JP4042543B2

JP4042543B2 - Droplet discharge device

Info

Publication number: JP4042543B2
Application number: JP2002340724A
Authority: JP
Inventors: 裕二岩田; 誠吾水谷
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-11-25
Filing date: 2002-11-25
Publication date: 2008-02-06
Anticipated expiration: 2022-11-25
Also published as: JP2004179225A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は吐出ヘッドの液滴吐出動作によりデバイスを製造する吐出処理部を備えた液滴吐出装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、微細パターンを有するデバイスの製造方法としてフォトリソグラフィー法が多用されているが、近年において液滴吐出方式を用いたデバイスの製造方法が注目されている。この技術は、機能性材料を含んだ液状体材料の液滴を液滴吐出装置の吐出ヘッドから吐出して基板上に材料を配置することでパターンを形成するものであり、少量多種生産に対応可能である点などにおいて大変有効である。前記機能性材料には大気と反応して変質する材料があるが、下記特許文献には、このような機能性材料を含む液滴を吐出する吐出処理部を大気と遮断し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス環境下に設けることが好ましい旨が記載されている。
【０００３】
【特許文献１】
特願２００１−３４１２９６号公報（第３頁）
【特許文献２】
特願２００２−５６９８０号公報（第６頁）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
液滴吐出動作を不活性ガス環境下で行う場合、前記吐出処理部を気密性を有するチャンバ装置で囲み、このチャンバ装置内部を不活性ガスで満たす構成が考えられる。この場合、チャンバ装置の吐出処理部に対して作業者が容易にアクセスできるように、チャンバ装置の一部に作業者の腕を配置可能なグローブ（手袋）を取り付けて所謂グローブボックスを構成することが考えられる。これにより、チャンバ装置の気密性を維持した状態で作業者はグローブに腕を入れて吐出処理部にアクセス可能となる。しかしながら、液状体材料に含まれる機能性材料が大気により変質しない材料である場合、上述のような構成を有するチャンバ装置は不要であり、大気環境での作業が許される場合であっても、作業者はグローブを介して吐出処理部にアクセスしなければならず、作業性が低下するといった問題が生じる。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、吐出処理部を配置する空間のガス環境に応じて最適な作業環境を提供できるチャンバ装置を備えた液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明の液滴吐出装置は、吐出ヘッドから液滴を吐出することによりデバイスを製造する吐出処理部を備えた液滴吐出装置であって、前記吐出処理部を配置するための内部空間を形成するチャンバ装置を備え、前記チャンバ装置は、開口部を有するチャンバ本体と、前記開口部を閉塞可能であり、前記開口部を閉塞することで前記チャンバ本体との間を流通する流体の単位時間当たりの流量を所定量に設定する、前記開口部に対して交換可能な第１のカバー装置と、前記開口部を閉塞可能であり、前記開口部を閉塞することで前記チャンバ本体との間を流通する前記流体の前記流量を前記所定量より少なく設定可能な、前記開口部に対して交換可能な第２のカバー装置と、前記第１のカバー装置を前記チャンバ本体に対して接続する第１の接続装置と、前記第２のカバー装置を前記チャンバ本体に対して接続する第２の接続装置と、前記第２のカバー装置に形成された貫通穴と、前記貫通穴を塞ぐように設けられたグローブ部と、前記チャンバ本体に設けられたヒンジ部に回動可能に支持され、前記貫通穴を閉塞可能な第３のカバー装置と、前記第１及び第２のカバー装置と当接可能な前記開口部の近傍に設けられ、前記開口部の閉塞が解除されることで前記吐出処理部の動作を停止する、前記第１及び第２のカバー装置に共有される第１のインターロックスイッチ部と、前記第１及び第３のカバー装置と当接可能な前記開口部の近傍に設けられ、前記開口部及び前記貫通穴の閉塞が解除されることで前記吐出処理部の動作を停止する、前記第１及び第３のカバー装置に共有される第２のインターロックスイッチ部と、を備えることを特徴とする。
この場合において、前記第１のカバー装置で前記開口部を閉塞した際に前記内部空間は大気環境にされ、前記第２のカバー装置で前記開口部を閉塞した際に前記内部空間は不活性ガス環境にされることを特徴とする。
本発明によれば、第１のカバー装置をチャンバ本体に対して接続可能な第１の接続装置と、第１のカバー装置で開口部を閉塞した場合より高い気密性を実現できる第２のカバー装置をチャンバ本体に対して接続可能な第２の接続装置とをそれぞれ設けたことにより、これら第１及び第２のカバー装置を交換することで内部空間のガス環境に応じて最適な作業環境を提供できる。すなわち、チャンバ装置の高い気密性が必要とされる場合には開口部を第２のカバー装置で閉塞し、気密性がある程度許容される場合には比較的簡易な構造を有して良好な作業性を実現できる第１のカバー装置に交換して開口部を閉塞するといったことができる。
また、開口部の閉塞が解除されることで吐出処理部の動作を停止する第１のインターロックスイッチ部を備え、第１及び第２のカバー装置は第１のインターロックスイッチ部を共有するので、第１及び第２のカバー装置のそれぞれによる開口部の閉塞が解除されることで吐出処理部の動作が停止されるので、閉塞を解除された開口部から吐出処理部に対して作業者がアクセスする際の安全性が確保される。また、互いに交換される第１のカバー装置と第２のカバー装置とで第１のインターロックスイッチ部が共有されることにより、部品点数を低減できる。
また、本発明の液滴吐出装置において、第２のカバー装置の貫通穴を閉塞可能な第３のカバー装置と、開口部及び貫通穴の閉塞が解除されることで吐出処理部の動作を停止する第２のインターロックスイッチ部とを備え、第１及び第３のカバー装置は第２のインターロックスイッチ部を共有するので、第３のカバー装置により前記グローブ部が設けられている貫通穴が閉塞されるので、吐出処理部の動作中に作業者が誤ってグローブ部を介して吐出処理部にアクセスする危険性を回避できる。そして、第２のインターロックスイッチ部により貫通穴の閉塞が解除された場合には吐出処理部の動作が停止されるので安全性が確保される。
【０００７】
本発明の液滴吐出装置において、前記第１のカバー装置は折り曲げ部を備えることを特徴とする。これによれば、折り曲げ部を折り曲げることで第１のカバー装置による開口部の閉塞が容易に解除される。また、第１のカバー装置を折り曲げ部で折り曲げることにより開口部の閉塞を解除した際の省スペース化が実現される。
本発明の液滴吐出装置において、前記第２のカバー装置は、貫通穴と、該貫通穴を塞ぐように設けられたグローブ部とを備えることを特徴とする。これによれば、第２のカバー装置でチャンバ装置内の気密性を維持している状態において、作業者はグローブ部（手袋部）に腕を挿入することで、第２のカバー装置による開口部の閉塞を解除することなく吐出処理部に対して容易にアクセスできる。
【００１０】
本発明の液滴吐出装置において、前記内部空間の隅部に対して所定のガスを供給するガス供給部を備えることを特徴とする。これによれば、内部空間の隅部におけるガスの淀みの発生が、ガス供給部より供給されるガスにより回避される。本発明の液滴吐出装置において、前記内部空間の静電気を低減する静電気低減装置と、該内部空間のガス環境に応じて前記静電気低減装置の動作を制御する制御装置とを備えることを特徴とする。これによれば、液滴が吐出される基材を含む吐出処理部で発生する静電気を低減できるので、静電気に起因するデバイス性能の劣化や液滴吐出不良の発生を回避できる。
【００１１】
本発明の液滴吐出装置において、前記内部空間とは別の第２の空間を形成するサブ室と、前記内部空間と前記第２空間とを連通する第１の通路を開閉可能な第１のドア部と、前記第２空間と外部とを連通する第２の通路を開閉可能な第２のドア部とを備えることを特徴とする。これによれば、例えば内部空間が気密に設定されて不活性ガスを満たされている状態において外部より内部空間に物体を搬送したい場合、サブ室を介して物体を搬送することにより、内部空間の気密性及びガス環境を維持した状態で物体の搬送を行うことができる。この場合において、前記第２空間を所定のガスに置換するガス置換装置と、前記第２空間の前記所定のガス濃度を検出する検出装置と、前記検出装置の検出結果に基づいて前記第１及び第２のドア部の開閉動作を制御するドア制御部とを備えることを特徴とする。これによれば、例えば内部空間が不活性ガスで満たされている場合において外部から物体を内部空間に搬送したい場合、第２空間が十分に不活性ガスで満たされてからドア部を開放可能にできるので、内部空間に誤って外部のガス（すなわち大気）が流入してしまうことを防ぐことができる。
【００１２】
ここで、上述した液滴吐出装置の吐出処理部は液滴吐出法に基づくデバイスの製造に用いられるものであって、インクジェットヘッドを備えたインクジェット装置を含む。インクジェット装置のインクジェットヘッドは、インクジェット法により液状体材料の液滴を定量的に吐出可能であり、例えば１ドットあたり１〜３００ナノグラムの液状体材料を定量的に断続して滴下可能な装置である。なお、液滴吐出装置としてはディスペンサー装置であってもよい。
【００１３】
液状体材料とは、液滴吐出装置（吐出処理部）の吐出ヘッドの吐出ノズルから吐出可能（滴下可能）な粘度を備えた媒体をいう。水性であると油性であると問わない。吐出ノズル等から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、液状体材料に含まれる材料は融点以上に加熱されて溶解されたものでも、溶媒中に微粒子として攪拌されたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。また、液滴が吐出される基材はフラット基板を指す他、曲面状の基板であってもよい。さらにパターン形成面の硬度が硬い必要はなく、ガラスやプラスチック、金属以外に、フィルム、紙、ゴム等可撓性を有するものの表面であってもよい。
【００１４】
また、液滴吐出装置の吐出ヘッドより液状体材料の液滴を基材上に吐出することでデバイスを製造する際、前記液状体材料には機能性材料が含有される。機能性材料とはデバイスの形成用材料であって基材（基板）上に配置されることにより所定の機能を発揮するものである。機能性材料としては、カラーフィルタを含む液晶装置（液晶素子）を形成するための液晶素子形成用材料、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）装置（有機ＥＬ素子）を形成するための有機ＥＬ素子形成用材料、電力を流通する配線パターンを形成するための金属を含む配線パターン形成用材料、及び有機ＴＦＴ（有機薄膜トランジスタ）を形成するための有機ＴＦＴ形成用材料などが挙げられる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液滴吐出装置について図面を参照しながら説明する。図１は本発明のチャンバ装置を備えた液滴吐出装置の一実施形態を示す斜視図である。
図１において、液滴吐出装置Ｓは、吐出ヘッドの吐出動作によりデバイスを製造する吐出処理部ＩＪと、吐出処理部を配置するための内部空間Ａを形成するチャンバ装置ＣＨとを備えている。チャンバ装置ＣＨ及び吐出処理部ＩＪは支持台Ｂの上部に設けられている。チャンバ装置ＣＨは、開口部３を有するチャンバ本体Ｃを有している。チャンバ本体Ｃは、四角形の天板部４と、この天板部４のそれぞれの辺に接続する側板部５とを有している。本実施形態において、開口部３はチャンバ本体Ｃの四つの側板部５のうち−Ｙ側及び−Ｘ側にそれぞれ設けられている。また、液滴吐出装置Ｓは、チャンバ装置ＣＨの内部空間Ａに対して所定のガスを供給するガス供給装置５０と、内部空間Ａのガスを排気する排気装置６０とを備えている。ガス供給装置５０の動作は、吐出処理部ＩＪの吐出動作を含む液滴吐出装置Ｓ全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴにより制御される。本実施形態において、ガス供給装置５０は内部空間Ａに対して窒素をはじめとする不活性ガスと大気とを切り替えて供給可能である。
【００１６】
チャンバ本体Ｃのうち開口部３近傍には、第１スイッチ部（インターロックスイッチ部）１及び第２スイッチ部（第２のインターロックスイッチ部）２が設けられている。本実施形態において、第１スイッチ部１は開口部３の＋Ｚ側に設けられ、第２スイッチ部２は＋Ｘ側に設けられている。これら第１、第２スイッチ部１、２に対する操作入力に応じてチャンバ装置ＣＨの内部空間Ａに設けられている吐出処理部ＩＪが作動及び停止し、必要に応じて警報を発するようになっている。そして、チャンバ本体Ｃには開口部３を閉塞するように第１カバー部（第１のカバー装置）１０及び第２カバー部（第２のカバー装置）２０（図２及び図５参照）が互いに交換可能に取り付けられるようになっている。第１カバー部１０はチャンバ本体Ｃに対して支持部（第１の接続装置）１１を介して接続され、第２カバー部２０はチャンバ本体Ｃに対して固定部（第２の接続装置）２１を介して接続される。また、開口部３の−Ｚ側における側板部５には、ヒンジ部２６によりＸ軸まわりに回動可能に支持されているフラップカバー部（第３のカバー装置）３０が取り付けられている。
【００１７】
図２は第１カバー部１０が開口部３を閉塞している状態を示す図であり、図３は第１カバー部１０による開口部３の開閉動作を説明するための図である。図２において、第１カバー部１０は開口部３を閉塞することでチャンバ本体Ｃとの間を流通するガスの単位時間当たりの流量を所定量に設定する。具体的には、第１カバー部１０が開口部３を閉塞した際、第１カバー部１０とチャンバ本体Ｃ（側板部５）との間に僅かな隙間が形成されるようになっている。そして、第１カバー部１０は、−Ｘ側端部に設けられた被支持部（第１の接続装置）１２を支持部（第１の接続装置）１１に支持されることによりチャンバ本体Ｃに接続される。また、第１カバー部１０のＸ軸方向中央部には折り曲げ部１３が設けられている。本実施形態では折り曲げ部１３は１箇所に設けられており、図３に示すように、第１カバー部１０は折り曲げ部１３で外側に２つに折り曲げられる。すなわち、第１カバー部１０は、被支持部１２を有し折り曲げ部１３に対して−Ｘ側に設けられたプレート部１０Ａと、折り曲げ部１３に対して＋Ｘ側に設けられたプレート部１０Ｂとにより構成されている。
【００１８】
図４は第１カバー部１０を支持する支持部１１を示す拡大図である。図４に示すように、支持部１１は側板部５に設けられＺ軸方向を軸線とした筒状部材である。一方、第１カバー部１０の−Ｘ側には、Ｚ軸方向に延びる円柱状状材である被支持部１２が設けられている。被支持部１２は支持部１１に挿入可能となっており、支持部１１内部に配置された際、軸線まわり（Ｚ軸まわり）に回転可能となっている。そして、第１カバー部１０（プレート部１０Ａ）の−Ｘ側端部に設けられた被支持部１２が側板部５に設けられた支持部１１に支持されつつＺ軸まわりに回転することにより、第１カバー部１０（プレート部１０Ａ）が支持部１１を回動中心として回動する。すなわち、支持部１１と被支持部１２とによりヒンジ部が構成されており、このヒンジ部を回動中心として第１カバー部１０のプレート部１０Ａが回動する。そして、図３に示すように、第１カバー部１０のプレート部１０Ａの回動に伴って折り曲げ部１３が折り曲げられつつ、開口部３が開閉される。
【００１９】
ここで、第１カバー部１０（プレート部１０Ｂ）の外面には取手部１４が設けられており、取手部１４を把持することで開閉動作が容易に行われる。また、被支持部１２はＺ軸方向に持ち上げられることにより支持部１１に対して容易に分離するようになっている。これにより、第１カバー部１０はチャンバ本体Ｃに対して容易に取り付け・取り外し可能となっている。なお、本実施形態において、第１カバー部１０の被支持部１２及びこれに対応して設けられた支持部１１はそれぞれ２つずつ設けられている。
【００２０】
図２や図３（ｃ）に示すように、第１カバー部１０が開口部３を閉塞している状態において、第１カバー部１０のプレート部１０Ａは第１スイッチ部１に当接するように設定されており、一方、第１カバー部１０のプレート部１０Ｂは第２スイッチ部２に当接するように設定されている。第１カバー部１０が開口部３を閉塞して第１、第２スイッチ部１、２に当接することによりインターロックスイッチとしての第１、第２スイッチ部１、２が作動して吐出処理部ＩＪが作動可能となる。一方、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、第１カバー部１０による開口部３の閉塞が解除されて第１カバー部１０と第１、第２スイッチ部１、２とが離れることにより吐出処理部ＩＪが作動不能（動作を停止）となる。
【００２１】
図５は第２カバー部２０が開口部３を閉塞している状態を示す図であり、図６は第２カバー部２０による開口部３の開閉動作を説明するための図である。図５において、第２カバー部２０は開口部３を閉塞することでチャンバ本体Ｃ（側板部５）との間を流通するガスの単位時間当たりの流量を、開口部３を第１カバー部１０で閉塞した状態より少ない値に設定する。具体的には、第２カバー部２０が開口部３を閉塞した際、チャンバ装置Ｃの内部空間Ａはほぼ密閉状態となる。そして、第２カバー部２０は、この第２カバー部２０の周辺部に設けられた複数の係合部（第２の接続装置）２２を側板部５のうち開口部３の周辺部に複数設けられた固定部（第２の接続装置）２１のそれぞれに係合することにより、チャンバ本体Ｃに取り付けられる。固定部２１と係合部２２との係合により第２カバー部２０は開口部３を閉塞しつつチャンバ本体Ｃに接続される。
【００２２】
第２カバー部２０は板状部材であって、ほぼ中央部に貫通穴２３を有している。本実施形態において貫通穴２３は２つ設けられている。貫通穴２３のそれぞれにはこの貫通穴２３を塞ぐようにグローブ部（手袋部）２４が取り付けられている。グローブ部２４による貫通穴２３の閉塞によりチャンバ装置Ｃの内部空間Ａの密閉性は維持されている。グローブ部２４は例えばゴムなどの可撓性材料により形成されている。作業者はこのグローブ部２４のそれぞれに腕を挿入した状態で吐出処理部ＩＪを含む内部空間Ａにアクセス可能となる。グローブ部２４を備えた第２カバー部２０により開口部３を閉塞することで、チャンバ装置ＣＨは所謂グローブボックスとなる。
【００２３】
図５及び図６に示すように、貫通穴２３は、ヒンジ部２６を介してチャンバ本体Ｃの側板部５にＸ軸まわりに回動可能に支持されているフラップカバー部（第３のカバー装置）３０によりその一部を閉塞されている。フラップカバー部３０はＸ軸まわりに回動することにより貫通穴２３を開閉する。
【００２４】
図７は第２カバー部２０をチャンバ本体Ｃに対して接続する固定部２１及び係合部２２を示す拡大図である。図７に示すように、係合部２２は第２カバー部０に軸部２２Ａを介してＹ軸まわりに回動可能に取り付けられたレバー部材である。固定部２１は側板部５に設けられ、回動した係合部２２の端部と係合することで第２カバー部２０をチャンバ本体Ｃに対して固定する。一方、係合部２２を回動して固定部２１と係合部２２との係合を解除することで、第２カバー部２０とチャンバ本体Ｃとは分離可能となる。これにより、第２カバー部２０はチャンバ本体Ｃに対して容易に取り付け・取り外し可能となっている。ここで、第２カバー部２０が開口部３を閉塞した際、第２カバー部２０の内側面の周辺部と側板部５とは当接するようになっており、この当接部にはゴムパッキンなどのシール部材（不図示）が設けられている。これにより、第２カバー部２０がチャンバ本体Ｃに取り付けられて開口部３を閉塞した際、内部空間Ａはほぼ密閉される。
【００２５】
図５及び図６（ｃ）に示すように、第２カバー部２０が開口部３を閉塞している状態において、第２カバー部２０は第１スイッチ部１に当接するように設定されている。更に、フラップカバー部３０が第２カバー部２０の貫通穴２３を閉塞している状態において、フラップカバー部３０は第２スイッチ部２に当接するように設定されている。第２カバー部２０が開口部３を閉塞して第１スイッチ部１に当接するとともに、フラップカバー部３０が貫通穴２３を閉塞して第２スイッチ部２に当接することにより、インターロックスイッチとしての第１、第２スイッチ部１、２が作動して吐出処理部ＩＪが作動可能となる。一方、図６（ａ）、（ｂ）に示すように、第２カバー部２０による開口部３の閉塞、及びフラップカバー部３０による貫通穴２３の閉塞うち少なくともいずれか一方の閉塞が解除されて、第１、第２スイッチ部１、２に対する少なくともいずれか一方の当接が解除されることにより吐出処理部ＩＪが作動不能（動作を停止）となる。
【００２６】
そして、図２及び図３、図５及び図６に示したように、第１スイッチ部１は第１カバー部１０及び第２カバー部２０のそれぞれに当接されるようになっており、第２スイッチ部２は第１カバー部１０及びフラップカバー部３０に当接されるようになっている。すなわち、第１カバー部１０及び第２カバー部２０は第１スイッチ部１を共有し、第１カバー部１０及びフラップカバー部３０は第２スイッチ部２を共有している。
【００２７】
図８は図５のＩ−Ｉ断面図である。図８に示すように、チャンバ装置ＣＨは、内部空間Ａとは別の第２空間（第２の空間）Ａ２を形成するサブ室４０を備えている。サブ室４０には、内部空間Ａと第２空間Ａ２とを連通する第１通路（第１の通路）４１Ａを開閉可能な第１ドア部（第１のドア部）４１と、第２空間Ａ２とチャンバ装置ＣＨ外部とを連通する第２通路（第２の通路）４２Ａを開閉可能な第２ドア部４２とを備えている。そして、第１ドア部４１が第１通路４１Ａを閉じるとともに第２ドア部４２が第２通路４２Ａを閉じることにより、第２空間Ａ２はほぼ密閉状態となる。本実施形態において、第２ドア部４２は第２カバー部２０と同様の構成を有する板状部材であって図７を用いて説明した係合部２２を備えている。そして、図５に示すように、第２通路４２Ａの周辺部の側板部５には固定部２１が設けられており、これら固定部２１及び係合部２２により第２ドア部４２が第２通路４２Ａを閉塞するようにチャンバ本体Ｃに固定される。また、図８に示すように、第１通路４１Ａ近傍にはインターロックスイッチ部としての第３スイッチ部４３が設けられており、第１ドア部４１が開放して第３スイッチ部４３との当接を解除されることにより吐出処理部ＩＪは作動不能となる。更に、第２通路４２Ａ近傍にもインターロックスイッチ部としての第４スイッチ部４４が設けられており、第２ドア部４２が開放して第４スイッチ部４４との当接を解除されることにより吐出処理部ＩＪは作動不能となる。
【００２８】
第２空間Ａ２にはガス置換装置４５が接続されている。ガス置換装置４５は第２空間Ａ２を所定のガスに置換するものであって、内部空間Ａに満たされているガスと同じ種類のガスを第２空間Ａ２に満たす。第２空間Ａ２にはガス置換装置４５により供給されたガスの第２空間Ａ２におけるガス濃度を検出する検出装置４６が設けられている。検出装置４６の検出結果は制御装置（ドア制御部）ＣＯＮＴに出力されるようになっており、制御装置ＣＯＮＴは検出装置４６の検出結果に基づいて第１、第２ドア部４１、４２それぞれの開閉動作を制御する。具体的には、検出装置４６の検出結果に基づいて、第２空間Ａ２が前記所定のガスで十分に満たされていない（所定濃度以下である）と判断したら、制御装置ＣＯＮＴは第１，第２ドア部４１、４２が開かないようにロックする。一方、第２空間Ａ２が前記所定のガスで十分に満たされた（所定濃度以上である）と判断したら、制御装置ＣＯＮＴは第１、第２ドア部４１、４２のロックを解除して開放可能とする。
【００２９】
図９はチャンバ装置ＣＨにおける空調系を示す模式図である。図９に示すように、チャンバ装置ＣＨは、チャンバ装置ＣＨの内部空間Ａに対して所定のガス（不活性ガス又は大気）を供給するガス供給装置５０（図１参照）に接続する供給口（ガス供給部）５１と、内部空間Ａのガスを排気する排気装置６０（図１参照）に接続する排気口６１とを備えている。供給口５１は内部空間Ａの隅部に設けられており、ガス供給装置５０からのガスは途中で分岐する分岐路を介して供給口５１のそれぞれに供給される。本実施形態において、供給口５１は略直方体状の内部空間Ａの８箇所の隅部のそれぞれに設けられており、この隅部に対して所定のガスを供給する。また、排気口６１は１つ設けられた構成である。排気口６１は供給口５１より十分に大きい口径を有している。
【００３０】
図１０は吐出処理部ＩＪの模式図である。図１０に示すように、吐出処理部ＩＪは、デバイスを製造するための基材である基板Ｐを支持して２次元移動するステージ装置７２と、ステージ装置７２に支持されている基板Ｐに対して液状体材料の液滴を吐出する吐出ヘッド７１と、基板Ｐを含む内部空間Ａに設けられている各部材・装置の静電気を低減する静電気低減装置７３とを備えている。静電気低減装置７３は、基板Ｐ及び内部空間Ａにイオンガスを供給することで静電気を低減するイオナイザ装置により構成されている。イオナイザ装置７３は、イオンガス供給装置７４と、イオンガス供給装置７４から供給されたガスを噴射する噴射ノズル７５を複数備えた噴射部７６とを備えている。噴射ノズル７５はＸ軸方向に複数並んで設けられている。イオナイザ装置７３の動作は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｐを支持したステージ装置７２をイオナイザ装置７３の噴射部７６の下方でＹ軸方向に走査しつつ噴射ノズル７５より基板Ｐに対してイオンガスを噴射する。これにより、基板Ｐに発生している静電気が低減（除去）される。ここで、制御装置ＣＯＮＴは、内部空間Ａのガス環境に応じてイオナイザ装置７３の動作を制御する。具体的には、例えば内部空間Ａが窒素ガスで満たされている場合には、イオナイザ装置７３の噴射ノズル７５から噴射するガスをイオン化した窒素ガスに設定し、内部空間Ａが大気（酸素）で満たされている場合には、噴射ノズル７５から噴射するガスをイオン化した酸素ガス（大気）に設定する。なお、イオナイザ装置７３は吐出処理部ＩＪに設けられた構成でもよいし、チャンバ装置ＣＨの所定の位置に支持されている構成でもよい。更に、本実施形態では静電気除去装置としてイオン性ガスを供給するイオナイザ装置が用いられているが、例えば軟Ｘ線を照射することで静電気を低減する軟Ｘ線照射装置であってもよい。
【００３１】
次に、上述した構成を有するチャンバ装置ＣＨ内に配置された吐出処理部ＩＪによりデバイスを製造する方法について説明する。
まず、大気環境下であっても変質しない機能性材料を含む液状体材料の液滴を基板Ｐに対して吐出する場合について説明する。
この場合、比較的簡易な構造を有し、開口部３に対する開閉動作を容易に行うことができる第１カバー部１０がチャンバ本体Ｃに対して取り付けられる。すなわち、チャンバ本体Ｃの支持部１１に対して第１カバー部１０の被支持部１２が挿入される（図４参照）。そして、図３に示すように、折り曲げ状態の第１カバー部１０を引き延ばすことにより開口部３が閉塞される。第１カバー部１０は開口部３を閉塞することで第１、第２スイッチ部１、２のそれぞれに当接する。これによりインターロックが解除され、吐出処理部ＩＪは作動可能状態となる。制御装置ＣＯＮＴはガス供給装置５０よりパーティクルを除去されたクリーン大気を内部空間Ａに対して供給するとともに排気装置６０を駆動して内部空間Ａのガスを排気する。ここで、ガス供給装置５０からのクリーン大気は内部空間Ａの隅部に設けられた供給口５１より内部空間Ａに対して供給される。したがって、隅部におけるガス（大気）の淀みの発生を抑えて内部空間Ａ全体をクリーン大気で満たすことができる。次いで、制御装置ＣＯＮＴはイオナイザ装置７３を駆動し、基板Ｐの静電気低減（除去）作業を行う。内部空間Ａは大気で満たされているので、制御装置ＣＯＮＴはイオナイザ装置７３よりイオン化された大気ガスを内部空間Ａ（基板Ｐ）に対して供給する。静電気低減作業が終了したら、ガス供給装置５０及び排気装置６０により内部空間Ａのガス（大気）を循環しつつ、制御装置ＣＯＮＴは吐出処理部ＩＪの吐出ヘッド７１を駆動し、ステージ装置７２に支持されている基板Ｐに対してデバイスを製造するために液滴を吐出する。液滴に含まれる溶剤の気化ガスは大気とともに排気口６１より排気される。
【００３２】
なお、チャンバ装置ＣＨ自体がクリーンルーム内のクリーン大気中に配置されている状態であれば、ガス供給装置５０による内部空間Ａに対する大気供給動作を行わずに排気装置６０による排気動作だけを行う構成としてもよい。この場合、第１カバー部１０とチャンバ本体Ｃとの間には僅かに隙間が形成されているので、排気装置６０の排気動作により前記隙間を介して外部より内部空間Ａにクリーン大気が供給される。そして、第１カバー部１０を設けておくことにより、吐出処理部ＩＪの作動中における作業者のアクセスを防止できるとともに、吐出ヘッド７１はチャンバ装置外部の大気の流れ（風）に直接さらされないので、この風に起因する吐出ヘッド７１から吐出される液滴の飛行曲がり（基板上における液滴吐出位置のずれ）の発生が抑えられる。
【００３３】
そして、この大気環境用の第１カバー部１０がチャンバ本体Ｃに取り付けられている場合において、作業者が吐出処理部ＩＪにアクセスしたい場合には、第１カバー部１０の取手部１４を把持して引っ張ることにより、第１カバー部１０による開口部３の閉塞を容易に解除することができる。したがって、作業者は作業性良く第１カバー部１０を開けて吐出処理部ＩＪにアクセスできる。ここで、第１カバー部１０による開口部３の閉塞を解除することで第１、第２スイッチ部１、２と第１カバー部１０との当接が解除されるので、吐出処理部ＩＪは自動的に動作不能状態となるため、吐出処理部ＩＪに対してアクセスする作業者の安全性が確保される。また、第１カバー部１０には折り曲げ部１３が設けられているので、第１カバー部１０による開口部３の閉塞を解除した際にも、第１カバー部１０を折り曲げた状態としておくことにより省スペース化を実現できる。また、本実施形態において、２つ設けられたスイッチ部のうち、一方のスイッチ部１は第１カバー部１０のプレート部１０Ａに当接可能な位置に設けられ、もう一方のスイッチ部２はプレート部１０Ｂに当接可能な位置に設けられた構成である。したがって、折り曲げ部１３を有する第１カバー部１０の開口部３に対する閉塞がたとえ極僅かに解除された状態であっても、２つのスイッチ部１、２のうち少なくともいずれか一方のスイッチ部がこの閉塞の解除を検出できる。すなわち、プレート部１０Ｂがチャンバ本体Ｃに対して接続しているにもかかわらず、プレート部１０Ａが折り曲げ部１３で折り曲げられてチャンバ本体Ｃから離間してしまう状態が発生することが考えられるが、例えばスイッチ部１，２の双方がプレート部１０Ｂに当接可能な位置に配置されていると、上記プレート部１０Ａのチャンバ本体Ｃに対する離間状態を検出できなくなる不都合が生じる。しかしながら、本実施形態のように、第１、第２スイッチ部１、２をプレート部１０Ａ、１０Ｂのそれぞれに当接可能な位置に配置したことにより、上記不都合の発生を回避できる。
【００３４】
次に、大気環境であると変質する機能性材料を含む液状体材料の液滴を基板Ｐに対して吐出する場合について説明する。
この場合、チャンバ装置ＣＨ内部を密閉できる第２カバー部２０がチャンバ本体Ｃに対して取り付けられる。この場合、図６（ａ）に示すように、第２カバー部２０は開口部３に対して位置合わせされつつ取り付けられる。ここで、図６（ａ）に示すように、折り曲げられた状態の第１カバー部１０を支持部１１に支持させた状態で第２カバー部２０を取り付けることも可能であるし、第１カバー部１０の被支持部１２を支持部１１より抜き取ってチャンバ本体１から第１カバー部１０を取り外してもよい。次いで、図６（ｂ）に示すように、固定部２１に対して係合部２２を係合することにより、第２カバー部２０がチャンバ本体Ｃに接続されて開口部３を閉塞する。内部空間Ａは密閉状態となる。第２カバー部２０は開口部３を閉塞することで第１スイッチ部１に当接する。次いで、図６（ｃ）に示すように、フラップカバー部３０が回動されて第２カバー部２０の貫通穴２３を閉塞する。フラップカバー部３０は貫通穴２３を閉塞することで第２スイッチ部２に当接する。これによりインターロックが解除され、吐出処理部ＩＪは作動可能状態となる。制御装置ＣＯＮＴはガス供給装置５０より機能性材料を変質させない不活性ガス（窒素やヘリウムなど）を内部空間Ａに対して供給するとともに排気装置６０を駆動して内部空間Ａのガスを排気する。ここで、ガス供給装置５０からの不活性ガスは内部空間Ａの隅部に設けられた供給口５１より内部空間Ａに対して供給される。したがって、隅部におけるガス（不活性ガス）の淀みの発生を抑えて内部空間Ａ全体を短時間のうちに不活性ガスで満たすことができる。
【００３５】
次いで、制御装置ＣＯＮＴはイオナイザ装置７３を駆動し、基板Ｐの静電気低減（除去）作業を行う。内部空間Ａは不活性ガスで満たされているので、制御装置ＣＯＮＴはイオナイザ装置７３よりイオン化された不活性ガスを内部空間Ａ（基板Ｐ）に対して供給する。静電気低減作業が終了したら、ガス供給装置５０及び排気装置６０により内部空間Ａのガス（不活性ガス）を循環しつつ、制御装置ＣＯＮＴは吐出処理部ＩＪの吐出ヘッド７１を駆動し、ステージ装置７２に支持されている基板Ｐに対してデバイスを製造するために液滴を吐出する。液滴に含まれる溶剤の気化ガスは不活性ガスとともに排気口６１より排気される。
【００３６】
そして、この不活性ガス環境用の第２カバー部２０がチャンバ本体Ｃに取り付けられている場合において、作業者が吐出処理部ＩＪにアクセスしたい場合には、作業者はフラップカバー部３０による貫通穴２３の閉塞を解除し、第２カバー部２０の貫通穴２３に設けられたグローブ部２４に腕を挿入し、グローブ部２４を介して吐出処理部ＩＪにアクセスする。ここで、フラップカバー部３０による貫通穴２３の閉塞を解除することで第２スイッチ部２とフラップカバー部３０との当接が解除されるので、吐出処理部ＩＪは自動的に動作不能状態となるため、吐出処理部ＩＪに対してグローブ部２４を介してアクセスする作業者の安全性が確保される。この場合、第２カバー部２０による開口部３の閉塞は維持されているので、内部空間Ａが不活性ガスで満たされている状態は維持されている。
【００３７】
ところで、グローブ部２４を介して作業者が作業する場合において、チャンバ装置ＣＨ外部より物体を内部空間Ａに搬入したい場合がある。物体を内部空間Ａに搬入する際には、図８において、第１ドア部４１で第１通路４１Ａを閉じた状態で、第２ドア部４２をチャンバ本体Ｃより取り外して第２通路４２Ａを開放する。そして、開放された第２通路４２Ａを介して第２空間Ａ２に物体を配置する。第２空間Ａ２に物体を配置したら第２ドア部４２を取り付けて第２通路４２Ａを閉塞し、第２空間Ａ２を密閉する。次いで、物体を配置した密閉状態の第２空間Ａ２に対してガス置換装置４５より不活性ガスが供給される。第２空間Ａ２は不活性ガスに置換される。第２空間Ａ２が不活性ガスで満たされたら、作業者はグローブ部２４を介して第１ドア部４１を開けることにより、第２空間Ａ２に配置されている物体を内部空間Ａに搬送することができる。ここで、第２空間Ａ２のガス置換動作を行っている間、検出装置４６が第２空間Ａ２の不活性ガス濃度を検出している。制御装置ＣＯＮＴは検出装置４６の検出結果に基づいて、第２空間Ａ２が不活性ガスにより十分に置換されていないと判断したら、第１ドア部４１をロックし、作業者が第１ドア部４１を開けることができないようにする。こうすることにより、第２空間Ａ２に存在している大気の内部空間Ａに対する流入を防止できる。
【００３８】
そして、第２カバー部２０を第１カバー部１０に交換したい場合には、係合部２２と固定部２１との係合を解くことにより第２カバー部２０とチャンバ本体Ｃとを分離することができる。
【００３９】
以上説明したように、大気環境用の第１カバー部１０と、不活性ガス環境用の第２カバー部２０とを容易に交換可能な構成としたので、チャンバ装置ＣＨ内部を不活性ガス環境にする場合には密閉性を維持できる第２カバー部２０を用い、大気環境が許容される場合には容易に開閉動作が可能な第１カバー部１０を用いることによって良好な作業性を実現できる。
【００４０】
なお、本実施形態において、開口部３は２箇所に設けられ、それぞれの開口部３に対応して第１、第２カバー部１０、２０が取り付けられている構成であるが、開口部３は１箇所に設けられた構成でもよい。一方、開口部３を２箇所に設けたことにより、作業者は２箇所の開口部３のいずれか一方から吐出処理部ＩＪにアクセス可能であり、作業性の向上が実現されている。更に、本実施形態において、開口部３及びこれに対応する第１、第２カバー部１、２は４つの側板部５の全部に設けられてもよい。つまり、その数は任意に設定可能である。また、開口部３及びこれに対応する第１、第２カバー部１、２を天板部４に設けてもよい。
【００４１】
本実施形態では、第１、第２カバー部１０、２０を開けるとインターロックスイッチ部が作動して吐出処理部ＩＪの動作が停止する（動作不能状態となる）構成であるが、例えば、第１、第２スイッチ部１、２を電磁ロックにより構成し、作業者がカバー部を開ける際に、制御装置ＣＯＮＴに対してカバー部を開ける旨を操作入力し、この入力信号に基づいて吐出処理部ＩＪの動作が停止するとともに電磁ロックのロック状態が解除され、カバー部を開放可能状態とする構成であってもよい。
【００４２】
図１１は本発明の液滴吐出装置Ｓにより一部の構成要素が製造された有機ＥＬ装置の側断面図である。
図１１に示すようにこの有機ＥＬ装置３０１は、基板Ｐ、回路素子部３２１、画素電極３３１、バンク部３４１、発光素子３５１、陰極３６１（対向電極）、および封止基板３７１から構成された有機ＥＬ素子３０２に、フレキシブル基板（図示略）の配線および駆動ＩＣ（図示略）を接続したものである。回路素子部３２１は基板Ｐ上に形成され、複数の画素電極３３１が回路素子部３２１上に整列している。そして、各画素電極３３１間にはバンク部３４１が格子状に形成されており、バンク部３４１により生じた凹部開口３４４に、発光素子３５１が形成されている。陰極３６１は、バンク部３４１および発光素子３５１の上部全面に形成され、陰極３６１の上には封止用基板３７１が積層されている。
【００４３】
有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置３０１の製造プロセスは、バンク部３４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子３５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子３５１を形成する発光素子形成工程と、陰極３６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板３７１を陰極３６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。
【００４４】
発光素子形成工程は、凹部開口３４４、すなわち画素電極３３１上に正孔注入層３５２および発光層３５３を形成することにより発光素子３５１を形成するもので、正孔注入層形成工程と発光層形成工程とを具備している。そして、正孔注入層形成工程は、正孔注入層３５２を形成するための第１組成物（液状体材料）を各画素電極３３１上に吐出する第１吐出工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて正孔注入層３５２を形成する第１乾燥工程とを有し、発光層形成工程は、発光層３５３を形成するための第２組成物（液状体材料）を正孔注入層３５２の上に吐出する第２吐出工程と、吐出された第２組成物を乾燥させて発光層３５３を形成する第２乾燥工程とを有している。
【００４５】
この発光素子形成工程において、正孔注入層形成工程における第１吐出工程と、発光層形成工程における第２吐出工程とで前記の吐出装置を用いている。用いる吐出装置における吐出ヘッド１としては、正孔注入層の形成材料（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの分散液）を吐出する第１吐出工程では、その針部材２を変性ポリフェニレンエーテル（例えばザイロン［登録商品］；旭化成社製）によって形成し、ゴムブッシュ４を、ＳＥＢＳ、ＳＥＰＳ、ＰＰをブレンドし、これにパラフィン系のオイルを添加した樹脂によって形成したものを用いている。
また、発光層の形成材料を吐出する第２吐出工程では、針部材２をポリアセタール（ＰＯＭ）によって形成し、ゴムブッシュ４をフッ素ゴムによって形成したものを用いている。
【００４６】
本発明の液滴吐出装置Ｓにより、上記有機ＥＬ装置及び液晶装置等の電気光学装置（デバイス）を製造できる。以下、液滴吐出装置を有するデバイス製造装置ＩＪで製造された電気光学装置を備えた電子機器の適用例について説明する。
図１２（ａ）は携帯電話の一例を示した斜視図である。図１２（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図１２（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図１２（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１２（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図１２（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上記実施の形態の電気光学装置を備えているので、表示品位に優れ、明るい画面の表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００４７】
なお、上述した例に加えて、他の例として、液晶テレビ、ビューファインダ型やモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、電子ペーパー、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。本発明の電気光学装置は、こうした電子機器の表示部としても適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のチャンバ装置を備えた液滴吐出装置の一実施形態を示す斜視図である。
【図２】図１のチャンバ装置に第１のカバー装置が取り付けられた状態を示す図である。
【図３】第１のカバー装置の動作を示す図である。
【図４】第１の支持装置を示す概略斜視図である。
【図５】図１のチャンバ装置に第２のカバー装置が取り付けられた状態を示す図である。
【図６】第２のカバー装置の動作を示す図である。
【図７】第２の支持装置を示す概略斜視図である。
【図８】図５のＩ−Ｉ断面図である。
【図９】チャンバ装置の空調系を示す模式図である。
【図１０】吐出処理部を示す概略図である。
【図１１】本発明の液滴吐出装置により製造されたデバイスの一例を示す図であって、有機ＥＬ装置の要部断面図である。
【図１２】本発明の液滴吐出装置により製造されたデバイスを搭載した電子機器を示す図である。
【符号の説明】
１…第１スイッチ部（インターロックスイッチ部）、
２…第２スイッチ部（第２のインターロックスイッチ部）、
３…開口部、１０…第１カバー部（第１のカバー装置）、
１１…支持部（第１の接続装置）、１２…被支持部（第１の接続装置）、
１３…折り曲げ部、２０…第２カバー部（第２のカバー装置）、
２１…固定部（第２の接続装置）、２２…係合部（第２の接続装置）、
２３…貫通穴、２４…グローブ部、
３０…フラップカバー部（第３のカバー装置）、４０…サブ室、
４１…第１ドア部（第１のドア部）、４１Ａ…第１通路（第１の通路）、
４２…第２ドア部（第２のドア部）、４２Ａ…第２通路（第２の通路）、
４５…ガス置換装置、４６…検出装置、５１…供給口（ガス供給部）、
７１…吐出ヘッド、７３…イオナイザ装置（静電気低減装置）、
Ａ…内部空間、Ａ２…第２空間（第２の空間）、Ｃ…チャンバ本体、
ＣＨ…チャンバ装置、ＣＯＮＴ…制御装置（ドア制御部）、
ＩＪ…吐出処理部、Ｓ…液滴吐出装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a droplet discharge apparatus including a discharge processing unit that manufactures a device by a droplet discharge operation of a discharge head.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a photolithography method has been frequently used as a method for manufacturing a device having a fine pattern. In recent years, a device manufacturing method using a droplet discharge method has attracted attention. This technology forms a pattern by ejecting liquid material droplets containing functional materials from the ejection head of a droplet ejection device and placing the material on the substrate. This is very effective in that it is possible. The functional material includes a material that changes in quality by reacting with the atmosphere. However, in the following patent document, a discharge processing unit that discharges droplets containing such a functional material is shut off from the atmosphere, and nitrogen gas or argon is used. It is described that it is preferable to provide in an inert gas environment such as gas.
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application No. 2001-341296 (page 3)
[Patent Document 2]
Japanese Patent Application No. 2002-56980 (page 6)
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
In the case where the droplet discharge operation is performed in an inert gas environment, a configuration in which the discharge processing unit is surrounded by an airtight chamber device and the inside of the chamber device is filled with an inert gas is conceivable. In this case, a so-called glove box is configured by attaching a glove (glove) capable of arranging an operator's arm to a part of the chamber device so that the worker can easily access the discharge processing unit of the chamber device. Can be considered. As a result, the operator can access the discharge processing unit with his / her arm in the glove while maintaining the airtightness of the chamber apparatus. However, when the functional material contained in the liquid material is a material that does not change in quality due to the atmosphere, the chamber apparatus having the above-described configuration is unnecessary, and even if work in the atmospheric environment is allowed, A person has to access the discharge processing unit through the globe, which causes a problem that workability is lowered.
[0005]
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a droplet discharge device including a chamber device that can provide an optimum working environment according to the gas environment of a space in which a discharge processing unit is arranged. And
[0006]
[Means for Solving the Problems]
  In order to solve the above problems, a droplet discharge device of the present invention is a droplet discharge device including a discharge processing unit that manufactures a device by discharging droplets from a discharge head, and the discharge processing unit includes the discharge processing unit. A chamber device that forms an internal space for placement, the chamber device having a chamber body having an opening;The opening can be closed;Setting the flow rate per unit time of the fluid flowing between the chamber body by closing the opening to a predetermined amount;A first cover device exchangeable with respect to the opening, and the opening can be closed;The flow rate of the fluid flowing between the chamber body by closing the opening can be set smaller than the predetermined amount,A second cover device replaceable with respect to the opening;A first connection device for connecting a first cover device to the chamber body;SaidA second connecting device for connecting a second cover device to the chamber body;A through hole formed in the second cover device, a glove part provided so as to close the through hole, and a hinge part provided in the chamber body so as to be rotatable. Operation of the discharge processing unit is provided in the vicinity of the third cover device that can be closed and the opening that can contact the first and second cover devices, and the opening is released from being closed. A first interlock switch portion shared by the first and second cover devices, and provided in the vicinity of the opening that can contact the first and third cover devices, A second interlock switch unit shared by the first and third cover devices, which stops the operation of the discharge processing unit by releasing the closure of the opening and the through hole;It is characterized by providing.
  In this case, when the opening is closed by the first cover device, the internal space is made an atmospheric environment, and when the opening is closed by the second cover device, the internal space is an inert gas. It is characterized by being made into an environment.
  According to the present invention, the first cover device that can connect the first cover device to the chamber body, and the second cover that can realize higher airtightness than the case where the opening portion is closed by the first cover device. By providing each of the second connection devices that can connect the device to the chamber main body, by replacing these first and second cover devices, an optimal working environment can be obtained according to the gas environment in the internal space. Can be provided. That is, when high airtightness of the chamber device is required, the opening is closed by the second cover device, and when the airtightness is allowed to some extent, the chamber device has a relatively simple structure and good work. For example, the opening can be closed by replacing the first cover device that can realize the performance.
In addition, the first interlock switch unit that stops the operation of the discharge processing unit by releasing the blockage of the opening is provided, and the first and second cover devices share the first interlock switch unit. Since the operation of the discharge processing unit is stopped by releasing the blockage of the opening by each of the first and second cover devices, an operator can access the discharge processing unit from the opening that has been blocked. Safety during access is ensured. Further, the first interlock switch unit is shared by the first cover device and the second cover device exchanged with each other, so that the number of parts can be reduced.
In the droplet discharge device of the present invention, the third cover device that can close the through hole of the second cover device, and the operation of the discharge processing portion are stopped by releasing the blockage of the opening and the through hole. And the first and third cover devices share the second interlock switch portion. Therefore, the through-hole in which the globe portion is provided by the third cover device is provided. Since it is blocked, it is possible to avoid a risk that an operator accidentally accesses the discharge processing unit through the glove unit during the operation of the discharge processing unit. And since the operation | movement of a discharge process part is stopped when obstruction | occlusion of a through-hole is cancelled | released by the 2nd interlock switch part, safety | security is ensured.
[0007]
In the droplet discharge device of the present invention, the first cover device includes a bent portion. According to this, obstruction | occlusion of the opening part by a 1st cover apparatus is easily cancelled | released by bend | folding a bending part. Further, the first cover device is bent at the bent portion, thereby realizing space saving when the opening portion is released.
In the droplet discharge device of the present invention, the second cover device includes a through hole and a glove part provided so as to close the through hole. According to this, in the state where the airtightness in the chamber apparatus is maintained by the second cover device, the operator inserts his arm into the glove part (glove part), so that the opening part by the second cover device is provided. The ejection processing unit can be easily accessed without releasing the blockage.
[0010]
The liquid droplet ejection apparatus of the present invention is characterized by further comprising a gas supply unit that supplies a predetermined gas to the corner of the internal space. According to this, the generation of gas stagnation at the corners of the internal space is avoided by the gas supplied from the gas supply unit. The liquid droplet ejection apparatus according to the present invention includes a static electricity reducing device that reduces static electricity in the internal space, and a control device that controls the operation of the static electricity reducing device in accordance with a gas environment in the internal space. . According to this, since static electricity generated in the discharge processing unit including the base material on which the droplets are discharged can be reduced, it is possible to avoid deterioration of device performance and occurrence of defective droplet discharge due to static electricity.
[0011]
In the droplet discharge device of the present invention, a first chamber capable of opening and closing a sub-chamber forming a second space different from the internal space and a first passage communicating the internal space and the second space. It is provided with the 2nd door part which can open and close the 2nd channel | path which connects a door part and said 2nd space, and the exterior. According to this, for example, when it is desired to transfer an object from the outside to the internal space in a state where the internal space is set to be airtight and filled with an inert gas, by transferring the object through the sub chamber, The object can be transported in a state where the airtightness and the gas environment are maintained. In this case, a gas replacement device that replaces the second space with a predetermined gas, a detection device that detects the predetermined gas concentration in the second space, and the first and the second based on a detection result of the detection device And a door control unit that controls an opening / closing operation of the second door unit. According to this, when the internal space is filled with an inert gas, for example, when an object is to be transferred from the outside to the internal space, the door portion can be opened after the second space is sufficiently filled with the inert gas. Therefore, it is possible to prevent an external gas (that is, the atmosphere) from flowing into the internal space by mistake.
[0012]
Here, the above-described ejection processing unit of the droplet ejection apparatus is used for manufacturing a device based on the droplet ejection method, and includes an inkjet apparatus including an inkjet head. An ink jet head of an ink jet device is a device capable of quantitatively discharging liquid material droplets by an ink jet method, for example, a device capable of quantitatively intermittently dropping 1 to 300 nanograms of liquid material per dot. . The droplet discharge device may be a dispenser device.
[0013]
The liquid material refers to a medium having a viscosity that can be discharged (dropped) from a discharge nozzle of a discharge head of a droplet discharge device (discharge processing unit). It does not matter if it is aqueous or oily. It is sufficient if it has fluidity (viscosity) that can be discharged from a discharge nozzle or the like. In addition, the material included in the liquid material may be heated to a melting point or higher and dissolved, or may be stirred as fine particles in a solvent, and a dye, pigment or other functional material added in addition to the solvent It may be. In addition, the base material on which the droplets are ejected may be a flat substrate or a curved substrate. Furthermore, the hardness of the pattern formation surface does not need to be high, and it may be a flexible surface such as a film, paper, or rubber, in addition to glass, plastic, or metal.
[0014]
Further, when a device is manufactured by ejecting liquid material droplets onto a substrate from the ejection head of the droplet ejection apparatus, the liquid material contains a functional material. The functional material is a material for forming a device and exhibits a predetermined function by being disposed on a base material (substrate). Functional materials include a liquid crystal element forming material for forming a liquid crystal device (liquid crystal element) including a color filter, and an organic EL element forming material for forming an organic EL (electroluminescence) device (organic EL element). Examples thereof include a wiring pattern forming material containing a metal for forming a wiring pattern for distributing power, and an organic TFT forming material for forming an organic TFT (organic thin film transistor).
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a droplet discharge device of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a droplet discharge device provided with a chamber device of the present invention.
In FIG. 1, the droplet discharge device S includes a discharge processing unit IJ that manufactures a device by a discharge operation of a discharge head, and a chamber device CH that forms an internal space A in which the discharge processing unit is arranged. The chamber device CH and the discharge processing unit IJ are provided on the upper portion of the support base B. The chamber apparatus CH has a chamber body C having an opening 3. The chamber main body C has a rectangular top plate portion 4 and side plate portions 5 connected to the respective sides of the top plate portion 4. In the present embodiment, the opening 3 is provided on each of the four side plates 5 of the chamber body C on the −Y side and the −X side. The droplet discharge device S includes a gas supply device 50 that supplies a predetermined gas to the internal space A of the chamber device CH, and an exhaust device 60 that exhausts the gas in the internal space A. The operation of the gas supply device 50 is controlled by a control device CONT that controls the operation of the entire droplet discharge device S including the discharge operation of the discharge processing unit IJ. In the present embodiment, the gas supply device 50 can switch and supply an inert gas such as nitrogen and the atmosphere to the internal space A.
[0016]
A first switch part (interlock switch part) 1 and a second switch part (second interlock switch part) 2 are provided in the chamber body C near the opening 3. In this embodiment, the 1st switch part 1 is provided in the + Z side of the opening part 3, and the 2nd switch part 2 is provided in the + X side. In response to operation inputs to the first and second switch units 1 and 2, the discharge processing unit IJ provided in the internal space A of the chamber device CH is activated and stopped, and an alarm is issued as necessary. Yes. The chamber body C includes a first cover portion (first cover device) 10 and a second cover portion (second cover device) 20 (see FIGS. 2 and 5) so as to close the opening 3. It can be installed interchangeably. The first cover portion 10 is connected to the chamber body C via a support portion (first connection device) 11, and the second cover portion 20 is fixed to the chamber body C (second connection device) 21. Connected through. Further, a flap cover portion (third cover device) 30 supported by a hinge portion 26 so as to be rotatable around the X axis is attached to the side plate portion 5 on the −Z side of the opening 3.
[0017]
FIG. 2 is a view showing a state in which the first cover portion 10 closes the opening 3, and FIG. 3 is a view for explaining the opening / closing operation of the opening 3 by the first cover portion 10. In FIG. 2, the first cover 10 closes the opening 3 to set the flow rate per unit time of the gas flowing between the chamber body C and a predetermined amount. Specifically, when the first cover portion 10 closes the opening 3, a slight gap is formed between the first cover portion 10 and the chamber body C (side plate portion 5). The first cover unit 10 is supported by the support unit (first connection device) 11 on the supported portion (first connection device) 12 provided at the end on the −X side. Connected. Further, a bent portion 13 is provided at the center portion of the first cover portion 10 in the X-axis direction. In this embodiment, the bending part 13 is provided in one place, and as shown in FIG. 3, the 1st cover part 10 is bend | folded outside by the bending part 13 into two. That is, the first cover portion 10 includes a supported portion 12 and a plate portion 10A provided on the −X side with respect to the bent portion 13 and a plate portion 10B provided on the + X side with respect to the bent portion 13. It is comprised by.
[0018]
FIG. 4 is an enlarged view showing the support portion 11 that supports the first cover portion 10. As shown in FIG. 4, the support portion 11 is a cylindrical member provided on the side plate portion 5 and having the Z-axis direction as an axis. On the other hand, on the −X side of the first cover portion 10, a supported portion 12 that is a columnar material extending in the Z-axis direction is provided. The supported portion 12 can be inserted into the support portion 11, and can be rotated about the axis (around the Z axis) when disposed inside the support portion 11. Then, the supported part 12 provided at the −X side end of the first cover part 10 (plate part 10A) rotates around the Z axis while being supported by the support part 11 provided on the side plate part 5. The first cover portion 10 (plate portion 10A) rotates around the support portion 11 as a rotation center. That is, the support part 11 and the supported part 12 constitute a hinge part, and the plate part 10A of the first cover part 10 rotates about the hinge part as a rotation center. As shown in FIG. 3, the opening 3 is opened and closed while the bent portion 13 is bent as the plate portion 10 </ b> A of the first cover portion 10 rotates.
[0019]
Here, a handle portion 14 is provided on the outer surface of the first cover portion 10 (plate portion 10B), and the opening / closing operation is easily performed by gripping the handle portion 14. The supported portion 12 is easily separated from the support portion 11 by being lifted in the Z-axis direction. Thereby, the 1st cover part 10 can be easily attached or detached with respect to the chamber main body C. FIG. In the present embodiment, the supported portion 12 of the first cover portion 10 and the support portions 11 provided corresponding thereto are provided in two each.
[0020]
As shown in FIG. 2 and FIG. 3C, the plate portion 10 </ b> A of the first cover portion 10 is in contact with the first switch portion 1 when the first cover portion 10 closes the opening 3. On the other hand, the plate portion 10 </ b> B of the first cover portion 10 is set so as to contact the second switch portion 2. When the first cover part 10 closes the opening part 3 and contacts the first and second switch parts 1 and 2, the first and second switch parts 1 and 2 as interlock switches are operated, and the discharge processing part. IJ can be activated. On the other hand, as shown in FIGS. 3A and 3B, the opening 3 is closed by the first cover 10, and the first cover 10 is separated from the first and second switch parts 1 and 2. As a result, the discharge processing unit IJ becomes inoperable (stops operation).
[0021]
FIG. 5 is a view showing a state in which the second cover part 20 closes the opening 3, and FIG. 6 is a view for explaining the opening / closing operation of the opening 3 by the second cover part 20. In FIG. 5, the second cover portion 20 closes the opening 3 to thereby set the flow rate per unit time of the gas flowing between the chamber main body C (side plate portion 5) and the opening 3 through the first cover portion 10. Set the value to a value smaller than that in the blocked state. Specifically, when the second cover portion 20 closes the opening 3, the internal space A of the chamber device C is almost sealed. The second cover portion 20 is provided with a plurality of engaging portions (second connecting devices) 22 provided in the peripheral portion of the second cover portion 20 in the peripheral portion of the opening 3 in the side plate portion 5. By being engaged with each of the fixed portions (second connection devices) 21, the chamber main body C is attached. The second cover portion 20 is connected to the chamber body C while closing the opening 3 by the engagement between the fixing portion 21 and the engaging portion 22.
[0022]
The 2nd cover part 20 is a plate-shaped member, Comprising: It has the through-hole 23 in the approximate center part. In the present embodiment, two through holes 23 are provided. A glove part (glove part) 24 is attached to each of the through holes 23 so as to close the through hole 23. The airtightness of the internal space A of the chamber apparatus C is maintained by the closure of the through hole 23 by the glove part 24. The glove part 24 is made of a flexible material such as rubber. The operator can access the internal space A including the discharge processing unit IJ with the arm inserted into each of the glove units 24. By closing the opening 3 with the second cover part 20 provided with the glove part 24, the chamber device CH becomes a so-called glove box.
[0023]
As shown in FIGS. 5 and 6, the through hole 23 is a flap cover portion (third cover device) supported by the side plate portion 5 of the chamber main body C via the hinge portion 26 so as to be rotatable around the X axis. ) 30 is partially blocked. The flap cover part 30 opens and closes the through hole 23 by rotating around the X axis.
[0024]
FIG. 7 is an enlarged view showing the fixing part 21 and the engaging part 22 that connect the second cover part 20 to the chamber body C. FIG. As shown in FIG. 7, the engaging portion 22 is a lever member attached to the second cover portion 0 via a shaft portion 22A so as to be rotatable around the Y axis. The fixing portion 21 is provided on the side plate portion 5, and fixes the second cover portion 20 to the chamber body C by engaging with the end portion of the rotated engaging portion 22. On the other hand, the second cover portion 20 and the chamber main body C can be separated by rotating the engaging portion 22 to release the engagement between the fixed portion 21 and the engaging portion 22. As a result, the second cover portion 20 can be easily attached to and detached from the chamber body C. Here, when the second cover part 20 closes the opening part 3, the peripheral part of the inner surface of the second cover part 20 and the side plate part 5 come into contact with each other, and this contact part has a rubber packing. Such a sealing member (not shown) is provided. Thereby, when the 2nd cover part 20 is attached to the chamber main body C and the opening part 3 is obstruct | occluded, the interior space A is substantially sealed.
[0025]
As shown in FIG. 5 and FIG. 6C, the second cover portion 20 is set to contact the first switch portion 1 in a state where the second cover portion 20 closes the opening 3. . Further, the flap cover part 30 is set to contact the second switch part 2 in a state where the flap cover part 30 closes the through hole 23 of the second cover part 20. As the second cover part 20 closes the opening 3 and makes contact with the first switch part 1, and the flap cover part 30 closes the through hole 23 and makes contact with the second switch part 2, an interlock switch is formed. The first and second switch sections 1 and 2 are activated to enable the discharge processing section IJ. On the other hand, as shown in FIGS. 6A and 6B, at least one of the blockage of the opening 3 by the second cover portion 20 and the blockage of the through hole 23 by the flap cover portion 30 is released. When the contact of at least one of the first and second switch units 1 and 2 is released, the discharge processing unit IJ becomes inoperable (stops operation).
[0026]
As shown in FIGS. 2, 3, 5, and 6, the first switch unit 1 is brought into contact with the first cover unit 10 and the second cover unit 20, respectively. The 2 switch unit 2 is brought into contact with the first cover unit 10 and the flap cover unit 30. That is, the first cover part 10 and the second cover part 20 share the first switch part 1, and the first cover part 10 and the flap cover part 30 share the second switch part 2.
[0027]
8 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. As shown in FIG. 8, the chamber apparatus CH includes a sub chamber 40 that forms a second space (second space) A2 different from the internal space A. The sub chamber 40 includes a first door portion (first door portion) 41 that can open and close a first passage (first passage) 41A that communicates the internal space A and the second space A2, and a second space A2. And a second door portion 42 that can open and close a second passage (second passage) 42A that communicates with the outside of the chamber device CH. When the first door portion 41 closes the first passage 41A and the second door portion 42 closes the second passage 42A, the second space A2 is almost sealed. In the present embodiment, the second door portion 42 is a plate-like member having the same configuration as the second cover portion 20 and includes the engaging portion 22 described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, a fixing portion 21 is provided on the side plate portion 5 at the periphery of the second passage 42 </ b> A, and the second door portion 42 is connected to the second passage by the fixing portion 21 and the engaging portion 22. It is fixed to the chamber body C so as to close 42A. In addition, as shown in FIG. 8, a third switch portion 43 as an interlock switch portion is provided in the vicinity of the first passage 41A, and the first door portion 41 is opened to contact the third switch portion 43. When the contact is released, the discharge processing unit IJ becomes inoperable. Further, a fourth switch part 44 as an interlock switch part is also provided in the vicinity of the second passage 42A, and the second door part 42 is opened and the contact with the fourth switch part 44 is released. The discharge processing unit IJ becomes inoperable.
[0028]
A gas replacement device 45 is connected to the second space A2. The gas replacement device 45 replaces the second space A2 with a predetermined gas, and fills the second space A2 with the same type of gas as the gas filled in the internal space A. The second space A2 is provided with a detection device 46 that detects the gas concentration of the gas supplied by the gas replacement device 45 in the second space A2. The detection result of the detection device 46 is output to the control device (door control unit) CONT, and the control device CONT determines the first and second door portions 41 and 42 based on the detection result of the detection device 46, respectively. Controls opening and closing operations. Specifically, when it is determined that the second space A2 is not sufficiently filled with the predetermined gas (below the predetermined concentration) based on the detection result of the detection device 46, the control device CONT The two door portions 41 and 42 are locked so as not to open. On the other hand, if it is determined that the second space A2 is sufficiently filled with the predetermined gas (the concentration is equal to or higher than the predetermined concentration), the control device CONT can unlock the first and second door portions 41 and 42 to open them. And
[0029]
FIG. 9 is a schematic diagram showing an air conditioning system in the chamber apparatus CH. As shown in FIG. 9, the chamber apparatus CH has a supply port (see FIG. 1) connected to a gas supply apparatus 50 (see FIG. 1) that supplies a predetermined gas (inert gas or atmosphere) to the internal space A of the chamber apparatus CH. A gas supply unit) 51 and an exhaust port 61 connected to an exhaust device 60 (see FIG. 1) for exhausting the gas in the internal space A. The supply port 51 is provided at the corner of the internal space A, and the gas from the gas supply device 50 is supplied to each of the supply ports 51 via a branch path that branches in the middle. In this embodiment, the supply port 51 is provided in each of the eight corners of the substantially rectangular parallelepiped internal space A, and supplies a predetermined gas to the corners. Also, one exhaust port 61 is provided. The exhaust port 61 has a sufficiently larger diameter than the supply port 51.
[0030]
FIG. 10 is a schematic diagram of the discharge processing unit IJ. As shown in FIG. 10, the discharge processing unit IJ supports a substrate P that is a base material for manufacturing a device and moves the substrate P two-dimensionally, and a substrate P supported by the stage device 72. A discharge head 71 that discharges droplets of the liquid material, and a static reduction device 73 that reduces static electricity of each member / device provided in the internal space A including the substrate P. The static electricity reducing device 73 is configured by an ionizer device that reduces static electricity by supplying ion gas to the substrate P and the internal space A. The ionizer device 73 includes an ion gas supply device 74 and an injection unit 76 that includes a plurality of injection nozzles 75 that inject the gas supplied from the ion gas supply device 74. A plurality of injection nozzles 75 are provided side by side in the X-axis direction. The operation of the ionizer device 73 is controlled by the control device CONT. The control device CONT injects ion gas onto the substrate P from the injection nozzle 75 while scanning the stage device 72 supporting the substrate P in the Y-axis direction below the injection unit 76 of the ionizer device 73. Thereby, static electricity generated on the substrate P is reduced (removed). Here, the control device CONT controls the operation of the ionizer device 73 in accordance with the gas environment in the internal space A. Specifically, for example, when the internal space A is filled with nitrogen gas, the gas injected from the injection nozzle 75 of the ionizer device 73 is set to ionized nitrogen gas, and the internal space A is the atmosphere (oxygen). If it is satisfied, the gas injected from the injection nozzle 75 is set to ionized oxygen gas (atmosphere). The ionizer device 73 may be provided in the discharge processing unit IJ, or may be supported at a predetermined position of the chamber device CH. Further, in this embodiment, an ionizer that supplies ionic gas is used as the static eliminator. However, for example, a soft X-ray irradiation device that reduces static electricity by irradiating soft X-rays may be used.
[0031]
Next, a method for manufacturing a device using the discharge processing unit IJ arranged in the chamber apparatus CH having the above-described configuration will be described.
First, a description will be given of a case where droplets of a liquid material containing a functional material that does not change even in an atmospheric environment are discharged onto the substrate P.
In this case, the first cover portion 10 having a relatively simple structure and capable of easily opening and closing the opening portion 3 is attached to the chamber body C. That is, the supported portion 12 of the first cover portion 10 is inserted into the support portion 11 of the chamber body C (see FIG. 4). And as shown in FIG. 3, the opening part 3 is obstruct | occluded by extending the 1st cover part 10 of a bending state. The first cover part 10 abuts on each of the first and second switch parts 1 and 2 by closing the opening 3. As a result, the interlock is released, and the discharge processing unit IJ becomes operable. The control device CONT supplies clean air from which particles have been removed from the gas supply device 50 to the internal space A and drives the exhaust device 60 to exhaust the gas in the internal space A. Here, the clean atmosphere from the gas supply device 50 is supplied to the internal space A through the supply port 51 provided at the corner of the internal space A. Therefore, generation of gas (atmosphere) stagnation at the corners can be suppressed and the entire internal space A can be filled with clean air. Next, the control device CONT drives the ionizer device 73 to perform static reduction (removal) work on the substrate P. Since the internal space A is filled with the atmosphere, the control device CONT supplies the atmospheric gas ionized by the ionizer device 73 to the internal space A (substrate P). When the static electricity reduction operation is completed, the control device CONT drives the discharge head 71 of the discharge processing unit IJ and supports it on the stage device 72 while circulating the gas (atmosphere) in the internal space A by the gas supply device 50 and the exhaust device 60. In order to manufacture a device on the substrate P, a droplet is discharged. The vaporized solvent contained in the droplets is exhausted from the exhaust port 61 together with the atmosphere.
[0032]
If the chamber device CH itself is disposed in the clean atmosphere in the clean room, the gas supply device 50 performs only the exhaust operation by the exhaust device 60 without performing the air supply operation to the internal space A. Also good. In this case, since a slight gap is formed between the first cover portion 10 and the chamber body C, clean air is supplied from the outside to the internal space A through the gap by the exhaust operation of the exhaust device 60. The Further, by providing the first cover part 10, it is possible to prevent an operator from accessing the discharge processing part IJ and to prevent the discharge head 71 from being directly exposed to the atmospheric flow (wind) outside the chamber apparatus. In addition, the occurrence of flight bending of the droplets ejected from the ejection head 71 due to this wind (shift of the droplet ejection position on the substrate) can be suppressed.
[0033]
When the first cover portion 10 for the atmospheric environment is attached to the chamber body C and the operator wants to access the discharge processing portion IJ, the handle portion 14 of the first cover portion 10 is gripped. By pulling, the blockage of the opening 3 by the first cover portion 10 can be easily released. Therefore, the operator can open the first cover part 10 with good workability and access the discharge processing part IJ. Here, since the contact between the first and second switch parts 1 and 2 and the first cover part 10 is released by releasing the blockage of the opening 3 by the first cover part 10, the discharge processing part IJ Since the operation is automatically disabled, the safety of the worker who accesses the discharge processing unit IJ is ensured. Further, since the bent portion 13 is provided in the first cover portion 10, even when the opening portion 3 is closed by the first cover portion 10, the first cover portion 10 is kept in a bent state. Space saving can be realized. In the present embodiment, of the two switch portions, one switch portion 1 is provided at a position where it can abut on the plate portion 10A of the first cover portion 10, and the other switch portion 2 is a plate. It is the structure provided in the position which can contact | abut to the part 10B. Therefore, even if the first cover 10 having the bent portion 13 is closed slightly to the opening 3, at least one of the two switches 1, 2 is in this state. The release of the blockage can be detected. That is, although the plate portion 10B is connected to the chamber main body C, the plate portion 10A may be bent at the bent portion 13 and separated from the chamber main body C. For example, if both of the switch units 1 and 2 are arranged at positions where they can come into contact with the plate unit 10B, there arises a problem that the separation state of the plate unit 10A from the chamber body C cannot be detected. However, the occurrence of the above-described inconvenience can be avoided by arranging the first and second switch parts 1 and 2 at positions where they can contact the plate parts 10A and 10B as in the present embodiment.
[0034]
Next, a description will be given of a case where liquid material droplets containing a functional material that changes in quality in the atmospheric environment are ejected onto the substrate P.
In this case, the second cover portion 20 that can seal the inside of the chamber device CH is attached to the chamber body C. In this case, as shown in FIG. 6A, the second cover portion 20 is attached while being aligned with the opening 3. Here, as shown in FIG. 6A, the second cover portion 20 can be attached in a state where the bent first cover portion 10 is supported by the support portion 11. The supported portion 12 of the portion 10 may be extracted from the support portion 11 and the first cover portion 10 may be removed from the chamber body 1. Next, as shown in FIG. 6B, by engaging the engaging portion 22 with the fixing portion 21, the second cover portion 20 is connected to the chamber body C and closes the opening 3. The internal space A is in a sealed state. The second cover portion 20 abuts on the first switch portion 1 by closing the opening 3. Next, as shown in FIG. 6C, the flap cover part 30 is rotated to close the through hole 23 of the second cover part 20. The flap cover part 30 contacts the second switch part 2 by closing the through hole 23. As a result, the interlock is released, and the discharge processing unit IJ becomes operable. The control device CONT supplies an inert gas (such as nitrogen or helium) that does not alter the functional material from the gas supply device 50 to the internal space A and drives the exhaust device 60 to exhaust the gas in the internal space A. Here, the inert gas from the gas supply device 50 is supplied to the internal space A from the supply port 51 provided at the corner of the internal space A. Therefore, generation of gas (inert gas) stagnation at the corners can be suppressed, and the entire internal space A can be filled with the inert gas in a short time.
[0035]
Next, the control device CONT drives the ionizer device 73 to perform static reduction (removal) work on the substrate P. Since the internal space A is filled with the inert gas, the control device CONT supplies the inert gas ionized by the ionizer device 73 to the internal space A (substrate P). When the static electricity reduction operation is completed, the control device CONT drives the discharge head 71 of the discharge processing unit IJ while circulating the gas (inert gas) in the internal space A by the gas supply device 50 and the exhaust device 60, and the stage device 72. In order to manufacture a device with respect to the substrate P supported by the substrate, droplets are discharged. The vaporized solvent contained in the droplets is exhausted from the exhaust port 61 together with the inert gas.
[0036]
When the second cover part 20 for the inert gas environment is attached to the chamber main body C, if the worker wants to access the discharge processing part IJ, the worker can make a through hole formed by the flap cover part 30. 23 is released, an arm is inserted into the glove part 24 provided in the through hole 23 of the second cover part 20, and the discharge processing part IJ is accessed via the glove part 24. Here, since the contact between the second switch part 2 and the flap cover part 30 is released by releasing the blockage of the through hole 23 by the flap cover part 30, the discharge processing part IJ automatically enters the inoperable state. Therefore, the safety of an operator who accesses the discharge processing unit IJ via the globe unit 24 is ensured. In this case, since the closing of the opening 3 by the second cover portion 20 is maintained, the state where the internal space A is filled with the inert gas is maintained.
[0037]
By the way, when an operator works through the glove part 24, an object may be desired to be carried into the internal space A from the outside of the chamber device CH. When the object is carried into the internal space A, the second door 42 is removed from the chamber body C and the second passage 42A is opened with the first passage 41A closed by the first door 41 in FIG. To do. Then, an object is placed in the second space A2 through the opened second passage 42A. If an object is arrange | positioned in 2nd space A2, the 2nd door part 42 will be attached, 2nd channel | path 42A will be obstruct | occluded, and 2nd space A2 will be sealed. Next, an inert gas is supplied from the gas replacement device 45 to the sealed second space A2 in which the object is arranged. The second space A2 is replaced with an inert gas. When the second space A2 is filled with the inert gas, the operator opens the first door part 41 through the glove part 24 to convey the object arranged in the second space A2 to the internal space A. Can do. Here, while performing the gas replacement operation in the second space A2, the detection device 46 detects the inert gas concentration in the second space A2. If the control device CONT determines that the second space A2 is not sufficiently replaced by the inert gas based on the detection result of the detection device 46, the control device CONT locks the first door portion 41, and the operator locks the first door portion 41. Can not be opened. By doing so, it is possible to prevent the air present in the second space A2 from flowing into the internal space A.
[0038]
When it is desired to replace the second cover part 20 with the first cover part 10, the second cover part 20 and the chamber body C are separated by releasing the engagement between the engaging part 22 and the fixing part 21. Can do.
[0039]
As described above, since the first cover part 10 for the atmospheric environment and the second cover part 20 for the inert gas environment can be easily exchanged, the interior of the chamber device CH can be changed to an inert gas environment. In this case, good workability can be realized by using the second cover portion 20 that can maintain hermeticity and using the first cover portion 10 that can be easily opened and closed when the atmospheric environment is allowed.
[0040]
In the present embodiment, the opening 3 is provided at two locations, and the first and second cover portions 10 and 20 are attached to correspond to the respective openings 3, but the opening 3 The structure provided in one place may be sufficient. On the other hand, by providing the openings 3 at two places, the operator can access the discharge processing section IJ from any one of the two openings 3, thereby improving workability. Furthermore, in this embodiment, the opening part 3 and the 1st, 2nd cover parts 1 and 2 corresponding to this may be provided in all the four side-plate parts 5. FIG. That is, the number can be set arbitrarily. Further, the opening 3 and the first and second cover parts 1 and 2 corresponding to the opening 3 may be provided in the top plate part 4.
[0041]
In the present embodiment, when the first and second cover portions 10 and 20 are opened, the interlock switch portion is activated and the operation of the discharge processing portion IJ is stopped (becomes inoperable). 1. The second switch unit 1, 2 is configured by an electromagnetic lock, and when an operator opens the cover unit, an operation input is input to the control unit CONT to open the cover unit, and discharge processing is performed based on this input signal. The configuration may be such that the operation of the part IJ stops and the locked state of the electromagnetic lock is released so that the cover part can be opened.
[0042]
FIG. 11 is a side sectional view of an organic EL device in which some components are manufactured by the droplet discharge device S of the present invention.
As shown in FIG. 11, this organic EL device 301 is composed of a substrate P, a circuit element portion 321, a pixel electrode 331, a bank portion 341, a light emitting element 351, a cathode 361 (counter electrode), and a sealing substrate 371. A wiring of a flexible substrate (not shown) and a driving IC (not shown) are connected to the EL element 302. The circuit element unit 321 is formed on the substrate P, and a plurality of pixel electrodes 331 are aligned on the circuit element unit 321. Bank portions 341 are formed in a lattice shape between the pixel electrodes 331, and light emitting elements 351 are formed in the recess openings 344 generated by the bank portions 341. The cathode 361 is formed on the entire upper surface of the bank portion 341 and the light emitting element 351, and a sealing substrate 371 is laminated on the cathode 361.
[0043]
The manufacturing process of the organic EL device 301 including the organic EL element includes a bank part forming step for forming the bank part 341, a plasma processing step for appropriately forming the light emitting element 351, and a light emitting element formation for forming the light emitting element 351. A process, a counter electrode forming process for forming the cathode 361, and a sealing process for stacking and sealing the sealing substrate 371 on the cathode 361.
[0044]
The light emitting element forming step is to form the light emitting element 351 by forming the hole injection layer 352 and the light emitting layer 353 on the concave opening 344, that is, the pixel electrode 331. The hole injection layer forming step and the light emitting layer forming step It is equipped with. The hole injection layer forming step includes a first discharge step of discharging the first composition (liquid material) for forming the hole injection layer 352 onto each pixel electrode 331, and the discharged first composition. A first drying step of drying the product to form the hole injection layer 352, wherein the light emitting layer forming step uses a second composition (liquid material) for forming the light emitting layer 353 as the hole injection layer. A second ejection step of ejecting the liquid on the substrate 352, and a second drying step of drying the ejected second composition to form the light emitting layer 353.
[0045]
In the light emitting element forming step, the above-described discharging device is used in the first discharging step in the hole injection layer forming step and the second discharging step in the light emitting layer forming step. As the ejection head 1 in the ejection apparatus to be used, in the first ejection step of ejecting the material for forming the hole injection layer (PEDOT / PSS dispersion), the needle member 2 is modified with polyphenylene ether (for example, Zyron [registered product]; Asahi Kasei Co., Ltd.), the rubber bush 4 is made of a resin obtained by blending SEBS, SEPS, PP and adding a paraffinic oil thereto.
In the second discharge step of discharging the material for forming the light emitting layer, the needle member 2 is formed of polyacetal (POM) and the rubber bush 4 is formed of fluoro rubber.
[0046]
With the droplet discharge device S of the present invention, electro-optical devices (devices) such as the organic EL device and the liquid crystal device can be manufactured. Hereinafter, application examples of an electronic apparatus including an electro-optical device manufactured by a device manufacturing apparatus IJ having a droplet discharge device will be described.
FIG. 12A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 12A, reference numeral 1000 denotes a mobile phone body, and reference numeral 1001 denotes a display unit using the electro-optical device. FIG. 12B is a perspective view showing an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 12B, reference numeral 1100 denotes a watch body, and reference numeral 1101 denotes a display unit using the electro-optical device. FIG. 12C is a perspective view illustrating an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 12C, reference numeral 1200 denotes an information processing apparatus, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing apparatus body, and reference numeral 1206 denotes a display unit using the electro-optical device. Since the electronic devices shown in FIGS. 12A to 12C include the electro-optical device according to the above-described embodiment, it is possible to realize an electronic device that has a display portion with a superior display quality and a bright screen. .
[0047]
In addition to the above-described examples, other examples include a liquid crystal television, a viewfinder type and a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, and a POS terminal. , Electronic paper, devices equipped with a touch panel, and the like. The electro-optical device of the present invention can also be applied as a display unit of such an electronic apparatus.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a droplet discharge device provided with a chamber device of the present invention.
2 is a view showing a state in which a first cover device is attached to the chamber device of FIG. 1; FIG.
FIG. 3 is a diagram illustrating an operation of the first cover device.
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a first support device.
5 is a view showing a state in which a second cover device is attached to the chamber device of FIG. 1. FIG.
FIG. 6 is a diagram illustrating an operation of a second cover device.
FIG. 7 is a schematic perspective view showing a second support device.
8 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG.
FIG. 9 is a schematic diagram showing an air conditioning system of a chamber device.
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating an ejection processing unit.
FIG. 11 is a diagram showing an example of a device manufactured by the droplet discharge device of the present invention, and is a cross-sectional view of a main part of the organic EL device.
FIG. 12 is a diagram showing an electronic apparatus equipped with a device manufactured by the droplet discharge device of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 ... 1st switch part (interlock switch part),
2 ... 2nd switch part (2nd interlock switch part),
3 ... opening, 10 ... 1st cover part (1st cover apparatus),
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Support part (1st connection apparatus), 12 ... Supported part (1st connection apparatus),
13 ... bent portion, 20 ... second cover portion (second cover device),
21 ... Fixing part (second connecting device), 22 ... engaging part (second connecting device),
23 ... through hole, 24 ... globe part,
30 ... Flap cover part (third cover device), 40 ... Sub chamber,
41 ... 1st door part (1st door part), 41A ... 1st channel | path (1st channel | path),
42 ... 2nd door part (2nd door part), 42A ... 2nd channel | path (2nd channel | path),
45 ... Gas displacement device, 46 ... Detection device, 51 ... Supply port (gas supply unit),
71 ... Discharge head, 73 ... Ionizer device (static reduction device),
A ... internal space, A2 ... second space (second space), C ... chamber body,
CH ... chamber device, CONT ... control device (door control unit),
IJ: Discharge processing unit, S: Droplet discharge device

Claims

A droplet discharge apparatus including a discharge processing unit that manufactures a device by discharging droplets from a discharge head,
A chamber apparatus for forming an internal space for disposing the discharge processing section;
The chamber apparatus includes:
A chamber body having an opening;
The opening can be closed, and by closing the opening , the flow rate per unit time of the fluid flowing between the chamber main body is set to a predetermined amount . 1 cover device;
The opening can be closed, and the flow rate of the fluid flowing between the chamber main body can be set smaller than the predetermined amount by closing the opening , and the opening can be exchanged. A second cover device;
A first connecting device for connecting the first cover device to the chamber body;
A second connecting device for connecting the second cover device to the chamber body ;
A through hole formed in the second cover device;
A glove part provided to close the through hole;
A third cover device rotatably supported by a hinge portion provided in the chamber body and capable of closing the through hole;
The first and second are provided in the vicinity of the opening capable of contacting the first and second cover devices, and stop the operation of the discharge processing section by releasing the blockage of the opening. A first interlock switch unit shared by the cover device;
The first and third cover devices are provided in the vicinity of the opening that can come into contact with the first cover device, and the operation of the discharge processing unit is stopped by releasing the blockage of the opening and the through hole. And a second interlock switch shared by the first and third cover devices.

When the opening is closed by the first cover device, the internal space is made an atmospheric environment, and when the opening is closed by the second cover device, the internal space is made an inert gas environment. The droplet discharge device according to claim 1.

The droplet discharge device according to claim 1, wherein the first cover device includes a bent portion.

The droplet ejection apparatus of any one of claims 1-3, characterized in that it comprises a gas supply unit for supplying a predetermined gas to the corners of the internal space.

A static reduction device for reducing static electricity in the internal space;
The droplet ejection apparatus of any one of claims 1-4, characterized in that it comprises a control device for controlling the operation of the electrostatic reduction apparatus in accordance with the gaseous environment of the internal space.

A sub chamber forming a second space different from the internal space;
A first door part capable of opening and closing a first passage communicating the internal space and the second space;
The droplet ejection apparatus of any one of claims 1-5, characterized in that it comprises a second door portion openable second passage and a second space and the outside to communicate.

A gas replacement device for replacing the second space with a predetermined gas;
A detection device for detecting the predetermined gas concentration in the second space;
The droplet discharge device according to claim 6, further comprising: a door control unit that controls an opening / closing operation of the first and second door portions based on a detection result of the detection device.