JP4027512B2 - パターン投影計測用格子 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、モアレ装置等において用いられるパターン投影計測用格子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来より、被測定体の立体形状情報の取り込みを短時間で容易に行うための装置としてモアレ装置が知られている。モアレ装置としては格子照射型のものと格子投影型のものとがあるが、後者は前者のような基準格子が不要なため被測定体の測定自由度が大きなものとなる。
【0003】
上記格子投影型モアレ装置は、互いに平行な光軸を有する投影光学系および観測光学系を備えており、投影光学系により投影格子の像を被測定体上に投影させるとともに、観測光学系により被測定体上に形成された変形格子像を観測用基準格子上に結像させ、これにより生じるモアレ縞を観測するように構成されている。
【0004】
上記投影格子および観測用基準格子としては、モアレ縞の観測精度を高める観点から、できるだけ正弦波に近い濃度分布を有する格子を用いることが望ましい。
これを実現するためのものとして、白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子が考えられる。なお本明細書において、「白黒2値パターン」の「白」は「透明」を意味し、「黒」は「不透明」を意味する。
【0005】
上記のような疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子を製作する方法としては、例えば、正弦波濃度分布パターンに製版の網掛けを行って、白黒ドットの面積が変化する白黒2値パターンに置き換え、これを実際の格子サイズに縮小する方法、あるいは、白黒ドットで白黒2値パターンを形成するのではあるが、ランダムにドットを打つようにし、その際コンピュータの中で乱数を発生させてドット分布制御を行う関数を作りドット分布が正弦波状になるように描画する方法が考えられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記いずれの製作方法を採用した場合においても、好ましい疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子を製作することは困難である。
【0007】
すなわち、これらの製作方法においては、回折の影響等を配慮することができないため黒い部分はより黒くなる(不透明部が暗くなる)一方、最小黒ドットの製作寸法の関係から白い部分はより白くなり、このため基本的には銀塩写真を拡大したようなものとなってしまう。
【0008】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子において、疑似正弦波濃度分布を正弦波に近い濃度分布とすることができるパターン投影計測用格子を提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の投影計測用格子は、白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子において、
前記白黒2値パターンが、正弦波の全振幅各1周期分を8つ以上の所定の区分で分割するとともに、これら各区分内を該区分内における前記正弦波の面積と該正弦波の全振幅に等しい矩形波の面積との比率に応じて白領域と黒領域とに領域分けすることにより構成されてなることを特徴とするものである。
【0010】
また、この場合において、前記白黒2値パターンが、投影計測用レンズの解像力では分解できない密度で形成されていることが望ましい。
また、前記各区分内における白領域と黒領域との領域分けが、白または黒の帯状領域を前記矩形波と前記正弦波との差分領域の重心付近を通るように形成することにより行われていることが望ましい。
【0011】
また、前記白黒2値パターンが、前記全振幅各1周期分において前記正弦波が最小となる角度の位置に関して対称で、かつ、前記全振幅各1周期分において前記正弦波が最大となる角度の位置と前記最小となる角度の位置との中央の位置に関して白黒が反転したパターンに設定されていることが望ましい。
【0012】
さらに、前記白領域と前記黒領域とが帯状に領域分けされており、前記白領域の幅が、該白領域を透過する光の回折度合に応じて、前記比率で設定される幅よりも広い幅に補正されていることが望ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて、本発明の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るパターン投影計測用格子を備えたモアレ装置を示す平面概略図である。
【0014】
図示のように、このモアレ装置は、投影光学系12により投影格子14の像を投影レンズ16で被測定体2上に投影させるとともに、観測光学系22により被測定体2上に形成された変形格子像を撮影レンズ26で観測用基準格子24上に結像させ、これにより生じるモアレ縞を観測するように構成されている。
【0015】
同図において1点鎖線で示す仮想基準格子面Pgおよびこれと平行な実線で示す複数の面がモアレ面を形成しており、これら各モアレ面と被測定体2が交差する曲線に沿ってモアレ縞が形成されることとなる。同図には、仮想基準格子面Pgの手前側にのみ実線でモアレ面を示しているが、仮想基準格子面Pgの奥側にも複数のモアレ面が形成される。したがって、被測定体2が仮想基準格子面Pgを前後にまたがるように配置された場合においてもモアレ縞は形成される。
【0016】
本実施形態においては、投影格子14および観測用基準格子24がパターン投影計測用格子として機能することとなるが、これらはいずれも同様の構成であるので、以下その代表として投影格子14について説明する。
【0017】
図2(a)は、投影格子14をその支持フレーム20と共に示す正面図であり、同図(b)は、その部分拡大図である。
【0018】
同図(a)に示すように、投影格子14は、巨視的には左右等ピッチで縦縞状に形成されているが、同図(b)に示すように、微視的には左右の幅および間隔が徐変する白黒2値の繰り返しパターンで構成されている。この白黒2値パターンにおいて、白領域Wは透明領域であり、黒領域Bは不透明領域である。
【0019】
白黒2値パターンにおけるパターンの繰り返しピッチは、100μmに設定されており、各ピッチ内における白領域Wと黒領域Bとの領域分けの具体的寸法値は、図3に示すように設定されている。そしてこれにより、白黒2値パターンの疎密を略正弦波状に分布させて正弦波に近い濃度分布(疑似正弦波濃度分布)を得るようにしている。同図に示すように、白黒2値パターンは、これを構成する各白領域Wおよび各黒領域Bの幅が最大でも30μm未満であり、投影レンズ16の解像力では分解できない密度で形成されている。
【0020】
次に、白領域Wおよび黒領域Bの領域分けの具体的設定方法について説明する。
まず、図4に示すように正弦波の座標設定をする。すなわち、正弦波の山をX軸原点とし、正弦波の谷をY軸原点とする。そして、この正弦波の波長を100μm、振幅を1(全振幅を2)に設定する。
【0021】
次に、この正弦波の各1周期分を8つの区分に分割する。この8分割は、π/2毎に4つに等分割したものをさらに2分割することにより行うが、後の2分割は、π/2および3π/2寄りの位置で分割する。このとき、白黒2値パターンは、πの位置に関して対称で、かつ、π/2および3π/2の位置に関して白黒が反転したパターンに設定する。
【0022】
そして、8分割された各区分内において、正弦波の面積Sと該正弦波の全振幅に等しい矩形波の面積Soとの比率で、該区分内を白黒2値パターンで帯状に領域分けする。
【0023】
この領域分けは具体的には次のようにして行う。
まず、図4に示すθ1〜θ2の区分内において、矩形波(四角形ABB´A´)の面積Soおよび正弦波の面積Sを算出する。
【0024】
【数1】
【0025】
次に、面積Soと面積Sとの差ΔSを算出する。
ΔS=So−S
=2(θ2 −θ1 )−{sinθ2 +θ2 −sinθ1 −θ1 }
=θ2 −θ1 −sinθ2 +sinθ1
θ1 〜θ2 の区分内においては、S>So/2であるので、黒領域Bが主体の領域分けとなる。そこで、θ1 〜θ2 の区分内を一旦すべて黒領域Bとし、この黒領域Bの中間部分に白領域Wを帯状に割り込ませる。その際、白領域WはΔSの領域(差分領域)の重心Wpを通るように形成し、かつ、白領域Wの面積がΔSの面積と等しくなるように該白領域Wの幅を設定する。重心WpのX座標位置θw は、
ΔS(θ1 〜θw )=ΔS(θ1 〜θ2 )/2
となる位置として算出する。
【0026】
他の区分内においても同様にして白黒2値パターンでの領域分けを行う。これにより、上記投影格子14を、白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子として形成する。
【0027】
ところで、上記のようにして投影格子14を形成した場合、白領域Wおよび黒領域Bの幅は最小で1.69μmと非常に狭いものとなるので、白領域Wに関しては、該白領域Wを透過する光の回折の影響を考慮する必要がある。
そこで、まず、回折により広がる光をすべて投影レンズ16に入射させるのに必要なF(鏡径比)を算出する。
【0028】
上記投影格子14は投影レンズ16との距離が十分大きいので、フランホーファ回折の領域となる。そこで図5に示すような光学系について考える。
【0029】
同図において、aはスリット幅(白領域Wの幅)であり、Zはレンズ(投影レンズ16)までの距離であり、dz はレンズの瞳位置における回折光のサイズである。また使用する光の波長をλとする。
Z=ma2 /2λ
で示されるとき、m=3で0次の広がり(暗環)の直径dはd≒2aとなる。このあたりまではフレネル回折である。
【0030】
いま、m=3より遥かに遠い所では、格子位置を基準にm=3での光の広がりがそのまま伝播するものと仮定すれば、レンズの瞳位置での回折光のサイズdz は、
dz =dm=3 ・Z/Zm=3
で表わすことができる。図6に示すように、
dm=3 =2a
であるから、
dz =2a・Z/Zm=3
となる。
【0031】
したがって、必要なFは、焦点距離をfとして
F=f/dz
=f/(2a・Z/Zm=3 )
となる。
【0032】
実際には、レンズの有効径は図5および6に示す瞳径Dにより規定されるので、
F=f/D
であり、これを考慮してFの値を設定する必要がある。
【0033】
表1は、このようにして各種スリット幅aに対して必要なFを算出したときのデータを示す表である。
【0034】
【表1】
【0035】
同表より、例えばF=6.5のレンズを用いた場合には、a=5μm程度から補正なしでほぼ実用となり、a=6μmでは何ら問題は起きないことが分かる。しかしながら、スリット幅a(すなわち白黒2値パターンの白領域Wの幅)が5μmよりも狭い場合には、これを設計値よりも広めの値に補正してレンズ入射光量を増大させることが、疑似正弦波濃度分布をより正弦波に近い濃度分布とする上から望まれる。
【0036】
図7は、その一例として、F=7.8のレンズを用いた場合におけるスリット幅aの増大補正の方法を示す図である。
同図に示すような補正曲線を設定することにより、スリット幅の設計値をその補正値に置き換えることができる。なお、表1からも明らかなように、F=7.8のレンズを用いた場合、スリット幅aが6μm以上の領域ではその補正は不要である。
【0037】
以上詳述したように、本実施形態に係る投影格子14および観測用基準格子24は白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有しているが、正弦波の全振幅各1周期分を8つの区分に分割するとともに、これら分割された各区分内を該区分内における正弦波の面積Sとその全振幅に等しい矩形波の面積Soとの比率で白領域Wと黒領域Bとに領域分けすることにより、上記白黒2値パターンを構成するようになっているので、疑似正弦波濃度分布を正弦波に近い濃度分布とすることができる。
【0038】
しかも、このように白黒2値パターンを簡単なパターンで構成することができるので、パターン形成装置の稼動効率を上げることができ、これにより投影格子14および観測用基準格子24の製造コストを低減することができる。
【0039】
なお、白黒2値パターンの形成は、電子線描画やリソグラフィ技術を用いたエッチング等のような一般的な製作法により行うことができる。
また、本実施形態においては、上記白黒2値パターンが、投影レンズ16の解像力では分解できない密度で形成されているので、疑似正弦波濃度分布を得るようにしたために本来のピッチとは異なるピッチのモアレ縞が不用意に生じてしまうおそれをなくすことができる。
【0040】
しかも、本実施形態においては、上記各区分内における白領域Wと黒領域Bとの領域分けが、白領域W(または黒領域B)内において矩形波と前記正弦波との差分領域の重心Wpを通るように帯状の黒領域B(または白領域W)を割込み形成することにより行われているので、疑似正弦波濃度分布を正弦波により近い濃度分布とすることができる。
【0041】
さらに、本実施形態においては、上記白黒2値パターンが、πの位置に関して対称で、かつ、π/2および3π/2の位置に関して白黒が反転したパターンに設定されているので、白黒2値パターンを容易に形成することができる。
【0042】
また、本実施形態においては、上記白領域Wの幅が、これを透過する光の回折度合に応じて、前記比率で設定される幅よりも広い値に補正されるようになっているので、白領域Wの幅の設計値が狭いためにその透過光が回折して投影レンズ16への入射光量が不足してしまうのを未然に防止することができる。
【0043】
なお、本実施形態においては、パターン投影計測用格子がモアレ装置の投影格子14および観測用基準格子24である場合について説明したが、これ以外の装置に用いられるパターン投影計測用格子についても、本実施形態と同様の構成を採用することにより同様の作用効果を得ることができる。
【0044】
【発明の効果】
本発明に係るパターン投影計測用格子は白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有しているが、正弦波の全振幅各1周期分を所定の区分で分割するとともに、これら各区分内を該区分内における正弦波の面積とその全振幅に等しい矩形波の面積との比率で白領域と黒領域とに領域分けすることにより、上記白黒2値パターンを構成するようになっているので、疑似正弦波濃度分布を正弦波に近い濃度分布とすることができる。そして、このように白黒2値パターンを簡単なパターンで構成することができるので、パターン形成装置の稼動効率を上げることができ、これによりパターン投影計測用格子の製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るパターン投影計測用格子を備えたモアレ装置を示す平面概要図
【図2】上述のパターン投影計測用格子を詳細に示す正面図
【図3】図2のパターン投影計測用格子における白黒2値パターンの構成を詳細に示す図
【図4】図3の白黒2値パターンの形成方法を示す図
【図5】図3の白黒2値パターンにおける白領域の透過光の回折の様子を示す図
【図6】図5の透過光のフランホーファ回折の様子を示す図
【図7】上述した白領域の幅の増大補正方法における具体例を示す図
【符号の説明】
2 被測定体
12 投影光学系
14 投影格子(パターン投影計測用格子)
16 投影レンズ
20 支持フレーム
22 観測光学系
24 観測用基準格子(パターン投影計測用格子)
26 撮影レンズ
Pg 仮想基準格子面
Claims (5)
- 白黒2値パターンで構成された疑似正弦波濃度分布を有するパターン投影計測用格子において、
前記白黒2値パターンが、正弦波の全振幅各1周期分を8つ以上の所定の区分で分割するとともに、これら各区分内を、該区分内における前記正弦波の面積と該正弦波の全振幅に等しい矩形波の面積との比率に応じて白領域と黒領域とに領域分けすることにより構成されてなることを特徴とするパターン投影計測用格子。 - 前記白黒2値パターンが、投影計測用レンズの解像力では分解できない密度で形成されていることを特徴とする請求項1記載のパターン投影計測用格子。
- 前記各区分内における白領域と黒領域との領域分けが、白または黒の帯状領域を前記矩形波と前記正弦波との差分領域の重心付近を通るように形成することにより行われていることを特徴とする請求項1または2記載のパターン投影計測用格子。
- 前記白黒2値パターンが、前記全振幅各1周期分において前記正弦波が最小となる角度の位置に関して対称で、かつ、前記全振幅各1周期分において前記正弦波が最大となる角度の位置と前記最小となる角度の位置との中央の位置に関して白黒が反転したパターンに設定されていることを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1項記載のパターン投影計測用格子。
- 前記白領域と前記黒領域とが帯状に領域分けされており、
前記白領域の幅が、該白領域を透過する光の回折度合に応じて、前記比率で設定される幅よりも広い幅に補正されていることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか1項記載のパターン投影計測用格子。
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