JP4093402B2

JP4093402B2 - 感放射線性樹脂組成物

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Publication number: JP4093402B2
Application number: JP2002181130A
Authority: JP
Inventors: 幸生西村; 功西村; 明夫齋藤; 英一小林; トマス・アイ・ウォロウ; ロバート・ディー・アレン; プシュカラ・ラーオ・ヴラナシー
Original assignee: International Business Machines Corp
Current assignee: International Business Machines Corp
Priority date: 2002-06-21
Filing date: 2002-06-21
Publication date: 2008-06-04
Anticipated expiration: 2022-06-21
Also published as: JP2004029089A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物に関わる。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、より高い集積度を得るために、最近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工が可能なリソグラフィー技術が必要とされている。
従来のリソグラフィープロセスでは、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用いられているが、この近紫外線では、サブクオーターミクロンレベルの微細加工が極めて困難であると言われている。
そこで、０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用が検討されている。このような短波長の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
このようなエキシマレーザーによる照射に適したレジストとして、酸解離性官能基を有する成分と放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する成分（以下、「感放射線性酸発生剤」という。）とによる化学増幅効果を利用したレジスト（以下、「化学増幅型レジスト」という。）が数多く提案されている。
化学増幅型レジストとしては、例えば、特公平２−２７６６０号公報には、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と感放射線性酸発生剤とを含有するレジストが提案されている。このレジストは、露光により発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基からなる酸性基を有するようになり、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性となる現象を利用したものである。
【０００３】
ところで、従来の化学増幅型レジストの多くは、フェノール系樹脂をベースにするものであるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用すると、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十分に到達できないという欠点があり、そのため露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくなり、現像後のレジストパターンが上部が細く下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られないなどの問題があった。その上、現像後のレジストパターンが台形状となった場合、次の工程、即ちエッチングやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかも、レジストパターン上部の形状が矩形でないと、ドライエッチングによるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチング条件の制御が困難になる問題もあった。
一方、レジストパターンの形状は、レジスト被膜の放射線透過率を高めることにより改善することができる。例えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であり、例えば特開平４−２２６４６１号公報には、メタクリレート系樹脂を使用した化学増幅型レジストが提案されている。しかしながら、この組成物は、微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えたものとは言えない。
【０００４】
また、化学増幅型レジストについて、放射線に対する透明性を損なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとして、レジスト中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂肪族環を導入する方法が知られており、例えば特開平７−２３４５１１号公報には、脂肪族環を有する（メタ）アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型レジストが提案されている。
しかしながら、このレジストでは、樹脂成分が有する酸解離性官能基として、従来の酸により比較的解離し易い基（例えば、テトラヒドロピラニル基等のアセタール系官能基）や酸により比較的解離し難い基（例えば、ｔ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基）が用いられており、前者の酸解離性官能基を有する樹脂成分の場合、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状は良好であるが、組成物としての保存安定性に難点があり、また後者の酸解離性官能基を有する樹脂成分では、逆に保存安定性は良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状が損なわれるという欠点がある。さらに、このレジスト中の樹脂成分には脂肪族環が導入されているため、樹脂自体の疎水性が非常に高くなり、基板に対する接着性の面でも問題があった。
このような状況の下、集積回路素子における微細化の進行に対応しうる技術開発の観点から、遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストが強く求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、前記課題は、
（Ａ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位と、主鎖にノルボルナン骨格を有する繰り返し単位とからなり、前記アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位が下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位および／または下記一般式（１−２）で表される繰り返し単位を含有し、前記主鎖にノルボルナン骨格を有する繰り返し単位が下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位および下記一般式（２−３）で表される繰り返し単位の群から選ばれる少なくとも１種を含有し、前記アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位の含有率が５０〜９０モル％、前記主鎖にノルボルナン骨格を有する繰返し単位の含有率が１０〜５０モル％である酸解離性基含有樹脂、並びに
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物
によって達成される。
【化３】

〔一般式（１−１) において、Ｒ¹は水素原子を示し、Ｚ¹は直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ²はヒドロキシル基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基またはアミノ基を示す。
一般式（１−２) において、Ｒ³は水素原子を示し、各Ｒ⁴は相互に独立に１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ⁴が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ⁴が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。〕
【化６】

〔一般式（２−１）において、Ｚ²は単結合、直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ⁵はヒドロキシル基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基またはアミノ基を示し、ｎは０〜２の整数である。
一般式（２−２）において、各Ｒ⁶は相互に独立に炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ⁶が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ⁶が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示し、ｎは０〜２の整数である。
一般式（２−３）において、Ｒ⁷は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基、または置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基を示し、ｎは０〜２の整数である。〕
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。
（Ａ）成分
本発明における（Ａ）成分は、アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位（以下、「アクリル系繰り返し単位」という。）と、主鎖にノルボルナン骨格を有する繰り返し単位（以下、「ノルボルネン系繰り返し単位」という。）とからなり、アクリル系繰り返し単位が下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−１）」という。）および／または下記一般式（１−２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−２）」という。）を含有し、ノルボルネン系繰り返し単位が下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２−１）」という。）、下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２−２）」という。）および下記一般式（２−３）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（２−３）」という。）の群から選ばれる少なくとも１種を含有する酸解離性基含有樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」という。）からなる。
本発明におけるノルボルネン系繰り返し単位とは、ノルボルネン骨格を有する化合物のノルボルネン環中の炭素−炭素二重結合が開裂した繰り返し単位を意味する。
【００１２】
一般式（１−１) において、Ｚ¹の直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基としては、例えば、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、２−メチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基等のメチレン基または炭素数２〜１２のアルキレン基；
フルオロメチレン基、ジフルオロメチレン基、フルオロエチレン基、１，１−ジフルオロエチレン基、１，２−ジフルオロエチレン基、１，２，２−トリフルオロエチレン基、１，１，２，２−テトラフルオロエチレン基、トリフルオロメチルエチレン基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチレン基等のフッ素化メチレン基または炭素数２〜１２のフッ素化アルキレン基
等を挙げることができる。
また、Ｚ¹の脂環式構造を有する２価の有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭素数４〜２０のシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の炭素数４〜２０の有橋式炭化水素類に由来する基等を挙げることができる。
【００１３】
一般式（１−１) におけるＺ¹としては、メチレン基、エチレン基、アダマンタンに由来する２価の基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンに由来する２価の基等が好ましい。
【００１４】
一般式（１−１) におけるＲ²としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基等が好ましい。
【００１５】
一般式（１−１) において、好ましい−Ｚ¹−Ｒ²基としては、例えば、
ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、
カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、３−カルボキシアダマンタン−１−イル基、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、
シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、３−シアノアダマンタン−１−イル基、５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基
等を挙げることができる。
【００１６】
一般式（１−２) において、Ｒ⁴の１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
これらのアルキル基のうち、メチル基、エチル基等が好ましい。
【００１７】
また、前記アルキル基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜６のシアノアルキル基等の置換基を１種以上或いは１個以上有する基を挙げることができる。
これらの置換基のうち、オキソ基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシル基等が好ましく、特に、オキソ基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
【００１８】
また、Ｒ⁴の炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基および何れか２つのＲ⁴が相互に結合してそれぞれが結合している炭素原子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類や、アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；これらのシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基をメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上或いは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
【００１９】
また、前記１価または２価の脂環式炭化水素基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜５のシアノアルキル基等の置換基を１種以上或いは１個以上有する基を挙げることができる。
これらの置換基のうち、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基、シアノ基、シアノメチル基等が好ましい。
【００２０】
一般式（１−２) において、少なくとも１つのＲ⁴が炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体である場合の−Ｃ（Ｒ⁴)₃ に相当する好ましい構造としては、例えば、下記式（３-1) 〜（３-4) で表される基等を挙げることができる。
【００２１】
【化４】

〔式（３-3) および式（３-4) において、ａおよびｂはそれぞれ０〜２の整数である。〕
【００２２】
また、何れか２つのＲ⁴が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成した場合の−Ｃ（Ｒ⁴)₃ に相当する好ましい構造としては、例えば、下記式（４-1) 〜（４-4) で表される基等を挙げることができる。
【００２３】
【化５】

〔式（４-3) および式（４-4) において、ａおよびｂはそれぞれ０〜２の整数である。〕
【００２４】
一般式（１−２) において、好ましい−Ｃ（Ｒ⁴)₃ 基としては、例えば、
ｔ−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−エチル−２−ブチル基、３−メチル−３−ブチル基、３−エチル−３−ブチル基、３−メチル−３−ペンチル基等のトリアルキルメチル基；
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基等の１−アルキルシクロアルキル基；
【００２５】
２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−シアノアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−エチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−エチル−３−シアノアダマンタン−２−イル基、
２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチル−５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチル−６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチル−５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチル−６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、
【００２６】
４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−メチル−９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−メチル−１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−メチル−９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−メチル−１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチル−９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチル−１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチル−９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチル−１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、
８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、８−メチル−４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、８−メチル−４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、８−エチル−４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基、８−エチル−４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル基
等のアルキル置換有橋式炭化水素基およびその誘導体；
【００２７】
１−メチル−１−シクロペンチルエチル基、１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（２−シアノシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−シアノシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−シクロヘキシルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（３−シアノシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−シアノシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−シクロへプチルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（３−シアノシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−シアノシクロへプチル）エチル基等のジアルキル・シクロアルキルメチル基およびその誘導体；
【００２８】
１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−シアノアダマンタン−１−イル）エチル基、
１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、
１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、
１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル基、１−メチル−１−（４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル基
等のアルキル置換・有橋式炭化水素基置換メチル基およびその誘導体；
【００２９】
１，１−ジシクロペンチルエチル基、１，１−ジ（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１，１−ジ（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１，１−ジ（２−シアノシクロペンチル）エチル基、１，１−ジ（３−シアノシクロペンチル）エチル基、１，１−ジシクロヘキシルエチル基、１，１−ジ（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１，１−ジ（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１，１−ジ（３−シアノシクロヘキシル）エチル基、１，１−ジ（４−シアノシクロヘキシル）エチル基、１，１−ジシクロへプチルエチル基、１，１−ジ（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１，１−ジ（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１，１−ジ（３−シアノシクロへプチル）エチル基、１，１−ジ（４−シアノシクロへプチル）エチル基等のアルキル・ジシクロアルキルメチル基およびその誘導体；
【００３０】
１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（３−シアノアダマンタン−１−イル）エチル基、
１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、
１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、
１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル基、１，１−ジ（４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル基、１，１−ジ（４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］８−イル）エチル基等のアルキル置換・ジ（有橋式炭化水素基）置換メチル基およびその誘導体
等を挙げることができる。
【００３１】
これらの−Ｃ（Ｒ⁴)₃ 基のうち、特に好ましいものとしては、
ｔ−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−エチル−２−ブチル基、３−エチル−３−ブチル基、
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、
２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル基、８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル基、
【００３２】
１−メチル−１−シクロペンチルエチル基、１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−シクロヘキシルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−シクロへプチルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、
１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル）エチル基、
１，１−ジシクロペンチルエチル基、１，１−ジシクロヘキシルエチル基、１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル）エチル基
等を挙げることができる。
樹脂（Ａ）において、アクリル系繰り返し単位は、単独でまたは２種以上が存在することができる。
【００３８】
一般式（２−１）において、Ｚ²の直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基としては、例えば、
メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、２−メチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基等のメチレン基または炭素数２〜１２のアルキレン基；
フルオロメチレン基、ジフルオロメチレン基、フルオロエチレン基、１，１−ジフルオロエチレン基、１，２−ジフルオロエチレン基、１，２，２−トリフルオロエチレン基、１，１，２，２−テトラフルオロエチレン基、トリフルオロメチルエチレン基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチレン基等のフッ素化メチレン基または炭素数２〜１２のフッ素化アルキレン基
等を挙げることができる。
また、Ｚ²の脂環式構造を有する２価の有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭素数４〜２０のシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の炭素数４〜２０の有橋式炭化水素類に由来する基等を挙げることができる。
【００３９】
一般式（２−１）におけるＺ²としては、単結合、メチレン基、エチレン基、ジフルオロメチレン基、１，２−ジフルオロエチレン基、１，１，２，２−テトラフルオロエチレン基、アダマンタンに由来する２価の基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンに由来する２価の基等が好ましい。
【００４０】
一般式（２−１）におけるＲ⁵としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基等が好ましい。
【００４１】
一般式（２−１）において、好ましい−Ｚ²−Ｒ⁵基としては、例えば、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル基、（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル基、１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル基、２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル基、２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、３−カルボキシアダマンタン−１−イル基、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、シアノ基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、３−シアノアダマンタン−１−イル基、５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基等を挙げることができる。
【００４２】
一般式（２−２）において、Ｒ⁶の１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
これらのアルキル基のうち、メチル基、エチル基等が好ましい。
【００４３】
また、前記アルキル基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜６のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜６のシアノアルキル基等の置換基を１種以上或いは１個以上有する基を挙げることができる。
これらの置換基のうち、オキソ基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシル基等が好ましく、特に、オキソ基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
【００４４】
また、Ｒ⁶の炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基および何れか２つのＲ⁶が相互に結合してそれぞれが結合している炭素原子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類や、アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；これらのシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基をメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上或いは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
【００４５】
また、前記１価または２価の脂環式炭化水素基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜５のシアノアルキル基等の置換基を１種以上或いは１個以上有する基を挙げることができる。
これらの置換基のうち、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基、シアノ基、シアノメチル基等が好ましい。
【００４６】
一般式（２−２）において、少なくとも１つのＲ⁶が炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体である場合の好ましい−Ｃ（Ｒ⁶)₃ 基としては、例えば、前記式（３-1) 〜（３-4) でＲ⁴をＲ⁶に変換した基等を挙げることができる。
また、何れか２つのＲ⁶が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成した場合の好ましい−Ｃ（Ｒ⁶)₃ 基としては、例えば、前記式（４-1) 〜（４-4) でＲ⁴をＲ⁶に変換した基等を挙げることができる。
【００４７】
一般式（２−２）において、好ましい−Ｃ（Ｒ⁶)₃ 基としては、例えば、前記一般式（１−２）における好ましい−Ｃ（Ｒ⁴)₃ 基として例示したものと同様の基を挙げることができる。
これらの−Ｃ（Ｒ⁶)₃ 基のうち、特に好ましいものとしては、
ｔ−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−エチル−２−ブチル基、３−エチル−３−ブチル基、
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、
２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル基、８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル基、
【００４８】
１−メチル−１−シクロペンチルエチル基、１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−シクロヘキシルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−シクロへプチルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、
１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル）エチル基、
１，１−ジシクロペンチルエチル基、１，１−ジシクロヘキシルエチル基、１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］−８−イル）エチル基
等を挙げることができる。
【００４９】
一般式（２−３）において、Ｒ⁷の炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
【００５０】
また、Ｒ⁷の脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等に由来するシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；これらのシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基をメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上或いは１個以上で置換した基；これらのアルキル基で置換されてもよいシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する１価の基をヒドロキシル基；カルボキシル基；オキソ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等の炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル基等の炭素数２〜５のシアノアルキル基等の１種以上あるいは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
【００５１】
また、Ｒ⁷の環状エーテル構造を有する１価の有機基としては、例えば、（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（テトラヒドロピラン−２−イル）メチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁷の置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基としては、例えば、下記式（５-1）〜（５-4）で表される基等を挙げることができる。
【００５２】
【化７】

【００５３】
〔式（５-1）および式（５-2）において、各Ｒ⁸は相互に独立に水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示し、Ｚ³はメチレン基、ジメチルメチレン基、酸素原子または硫黄原子を示す。
【００５４】
式（５-3）において、Ｒ⁹は水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示す。
【００５５】
式（５-4）において、Ｒ¹⁰は水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示し、複数存在するＲ¹³は相互に同一でも異なってもよく、ｃは０〜４の整数であり、Ｚ⁴は単結合またはメチレン基を示す。〕
【００５６】
式（５-1）〜（５-4）において、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、１−メチルプロポキシ基、２−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰の炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００５７】
一般式（２−３) において、好ましいＲ⁷としては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基；
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；
アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基等の有橋式炭化水素類に由来する基；
（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（テトラヒドロピラン−２−イル）メチル基等の環状エーテル構造を有する１価の有機基；
５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基等の置換されてもよいラクトン骨格を有する有機基
等を挙げることができる。
樹脂（Ａ）において、ノルボルネン系繰り返し単位は、単独でまたは２種以上が存在することができる。
【００５８】
繰り返し単位（１−１) を与える好ましい単量体としては、例えば、
アクリル酸ヒドロキシメチル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸（フロオロ）（ヒドロキシ）メチル、アクリル酸（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル、アクリル酸１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル、アクリル酸５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、
【００５９】
アクリル酸カルボキシメチル、アクリル酸２−カルボキシエチル、アクリル酸３−カルボキシプロピル、アクリル酸４−カルボキシブチル、アクリル酸３−カルボキシアダマンタン−１−イル、アクリル酸５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸−６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、
アクリル酸シアノメチル、アクリル酸２−シアノエチル、アクリル酸３−シアノプロピル、アクリル酸３−シアノアダマンタン−１−イル、アクリル酸５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル
等を挙げることができる。
【００６０】
また、繰り返し単位（１−２) を与える好ましい単量体としては、例えば、
アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−メチル−２−ブチル、アクリル酸２−エチル−２−ブチル、アクリル酸３−エチル−３−ブチル、
アクリル酸１−メチルシクロペンチル、アクリル酸１−エチルシクロペンチル、アクリル酸１−メチルシクロヘキシル、アクリル酸１−エチルシクロヘキシル、
アクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル、アクリル酸２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、アクリル酸２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル、アクリル酸８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル、
【００６１】
アクリル酸１−メチル−１−シクロペンチルエチル、アクリル酸１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−シクロヘキシルエチル、アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−シクロへプチルエチル、アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、
アクリル酸１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル、アクリル酸１−メチル−１−（トリシクロロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル、
【００６２】
アクリル酸１，１−ジシクロペンチルエチル、アクリル酸１，１−ジシクロヘキシルエチル、
アクリル酸１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル、アクリル酸１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル、アクリル酸１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル、アクリル酸１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル
等を挙げることができる。
【００６３】
また、樹脂（Ａ）における繰り返し単位（１−１）および繰り返し単位（１−２）以外のアクリル系繰り返し単位（以下、「他のアクリル系繰り返し単位」という。）としては、例えば、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸２−メチルプロピル、アクリル酸１−メチルプロピル、アクリル酸２−シクロペンチルオキシカルボニルエチル、アクリル酸２−シクロヘキシルオキシカルボニルエチル、アクリル酸２−（４−メトキシシクロヘキシル）オキシカルボニルエチル、
アクリル酸シクロプロピル、アクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸４−メトキシシクロヘキシル、アクリル酸アダマンタン−１−イル、アクリル酸ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、アクリル酸７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル、アクリル酸テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル、アクリル酸トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル、
アクリル酸（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル、アクリル酸１，１−ジメチル−２−オキソプロピル
等のアクリル酸誘導体類
等の単官能性単量体や、
【００６４】
１，２−アダマンタンジオールジアクリレート、１，３−アダマンタンジオールジアクリレート、１，４−アダマンタンジオールジアクリレート、トリシクロデカニルジメチロールジアクリレート、
メチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオールジアクリレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジアクリレート、１，３−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジアクリレート
等の多官能性単量体
等の重合性不飽和結合が開裂した繰り返し単位を挙げることができる。
【００６５】
次に、繰り返し単位（２−１) を与える好ましい単量体としては、例えば、
５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（３−ヒドロキシプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプトー２−エン、５−〔（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００６６】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−酢酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−プロピオン酸、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シアノメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−シアノエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（３−シアノプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００６７】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−ヘキシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−オクチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンー５−カルボン酸の〔５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンー５−カルボン酸の〔６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル
等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよびその誘導体類；
【００６８】
９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（３−ヒドロキシプロピル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−〔（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、
【００６９】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−酢酸、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−プロピオン酸、
９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−シアノメチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（２−シアノエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−（３−シアノプロピル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、
【００７０】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−ｎ−ブチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−ｎ−ヘキシルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−ｎ−オクチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、９−ｎ−デシルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル
等のテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エンおよびその誘導体類
等を挙げることができる。
【００７１】
また、繰り返し単位（２−２) を与える好ましい単量体としては、例えば、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸ｔ−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸２−メチル−２−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸２−エチル−２−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸３−エチル−３−ブチル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−エチルシクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロヘキシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−エチルシクロヘキシル、
【００７２】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチルアダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンー５−カルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、
【００７３】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−シクロペンチルエチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−シクロヘキシルエチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−シクロへプチルエチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、
【００７４】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
【００７５】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１，１−ジシクロペンチルエチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１，１−ジシクロヘキシルエチル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル〕エステル
等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよびその誘導体類；
テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸ｔ−ブチル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸２−メチル−２−ブチル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸２−エチル−２−ブチル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸３−エチル−３−ブチル、
テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシクロペンチル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシクロヘキシル、テトラシクロテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシクロヘキシル、
【００７６】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチルアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、
【００７７】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−シクロペンチルエチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−シクロヘキシルエチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−シクロへプチルエチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、
【００７８】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
【００７９】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１，１−ジシクロペンチルエチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１，１−ジシクロヘキシルエチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エチル〕エステル
等のテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エンおよびその誘導体類
等を挙げることができる。
【００８０】
また、繰り返し単位（２−３) を与える好ましい単量体としては、例えば、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸ｎ−プロピル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸シクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸シクロヘキシル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（アダマンタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１，１−ジメチル−２−オキソプロピル）エステル、
【００８１】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7］ノナン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7］ノナン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−４−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル
等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよびその誘導体類；
【００８２】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸ｎ−プロピル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸シクロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸シクロヘキシル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（アダマンタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１，１−ジメチル−２−オキソプロピル）エステル、
【００８３】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7］ノナン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7］ノナン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、
【００８４】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−４−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル
等のテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−４−エンおよびその誘導体類
等を挙げることができる。
【００８５】
また、樹脂（Ａ）におけるノルボルネン系繰り返し単位（２−１）、ノルボルネン系繰り返し単位（２−２）およびノルボルネン系繰り返し単位（２−３）以外のノルボルネン系繰り返し単位（以下、「他のノルボルネン系繰り返し単位」という。）としては、例えば、
８−フルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８６】
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００８７】
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロイソプロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２’，２’，２’−トリフルオロカルボエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（２’，２’，２’−トリフルオロカルボエトキシ）テトラシクロ[ ４．４．０．１^2,5 ．１^7,10 ]ドデカ−３−エン
等の重合性不飽和結合が開裂した繰り返し単位を挙げることができる。
【００８９】
本発明において、アクリル系繰り返し単位およびノルボルネン系繰り返し単位は、それぞれ単独でまたは２種以上が存在することができる。
【００９０】
樹脂（Ａ）において、アクリル系繰り返し単位の含有率は、５０〜９０モル％、好ましくは６０〜９０モル％である。
【００９１】
また、ノルボルネン系繰返し単位の含有率は、１０〜５０モル％、好ましくは１０〜４０モル％である。
【００９２】
樹脂（Ａ）は、例えば、その各繰り返し単位に対応する重合性不飽和単量体を、ヒドロパーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用し、必要に応じて連鎖移動剤の存在下、適当な溶媒中で重合することにより製造することができる。
前記重合に使用される溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メチル等の飽和カルボン酸エステル類；２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタン類等のエーエル類等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、前記重合における反応温度は、通常、４０〜１２０℃、好ましくは５０〜９０℃であり、反応時間は、通常、１〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００９３】
樹脂（Ａ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、１，０００〜１００，０００、好ましくは１，０００〜５０，０００、さらに好ましくは２，０００〜３０，０００である。この場合、樹脂（Ａ）のＭｗが１，０００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾向があり、一方１００，０００を超えると、レジストとしての現像性が低下する傾向がある。
また、樹脂（Ａ）のＭｗとゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常、１〜５、好ましくは１〜３である。
なお、樹脂（Ａ）は、ハロゲン、金属等の不純物が少ないほど好ましく、それにより、レジストとしたときの感度、解像度、プロセス安定性、パターン形状等をさらに改善することができる。樹脂（Ａ）の精製法としては、例えば、水洗、液々抽出等の化学的精製法や、これらの化学的精製法と限外ろ過、遠心分離等の物理的精製法との組み合わせ等を挙げることができる。
【００９４】
（Ｂ）成分
本発明における（Ｂ）成分は、露光により酸を発生する感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という。）からなる。
酸発生剤（Ｂ）は、露光により発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有するものである。
本発明における酸発生剤（Ｂ）としては、下記一般式（６）で表される化合物（以下、「酸発生剤（６）」という。）が好ましい。
【００９５】
【化８】

【００９６】
〔一般式（６）において、Ｒ¹¹は水素原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、炭素数２〜１１の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ¹²は水素原子または炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示し、ｐは０〜３の整数であり、各Ｒ¹³は相互に独立に炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または置換基されていてもよいナフチル基を示すか、あるいは２つのＲ¹³が互いに結合して炭素数２〜１０の２価の基を形成しており、該２価の基は置換されていてもよく、ｑは０〜２の整数であり、Ｚ^-はＣ_iＦ_2i+1ＳＯ₃ ^-の構造を有するアニオンを示し、ｉは１〜１０の整数である。〕
【００９７】
一般式（６）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³の炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。
【００９８】
また、Ｒ¹¹の炭素数１〜１０の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等を挙げることができる。
【００９９】
また、Ｒ¹¹の炭素数２〜１１の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、ｎ−デシルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
【０１００】
一般式（６）におけるＲ¹¹としては、水素原子、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等が好ましい。
【０１０１】
一般式（６）において、Ｒ¹²としては、水素原子、メチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等が好ましい。
また、ｐとしては、０〜２が好ましい。
【０１０２】
一般式（６）において、Ｒ¹³の置換されていてもよいフェニル基としては、例えば、
フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−エチルフェニル基等のフェニル基または炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基で置換されたフェニル基；これらのフェニル基またはアルキル置換フェニル基を、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基等の１個以上あるいは１種以上で置換した基等を挙げることができる。
【０１０３】
フェニル基およびアルキル置換フェニル基に対する置換基のうち、前記アルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基等を挙げることができる。
また、前記アルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、エトキシメチル基、１−メトキシエチル基、２−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基、２−エトキシエチル基等の炭素数２〜２１の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシアルキル基等を挙げることができる。
【０１０４】
また、前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル等の炭素数２〜２１の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシカルボニル基等を挙げることができる。
また、前記アルコキシカルボニルオキシ基としては、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、シクロペンチルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル等の炭素数２〜２１の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシカルボニルオキシ基等を挙げることができる。
【０１０５】
また、Ｒ¹³の置換されていてもよいナフチル基としては、例えば、１−ナフチル基、２−メチル−１−ナフチル基、３−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、５−メチル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、７−メチル−１−ナフチル基、８−メチル−１−ナフチル基、２，３−ジメチル−１−ナフチル基、２，４−ジメチル−１−ナフチル基、２，５−ジメチル−１−ナフチル基、２，６−ジメチル−１−ナフチル基、２，７−ジメチル−１−ナフチル基、２，８−ジメチル−１−ナフチル基、３，４−ジメチル−１−ナフチル基、３，５−ジメチル−１−ナフチル基、３，６−ジメチル−１−ナフチル基、３，７−ジメチル−１−ナフチル基、３，８−ジメチル−１−ナフチル基、４，５−ジメチル−１−ナフチル基、５，８−ジメチル−１−ナフチル基、４−エチル−１−ナフチル基２−ナフチル基、１−メチル−２−ナフチル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチル基等のナフチル基または炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基で置換されたナフチル基；これらのナフチル基またはアルキル置換ナフチル基を、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基等の１個以上あるいは１種以上で置換した基等を挙げることができる。
【０１０６】
ナフチル基およびアルキル置換ナフチル基に対する置換基であるアルコキシル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシカルボニルオキシ基としては、例えば、前記フェニル基およびアルキル置換フェニル基について例示したそれぞれ対応する基を挙げることができる。
【０１０７】
また、２つのＲ¹³が互いに結合して形成した炭素数２〜１０の２価の基としては、式中の硫黄原子と共に５員または６員の環状構造、特に好ましくは５員の環状構造（即ち、テトラヒドロチオフェン環構造）を形成する基が望ましい。
また、前記２価の基に対する置換基としては、例えば、前記フェニル基およびアルキル置換フェニル基に対する置換基として例示したヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシル基、アルコキアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基と同様のものを挙げることができる。
【０１０８】
一般式（６）において、Ｒ¹³としては、メチル基、エチル基、フェニル基、４−メトキシフェニル基、１−ナフチル基、２つのＲ¹³が互いに結合して硫黄原子と共にテトラヒドロチオフェン環構造を形成する２価の基等が好ましい。
また、ｑとしては、０または１が好ましい。
【０１０９】
一般式（６）において、Ｚ^-のＣ_iＦ_2i+1ＳＯ₃ ^-中のＣ_iＦ_2i+1−基は、炭素数ｉのパーフルオロアルキル基であるが、該パーフルオロアルキル基は直鎖状もしくは分岐状であることができる。
Ｚ^-におけるｉとしては、４または８が好ましい。
【０１１０】
酸発生剤（６）の具体例としては、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１１】
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１２】
１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１３】
１−（４−メトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−メトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−メトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１４】
１−（４−メトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−メトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−メトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−エトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−エトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−エトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−〔４−（１−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−〔４−（１−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔４−（１−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１５】
１−〔４−（２−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−〔４−（２−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔４−（２−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−メトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−メトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−メトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−エトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−エトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−エトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１６】
１−（４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
【０１１７】
１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−〔４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−〔４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
１−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート
等を挙げることができる。
【０１１８】
これらの酸発生剤（６）のうち、特に、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（１−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート等が好ましい。
【０１１９】
また、酸発生剤（６）以外の感放射線性酸発生剤（以下、「他の酸発生剤」という。）としては、例えば、オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物等を挙げることができる。
これらの他の酸発生剤としては、例えば、下記のものを挙げることができる。
【０１２０】
オニウム塩化合物：
オニウム塩化合物としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。
オニウム塩化合物の具体例としては、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等を挙げることができる。
【０１２１】
ハロゲン含有化合物：
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等を挙げることができる。
ハロゲン含有化合物の具体例としては、フェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１−ナフチルビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等の（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン誘導体や、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン等を挙げることができる。
ジアゾケトン化合物：
ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げることができる。
ジアゾケトンの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げることができる。
【０１２２】
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの化合物のα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。
スルホン化合物の具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン等を挙げることができる。
スルホン酸化合物：
スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、アルキルスルホン酸イミド、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
スルホン酸化合物の具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールのトリス（トリフルオロメタンスルホネート）、ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート等を挙げることができる。
【０１２３】
これらの他の酸発生剤のうち、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、
シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【０１２４】
トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミドパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート
等が好ましい。
【０１２５】
本発明において、酸発生剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明において、酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジストとしての感度および現像性を確保する観点から、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部である。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部未満では、感度および現像性が低下する傾向があり、一方２０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得られ難くなる傾向がある。
【０１２６】
添加剤
本発明の感放射線性樹脂組成物には、必要に応じて、酸拡散制御剤、酸解離性基を有する脂環族添加剤、界面活性剤、増感剤等の各種の添加剤を配合することができる。
前記酸拡散制御剤は、露光により酸発生剤（Ｂ）から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する作用を有する成分である。
このような酸拡散制御剤を配合することにより、得られる感放射線性樹脂組成物の貯蔵安定性が向上し、またレジストとしての解像度がさらに向上するとともに、露光から現像処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物が得られる。
前記酸拡散制御剤としては、レジストパターンの形成工程中の露光や加熱処理により塩基性が変化しない含窒素有機化合物が好ましい。
このような含窒素有機化合物としては、例えば、下記一般式（７）
【０１２７】
【化９】

〔一般式（７）において、各Ｒ¹⁴は相互に独立に水素原子、置換もしくは非置換の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を示す。〕
【０１２８】
で表される化合物（以下、「含窒素化合物（イ）」という。）、同一分子内に窒素原子を２個有する化合物（以下、「含窒素化合物（ロ）」という。）、窒素原子を３個以上有するポリアミノ化合物や重合体（以下、これらをまとめて「含窒素化合物（ハ）」という。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等を挙げることができる。
【０１２９】
含窒素化合物（イ）としては、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、ナフチルアミン等の芳香族アミン類を挙げることができる。
【０１３０】
含窒素化合物（ロ）としては、例えば、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼン、１，３−ビス〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ビス（２−ジエチルアミノエチル）エーテル等を挙げることができる。
含窒素化合物（ハ）としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、２−ジメチルアミノエチルアクリルアミドの重合体等を挙げることができる。
【０１３１】
前記アミド基含有化合物としては、例えば、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’Ｎ’−テトラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２−ジアミノドデカン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物のほか、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０１３２】
前記ウレア化合物としては、例えば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリ−ｎ−ブチルチオウレア等を挙げることができる。前記含窒素複素環化合物としては、例えば、イミダゾール、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ [２．２．２] オクタン等を挙げることができる。
【０１３３】
これらの含窒素有機化合物のうち、含窒素化合物（イ）、アミド基含有化合物、含窒素複素環化合物等が好ましい。
前記酸拡散制御剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１３４】
また、前記酸解離性基を有する脂環族添加剤は、ドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等をさらに改善する作用を示す成分である。
このような脂環族添加剤としては、例えば、
１−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブチル、１−アダマンタンカルボン酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、１，３−アダマンタンジカルボン酸ジ−ｔ−ブチル、１−アダマンタン酢酸ｔ−ブチル、１−アダマンタン酢酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、１，３−アダマンタンジ酢酸ジ−ｔ−ブチル等のアダマンタン誘導体類；
デオキシコール酸ｔ−ブチル、デオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、デオキシコール酸２−エトキシエチル、デオキシコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、デオキシコール酸３−オキソシクロヘキシル、デオキシコール酸テトラヒドロピラニル、デオキシコール酸メバロノラクトンエステル等のデオキシコール酸エステル類；
リトコール酸ｔ−ブチル、リトコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、リトコール酸２−エトキシエチル、リトコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、リトコール酸３−オキソシクロヘキシル、リトコール酸テトラヒドロピラニル、リトコール酸メバロノラクトンエステル等のリトコール酸エステル類
等を挙げることができる。
これらの脂環族添加剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１３５】
また、前記界面活性剤は、塗布性、ストリエーション、現像性等を改良する作用を示す成分である。
このような界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、エフトップＥＦ３０１，同ＥＦ３０３，同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）製）、メガファックスＦ１７１，同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０，同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２，同ＳＣ−１０１，同ＳＣ−１０２，同ＳＣ−１０３，同ＳＣ−１０４，同ＳＣ−１０５，同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１３６】
また、前記増感剤は、放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤（Ｂ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加する作用を示すもので、感放射線性樹脂組成物のみかけの感度を向上させる効果を有する。
このような増感剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ナフタレン類、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン類、アントラセン類、フェノチアジン類等を挙げることができる。
これらの増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、染料あるいは顔料を配合することにより、露光部の潜像を可視化させて、露光時のハレーションの影響を緩和でき、接着助剤を配合することにより、基板との接着性を改善することができる。
さらに、前記以外の添加剤としては、後述するアルカリ可溶性樹脂、酸解離性の保護基を有する低分子のアルカリ溶解性制御剤、ハレーション防止剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙げることができる。
【０１３７】
組成物溶液の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、普通、その使用に際して、全固形分濃度が、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したのち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過することによって、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、
２−ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状もしくは分岐状のケトン類；
シクロペンタノン、３−メチルシクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン等の環状のケトン類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類；
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等の３−アルコキシプロピオン酸アルキル類のほか、
【０１３８】
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン
等を挙げることができる。
【０１３９】
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、就中、直鎖状もしくは分岐状のケトン類、環状のケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類、３−アルコキシプロピオン酸アルキル類、γ−ブチロラクトン等が好ましい。
【０１４０】
レジストパターンの形成方法
本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型レジストとして有用である。
前記化学増幅型レジストにおいては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中の酸解離性基が解離して、カルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のレジストパターンが得られる。
本発明の感放射線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際には、組成物溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウエハー、アルミニウムで被覆されたウエハー等の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成し、場合により予め加熱処理（以下、「ＰＢ」という。）を行ったのち、所定のレジストパターンを形成するように該レジスト被膜に露光する。その際に使用される放射線としては、使用される酸発生剤（Ｂ）の種類に応じて、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等を適宜選定して使用されるが、ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）あるいはＦ₂ エキシマレーザー（波長１５７ｎｍ）に代表される遠紫外線が好ましい。
本発明においては、露光後に加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を行うことが好ましい。このＰＥＢにより、酸解離性基の解離反応が円滑に進行する。ＰＥＢの加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成によって変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃である。
【０１４１】
本発明においては、感放射線性樹脂組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−１２４５２号公報等に開示されているように、使用される基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成しておくこともでき、また環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技術を併用することもできる。
次いで、露光されたレジスト被膜をアルカリ現像液を用いて現像することにより、所定のレジストパターンを形成する。
前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、１０重量％以下である。この場合、アルカリ性水溶液の濃度が１０重量％を超えると、非露光部も現像液に溶解するおそれがあり好ましくない。
【０１４２】
また、前記アルカリ性水溶液には、例えば有機溶媒を添加することもできる。
前記有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルｉ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、３−メチルシクロペンタノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
これらの有機溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。この場合、有機溶媒の使用量が１００容量％を超えると、現像性が低下して、露光部の現像残りが多くなるおそれがある。
また、前記アルカリ性水溶液には、界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ現像液で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。
【０１４３】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。ここで、部は、特記しない限り重量基準である。
実施例および比較例における各測定・評価は、下記の要領で行った。
Ｍｗ：
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
放射線透過率：
組成物溶液を石英ガラス上にスピンコートにより塗布し、９０℃に保持したホットプレート上で６０秒間ＰＢを行って形成した膜厚０．３４μｍのレジスト被膜について、波長１９３ｎｍにおける吸光度から、放射線透過率を算出して、遠紫外線領域における透明性の尺度とした。
【０１４４】
感度：
基板として、表面に膜厚８２０ÅのＡＲＣ２５（ブルワー・サイエンス（Brewer Science）社製）膜を形成したシリコーンウエハー（ＡＲＣ２５）を用い、各組成物溶液を、基板上にスピンコートにより塗布し、ホットプレート上にて、表２に示す条件でＰＢを行って形成した膜厚０．３４μｍのレジスト被膜に、（株）ニコン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（レンズ開口数０．５５、露光波長１９３ｎｍ）により、マスクパターンを介して露光した。その後、表２に示す条件でＰＥＢを行ったのち、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で６０秒間現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形成した。このとき、線幅０．１６μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の線幅に形成する露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。
解像度：
最適露光量で解像される最小のレジストパターンの寸法を、解像度とした。
【０１４５】
ドライエッチング耐性：
組成物溶液をシリコーンウエハー上にスピンコートにより塗布し、乾燥して形成した膜厚０．５μｍのレジスト被膜に対して、ＰＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000) を用い、エッチングガスをＣＦ₄ とし、ガス流量７５ｓｃｃｍ、圧力２．５ｍＴｏｒｒ、出力２，５００Ｗの条件でドライエッチングを行って、エッチング速度を測定し、クレゾールノボラック樹脂からなる被膜のエッチング速度に対する相対値により、相対エッチング速度を評価した。エッチング速度が小さいほど、ドライエッチング耐性に優れることを意味する。
パターン形状：
線幅０．１６μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺寸法Ｌb と上辺寸法Ｌa とを走査型電子顕微鏡により測定し、
０．８５≦Ｌa ／Ｌb ≦１を満足し、かつパターン形状が裾を引いていない場合を、パターン形状が“良好”とした。
【０１４６】
合成例１
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル１７．１２ｇ（３２モル％）、下記式（α−１）で表される化合物（α−１）１５．２１ｇ（３２モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル７．５３ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．１０ｇを２−ブタノン３９．８６ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、下記式（β−１）で表される化合物（β−１）１０．１４ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１０．１５ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却し、２−ブタノン１００ｇで希釈したのち、メタノール１，０００ｇ中に投入して、析出した白色粉末をろ別した。その後、白色粉末をメタノール２００ｇと混合して洗浄する操作を２回繰り返して、炉別したのち、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末の樹脂４２ｇ（収率８４重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが９，７００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよび化合物（β−１）に由来する各繰り返し単位の含有率が３３．２／３２．９／１６．４／１７．５（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-1）とする。
【０１４７】
【化１０】

【０１４８】
合成例２
アクリル酸１−メチルシクロペンチル１２．７６ｇ（３２モル％）、化合物（α−１）１７．２２ｇ（３２モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル８．５３ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．３８ｇを２−ブタノン３８．５１ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、化合物（β−１）１１．４９ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１１．４９ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３４ｇ（収率６８重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが８，７００であり、アクリル酸１−メチルシクロペンチル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよび化合物（β−１）に由来する各繰り返し単位の含有率が３２．６／３１．９／１６．９／１８．６（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-2）とする。
【０１４９】
合成例３
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル１６．４９ｇ（３２モル％）、化合物（α−１）１４．６４ｇ（３２モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル７．２５ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．０２ｇを２−ブタノン３８．３８ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、下記式（β−２）で表される化合物（β−２）１１．６２ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１１．６２ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３７ｇ（収率７４重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが９，２００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよび化合物（β−２）に由来する各繰り返し単位の含有率が３２．９／３３．１／１６．４／１７．６（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-3）とする。
【０１５０】
【化１１】

【０１５１】
合成例４
アクリル酸１−メチルシクロペンチル１２．２２ｇ（３２モル％）、化合物（α−１）１６．５１ｇ（３２モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル８．１８ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．２８ｇを２−ブタノン３６．９１ｇに溶解した単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、化合物（β−２）１３．０９ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１３．０９ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３５ｇ（収率７０重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが８，９００であり、アクリル酸１−メチルシクロペンチル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよび化合物（β−２）に由来する各繰り返し単位の含有率が３１．５／３３．５／１６．７／１８．３（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-4）とする。
【０１５２】
合成例５
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル８．３２ｇ（１６モル％）、化合物（α−１）２２．１８ｇ（４８モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル７．３２ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．０１ｇを２−ブタノン３７．８２ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル１２．１８ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１２．１８ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３８ｇ（収率７６重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが１０，１００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよびビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステルに由来する各繰り返し単位の含有率が１５．９／４８．７／１６．１／１９．３（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-5）とする。
【０１５３】
合成例６
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル２０．３０ｇ（４０モル％）、化合物（α−１）１８．２１ｇ（４０モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル１．９６ｇを２−ブタノン３８．３４ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル５．９４ｇ（１０モル％）、化合物（β−２）５．７２ｇ（１０モル％）および２−ブタノン１１．６６ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３３ｇ（収率６６重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが８，９００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステルおよび化合物（β−２）に由来する各繰り返し単位の含有率が４１．２／３９．９／９．８／９．１（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-6）とする。
【０１５４】
合成例７
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル８．７４ｇ（１６モル％）、化合物（α−１）２３．２９ｇ（４８モル％）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル７．６７ｇ（１６モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．１１ｇを２−ブタノン３９．７３ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル１０．２７ｇ（２０モル％）および２−ブタノン１０．２７ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３９ｇ（収率７８重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが８，４００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルおよびビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルに由来する各繰り返し単位の含有率が１５．９／４８．６／１６．１／１９．４（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-7）とする。
【０１５５】
合成例８
アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル２０．７９ｇ（４０モル％）、化合物（α−１）１８．４７ｇ（４０モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル２．０１ｇを２−ブタノン３９．２５ｇに溶解した、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル４．８９ｇ（１０モル％）、化合物（β−２）５．８６ｇ（１０モル％）および２−ブタノン１０．７５ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、合成例１と同様にして処理することにより、白色粉末の樹脂３２ｇ（収率６４重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが８，９００であり、アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルおよび化合物（β−２）に由来する各繰り返し単位の含有率が４１．３／３９．８／９．３／９．６（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-8）とする。
【０１５６】
合成例９
アクリル酸１−メチルシクロペンチル１４．０２ｇ（２０モル％）、化合物（α−１）２８．３９ｇ（３０モル％）、アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル２０．２１ｇ（２０モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル８．３２ｇを２−ブタノン６２．５１ｇに溶解した、単量体溶液を準備した。
別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン３７．３９ｇ（３０モル％）および２−ブタノン３７．３９ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却して、容量１，０００ミリリットルの分液漏斗に入れ、さらに酢酸エチル２００ｇ、メタノール１５０ｇおよび水２００ｇを分液漏斗に入れて、５時間攪拌し、その後１時間静置したのち、下層の溶液を取り出した。
次いで、この溶液を、エバポレーターを用いてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液に置換して、固形分濃度４１重量％の樹脂溶液２００ｇ（樹脂の収率８２重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが６，５００であり、アクリル酸１−メチルシクロペンチル、化合物（α−１）、アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イルおよび５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンに由来する各繰り返し単位の含有率が２０．２／３１．６／２１．１／２７．１（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-9）とする。
【０１５７】
合成例１０
アクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル１８．８９ｇ（２０モル％）、化合物（α−１）２６．７８ｇ（３０モル％）、アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル１９．０９ｇ（２０モル％）およびアゾビスイソ吉草酸メチル７．８９ｇを２−ブタノン６４．７３ｇに溶解して、単量体溶液を準備した。別に、容量５００ミリリットルの三口フラスコに、５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン３５．２７ｇ（３０モル％）および２−ブタノン３５．２７ｇを入れて、３０分間窒素パージを行った。その後、反応溶液を攪拌しながら８０℃に保持して、前記単量体溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、さらに３時間加熱して重合した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却し、２−ブタノン２００ｇで希釈したのち、メタノール２，０００ｇ中に投入して、析出した白色粉末をろ別した。その後、この白色粉末をメタノール４００ｇと混合して洗浄する操作を２回繰り返して、炉別したのち、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末の樹脂８２ｇ（収率８２重量％）を得た。
この樹脂はＭｗが６，７００であり、アクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル、化合物（α−１）、アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イルおよび５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンに由来する各繰り返し単位の含有率が２０．２／３１．２／２１．０／２７．６（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-10)とする。
【０１６０】
【実施例】
実施例１〜１０および比較例１
表１に示す成分からなる各組成物溶液について、各種評価を行った。なお、前記合成例で溶液として得た樹脂（Ａ-9) の場合は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートにより濃度調整して組成物溶液を調製した。評価結果を表３に示す。
表１における重合体（Ａ-1）〜（Ａ-10)以外の成分は以下のとおりである。
酸発生剤（Ｂ）
Ｂ-1：１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
Ｂ-2：トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
酸拡散制御剤
Ｃ-1：２−フェニルベンズイミダゾール
Ｃ-2：Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール
溶剤
Ｄ-1：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
Ｄ-2：２−ヘプタノン
【０１６１】
【表１】

【０１６２】
【表２】

【０１６３】
【表３】

【０１６４】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、活性光線、例えばＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、特に解像度に優れており、しかも感度、ドライエッチング耐性、パターン形状にも優れ、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好であり、今後ますます微細化が進行すると予想される集積回路素子の製造に極めて好適に使用できる。

Claims

（Ａ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位と、主鎖にノルボルナン骨格を有する繰り返し単位とからなり、前記アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位が下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位および／または下記一般式（１−２）で表される繰り返し単位を含有し、前記主鎖にノルボルナン骨格を有する繰り返し単位が下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２−２）で表される繰り返し単位および下記一般式（２−３）で表される繰り返し単位の群から選ばれる少なくとも１種を含有し、前記アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位の含有率が５０〜９０モル％、前記主鎖にノルボルナン骨格を有する繰返し単位の含有率が１０〜５０モル％である酸解離性基含有樹脂、並びに
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

〔一般式（１−１) において、Ｒ¹は水素原子を示し、Ｚ¹は直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ²はヒドロキシル基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基またはアミノ基を示す。
一般式（１−２) において、Ｒ³は水素原子を示し、各Ｒ⁴は相互に独立に１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ⁴が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ⁴が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。〕

〔一般式（２−１）において、Ｚ²は単結合、直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ⁵はヒドロキシル基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基またはアミノ基を示し、ｎは０〜２の整数である。
一般式（２−２）において、各Ｒ⁶は相互に独立に炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ⁶が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ⁶が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基もしくはその誘導体または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示し、ｎは０〜２の整数である。
一般式（２−３）において、Ｒ⁷は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基、または置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基を示し、ｎは０〜２の整数である。〕