JP4043232B2 - Large pellicle - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに異物が付着することを防止するために用いられるペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体回路パターン等の製造においては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクルへの異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】
ペリクルはフォトマスクやレティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面にニトロセルロース或いはセルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面にマスク粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】
フォトマスクやレティクルの表面に異物が付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクやレティクルにペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じさせないものである。
【０００５】
従来のペリクル膜を展張して貼着支持する枠体は、直径５インチ（１２７mm)の半導体ウェハに応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年では各種のマルチメディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルが要望されている。
【０００７】
大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のものが一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリクル膜の張力により特に長辺が枠体の内側に向かって撓み易く、この撓みによってフォトマスクの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があり、大型ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現象が顕著になる。
【０００８】
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する枠体を有する大型ペリクルであって、少なくとも一対の辺を枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、該枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来、更にはフォトマスクの良好な貼り付け性能を確保し得る大型ペリクルを提供せんとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
ペリクルに使用するマスク粘着材は枠体がペリクル膜の張力により略直線上に遷移しても皺が入らないように枠体の変形に追従することが望ましい。マスク粘着材に皺が入るとペリクルをフォトマスクに貼り付ける際にエアーパスが発生する虞が有る。
【００１０】
また、枠体のペリクル膜が貼着される面と反対側の面にマスク粘着材によって貼着される保護フィルムもペリクル膜の張力による枠体の変形によってマスク粘着材から部分的にも剥がれないように枠体の変形に追従することが望ましい。
【００１１】
以上の観点から完成された前記目的を達成するための本発明に係る大型ペリクルは、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する一対の長辺と一対の短辺とからなる４辺の枠体を有する大型ペリクルであって、前記大型ペリクル膜が展張される前記枠体のうち少なくとも一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成し、該枠体の一対の長辺が、これに貼着された前記大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移し、該大型ペリクル膜の膜厚が１μｍ以上、且つ１０μｍ以下で且つ該大型ペリクル膜を展張する面積が１０００ cm 2 以上で構成されたことを特徴とする。
【００１２】
枠体のうち少なくとも一対の長辺が枠体の外側に向かって突出するように形成され、該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移するように設定されたことで、大型ペリクル膜の張力がかかった状態で枠体のうち少なくとも一対の長辺の内側への突出がなくなるためフォトマスクのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくすることが出来る。
【００１３】
また、大型ペリクル膜の膜厚を１μｍ以上、且つ１０μｍ以下に設定したことで、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００ cm 2 以上で構成された場合であっても大型ペリクル膜の強度を維持することが出来る。
【００１４】
また、前記枠体の前記大型ペリクル膜が貼着される面と反対側の面には０．１３N/cm2以上、且つ１３０.００N/cm2以下の圧縮硬さを有するマスク粘着材によって保護フィルムが貼着されたことを特徴とする。
【００１５】
本発明は、上述の如く構成したので、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００１６】
また、枠体の一対の辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来る。
【００１７】
また、枠体の大型ペリクル膜が貼着される面と反対側の面に所定の圧縮硬さを有するマスク粘着材によって保護フィルムが貼着された場合には保護フィルムによりマスク粘着材を保護することが出来、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
【００１８】
また、前記マスク粘着材の厚みが０．２mm以上、且つ３mm以下で、且つ該マスク粘着材の圧縮硬さが、０．１３N／cm2以上、且つ１３０．００N／cm2以下、好ましくは０.１３N／cm2以上、且つ１３．００N／cm2以下であれば枠体の変形によりマスク粘着材に皺等の変形が生じることがなく、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。尚、マスク粘着材の幅は枠体の幅以下でホットメルト、両面テープ等の材質が適用可能である。
【００１９】
また、前記保護フィルムの厚みが２５μｍ以上、且つ１mm以下で、且つ該保護フィルムの弾性率が０．５GPa以上、且つ５０GPa以下であれば枠体の変形により保護フィルムに皺等の変形が生じることがなく、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
【００２０】
また、保護フィルムはマスク粘着材の幅以上或いは枠体サイズ以上の大きさのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の材質が適用可能であり、保護フィルムはマスク粘着材の全表面を含む枠体の全面を覆う場合でも良いし、マスク粘着材の全表面のみを覆う場合でも良い。
【００２１】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係る大型ペリクルの一実施形態を具体的に説明する。図１は本発明に係る大型ペリクルの枠体の構成を示す斜視図、図２は本発明に係る大型ペリクルの第１実施形態の構成を示す平面図及び側面図、図３は本発明に係る大型ペリクルの第２実施形態の構成を示す平面図及び側面図、図４は枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直線状に遷移した様子を示す図である。
【００２２】
図１〜図４において、１は膜厚が１μｍ以上、且つ１０μｍ以下のニトロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高分子膜で構成される大型ペリクル膜（以下、単に「ペリクル膜」という）２を展張して貼着支持するアルミニウムやその合金、或いは鉄や鉄系合金等により構成される大型ペリクル枠体（以下、単に「枠体」という）である。
【００２３】
枠体１は一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとからなる４辺を有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは所定の幅寸法と、互いに等しい所定の高さ寸法と、互いに異なる所定の長さ寸法とを夫々有して構成されている。枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の面には該枠体１の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着するための貼着面1a1，1b1が形成されている。
【００２４】
枠体１のペリクル膜２を展張する面積は１０００cm2以上で構成され、該枠体１の一対の長辺１ａは枠体１の外側に向かって突出するように形成されている。本実施形態では、枠体１の一対の長辺１ａは所定の曲率を有して外側に向かって湾曲突出したものであるが、楕円形状や放物線形状、或いは他の各種形状で突出させても良い。
【００２５】
このように大型ペリクル膜２を展張する面積が１０００cm2以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００２６】
図２及び図３に示すように、枠体１のペリクル膜２が貼着される貼着面1a1，1b1と反対側の面には圧縮硬さが０．１３N/cm2以上、且つ１３０.００N/cm2以下に設定されたマスク粘着材３が枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの夫々の幅以下の幅で、且つ０．２mm以上、且つ３mm以下の厚みで塗布され、該マスク粘着材３によって、厚みが２５μｍ以上、且つ１mm以下で、且つ弾性率が０．５GPa以上、且つ５０GPa以下に設定された保護フィルム４が貼着されている。
【００２７】
マスク粘着材３はホットメルト、両面テープ等の材質が適用可能である。
【００２８】
また、保護フィルム４はマスク粘着材３の幅以上或いは枠体１の外形以上の大きさを有するＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等が適用可能であり、保護フィルム４は、図２に示すように、マスク粘着材３の全表面を含む枠体１の全面を覆う略方形状の場合でも良いし、図３に示すように、マスク粘着材３の全表面のみを覆う枠形状の場合でも良い。
【００２９】
枠体１のペリクル膜２が貼着される貼着面1a1，1b1と反対側の面に所定の圧縮硬さを有するマスク粘着材３によって保護フィルム４が貼着された場合には、該保護フィルム４によりマスク粘着材３を保護することが出来、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
【００３０】
上述のように、マスク粘着材３を介して保護フィルム４が貼着された枠体１は、図４に示すように、枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1に接着剤が塗布されてペリクル膜２が展張して貼着される。
【００３１】
枠体１の貼着面1a1，1b1に貼着されたペリクル膜２の張力は、特に長辺１ａが枠体１の内側に向かって撓みが発生するように作用するが、枠体１の一対の長辺１ａを該枠体１の外側に向かって突出するように形成したことで、該長辺１ａの枠体１の内側に向かう撓みを抑制して上記大型ペリクルが取り付けられる図示しないフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来る。
【００３２】
また、図４に示すように、枠体１の外側に向かって突出するように形成された一対の長辺１ａが該枠体１の貼着面1a1，1b1に貼着されたペリクル膜２の張力により略直線状に遷移するように設定された場合には、ペリクル膜２の張力がかかった状態で枠体１の一対の長辺１ａの内側への突出がなくなるためフォトマスクのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくすることが出来る。
【００３３】
枠体１の外側に向かって突出するように形成された一対の長辺１ａがペリクル膜２の張力により略直線状に遷移する一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７mm、高さ４．３mmの方形状で、一対の短辺１ｂの長さが３４８mm、一対の長辺１ａの長さが５８２mm、該長辺１ａの中央部の突出量を１mmとし、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面1a1，1b1にペリクル膜２を貼着した後の該ペリクル膜２の張力により略直線状に遷移した長辺１ａの中央部の最大突出量が０．１〜０．２mmであった。
【００３４】
上述のように、マスク粘着材３の厚みが０．２mm以上、且つ３mm以下で、且つ該マスク粘着材３の圧縮硬さが０．１３N/cm2以上、且つ１３０.００N/cm2以下であれば、図４に示す枠体１の変形によりマスク粘着材３に皺等の変形が生じることがなく、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
【００３５】
前述のマスク粘着材３の圧縮硬さの測定に当っては、「ＪＩＳＫ６７６７」の測定方法に基づいて、次の条件で実施した。
試験片サイズ：ｔ２５mm×５０mm□
※材料のフォームの厚みがｔ０．８mmであるために、ＪＩＳで認められている
内容に従って２５mmの厚みに達するまで積層した。
圧縮条件：１０mm/secのスピードで厚みの２５％まで圧縮
測定方法：２５％まで圧縮し２０秒止めた際の荷重を測定
【００３６】
また、保護フィルム４の厚みが２５μｍ以上、且つ１mm以下で、且つ該保護フィルム４の弾性率が０．５GPa以上、且つ５０GPa以下であれば枠体１の変形により保護フィルム４に皺等の変形が生じることがなく、フォトマスクへの良好な貼り付け性能を確保することが出来る。
【００３７】
また、ペリクル膜２の膜厚を１μｍ以上、且つ１０μｍ以下に設定したことで、ペリクル膜２を展張する面積が１０００cm2以上で構成された場合であってもペリクル膜２の強度を維持することが出来る。
【００３８】
尚、前記各実施形態では、長辺１ａと短辺１ｂとを有する略方形状の枠体１を有して構成された大型ペリクルの一例について説明したが、４辺が略等しい略正方形の枠体１を有する大型ペリクルについても同様に適用することが出来る。
【００３９】
この場合、枠体１のうち少なくとも一対の辺を該枠体１の外側に向かって突出るように形成すれば良く、対向する２辺を枠体１の外側に向かって突出るように形成しても良いし、４辺全てを枠体１の外側に向かって突出するように形成しても良い。
【００４０】
また、前述の略方形状の枠体１の場合において、長辺１ａ及び短辺１ｂの４辺全てを枠体１の外側に向かって突出るように形成しても良い。
【００４１】
【発明の効果】
本発明は、上述の如き構成と作用とを有するので、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００４２】
また、枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクの有効露光領域を確保することが出来る。
【００４３】
また、前記枠体の一対の長辺が該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移するように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力がかかった状態で枠体の一対の長辺の内側への突出がなくなるためフォトマスクのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きく出来る。
【００４４】
また、大型ペリクル膜の張力により枠体が変形しても、その枠体の変形によりマスク粘着材に皺等の変形が生じることが無いためフォトマスクへの良好な貼り付け性能を維持することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る大型ペリクルの枠体の構成を示す斜視図である。
【図２】 本発明に係る大型ペリクルの第１実施形態の構成を示す平面図及び側面図である。
【図３】 本発明に係る大型ペリクルの第２実施形態の構成を示す平面図及び側面図である。
【図４】 枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直線状に遷移した様子を示す図である。
【符号の説明】
１…枠体
１ａ…長辺
１ｂ…短辺
1a1，1b1…貼着面
２…ペリクル膜
３…マスク粘着材
４…保護フィルム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
In the present invention, foreign matter adheres to a photomask or a reticle used in a lithography process when manufacturing a semiconductor device such as an IC (integrated circuit), LSI (large scale integrated circuit), TFTLCD (thin film transistor liquid crystal display). The present invention relates to a pellicle used for prevention.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, in the manufacture of semiconductor circuit patterns and the like, dust prevention means called a pellicle is disposed on both sides of a photomask or reticle to prevent foreign matter from adhering to the photomask or reticle.
[0003]
The pellicle has a shape matching the shape of a photomask or reticle, and a pellicle film made of a transparent polymer film such as nitrocellulose or a cellulose derivative is stretched and bonded to one edge surface of a frame having a thickness of several millimeters. And it is affixed on the surface of a photomask or a reticle via a mask adhesive material on the other edge surface of the frame.
[0004]
When foreign matter adheres to the surface of a photomask or reticle, the foreign matter forms an image on the photoresist formed on the semiconductor wafer and causes circuit pattern defects. However, when a pellicle is placed on the photomask or reticle. The foreign matter adhering to the surface of the pellicle does not cause a defect in the circuit pattern without forming an image on the photoresist formed on the semiconductor wafer due to the shift of the focus position.
[0005]
A conventional frame body that stretches and supports a pellicle film is generally formed in a rectangular shape with a size corresponding to a semiconductor wafer having a diameter of 5 inches (127 mm).
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In recent years, there has been a demand for a large pellicle applicable to a large photomask used in a photolithography process of a large color TFT LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) capable of high image quality and high definition display due to the spread of various multimedia.
[0007]
As a frame of a large pellicle applicable to a large photomask used in a photolithography process such as a large TFTLCD (thin film transistor liquid crystal display), a rectangular body having a long side and a short side is generally used. When the pellicle film is attached to the frame body, the long side tends to bend toward the inside of the frame body due to the tension of the pellicle film, and there is a problem that the effective exposure area of the photomask is reduced by this bending. This phenomenon becomes more prominent as the stretched area of the pellicle film increases.
[0008]
The present invention solves the above-mentioned problems, and an object of the present invention is a large-sized pellicle having a frame body that expands and supports a large-sized pellicle film, and at least a pair of sides are outside the frame body. By forming so as to protrude toward the inside, it is possible to secure the effective exposure area of the photomask by suppressing the bending toward the inside of the frame body, and further, it is possible to ensure the good adhesion performance of the photomask. It is intended to provide a large pellicle.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
It is desirable that the mask adhesive used for the pellicle should follow the deformation of the frame so that no wrinkles will occur even if the frame transitions on a substantially straight line due to the tension of the pellicle film. If wrinkles enter the mask adhesive material, an air path may occur when the pellicle is attached to the photomask.
[0010]
In addition, the protective film that is attached to the surface of the frame opposite to the surface to which the pellicle film is attached by the mask adhesive material is not partially peeled off from the mask adhesive material due to the deformation of the frame due to the tension of the pellicle film. Thus, it is desirable to follow the deformation of the frame.
[0011]
The large-sized pellicle according to the present invention for achieving the above-described object completed from the above viewpoint is a four-sided frame body composed of a pair of long sides and a pair of short sides for expanding and sticking the large-sized pellicle film. A pair of long sides of the frame body, wherein at least a pair of long sides of the frame body on which the large pellicle film is stretched are projected toward the outside of the frame body. However, the film transitions in a substantially linear shape by the tension of the large pellicle film adhered thereto, and the film thickness of the large pellicle film is 1 μm or more and 10 μm or less, and the area where the large pellicle film is stretched is 1000 cm 2. It is characterized by the above .
[0012]
It was formed so that at least one pair of long sides of the frame body protrudes toward the outside of the frame body, and was set so as to transition to a substantially linear shape by the tension of the large pellicle film attached to the frame body. Thus, since the protrusion to the inside of at least one pair of long sides of the frame body is eliminated in a state where the tension of the large pellicle film is applied, the effective exposure area can be increased without increasing the size of the photomask .
[0013]
Further, by setting the film thickness of the large pellicle film to 1 μm or more and 10 μm or less, the strength of the large pellicle film is maintained even when the area where the large pellicle film is extended is 1000 cm 2 or more. I can do it .
[0014]
Further, the surface of the frame opposite to the surface to which the large pellicle film is attached is protected by a mask adhesive material having a compression hardness of 0.13 N / cm 2 or more and 130.00 N / cm 2 or less. It is characterized in that a film is attached.
[0015]
Since the present invention is configured as described above, the area on which the large pellicle film is stretched is 1000 cm 2 or more, so that it can be applied to a large photomask used in the photolithography process of a large TFTLCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display). It can be used as a pellicle.
[0016]
In addition, by forming the pair of sides of the frame so as to protrude toward the outside of the frame, it is possible to suppress bending toward the inside of the frame of the long side due to the tension of the large pellicle film. An effective exposure area can be secured.
[0017]
In addition, when a protective film is attached to the surface of the frame opposite to the surface to which the large pellicle film is attached by a mask adhesive material having a predetermined compression hardness, the mask adhesive material is protected by the protective film. Therefore, it is possible to secure a good pasting performance to the photomask.
[0018]
Further, the thickness of the mask adhesive material is 0.2 mm or more and 3 mm or less, and the compression hardness of the mask adhesive material is 0.13 N / cm 2 or more and 130.00 N / cm 2 or less, preferably 0. If it is .13 N / cm 2 or more and 13.00 N / cm 2 or less, the deformation of the frame will not cause wrinkles or the like in the mask adhesive material, and ensure good adhesion performance to the photomask. I can do it. The width of the mask adhesive material is less than the width of the frame, and materials such as hot melt and double-sided tape are applicable.
[0019]
Moreover, if the thickness of the protective film is 25 μm or more and 1 mm or less and the elastic modulus of the protective film is 0.5 GPa or more and 50 GPa or less, deformation of the protective film may occur due to deformation of the frame. Therefore, it is possible to ensure good attachment performance to the photomask.
[0020]
Further, the protective film can be made of a material such as PET (polyethylene terephthalate) that is larger than the width of the mask adhesive material or larger than the frame size, and the protective film covers the entire surface of the frame including the entire surface of the mask adhesive material. The case where it covers may be sufficient, and the case where only the whole surface of a mask adhesive material is covered may be sufficient.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of a large pellicle according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings. 1 is a perspective view showing the configuration of a frame of a large pellicle according to the present invention, FIG. 2 is a plan view and a side view showing the configuration of a first embodiment of the large pellicle according to the present invention, and FIG. 3 is according to the present invention. FIGS. 4A and 4B are a plan view and a side view showing the configuration of the second embodiment of the large pellicle, and FIG. 4 is a diagram showing a state in which the large pellicle film is attached to the frame and the long side is changed to a substantially linear shape.
[0022]
1 to 4, reference numeral 1 denotes a large pellicle film (hereinafter simply referred to as “pellicle film”) 2 composed of a transparent polymer film such as nitrocellulose or a cellulose derivative having a film thickness of 1 μm or more and 10 μm or less. A large pellicle frame body (hereinafter simply referred to as “frame body”) made of aluminum, an alloy thereof, iron, an iron-based alloy, or the like that is stretched and stuck and supported.
[0023]
The frame 1 has four sides including a pair of long sides 1a and a pair of short sides 1b. The long sides 1a and the short sides 1b have a predetermined width dimension, a predetermined height dimension equal to each other, and Each has a different predetermined length dimension. On one surface of the long side 1a and the short side 1b of the frame body 1, a flat surface is formed over the entire frame body 1, and bonding surfaces 1a1 and 1b1 for bonding the
[0024]
The area of the frame 1 on which the
[0025]
Thus, since the area where the
[0026]
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, the compression hardness is 0.13 N / cm 2 or more on the surface opposite to the attachment surfaces 1a1, 1b1 to which the
[0027]
The mask adhesive material 3 can be made of a material such as hot melt or double-sided tape.
[0028]
Further, as the protective film 4, PET (polyethylene terephthalate) having a size larger than the width of the mask adhesive material 3 or larger than the outer shape of the frame body 1 can be applied. As shown in FIG. A substantially rectangular shape covering the entire surface of the frame 1 including the entire surface of the adhesive material 3 may be used, or a frame shape covering only the entire surface of the mask adhesive material 3 as shown in FIG.
[0029]
When the protective film 4 is attached to the surface opposite to the attachment surfaces 1a1 and 1b1 to which the
[0030]
As described above, the frame 1 to which the protective film 4 is bonded via the mask adhesive material 3 has the bonding surfaces 1a1 and 1b1 of the long side 1a and the short side 1b of the frame 1 as shown in FIG. An adhesive is applied to the
[0031]
The tension of the
[0032]
Further, as shown in FIG. 4, a
[0033]
As an example in which a pair of long sides 1a formed so as to protrude toward the outside of the frame body 1 transitions substantially linearly due to the tension of the
[0034]
As described above, the thickness of the mask adhesive material 3 is 0.2 mm or more and 3 mm or less, and the compression hardness of the mask adhesive material 3 is 0.13 N / cm 2 or more and 130.00 N / cm 2 or less. If there is, deformation of the mask adhesive material 3 due to deformation of the frame body 1 shown in FIG. 4 does not occur, and good bonding performance to the photomask can be ensured.
[0035]
Measurement of the compression hardness of the mask adhesive material 3 described above was carried out under the following conditions based on the measurement method of “JISK6767”.
Test piece size: t25mm × 50mm □
* Since the thickness of the foam of the material is t0.8mm, it was laminated until the thickness reached 25mm according to the content approved by JIS.
Compression condition: Compression at a speed of 10 mm / sec up to 25% of the thickness Measurement method: Measure the load when compressed to 25% and stopped for 20 seconds
If the thickness of the protective film 4 is 25 μm or more and 1 mm or less and the elastic modulus of the protective film 4 is 0.5 GPa or more and 50 GPa or less, the deformation of the frame 1 causes deformation of the protective film 4 such as wrinkles. Therefore, it is possible to ensure good attachment performance to a photomask.
[0037]
Further, by setting the film thickness of the
[0038]
In each of the above embodiments, an example of a large pellicle having a substantially rectangular frame 1 having a long side 1a and a short side 1b has been described. However, a substantially square frame having substantially the same four sides. The same applies to a large pellicle having the body 1.
[0039]
In this case, at least a pair of sides of the frame body 1 may be formed so as to protrude toward the outside of the frame body 1, and two opposing sides are formed so as to protrude toward the outside of the frame body 1. Alternatively, all four sides may be formed so as to protrude toward the outside of the frame body 1.
[0040]
In the case of the substantially rectangular frame 1 described above, all four sides of the long side 1 a and the short side 1 b may be formed so as to protrude toward the outside of the frame 1.
[0041]
【The invention's effect】
Since the present invention has the above-described configuration and operation, the area for extending the large pellicle film is 1000
[0042]
Further, by forming the pair of long sides of the frame so as to protrude toward the outside of the frame, it is possible to suppress bending toward the inside of the frame of the long side due to the tension of the large pellicle film. The effective exposure area can be secured.
[0043]
In addition, when the pair of long sides of the frame body is set so as to change in a substantially linear shape by the tension of the large pellicle film attached to the frame body, the tension of the large pellicle film is applied. Since there is no protrusion to the inside of the pair of long sides of the frame, the effective exposure area can be increased without increasing the size of the photomask.
[0044]
In addition, even if the frame is deformed by the tension of the large pellicle film, the deformation of the frame does not cause deformation such as wrinkles in the mask adhesive material, so that it is possible to maintain good adhesion performance to the photomask. I can do it.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a frame of a large pellicle according to the present invention.
FIGS. 2A and 2B are a plan view and a side view showing a configuration of a first embodiment of a large pellicle according to the present invention. FIGS.
FIG. 3 is a plan view and a side view showing a configuration of a second embodiment of a large pellicle according to the present invention.
FIG. 4 is a view showing a state in which a large pellicle film is attached to a frame and its long side is changed to a substantially linear shape.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Frame 1a ... Long side 1b ... Short side
1a1, 1b1 ... Sticking
Claims (4)
前記大型ペリクル膜が展張される前記枠体のうち少なくとも一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成し、該枠体の一対の長辺が、これに貼着された前記大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移し、該大型ペリクル膜の膜厚が１μｍ以上、且つ１０μｍ以下で且つ該大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm2以上で構成されたことを特徴とする大型ペリクル。A large pellicle having a four-sided frame body composed of a pair of long sides and a pair of short sides for spreading and supporting a large pellicle film,
At least a pair of long sides of the frame body on which the large pellicle film is stretched are formed so as to protrude toward the outside of the frame body, and the pair of long sides of the frame body are adhered to the frame body. The large pellicle film is changed to a substantially linear shape by the tension, and the large pellicle film has a thickness of 1 μm or more and 10 μm or less, and an area where the large pellicle film is extended is 1000 cm 2 or more. A large pellicle.
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