JP4069102B2 - Waveguide type optical multiplexer / demultiplexer - Google Patents
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Description
本発明は、導波路型光合分波回路に関し、より詳細には、2次元的な屈折率分布に応じた多重散乱によりホログラフィックに波動を伝達させるホログラフィック波動伝達媒体を用いた導波路型光合分波回路に関する。 The present invention relates to a waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit, and more particularly, to a waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit using a holographic wave transmission medium that transmits waves holographically by multiple scattering according to a two-dimensional refractive index distribution. The present invention relates to a branching circuit.
現在、通信容量の拡大のために、複数の異なる波長の光信号を、1本の光ファイバで伝送する光波長分割多重(WDM)伝送システムの開発が盛んである。従来、幹線系の伝送システムとして用いられていたWDM伝送システムを、アクセス系の伝送システムに適用するためには、低コスト化が課題である。そこで、波長間隔を拡げて、光部品の低コスト化を図ったCWDM(Coarse WDM)伝送システムが開発されている。WDM伝送システムの光部品の一つとして、送信機側において、複数の波長の光信号を合波し、受信機側において、1本の光ファイバから複数の光信号を異なるポートに分波する光波長合分波回路が用いられる。 Currently, in order to expand communication capacity, development of an optical wavelength division multiplexing (WDM) transmission system that transmits optical signals of different wavelengths through a single optical fiber is in progress. In order to apply a WDM transmission system conventionally used as a trunk transmission system to an access transmission system, cost reduction is an issue. Therefore, a CWDM (Coarse WDM) transmission system has been developed in which the wavelength interval is increased to reduce the cost of optical components. As one of the optical components of the WDM transmission system, light that combines optical signals of a plurality of wavelengths on the transmitter side and demultiplexes a plurality of optical signals from one optical fiber to different ports on the receiver side. A wavelength multiplexing / demultiplexing circuit is used.
図1に、従来のアレイ導波路回折格子型光合分波回路の構成を示す。アレイ導波路回折格子型光合分波回路は、基板100の上に、入力導波路101と、第1のスラブ導波路102と、アレイ導波路103と、第2のスラブ導波路104と、出力導波路105とが順に接続され配置されている(例えば、非特許文献1参照)。入力導波路101に導かれた光信号は、第1のスラブ導波路102内で波長に応じて光路が変わり、それぞれ対応するアレイ導波路103へ分岐される。アレイ導波路103を透過した光信号は、第2のスラブ導波路104で再び合波され、出力導波路105へと導かれる。
FIG. 1 shows a configuration of a conventional arrayed waveguide diffraction grating type optical multiplexing / demultiplexing circuit. The arrayed waveguide grating optical multiplexing / demultiplexing circuit includes an
ここで、第1のスラブ導波路102のアレイ導波路端に投射された光フィールドパターンは、第2のスラブ導波路104のアレイ導波路端にコピーされることになる。アレイ導波路103は、隣り合う光導波路がちょうどΔLだけ光路長が異なるように設計されており、入力された光の波長に依存して、フィールドが傾きを有する。この傾きによって、第2のスラブ導波路104の出力導波路端において、光フィールドが焦点を結ぶ位置が波長ごとに変化して、波長分波が可能となる。
Here, the optical field pattern projected onto the array waveguide end of the
一方、出力導波路105に、複数の異なる波長の光信号を入力すれば、光波長分割多重された光信号が、入力導波路101から出力される。すなわち、アレイ導波路回折格子型光合分波回路により、波長合波が可能となる。
On the other hand, if an optical signal having a plurality of different wavelengths is input to the
しかしながら、CWDM伝送システムにおいては、チャネル波長間隔が20nmと広いため、光路長差ΔLを6.4μmと極めて小さくする必要がある。そこで、回路レイアウトの観点から、アレイ導波路103を複数のブロックに分け、各々のブロックごとのΔLの差分によって小さな光路長差を実現していた。図1においては、アレイ導波路103a,cとアレイ導波路103bの2つのブロックに分け、差分の小さな2つのΔLを組み合わせている。このような回路レイアウトは、基板サイズが大きくなるという問題があった。
However, in the CWDM transmission system, since the channel wavelength interval is as wide as 20 nm, it is necessary to make the optical path length difference ΔL as extremely small as 6.4 μm. Therefore, from the viewpoint of circuit layout, the arrayed waveguide 103 is divided into a plurality of blocks, and a small optical path length difference is realized by the difference of ΔL for each block. In FIG. 1, it is divided into two blocks of the
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、光路長差の小さなアレイ導波路を有する導波路型光合分波回路を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit having an arrayed waveguide having a small optical path length difference.
請求項1に記載の発明は、複数の入力導波路から受光した光信号を分岐する第1のスラブ導波路と、所定の導波路長差で順次長くなる複数の導波路の各々に、前記第1のスラブ導波路で分岐された各々の光信号を入力するアレイ導波路と、該アレイ導波路から出力された各々の信号光を複数の出力導波路の各々に導く第2のスラブ導波路とを含む導波路型光合分波回路において、前記アレイ導波路の一部に、前記アレイ導波路のコア層に空間的な屈折率分布が形成された波動伝達媒体を備え、前記空間的な屈折率分布は、前記アレイ導波路から前記波動伝達媒体に入射された入力光が、光の伝搬方向に沿って伝搬すると、該入力光の入力フィールドが、出力光の出力フィールドに変換されて、前記アレイ導波路へ出力される1つ以上の入出力フィールドの組の各々を伝搬するように、メッシュにより画定されるピクセルの各々のコアが有する屈折率によって決定され、各々の前記ピクセルのコアの屈折率は、前記アレイ導波路の光の伝搬方向の座標z、前記コア層内において前記光の伝搬方向に垂直な方向の座標xとしたときの断面Xの場所(z,x)において、前記入力フィールドの順伝搬のフィールドの位相と、前記出力フィールドの位相共役に逆伝搬させたフィールドの位相との間の位相差が所定の誤差以下となるように、各々の前記ピクセルのコアの屈折率を変数として繰り返し計算を行うことにより決定され、この計算は、(q−1)番目の計算によって得られた屈折率分布{nq-1}をもとに、前記入出力フィールドの組のj番目の入力フィールドψj(x)および出力フィールドφj(x)について、前記順伝搬フィールドψj(z,x,{nq-1})と前記逆伝搬のフィールドφj(z,x,{nq-1})としたとき、各場所(z,x)における屈折率nq(z,x)を、
nq(z,x)=nq-1(z,x)−αΣjIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})]
として計算し、ここで、記号「*」は複素共役であり、記号「・」は内積演算であり、Im[]は[]内のフィールド内積演算結果の虚数成分であり、αは計算の収束を考慮した定数であり、Σjはjについて和を示し、かつ、前記入力光のフィールドが、前記アレイ導波路の伝搬方向に沿って、前記断面Xの屈折率分布により位相の変化を多段に受けることにより、前記波動伝達媒体内で生じる伝搬波同士の多重散乱による干渉現象により光のフィールドの形状を変化させながら伝搬することを特徴とする。
According to the first aspect of the present invention, each of the first slab waveguide that branches the optical signals received from the plurality of input waveguides and the plurality of waveguides that are sequentially increased by a predetermined waveguide length difference, An arrayed waveguide for inputting each optical signal branched by one slab waveguide; a second slab waveguide for guiding each signal light output from the arrayed waveguide to each of a plurality of output waveguides; A waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit including a wave transmission medium in which a spatial refractive index distribution is formed in a core layer of the arrayed waveguide in a part of the arrayed waveguide, and the spatial refractive index The distribution is such that when input light incident on the wave transmission medium from the array waveguide propagates along the light propagation direction, the input field of the input light is converted into an output field of output light, and the array one or more input and output to be output to the waveguide To propagate each set of field is determined by the refractive index with the core of each pixel defined by the mesh, the refractive index of the core of each of the pixels in the light propagation direction of the array waveguide coordinate z, in the cross section X of the location when the coordinate x in the direction perpendicular to the propagation direction of the light in the core layer (z, x), the phase of the forward propagation of the field of the input field, before Symbol output It is determined by repeatedly calculating using the refractive index of the core of each of the pixels as a variable so that the phase difference between the phase propagated back to the phase conjugate of the field is equal to or less than a predetermined error. The calculation is based on the refractive index distribution {n q−1 } obtained by the (q−1) th calculation, and the jth input field ψ j (x) and the output field of the set of input / output fields. For the field φ j (x), the forward propagation field ψ j (z, x, {n q-1 }) and the back propagation field φ j (z, x, {n q-1 }) The refractive index n q (z, x) at each location (z, x) is
n q (z, x) = n q-1 (z, x) −αΣ j Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })]
Where the symbol “*” is a complex conjugate, the symbol “•” is an inner product operation, Im [] is the imaginary component of the field inner product operation result in [], and α is the convergence of the calculation Σ j represents the sum of j, and the field of the input light has a phase change in multiple stages by the refractive index distribution of the cross section X along the propagation direction of the arrayed waveguide. By receiving, it propagates, changing the shape of the field of light by the interference phenomenon by the multiple scattering of the propagation waves which generate | occur | produce in the said wave transmission medium.
また、上述の導波路型光合分波回路において、前記ピクセルの最小寸法は、0.2μm以上であることを特徴とする。さらに、前記導波路は、シリコン基板上の石英系ガラス光導波路で構成されていることを特徴とする。 In the above-described waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit, the minimum dimension of the pixel is 0.2 μm or more. Furthermore, the waveguide is formed of a silica-based glass optical waveguide on a silicon substrate.
以上説明したように、本発明によれば、アレイ導波路一部に、導波路のコア層に空間的な屈折率分布が形成された波動伝達媒体を配置するので、アレイ導波路の実効的な屈折率を変えることができ、光路長差の小さなアレイ導波路を実現することが可能となる。 As described above, according to the present invention, since the wave transmission medium in which the spatial refractive index distribution is formed in the core layer of the waveguide is disposed in a part of the arrayed waveguide, the effective efficiency of the arrayed waveguide is increased. The refractive index can be changed, and an arrayed waveguide having a small optical path length difference can be realized.
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。本実施形態のアレイ導波路回折格子型光合分波回路は、アレイ導波路の一部に、導波路より屈折率の低い複数の散乱点を配置する。複数の散乱点により画定されるホログラフィック波動伝達媒体は、2次元的な屈折率分布に応じた多重散乱によりホログラフィックに波動を伝達させる。ホログラフィック波動伝達媒体により、アレイ導波路の実効的な屈折率を変えることができるので、アレイ導波路を伝搬する光信号の光路長を短縮することができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the arrayed waveguide diffraction grating type optical multiplexing / demultiplexing circuit of this embodiment, a plurality of scattering points having a refractive index lower than that of the waveguide are arranged in a part of the arrayed waveguide. A holographic wave transmission medium defined by a plurality of scattering points transmits waves to the holographic wave by multiple scattering according to a two-dimensional refractive index distribution. Since the effective refractive index of the arrayed waveguide can be changed by the holographic wave transmission medium, the optical path length of the optical signal propagating through the arrayed waveguide can be shortened.
最初に、本願発明に用いる波動伝達媒体の基本的概念について説明する。ここでは、光回路へ適用することから、波動伝達媒体中を伝搬する「波動」は「光」である。なお、波動伝達媒体にかかる理論は、一般の波動方程式に基づいて、媒質の特性を指定するものであり、一般の波動においても原理的に成り立ち得るものである。波動伝達媒体は、コヒーレントな光のパターンを入力して所望の光のパターンを出力させるために、波動伝達媒体中を伝搬する順伝搬光と逆伝搬光の位相差が、波動伝達媒体中の何れの場所においても小さくなるように屈折率分布が決定される。屈折率分布に応じた局所的なレベルのホログラフィック制御を多重に繰り返すことにより、所望の光のパターンが出力される。 First, the basic concept of the wave transmission medium used in the present invention will be described. Here, since it is applied to an optical circuit, the “wave” propagating in the wave transmission medium is “light”. The theory relating to the wave transmission medium specifies the characteristics of the medium based on a general wave equation, and can also hold in principle in general waves. In order to input a coherent light pattern and output a desired light pattern, the wave transmission medium has a phase difference between forward propagation light and back propagation light propagating in the wave transmission medium. The refractive index distribution is determined so as to be small even at the location. A desired light pattern is output by repeatedly repeating holographic control at a local level according to the refractive index distribution.
図2を参照して、本実施形態にかかる波動伝達媒体の基本構造を説明する。図2(a)に示したように、光回路基板1の中に、波動伝達媒体により構成される光回路の設計領域1−1が存在する。光回路の一方の端面は、入力光3−1が入射する入射面2−1である。入力光3−1は、波動伝達媒体で構成された空間的な屈折率分布を有する光回路中を多重散乱しながら伝搬し、他方の端面である出射面2−2から出力光3−2として出力される。図2(a)中の座標zは、光の伝搬方向の座標(z=0が入射面、z=zeが出射面)であり、座標xは、光の伝搬方向に対する横方向の座標である。なお、本実施形態では、波動伝達媒体は、誘電体からなるものと仮定し、空間的な屈折率分布は、波動伝達媒体を構成している誘電体の局所的な屈折率を後述する理論に基づいて設定することにより実現される。
The basic structure of the wave transmission medium according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, an optical circuit design region 1-1 configured by a wave transmission medium exists in the
入力光3−1が形成している「場」(入力フィールド)は、光回路を構成する波動伝達媒体の屈折率の空間的分布に応じて変調され、出力光3−2の形成する「場」(出力フィールド)に変換される。換言すれば、本発明の波動伝達媒体は、その空間的な屈折率分布に応じて入力フィールドと出力フィールドとを相関づけるための(電磁)フィールド変換手段である。なお、これら入力フィールドおよび出力フィールドに対して、光回路中での伝搬方向(図中z軸方向)に垂直な断面(図中x軸に沿う断面)における光のフィールドを、その場所(x,z)における(順)伝搬像(伝搬フィールドあるいは伝搬光)と呼ぶ(図2(b)参照)。 The “field” (input field) formed by the input light 3-1 is modulated according to the spatial distribution of the refractive index of the wave transmission medium constituting the optical circuit, and the “field” formed by the output light 3-2 "(Output field). In other words, the wave transmission medium of the present invention is (electromagnetic) field conversion means for correlating the input field and the output field according to the spatial refractive index distribution. For these input field and output field, the light field in the cross section (cross section along the x axis in the figure) perpendicular to the propagation direction in the optical circuit (z axis direction in the figure) This is referred to as a (forward) propagation image (propagation field or propagation light) in z) (see FIG. 2B).
ここで、「フィールド」とは、一般に電磁場(電磁界)または電磁場のベクトルポテンシャル場を意味している。本実施形態における電磁場の制御は、光回路中に設けられた空間的な屈折率分布、すなわち誘電率の分布を変えることに相当する。誘電率はテンソルとして与えられるが、通常は偏光状態間の遷移はそれほど大きくないので、電磁場の1成分のみを対象としてスカラー波近似しても良い近似となる。そこで、本明細書では電磁場を複素スカラー波として扱う。なお、光の「状態」には、エネルギ状態(波長)と偏光状態とがあるため、「フィールド」を光の状態を表現するものとして用いる場合には、光の波長と偏光状態をも包含し得ることとなる。 Here, “field” generally means an electromagnetic field (electromagnetic field) or a vector potential field of an electromagnetic field. The control of the electromagnetic field in this embodiment corresponds to changing the spatial refractive index distribution provided in the optical circuit, that is, the dielectric constant distribution. Although the dielectric constant is given as a tensor, since the transition between the polarization states is usually not so large, it is an approximation that may be a scalar wave approximation for only one component of the electromagnetic field. Therefore, in this specification, the electromagnetic field is treated as a complex scalar wave. Since the “state” of light includes an energy state (wavelength) and a polarization state, when the “field” is used to express the state of light, the light wavelength and polarization state are also included. Will get.
また、通常、伝搬光の増幅や減衰を生じさせない光回路では、屈折率の空間的分布を決めると、焦点以外の入力光3−1の像(入力フィールド)は、出力光3−2の像(出力フィールド)に対して一意的に定まる。このような、出射面2−2側から入射面2−1側へと向かう光のフィールドを、逆伝搬像(逆伝搬フィールドあるいは逆伝搬光)と呼ぶ(図2(c)参照)。このような逆伝搬像は、光回路中の場所ごとに定義することができる。すなわち、光回路中での任意の場所における光のフィールドを考えたとき、その場所を仮想的な「入力光」の出射点として考えれば、上記と同様に出力光3−2の像に対して、その場所での逆伝搬像を考えることができる。このように、光回路中の各場所ごとに逆伝搬像が定義できる。 In general, in an optical circuit that does not cause amplification or attenuation of propagating light, when the spatial distribution of the refractive index is determined, an image (input field) of the input light 3-1 other than the focal point is an image of the output light 3-2. (Output field) is determined uniquely. Such a field of light traveling from the exit surface 2-2 side to the entrance surface 2-1 side is referred to as a back propagation image (a back propagation field or a back propagation light) (see FIG. 2C). Such a back propagation image can be defined for each place in the optical circuit. That is, when a light field at an arbitrary place in the optical circuit is considered, if the place is considered as an emission point of a virtual “input light”, the image of the output light 3-2 can be obtained in the same manner as described above. The back-propagation image at that location can be considered. In this way, a back propagation image can be defined for each location in the optical circuit.
特に、単一の光回路において、出射フィールドが入射フィールドの伝搬フィールドとなっている場合には、光回路の任意の点で、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとは一致する。なお、フィールドは、一般的に、対象とする空間全体の上の関数であるが、「入射フィールド」または「出射フィールド」という場合は、入射面あるいは出射面におけるフィールドの断面を意味している。また、「フィールド分布」という場合でも、ある特定の断面に関して議論を行う場合には、その断面についてのフィールドの断面を意味している。 In particular, in a single optical circuit, when the outgoing field is a propagation field of the incident field, the propagation field and the reverse propagation field coincide with each other at any point of the optical circuit. The field is generally a function over the entire target space, but the term “incident field” or “exit field” means a cross section of the field on the entrance surface or exit surface. In addition, even in the case of “field distribution”, when a discussion is made regarding a specific cross section, it means a cross section of the field with respect to that cross section.
屈折率分布の決定方法を説明するためには記号を用いるほうが見通しがよいので、各量を表すために以下のような記号を用いることとする。なお、対象とされる光(フィールド)は、単一状態の光には限定されないので、複数の状態の光が重畳された光を対象とされ得るべく、個々の状態の光にインデックスjを充てて一般的に表記する。
・ψj(x):j番目の入射フィールド(複素ベクトル値関数であり、入射面において設定する強度分布および位相の分布、ならびに、波長および偏波により規定される。)
・φj(x):j番目の出射フィールド(複素ベクトル値関数であり、出射面において設定する強度分布および位相分布、ならびに、波長および偏波により規定される。)
なお、ψj(x)およびφj(x)は、回路中で強度増幅、波長変換、偏波変換が行われない限り、光強度の総和は同じ(あるいは無視できる程度の損失)であり、それらの波長も偏波も同じである。
・{ψj(x)、φj(x)}:入出力ペア(入出力のフィールドの組み。)
{ψj(x)、φj(x)}は、入射面および出射面における、強度分布および位相分布ならびに波長および偏波により規定される。
・{nq}:屈折率分布(光回路設計領域全体の値の組。)
与えられた入射フィールドおよび出射フィールドに対して屈折率分布を1つ与えたときに光のフィールドが決まるので、q番目の繰り返し演算で与えられる屈折率分布全体に対するフィールドを考える必要がある。そこで、(x,z)を不定変数として、屈折率分布全体をnq(x,z)と表しても良いが、場所(x,z)における屈折率の値nq(x,z)と区別するために、屈折率分布全体に対しては{nq}と表す。
・ncore:光導波路におけるコア部分のような、周囲の屈折率に対して高い屈折率の値を示す記号。
・nclad:光導波路におけるクラッド部分のような、ncoreに対して低い屈折率の値を示す記号。
・ψj(z,x,{nq}):j番目の入射フィールドψj(x)を屈折率分布{nq}中をzまで伝搬させたときの、場所(x,z)におけるフィールドの値。
・φj(z,x,{nq}):j番目の出射フィールドφj(x)を屈折率分布{nq}中をzまで逆伝搬させたときの、場所(x,z)におけるフィールドの値。
In order to explain the method of determining the refractive index distribution, it is better to use symbols, so the following symbols are used to represent each quantity. Note that the target light (field) is not limited to light in a single state. Therefore, an index j is assigned to light in each state so that light in which a plurality of states are superimposed can be targeted. In general.
Ψ j (x): j-th incident field (complex vector value function, defined by intensity distribution and phase distribution set on the incident surface, and wavelength and polarization)
Φ j (x): j-th outgoing field (complex vector value function, defined by intensity distribution and phase distribution, wavelength and polarization set on the outgoing face)
Note that ψ j (x) and φ j (x) have the same total light intensity (or a negligible loss) unless intensity amplification, wavelength conversion, and polarization conversion are performed in the circuit. Their wavelength and polarization are the same.
{Ψ j (x), φ j (x)}: Input / output pair (a set of input / output fields)
{Ψ j (x), φ j (x)} is defined by the intensity distribution and the phase distribution, the wavelength and the polarization at the entrance surface and the exit surface.
{N q }: Refractive index distribution (a set of values for the entire optical circuit design area)
Since one field of light is determined when one refractive index distribution is given to a given incident field and outgoing field, it is necessary to consider a field for the entire refractive index distribution given by the qth iterative operation. Therefore, the entire refractive index distribution may be expressed as n q (x, z) with (x, z) as an indefinite variable, but the refractive index value n q (x, z) at the location (x, z) For distinction, {n q } is used for the entire refractive index distribution.
N core : A symbol indicating a high refractive index value with respect to the surrounding refractive index, such as a core portion in an optical waveguide.
N clad : a symbol indicating a low refractive index value with respect to n core , such as a clad portion in an optical waveguide.
Ψ j (z, x, {n q }): field at location (x, z) when the jth incident field ψ j (x) is propagated through the refractive index profile {n q } to z The value of the.
Φ j (z, x, {n q }): at the location (x, z) when the j-th outgoing field φ j (x) is propagated back to z in the refractive index profile {n q } The field value.
本実施形態において、屈折率分布は、すべてのjについてψj(ze,x,{nq})=φj(x)、またはそれに近い状態となるように{nq}が与えられる。 In the present embodiment, the refractive index distribution, all j for ψ j (z e, x, {n q}) is given = φ j (x), or the so close state {n q}.
「入力ポート」および「出力ポート」とは、入射端面および出射端面におけるフィールドの集中した「領域」であり、例えば、その部分に光ファイバを接続することにより、光強度をファイバに伝搬できるような領域である。ここで、フィールドの強度分布および位相分布は、j番目のものとk番目のものとで異なるように設計可能であるので、入射端面および出射端面に複数のポートを設けることができる。さらに、入射フィールドと出射フィールドの組を考えた場合、その間の伝搬により発生する位相が、光の周波数によって異なるので、周波数が異なる光(すなわち波長の異なる光)については、位相を含めたフィールド形状が同じであるか直交しているかの如何にかかわらず、異なるポートとして設定することができる。 “Input port” and “output port” are “areas” where the fields at the entrance end face and the exit end face are concentrated. For example, by connecting an optical fiber to the part, the optical intensity can be propagated to the fiber. It is an area. Here, since the field intensity distribution and phase distribution can be designed to be different for the j-th and k-th ones, a plurality of ports can be provided on the entrance end face and the exit end face. Furthermore, when considering a pair of an incident field and an outgoing field, the phase generated by the propagation between them differs depending on the frequency of light. Therefore, for light having different frequencies (that is, light having different wavelengths), the field shape including the phase is included. Regardless of whether they are the same or orthogonal, they can be configured as different ports.
ここで、電磁界は、実数ベクトル値の場で、かつ波長と偏光状態をパラメータとして有するが、その成分の値を一般な数学的取扱いが容易な複素数で表示し、電磁波の解を表記する。また、以下の計算においては、フィールド全体の強度は1に規格化されているものとする。図2(b)および図2(c)に示したように、j番目の入射フィールドψj(x)および出力フィールドφj(x)に対し、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとをそれぞれの場所の複素ベクトル値関数として、ψj(z,x,{n})およびφj(z,x,{n})と表記する。これらの関数の値は、屈折率分布{n}により変化するため、屈折率分布{n}がパラメータとなる。記号の定義により、ψj(x)=ψj(0,x,{n})、および、φj(x)=φj(ze,x,{n})となる。これらの関数の値は、入射フィールドψj(x)、出射フィールドφj(x)、および屈折率分布{n}が与えられれば、ビーム伝搬法などの公知の手法により容易に計算することができる。 Here, the electromagnetic field is a field of a real vector value, and has a wavelength and a polarization state as parameters, but the value of the component is displayed as a complex number that can be easily handled in a general mathematical manner, and represents the solution of the electromagnetic wave. In the following calculation, it is assumed that the strength of the entire field is normalized to 1. As shown in FIGS. 2B and 2C, with respect to the jth incident field ψ j (x) and the output field φ j (x), the propagation field and the back propagation field are set at the respective locations. As complex vector value functions, they are expressed as ψ j (z, x, {n}) and φ j (z, x, {n}). Since the values of these functions vary depending on the refractive index distribution {n}, the refractive index distribution {n} is a parameter. According to the definition of the symbols, ψ j (x) = ψ j (0, x, {n}) and φ j (x) = φ j (z e , x, {n}). The values of these functions can be easily calculated by a known method such as a beam propagation method, given an incident field ψ j (x), an outgoing field φ j (x), and a refractive index distribution {n}. it can.
以下に、空間的な屈折率分布を決定するための一般的なアルゴリズムを説明する。図3に、波動伝達媒体の空間的な屈折率分布を決定するための計算手順を示す。この計算は、繰り返し実行されるので、繰り返し回数をqで表し、(q−1)番目まで計算が実行されているときのq番目の計算の様子が図示されている。(q−1)番目の計算によって得られた屈折率分布{nq-1}をもとに、各j番目の入射フィールドψj(x)および出射フィールドφj(x)について、伝搬フィールドと逆伝搬フィールドとを数値計算により求め、その結果を各々、ψj(z,x,{nq-1})およびφj(z,x,{nq-1})と表記する(ステップS220)。 In the following, a general algorithm for determining the spatial refractive index distribution will be described. FIG. 3 shows a calculation procedure for determining the spatial refractive index distribution of the wave transmission medium. Since this calculation is repeatedly executed, the number of repetitions is represented by q, and the state of the qth calculation when the calculation is executed up to the (q−1) th is shown. Based on the refractive index distribution {n q-1 } obtained by the (q-1) th calculation, the propagation field and the jth incident field ψ j (x) and the outgoing field φ j (x) The back propagation field is obtained by numerical calculation, and the results are expressed as ψ j (z, x, {n q-1 }) and φ j (z, x, {n q-1 }), respectively (step S220). ).
これらの結果をもとに、各場所(z,x)における屈折率nq(z,x)を、次式により求める(ステップS240)。
nq(z,x)=nq-1(z,x)−αΣjIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})] ・・・(1)
ここで、右辺第2項中の記号「・」は、内積演算を意味し、Im[]は、[]内のフィールド内積演算結果の虚数成分を意味する。なお、記号「*」は複素共役である。係数αは、nq(z,x)の数分の1以下の値をさらにフィールドの組の数で割った値であり、正の小さな値である。Σjは、インデックスjについて和をとるという意味である。
Based on these results, the refractive index n q (z, x) at each location (z, x) is obtained by the following equation (step S240).
n q (z, x) = n q-1 (z, x) −αΣ j Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })] (1)
Here, the symbol “·” in the second term on the right side means an inner product operation, and Im [] means an imaginary number component of the field inner product operation result in []. The symbol “*” is a complex conjugate. The coefficient α is a value obtained by dividing a value equal to or less than a fraction of n q (z, x) by the number of field pairs, and is a small positive value. Σ j means that the sum is taken for the index j.
ステップS220とS240とを繰り返し、伝搬フィールドの出射面における値ψj(ze,x,{n})と出射フィールドφj(x)との差の絶対値が、所望の誤差djよりも小さくなると(ステップS230:YES)計算が終了する。 Step S220 and S240 and repeats the value in the exit plane of the propagation field ψ j (z e, x, {n}) the absolute value of the difference between the exit field φ j (x) is than desired error d j When it becomes smaller (step S230: YES), the calculation ends.
以上の計算では、屈折率分布の初期値{n0}は適当に設定すればよいが、この初期値{n0}が予想される屈折率分布に近ければ、それだけ計算の収束は早くなる(ステップS200)。また、各jについてφj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})を計算するにあたっては、パラレルに計算が可能な計算機の場合は、jごと(すなわち、φj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})ごと)に計算すればよいので、クラスタシステム等を利用して計算の効率化を図ることができる(ステップS220)。また、比較的少ないメモリで計算機が構成されている場合は、式(1)のインデックスjについての和の部分で、各qで適当なjを選び、その分のφj(z,x,{nq-1})およびψj(z,x,{nq-1})のみを計算して、以降の計算を繰り返すことも可能である(ステップS220)。 In the above calculation, the initial value {n 0 } of the refractive index distribution may be set appropriately. However, if this initial value {n 0 } is close to the expected refractive index distribution, the calculation converges faster accordingly ( Step S200). When calculating φ j (z, x, {n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 }) for each j, , J (that is, φ j (z, x, {n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 })). Thus, calculation efficiency can be improved (step S220). If the computer is configured with a relatively small memory, an appropriate j is selected for each q in the sum of the index j in equation (1), and φ j (z, x, { It is also possible to calculate only n q-1 }) and ψ j (z, x, {n q-1 }) and repeat the subsequent calculations (step S220).
以上の演算において、φj(z,x,{nq-1})の値とψj(z,x,{nq-1})の値とが近い場合には、式(1)中のIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})]は位相差に対応する値となり、この値を減少させることで所望の出力を得ることが可能である。 In the above operation, φ j (z, x, {n q-1}) in the case of values and ψ j (z, x, { n q-1}) and the value of the near, the formula (1) Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })] is a value corresponding to the phase difference, and by reducing this value, It is possible to obtain a desired output.
屈折率分布の決定は、波動伝達媒体に仮想的メッシュを定め、このメッシュによって画定される微小領域(ピクセル)の屈折率を、各ピクセルごとに決定することと言い換えることもできる。このような局所的な屈折率は、原理的には、その場所ごとに任意の(所望の)値とすることができる。最も単純な系は、低屈折率(nL)を有するピクセルと高屈折率(nH)を有するピクセルのみからなる系であり、これら2種のピクセルの空間的分布により全体的な屈折率分布が決定される。この場合、媒体中の低屈折率ピクセルが存在する場所を高屈折率ピクセルの空隙として観念したり、逆に、高屈折率ピクセルが存在する場所を低屈折率ピクセルの空隙として観念したりすることができる。すなわち、本発明の波動伝達媒体は、均一な屈折率を有する媒体中の所望の場所(ピクセル)を、これとは異なる屈折率のピクセルで置換したものと表現することができる。 The determination of the refractive index distribution can be rephrased as defining a virtual mesh in the wave transmission medium and determining the refractive index of a minute region (pixel) defined by the mesh for each pixel. In principle, such a local refractive index can be an arbitrary (desired) value for each location. The simplest system is a system consisting only of pixels having a low refractive index (n L ) and pixels having a high refractive index (n H ), and the overall refractive index distribution due to the spatial distribution of these two types of pixels. Is determined. In this case, the place where the low refractive index pixel exists in the medium is considered as a gap of the high refractive index pixel, and conversely, the place where the high refractive index pixel exists is considered as the gap of the low refractive index pixel. Can do. That is, the wave transmission medium of the present invention can be expressed as a desired place (pixel) in a medium having a uniform refractive index replaced with a pixel having a different refractive index.
上述した屈折率分布決定のための演算内容を要約すると次のようになる。波動をホログラフィックに伝達させ得る媒体(光の場合には誘電体)に、入力ポートと出力ポートとを設け、入力ポートから入射した伝搬光のフィールド分布1(順伝搬光)と、入力ポートから入射した光信号が出力ポートから出力される際に期待される出力フィールドを出力ポート側から逆伝搬させた位相共役光のフィールド分布2(逆伝搬光)と、を数値計算により求める。フィールド分布1およびフィールド分布2を、伝搬光と逆伝搬光の各点(x,z)における位相差をなくすように、媒体中での空間的な屈折率分布を求める。なお、このような屈折率分布を得るための方法として最急降下法を採用すれば、各点の屈折率を変数として最急降下法により得られる方向に屈折率を変化させることにより、屈折率を式(1)のように変化させることで、2つのフィールド間の差を減少させることができる。このような波動伝達媒体を、入力ポートから入射した光を所望の出力ポートに出射させる光部品に応用すれば、媒体内で生じる伝搬波同士の多重散乱による干渉現象により、実効的な光路長が長くなり、緩やかな屈折率変化(分布)でも充分に高い光信号制御性を有する光回路を構成することができる。
The calculation contents for determining the refractive index distribution described above are summarized as follows. An input port and an output port are provided in a medium capable of transmitting a wave in a holographic manner (dielectric in the case of light). Field distribution 1 (forward propagation light) of propagating light incident from the input port and from the input port A field distribution 2 (reverse propagation light) of phase conjugate light in which an output field expected when an incident optical signal is output from the output port is propagated backward from the output port side is obtained by numerical calculation. In the
図4に、アレイ導波路に適用される波動伝達媒体の屈折率分布を示す。上述したアルゴリズムにしたがって、約200回の繰り返しにより、図4に示した屈折率分布を有する光回路が得られる。ここで、図中の光回路設計領域1−1内の黒色部分は、コアに相当する高屈折率部(誘電体多重散乱部)1−11であり、黒色部以外の部分はクラッドに相当する低屈折率部1−12であり、導波路より屈折率の低い散乱点である。クラッドの屈折率は、石英ガラスの屈折率を想定し、コアの屈折率は、石英ガラスに対する比屈折率が1.5%だけ高い値を有する。光回路のサイズは縦250μm、横50μmである。屈折率分布を求める際の計算に用いられたメッシュは、500×100である。 FIG. 4 shows the refractive index distribution of the wave transmission medium applied to the arrayed waveguide. According to the algorithm described above, an optical circuit having the refractive index distribution shown in FIG. 4 is obtained by repeating about 200 times. Here, the black part in the optical circuit design region 1-1 in the figure is a high refractive index part (dielectric multiple scattering part) 1-11 corresponding to the core, and the part other than the black part corresponds to the clad. The low refractive index portion 1-12 is a scattering point having a refractive index lower than that of the waveguide. The refractive index of the clad assumes the refractive index of quartz glass, and the refractive index of the core has a value that is higher by 1.5% than the quartz glass. The size of the optical circuit is 250 μm in length and 50 μm in width. The mesh used for the calculation when obtaining the refractive index distribution is 500 × 100.
図5に、波動伝達媒体を含む導波路の作成方法を示す。シリコン基板201上に、火炎堆積法により、SiO2を主体にした下部クラッドガラススート202を堆積する。次に、SiO2にGeO2を添加したコアガラススート203を堆積する(図5(a))。その後、1000℃以上の高温でガラス透明化を行う。このとき、下部クラッドガラス層204は30ミクロン厚、コアガラス205は7ミクロン厚となるように、ガラスの堆積を行っている(図5(b))。
FIG. 5 shows a method for creating a waveguide including a wave transmission medium. A lower
引き続き、フォトリソグラフィ技術を用いてコアガラス205上に、図4に示した屈折率分布に応じたパターンを有するエッチングマスク206を形成し(図5(c))、反応性イオンエッチングによってコアガラス205のパターン化を行う(図5(d))。エッチングマスク206を除去した後、上部クラッドガラス207を、再度火炎堆積法で形成する。上部クラッドガラス207は、B2O3やP2O5などのドーパントを添加してSiO2である。これによりガラス転移温度を下げ,コアガラス205とコアガラス205との間の狭い隙間にも、上部クラッドガラス207が入り込むようにする(図5(e))。
Subsequently, an
なお、メッシュの最小寸法は、光信号の波長1.55μmに対して、光散乱が生じる形状として十分に小さい値を仮定し、実際の設計において計算機メモリの消費を抑えるために、最小寸法を0.2μmとする。 Note that the minimum dimension of the mesh is assumed to be a sufficiently small value as a shape in which light scattering occurs with respect to the wavelength of the optical signal of 1.55 μm. .2 μm.
図6に、本発明の一実施形態にかかる導波路型光合分波回路を示す。図1に示した導波路型光合分波回路と同様に、アレイ導波路106を3つのブロックに分割し、アレイ導波路106bに、図4に示した波動伝達媒体を適用する。図7に、アレイ導波路106bの拡大図を示す。アレイ導波路106bが波動伝達媒体となり、従来と比較して、アレイ導波路の経路を曲げることなく配置することができる。波動伝達媒体を適用することによって、アレイ導波路の実効的な屈折率を変えることができるので、アレイ導波路を伝搬する光信号の光路長を短縮することができ、導波路型光合分波回路の小型化を実現することができる。従来の導波路型光合分波回路と比較すると、基板長さでおよそ80%の小型化を実現することができる。
FIG. 6 shows a waveguide type optical multiplexing / demultiplexing circuit according to an embodiment of the present invention. As in the waveguide type optical multiplexing / demultiplexing circuit shown in FIG. 1, the arrayed waveguide 106 is divided into three blocks, and the wave transmission medium shown in FIG. 4 is applied to the arrayed
図8に、図6に示した導波路型光合分波回路の透過特性を示す。チャネル波長間隔が20nmのアレイ導波路回折格子型光合分波回路に適用した場合を示す。スペクトル形状に殆ど影響を与えることなく、良好な分波特性を得ることができる。 FIG. 8 shows the transmission characteristics of the waveguide type optical multiplexing / demultiplexing circuit shown in FIG. A case where the present invention is applied to an arrayed waveguide diffraction grating type optical multiplexing / demultiplexing circuit having a channel wavelength interval of 20 nm is shown. Good demultiplexing characteristics can be obtained with little effect on the spectrum shape.
100 基板
101 入力導波路
102 第1のスラブ導波路
103,106 アレイ導波路
104 第2のスラブ導波路
105 出力導波路
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記アレイ導波路の一部に、前記アレイ導波路のコア層に空間的な屈折率分布が形成された波動伝達媒体を備え、
前記空間的な屈折率分布は、前記アレイ導波路から前記波動伝達媒体に入射された入力光が、光の伝搬方向に沿って伝搬すると、該入力光の入力フィールドが、出力光の出力フィールドに変換されて、前記アレイ導波路へ出力される1つ以上の入出力フィールドの組の各々を伝搬するように、メッシュにより画定されるピクセルの各々のコアが有する屈折率によって決定され、
各々の前記ピクセルのコアの屈折率は、前記アレイ導波路の光の伝搬方向の座標z、前記コア層内において前記光の伝搬方向に垂直な方向の座標xとしたときの断面Xの場所(z,x)において、前記入力フィールドの順伝搬のフィールドの位相と、前記出力フィールドの位相共役に逆伝搬させたフィールドの位相との間の位相差が所定の誤差以下となるように、この計算は、(q−1)番目の計算によって得られた屈折率分布{nq-1}をもとに、前記入出力フィールドの組のj番目の入力フィールドψj(x)および出力フィールドφj(x)について、前記順伝搬フィールドψj(z,x,{nq-1})と前記逆伝搬のフィールドφj(z,x,{nq-1})としたとき、各場所(z,x)における屈折率nq(z,x)を、
nq(z,x)=nq-1(z,x)−αΣjIm[φj(z,x,{nq-1})*・ψj(z,x,{nq-1})]
として計算し、ここで、記号「*」は複素共役であり、記号「・」は内積演算であり、Im[]は[]内のフィールド内積演算結果の虚数成分であり、αは計算の収束を考慮した定数であり、Σjはjについて和を示し、かつ、
前記入力光のフィールドが、前記アレイ導波路の伝搬方向に沿って、前記断面Xの屈折率分布により位相の変化を多段に受けることにより、前記波動伝達媒体内で生じる伝搬波同士の多重散乱による干渉現象により光のフィールドの形状を変化させながら伝搬することを特徴とする導波路型光合分波回路。 A first slab waveguide that branches optical signals received from a plurality of input waveguides and a plurality of waveguides that sequentially increase in length by a predetermined waveguide length difference are branched by the first slab waveguide. A waveguide-type optical multiplexing / demultiplexing circuit including an arrayed waveguide for inputting each optical signal, and a second slab waveguide for guiding each signal light output from the arrayed waveguide to each of the plurality of output waveguides In
A wave transmission medium having a spatial refractive index distribution formed in a core layer of the arrayed waveguide in a part of the arrayed waveguide,
The spatial refractive index distribution indicates that when input light incident on the wave transmission medium from the arrayed waveguide propagates along the light propagation direction, the input field of the input light becomes the output field of the output light. Determined by the refractive index of each core of the pixels defined by the mesh to propagate through each set of one or more input / output fields that are transformed and output to the arrayed waveguide;
The refractive index of the core of each of the pixels is the location of the cross section X when the coordinate z in the light propagation direction of the arrayed waveguide is the coordinate x in the direction perpendicular to the light propagation direction in the core layer ( z, in x), so that the phase difference between the and the forward propagation of the field in the input field phase, before Symbol phase field obtained by back propagation to the phase conjugate of the output field is equal to or less than a predetermined error, the The calculation is based on the refractive index distribution {n q−1 } obtained by the (q−1) th calculation, and the jth input field ψ j (x) and output field φ of the set of input / output fields. When j (x) is the forward propagation field ψ j (z, x, {n q-1 }) and the back propagation field φ j (z, x, {n q-1 }), The refractive index n q (z, x) at (z, x) is
n q (z, x) = n q-1 (z, x) −αΣ j Im [φ j (z, x, {n q-1 }) * · ψ j (z, x, {n q-1 })]
Where the symbol “*” is a complex conjugate, the symbol “•” is an inner product operation, Im [] is the imaginary component of the field inner product operation result in [], and α is the convergence of the calculation Where Σ j is the sum for j, and
The field of the input light is subjected to multiple phase changes by the refractive index distribution of the cross section X along the propagation direction of the arrayed waveguide, thereby causing multiple scattering of propagation waves generated in the wave transmission medium. A waveguide type optical multiplexing / demultiplexing circuit that propagates while changing the shape of a light field due to an interference phenomenon.
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