存在下にエチレンを単独重合させるか、あるいはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとを共重合させると、高い生産性で分子量分布の狭いエチレン系ワックスが得られることを見出した。また、100℃以上の温度で上記(共)重合を行うとさらに高い生産性で分子量分布が狭く、融点が低いエチレン系ワックスが得られることを見出し本発明を完成するに至った。
特開昭59−210905号公報 特開昭60−78462号公報 特開平1−203410号公報 特開平6−49129号公報
As a result of intensive studies in view of the problems in the prior art as described above, the present inventors either homopolymerize ethylene in the presence of a specific metallocene catalyst, or ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms. It has been found that an ethylene-based wax having a high productivity and a narrow molecular weight distribution can be obtained by copolymerizing. Moreover, when the (co) polymerization is carried out at a temperature of 100 ° C. or higher, it has been found that an ethylene wax having a higher productivity, a narrow molecular weight distribution, and a low melting point can be obtained, thereby completing the present invention.
JP 59-210905 A JP 60-78462 A JP-A-1-203410 JP-A-6-49129

本発明は、分子量分布の狭いエチレン系ワックスを得るとともに、このようなエチレン系ワックスを効率よく製造する方法を提供することを目的としている。   An object of the present invention is to provide an ethylene wax having a narrow molecular weight distribution and to provide a method for efficiently producing such an ethylene wax.

本発明に係るエチレン系ワックスの製造方法は、
(A)下記式で表される遷移金属化合物
1234 M …(I')
(式中、Mはジルコニウムであり、R1およびR2はアルキル置換シクロペンタジエニル基であり(但し、R 1 およびR 2 のシクロペンタジエニル骨格は、ジルコニウム原子以外では結合していない)、R3およびR4は互いに同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基、−SO3Rまたは水素原子である。)と、
(B)前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物と、
(C)有機アルミニウム化合物と
からなるオレフィン重合用触媒の存在下にエチレン、あるいはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとを、重合反応系に供給される水素量が、エチレンに対する水素のモル比として、0.01〜2の範囲で単独重合もしくは共重合させて、極限粘度[η]が0.01〜0.40dl/gであるエチレン(共)重合体を形成させることを特徴としている。
The method for producing an ethylene-based wax according to the present invention includes:
(A) Transition metal compound represented by the following formula: R 1 R 2 R 3 R 4 M (I ′)
(In the formula, M is zirconium , and R 1 and R 2 are alkyl-substituted cyclopentadienyl groups (provided that the cyclopentadienyl skeleton of R 1 and R 2 is not bonded except for the zirconium atom). , R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and may be an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a trialkylsilyl group, —SO 3 R or a hydrogen atom. And)
(B) a compound that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair;
(C) Ethylene or ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms in the presence of an olefin polymerization catalyst comprising an organoaluminum compound, the amount of hydrogen supplied to the polymerization reaction system is a molar ratio of hydrogen to ethylene The ethylene (co) polymer having an intrinsic viscosity [η] of 0.01 to 0.40 dl / g is formed by homopolymerization or copolymerization in the range of 0.01 to 2.

本発明では、前記重合または共重合における重合温度が100℃以上であることが好ましい。また、前記重合または共重合における平均滞留時間が1時間以下であることが好ましい。   In the present invention, the polymerization temperature in the polymerization or copolymerization is preferably 100 ° C. or higher. The average residence time in the polymerization or copolymerization is preferably 1 hour or less.

本発明では、特に前記重合または共重合における重合温度が100℃以上であり、かつ平均滞留時間が1時間以下であることが好ましい。   In the present invention, it is particularly preferable that the polymerization temperature in the polymerization or copolymerization is 100 ° C. or more and the average residence time is 1 hour or less.

本発明は、分子量分布が狭いエチレン系ワックスを高い生産効率で製造することができる。   The present invention can produce ethylene wax having a narrow molecular weight distribution with high production efficiency.

また、重合温度を100℃以上にすると、分子量分布が狭く、融点が低いエチレン系ワックスを高い生産効率で製造することができる。さらに、除熱装置を小型化することができ、設備費を削減できるとともに、滞留時間を短くすることができる。   When the polymerization temperature is 100 ° C. or higher, an ethylene wax having a narrow molecular weight distribution and a low melting point can be produced with high production efficiency. Furthermore, the heat removal apparatus can be reduced in size, the equipment cost can be reduced, and the residence time can be shortened.

以下、本発明に係るエチレン系ワックスの製造方法について具体的に説明する。
なお、本明細書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられることがある。
Hereinafter, the manufacturing method of the ethylene-type wax based on this invention is demonstrated concretely.
In the present specification, the term “polymerization” is sometimes used in the meaning including not only homopolymerization but also copolymerization, and the term “polymer” refers not only to homopolymer but also to copolymerization. Sometimes used in the meaning of including a coalescence.

本発明に係るエチレン系ワックスの製造方法は、(A)下記式(I)で表される遷移金属化合物と、(B)前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物と、(C)有機アルミニウム化合物とからなるオレフィン重合用触媒の存在下にエチレンを単独重合させるか、あるいはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとを共重合させて
エチレン(共)重合体を形成させている。
The method for producing an ethylene-based wax according to the present invention includes (A) a transition metal compound represented by the following formula (I), and (B) a compound that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair. (C) Ethylene is homopolymerized in the presence of an olefin polymerization catalyst comprising an organoaluminum compound, or ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms are copolymerized to form an ethylene (co) polymer. I am letting.

まず、本発明で用いられるオレフィン重合用触媒を形成する各成分について説明する。オレフィン重合用触媒を形成する(A)遷移金属化合物としては、下記式(I)で表される化合物を例示することができる。   First, each component which forms the olefin polymerization catalyst used in the present invention will be described. Examples of the transition metal compound (A) that forms the olefin polymerization catalyst include compounds represented by the following formula (I).

MLX …(I)
式中、Mは、周期表第4族の遷移金属であり、具体的には、ジルコニウムまたはチタンである。
ML X (I)
In the formula, M is a transition metal of Group 4 of the periodic table, specifically, zirconium or titanium.

Lは、遷移金属に配位する配位子(基)であり、少なくとも1個のLは、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外のLは、炭素数が1〜12の炭化水素基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基、−SO3R(ただし、Rはハロゲンなどの置換基を有していてもよ
い炭素数1〜8の炭化水素基である。)または水素原子である。
L is a ligand (group) coordinated to a transition metal, and at least one L is a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, other than a ligand having a cyclopentadienyl skeleton. L is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a trialkylsilyl group, or —SO 3 R (where R is a carbon which may have a substituent such as halogen). Or a hydrogen atom.

xは、遷移金属の原子価であり、Lの個数を示す。シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては、例えばシクロペンタジエニル基;メチルシクロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、ペンタメチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、メチルエチルシクロペンタジエニル基、プロピルシクロペンタジエニル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、ブチルシクロペンタジエニル基、メチルブチルシクロペンタジエニル基、ヘキシルシクロペンタジエニル基などのアルキル置換シクロペンタジエニル基;インデニル基;4,5,6,7-テトラヒドロインデニル基;フルオレニル基などを例示することができる。これらの基はハロゲン原子、トリアルキルシリル基などが置換していてもよい。   x is the valence of the transition metal and represents the number of L. Examples of the ligand having a cyclopentadienyl skeleton include cyclopentadienyl group; methylcyclopentadienyl group, dimethylcyclopentadienyl group, trimethylcyclopentadienyl group, tetramethylcyclopentadienyl group, penta Methylcyclopentadienyl group, ethylcyclopentadienyl group, methylethylcyclopentadienyl group, propylcyclopentadienyl group, methylpropylcyclopentadienyl group, butylcyclopentadienyl group, methylbutylcyclopentadienyl And an alkyl-substituted cyclopentadienyl group such as a hexylcyclopentadienyl group; an indenyl group; a 4,5,6,7-tetrahydroindenyl group; a fluorenyl group, and the like. These groups may be substituted with a halogen atom, a trialkylsilyl group or the like.

これらの遷移金属に配位する配位子の中では、アルキル置換シクロペンタジエニル基が特に好ましい。上記一般式(I)で表される化合物が、シクロペンタジエニル骨格を有する基を2個以上含む場合、そのうち2個のシクロペンタジエニル骨格を有する基は、エチレン、プロピレンなどのアルキレン基;ジフェニルメチレンなどの置換アルキレン基;イソプロピリデンなどのアルキリデン基;シリレン基;ジメチルシリレン基、ジフェニルシリレン基、メチルフェニルシリレン基などの置換シリレン基などを介して結合されていてもよい。また、2個以上のシクロペンタジエニル骨格を有する基は、同一であることが好ましい。   Among the ligands coordinated to these transition metals, an alkyl-substituted cyclopentadienyl group is particularly preferable. When the compound represented by the general formula (I) includes two or more groups having a cyclopentadienyl skeleton, the group having two cyclopentadienyl skeletons is an alkylene group such as ethylene or propylene; It may be bonded via a substituted alkylene group such as diphenylmethylene; an alkylidene group such as isopropylidene; a silylene group; a substituted silylene group such as a dimethylsilylene group, a diphenylsilylene group or a methylphenylsilylene group. Further, the groups having two or more cyclopentadienyl skeletons are preferably the same.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子以外の配位子としては、下記のようなものが挙げられる。炭素数が1〜12の炭化水素基として具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、トリル基などのアリール基;ベンジル基、ネオフィル基などのアラルキル基が例示される。   Examples of the ligand other than the ligand having a cyclopentadienyl skeleton include the following. Specific examples of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group and pentyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; phenyl And aryl groups such as a tolyl group and aralkyl groups such as a benzyl group and a neophyll group.

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが例示される。アリーロキシ基としては、フェノキシ基などが例示される。   Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group.

ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが例示される。−SO3Rで表さ
れる配位子としては、p-トルエンスルホナト基、メタンスルホナト基、トリフルオロメタンスルホナト基などが例示される。
Examples of halogen include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the ligand represented by —SO 3 R include a p-toluenesulfonate group, a methanesulfonate group, a trifluoromethanesulfonate group, and the like.

上記一般式(I)で表される化合物は、例えば遷移金属の原子価が4である場合、より
具体的には下記一般式(I')で表される。
For example, when the valence of the transition metal is 4, the compound represented by the general formula (I) is more specifically represented by the following general formula (I ′).

1 2 3 4 M … (I')
(式中、Mは、ジルコニウムまたはチタンであり、R1 は、シクロペンタジエニル骨格を有する基であり、R2 、R3 およびR4 は、互いに同一でも異なっていてもよく、シクロペンタジエニル骨格を有する基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基、−SO3
Rまたは水素原子である。)
本発明では上記一般式(I')においてR2 、R3 およびR4 のうち1個がシクロペンタジエニル骨格を有する基である遷移金属化合物、例えばR1 およびR2がシクロペンタジエ
ニル骨格を有する基である遷移金属化合物が好ましく用いられる。この場合、これらのシクロペンタジエニル骨格を有する基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルキリデン基、シリレン基、置換シリレン基などを介して結合されていてもよい。また、R3 およびR4 は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基、−SO3Rまたは水素原子である
R 1 R 2 R 3 R 4 M (I ')
(In the formula, M is zirconium or titanium, R 1 is a group having a cyclopentadienyl skeleton, and R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different from each other. Groups having an enyl skeleton, alkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, halogen atoms, trialkylsilyl groups, —SO 3
R or a hydrogen atom. )
In the present invention, a transition metal compound in which one of R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (I ′) is a group having a cyclopentadienyl skeleton, for example, R 1 and R 2 are cyclopentadienyl skeletons. A transition metal compound which is a group having the following is preferably used. In this case, these groups having a cyclopentadienyl skeleton may be bonded via an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkylidene group, a silylene group, a substituted silylene group, or the like. R 3 and R 4 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a trialkylsilyl group, —SO 3 R, or a hydrogen atom.

以下に、Mがジルコニウムである遷移金属化合物について具体的な化合物を例示する。ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(インデニル)ジルコニウムジブロミド、
ビス(インデニル)ジルコニウムビス(p-トルエンスルホナト)、
ビス(4,5,6,7-テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、
ジメチルシリレンビス(4,5,6,7-テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド、
ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル-フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
ジフェニルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
メチルフェニルシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジブロミド、
ビス(シクロペンタジエニル)メチルジルコニウムモノクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)エチルジルコニウムモノクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)シクロヘキシルジルコニウムモノクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)フェニルジルコニウムモノクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ベンジルジルコニウムモノクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、
ビス(シクロペンタジエニル)メチルジルコニウムモノハイドライド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジメチルジルコニウム、
ビス(シクロペンタジエニル)ジフェニルジルコニウム、
ビス(シクロペンタジエニル)ジベンジルジルコニウム、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムメトキシクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムエトキシクロリド、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(メタンスルホナト)、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(p-トルエンスルホナト)、
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、
ビス(メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムエトキシクロリド、
ビス(ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(トリフルオロメタンスルホナト)、
ビス(エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(メチルエチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(メチルプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(メチルブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(メチルブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムビス(メタンスルホナト)、
ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(ヘキシルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドなど。
Below, a specific compound is illustrated about the transition metal compound whose M is a zirconium. Bis (indenyl) zirconium dichloride,
Bis (indenyl) zirconium dibromide,
Bis (indenyl) zirconium bis (p-toluenesulfonate),
Bis (4,5,6,7-tetrahydroindenyl) zirconium dichloride,
Bis (fluorenyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylenebis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylenebis (methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylene bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylene bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylenebis (indenyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylene bis (indenyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate),
Dimethylsilylenebis (4,5,6,7-tetrahydroindenyl) zirconium dichloride,
Dimethylsilylene (cyclopentadienyl-fluorenyl) zirconium dichloride,
Diphenylsilylenebis (indenyl) zirconium dichloride,
Methylphenylsilylenebis (indenyl) zirconium dichloride,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium dibromide,
Bis (cyclopentadienyl) methylzirconium monochloride,
Bis (cyclopentadienyl) ethylzirconium monochloride,
Bis (cyclopentadienyl) cyclohexyl zirconium monochloride,
Bis (cyclopentadienyl) phenylzirconium monochloride,
Bis (cyclopentadienyl) benzylzirconium monochloride,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium monochloride monohydride,
Bis (cyclopentadienyl) methylzirconium monohydride,
Bis (cyclopentadienyl) dimethylzirconium,
Bis (cyclopentadienyl) diphenylzirconium,
Bis (cyclopentadienyl) dibenzylzirconium,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium methoxychloride,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium ethoxy chloride,
Bis (cyclopentadienyl) zirconium bis (methanesulfonate),
Bis (cyclopentadienyl) zirconium bis (p-toluenesulfonate),
Bis (cyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate),
Bis (methylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium ethoxy chloride,
Bis (dimethylcyclopentadienyl) zirconium bis (trifluoromethanesulfonate),
Bis (ethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (methylethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (propylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (methylpropylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (butylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (methylbutylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (methylbutylcyclopentadienyl) zirconium bis (methanesulfonate),
Bis (trimethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (pentamethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (hexylcyclopentadienyl) zirconium dichloride,
Bis (trimethylsilylcyclopentadienyl) zirconium dichloride and the like.

なお、上記例示において、シクロペンタジエニル環の二置換体は1,2-および1,3-置換体を含み、三置換体は1,2,3-および1,2,4-置換体を含む。またプロピル、ブチルなどのアルキル基は、n-、i-、sec-、tert-などの異性体を含む。   In the above examples, the disubstituted product of the cyclopentadienyl ring includes 1,2- and 1,3-substituted products, and the trisubstituted product includes 1,2,3- and 1,2,4-substituted products. Including. Alkyl groups such as propyl and butyl include isomers such as n-, i-, sec- and tert-.

また、上記のようなジルコニウム化合物において、ジルコニウムを、チタンに置換えた遷移金属化合物を用いることもできる。   Moreover, the transition metal compound which replaced the zirconium with titanium in the above zirconium compounds can also be used.

さらに、下記一般式(II)、(III)および(IV)で示される遷移金属化合物を例示す
ることができる。
Furthermore, transition metal compounds represented by the following general formulas (II), (III) and (IV) can be exemplified.

式中、Mは周期表第4族の遷移金属原子であり、具体的には、チタニウムまたはジルコニウムであり、好ましくはジルコニウムである。   In the formula, M is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, specifically titanium or zirconium, and preferably zirconium.

1 およびR2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基、ケイ素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基またはリン含有基であり、
具体的には、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、
炭素原子数が1〜20の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどのアルキル基;ビニル、プロペニル、シクロヘキセニルなどのアルケニル基;ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基;フェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、プロピルフェニル
、ビフェニル、α−またはβ−ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナントリル、ベンジルフェニル、ピレニル、アセナフチル、フェナレニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどのアリール基などが挙げられ、
炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基としては、前記炭素原子数が1〜20の炭化水素基にハロゲンが置換した基が挙げられ、
ケイ素含有基としては、メチルシリル、フェニルシリル、ジメチルシリル、ジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘキシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、トリナフチルシリルなどのケイ素含有基が挙げられ、
酸素含有基としては、ヒドロオキシ基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどのアルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチルフェノキシ、ナフトキシなどのアリロキシ基、フェニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコキシ基などが挙げられ、
イオウ含有基としては、前記含酸素化合物の酸素がイオウに置換した置換基、およびメチルスルホネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、p-トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、p-クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォネート基、メチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンゼンスルフィネート、p-トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基が挙げられ、
窒素含有基としては、アミノ基、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが挙げられ、
リン含有基としては、ジメチルフォスフィノ、ジフェニルフォスフィノなどが挙げられる。
R 1 and R 2, which may be the same or different from each other, are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or silicon-containing Group, oxygen-containing group, sulfur-containing group, nitrogen-containing group or phosphorus-containing group,
Specifically, examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine, iodine,
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, nonyl, dodecyl, eicosyl, norbornyl, adamantyl; vinyl, propenyl, cyclohexenyl, etc. Alkenyl groups; arylalkyl groups such as benzyl, phenylethyl, phenylpropyl; phenyl, tolyl, dimethylphenyl, trimethylphenyl, ethylphenyl, propylphenyl, biphenyl, α- or β-naphthyl, methylnaphthyl, anthracenyl, phenanthryl, benzylphenyl , Aryl groups such as pyrenyl, acenaphthyl, phenalenyl, aceanthrylenyl, tetrahydronaphthyl, indanyl, biphenylyl, etc.
Examples of the halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include groups in which halogen is substituted for the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms,
Silicon-containing groups include methylsilyl, phenylsilyl, dimethylsilyl, diphenylsilyl, trimethylsilyl, triethylsilyl, tripropylsilyl, tricyclohexylsilyl, triphenylsilyl, dimethylphenylsilyl, methyldiphenylsilyl, tolylsilyl, trinaphthylsilyl, etc. A silicon-containing group of
Examples of the oxygen-containing group include hydroxy groups, alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, and butoxy, aryloxy groups such as phenoxy, methylphenoxy, dimethylphenoxy, and naphthoxy, and arylalkoxy groups such as phenylmethoxy and phenylethoxy.
The sulfur-containing group includes a substituent in which oxygen of the oxygen-containing compound is substituted with sulfur, and methyl sulfonate, trifluoromethane sulfonate, phenyl sulfonate, benzyl sulfonate, p-toluene sulfonate, trimethylbenzene sulfonate. Phosphonate, triisobutylbenzene sulfonate, p-chlorobenzene sulfonate, pentafluorobenzene sulfonate and other sulfonate groups, methyl sulfinate, phenyl sulfinate, benzene sulfinate, p-toluene sulfinate , Sulfinate groups such as trimethylbenzene sulfinate and pentafluorobenzene sulfinate,
Nitrogen-containing groups include amino groups, alkylamino groups such as methylamino, dimethylamino, diethylamino, dipropylamino, dibutylamino, and dicyclohexylamino, and aryls such as phenylamino, diphenylamino, ditolylamino, dinaphthylamino, and methylphenylamino. An amino group or an alkylarylamino group,
Examples of the phosphorus-containing group include dimethylphosphino and diphenylphosphino.

これらのうちR1 は、炭化水素基であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピルの炭素原子数が1〜3の炭化水素基であることが好ましい。R2 は、水素原子、炭化水素基であることが好ましく、特に水素原子あるいは、メチル、エチル、プロピルの炭素原子数が1〜3の炭化水素基であることが好ましい。 Among these, R 1 is preferably a hydrocarbon group, and particularly preferably a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl and propyl. R 2 is preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group, and particularly preferably a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms such as methyl, ethyl, or propyl.

3 、R4 およびR5 は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜20のアルキル基であり、具体的にはメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ノニル、
ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマンチルなどが挙げられる。これらのアルキル基は、ハロゲン原子またはケイ素含有基で置換されていてもよい。
R 3 , R 4 and R 5 may be the same as or different from each other, and are alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, specifically methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n- Butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, nonyl,
Examples include dodecyl, eicosyl, norbornyl, adamantyl and the like. These alkyl groups may be substituted with a halogen atom or a silicon-containing group.

これらのうちR3 は、2級または3級アルキル基であることが好ましい。R15は、2重結合、3重結合を含んでいてもよい。X1 およびX2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基またはイオウ含有基であり、具体的には、前記と同様のハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基、酸素含有基およびイオウ含有基を例示することができる。 Of these, R 3 is preferably a secondary or tertiary alkyl group. R 15 may contain a double bond or a triple bond. X 1 and X 2 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, oxygen-containing Group or sulfur-containing group, specifically, the same halogen atom as described above, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an oxygen-containing group, and Sulfur-containing groups can be exemplified.

これらのうち、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基であることが好ましい。Yは、炭素原子数が1〜20の2価の炭化水素基、炭素原子数が1〜20の2価のハロゲン化炭化水素基、2価のケイ素含有基、2価のゲルマニウム含有基、2価のスズ含有基、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SO2 −、−NR7 −、−P(R7 )−、
−P(O)(R7 )−、−BR7 −または−AlR7 −〔ただし、R7 は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基〕を示し、具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、1,2-エチレン、ジメチル-1,2- エチレン、1,3-トリメチレン、1,4-テトラメチレン、1,2-シクロヘキシレン、1,4-シクロヘキシレンなどのアルキレン基、ジフェニルメチレン、ジフェニル-1,2- エチレンなどのアリールアルキレン基などの炭素原子数が1〜20の2価の炭化水素基;クロロメチレンなどの上記炭素原子数が1〜20の2価の炭化水素基をハロゲン化したハロゲン化炭化水素基;メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジエチルシリレン、ジ(n-プロピル)シリレン、ジ(i-プロピル)シリレン、ジ(シクロヘキシル)シリレン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ(p-トリル)シリレン、ジ(p-クロロフェニル)シリレンなどのアルキルシリレン、アルキルアリールシリレン、アリールシリレン基、テトラメチル-1,2-ジシリル、テトラフェニル-1,2- ジシリルなどのアルキルジシリル、アルキル
アリールジシリル、アリールジシリル基などの2価のケイ素含有基;上記2価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した2価のゲルマニウム含有基;上記2価のケイ素含有基のケイ素をスズに置換した2価のスズ含有基などが挙げられる。
Among these, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms are preferable. Y is a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent silicon-containing group, a divalent germanium-containing group, 2 valent tin-containing group, -O -, - CO -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 7 -, - P (R 7) -,
—P (O) (R 7 ) —, —BR 7 — or —AlR 7 — [wherein R 7 is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a carbon atom number of 1 to 1. 20 halogenated hydrocarbon groups], specifically, methylene, dimethylmethylene, 1,2-ethylene, dimethyl-1,2-ethylene, 1,3-trimethylene, 1,4-tetramethylene, 1, Divalent hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, such as alkylene groups such as 2-cyclohexylene and 1,4-cyclohexylene, and arylalkylene groups such as diphenylmethylene and diphenyl-1,2-ethylene; A halogenated hydrocarbon group obtained by halogenating a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, such as methylsilylene, dimethylsilylene, diethylsilylene, di (n-propyl) silylene, di (i-propyl) Silylene, Di ( Chlohexyl) silylene, methylphenylsilylene, diphenylsilylene, di (p-tolyl) silylene, di (p-chlorophenyl) silylene and other alkylsilylene, alkylarylsilylene, arylsilylene groups, tetramethyl-1,2-disilyl, tetraphenyl Divalent silicon-containing groups such as alkyldisilyl such as 1,2-disilyl, alkylaryldisilyl, and aryldisilyl groups; divalent germanium-containing groups obtained by replacing silicon in the above divalent silicon-containing groups with germanium A divalent tin-containing group in which the silicon of the divalent silicon-containing group is substituted with tin.

また、R7 は、前記と同様のハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、炭素原子数が1〜20のハロゲン化炭化水素基である。これらのうちYは、2価のケイ素含有基、2価のゲルマニウム含有基であることが好ましく、2価のケイ素含有基であることがより好ましく、アルキルシリレン、アルキルアリールシリレンまたはアリールシリレンであることがより好ましい。 R 7 is the same halogen atom as described above, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Among these, Y is preferably a divalent silicon-containing group, a divalent germanium-containing group, more preferably a divalent silicon-containing group, and is alkylsilylene, alkylarylsilylene, or arylsilylene. Is more preferable.

以下に上記一般式(II)で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-sec-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-ペンチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-n-ヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-シクロヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-メチルシクロヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-フェニルエチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-フェニルジクロルメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-クロロメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニル)
}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-トリメチルシロキシメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジエチルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(n-ブチル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(シクロヘキシル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-トリル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-クロロフェニル)シリレン-ビス{1-(2,7-ジメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-エチルインデニル)}ジル
コニウムジブロミド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-n-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-n-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-sec-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-n-ペンチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-n-ヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-シクロヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-メチルシクロヘキシルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシリルメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-トリメチルシロキシメチルインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-フェニルエチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-フェニルジクロルメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-クロルメチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジエチルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(n-ブチル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(シクロヘキシル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-t-ブチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-トリル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-クロロフェニル)シリレン-ビス{1-(2,3,7-トリメチル-4-i-プロピルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジル
コニウムジメチル、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジル
コニウムメチルクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジル
コニウム-ビス(メタンスルホナト)、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジル
コニウム-ビス(p-フェニルスルフィナト)、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-3- メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4,6-ジ-i-プロピルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-フェニル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-i-プロピル-7-メチルインデニル)}チタ
ニウムジクロリドなど。
Specific examples of the transition metal compound represented by the general formula (II) are shown below.
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-ethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-n-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-n-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-sec-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-n-pentylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-n-hexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-cyclohexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-methylcyclohexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-phenylethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-phenyldichloromethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-chloromethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-Dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-trimethylsilylmethylindenyl)
} Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-trimethylsiloxymethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diethylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (i-propyl) silylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (n-butyl) silylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (cyclohexyl) silylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-ethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-tolyl) silylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-chlorophenyl) silylene-bis {1- (2,7-dimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-ethylindenyl)} zirconium dibromide,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-ethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-n-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-n-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-sec-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-n-pentylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-n-hexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-cyclohexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-methylcyclohexylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-trimethylsilylmethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-trimethylsiloxymethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-phenylethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-phenyldichloromethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-chloromethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diethylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (i-propyl) silylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (n-butyl) silylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (cyclohexyl) silylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-t-butylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-ethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-tolyl) silylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-chlorophenyl) silylene-bis {1- (2,3,7-trimethyl-4-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium dimethyl,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium methyl chloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium-bis (methanesulfonate)
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium-bis (p-phenylsulfinato),
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-3-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4,6-di-i-propylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-phenyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-i-propyl-7-methylindenyl)} titanium dichloride and the like.

これらの中で、4位にi-プロピル,sec-ブチル,tert-ブチル基などの分岐アルキル基
を有するものが、特に好ましい。
Of these, those having a branched alkyl group such as i-propyl, sec-butyl and tert-butyl group at the 4-position are particularly preferred.

本発明では、通常前記一般式(II)で表される遷移金属化合物のラセミ体が触媒成分として用いられるが、R型またはS型を用いることもできる。   In the present invention, a racemate of the transition metal compound represented by the general formula (II) is usually used as a catalyst component, but R-type or S-type can also be used.

上記のような一般式(II)で表される遷移金属化合物は、インデン誘導体から既知の方法たとえば特開平4−268307号公報に記載されている方法により合成することができる。   The transition metal compound represented by the general formula (II) as described above can be synthesized from an indene derivative by a known method, for example, a method described in JP-A-4-268307.

次に、一般式(III)で表される遷移金属化合物について説明する。   Next, the transition metal compound represented by the general formula (III) will be described.

式中、Mは周期表第4族の遷移金属原子であり、具体的には、チタニウムまたはジルコニウムであり、好ましくはジルコニウムである。   In the formula, M is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, specifically titanium or zirconium, and preferably zirconium.

11は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜6の炭化水素基であり、具体的には、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、シクロヘキシルなど
のアルキル基、ビニル、プロペニルなどのアルケニル基などが挙げられる。
R 11 may be the same as or different from each other, and is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec- Examples thereof include alkyl groups such as butyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl and cyclohexyl, and alkenyl groups such as vinyl and propenyl.

これらのうちインデニル基に結合した炭素が1級のアルキル基が好ましく、さらに炭素原子数が1〜4のアルキル基が好ましく、特にメチル基およびエチル基が好ましい。   Of these, a primary alkyl group in which the carbon bonded to the indenyl group is preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferable.

12は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が6〜16のアリール基であり、炭素原子数が6〜16のアリール基としては、フェニル、α-ナフチ
ル、β-ナフチル、アントラセニル、フェナントリル、ピレニル、アセナフチル、フェナ
レニル、アセアントリレニル、テトラヒドロナフチル、インダニル、ビフェニリルなどが挙げられる。これらのうちフェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリルであることが好ましい。
R 12 may be the same as or different from each other, and is a hydrogen atom or an aryl group having 6 to 16 carbon atoms. Examples of the aryl group having 6 to 16 carbon atoms include phenyl, α-naphthyl, β- Examples include naphthyl, anthracenyl, phenanthryl, pyrenyl, acenaphthyl, phenalenyl, aceanthrylenyl, tetrahydronaphthyl, indanyl, biphenylyl and the like. Of these, phenyl, naphthyl, anthracenyl, and phenanthryl are preferable.

このアリール基は、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基、有機シリル基で置換されていてもよい。ハロゲン原子、炭素原子数が1〜20の炭化水素基としては、前記一般式(II)と同様の原子または基が挙げられ、有機シリル基としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる。   This aryl group may be substituted with a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or an organic silyl group. Examples of the halogen atom and the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms include the same atom or group as in the general formula (II), and examples of the organic silyl group include trimethylsilyl, triethylsilyl, triphenylsilyl and the like. It is done.

1 およびX2 は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記一般式(II)の定義と同様である。Yは、前記一般式(II)の定義と同様である。 X 1 and X 2 may be the same as or different from each other, and are the same as defined in the general formula (II). Y is the same as defined in the general formula (II).

以下に上記一般式(III)で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(1-アントラセニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(2-アントラセニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-フルオロフェニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(ペンタフルオロフェニル)インデニル)
}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(m-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o,p-ジクロロフェニル) フェニルインデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-ブロモフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-トリル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(m-トリル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o-トリル)インデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(o,o'-ジメチルフェニル)-1-インデニル) ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-エチルフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-i-プロピルフェニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-ベンジルフェニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-ビフェニル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(m-ビフェニル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(p-トリメチルシリレンフェニル)インデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-(m-トリメチルシリレンフェニル)インデ
ニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-フェニル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-ジエチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ-(i-プロピル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ-(n-ブチル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジシクロヘキシルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-トリル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジ(p-クロロフェニル)シリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-エチレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、rac-ジメチルゲルミレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルスタニレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジブロミド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジメチル、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムメチルクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムクロリドSO2Me、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムクロリドOSO2Me、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニ
ウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(o-メチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(m-メチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(p-メチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,3-ジメチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,4-ジメチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,5-ジメチルフェニル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,4,6-トリメチルフェニル)インデニル
)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(o-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(m-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(p-クロロフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,3-ジクロロフェニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2,6-ジクロロフェニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(3,5-ジクロロフェニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(2-ブロモフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(3-ブロモフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(4-ブロモフェニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(4-ビフェニリル)インデニル)}ジルコ
ニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(4-トリメチルシリルフェニル)インデニ
ル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-プロピル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(8-メチル-9-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-プロピル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}
ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-s-ブチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ペンチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ペンチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ブチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(β-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(2-メチル-1-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(5-アセナフチル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-i-ブチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-ネオペンチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-ネオペンチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ヘキシル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(2-n-ヘキシル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウ
ムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)
}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)
}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-アントラセニル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(9-フェナントリル)インデニル)}ジ
ルコニウムジクロリド、
rac-ジフェニルシリレン-ビス{1-(2-エチル-4-(4-ビフェリニル)インデニル)}ジル
コニウムジクロリド、
rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-(2-エチル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、
rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-(2-エチル-4-(α-ナフチル)インデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルゲルミル-ビス{1-(2-n-プロピル-4-フェニルインデニル)}ジルコニウム
ジクロリドなど。
Specific examples of the transition metal compound represented by the general formula (III) are shown below.
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (1-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (2-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-fluorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (pentafluorophenyl) indenyl)
} Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (m-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (o-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (o, p-dichlorophenyl) phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-bromophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-tolyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (m-tolyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (o-tolyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (o, o'-dimethylphenyl) -1-indenyl) zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-ethylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (pi-propylphenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-benzylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-biphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (m-biphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (p-trimethylsilylenephenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4- (m-trimethylsilylenephenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-phenyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di- (i-propyl) silylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di- (n-butyl) silylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dicyclohexylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-tolyl) silylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-di (p-chlorophenyl) silylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, rac-ethylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride, rac-dimethyl gel Mylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylstannylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dibromide,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium dimethyl,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium methyl chloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium chloride SO 2 Me,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-methyl-4-phenylindenyl)} zirconium chloride OSO 2 Me,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2-methyl-1-naphthyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (o-methylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (m-methylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (p-methylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,3-dimethylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,4-dimethylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,5-dimethylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,4,6-trimethylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (o-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (m-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (p-chlorophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,3-dichlorophenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2,6-dichlorophenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (3,5-dichlorophenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (2-bromophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (3-bromophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (4-bromophenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (4-biphenylyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (4-trimethylsilylphenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (2-methyl-1-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-propyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (8-methyl-9-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-propyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)}
Zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (2-methyl-1-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-s-butyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-pentyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-pentyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (2-methyl-1-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-butyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (β-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (2-methyl-1-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (5-acenaphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-i-butyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-neopentyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-neopentyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-hexyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (2-n-hexyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-Methylphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)
} Zirconium dichloride,
rac-Methylphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)
} Zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-anthracenyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (9-phenanthryl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-diphenylsilylene-bis {1- (2-ethyl-4- (4-biferinyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylgermyl-bis {1- (2-ethyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylgermyl-bis {1- (2-ethyl-4- (α-naphthyl) indenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylgermyl-bis {1- (2-n-propyl-4-phenylindenyl)} zirconium dichloride and the like.

また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムに代えた化合物を挙げることもできる。   Moreover, the compound which replaced the zirconium in the above compounds with titanium can also be mentioned.

本発明では、通常前記一般式(III)で表される遷移金属化合物のラセミ体がオレフィ
ン重合用触媒成分として用いられるが、R型またはS型を用いることもできる。
In the present invention, a racemate of the transition metal compound represented by the general formula (III) is usually used as an olefin polymerization catalyst component, but R-type or S-type can also be used.

このような前記一般式(III)で表される遷移金属化合物は、Journalof Organometallic Chem.288(1985)、第63〜67頁、ヨーロッパ特許出願公開第0,320,762 号明細書および実施例に準じて製造することができる。   Such a transition metal compound represented by the general formula (III) is produced according to Journal of Organometallic Chem. 288 (1985), pp. 63-67, European Patent Application Publication No. 0,320,762 and Examples. be able to.

次に、一般式(IV)で表される遷移金属化合物について説明する。一般式(IV)で表される遷移金属化合物は、EP−549900号およびカナダ−2084017号に記載された化合物である。   Next, the transition metal compound represented by the general formula (IV) will be described. The transition metal compound represented by the general formula (IV) is a compound described in EP-549900 and Canada-2084017.

式中、Mは周期表第4族の遷移金属原子であり、具体的には、チタニウムまたはジルコニウムであり、好ましくはジルコニウムである。   In the formula, M is a transition metal atom of Group 4 of the periodic table, specifically titanium or zirconium, and preferably zirconium.

21は、互いに同一でも異なっていてもよく、
水素原子、
ハロゲン原子、好ましくは、塩素原子または臭素原子、
炭素原子数が1〜10、好ましくは1〜4のアルキル基、
炭素原子数が1〜10のハロゲン化アルキル基、
炭素原子数が6〜10、好ましくは6〜8のアリール基、
−NR2、−SR、−OSiR3、−SiR3または−PR2基〔ただし、Rは、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子、炭素原子数が1〜10、好ましくは1〜3のアルキル基、または炭素原子数が6〜10、好ましくは6〜8のアリール基〕である。
R 21 may be the same or different from each other;
Hydrogen atom,
A halogen atom, preferably a chlorine or bromine atom,
An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms,
A halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
An aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 8 carbon atoms,
-NR 2, -SR, -OSiR 3, -SiR 3 or -PR 2 groups [wherein, R represents a halogen atom, preferably a chlorine atom, from 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkyl groups, Or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, preferably 6 to 8 carbon atoms].

22〜R28は、互いに同一でも異なっていてもよく、前記R21と同様の原子または基であり、これらのR22〜R28で示される基のうち隣接する少なくとも2個の基は、それらの結合する原子とともに、芳香族環または脂肪族環を形成していてもよい。 R 22 to R 28 may be the same as or different from each other, and are the same atom or group as R 21 described above. Among the groups represented by R 22 to R 28 , at least two adjacent groups are An aromatic ring or an aliphatic ring may be formed together with the atoms to which they are bonded.

=BR29、=AlR29、−Ge−、−Sn−、−O−、−S−、=SO、=SO2、=
NR29、=CO、=PR29または=P(O)R29である。ただし、R29およびR30は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が1〜10、好ましくは1〜4のアルキル基、特にメチル基、炭素原子数が1〜10のフルオロアルキル
基、好ましくはCF3基、炭素原子数が6〜10、好ましくは6〜8のアリール基、炭素
原子数が6〜10のフルオロアリール基、好ましくはペンタフルオロフェニル基、炭素原子数が1〜10、好ましくは1〜4のアルコキシ基、特にメトキシ基、炭素原子数が2〜10、好ましくは2〜4のアルケニル基、炭素原子数が7〜40、好ましくは7〜10のアリールアルキル基、炭素原子数が8〜40、好ましくは8〜12のアリールアルケニル基炭素原子数が7〜40、7〜12のアルキルアリール基である。
= BR 29 , = AlR 29 , -Ge-, -Sn-, -O-, -S-, = SO, = SO 2 , =
NR 29 , = CO, = PR 29 or = P (O) R 29 . However, R 29 and R 30 may be the same or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, particularly a methyl group, and 1 carbon atom. -10 fluoroalkyl group, preferably CF 3 group, aryl group having 6-10 carbon atoms, preferably 6-8 carbon atoms, fluoroaryl group having 6-10 carbon atoms, preferably pentafluorophenyl group, carbon An alkoxy group having 1 to 10, preferably 1 to 4 atoms, particularly a methoxy group, 2 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 4 alkenyl groups, 7 to 40 carbon atoms, preferably 7 to 10 carbon atoms. An arylalkyl group having 8 to 40 carbon atoms, preferably 8 to 12 arylalkenyl groups having 7 to 40 or 7 to 12 carbon atoms.

またR29とR30とは、それぞれそれらの結合する原子とともに環を形成してもよい。M2 は、ケイ素、ゲルマニウムまたはスズであり、好ましくはケイ素またはゲルマニウムである。 R 29 and R 30 may each form a ring together with the atoms to which they are bonded. M 2 is silicon, germanium or tin, preferably silicon or germanium.

ここで、上述のアルキル基は直鎖状のまたは枝分かれしたアルキル基であり、そしてハロゲン(ハロゲン化)はフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、特にフッ素原子または塩素原子である。   Here, the above-mentioned alkyl group is a linear or branched alkyl group, and the halogen (halogenated) is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, particularly a fluorine atom or a chlorine atom.

前記一般式(IV)で表される化合物のなかでは、Mは、ジルコニウムであり、
21は、互いに同じであり、炭素原子数が1〜4のアルキル基であり、
22〜R28は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数が1〜4のアルキル基であり、
3 およびX4 は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜3のアルキル基またはハロゲン原子であり、
Zは、
Among the compounds represented by the general formula (IV), M is zirconium,
R 21 is the same as each other, and is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 22 to R 28 may be the same as or different from each other, and are a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
X 3 and X 4 may be the same or different from each other, and are an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom,
Z is

(式中、M2 はケイ素であり、R29およびR30は、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜4のアルキル基または炭素原子数が6〜10のアリール基である)
である化合物が好ましく、置換基R22およびR28は、水素原子であり、R23〜R27は、炭素原子数が1〜4のアルキル基または水素原子である化合物がより好ましい。
(In the formula, M 2 is silicon, and R 29 and R 30 may be the same or different from each other, and are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. )
The substituents R 22 and R 28 are hydrogen atoms, and R 23 to R 27 are more preferably compounds having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom.

さらに、前記一般式(IV)で表される化合物のなかでは、
Mは、ジルコニウムであり、
21は、互いに同一で炭素原子数が1〜4のアルキル基であり、
22およびR28は、水素原子であり、
23〜R27は、同一でも異なっていてもよく、炭素原子数が1〜4のアルキル基または水素原子であり、
3 およびX4 は、いずれも塩素原子であり、
Zは、
Further, among the compounds represented by the general formula (IV),
M is zirconium,
R 21 is the same alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
R 22 and R 28 are hydrogen atoms;
R 23 to R 27 may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom,
X 3 and X 4 are both chlorine atoms,
Z is

(式中、M2は、ケイ素であり、R29およびR30は、互いに同一でも異なっていてもよく
、炭素原子数が1〜4のアルキル基または炭素原子数が6〜10のアリール基である)
である化合物が好ましい。
(In the formula, M 2 is silicon, and R 29 and R 30 may be the same or different from each other, and are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. is there)
Is preferred.

特に、前記一般式(IV)で表される化合物のなかでは、
Mは、ジルコニウムであり、
21は、メチル基であり、
22〜R28は、水素原子であり、
3 およびX4 は、塩素原子であり、
Zは、
In particular, among the compounds represented by the general formula (IV),
M is zirconium,
R 21 is a methyl group;
R 22 to R 28 are hydrogen atoms;
X 3 and X 4 are chlorine atoms,
Z is

(式中、M2 は、ケイ素であり、R29およびR30は、互いに同一でも異なっていてもよく、メチル基またはフェニル基ある)である化合物が好ましい。 A compound in which M 2 is silicon and R 29 and R 30 may be the same as or different from each other and is a methyl group or a phenyl group is preferable.

以下に上記一般式(IV)で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
rac-ジメチルシリレンビス{1-(4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレンビス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニウムジク
ロリド、
rac-ジメチルリレンビス{1-(2-メチル-4,5-アセナフトインデニル)}ジルコニウムジ
クロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニル-ビス{1-(2-メチル-4,5-アセトナフチインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-メチルフェニルシリレン-ビス{1-(2-メチル-4,5-アセナフトインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレン-ビス{1-(4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニウムジクロリド、
rac-ジメチルシリレンビス{1-(2,6-ジメチル-4,5-ベンゾインデニル)}ジルコニウム
ジクロリド、
rac-ジメチルリレンビス{1-(2,3,6-トリメチル-4,5-アセナフトインデニル)}ジルコ
ニウムジクロリドなど。
Specific examples of the transition metal compound represented by the general formula (IV) are shown below.
rac-dimethylsilylenebis {1- (4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylenebis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylrylenebis {1- (2-methyl-4,5-acenaphthoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2-methyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenyl-bis {1- (2-methyl-4,5-acetonaphthyindenyl)} zirconium dichloride,
rac-methylphenylsilylene-bis {1- (2-methyl-4,5-acenaphthoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylene-bis {1- (4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylsilylenebis {1- (2,6-dimethyl-4,5-benzoindenyl)} zirconium dichloride,
rac-dimethylrylenebis {1- (2,3,6-trimethyl-4,5-acenaphthoindenyl)} zirconium dichloride and the like.

また上記のような化合物中のジルコニウムをチタニウムに代えた化合物を挙げることもできる。本発明では、上記したような遷移金属化合物は、2種以上組み合わせて用いることもできる。   Moreover, the compound which replaced the zirconium in the above compounds with titanium can also be mentioned. In the present invention, the above transition metal compounds may be used in combination of two or more.

オレフィン重合用触媒を形成する(B)前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物としては、特表平1−501950号公報、特表平1−502036号公報、特開平3−179005号公報、特開平3−179006号公報、特開平3−207703号公報、特開平3−207704号公報、US−547718号公報などに記載されたルイス酸、イオン性化合物およびボラン化合物、カルボラン化合物を挙げることができる。   (B) Forming an olefin polymerization catalyst (B) As a compound that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair, JP-A-1-501950, JP-A-1-502036, Lewis acids, ionic compounds and borane compounds described in JP-A-3-179005, JP-A-3-179006, JP-A-3-207703, JP-A-3-207704, US-547718, Mention may be made of carborane compounds.

ルイス酸としてはMg含有ルイス酸、Al含有ルイス酸、B含有ルイス酸などが挙げられ、こられのうちB含有ルイス酸が好ましい。ホウ素原子を含有するルイス酸として具体的には、下記一般式で表される化合物が例示できる。   Examples of the Lewis acid include Mg-containing Lewis acid, Al-containing Lewis acid, and B-containing Lewis acid. Among these, B-containing Lewis acid is preferable. Specific examples of the Lewis acid containing a boron atom include compounds represented by the following general formula.

BRp q r
(式中、Rp 、Rq およびRr は、互いに同一でも異なっていてもよく、フッ素原子、メチル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有していてもよいフェニル基、またはフッ素原子を示す。)
上記一般式で表される化合物として具体的には、トリフルオロボロン、トリフェニルボロン、トリス(4-フルオロフェニル)ボロン、トリス(3,5-ジフルオロフェニル)ボロン、トリス(4-フルオロメチルフェニル)ボロン、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボロン、トリス(p-トリル)ボロン、トリス(o-トリル)ボロン、トリス(3,5-ジメチルフェニル)ボロンなどが挙げられる。これらのうちではトリス(ペンタフルオロフェニル)ボロンが特に好ましい。
BR p R q R r
(In the formula, R p , R q and R r may be the same or different from each other and may have a substituent such as a fluorine atom, a methyl group, a trifluoromethyl group, or a fluorine atom. Is shown.)
Specific examples of the compound represented by the above general formula include trifluoroboron, triphenylboron, tris (4-fluorophenyl) boron, tris (3,5-difluorophenyl) boron, and tris (4-fluoromethylphenyl). Examples include boron, tris (pentafluorophenyl) boron, tris (p-tolyl) boron, tris (o-tolyl) boron, and tris (3,5-dimethylphenyl) boron. Of these, tris (pentafluorophenyl) boron is particularly preferred.

本発明で用いられるイオン性化合物は、カチオン性化合物とアニオン性化合物とからなる塩である。アニオンは前記遷移金属化合物(A)と反応することにより遷移金属化合物(A)をカチオン化し、イオン対を形成することにより遷移金属カチオン種を安定化させる働きがある。そのようなアニオンとしては、有機ホウ素化合物アニオン、有機ヒ素化合物アニオン、有機アルミニウム化合物アニオンなどがあり、比較的嵩高で遷移金属カチオン種を安定化させるものが好ましい。
カチオンとしては、金属カチオン、有機金属カチオン、カルボニウムカチオン、トリピウムカチオン、オキソニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アンモニウムカチオンなどが挙げられる。さらに詳しくはトリフェニルカルベニウムカチオン、トリブチルアンモニウムカチオン、N,N-ジメチルアンモニウムカチオン、フェロセニウムカチオンなどである。
The ionic compound used in the present invention is a salt composed of a cationic compound and an anionic compound. The anion functions to cationize the transition metal compound (A) by reacting with the transition metal compound (A) and stabilize the transition metal cation species by forming an ion pair. Examples of such anions include organoboron compound anions, organoarsenic compound anions, organoaluminum compound anions, and the like, which are relatively bulky and stabilize the transition metal cation species.
Examples of the cation include a metal cation, an organometallic cation, a carbonium cation, a tripium cation, an oxonium cation, a sulfonium cation, a phosphonium cation, and an ammonium cation. More specifically, there are triphenylcarbenium cation, tributylammonium cation, N, N-dimethylammonium cation, ferrocenium cation and the like.

これらのうち、アニオンとしてホウ素化合物を含有するイオン性化合物が好ましく、具体的には、トリアルキル置換アンモニウム塩としては、例えばトリエチルアンモニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ(p-トリル)ホウ素、トリメチルアンモニウムテトラ(o-トリル)ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、トリプロピルアンモニウムテトラ(o,p-ジメチルフェニル)ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラ(m,m-ジメチルフェニル)ホウ素、トリブチルアンモニウムテトラ(p-トリフルオロメチルフェニル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(o-トリル)ホウ素、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラ(4-フルオロフェニル)ホウ素などが挙げられ、N,N-ジアルキルアニリニウム塩としては、例えばN,N-ジメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ホウ素、N,N-ジエチルアニリニウムテトラ(フェニル)ホウ素、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテトラ(フェニル)ホウ素などが挙げられ、ジアルキルアンモニウム塩としては、例えばジ(n-プロピル)アンモニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ(フェニル)ホウ素などが挙げられ、トリアリールホスフォニウム塩、例えばトリフェニルホスフォニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリ(メチルフェニル)ホスフォニウムテトラ(フェニル)ホウ素、トリ(ジメチルフェニル)ホスフォニウムテトラ(フェニル)ホウ素などが挙げられる。   Among these, an ionic compound containing a boron compound as an anion is preferable, and specific examples of the trialkyl-substituted ammonium salt include triethylammonium tetra (phenyl) boron, tripropylammonium tetra (phenyl) boron, tri ( n-butyl) ammonium tetra (phenyl) boron, trimethylammonium tetra (p-tolyl) boron, trimethylammonium tetra (o-tolyl) boron, tributylammonium tetra (pentafluorophenyl) boron, tripropylammonium tetra (o, p- Dimethylphenyl) boron, tributylammonium tetra (m, m-dimethylphenyl) boron, tributylammonium tetra (p-trifluoromethylphenyl) boron, tri (n-butyl) ammonium tetra (o- Yl) boron, tri (n-butyl) ammonium tetra (4-fluorophenyl) boron and the like. Examples of N, N-dialkylanilinium salts include N, N-dimethylanilinium tetra (phenyl) boron, N , N-diethylanilinium tetra (phenyl) boron, N, N-2,4,6-pentamethylanilinium tetra (phenyl) boron and the like. Examples of the dialkylammonium salt include di (n-propyl) ammonium. Tetra (pentafluorophenyl) boron, dicyclohexylammonium tetra (phenyl) boron and the like, and triarylphosphonium salts such as triphenylphosphonium tetra (phenyl) boron, tri (methylphenyl) phosphonium tetra (phenyl) ) Boron, tri (dimethylphenyl) phosphonium Such as tiger (phenyl) boron and the like.

本発明ではホウ素原子を含有するイオン性化合物として、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェロセニウムテトラ(ペンタフルオロフェニル)
ボレートも挙げることができる。
In the present invention, as an ionic compound containing a boron atom, triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, ferrocenium tetra (pentafluorophenyl)
Borate can also be mentioned.

また以下のような化合物も例示できる。(なお、以下に列挙するイオン性化合物において対向イオンはトリ(n-ブチル)アンモニウムであるがこれに限定されない。)
アニオンの塩、例えばビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ノナボレート、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]デカボレート、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ウンデカボレート、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ドデカボレート、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]デカクロロデカボレート、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ドデカクロロドデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウム-1-カルバデカボレート
、トリ(n-ブチル)アンモニウム-1-カルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモ
ニウム-1-カルバドデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウム-1-トリメチルシリル-1-カルバデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムブロモ-1-カルバドデカボレートなど;さらにボラン化合物、カルボラン化合物などを挙げることができる。これらの化合物はルイス酸、イオン性化合物として用いられる。
Moreover, the following compounds can also be illustrated. (In the ionic compounds listed below, the counter ion is tri (n-butyl) ammonium, but is not limited thereto.)
Anionic salts such as bis [tri (n-butyl) ammonium] nonaborate, bis [tri (n-butyl) ammonium] decaborate, bis [tri (n-butyl) ammonium] undecaborate, bis [tri (n-butyl) ) Ammonium] dodecaborate, bis [tri (n-butyl) ammonium] decachlorodecaborate, bis [tri (n-butyl) ammonium] dodecachlorododecaborate, tri (n-butyl) ammonium-1-carbadecaborate, Tri (n-butyl) ammonium-1-carbaundecaborate, tri (n-butyl) ammonium-1-carbadodecaborate, tri (n-butyl) ammonium-1-trimethylsilyl-1-carbadecaborate, tri (n -Butyl) ammonium bromo-1-carbadodecaborate, etc .; Can be mentioned. These compounds are used as Lewis acids and ionic compounds.

ボランおよびカルボラン錯化合物およびカルボランアニオンの塩、例えばデカボラン(14)、7,8-ジカルバウンデカボラン(13)、2,7-ジカルバウンデカボラン(13)、ウンデカハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボラン、ドデカハイドライド-11-メチル-2,7-ジカルバウンデカボラン、トリ(n-ブチル)アンモニウム6-カルバデカボレー
ト(14)、トリ(n-ブチル)アンモニウム6-カルバデカボレート(12)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7-カルバウンデカボレート(13)、トリ(n-ブチル)アンモニウム7,8-ジカルバウンデカボレート(12)、トリ(n-ブチル)アンモニウム2,9-ジカルバウンデカボレート(12)、トリ(n-ブチル)アンモニウムドデカハイドライド-8-メチル7,9-ジカル
バウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド8-エチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド-8-ブチル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドラ
イド-8-アリル-7,9-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド-9-トリメチルシリル-7,8-ジカルバウンデカボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムウンデカハイドライド-4,6-ジブロモ-7-カルバウンデカボレートなど;
カルボランおよびカルボランの塩、例えば4-カルバノナボラン(14)、1,3-ジカルバノナボラン(13)、6,9-ジカルバデカボラン(14)、ドデカハイドライド-1-フェニル-1,3-ジカルバノナボラン、ドデカハイドライド-1-メチル-1,3-ジカルバノナボラン、ウンデカハイドライド-1,3-ジメチル-1,3-ジカルバノナボランなど、
さらに以下のような化合物も例示できる。(なお、以下に列挙するイオン性化合物において対向イオンはトリ(n-ブチル)アンモニウムであるがこれに限定されない。)
金属カルボランの塩および金属ボランアニオン、例えばトリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド-1,3-ジカルバノナボレート)コバルテート(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)フェ
レート(鉄酸塩)(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)コバルテート(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウム
ビス(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)ニッケレート(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)キュブレート(銅酸塩)(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ウンデカハ
イドライド-7,8-ジカルバウンデカボレート)アウレート(金属塩)(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボレート)フェレート(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ノナハイドライド-7,8-ジメチル-7,8-ジカルバウンデカボレート)クロメート(クロム酸塩)(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(トリブロモオクタハイドライド-7,8-ジカルバウンデカボレー
ト)コバルテート(III)、トリ(n-ブチル)アンモニウムビス(ドデカハイドライドジ
カルバドデカボレート)コバルテート(III)、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]
ビス(ドデカハイドライドドデカボレート)ニッケレート(III)、トリス[トリ(n-ブ
チル)アンモニウム]ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)クロメ
ート(III)、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)マンガネート(IV)、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート)コバルテート(III)、ビス[トリ(n-ブチル)アンモニウム]ビス(ウンデカハイドライド-7-カルバウンデカボレート
)ニッケレート(IV)などが挙げられる。
Borane and carborane complex compounds and salts of carborane anions such as decaborane (14), 7,8-dicarbaundecaborane (13), 2,7-dicarboundecarborane (13), undecahydride-7,8-dimethyl -7,8-dicarbaound decaborane, dodecahydride-11-methyl-2,7-dicarbound decaborane, tri (n-butyl) ammonium 6-carbadecaborate (14), tri (n-butyl) ammonium 6 -Carbadecaborate (12), Tri (n-butyl) ammonium 7-Carbaundecaborate (13), Tri (n-butyl) ammonium 7,8-Dicarboundeborate (12), Tri (n-butyl) Ammonium 2,9-dicarbaundecaborate (12), tri (n-butyl) ammonium dodecahydride-8-methyl 7,9-dicarbaundecaborate, tri (n-butyl) ammonium undeca Iidolide 8-ethyl-7,9-dicarboundecaborate, tri (n-butyl) ammonium undecahydride-8-butyl-7,9-dicarboundecaborate, tri (n-butyl) ammonium undecahydride-8 -Allyl-7,9-dicarbaundecaborate, tri (n-butyl) ammonium undecahydride-9-trimethylsilyl-7,8-dicarbaundecaborate, tri (n-butyl) ammonium undecahydride-4,6 -Dibromo-7-carbaoundecaborate etc .;
Carboranes and salts of carboranes, such as 4-carbanonaborane (14), 1,3-dicarbanonaborane (13), 6,9-dicarbadecarborane (14), dodecahydride-1-phenyl-1,3-di Carbanonaborane, dodecahydride-1-methyl-1,3-dicarbanonaborane, undecahydride-1,3-dimethyl-1,3-dicarbanonaborane, etc.
Furthermore, the following compounds can also be illustrated. (In the ionic compounds listed below, the counter ion is tri (n-butyl) ammonium, but is not limited thereto.)
Metal carborane salts and metal borane anions such as tri (n-butyl) ammonium bis (nonahydride-1,3-dicarbanonaborate) cobaltate (III), tri (n-butyl) ammonium bis (undecahydride-7 , 8-Dicarbaundecaborate) ferrate (ferrate) (III), tri (n-butyl) ammonium bis (undecahydride-7,8-dicarbundecaborate) cobaltate (III), tri (n-butyl) ) Ammonium bis (undecahydride-7,8-dicarbaundecaborate) nickelate (III), tri (n-butyl) ammonium bis (undecahydride-7,8-dicarbaundecaborate) cuvate (cuprate) ) (III), tri (n-butyl) ammonium bis (undecahydride-7,8-dicarbaoundecaborate) Metal salt) (III), tri (n-butyl) ammonium bis (nonahydride-7,8-dimethyl-7,8-dicarboundeborate) ferrate (III), tri (n-butyl) ammonium bis (nonahydride) -7,8-Dimethyl-7,8-dicarboundecaborate) chromate (chromate) (III), tri (n-butyl) ammonium bis (tribromooctahydride-7,8-dicarboundecaborate) cobaltate (III), tri (n-butyl) ammonium bis (dodecahydride dicarbadodecaborate) cobaltate (III), bis [tri (n-butyl) ammonium]
Bis (dodecahydridododecaborate) nickelate (III), tris [tri (n-butyl) ammonium] bis (undecahydride-7-carbaundecaborate) chromate (III), bis [tri (n-butyl) ammonium ] Bis (undecahydride-7-carbaundecaborate) manganate (IV), bis [tri (n-butyl) ammonium] bis (undecahydride-7-carbaundecaborate) cobaltate (III), bis [ And tri (n-butyl) ammonium] bis (undecahydride-7-carbaundecaborate) nickelate (IV).

上記のような前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物(B)は、2種以上混合して用いることができる。オレフィン重合用触媒を形成する(C)有機アルミニウム化合物としては、たとえば下記一般式(i)で示すことができる。   The compound (B) that forms an ion pair by reacting with the transition metal compound (A) as described above can be used in combination of two or more. The (C) organoaluminum compound forming the olefin polymerization catalyst can be represented, for example, by the following general formula (i).

a nAlX3-n … (i)
(式中、Ra は炭素原子数が1〜12の炭化水素基であり、Xはハロゲン原子または水素原子であり、nは1〜3である。)
上記式(i)において、Ra は炭素原子数が1〜12の炭化水素基、たとえばアルキル基、シクロアルキル基またはアリ−ル基であるが、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などである。
R a n AlX 3-n ... (i)
(In the formula, Ra is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, X is a halogen atom or a hydrogen atom, and n is 1 to 3).
In the above formula (i), R a is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, such as an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. Specifically, a methyl group, an ethyl group, n -Propyl group, isopropyl group, isobutyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, phenyl group, tolyl group and the like.

このような有機アルミニウム化合物の具体例としては、以下のような化合物が挙げられる。
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ2-エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニム、
イソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム、
ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド、
メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド、
ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライド。
Specific examples of such an organoaluminum compound include the following compounds.
Trialkylaluminiums such as trimethylaluminum, triethylaluminum, triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, trioctylaluminum, tri-2-ethylhexylaluminum,
Alkenyl aluminum such as isoprenyl aluminum,
Dialkylaluminum halides such as dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, diisopropylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, dimethylaluminum bromide,
Alkylaluminum sesquichlorides such as methylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, isopropylaluminum sesquichloride, butylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquibromide,
Alkylaluminum dihalides such as methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, isopropylaluminum dichloride, ethylaluminum dibromide,
Alkyl aluminum hydrides such as diethyl aluminum hydride and diisobutyl aluminum hydride.

また有機アルミニウム化合物(C)として、下記の式(ii)で表わされる化合物を用いることもできる。   Further, as the organoaluminum compound (C), a compound represented by the following formula (ii) can also be used.

a nAlY3-n … (ii)
(式中、Ra は上記と同様であり、Yは−ORb 基、−OSiRc 3 基、−OAlRd 2 基、−NRe 2 基、−SiRf 3 基または−N(Rg )AlRh 2 基であり、nは1〜2であ
り、Rb 、Rc 、Rd およびRh はメチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基などであり、Re は水素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチルシリル基などであり、Rf およびRg はメチル基、エチル基などである。)
このような有機アルミニウム化合物としては、具体的には、以下のような化合物が挙げられる。
(1)Ra nAl(ORb3-n で表わされる化合物、たとえば
ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシドなど。
(2)Ra nAl(OSiRc 33-n で表わされる化合物、たとえば
(C252Al(OSi(CH33 )、
(iso-C492Al(OSi(CH33 )、
(iso-C492Al(OSi(C253 )など。
(3)Ra nAl(OAlRd 23-n で表わされる化合物、たとえば
(C252Al(OAl(C252)、
(iso-C492Al(OAl(iso-C492)など。
(4)Ra nAl(NRe 23-n で表わされる化合物、たとえば
(CH32Al(N(C252)、
(C252Al(NH(CH3))、
(CH32Al(NH(C25))、
(C252Al[N(Si(CH332]、
(iso-C492Al[N(Si(CH332]など。
(5)Ra nAl(SiRf 33-n で表わされる化合物、たとえば
(iso-C492Al(Si(CH33)など。
R a n AlY 3-n ... (ii)
(Wherein, R a is the same as above, Y is —OR b group, —OSiR c 3 group, —OAlR d 2 group, —NR e 2 group, —SiR f 3 group or —N (R g )) An AlR h 2 group, n is 1 to 2, R b , R c , R d and R h are a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, and the like ; Is hydrogen, methyl group, ethyl group, isopropyl group, phenyl group, trimethylsilyl group, etc., and R f and R g are methyl group, ethyl group, etc.)
Specific examples of such an organoaluminum compound include the following compounds.
(1) R a n Al ( OR b) compounds represented by 3-n, e.g., dimethylaluminum methoxide, diethylaluminum ethoxide and diisobutylaluminum methoxide.
(2) R a n Al ( OSiR c 3) a compound represented by 3-n, e.g., (C 2 H 5) 2 Al (OSi (CH 3) 3),
(Iso-C 4 H 9 ) 2 Al (OSi (CH 3 ) 3 ),
Such as (iso-C 4 H 9) 2 Al (OSi (C 2 H 5) 3).
(3) R a n Al ( OAlR d 2) a compound represented by 3-n, e.g., (C 2 H 5) 2 Al (OAl (C 2 H 5) 2),
Such as (iso-C 4 H 9) 2 Al (OAl (iso-C 4 H 9) 2).
(4) R a n Al ( NR e 2) a compound represented by 3-n, e.g., (CH 3) 2 Al (N (C 2 H 5) 2),
(C 2 H 5 ) 2 Al (NH (CH 3 )),
(CH 3 ) 2 Al (NH (C 2 H 5 )),
(C 2 H 5 ) 2 Al [N (Si (CH 3 ) 3 ) 2 ],
(Iso-C 4 H 9 ) 2 Al [N (Si (CH 3 ) 3 ) 2 ] and the like.
(5) R a n Al ( SiR f 3) a compound represented by 3-n, e.g., (iso-C 4 H 9) 2 Al (Si (CH 3) 3) and the like.

本発明では、これらのうちでもRa 3Al、Ra nAl(ORb3-n 、Ra nAl(OAl
d 23-n で表わされる有機アルミニウム化合物を好適な例として挙げることができる。これらの有機アルミニウム化合物は、2種以上組合わせて用いることもできる。
In the present invention, R a 3 Al Among them, R a n Al (OR b ) 3-n, R a n Al (OAl
A preferred example is an organoaluminum compound represented by R d 2 ) 3-n . These organoaluminum compounds can be used in combination of two or more.

本発明で用いられるオレフィン重合用触媒は、上記のような遷移金属化合物(A)、前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物(B)、および有機アルミニウム化合物(C)とから形成される。このようなオレフィン重合用触媒は、高い重合活性で分子量分布の狭いエチレン(共)重合体を製造することができる。また、重合活性が高いため滞留時間を短くすることができる。   The catalyst for olefin polymerization used in the present invention includes the transition metal compound (A) as described above, the compound (B) that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair, and the organoaluminum compound (C). And formed from. Such an olefin polymerization catalyst can produce an ethylene (co) polymer having a high polymerization activity and a narrow molecular weight distribution. Further, since the polymerization activity is high, the residence time can be shortened.

図1に本発明で用いられるオレフィン重合用触媒の調製工程を示す。本発明では、上記のようなオレフィン重合用触媒の存在下にエチレンを単独重合させるか、あるいはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとを共重合させて低分子量エチレン(共)重合体であるエチレン系ワックスを製造する。   FIG. 1 shows a process for preparing an olefin polymerization catalyst used in the present invention. In the present invention, a low molecular weight ethylene (co) polymer is obtained by homopolymerizing ethylene in the presence of the olefin polymerization catalyst as described above, or by copolymerizing ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms. An ethylene-based wax is produced.

ここで炭素原子数が3以上のオレフィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン、1-ウンデセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセンなどの炭素原子数が3〜20のα−オレフィンを挙げることができる。これらの炭素原子数が3以上のオレフィンは2種以上用いることもできる。   Examples of olefins having 3 or more carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 4-methyl-1-pentene, 3-methyl-1-pentene, 1-octene and 1-nonene. , 1-decene, 1-undecene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, and the like can be mentioned. Two or more of these olefins having 3 or more carbon atoms can be used.

重合反応における重合原料オレフィン中のエチレン含有量は、通常60〜100モル%、好ましくは70〜100モル%の範囲であり、炭素原子数が3以上のオレフィンの含有量は、通常0〜40モル%、好ましくは0〜30モル%の範囲である。   The ethylene content in the polymerization raw material olefin in the polymerization reaction is usually in the range of 60 to 100 mol%, preferably 70 to 100 mol%, and the content of the olefin having 3 or more carbon atoms is usually 0 to 40 mol. %, Preferably in the range of 0 to 30 mol%.

本発明では、重合反応は炭化水素媒体中で実施される。このような炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素、ガソリン、灯油、軽油などの石油留分などを挙げることができる。さらに、重合に用いるオレフィ
ンを用いることもできる。
In the present invention, the polymerization reaction is carried out in a hydrocarbon medium. Specific examples of such hydrocarbon media include aliphatic hydrocarbons such as propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, decane, dodecane, and kerosene, and alicyclic carbons such as cyclopentane, cyclohexane, and methylcyclopentane. Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as hydrogen, benzene, toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as ethylene chloride, chlorobenzene and dichloromethane, and petroleum fractions such as gasoline, kerosene and light oil. Furthermore, the olefin used for superposition | polymerization can also be used.

本発明では、上記のようなオレフィン重合用触媒の存在下に重合を行うが、この際には、上記遷移金属化合物(A)は、重合反応系内の遷移金属原子の濃度として通常、10-8〜10-2グラム原子/リットル、好ましくは10-7〜10-3グラム原子/リットルの範囲の量で用いられる。 In the present invention, the polymerization is carried out in the presence of the olefin polymerization catalyst as described above. In this case, the transition metal compound (A) is usually 10 as the concentration of transition metal atoms in the polymerization reaction system. It is used in an amount ranging from 8 to 10 −2 gram atoms / liter, preferably from 10 −7 to 10 −3 gram atoms / liter.

前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物(B)は、遷移金属化合物(A)中の遷移金属原子1モルに対して、通常、約1〜50モル、好ましくは1〜20モルとなるような量で用いられる。   The compound (B) which reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair is usually about 1 to 50 mol, preferably 1 with respect to 1 mol of the transition metal atom in the transition metal compound (A). It is used in such an amount that it becomes ˜20 mol.

また、有機アルミニウム化合物(C)は、遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物(B)1モルに対して、通常、約1〜500モル、好ましくは約1〜300モルとなるような量で用いられる。   The organoaluminum compound (C) is usually about 1 to 500 mol, preferably about 1 to 300 mol, per 1 mol of the compound (B) that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair. Is used in such an amount that

本発明では、エチレンの重合、またはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとの共重合は、通常100℃以上、好ましくは100〜250℃、より好ましくは120〜250℃、特に好ましくは130〜200℃の範囲で行われる。   In the present invention, ethylene polymerization or copolymerization of ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms is usually 100 ° C. or higher, preferably 100 to 250 ° C., more preferably 120 to 250 ° C., particularly preferably 130 to It is performed in the range of 200 ° C.

重合温度を上記のような範囲内にすると、重合系の除熱が容易であり、除熱装置を小型化することができる。また、同一の除熱装置では、除熱効率が上がるので生産性を向上させることができる。さらに、高温で重合を行うためポリマー濃度を高くしても、溶液粘度があまり高くならず攪拌動力も低減でき、高濃度で重合することができるため生産性が向上する。   When the polymerization temperature is within the above range, the heat removal of the polymerization system is easy, and the heat removal apparatus can be miniaturized. Moreover, in the same heat removal apparatus, the heat removal efficiency is increased, so that productivity can be improved. Furthermore, since the polymerization is performed at a high temperature, even if the polymer concentration is increased, the solution viscosity is not so high and the stirring power can be reduced, and the polymerization can be performed at a high concentration, so that productivity is improved.

通常エチレンを(共)重合する場合には、重合温度を安定させるために溶媒などを循環して除熱が行われている。ここで用いられる除熱装置では、一般に除熱量が同じであれは重合温度が高い程伝熱面積を小さくすることができ、その効果は、冷却媒体等の条件の選択によって変化するが、たとえば冷却水を用いて単純な向流型の熱交換器を用いたときに、重合温度が100℃である場合には、重合温度が70℃である場合に比べて、必要伝熱面積を約2分の1にすることも可能となる。このように重合温度を高くすると、必要伝熱面積を小さくすることができ、除熱装置を小型化することができるため、設備費を削減することができる。   Usually, when (co) polymerizing ethylene, heat removal is performed by circulating a solvent or the like in order to stabilize the polymerization temperature. In the heat removal apparatus used here, if the amount of heat removal is the same, the heat transfer area can be reduced as the polymerization temperature is higher, and the effect varies depending on the selection of conditions such as the cooling medium. When a simple counter-current heat exchanger using water is used, when the polymerization temperature is 100 ° C., the required heat transfer area is about 2 minutes compared to when the polymerization temperature is 70 ° C. It is also possible to set to 1. When the polymerization temperature is increased in this manner, the necessary heat transfer area can be reduced and the heat removal apparatus can be reduced in size, so that the equipment cost can be reduced.

平均滞留時間(重合時間)は、1時間以下、好ましくは40分以下、より好ましくは30分以下、好ましくは5〜20分である。
重合圧力は、通常大気圧〜100kg/cm2 、好ましくは大気圧〜50kg/cm2 、より好ましくは大気圧〜40kg/cm2 の範囲である。
The average residence time (polymerization time) is 1 hour or less, preferably 40 minutes or less, more preferably 30 minutes or less, and preferably 5 to 20 minutes.
The polymerization pressure is usually atmospheric pressure to 100 kg / cm 2, preferably atmospheric pressure to 50 kg / cm 2, more preferably atmospheric pressure ~40kg / cm 2 range.

得られるエチレン系ワックスの分子量は、重合反応系に供給する水素量および/または重合温度により調節することができる。重合反応系に供給される水素量は、エチレンに対する水素のモル比として、通常0.01〜2、好ましくは0.05〜1の範囲である。   The molecular weight of the obtained ethylene wax can be adjusted by the amount of hydrogen supplied to the polymerization reaction system and / or the polymerization temperature. The amount of hydrogen supplied to the polymerization reaction system is usually in the range of 0.01 to 2, preferably 0.05 to 1, as the molar ratio of hydrogen to ethylene.

本発明では、重合反応が終了した重合反応混合物を、常法によって処理することによりエチレン系ワックスが得られる。
このようにして得られるエチレン系ワックスは、エチレンの単独重合体、またはエチレンとオレフィンとの共重合体であり、その135℃デカリン中で測定した極限粘度[η]は、0.40dl/g以下、好ましくは0.005〜0.40dl/g、より好ましくは0.005〜0.35dl/g、特に好ましくは0.01〜0.30dl/gの範囲である。この、エチレン系ワックス中の、エチレン成分単位の含有率は、80〜100モル%、
好ましくは85〜100モル%、より好ましくは90〜100モル%の範囲であり、炭素原子数が3以上のオレフィン成分単位の含有率は、0〜20モル%、好ましくは0〜15モル%、より好ましくは0〜10モル%の範囲である。
In the present invention, an ethylene-based wax can be obtained by treating the polymerization reaction mixture after the completion of the polymerization reaction by a conventional method.
The ethylene-based wax thus obtained is a homopolymer of ethylene or a copolymer of ethylene and olefin, and its intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135 ° C. is 0.40 dl / g or less. The range is preferably 0.005 to 0.40 dl / g, more preferably 0.005 to 0.35 dl / g, and particularly preferably 0.01 to 0.30 dl / g. In this ethylene-based wax, the content of ethylene component units is 80 to 100 mol%,
Preferably, it is in the range of 85 to 100 mol%, more preferably 90 to 100 mol%, and the content of the olefin component unit having 3 or more carbon atoms is 0 to 20 mol%, preferably 0 to 15 mol%, More preferably, it is the range of 0-10 mol%.

また、エチレン系ワックスのゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)によって測定した分子量分布(Mw/Mn)は、通常3以下、好ましくは2.5以下であり、融点は、132℃以下、好ましくは130〜40℃、より好ましくは128〜50℃の範囲である。   The molecular weight distribution (Mw / Mn) of ethylene wax measured by gel permeation chromatography (GPC) is usually 3 or less, preferably 2.5 or less, and the melting point is 132 ° C. or less, preferably 130. It is -40 degreeC, More preferably, it is the range of 128-50 degreeC.

[実施例]
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.

充分に窒素置換した内容積2リットルのステンレス製オートクレーブにヘキサン1リットルを装入し、水素を2kg/cm2-G となるまで導入した。次いで、系内の温度を130℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウム0.5ミリモル、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.002ミリモルおよびビス(n-ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド0.001ミリモルをエチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を30kg/cm2-G に保ち、140℃で15分間重合を行った。少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を大過剰のメタノール中に投入することにより、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾過により回収し、80℃で減圧下で一晩乾燥した。その結果、極限粘度[η]が0.15dl/gであり、Mw/Mnが2.05であり、融点が120.5であるエチレン重合体44.9gを得た。結果を表1に示す。 A stainless steel autoclave with an internal volume of 2 liters that was sufficiently purged with nitrogen was charged with 1 liter of hexane, and hydrogen was introduced to 2 kg / cm 2 -G. Next, after raising the temperature in the system to 130 ° C., 0.5 mmol of triisobutylaluminum, 0.002 mmol of triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and bis (n-butylcyclopentadienyl) zirconium Polymerization was initiated by injecting 0.001 mmol of dichloride with ethylene. Thereafter, only ethylene was continuously supplied to keep the total pressure at 30 kg / cm 2 -G, and polymerization was carried out at 140 ° C. for 15 minutes. After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was put into a large excess of methanol to precipitate a polymer. The polymer was collected by filtration and dried overnight at 80 ° C. under reduced pressure. As a result, 44.9 g of an ethylene polymer having an intrinsic viscosity [η] of 0.15 dl / g, Mw / Mn of 2.05, and a melting point of 120.5 was obtained. The results are shown in Table 1.

[実施例2、3、参考例1〜5]
遷移金属化合物〔成分(A)〕、遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物〔成分(B)〕および有機アルミニウム化合物〔成分(C)〕の種類および量、ならびに重合条件を表1に示すようにした以外は実施例1と同様にしてエチレン重合体を製造した。結果を表1に示す。
[Examples 2 and 3, Reference Examples 1 to 5]
Type and amount of transition metal compound [component (A)], compound [component (B)] and organoaluminum compound [component (C)] that react with transition metal compound (A) to form ion pairs, and polymerization conditions An ethylene polymer was produced in the same manner as in Example 1 except that as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
充分に窒素置換した内容積2リットルのステンレス製オートクレーブにヘキサン800mlおよび4-メチル-1-ペンテン200mlを装入し、水素を8kg/cm2-G となるま
で導入した。次いで、系内の温度を130℃に昇温した後、トリイソブチルアルミニウム0.5ミリモル、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート0.002ミリモルおよびエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド0.001ミリモルをエチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を30kg/cm2-G に保ち、140℃で15分間重合を行った。少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を大過剰のメタノール中に投入することにより、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾過により回収し、80℃で減圧下で一晩乾燥した。その結果、極限粘度[η]が0.13dl/gであり、Mw/Mnが2.11であり、融点が108℃であり、エチレン含量が96.4モル%であるエチレン・4-メチル-1-ペンテン共重合体54.8gを得た。結果を表1に示す。
[Example 4]
800 ml of hexane and 200 ml of 4-methyl-1-pentene were charged into a 2 liter stainless steel autoclave sufficiently purged with nitrogen, and hydrogen was introduced to 8 kg / cm 2 -G. Subsequently, after raising the temperature in the system to 130 ° C., 0.5 mmol of triisobutylaluminum, 0.002 mmol of triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and 0.001 mmol of ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride The polymerization was started by press-fitting with ethylene. Thereafter, only ethylene was continuously supplied to keep the total pressure at 30 kg / cm 2 -G, and polymerization was carried out at 140 ° C. for 15 minutes. After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was put into a large excess of methanol to precipitate a polymer. The polymer was collected by filtration and dried overnight at 80 ° C. under reduced pressure. As a result, ethylene 4-methyl- having an intrinsic viscosity [η] of 0.13 dl / g, Mw / Mn of 2.11, a melting point of 108 ° C., and an ethylene content of 96.4 mol%. 54.8 g of 1-pentene copolymer was obtained. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
充分に窒素置換した内容積2リットルのステンレス製オートクレーブにヘキサン1リッ
トルを装入し、水素を5kg/cm2-G となるまで導入した。次いで、系内の温度を130℃に昇温した後、メチルアルミノキサン(MAO)2ミリモル、およびビス(n-ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド0.01ミリモルをエチレンで圧入することにより重合を開始した。その後、エチレンのみを連続的に供給することにより全圧を30kg/cm2-G に保ち、140℃で40分間重合を行った。少量のエタノールを系内に添加することにより重合を停止した後、未反応のエチレンをパージした。得られたポリマー溶液を大過剰のメタノール中に投入することにより、ポリマーを析出させた。ポリマーを濾過により回収し、80℃で減圧下で一晩乾燥した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
A stainless steel autoclave with an internal volume of 2 liters that was sufficiently purged with nitrogen was charged with 1 liter of hexane, and hydrogen was introduced to 5 kg / cm 2 -G. Next, after raising the temperature in the system to 130 ° C., polymerization was started by injecting 2 mmol of methylaluminoxane (MAO) and 0.01 mmol of bis (n-butylcyclopentadienyl) zirconium dichloride with ethylene. did. Thereafter, only ethylene was continuously fed to keep the total pressure at 30 kg / cm 2 -G, and polymerization was carried out at 140 ° C. for 40 minutes. After stopping the polymerization by adding a small amount of ethanol into the system, unreacted ethylene was purged. The obtained polymer solution was put into a large excess of methanol to precipitate a polymer. The polymer was collected by filtration and dried overnight at 80 ° C. under reduced pressure. The results are shown in Table 2.

[比較例2]
ビス(n-ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリドに代えてエチレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリドを用い、遷移金属化合物の使用量、メチルアルミノキサンの使用量を表2に示すように変えた以外は比較例1と同様にしてエチレン系ワックスを製造した。結果を表2に示す。
[Comparative Example 2]
Comparative Example except that ethylenebis (indenyl) zirconium dichloride was used instead of bis (n-butylcyclopentadienyl) zirconium dichloride, and the amount of transition metal compound and methylaluminoxane were changed as shown in Table 2. In the same manner as in No. 1, an ethylene-based wax was produced. The results are shown in Table 2.

本発明で用いられるオレフィン重合触媒の調製工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the preparation process of the olefin polymerization catalyst used by this invention.

Claims (3)

(A)下記式で表される遷移金属化合物
1234 M …(I')
(式中、Mはジルコニウムであり、R1およびR2はアルキル置換シクロペンタジエニル基であり(但し、R 1 およびR 2 のシクロペンタジエニル骨格は、ジルコニウム原子以外では結合していない)、R3およびR4は互いに同一でも異なっていてもよく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、トリアルキルシリル基、−SO3Rまたは水素原子である。)と、
(B)前記遷移金属化合物(A)と反応してイオン対を形成する化合物と、
(C)有機アルミニウム化合物と
からなるオレフィン重合用触媒の存在下にエチレン、あるいはエチレンと炭素原子数が3以上のオレフィンとを、重合反応系に供給される水素量が、エチレンに対する水素のモル比として、0.01〜2の範囲で単独重合もしくは共重合させて、極限粘度[η]が0.01〜0.40dl/gであるエチレン(共)重合体を形成させることを特徴とするエチレン系ワックスの製造方法。
(A) Transition metal compound represented by the following formula: R 1 R 2 R 3 R 4 M (I ′)
(In the formula, M is zirconium , and R 1 and R 2 are alkyl-substituted cyclopentadienyl groups (provided that the cyclopentadienyl skeleton of R 1 and R 2 is not bonded except for the zirconium atom). , R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and may be an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, a trialkylsilyl group, —SO 3 R or a hydrogen atom. And)
(B) a compound that reacts with the transition metal compound (A) to form an ion pair;
(C) Ethylene or ethylene and an olefin having 3 or more carbon atoms in the presence of an olefin polymerization catalyst comprising an organoaluminum compound, the amount of hydrogen supplied to the polymerization reaction system is a molar ratio of hydrogen to ethylene As an ethylene (co) polymer having an intrinsic viscosity [η] of 0.01 to 0.40 dl / g by homopolymerization or copolymerization in the range of 0.01 to 2 A method for producing a wax.
重合温度が100℃以上であることを特徴とする請求項1に記載のエチレン系ワックスの製造方法。   The method for producing an ethylene-based wax according to claim 1, wherein the polymerization temperature is 100 ° C or higher. 平均滞留時間が1時間以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のエチレン系ワックスの製造方法。
The method for producing an ethylene-based wax according to claim 1 or 2, wherein an average residence time is 1 hour or less.
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