JP4078456B2 - 微粒子構造体 - Google Patents
微粒子構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4078456B2 JP4078456B2 JP2003026771A JP2003026771A JP4078456B2 JP 4078456 B2 JP4078456 B2 JP 4078456B2 JP 2003026771 A JP2003026771 A JP 2003026771A JP 2003026771 A JP2003026771 A JP 2003026771A JP 4078456 B2 JP4078456 B2 JP 4078456B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particle
- fine particles
- fine
- particles
- particle structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトニック結晶として利用される微粒子構造体に関し、特に微粒子構造体への欠陥導入に関するものである。
【0002】
本発明は、フォトニック結晶の欠陥を利用した導波路デバイス、および、光共振器などの光回路の分野への応用に特に適する微粒子構造体に関するものであるが、さらに、フォトニック結晶に限らず、一般に、構造体が高度に規則配列した周期構造を有することによる特有の特性を発現し、かつ、この構造体中に全体の周期構造を壊すことなく、周期構造の欠陥(不規則性)を導入することにより、新たな特性を発現する材料およびデバイスに適用可能である。
【0003】
【従来の技術】
従来の微粒子を用いた構造体やフォトニック結晶、およびその形成方法に関する公知文献として、例えば特許第2905712号(特許文献1)、特開2001−42144号公報(特許文献2)、特開2001−249234号公報(特許文献3)などがある。以下、これらの公知文献の要約をまとめておく。
【0004】
a)特許第2905712号明細書(特許文献1)に開示された発明は、微粒子の最密充填構造を有したオパール様回折発色膜とその製造法に関するものである。
b)特開2001−42144号公報(特許文献2)に開示された発明は、微粒子の結晶構造を利用したフォトニック結晶とその製造方法に関するものである。c)特開2001−249234号公報(特許文献3)に開示された発明は、ポリマー媒質中で微粒子を配列させた後に、圧縮するフォトニック結晶の形成方法に関するものである。
【0005】
これらは、結晶全体の構造を崩さずに、欠陥ボリュームが制御された欠陥が導入された微粒子構造体および微粒子によるフォトニック結晶については何ら言及していない。
【0006】
【特許文献1】
特許第2905712号明細書
【特許文献2】
特開2001−42144号公報
【特許文献3】
特開2001−249234号公報
【非特許文献1】
ユリイ エー ヴラソフ(Yurii A.Vlasov)外3名著,“On-chip natural assembly of silicon photonic bandgap crystals”「ネ−チャ(Nature)」,2001年11月15日,Vol.414, p.289−293
【非特許文献2】
クラシミール ピー ベリコフ(Krassimir P.Velikov)外2名著“Photonic crystal of core-shell colloidal particles”「アプライド フィズィックス レターズ(Applied Physics Letters)」,2002年1月7日,Vol.80,No.1, p.49−51
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
フォトニック結晶とは、屈折率の異なった二つ以上の材料(一方は空気でも可)が、空間的な対称性・規則性を有して配置された周期構造を有する材料である。フォトニック結晶では、この規則構造・周期構造を有することにより、従来の光学材料では得られなかった特性を発揮するようになる。
【0008】
そのもっとも特徴的なものは、フォトニックバンドギャップ(PBG)の発現である。フォトニック結晶では、PBGに対応した波長の光は完全に通さないが、その他の波長は透過させることができる。完全(無欠陥)なフォトニック結晶では、PBGの波長の光は完全に通さない。図12は、フォトニック結晶の光透過スペクトルを示す図(横軸;波長、縦軸;透過率)であり、101はPBG(フォトニックバンドギャップ)を示している。PBG101に対応した波長の光はフォトニック結晶中を通さない(透過率がゼロ)ことを示している。
【0009】
こうしたフォトニック結晶の利用の仕方にはいろいろあるが、フォトニック結晶の特性を活かした最も重要な使用方法は、フォトニック結晶中に欠陥を導入することにより、本来、光が存在しえないPBG中に局在化した準位(欠陥準位)を発生させて、欠陥が導入された領域にのみ光を局在させるというものである。
【0010】
図13は、光が存在しえないPBG中に欠陥により発生した局在化した準位(欠陥準位)102を示す図であり、光はこの局在化した準位(欠陥準位)102のみに局在するようになる。こうした光の局在化の特性を利用して導波路や共振器などを構成することが可能となる。
【0011】
こうした欠陥の導入が具体的にどのように行われているのかを、通常、行われている SOI(Silicon on Insulator)を利用したエアーブリッジ型の2次元フォトニック結晶を例にして説明する。
【0012】
図14は、無欠陥の2次元のエアーブリッジ型フォトニック結晶を示す図であり、同図(a)は上方から見た平面図を、同図(b)はその断面図を示している。図14に示す無欠陥の2次元のエアーブリッジ型フォトニック結晶では、シリコン結晶103中に一定の周期でエアーホール104が導入されていて、欠陥が全く存在しない状態を示している。同図において、105はシリコン基板、106は酸化シリコン、107は空隙を示している。
【0013】
図14に示す如き無欠陥の2次元のエアーブリッジ型フォトニック結晶への欠陥導入は、周期構造の繰り返しを乱すことによって行われる。
【0014】
具体的には、図15(a)に示すように、無欠陥の2次元エアーブリッジ型フォトニック結晶の場合に周期的に繰り返されるエアーホールのうち、欠陥108となる箇所にはエアーホールを入れないという方法(これを「ドナー型」という)と、図15(b)に示すように、無欠陥の2次元エアーブリッジ型フォトニック結晶の場合に周期的に繰り返されるエアーホール104のうち、欠陥109となる箇所には他のエアーホール104とは異なる大きさのエアーホールを入れてやる方法(これを「アクセプタ型」という)がある。こうしたドナー型およびアクセプタ型といった呼び方の由来は、通常の半導体材料への不純物ドーピングのアナロジーからきている。
【0015】
また、特にアクセプタ型では、欠陥となる位置のエアーホールの大きさを変えることにより、PBGに導入される準位のエネルギー(波長λ)を変えてやることができる。図16は、アクセプタ型欠陥の大きさと順位のエネルギー(周波数ω=hc/波長λ)の関係を示す図であり、アクセプタ型欠陥の大きさが大きくなるほど、PBGに導入される順位のエネルギーも大きくなることを示している。
【0016】
この関係を利用することにより、アクセプタ型欠陥の大きさによる波長チューニング性を付与させることができる。このように、欠陥の大きさを変えることにより、波長チューニング性を付与させることを、本発明では、“欠陥ボリュームを制御する”という言葉を用いて表現することにする。
【0017】
上記の例は、フォトニック結晶として2次元結晶を用いた場合の例であるが、光の局在化や閉じ込めが可能になるというフォトニック結晶の特性を考えると、フォトニック結晶として3次元結晶の形態で利用した方が有効と考えられる。その理由は、2次元結晶の場合には、上下方向に対して光の閉じ込め効果が働いていないため、どうしても上下方向に光が漏れてしまうからである。
【0018】
しかしながら、上記で説明した技術は、フォトリソグラフィなどによる微細加工技術をベースにしているため、3次元フォトニック結晶へ適用させることは難しい。
【0019】
3次元フォトニック形成に有利な微粒子を用いた方法では、フォトニック結晶に欠陥を導入したり、ドーピングしたりする場合には、従来、フォトニック結晶の基本構造を構成する微粒子とは大きさの異なる微粒子を結晶の一部に入れていた(例えば、ユリイ エー ヴラソフ(Yurii A.Vlasov)外3名著,“On-chip natural assembly of silicon photonic bandgap crystals”「ネーチャ(Nature)」,2001年11月15日,Vol.414, p.289−293参照;非特許文献1)
【0020】
しかしながら、この方法では、フォトニック結晶全体の周期構造を乱さずに導入できる欠陥は、基本構造を構成する微粒子間の間隙にちょうど入り込める微粒子の使用しか許されない。これよりも大きな微粒子を使用すると、フォトニック結晶全体の周期構造を乱してしまう。したがって、この方法では、導入した欠陥の欠陥ボリュームを制御することはできない。
【0021】
以上のように、3次元フォトニック結晶に欠陥を導入し、かつ、結晶全体の周期構造を壊さずに自在にその欠陥ボリュームが制御する方法は、従来、全く提示されていなかった。
【0022】
本発明の目的は、上記問題点を解消し、欠陥ボリュームが制御された欠陥が導入された3次元フォトニック結晶などのための微粒子構造体を提供すること、また、フォトニック結晶と同様に、構造体が規則的な繰り返し構造(周期構造)を有することにより、特有の特性を発現し、この周期構造体中に欠陥を導入することにより、新たな特性が付与される場合において、構造体全体の繰り返しを乱すことなく、局所的に欠陥が導入された周期的な微粒子構造体を提供することにある。
【0023】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、次のような構成を有することを特徴としている。すなわち、
a)請求項1記載の発明は、微粒子が3次元的に周期構造を有する微粒子構造体において、材質aからなる微粒子1および材質bの芯と材質cの外殻からなる多重構造を有する微粒子2とから形成され、かつ、微粒子1と微粒子2は同一粒子径かつ同一形状を有し、微粒子2が任意の箇所に導入されていることを特徴としている。
【0024】
b)請求項2記載の発明は、請求項1に記載の微粒子構造体において、さらに、微粒子2の材質bと材質cによる多重構造が空間的な対称性を有していることを特徴としている。
【0025】
c)請求項3記載の発明は、請求項1または2記載の微粒子構造体において、微粒子1および微粒子2が球形状であることを、請求項4記載の発明は、微粒子2が材質bが異なる複数種の微粒子を含んでいることを、請求項5記載の発明は、微粒子2が芯と外殻の体積比率が異なる複数種の微粒子を含んでいることを、それぞれ特徴としている。
【0026】
d)請求項6記載の発明は、請求項1または2記載の微粒子構造体において、微粒子2の配置位置が、微粒子構造体中で、2次元的もしくは3次元的に任意のパターンとなっていることを特徴とし、請求項7記載の発明は、さらに、当該微粒子構造体中の微粒子2のパターンが空間的な対称構造を有していることを特徴としている。
【0027】
【発明の実施の形態】
本発明に係る微粒子構造体の基本構成を、図1を用いて説明する。同図において、(a)は本発明に係る微粒子構造体の斜視図、同図(b)はその断面図である。
【0028】
図1(b)に示すように、本発明に係る微粒子構造体は、材質aからなる微粒子1の周期的構造体中に、材質bの芯と材質cの外殻からなる多重構造を有する微粒子2が部分的に置換されて導入されている。
【0029】
微粒子1と微粒子2は同一粒子径、かつ、同一形状であるため、微粒子1からなる周期的構造体の中に微粒子2が入り込んでいても、微粒子構造体全体の周期性を乱すことはないが、フォトニック結晶のように特性の決定に誘電率が支配している場合を例にすると、微粒子2の芯の材質bとして微粒子1の材質aとは異なる誘電率のものを選択することにより、フォトニック結晶としては欠陥が導入されたことと等価になる。その結果として、光学特性としては、この欠陥の導入によって局在化された準位が形成される。
【0030】
上の説明では、微粒子2の外殻の材質cについては、特に述べなかったが、フォトニック結晶としては、微粒子2全体の平均化された誘電率が問題となるわけで、微粒子2の平均化された誘電率の値を制御するために、粒子2の芯の材質bと外殻の材質cが異なるようにすればよい。通常は、粒子2の外殻の材質cと粒子1の材質aは同じ材質にした方が製法上から見て都合が良い。
【0031】
以上の説明で、材質の誘電率について述べているのは、フォトニック結晶が誘電率の空間的周期構造によって、その特性を発現するからである。本発明の本旨は、全体の周期構造が乱されることなく、制御された欠陥が導入されている微粒子構造体である。したがって、誘電率ではない他の物性値の空間周期構造によりフォトニック結晶以外の特有の特性を発現する構造体の場合には、特性を発現する元となる誘電率以外の物性値が粒子1の材質aと粒子2の芯の材質bとで異なるようにすればよい。
【0032】
本発明では、導入する欠陥の箇所が多重構造を有していることにより、その箇所の平均の物性値(フォトニック結晶の場合には誘電率)を制御している。このようなやり方は、微細加工によるトップダウン的な形成方法では難しい。本発明でも、欠陥導入のための微粒子2に多重構造をもたせ、その大きさと形状を、結晶の構成する微粒子1と同一にして、ボトムアップ(自己組織化現象の利用)により、全体の周期構造を乱さずに、制御された欠陥が入っている微粒子構造体を実現している。
【0033】
フォトニック結晶内の欠陥の分類方法として、上では、ドナー型とアクセプタ型という分類の仕方について説明したが、欠陥の別の分類の仕方としては、「空気欠陥」と「誘電体欠陥」という分類の仕方がある。フォトニック結晶の誘電率空間変調が誘電率ε1と誘電率ε2の物質の空間周期構造により構成されている場合(誘電率ε1<誘電率ε2)に、誘電率ε1あるいはそれに近い誘電率により導入された欠陥を「空気欠陥」と呼ぶ。また、誘電率ε2あるいはそれに近い誘電率により導入された欠陥を「誘電体欠陥」と呼ぶ。
【0034】
この名前の由来は、通常のフォトニック結晶では、空気(誘電率ε1)と誘電体(誘電率ε2)により構成されるからである。こうした欠陥は、「空気欠陥」の場合は、PBG中の低波長側に局在準位をつくり、「誘電体欠陥」の場合は、PBG中の長波長側に局在準位をつくるという特徴を有している。
【0035】
図2は「空気欠陥」と「誘電体欠陥」における局在化した順位の位置を示す例であり、同図(a)はPBG中の低波長側に局在準位11が作られた「空気欠陥」の場合を示し、同図(b)はPBG中の長波長側に局在準位12が作られた「誘電体欠陥」の場合を示している。
【0036】
本発明の利点の一つは、図14と図15を用いて説明した従来の欠陥導入方法では、アクセプタ型の欠陥は自動的に「空気欠陥」となってしまうが、本発明の場合には、微粒子1と微粒子2の材質の選び方によって、「空気欠陥」と「誘電体欠陥」のどちらのタイプでもアクセプタ型による波長チューニングが可能だという点である。
【0037】
すなわち、シリカ(SiO2 )とチタニアで材料の構成を考えた場合に、微粒子1をシリカ(SiO2)で構成し、微粒子2の芯をチタニアで構成した場合に「誘電体欠陥」を導入できる(詳細は、後述する図3に示す実施例を参照)。
【0038】
また逆に、微粒子1をチタニアで構成し、微粒子2の芯をシリカ(SiO2 )で構成した場合に「空気欠陥」を導入することができる。さらに、どちらのやり方でも、微粒子2の芯の大きさを変えることにより、波長チューニングを行うことができる。
【0039】
また、以上の説明では、微粒子構造体の基本構造を構成する微粒子には均質の微粒子を用い、欠陥を導入する微粒子には、多重構造の粒子を用いたが、本発明の本旨からして、この逆の構成であっても良い。すなわち、微粒子構造体の基本構造を構成する微粒子に多重構造の微粒子を用い、欠陥を導入する微粒子に均質の微粒子を用いても良い。
【0040】
本発明で用いている多重構造の粒子を形成する方法には既にいろいろな方法が開発されており、こうした多重構造の粒子を使ってフォトニック結晶に利用するという研究は、例えば、クラシミール ピー ベリコフ(Krassimir P.Velikov)外2名著“Photonic crystal of core-shell colloidal particles”「アプライド フィズィックス レターズ(Applied Physics Letters)」,2002年1月7日,Vol.80,No.1, p.49−51(非特許文献2)などの論文に開示されているが、本発明のように同一の大きさ(粒子径)・形状の粒子を用いることにより、結晶の乱れを防止できることや、欠陥ボリュームを制御できることなどについては全く報告されていない。
【0041】
以下、本発明の実施例を、図面を用いて詳細に説明する。
(実施例1)
本実施例では、請求項1、請求項2および請求項3の発明を具体的に実施した例を説明する。
【0042】
本実施例では、図3に示すように、微粒子1として、粒径 300 nm の球形状単分散シリカ(SiO2 )粒子13を使用し、微粒子2として、粒径 250 nm の球形状単分散チタニア粒子14の表面にシリカ(SiO2 )15をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子を使用した。
【0043】
図4は、微粒子構造体の集積方法を示す図である。
図4に示すように、まず、上記微粒子1(粒径 300 nm の球形状単分散シリカ粒子)を水:エタノール=1:1の分散媒中に 5wt%で分散させた原料液20を調整し、原料液容器19に入れる。同図において、25は原料液容器19からの分散媒蒸散防止のためのカバーである。
【0044】
次に、酸化膜つき Si ウェハに Ti イオンを照射した基板21と、酸化膜つき Siウェハの基板22の間に、粒径 10 μm の微粒子をギャップ材23として用い、厚さ 10 μm の空間を作る。ここで、基板21にTi イオンを照射した基板を用いる理由は、後の工程で、基板21と基板22の間に形成された微粒子構造体24を剥がし取る際に、基板21の上に微粒子構造体24を選択的に残すためである。
【0045】
以上のようなギャップ材23を挟んだ基板21と基板22による構成物の下端を、図4に示すがごとく原料液20につける。このようにした場合、基板21と基板22による構成物の上端からは分散媒が蒸発するため、原料液20は、基板21と基板22による作られる間隙中を図4中の上方へ向かって供給され、基板21と基板22による構成物の上端に微粒子構造体24が集積される。このときにできる微粒子構造体24が図1(a)の断面より下側の部分である。
【0046】
微粒子構造体24の集積後、分散媒を充分蒸発させた後、基板22を剥がすことにより、基板21上に微粒子1(図3参照)を含む微粒子構造体24が得られる。
【0047】
この後、微粒子構造体24を700℃で1時間炉中アニールを行った後、今度は、微粒子2(図3参照)をマイクロピンセットにより、微粒子構造体24の表面の任意の位置、例えば図1(b)のように配置する。この後、再び、微粒子構造体を700℃で1時間炉中アニールを行なう。
【0048】
この後、基板上に微粒子構造体24が形成された基板21と基板22で、上記と同様の工程で、しかし今度は粒径 20 μm の微粒子をギャップ材に用いて、厚さ 20 μm の空間を作り、基板21と基板22による構成物の下端を、図4に示すように、微粒子1による原料液20につけて、先に形成した微粒子構造体24の表面に微粒子2が配置された微粒子構造体24の上に、さらに微粒子1の微粒子構造体を集積させる。このときにできる微粒子構造体24が図1(a)の断面より上側の部分である。
【0049】
微粒子構造体を集積した後、基板22を剥がし、700℃で1時間炉中アニールを行い、図1に示すような微粒子構造体を得る(図1では、基板21は省略してある)。
【0050】
上述したように、本例の場合は、図1(a)の微粒子構造体の斜視図の下から順次、結晶層、欠陥導入層、結晶層が形成される。同図(b)は図1(a)の断面と示している層の断面図であり、微粒子1からなる微粒子構造体の中に、微粒子2が配置されていることを示している。
【0051】
なお、上述したマイクロピンセットとは、原子間力顕微鏡やトンネル顕微鏡などに用いられているマイクロプローブを微小物質のハンドリングに用いたもので、これを用いて、粒子を1個ごと、あるいは、複数の粒子からなるブロックを狙った位置にもっていって配置する。
【0052】
(実施例2)
本実施例では、請求項1、請求項2および請求項4の発明を具体的に実施した例を説明する。
【0053】
本実施例では、図5に示すように、微粒子1として、粒径 300 nm の球形状単分散シリカ(SiO2 )粒子31を使用し、粒子2として、粒径 250 nm の球形状単分散チタニア粒子32の表面にシリカ(SiO2 )33をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-1)と、粒径 250 nm の球形状単分散アルミナ粒子34の表面にシリカ(SiO2 )35をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-2)を使用した。
【0054】
まず、実施例1と同様に、図4に示すようにして、微粒子1を酸化膜つき Si ウェハに Ti イオンを照射した基板21上に集積させる。このときにできる微粒子構造体が図6(a)の断面より下側の部分である。
【0055】
この後、微粒子構造体を700℃で1時間炉中アニールを行った後、マイクロピンセットにより、上記微粒子2-1と微粒子2-2をそれぞれ微粒子構造体の表面の任意の位置に配置する。このときの微粒子2(微粒子2-1と微粒子2-2)の配置例は図6(b)を参照されたい。
【0056】
その後、実施例1と同様に基板上に微粒子構造体が形成された基板21と基板22で、粒径 20 μm の微粒子をギャップ材に用いて、厚さ 20 μm の空間を作り、基板21と基板22による構成物の下端を、図4に示すように、微粒子1による原料液につけて、微粒子1の微粒子構造体を集積させる。このときにできる微粒子構造体が図6(a)の断面より上側の部分である。
【0057】
微粒子構造体を集積した後、基板22を剥がし、700℃で1時間炉中アニールを行い、図6に示すような微粒子構造体を得る(図6では、基板は省略してある)。
【0058】
上述したように、本例の場合は、図6(a)の微粒子構造体の斜視図の下から順次、結晶層、欠陥導入層、結晶層が形成される。同図(b)は図6(a)の断面と示している層の断面図であり、微粒子1からなる微粒子構造体の中に、微粒子2(微粒子2-1と微粒子2-2)が配置されていることを示している。
【0059】
(実施例3)
本実施例では、請求項1、請求項2および請求項5の発明を具体的に実施した例を説明する。
【0060】
本実施例では、図7に示すように、微粒子1として、粒径 300 nm の球形状単分散シリカ(SiO2 )粒子41を使用し、微粒子2として、粒径 250 nm の球形状単分散チタニア粒子42の表面にシリカ(SiO2 )43をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-1)と、粒径 200 nm の球形状単分散チタニア粒子44の表面にシリカ(SiO2 )45をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-2)を使用した。
【0061】
本実施例における微粒子構造体の形成方法は、微粒子2が異なるだけで実施例1および実施例2と同様である。
【0062】
本実施例によれば、図8に示すような微粒子構造体を得ることができる(図8では、基板21は省略してある)。
【0063】
上述したように、本例の場合は、図8(a)の微粒子構造体の斜視図の下から順次、結晶層、欠陥導入層、結晶層が形成される。同図(b)は図8(a)の断面と示している層の断面図であり、微粒子1からなる微粒子構造体の中に、微粒子2(微粒子2-1と微粒子2-2)が配置されていることを示している。
【0064】
(実施例4)
本実施例では、請求項1、請求項2および請求項6の発明を具体的に実施した例を説明する。
【0065】
本実施例では、図9に示すように、微粒子1として、粒径 300 nm の球形状単分散シリカ(SiO2 )粒子51を使用し、粒子2として、粒径 270 nm の球形状単分散チタニア粒子52の表面にシリカ(SiO2 )53をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-1)と、粒径 230 nm の球形状単分散チタニア粒子54の表面にシリカ(SiO2 )55をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-2)と、粒径 180 nm の球形状単分散チタニア粒子56の表面にシリカ(SiO2 )57をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子(微粒子2-3)を使用した。
【0066】
本実施例における微粒子構造体の形成方法は、実施例1、実施例2および実施例3と同様であるが、微粒子2(微粒子2-1、微粒子2-2、微粒子2-3)をマイクロピンセットで配列させる際に図10のように配列させる。粒子2(微粒子2-1、微粒子2-2、微粒子2-3)の配列の後、実施例3と同様に、微粒子1を集積させて、目的の微粒子構造体を得る。
【0067】
図10の如き特徴あるパターニングすることにより、波長λ1と波長λ2が混合された光を図10のAから入れると、微粒子2-2 により作られる局所準位の波長をλ1、微粒子2-3 により作られる局所準位の波長をλ2とするときに、波長λ1と波長λ2が混合された光を図10のAから入れると、Bからは波長λ1の光を、Cからは波長λ2の光を取り出すことが可能になる。
【0068】
(実施例5)
本実施例では、請求項1、請求項2および請求項7の発明を具体的に実施した例を説明する。
【0069】
本実施例では、微粒子1として、粒径 300 nm の球形状単分散シリカ粒子を使用し、微粒子2として、粒径 250 nm の球形状単分散チタニア粒子の表面にシリカ(SiO2 )をコートして、粒径 300 nm とした球形状単分散粒子を使用した。
【0070】
本実施例における微粒子構造体の形成方法は実施例1、実施例2、実施例3および実施例4と同様であるが、微粒子2をマイクロピンセットで配列させる際に図11のように配列させる点を特徴としている。微粒子2の配列の後、実施例3と同様に、微粒子1を集積させて、目的の微粒子構造体を得る。図11に示すとおり、本実施例は、六回対称と平進対称による繰り返し構造の場合の例である。
【0071】
本発明では、欠陥微粒子(微粒子2)と微粒子構造体の構成粒子(微粒子1)の形状・大きさが同一であるため、微粒子構造体全体の規則性を壊すことなく、空間対称構造を有した欠陥の導入を可能にしている。
【0072】
なお、上記実施例1から5で用いた微粒子の材料は、シリカ(SiO2 )、チタニア、アルミナであるが、本発明はこれらの材料に限定するものではない。シリカ(SiO2 )やチタニアなどの金属酸化物、他の無機誘電体材料、金属、半導体、有機物でもかまわない。要するに、周期構造効果を利用する物性値が、微粒子2の芯と外殻で異なっている点だけが重要である。
【0073】
なお、上記実施例では、まず、第1のギャップ材を用いて微粒子1を集積し、その集積面の所定の位置に微粒子2を配置し、さらに、その上に第2のギャップ材を用いて微粒子1を集積するようにしているが、さらなるギャップ材(第3のギャップ材、第4のギャップ材…など)を用いて、より多くの層に微粒子2を配置することも可能である。微粒子2を配置する層を多くすることによって多様なデバイスを実現することも可能である。
【0074】
以上、2つのギャップ材を用いて微粒子1の集積体、微粒子2の配置層、微粒子1の集積体からなる微粒子構造体を製造する方法、あるいは、より多くのギャップ材を用いることによって微粒子1の層、微粒子2の任意パターン配置層、微粒子1の層、微粒子2の任意パターン配置層、微粒子1…など、より多くの層を重ねた微粒子構造体を製造する方法の例を示したが、必ずしも上述した如きギャップ材を用いる必要はなく、複数層の結晶構造を積層する周知の技術を利用することによっても、微粒子1の層と微粒子2の任意パターン配置層を繰り返した構成を有する本発明に係る微粒子構造体を製造することは可能である。
【0075】
【発明の効果】
本発明によれば、次のような効果を奏する。
以下、本発明の効果を各請求項毎に記す。
請求項1に記載する微粒子構造体は、微粒子構造体の構成微粒子1と欠陥微粒子2が同じ形状、同じ粒径なので、欠陥が導入された微粒子構造体でも全体の構造を壊したり、乱したりすることがない。また、導入された欠陥は、欠陥微粒子2が多重構造を有しているため、平均の物性値(例えば、誘電率など)を変えることにより、微粒子構造体形成時に制御することができる。
【0076】
請求項2に記載する微粒子構造体は、欠陥微粒子2の多重構造が空間的な対称性を有しているために、導入される欠陥の制御性を向上させている。
【0077】
請求項3に記載する微粒子構造体は、微粒子1および微粒子2が球形状であるため、微粒子構造体の形成の際に、微粒子が最密充填構造をとろうとする自己組織化現象を利用して形成することができる。
【0078】
請求項4に記載する微粒子構造体は、芯と外殻からなる多重構造を有する粒子2が、芯の材質が異なっている複数種の微粒子を含んでいることにより、微粒子構造体中に特性の異なる複数の欠陥が導入されており、フォトニック結晶の場合には、異なった波長の利用といったように、欠陥が複数種あることを利用したデバイスへの利用が可能となる。
【0079】
請求項5に記載する微粒子構造体は、芯と外殻からなる多重構造を有する微粒子2が、芯と外殻の体積比率が異なっている複数種の微粒子を含んでいることにより、微粒子構造体中に特性の異なる複数の欠陥が導入されており、フォトニック結晶の場合には、異なった波長の利用といったように、欠陥が複数種あることを利用したデバイスへの利用が可能となる。
【0080】
請求項6に記載する微粒子構造体は、多重構造となっている微粒子2の配置位置が、微粒子構造体中で、2次元的もしくは3次元的な、任意のパターンとなっていることにより、導入された欠陥を利用して、導波路や共振器などのデバイスを構成することができる。
【0081】
請求項7に記載する微粒子構造体は、多重構造となっている微粒子2の微粒子構造体中でのパターンが空間的な対称構造を有していることにより、対称構造による共鳴効果利用したデバイスや共振器のモード低減など、空間対称構造による効果を利用したデバイスの構成が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る微粒子構造体の基本構成を示す図である。
【図2】空気欠陥と誘電体欠陥を説明するための図である。
【図3】実施例1で使用する微粒子を説明するための図である。
【図4】微粒子構造体の集積方法を説明するための図である。
【図5】実施例2で使用する微粒子を説明するための図である。
【図6】実施例2の微粒子構造体を示す図である。
【図7】実施例3で使用する微粒子を説明するための図である。
【図8】実施例3の微粒子構造体を示す図である。
【図9】実施例4で使用する微粒子を説明するための図である。
【図10】実施例4における微粒子2のパターンを説明するための図である。
【図11】実施例5における微粒子2のパターンを説明するための図である。
【図12】フォトニック結晶の光透過スペクトルを説明するための図である。
【図13】欠陥により発生する局在準位を説明するための図である。
【図14】エアーブリッジ型2次元フォトニック結晶を説明するための図である。
【図15】2次元フォトニック結晶への欠陥の導入を説明するための図である。
【図16】アクセプタ型欠陥の大きさと形成される準位の周波数の関係を示す図である。
【符号の説明】
11:低波長側の局在準位、12:長波長側の局在準位、13:シリカ(SiO2 )粒子、14:チタニア粒子、15:シリカ(SiO2 )粒子、
19:原料液容器、20:原料液、21,22:基板、23:ギャップ材、24:微粒子構造体、25:カバー、
31:シリカ(SiO2 )粒子、32:チタニア粒子、33:シリカ(SiO2 )、34:アルミナ粒子、35:シリカ(SiO2 )、
41:シリカ(SiO2 )粒子、42:チタニア粒子、43:シリカ(SiO2 )、44:チタニア粒子、45:シリカ(SiO2 )、
51:シリカ(SiO2 )粒子、52:チタニア粒子、53:シリカ(SiO2 )、54:チタニア粒子、55:シリカ(SiO2 )、56:チタニア粒子、57:シリカ(SiO2 )、
101:PBG(フォトニックバンドギャップ)、102:局在化した準位(欠陥準位)、103:シリコン結晶、104:エアーホール、105:シリコン基板、106:酸化シリコン、107:空隙、108:欠陥(エアホールなし)、109:欠陥(大きさの異なるエアホール)。
Claims (7)
- 微粒子が3次元的に周期構造を有する微粒子構造体において、
材質aからなる微粒子1および材質bの芯と材質cの外殻からなる多重構造を有する微粒子2とから形成され、かつ、前記微粒子1と前記微粒子2は同一粒子径かつ同一形状を有し、前記微粒子2が任意の箇所に導入されていることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項1に記載の微粒子構造体において、
前記微粒子2の材質bと材質cによる多重構造が空間的な対称性を有していることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項1または2記載の微粒子構造体において、
前記微粒子1および前記微粒子2が球形状であることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項1から3のいずれかに記載の微粒子構造体において、
前記微粒子2が、材質bが異なる複数種の微粒子を含んでいることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項1から3のいずれかに記載の微粒子構造体において、
前記微粒子2が、芯と外殻の体積比率が異なる複数種の微粒子を含んでいることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項1または2記載の微粒子構造体において、
前記微粒子2の配置位置が、微粒子構造体中で、2次元的もしくは3次元的に任意のパターンとなっていることを特徴とする微粒子構造体。 - 請求項6記載の微粒子構造体において、
当該微粒子構造体中の前記微粒子2のパターンが空間的な対称構造を有していることを特徴とする微粒子構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003026771A JP4078456B2 (ja) | 2003-02-04 | 2003-02-04 | 微粒子構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003026771A JP4078456B2 (ja) | 2003-02-04 | 2003-02-04 | 微粒子構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004240008A JP2004240008A (ja) | 2004-08-26 |
JP4078456B2 true JP4078456B2 (ja) | 2008-04-23 |
Family
ID=32954676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003026771A Expired - Fee Related JP4078456B2 (ja) | 2003-02-04 | 2003-02-04 | 微粒子構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4078456B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006162638A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Ricoh Co Ltd | 三次元周期構造体および該三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器 |
JP4500663B2 (ja) * | 2004-12-17 | 2010-07-14 | 株式会社リコー | 三次元周期構造体及びデバイス |
JP5150898B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2013-02-27 | 国立大学法人神戸大学 | 複合微細構造体およびその製造方法 |
JP4848525B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2011-12-28 | 防衛省技術研究本部長 | Si−O−Si結合を含む化合物を用いた微小光学部品への光入射法及びデバイス作製法 |
JP5270486B2 (ja) | 2009-07-31 | 2013-08-21 | トヨタ自動車株式会社 | ナノ物質集積体の製造方法、ナノ物質集積体およびそれを用いたデバイス、ならびにナノ物質の構造解析方法 |
CN109933917B (zh) * | 2019-03-18 | 2023-02-28 | 杭州电子科技大学 | 三维光子晶体内部球形缺陷定量成型的研究方法 |
-
2003
- 2003-02-04 JP JP2003026771A patent/JP4078456B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004240008A (ja) | 2004-08-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Nguyen et al. | Symmetry breaking in photonic crystals: On-demand dispersion from flatband to Dirac cones | |
EP1255135B1 (en) | Two-dimensional photonic crystal slab and manufacturing method | |
Fudouzi | Fabricating high-quality opal films with uniform structure over a large area | |
Chutinan et al. | Diffractionless flow of light in all-optical microchips | |
Arsenault et al. | Towards the synthetic all-optical computer: science fiction or reality? | |
US6589334B2 (en) | Photonic band gap materials based on spiral posts in a lattice | |
US20120326944A1 (en) | Metamaterial structure and manufacturing method of the same | |
US7298544B2 (en) | Method for patterning self-assembled colloidal photonic crystals and method for fabricating 3-dimensional photonic crystal waveguides of an inverted-opal structure using the patterning method | |
Soukoulis | The history and a review of the modelling and fabrication of photonic crystals | |
Tian et al. | Optical rashba effect in a light‐emitting perovskite metasurface | |
JP4078456B2 (ja) | 微粒子構造体 | |
JP4208688B2 (ja) | 三次元周期構造体の製造方法 | |
Gaillot et al. | Photonic band gaps in highly conformal inverse-opal based photonic crystals | |
Liu et al. | Synthesis and photonic band gap characterization of high quality photonic crystal heterostructures | |
Wang et al. | Generation of Complex Tunable Multispectral Signatures with Reconfigurable Protein‐Based, Plasmonic‐Photonic Crystal Hybrid Nanostructures | |
Yan et al. | Individual Si Nanospheres Wrapped in a Suspended Monolayer WS2 for Electromechanically Controlled Mie‐Type Nanopixels | |
US11493667B2 (en) | Photonic crystals comprising nanoparticles and spacer groups | |
JP4500663B2 (ja) | 三次元周期構造体及びデバイス | |
JP2003098367A (ja) | 周期的構造体及びその製造方法 | |
Summers et al. | Active photonic crystal nano-architectures | |
JP2006162638A (ja) | 三次元周期構造体および該三次元周期構造体を用いた導波路ならびに共振器 | |
JP2006030279A (ja) | 基板、微粒子構造体およびその製造方法 | |
Yamaguchi et al. | Valley photonic crystal waveguides fabricated with CMOS-compatible process | |
Chen et al. | Highly-oxidized graphene oxide for achieving low-loss hybrid waveguide gratings on SOI | |
Rutckaia et al. | Luminescence enhancement in one-dimensional mie-resonant arrays |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070807 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070911 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080117 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110215 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120215 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130215 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130215 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140215 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |