JP4070399B2 - Helium gas purification method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ヘリウムガスを使用する大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガスヘリウムを精製する方法に関するもので、詳しくは、化繊、フィルム、ポリマーセパレーター、半導体部品等プラズマを当てることによって表面改質をするプラズマ発生の雰囲気ガスとして用いた後の排ガスヘリウム中の不純物を取除き、高純度ヘリウムガスとして精製回収する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ヘリウムガスは、化学的に不活性な特性および特定の物理的性質を有しているため、種々のプロセスにおいて用いられている。例えば、加圧パージ、溶接、雰囲気コントロールガス等として各種産業分野で広く使用されている。また、プラズマ関係では、プラズマ発生の雰囲気ガスの主成分としてヘリウムガスが数多く使用されている。
【0003】
しかし、使用後のヘリウムガスは、▲1▼不純物が多く含まれる、▲2▼使用量が少ない、等の理由から殆ど大気中に放出されているが、潜水ガス、レーザー、冷媒用として大量使用する場合には、使用後の排ガスヘリウムを精製して再利用する技術が提案されている。
【0004】
例えば、圧力揺動吸着分離装置(以下PSA装置という)を用いてヘリウムを含む原料ガスからヘリウムガスを回収し精製する方法において、製品ヘリウムガスの取出側のヘリウム濃度を常時測定し、上記ヘリウム濃度が一定になるようにガス流量をヘリウム濃度に応じて常時調整し、かつPSA装置の排気ガスを原料ガスに混合しリサイクルしながらヘリウムガスを回収する方法(特開平6−182133号公報)、被加工材にレーザビームを照射し、その照射点近傍にヘリウムガスを吹き付けながら、被加工材のレーザ加工を行う加工装置本体と、レーザ照射点近傍に吹き付けられるヘリウムガスを回収するべく、レーザ照射点近傍を回収フードにより覆って回収フードの内部をフード上部より吸引し、その回収ガスを精製するヘリウムガス回収系とを具備したレーザ加工装置(特開平10−6069号公報)、空気が大量に混入したヘリウム濃度5〜70容量%の排ガスを昇圧したのち液体窒素を冷媒源として冷却し、排ガス中の空気を液化分離した後、残余の微量成分を活性炭等の吸着剤で除去して高純度ヘリウムを得るヘリウム回収方法において、前記排ガスを昇圧したのち光ファイバー製造工程や光ガラス製造工程にガス化したのち供給される液体窒素を冷媒源として使用すると共に、冷熱のみを利用された低温窒素ガスを加温器で常温に昇温したのち光ファイバー製造工程や光ガラス製造工程に供給するヘリウム回収方法(特開平10−311674号公報)等が提案されている。
【0005】
しかし、上記特開平6−182133号公報、特開平10−6069号公報および特開平10−311674号公報に開示の排ガスヘリウム精製技術は、そのほとんどが不純物として空気を含む排ガスヘリウムからの精製技術である。
【0006】
これに対し、大気圧プラズマ発生装置は、大量のヘリウムガスを必要とし、プラズマを発生させるのに必要な組成とするため、ヘリウムに酸素、アルゴン等を混合して使用すること、装置外へ排出される前に窒素ガスや空気、水分等を含んでしまうことから、空気成分以上に酸素やアルゴンを多く含み、容易に精製することが困難で、大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムは再利用することなく大気に放出しているのが実状である。このため、大気圧プラズマ発生装置は、ガスコストが高くなってしまうという問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従来提案されている空気成分を不純物として含んだ排ガスヘリウムからヘリウムガスを回収する方法としては、蒸留法や低温吸着法があり、高純度、高回収率で回収可能と考えられるが、これらの方法では低温源にコストがかかってしまい、経済的にメリットがなく、しかも、メンテナンス性や安全性にも問題を有している。また、排ガスヘリウムからヘリウムガスを回収する他の方法としては、常温のPSA法を用いた方法も提案されている。
【0008】
これらの方法では、空気成分以上に酸素、アルゴンを多く含んだ大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムを原料とした場合、吸着塔へ活性炭やゼオライト等を1種類充填しているため、装置が大型化するという問題がある。つまり、活性炭のみでは、不純物の吸着絶対量は多いが、低分圧領域での吸着量が低いため高純度に精製することが困難である。合成ゼオライトでは、低分圧領域での吸着量が高いため高純度に精製できるが、不純物の吸着絶対量が少ないため多量の吸着剤が必要となる。
【0009】
本発明の目的は、上記従来の低温分離法における経済性、メンテナンス性、安全性の問題、1種類の吸着剤を充填した吸着塔でのPSA法による装置の大型化の問題点を解消し、吸着塔を大型化させることなく、PSA法を用いて大気圧プラズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収できるヘリウムガスの精製方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1のヘリウムガスの精製方法は、大気圧プラズマ発生装置から排出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴン、水分を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力まで昇圧した後に冷却して水分を凝縮除去し、さらに水分を選択的に吸着する吸着剤が充填された2塔切替方式の温度揺動吸着分離装置からなる第1吸着装置に導入して水分を吸着除去し、次いで活性炭と合成ゼオライトが順次所要高さの2層に充填された第2吸着装置内に導入して酸素、窒素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とする。
【0011】
このように、本発明の請求項1のヘリウムガスの精製方法は、不純物の吸着絶対量の多い活性炭と、低分圧領域での吸着能力の高い合成ゼオライトを効率的に組合せることによって、吸着塔を大型化させることなく、PSA法を用いて大気圧プラズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収することができる。
【0012】
本発明の請求項2のヘリウムガスの精製方法は、大気圧プラズマ発生装置から排出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴン、水分を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力まで昇圧した後に冷却して水分を凝縮除去し、次いで水分を選択的に吸着する吸着剤、活性炭、合成ゼオライトを順次所要高さの3層に充填したPSA吸着装置内に導入し、水分、酸素、窒素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とする。
【0013】
このように、本発明の請求項2のヘリウムガスの精製方法は、水分を選択的に吸着する吸着剤と、不純物の吸着絶対量の多い活性炭と、低分圧領域での吸着能力の高い合成ゼオライトを効率的に組合せることによって、PSA法を用いて大気圧プラズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムの精製方法を図1に基づいて説明する。図1はこの発明の請求項1の大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムの精製方法の系統図である。
【0015】
図1において、1は大気圧プラズマ発生装置、2は大気圧プラズマ発生装置1の雰囲気ガスとして使用した排ガスヘリウムを排出する配管で、この排ガスヘリウムは、不純物として多くの酸素、アルゴンと共に窒素、水分等を含んでいる。3は配管2を介して排出された排ガスヘリウムを吸引して100mmAq程度の圧力で排出するブロアーである。
【0016】
4はブロアー3により排出された排ガスヘリウムを脱着ガス回収タンク26からの脱着ガスの一部と混合して圧縮機5に導く配管である。6は常温吸着での処理に必要な圧力、例えば、0.5MPa・G以上まで昇圧された排ガスヘリウムを排ガス冷却器7に導入する配管である。排ガス冷却器7では、昇圧された排ガスヘリウムが冷却水8と間接熱交換して20〜40℃まで冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。9はドレンポットで、凝縮した水分を貯めて定期的に系外に排出する。
【0017】
10a、10bは2塔切替方式の吸着剤として水分を選択的に吸着する活性アルミナ、シリカゲル、活性炭あるいは合成ゼオライトが充填されている温度揺動吸着分離装置(以下TSA装置という)からなる第1吸着装置で、逐次吸着、再生を切替え使用している。ドレンポット9で凝縮した水分の除去された20〜40℃の飽和蒸気圧分の水分と酸素、窒素、アルゴン等を含んだ排ガスヘリウムは、配管11により導入される。12a、12bは第1吸着装置10a、10bへ排ガスヘリウムを導入するための切替弁である。13a、13bは第1吸着装置10a、10bで水分の除去された排ガスヘリウムを導出するための切替弁である。14a、14bは第1吸着装置10a、10bから吸着された水分を脱着するための切替弁である。15a、15bは第1吸着装置10a、10bに回収ヘリウムガスの一部を配管16を介して導入するための切替弁である。
【0018】
17は第1吸着装置10a、10bを100Torr以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁18を介して接続されている。19は切替弁14a、14bを介して第1吸着装置10a、10bに接続された切替弁で、吸着剤再生時の0.5MPa・G以上から大気圧までの減圧時に生じる排ガスヘリウムを大気に放出する。
【0019】
20は水分の除去された排ガスヘリウムを第2吸着装置であるPSA吸着塔21a〜21dに導入する配管である。PSA吸着塔21a〜21dには、排ガスヘリウムの組成に応じて2種類の吸着剤、例えば、活性炭(下部):合成ゼオライト(上部)=3:1の高さで2層に充填され、吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切替えて使用している。22a〜22dはPSA吸着塔21a〜21dに排ガスヘリウムを導入するための切替弁である。23a〜23dはPSA吸着塔21a〜21dで酸素、窒素およびアルゴンが除去され、精製されたヘリウムガスを導出するための切替弁である。24a〜24dはPSA吸着塔21a〜21dから吸着された酸素、窒素およびアルゴンを脱着するための切替弁である。25a〜25dはPSA吸着塔21a〜21dの活性炭、合成ゼオライト再生時の0.5MPa・G以上から0.2MPa・G程度までの減圧時に生じる脱着ガスを脱着ガス回収タンク26に配管27、流量調整弁28を介して導出するための切替弁である。29a〜29dはPSA吸着塔21a〜21dの充圧時に他のPSA吸着塔21a〜21dから精製されたヘリウムガスを導入するための切替弁である。
【0020】
30はPSA吸着塔21a〜21dを20Torr以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁24a〜24d、切替弁31を介して接続されている。32は切替弁24a〜24dを介してPSA吸着塔21a〜21dに接続された切替弁で、吸着剤再生時の0.2MPa・Gから大気圧までの減圧時に生じる脱着ガスを大気に放出する。
【0021】
33はヘリウムガスタンクで、PSA吸着塔21a〜21dから切替弁23a〜23d、配管34および圧力調整弁35を介して導出されたヘリウムガスを貯蔵する。36は圧力調整弁37を介して回収したヘリウムガスを大気圧プラズマ発生装置1に供給するガス供給装置である。
【0022】
大気圧プラズマ発生装置1から配管2を介して排出された排ガスヘリウムは、ブロアー3により吸引されて100mmAq程度の圧力で排出され、脱着ガス回収タンク26から圧力調整弁38を介して供給される脱着ガスの一部と混合され、配管4を介して圧縮機5に導かれ、常温吸着での処理に必要な圧力、例えば0.5MPa・G以上に昇圧される。0.5MPa・G以上に昇圧され排ガスヘリウムは、配管6を介して排ガス冷却器7に導入され、冷却水8と間接熱交換して20〜40℃に冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。
【0023】
排ガスヘリウム中の飽和蒸気圧以上の凝縮した水分は、ドレンポット9に貯められ定期的に系外へ放出される。飽和蒸気圧以上の凝縮した水分が除去された排ガスヘリウムは、配管11、切替弁12a、12bを介して第1吸着装置10a、10bに導入される。
【0024】
第1吸着装置10aが吸着工程、第1吸着装置10bが再生工程である場合、すなわち、切替弁12a、13a、14b、15bが開放、切替弁12b、13b、14a、15aが閉止の状態では、排ガスヘリウムは第1吸着装置10aに導入され、水分の大部分が吸着剤に吸着されて除去されたのち、切替弁13a、配管20を介してPSA吸着塔21a〜21dに導入される。
【0025】
一方、再生工程の第1吸着装置10bは、図示しないヒーターによって150〜250℃に昇温後、切替弁14b、切替弁19が開放されて吸着剤再生時の高圧状態から大気圧までの減圧時に生じる排ガスヘリウムを大気に放出する。そして、切替弁19を閉止したのち真空ポンプ17を起動して切替弁18を開放して100Torrまで減圧し、第1吸着装置10b内の吸着剤に吸着された水分を脱着しつつ、ヘリウムガスタンク33から配管16、切替弁15bを介してヘリウムガスを供給して吸着剤を洗浄する。しかるのち、切替弁14b、18を閉止して真空ポンプ17を停止し、第1吸着装置10b内を所定圧力に充圧して切替弁15bを閉止し、第1吸着装置10bの再生を完了する。
【0026】
第1吸着装置10aで水分の大部分が除去された排ガスヘリウムは、配管20、切替弁22a〜22dを介して吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切替えているPSA吸着塔21a〜21dに導入される。例えば、PSA吸着塔21aが吸着工程、PSA吸着塔21bが脱着工程、PSA吸着塔21cが洗浄工程、PSA吸着塔21dが充圧工程の場合は、排ガスヘリウムは切替弁22aを介してPSA吸着塔21aに導入される。
【0027】
この場合、PSA吸着塔21aでは、切替弁22a、切替弁23aが開放、切替弁24a、25a、29aは閉止である。PSA吸着塔21aに導入された排ガスヘリウムは、PSA吸着塔21aの下層に充填された活性炭に大部分の酸素、窒素、アルゴン等が吸着されたのち、上層の合成ゼオライトによって低濃度まで吸着除去され、回収ヘリウムとして切替弁23a、配管34を介して圧力調整弁35でPSA吸着塔21a圧力を0.5MPa/G以上の一定に制御しながらヘリウムガスタンク33に回収する。
【0028】
PSA吸着塔21bの脱着工程では、切替弁22b、切替弁23bを閉止して吸着工程が終了した状態から切替弁25b、切替弁25dを開放し、配管27を介して充圧工程のPSA吸着塔21dに比較的ヘリウム濃度の高い脱着ガスを充圧し、残りを切替弁25dを閉止して流量調整弁28で流量を制御しながら脱着ガス回収タンク26へPSA吸着塔21b内圧力が0.2MPaとなるまで脱着ガスを回収する。その後、切替弁25bを閉止し、切替弁24b、切替弁32を開放してPSA吸着塔21b内に残った脱着ガスを塔下部から大気へ放出し、切替弁24b、切替弁32を閉止してPSA吸着塔21bの脱着工程を完了する。
【0029】
PSA吸着塔21cの洗浄工程では、脱着工程が終了した状態から切替弁24c、切替弁31を開放して真空ポンプ30を起動し、PSA吸着塔21c内を80Torr以下まで真空引きして活性炭および合成ゼオライトに吸着された酸素、窒素、アルゴン等の殆どを脱着させて大気へ放出する。その後、真空ポンプ30で真空引きをしたまま、切替弁29cを開放し、PSA吸着塔21aから切替弁23aを介して回収ヘリウムの一部を少量流すことによって、活性炭および合成ゼオライトを洗浄したのち、切替弁25c、切替弁29c、切替弁24c、切替弁31を閉止し、真空ポンプ30を停止してPSA吸着塔21cの洗浄工程を完了する。
【0030】
PSA吸着塔21dの充圧工程では、洗浄工程を終了した状態からPSA吸着塔21bから切替弁25b、配管27、切替弁25dを介して比較的ヘリウム濃度の高い脱着ガスの一部が0.2MPa・Gまで充圧されたのち、切替弁25dを閉止し、切替弁29dを開放してPSA吸着塔21aから切替弁23aを介して回収ヘリウムを吸着圧力0.5MPa・G以上まで充圧し、切替弁29dを閉止して充圧工程を終了する。
【0031】
以上の第1吸着装置10a、10bでの水分の吸着、脱着操作、PSA吸着塔21a〜21dでの酸素、窒素、アルゴン等の吸着、脱着、洗浄、充圧操作を繰り返すことによって、大気圧プラズマ発生装置1で使用された排ガスヘリウムを連続的に効率よくヘリウムガスタンク33に回収することができる。ヘリウムガスタンク33に貯蔵された精製ヘリウムガスは、圧力調整弁37によって大気圧プラズマ発生装置1での使用圧力まで減圧した後、ガス供給装置36に戻入されて再利用される。
【0032】
なお、図2はこの発明の請求項2の大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムの精製方法の一例を示す系統図である。図2に示す排ガスヘリウムの精製方法は、水分除去用の吸着剤を各PSA吸着塔21a〜21dに活性炭および合成ゼオライトと共に3層に充填し、第1吸着装置10a、10bをなくしたものである。この図2に示すプロセスでも図1と同様に排ガスヘリウムの精製が可能であるが、各PSA吸着塔21a〜21dの容積が大型化する分、大気に排出するヘリウムガス量が増加し、回収率を下げる原因となってしまう。
【0033】
【実施例】
前記図1に示すプロセスを用いて実験を行った。大気圧プラズマ発生装置1から排出されるヘリウム74容量%、酸素3.7容量%、窒素14.9容量%、アルゴン7.4容量%、水分飽和の排ガスヘリウム8Nm3/Hrを、ブロアー3によって100mmAqの圧力に昇圧して排出し、脱着ガス回収タンク26からのガス1.5Nm3/Hrと混合したのち、圧縮機5によって0.7MPa・Gまで昇圧して冷却器7に導入し、冷却器7で冷却水8と間接熱交換させて25℃まで冷却し、飽和水蒸気以上の水分を凝縮させたのち、凝縮した水分をドレンポット9で分離した。
【0034】
しかるのち、活性アルミナを充填した水分除去吸着装置10a、10bに導入し、水分の殆どを活性アルミナに吸着させた。次いで、水分の殆どを除去された排ガスヘリウムは、下部に活性炭:上部に合成ゼオライト=3:1の高さで2層に充填したPSA吸着装置21a〜21dに導入し、排ガスヘリウム中の酸素、窒素、アルゴン等を活性炭および合成ゼオライトに吸着させ、ヘリウム99.997%以上、酸素10ppm以下、窒素10ppm以下、アルゴン10ppm以下、水分(露点−70℃以下)となったヘリウムガスを、PSA吸着装置21a〜21dから温度25℃、流量5Nm3/Hrで流出させ、ヘリウムガスタンク33に回収した。
【0035】
ヘリウムガスタンク33に回収した精製ヘリウムガスは、圧力調整弁37によって0.2MPa・Gまで減圧し、高純度ヘリウムガスとして大気圧プラズマ発生装置1で再使用することができた。この場合、排ガスヘリウム(8Nm3/Hr、ヘリウム純度74容量%)に対し、回収した精製ヘリウム(5Nm3/Hr、ヘリウム純度99.997容量%)であるから、ヘリウム回収率85%といった高回収率で、かつ高純度でヘリウムを回収することができた。
【0036】
【発明の効果】
本発明の排ガスヘリウムの精製方法は、大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガスヘリウムを放出することなく、PSA法を主体としたプロセスを用い、低コストで、しかも高純度に精製して高収率で回収再利用することができ、大気圧プラズマ発生装置のガスコストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の排ガスヘリウムの精製方法の一例を示す系統図である。
【図2】この発明の排ガスヘリウムの精製方法の他の一例を示す系統図である。
【符号の説明】
1 大気圧プラズマ発生装置
2、4、6、11、16、20、27、34 配管
3 ブロアー
5 圧縮機
7 排ガス冷却器
8 冷却水
9 ドレンポット
10a、10b 第1吸着装置
12a、12b、13a、13b、14a、14b、15a、15b、18、19 切替弁
17、30 真空ポンブ
21a〜21d PSA吸着塔
22a〜22d、23a〜23d、24a〜24d、25a〜25d、29a〜29d、31、32 切替弁
26 脱着ガス回収タンク
28 流量調整弁
33 ヘリウムガスタンク
35、37、38 圧力調整弁
36 ガス供給装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for purifying exhaust gas helium discharged from an atmospheric pressure plasma generator using helium gas, and more specifically, surface modification is performed by applying plasma to chemical fibers, films, polymer separators, semiconductor parts, etc. The present invention relates to a method for removing impurities in exhaust gas helium after being used as atmospheric gas for generating plasma and purifying and recovering it as high-purity helium gas.
[0002]
[Prior art]
Helium gas is used in various processes because it has chemically inert properties and certain physical properties. For example, it is widely used in various industrial fields as pressure purge, welding, atmosphere control gas and the like. In the plasma-related field, many helium gases are used as the main component of the atmospheric gas for generating plasma.
[0003]
However, helium gas after use is almost released to the atmosphere because of (1) a lot of impurities and (2) a small amount of use, but it is used in large quantities for diving gas, laser, and refrigerant. In this case, a technique for purifying and reusing exhaust gas helium after use has been proposed.
[0004]
For example, in a method of recovering and purifying helium gas from a source gas containing helium using a pressure swing adsorption separation apparatus (hereinafter referred to as a PSA apparatus), the helium concentration on the product helium gas extraction side is constantly measured, and the helium concentration The gas flow rate is constantly adjusted according to the helium concentration, and the exhaust gas of the PSA apparatus is mixed with the raw material gas to recover helium gas while recycling (Japanese Patent Laid-Open No. 6-182133), A laser beam irradiation point is used to recover the helium gas sprayed in the vicinity of the laser irradiation point and the processing device main body that performs laser processing of the workpiece while irradiating the workpiece with a laser beam and blowing helium gas near the irradiation point. Helium that covers the vicinity with a collection hood, sucks the inside of the collection hood from the top of the hood, and purifies the collected gas A laser processing apparatus having a gas recovery system (Japanese Patent Laid-Open No. 10-6069), pressurizing an exhaust gas having a helium concentration of 5 to 70% by volume mixed with a large amount of air, and then cooling it with liquid nitrogen as a refrigerant source. In the helium recovery method of obtaining high purity helium by removing the remaining trace components with an adsorbent such as activated carbon after liquefying and separating the air, the exhaust gas was pressurized and then gasified into an optical fiber manufacturing process and an optical glass manufacturing process The liquid nitrogen supplied later is used as a refrigerant source, and a helium recovery method (specialized in that low temperature nitrogen gas using only cold heat is heated to room temperature with a heater and then supplied to the optical fiber manufacturing process and optical glass manufacturing process. (Kaihei 10-31174) and the like have been proposed.
[0005]
However, the exhaust gas helium purification technologies disclosed in the above-mentioned JP-A-6-182133, JP-A-10-6069 and JP-A-10-31174 are mostly purification technologies from exhaust gas helium containing air as an impurity. is there.
[0006]
In contrast, an atmospheric pressure plasma generator requires a large amount of helium gas and has a composition necessary for generating plasma. Therefore, it is necessary to mix helium with oxygen, argon, etc. Nitrogen gas, air, moisture, etc. are contained before being used, so it contains more oxygen and argon than air components and is difficult to purify easily, and helium exhaust gas from the atmospheric pressure plasma generator is reused. In fact, it is released into the atmosphere without doing. For this reason, the atmospheric pressure plasma generator has a problem that the gas cost becomes high.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Conventionally proposed methods for recovering helium gas from exhaust gas helium containing air components as impurities include distillation methods and low-temperature adsorption methods, which can be recovered with high purity and high recovery rate. However, the cost of the low temperature source is high, there is no economic advantage, and there are also problems in maintenance and safety. As another method for recovering helium gas from exhaust gas helium, a method using a normal temperature PSA method has also been proposed.
[0008]
In these methods, when exhaust gas helium from an atmospheric pressure plasma generator containing more oxygen and argon than air components is used as a raw material, the adsorption tower is filled with one type of activated carbon, zeolite, etc. There is a problem of becoming. That is, the activated carbon alone has a large absolute adsorption amount of impurities, but it is difficult to purify to high purity because the adsorption amount in the low partial pressure region is low. Synthetic zeolite can be purified with high purity because it has a high adsorption amount in the low partial pressure region, but a large amount of adsorbent is required because the absolute adsorption amount of impurities is small.
[0009]
The object of the present invention is to solve the problems of economy, maintenance and safety in the conventional low-temperature separation method, and the problem of enlargement of the apparatus by the PSA method in an adsorption tower packed with one kind of adsorbent, An object of the present invention is to provide a method for purifying helium gas that can recover high-purity helium gas from exhaust gas helium containing a large amount of oxygen and argon from an atmospheric pressure plasma generator using the PSA method without increasing the size of an adsorption tower.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The method for purifying helium gas according to
[0011]
As described above, the method for purifying helium gas according to
[0012]
The method for purifying helium gas according to claim 2 of the present invention is based on helium gas discharged from an atmospheric pressure plasma generator as a main component, and exhaust gas helium containing oxygen, nitrogen, argon, and moisture as impurities is pressure required for purification. It cooled after boosting moisture condensation removed, introduced followed by the adsorbent which selectively adsorbs moisture, activated carbon, a synthetic zeolite sequentially in PSA adsorption unit packed in three layers of the required height to, Moisture, oxygen, nitrogen and argon are adsorbed and removed, and high purity helium is recovered.
[0013]
Thus, the method for purifying helium gas according to claim 2 of the present invention is a synthesis with an adsorbent that selectively adsorbs moisture, activated carbon with a large absolute adsorption amount of impurities, and a high adsorption capability in a low partial pressure region. By combining zeolite efficiently, high-purity helium gas can be recovered from exhaust gas helium rich in oxygen and argon from an atmospheric pressure plasma generator using the PSA method.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
A method for purifying exhaust gas helium from the atmospheric pressure plasma generator of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a system diagram of a method for purifying exhaust gas helium from an atmospheric pressure plasma generator according to
[0015]
In FIG. 1, 1 is an atmospheric pressure plasma generator, 2 is a pipe for exhausting exhaust gas helium used as the atmospheric gas of the atmospheric
[0016]
A
[0017]
10a and 10b are the first adsorption comprising a temperature swing adsorption / separation apparatus (hereinafter referred to as TSA apparatus) filled with activated alumina, silica gel, activated carbon or synthetic zeolite that selectively adsorbs moisture as an adsorbent for the two-column switching system. The device uses switching between sequential adsorption and regeneration. Exhaust gas helium containing moisture corresponding to a saturated vapor pressure of 20 to 40 ° C. from which moisture condensed in the drain pot 9 has been removed is introduced through a pipe 11. 12a and 12b are switching valves for introducing exhaust gas helium into the
[0018]
Reference numeral 17 denotes a vacuum pump that depressurizes the
[0019]
A
[0020]
[0021]
[0022]
The exhaust gas helium discharged from the atmospheric
[0023]
Condensed water in the exhaust gas helium above the saturated vapor pressure is stored in the drain pot 9 and is periodically discharged out of the system. The exhaust gas helium from which the condensed water at the saturated vapor pressure or higher has been removed is introduced into the
[0024]
When the
[0025]
On the other hand, in the
[0026]
The exhaust gas helium from which most of the moisture has been removed by the
[0027]
In this case, in the
[0028]
In the desorption process of the
[0029]
In the cleaning process of the
[0030]
In the charging step of the PSA adsorption tower 21d, a part of the desorption gas having a relatively high helium concentration is 0.2 MPa from the
[0031]
By repeating the adsorption and desorption operations of moisture in the
[0032]
FIG. 2 is a system diagram showing an example of a method for purifying exhaust gas helium from the atmospheric pressure plasma generator according to claim 2 of the present invention. In the method for purifying exhaust gas helium shown in FIG. 2, the adsorbent for removing water is packed in three layers in each
[0033]
【Example】
Experiments were performed using the process shown in FIG. 74% by volume of helium exhausted from the atmospheric
[0034]
Thereafter, it was introduced into the moisture removing
[0035]
The purified helium gas recovered in the
[0036]
【The invention's effect】
The exhaust gas helium purification method of the present invention uses a process based on the PSA method without releasing exhaust gas helium discharged from an atmospheric pressure plasma generator, and is purified at a low cost and with high purity to achieve high yield. The gas cost of the atmospheric pressure plasma generator can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a system diagram showing an example of a method for purifying exhaust gas helium according to the present invention.
FIG. 2 is a system diagram showing another example of the method for purifying exhaust gas helium according to the present invention.
[Explanation of symbols]
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