JP4055854B2

JP4055854B2 - Manufacturing method of large pellicle membrane

Info

Publication number: JP4055854B2
Application number: JP2003137613A
Authority: JP
Inventors: 芳真栗山; 泰之阿部
Original assignee: Asahi Kasei EMD Corp
Current assignee: Asahi Kasei EMD Corp
Priority date: 2003-05-15
Filing date: 2003-05-15
Publication date: 2008-03-05
Anticipated expiration: 2023-05-15
Also published as: JP2004341224A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大型ペリクル膜を製造する際に用いられる短辺側の最大巾が１ｍ以上の成膜基板とこの成膜基板を用いて大型ペリクル膜を製造する大型ペリクル膜の製造方法に係り、特に大型ペリクル膜を製造する際の作業性を良くすると共に、大型ペリクル膜に発塵が付着し難くした大型ペリクル膜の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来のペリクル膜を製造する方法或はペリクル膜の製造に使用される成膜基板に関する技術としては、例えば後述の特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４等が知られている。
【０００３】
後述の特許文献１には、回転塗布方法を用いて表面が平滑なガラス、プラスチック等の基材上に水溶性のゾル−ゲル変換が可能な材料をゾル状態で塗布しゲル化させてなる分離膜上に、さらに回転塗布方法を用いてフォトマスク用保護膜材料を所望の膜厚となるように塗布した後、該分離膜材料のゲル化温度以上の温水中に浸漬することにより該分離膜のゾル−ゲル変換を促し、最上部のフォトマスク用保護膜を温水中に浮上させ、次いで所望の形状及び厚みを有するフレームにより該フォトマスク用保護膜を温水中からすくい上げ、加熱、乾燥することにより良好な被膜を形成することを特徴とする高精度パターン板用保護膜の製造方法が詳細に記載されている。
【０００４】
また、後記特許文献２には、溶液キャスト法によりニトロセルロース薄膜を平滑板上に形成せしめ、該薄膜にフレームを接着せしめた後、水中に浸して薄膜を剥離し、次いで乾燥することを特徴とするフォトマスク用防塵カバーの製造方法が記載されている。
【０００５】
かつ、後記特許文献３には、ベースポリマー層に異種のポリマー薄膜にを固着させ、該ポリマー薄膜に枠を接着した後、該薄膜を溶解せず、ベースポリマーを溶解する溶剤を用いて、ベースポリマー層を溶解、除去することを特徴とする枠に接着固定されたポリマー薄膜の製造方法が記載されている。
【０００６】
後記特許文献４には、ペリクル膜を製造するに当っては、ペリクル膜の製膜する基板の表側成膜面にクロム又はクロム合金をコーティングすることによって、基板の表面に極めて平滑な面を形成し、その平滑面に成膜したペリクルの薄膜を抵抗を少なくスムーズに剥離することが出来るようにし、ペリクル膜にのび、しわ、きず、破れ等が発生することを防止するようにした技術が記載されている。
【０００７】
さらに、後記特許文献５には、特にペリクル膜の成膜用基板に、シリコンまたはＳｉＣ−Ｓｉを使用し、体積抵抗率が１０^５Ω・ｃｍ以上のような体積抵抗率の高いペリクル膜を成膜する際に用いる成膜用基板を、体積抵抗率が１０^３Ω・ｃｍ以下のものとし、これによって基板上に成膜された膜を剥離する際に基板と膜との間で発生する静電気を低く抑えることができ、膜が基板に引きつけられる力を弱くし、したがって膜を剥離するときの膜のしわ、破れが発生することを防止するようにした技術である。
【０００８】
【特許文献１】
特開昭５９−１８２７３０号公報
【特許文献２】
特開昭６０−３５７３３号公報
【特許文献３】
特開昭６０−３８１３０号公報
【特許文献４】
特開平２−１３４６３４号公報
【特許文献５】
特許第２９３８７０９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
前述の特許文献１乃至特許文献５等の技術によって使用されるペリクル膜の成膜基板は、一般的にペリクル面積が１，０００ｃｍ^２以下のペリクル膜を製造することを目的としていたので、その成膜基板は、短辺側の最大巾が１ｍ以下の寸法を有するものが使用されていた。
【００１０】
このように１ｍ以下の最大巾を有する成膜基盤では、ペリクル膜を製造する際にペリクル膜を該成膜基板から剥離するための仮枠も、１ｍ以下の最大巾を有する仮枠が使用出来るので、人が両手で持って比較的離れた場所で容易に操作することが出来る状態であった。
【００１１】
しかし、例えば図５に示す如く、ペリクル面積が１，０００ｃｍ^２以上の大型ペリクル膜を製造することを目的とする大型ペリクル膜用成膜用基板５１では、その短辺側の最大巾が１ｍ以上となり、従って、この大型ペリクル膜用成膜用基板５１から大型ペリクル膜５２を剥離する際に使用される仮枠５３も短辺側の最大巾が１ｍ以上となるので、作業者５４が両手５４ａ、５４ｂで持って操作するためには、作業者５４が仮枠５３に極めて接近した距離Ｄ１で、両手５４ａ、５４ｂを大きく広げて保持しなければならず、ハンドリングの操作性が悪くなるので剥離中に大型ペリクル膜５２が破損する恐れがあると共に、作業者５４の接近による発塵が大型ペリクル膜５２に付着して大型ペリクル膜５２の品質を低下し易くなる問題があった。図中５５は、仮枠５３の下面に塗着された粘着材である。
【００１２】
本発明は、前述の問題点に鑑み開発された全く新規な発明であって、特に大型ペリクル膜用成膜基板の少なくとも１個所の隅にコーナーカットを設けることによって、該大型ペリクル膜用成膜用基板の辺の長さを短くすると共に、大型ペリクル膜用成膜基板に用いられる仮枠の辺の長さも同様に短くし、これによって大型ペリクル膜用成膜基板で成膜される大型ペリクル膜の剥離操作を容易にすると共に、該大型ペリクル膜に発塵が付着して品質を低下せしめることを防止するようにした大型ペリクル膜の製造方法の技術を提供するものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る大型ペリクル膜の製造方法は、前述の従来の問題点を根本的に改善した発明であって、その発明の要旨は、少なくとも１個所の隅にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形した後、該大型ペリクル用成膜基板と同じく少なくとも１個所の隅にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠を前記ペリクル膜上に粘着固定し、さらに該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持しながら前記ペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することを特徴とした大型ペリクル膜の製造方法である。
【００１４】
本発明の大型ペリクル膜の製造方法に於ては、少なくとも１個所の隅にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形し、同様にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠をペリクル膜に粘着固定した後で、該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持するので、作業者は該仮枠及びペリクル膜に近接せずに、仮枠を操作して仮枠と共にペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することが出来る。従って、大型のペリクル膜の剥離を簡単かつ確実にすると共に、作業者が近接することによって生ずるペリクル膜への発塵を防止することが出来る。
【００１５】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係る大型ペリクル膜の製造方法についてその一実施例を具体的に説明すると、図１は本発明に係る第１実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図、図２（ａ）、（ｂ）は夫々本発明の第２実施例及び第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図、図３（ａ）〜（ｃ）は本発明の第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図、図４（ａ）〜（ｃ）は図３の大型ペリクル膜を剥離する工程を示す説明図である。
【００１６】
図１に於て、１はペリクル面積が１，０００ｃｍ^２以上の大型ペリクル膜を製造することが出来る大型ペリクル用成膜基板（以下単に成膜基板という）であって、その短辺側の巾Ｗ１が１，１００ｍｍに形成されている。前記成膜基板１の右下隅にはコーナーカットＣが施されており、このコーナーカットＣが施された短辺側の巾Ｗ２は９００ｍｍに形成されている。
【００１７】
前述の実施例に於ては、成膜基板１の１個所の隅にコーナーカットＣを施して構成したが、図２（ａ）に示す如く、成膜基板の左右の下２隅にコーナーカットＣを施すことによって、成膜基板２を形成することも可能である。この実施例の場合には、成膜基板２の短辺側の巾Ｗ１が１，２００ｍｍであるのに対し、両側にコーナーカットＣが施された短辺側の巾Ｗ３は８００ｍｍに形成されている。
【００１８】
さらに、図２（ｂ）に示す如く、成膜基板の４隅全部にコーナーカットＣを施すことによって、成膜基板３を形成することも可能である。この実施例の場合は、前述の成膜基板２と同様に、成膜基板３の短辺側の巾Ｗ１が１，２００ｍｍであるのに対し、両側がコーナーカットＣされた短辺側の巾Ｗ３を８００ｍｍに形成することが出来る。
【００１９】
本発明の大型ペリクル膜の製造方法について、前述の成膜基板３を用いて大型ペリクル膜を製造する方法を説明すると、図３（ａ）〜（ｃ）に示す通りである。
【００２０】
即ち、図に於て、成膜基板３を用いて、その表面にニトロセルロース等の膜材料を塗布して大型ペリクル膜４を成膜する。続いて、図４（ａ）〜（ｃ）に示す如く、成膜基板３と同様に４隅部にコーナーカットＣが施された成膜基板３と同寸の仮枠５を大型ペリクル膜４上に載置すると共に、該仮枠５の下面に塗着された粘着材６を介して仮枠５を大型ペリクル膜４に粘着固定する。
【００２１】
次に、特に図４（ｂ）に示す如く、作業者７が両手７ａ、７ｂを広げながら、前述の如く短辺側の巾Ｗ３が８００ｍｍとなった両端部をハンドリングし、仮枠５を手前側から徐々に上昇させることによって、大型ペリクル膜４を成膜基板３より剥離させることが出来る。
【００２２】
前述の成膜基板３は、短辺側の巾Ｗ３が８００ｍｍに形成されているので、図に示す如く、作業者７は両手７ａ、７ｂを大きく広げることなく、成膜基板３の両端部を簡単にかつ均一に力を入れながら、ハンドリングしながら、仮枠５を上昇させて大型ペリクル膜４をスムーズに剥離することが出来る。また、作業者７は両手７ａ、７ｂを大きく広げる必要がないので、前述の図５に示す従来例の如く、仮枠５及び大型ペリクル膜４に近接する必要がなく、大型ペリクル膜４より遠く離れた距離Ｄ２で作業をすることが出来る。
【００２３】
従って、作業者７が仮枠５及び大型ペリクル膜４に近接する必要がないので、従来例の如く、作業者７が大型ペリクル膜４に近接する場合に発生する大型ペリクル膜４の発塵を無くし、塵埃の付着による大型ペリクル膜４の品質の低下を防止することが出来る。
【００２４】
前述の成膜基板１〜３の材料としては、ガラス基板等が使用出来る。また、前述の実施例に於ては、ペリクル膜の膜材料としてニトロセルロースを使用したが、その他にポリビニルプロビオナール、ポリビニルブチラール、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、バリレン、ポリメチルメタクリレー等が夫々使用することが出来る。これ等の膜材料は、スピンコータ等を用いて回転塗布することによって、ガラス板の表面に所望の肉厚に成膜することが出来る。
【００２５】
【発明の効果】
本発明に係る大型ペリクル膜の製造方法に於ては、少なくとも１個所の隅にコーナーカットを設けることによって辺の長さを１ｍ以下に構成した大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形し、同様にコーナーカットが施されて辺の長さが１ｍ以下に形成された仮枠をペリクル膜に粘着固定した後で、該仮枠の１ｍ以下に形成された辺を作業者が両手で保持するので、作業者は該仮枠及びペリクル膜に近接せずに、仮枠を操作して仮枠と共にペリクル膜を大型ペリクル用成膜基板より剥離して製造することが出来る効果を有している。従って、大型のペリクル膜の剥離を簡単かつ確実にすると共に、作業者が近接することによって生ずるペリクル膜への発塵を防止することが出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図である。
【図２】本発明の第２実施例及び第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の平面図である。
【図３】本発明の第３実施例の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図である。
【図４】図３の大型ペリクル膜を剥離する工程を示す説明図である。
【図５】従来の大型ペリクル膜を製造する際に使用される大型の成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法を示す説明図である。
【符号の説明】
１ …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
２ …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
３ …大型ペリクル用成膜基板（成膜基板）
４ …大型ペリクル膜
５ …仮枠
６ …粘着材
７ …作業者７は７ａ、
７ａ …両手
７ｂ …両手
５１ …大型ペリクル膜用成膜用基板
５２ …大型ペリクル膜
５３ …仮枠
５４ …作業者
５４ａ …両手
５４ｂ …両手
Ｃ …コーナーカット
Ｄ１ …距離
Ｄ２ …距離
Ｗ１ …１，１００ｍｍ
Ｗ２ …９００ｍｍ
Ｗ３ …８００ｍｍ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a film formation substrate having a maximum width of 1 m or more on the short side used for manufacturing a large pellicle film, and a method for producing a large pellicle film using the film formation substrate to manufacture a large pellicle film. especially with better workability in manufacturing the large-sized pellicle film, a method of manufacturing a large-scale pellicle film dusting large pellicle film was not easily adhere.
[0002]
[Prior art]
As a conventional method for manufacturing a pellicle film or a technique related to a film formation substrate used for manufacturing a pellicle film, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, and Patent Document 4 described below are known. .
[0003]
In Patent Document 1 to be described later, separation is performed by applying a water-soluble sol-gel-convertable material in a sol state on a substrate such as glass or plastic having a smooth surface using a spin coating method and gelling. The separation membrane is further coated on the membrane using a spin coating method so that the protective film material for the photomask has a desired thickness, and then immersed in warm water at a temperature equal to or higher than the gelation temperature of the separation membrane material. Sol-gel conversion is promoted, the uppermost photomask protective film is floated in warm water, and then the photomask protective film is scooped up from the warm water by a frame having a desired shape and thickness, and heated and dried. Describes a method for producing a protective film for a high-precision pattern board, which is characterized by forming a better film.
[0004]
Further, Patent Document 2 described below is characterized in that a nitrocellulose thin film is formed on a smooth plate by a solution casting method, a frame is adhered to the thin film, then immersed in water to peel the thin film, and then dried. A method for manufacturing a dustproof cover for a photomask is described.
[0005]
In Patent Document 3 described later, a base material layer is fixed to a different polymer thin film, a frame is bonded to the polymer thin film, and then the base polymer layer is dissolved without dissolving the thin film. A method for producing a polymer thin film adhered and fixed to a frame, characterized by dissolving and removing the polymer layer is described.
[0006]
In Patent Document 4 to be described later, when manufacturing a pellicle film, a very smooth surface is formed on the surface of the substrate by coating the front side film-forming surface of the substrate on which the pellicle film is formed with chromium or a chromium alloy. In addition, it describes a technology that enables the thin film of the pellicle formed on the smooth surface to be peeled off with less resistance and prevents the pellicle film from spreading, wrinkling, scratching, tearing, etc. Has been.
[0007]
Further, in Patent Document 5 described later, a pellicle film having a high volume resistivity such as a volume resistivity of 10 ⁵ Ω · cm or more is formed using silicon or SiC-Si for the substrate for forming the pellicle film. The film formation substrate used for film formation has a volume resistivity of 10 ³ Ω · cm or less, and static electricity generated between the substrate and the film when the film formed on the substrate is peeled off. Is a technique in which the force that the film is attracted to the substrate is weakened, and therefore wrinkling and tearing of the film when peeling the film are prevented.
[0008]
[Patent Document 1]
JP 59-182730 A [Patent Document 2]
JP-A-60-35733 [Patent Document 3]
Japanese Patent Laid-Open No. 60-38130 [Patent Document 4]
JP-A-2-134634 [Patent Document 5]
Japanese Patent No. 2938709 [0009]
[Problems to be solved by the invention]
The substrate for forming a pellicle film used by the above-described technologies such as Patent Document 1 to Patent Document 5 is generally intended to produce a pellicle film having a pellicle area of 1,000 cm ² or less. A film substrate having a maximum width on the short side of 1 m or less was used.
[0010]
As described above, in the film formation substrate having the maximum width of 1 m or less, a temporary frame for peeling the pellicle film from the film formation substrate when manufacturing the pellicle film can be a temporary frame having a maximum width of 1 m or less. Therefore, it was in a state in which a person could easily operate it with both hands and relatively far away.
[0011]
However, for example, as shown in FIG. 5, in the large pellicle film forming substrate 51 for the purpose of manufacturing a large pellicle film having a pellicle area of 1,000 cm ² or more, the maximum width on the short side is 1 m or more. Accordingly, the temporary frame 53 used when the large pellicle film 52 is peeled from the large pellicle film forming substrate 51 has a maximum width of 1 m or more on the short side, so that the operator 54 has both hands 54a. , 54b, the operator 54 must hold both hands 54a, 54b at a distance D1 that is extremely close to the temporary frame 53, and the handling operability deteriorates. There is a risk that the large pellicle film 52 may be damaged, and dust generated by the approach of the operator 54 may adhere to the large pellicle film 52 and the quality of the large pellicle film 52 may be easily deteriorated. . In the figure, reference numeral 55 denotes an adhesive material applied to the lower surface of the temporary frame 53.
[0012]
The present invention is a completely new invention developed in view of the above-mentioned problems, and in particular, by forming a corner cut at a corner of at least one corner of a large pellicle film deposition substrate, the large pellicle film deposition is performed. Large pellicle formed on the large pellicle film deposition substrate by reducing the length of the side of the substrate and the length of the side of the temporary frame used for the large pellicle film deposition substrate. thereby facilitating the peeling operation of the film, and adhesion of dust to the large-sized pellicle film is to provide a technique of the method for manufacturing the large-pellicle film so as to prevent the allowed to degrade the quality.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
Method for producing large pellicle film according to the present invention is an invention which fundamentally improve the conventional problems described above, the gist of the invention, the long sides by providing a corner cut in the corner of the at least one portion After forming a pellicle film by applying a pellicle film molding material on the surface of a large-sized pellicle film-forming substrate having a thickness of 1 m or less, a corner cut is formed at at least one corner as in the large-sized pellicle film-forming substrate. The pellicle film is formed by adhering and fixing the temporary frame having a side length of 1 m or less on the pellicle film, and the operator holds the side formed by 1 m or less of the temporary frame with both hands. Is a method for producing a large pellicle film, which is manufactured by peeling the film from the film forming substrate for large pellicle.
[0014]
In the method for producing a large pellicle film of the present invention, a pellicle film molding material is formed on the surface of a film substrate for large pellicles having a side length of 1 m or less by providing a corner cut at at least one corner. The pellicle film is formed by coating the same, and after a temporary frame having a corner cut and having a side length of 1 m or less is adhesively fixed to the pellicle film, the pellicle film is formed to be 1 m or less of the temporary frame. Since the operator holds the edge with both hands, the operator operates the temporary frame and peels the pellicle film together with the temporary frame from the large-sized pellicle film formation substrate without being close to the temporary frame and the pellicle film. I can do it. Therefore, it is possible to easily and reliably peel off the large pellicle film, and to prevent dust generation on the pellicle film caused by the proximity of the operator.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
A method for manufacturing engagement Ru large-pellicle film present invention the specifically described an embodiment thereof with reference to FIG, 1 is a plan view of a large pellicle film forming substrate of the first embodiment according to the present invention, FIG. 2 FIGS. 3A and 3B are plan views of a film forming substrate for a large pellicle according to the second and third embodiments of the present invention, respectively, and FIGS. 3A to 3C are views of the third embodiment of the present invention. FIGS. 4A to 4C are explanatory views showing a process of peeling the large pellicle film in FIG. 3. FIG. 4A to FIG. 4C are views illustrating a state in which a large pellicle film is formed on the surface of the large pellicle film formation substrate.
[0016]
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a large pellicle film formation substrate (hereinafter simply referred to as a film formation substrate) capable of producing a large pellicle film having a pellicle area of 1,000 cm ² or more. W1 is formed to be 1,100 mm. A corner cut C is applied to the lower right corner of the film formation substrate 1, and the width W2 on the short side where the corner cut C is applied is formed to be 900 mm.
[0017]
In the above-described embodiment, the corner cut C is made at one corner of the film formation substrate 1, but as shown in FIG. By applying C, the film formation substrate 2 can be formed. In the case of this embodiment, the width W1 on the short side of the film formation substrate 2 is 1,200 mm, whereas the width W3 on the short side with the corner cut C on both sides is formed to 800 mm. Yes.
[0018]
Further, as shown in FIG. 2B, the film formation substrate 3 can be formed by making the corner cuts C at all four corners of the film formation substrate. In the case of this embodiment, the width W1 on the short side of the film formation substrate 3 is 1,200 mm as in the film formation substrate 2 described above, whereas the width on the short side where both sides are corner-cut C. W3 can be formed to 800 mm.
[0019]
Regarding the method for producing a large pellicle film of the present invention, a method for producing a large pellicle film using the above-described film formation substrate 3 will be described as shown in FIGS.
[0020]
That is, in the drawing, a large pellicle film 4 is formed by applying a film material such as nitrocellulose on the surface of the film formation substrate 3. Subsequently, as shown in FIGS. 4A to 4C, a temporary frame 5 having the same size as that of the film formation substrate 3 having the corner cuts C at the four corners is formed on the large pellicle film 4. The temporary frame 5 is adhesively fixed to the large pellicle film 4 via an adhesive material 6 applied to the lower surface of the temporary frame 5.
[0021]
Next, as shown in FIG. 4 (b) in particular, the operator 7 spreads both hands 7a and 7b while handling both ends where the short side width W3 is 800 mm as described above, and the temporary frame 5 is brought forward. By gradually raising from the side, the large pellicle film 4 can be peeled off from the deposition substrate 3.
[0022]
Since the above-mentioned film-forming substrate 3 has a short side width W3 of 800 mm, as shown in the figure, the operator 7 does not widen both hands 7a and 7b, The large pellicle film 4 can be smoothly peeled by raising the temporary frame 5 while handling it with simple and uniform force. Further, since the operator 7 does not need to widen both hands 7a and 7b, it is not necessary to be close to the temporary frame 5 and the large pellicle film 4 as in the conventional example shown in FIG. It is possible to work at a distance D2.
[0023]
Therefore, since it is not necessary for the worker 7 to be close to the temporary frame 5 and the large pellicle film 4, the dust generation of the large pellicle film 4 that occurs when the worker 7 is close to the large pellicle film 4 as in the conventional example. It is possible to prevent deterioration of the quality of the large pellicle film 4 due to adhesion of dust.
[0024]
A glass substrate or the like can be used as the material for the above-described film-forming substrates 1 to 3. In the above-described embodiments, nitrocellulose was used as the film material of the pellicle film, but in addition, polyvinyl propional, polyvinyl butyral, cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polypropylene, valylene, polymethyl methacrylate, etc., respectively. Can be used. These film materials can be formed into a desired thickness on the surface of the glass plate by spin coating using a spin coater or the like.
[0025]
【The invention's effect】
In the method for producing a large pellicle film according to the present invention, a pellicle film is formed on the surface of a film substrate for large pellicles having a side length of 1 m or less by providing a corner cut at at least one corner. Form the pellicle film by applying the material, and then fix the temporary frame with the corner cut and the side length of 1 m or less to the pellicle film, and then form it to 1 m or less of the temporary frame. Since the operator holds both sides with both hands, the operator operates the temporary frame to peel the pellicle film together with the temporary frame from the large-sized pellicle film formation substrate without approaching the temporary frame and the pellicle film. It has the effect that it can be manufactured. Therefore, it is possible to easily and reliably peel off the large pellicle film, and to prevent dust generation on the pellicle film caused by the proximity of the operator.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a film forming substrate for a large pellicle according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of a film forming substrate for a large pellicle according to a second embodiment and a third embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state in which a large pellicle film is formed on the surface of a film substrate for large pellicle according to a third embodiment of the present invention.
4 is an explanatory view showing a process of peeling off the large pellicle film of FIG. 3; FIG.
FIG. 5 is an explanatory view showing a large film formation substrate and a method for manufacturing a large pellicle film used when manufacturing a conventional large pellicle film.
[Explanation of symbols]
1 ... Deposition substrate for large pellicles (deposition substrate)
2 ... Film deposition substrate for large pellicles (film deposition substrate)
3 ... Film deposition substrate for large pellicles (film deposition substrate)
4 ... Large pellicle film 5 ... Temporary frame 6 ... Adhesive material 7 ... Operator 7 is 7a,
7a ... Both hands 7b ... Both hands 51 ... Substrate for large pellicle film formation 52 ... Large pellicle film 53 ... Temporary frame 54 ... Worker 54a ... Both hands 54b ... Both hands C ... Corner cut D1 ... Distance D2 ... Distance W1 ... 1,100mm
W2 ... 900mm
W3 ... 800mm

Claims

In a large-sized pellicle film formation substrate with a maximum width of 1 m or more on the short side used when manufacturing a large pellicle film, the side length is set to 1 m or less by providing a corner cut at at least one corner. on the surface of the large pellicle deposition substrate configured, after forming a pellicle film by applying a pellicle film forming material, and corner cutting is performed in a corner of the same at least one place as in large-sized pellicle film forming substrate A temporary frame formed with a side length of 1 m or less is adhesively fixed on the pellicle film, and the pellicle film is formed for a large pellicle while holding a side formed with 1 m or less of the temporary frame with both hands. A method for producing a large pellicle film, which is produced by peeling from a substrate.