JP4002471B2 - Test equipment - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置の試験方法及び試験装置に関し、更に詳しくは、半導体記憶装置等の半導体装置の動作テストを行う半導体装置の試験方法及び試験装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ICやメモリなどの半導体装置は、半導体装置の試験装置によって所望の性能を有するか否かがテストされる。試験装置は、所定パターンのテスト信号を、テスト対象の半導体装置にピンを介して入力し、半導体装置からの出力が、入力したテスト信号に基づく所望の信号であるか否かをチェックすることで、半導体装置が良品であるか否かを判断する。
【0003】
図5は、従来の半導体装置の試験装置の構成をブロック図として示している。試験装置10は、出力可変遅延回路12、比較可変遅延回路13、出力回路14、及び、比較回路15をそれぞれテスト対象の半導体装置のピンの数(n)と同数を備え、更に、信号生成回路11と、判定回路21と、調整回路25とを備える。テスト対象の半導体装置30のn個のピンは、対応する出力回路14及び比較回路15に接続される。
【0004】
信号生成回路11は、所定パターンに基づくテスト信号及びストローブ信号を生成する。信号生成回路11が生成したテスト信号は、出力可変遅延回路12で遅延され、ドライバなどの出力回路14を介して半導体装置30に入力される。テスト信号に基づく半導体装置30の出力は、比較可変遅延回路13によって遅延されたストローブ信号のタイミングで、コンパレータなどの比較回路15において2値化され、判定回路21に入力される。判定回路21は、比較回路15からの入力が、テスト信号のパターンによって定まる所定の期待値と同じであるか否かを判定する。
【0005】
図6は、各ピンにおける信号の波形を示し、(a)はタイミング調整前の波形を、(b)はタイミング調整後の波形を示している。一般に、出力可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13の遅延量を調整しないときには、テスト信号が半導体装置30に入力されるタイミング、及び、ストローブ信号が比較回路15に入力されるタイミングは、配線長やノイズ等の影響により、ピン毎に異なったタイミングとなり、同図(a)に示すようにスキューが生じる。出力可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13は、その遅延量を調整回路25によって制御され、テスト信号及びストローブ信号のスキューを調整する。同図(b)に示すように、調整後のテスト信号は同じタイミングで半導体装置30の各ピンに、また、調整後のストローブ信号は同じタイミングで各比較回路15に供給される。半導体装置30の各入出力ピンから各比較回路15までの信号経路間に配線遅延のばらつきがある場合には、この区間の信号経路に可変遅延回路を設けて、半導体装置30の出力信号のスキュー調整を行なうこともできる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、半導体装置30のテストでは、数千、数万サイクルといった高周波数のテスト信号及びストローブ信号が使用されるため、テスト信号及びストローブ信号には遅延要素だけでなく、熱やテストパターンなどに依存するある分布を持ったジッタが存在する。また、このジッタの分布幅は一定ではなく、ピン毎に異なった幅となることが多い。このため、調整回路25が出力可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13を調整し、テスト信号及びストローブ信号が入力されるタイミングを、全てのピンについて同じタイミングに調整した場合であっても、ジッタによるゆらぎの分のタイミングずれを調整することはできない。
【0007】
図7は、半導体装置のクロック信号(CLK)に対するアドレス/データピンのセットアップ試験をタイミングチャートとして示している。半導体装置30では、CLK等が入力されるピンを基準に、図中点線で示すラッチタイミングで、アドレス/データピンのデータがラッチされる。アドレス/データピンに入力される各テスト信号は、同図に示すように、ある分布幅のジッタを有している。
【0008】
図7において、半導体装置30のテスト結果が最悪条件になるのは、テスト信号が最も遅れたサイクルとなるとき、つまり、同図に示すジッタ分布幅の右端に位置したサイクルとなる。この場合、半導体装置30が良品と判断されるためには、テスト信号が入力されるジッタの右端の時刻から、ラッチタイミングの時刻までの間の時間内にセットアップを完了する必要がある。このため、半導体装置30がセットアップに要する時間が所定の規定時間以内であっても、入力されるテスト信号が遅れることによって、不良品と判断される可能性が高くなるという問題がある。
【0009】
また、テスト信号のジッタ分布幅が、ピン毎に異なる幅である場合には、分布幅が最も狭いテスト信号を入力するピンが最も緩くテストされ、分布幅が最も広いテスト信号を入力するピンが最も厳しくテストされることになる。半導体装置30の品質を保証するためには、緩くテストされるピンでも、半導体装置の要求仕様を満たすようにテスト規格を決定しなければならず、厳しいピンは、要求仕様よりも厳しい規格でテストされることになり、半導体装置自体は良品である場合にもかかわらず不良品と判断され、これによって半導体装置の歩留りの低下を招くという問題があった。
【0010】
本発明は、上記問題を解消し、半導体装置の試験装置の信号経路で生じる、ピン毎に異なる分布幅を有するテスト信号及びストローブ信号のジッタが、半導体装置のテスト結果に与える影響を低減する半導体装置の試験方法及び試験装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の半導体装置の試験装置は、所定パターンに基づく複数の試験用信号を生成する信号生成回路を備え、前記複数の試験用信号間のスキュー調整を行った上で、被試験半導体装置のテストを行う試験装置において、前記試験用信号の複数サイクルについてサンプリングを行ってジッタ分布幅を測定し、前記ジッタ分布で最も早く立ち上がる試験用信号に基づく第1のスキュー調整用キャリブレーションデータと、前記ジッタ分布で最も遅く立ち上がる試験用信号に基づく第2のスキュー調整用キャリブレーションデータとを取得するキャリブレーションデータ取得回路と、前記被試験半導体装置における基準信号に基づくラッチタイミングと、前記被試験半導体装置の入出力ピンから入出力される入出力信号のデータが前記ラッチタイミングの直前で反転する第1のタイミングとの間の時間差を第1の時間差とし、前記ラッチタイミングと、前記入出力信号のデータが前記ラッチタイミングの直後で反転する第2のタイミングとの間の時間差を第2の時間差として、前記第1の時間差が前記第2の時間差よりも小さいときには前記第1のスキュー調整用キャリブレーションデータを選択し、前記第2の時間差が前記第1の時間差よりも小さいときには前記第2のスキュー調整用キャリブレーションデータを選択するキャリブレーションデータ選択回路とを備えたことを特徴とする。
【0012】
本発明の試験装置では、前記第1のスキュー調整用キャリブレーションデータは、前記ジッタ分布で最も早く立ち上がる前記試験用信号が、立ち上がり前と立ち上がり後のレベルとの中間レベルとなるタイミングについて取得される構成を使用できる。また、前記第2のスキュー調整用キャリブレーションデータは、前記ジッタ分布で最も遅く立ち上がる前記試験用信号が、立ち上がり前と立ち上がり後のレベルとの中間レベルとなるタイミングについて取得される構成を採用できる。
【0013】
本発明の試験装置では、前記キャリブレーションデータ取得回路は、前記試験用信号の立ち上がり前のレベルと立ち上がり後のレベルとの中間レベルにおいて、前記ジッタ分布の中央であるタイミングに基づく第3のスキュー調整用キャリブレーションデータを取得する構成を採用できる。
【0014】
本発明の試験装置では、前記試験用信号は、前記被試験半導体装置に入力されるテスト信号である構成を採用できる。また、前記試験用信号が、前記被試験半導体装置から出力される信号の2値化タイミングを定めるストローブ信号である構成を採用できる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照し、本発明の実施形態例に基づいて、本発明を更に詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態例の半導体装置の試験装置の構成をブロック図として示している。半導体装置の試験装置10は、出力可変遅延回路12、比較可変遅延回路13、出力回路14、比較回路15、リレー22、リレー23、及び、リレー24をテスト対象の半導体装置のピンの数(n)と同数だけ備え、更に、信号生成回路11と、判定回路21と、キャリブレーションデータ選択回路16と、キャリブレーションデータ記憶装置17と、キャリブレーションデータ取得回路18と、基準出力回路20とを備える。テスト対象の半導体装置30のn個の入出力ピンは、対応する出力回路14及び比較回路15に接続される。
【0023】
信号生成回路11は、所定パターンに基づくテスト信号及びストローブ信号を生成する。信号生成回路11が生成したテスト信号は、出力可変遅延回路13で遅延され、ドライバなどの出力回路14を介して半導体装置30に入力される。テスト信号に基づく半導体装置30の出力はコンパレータなどの比較回路15において、比較可変遅延回路13によって遅延されたストローブ信号のタイミングで2値化され、判定回路21に入力される。判定回路21は、比較回路15から入力された信号が、テスト信号のパターンによって定まる所定の期待値と同じであるか否かを判定する。
【0024】
測定器19は、半導体装置30に入力されるテスト信号の波形や、基準出力回路20が出力する所定周期のパルス性信号の波形をオシロスコープ等によって観測する。キャリブレーションデータ取得回路18は、測定器19の測定結果や判定装置21における比較回路15の出力の判定結果に基づいて、テスト信号及びストローブ信号のジッタ及びスキューを把握する。また、キャリブレーションデータ取得回路18は、把握したテスト信号及びストローブ信号のジッタ及びスキューに基づいて、各出力可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13の遅延量を制御し、それらの遅延量をキャリブレーションデータとして取得する。
【0025】
キャリブレーション取得回路18が取得するキャリブレーションデータには、テスト信号及びストローブ信号のそれぞれについて、後述する3つのデータがある。各キャリブレーションデータは、キャリブレーションデータ記憶装置17に記憶される。キャリブレーションデータ選択回路16は、半導体装置30のテストに際して、キャリブレーションデータ記憶装置17に記憶されている3つのキャリブレーションデータから何れか1つを選択して、比較可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13の遅延量を制御する。
【0026】
図2は、測定器19で観測される波形の一例を示し、(a)はタイミング調整前の波形を、(b)、(c)、(d)はそれぞれタイミング調整後の波形を示している。以下、図1及び図2を参照して、上記した3つのキャリブレーションデータについて説明する。テスト信号についてのキャリブレーションデータを取得する場合には、図1の各リレー24をONにして、測定器19が、半導体装置30の各ピンにおけるテスト信号を観測する。観測されたテスト信号の波形は、図2(a)に示すように、ピン毎にジッタ及びスキューが生じている。測定器19は、テスト信号を複数回数サンプリングして、各ピンにおけるスキューの量、及び、ジッタの分布幅を測定し、その測定結果をキャリブレーションデータ取得回路18に入力する。
【0027】
キャリブレーションデータ取得回路18は、入力されたジッタの分布幅、及び、スキューの量に基づいて、テスト信号の所定のポイント(ジッタ幅における所定比率位置)が、基準となる基準タイミングと同じになるように、各可変遅延回路12の遅延量を制御してスキュー調整を行う。所定のポイントには、以下の3つのポイントがある。第1のポイントは、テスト信号が最も早く立ち上がるサイクルでの、テスト信号の立ち上がり前(Lレベル)と立ち上がり後(Hレベル)との中間(50%)のポイントであり、第2のポイントは、テスト信号のLレベルとHレベルの中間におけるジッタ分布幅の中央のポイントであり、第3のポイントは、テスト信号が最も遅く立ち上がるサイクルでのLレベルとHレベルの中間のポイントである。基準タイミングは、基準出力回路20が出力する周期性パルス信号である基準周期性信号を用いて生成される。
【0028】
第1のポイントでスキューを調整すると、図2(b)に示すように、各ピンにおけるテスト信号が最も早く立ち上がるサイクル(紙面向かって左端、以下単に左端)が同じタイミングになる。同様に、第2のポイントでスキューを調整すると、図2(c)に示すように、テスト信号は、そのジッタの分布幅の中央が同じタイミングになり、第3のポイントでスキューを調整すると、同図(d)に示すように、テスト信号は最も遅く立ち上がるサイクル(紙面向かって右端、以下単に右端)が同じタイミングになる。スキュー調整によって調整された各比較可変遅延回路13の遅延量は、3つのポイント毎に区分して、テスト信号のキャリブレーションデータとしてキャリブレーションデータ記憶装置17に記憶される。
【0029】
ストローブ信号についてのキャリブレーションデータを取得する場合には、図1の各リレー23をONにして、基準出力回路20が出力する基準周期性信号を、比較回路15に入力する。比較可変遅延回路13は、微小時間間隔でストローブ信号に与える遅延量を変化し、タイミング変化させたストローブ信号を比較回路15に供給する。判定回路21は、ストローブ信号のタイミングで2値化された周期性信号を入力し、2値化された信号の信号変化点と、基準周期性信号の信号変化点との時間比較を複数回行なって、ストローブ信号のスキュー及びジッタを把握する。
【0030】
キャリブレーションデータ取得回路18は、判定回路21が把握したジッタの分布幅、及び、スキューの量に基づいて、テスト信号と同様な前述の3つのポイントが、同じタイミングになるような、各比較可変遅延回路13の遅延量を取得する。取得された各比較可変遅延回路13の遅延量は、3つのポイント毎に区分して、ストローブ信号についてのキャリブレーションデータとして、キャリブレーションデータ記憶装置17に記憶される。
【0031】
図3は、図1の半導体装置の試験装置の動作手順をフローチャートとして示している。以下、図1から図3を参照して本発明の一実施形態例の半導体装置の試験方法について説明する。半導体装置の試験に際して、キャリブレーションデータ取得回路18は、それぞれのピンにおけるストローブ信号のジッタ分布幅の、右端(図2(b))を合わせるキャリブレーションデータ、中央(図2(c))を合わせるキャリブレーションデータ、及び、左端(図2(d))を合わせるキャリブレーションデータを取得し、そのそれぞれについてキャリブレーションデータ記憶装置17に記憶する(図3のステップS1)。テスト信号についても同様に、キャリブレーションデータ取得回路18は、それぞれのピンにおけるジッタ分布幅の右端、中央、及び、左端を合わせるキャリブレーションデータを取得し、そのそれぞれについてキャリブレーションデータ記憶装置17に記憶する(ステップS2)。
【0032】
試験装置10のオペレータは、テスト信号のパターンを定めるテストプログラム等のテスト条件に応じて、条件設定ファイル又はスイッチ等を設定し、テスト信号及びストローブ信号のそれぞれについて、取得したキャリブレーションデータの中から、テストに使用するキャリブレーションデータを選択する(ステップS3)。出力可変遅延回路12及び比較可変遅延回路13は、キャリブレーションデータ選択回路16が選択した、右端、中央、又は、左端の何れかを合わせるキャリブレーションデータに従い、遅延量を制御する(ステップS4)。テスト対象の半導体装置30は、適切な遅延量によって制御されたテスト信号及びストローブ信号によって、テストが行われる(ステップS5)。
【0033】
本実施形態例では、半導体装置の試験装置10のテスト信号を出力回路14に入力する信号経路、又は、ストローブ信号を比較回路15に入力する信号経路に発生する、各信号にピン毎に一定ではない分布幅を有するジッタを、その分布幅の右端、中央、左端の何れかのポイントが同じタイミングになるように調整する。このため、高いタイミング精度が要求される半導体装置のテストにおいて、精度の良いテストが可能となり、ジッタが半導体装置のテスト結果に与える影響を低減することができる。また、タイミング精度が悪いことを考慮して良品となる規格値を厳しくする必要がなくなるため、テスト対象の半導体装置の歩留りが向上する。
【0034】
上記実施形態例では、試験装置10のオペレータが、使用するキャリブレーションデータを選択する例を説明したが、キャリブレーションデータは、試験装置10が、テスト信号の波形モード(モジュレーション)を自動認識し、その波形モードについてあらかじめ対応付けて設定されたキャリブレーションデータを選択しても良い。また、試験装置10は、右端、中央、及び、左端の3つのキャリブレーションデータのそれぞれについてテストを行い、3つのうちで歩留り、派生などの特性が最もよくなるデータを自動的に評価し、その評価結果に基づいてキャリブレーションデータを選択することもできる。
【0035】
3つのうち、何れのキャリブレーションデータを使用するかの選択は、アドレス/データピンのデータをラッチするラッチタイミングと、アドレス/データピンにおけるデータの反転タイミングとのタイミング差によって行うこともできる。図4は、半導体装置のクロック信号(CLK)に対するアドレス/データピンのセットアップ試験をタイミングチャートとして示している。図中点線で示すラッチタイミングは、CLK等が入力されるピンを基準にして決定される。同図の例では、ラッチタイミングは、クロック信号の立ち下がりエッジが50%になるタイミングである。
【0036】
アドレス/データピンにおいて、ラッチタイミングと、ジッタがないとした場合にラッチタイミングの直前でデータが反転するタイミングである図4中Aのタイミングとの差を時間aとする。また、ラッチタイミングと、ジッタがないとした場合にラッチタイミングの直後でデータが反転するタイミングである同図中Bのタイミングとの差を時間bとする。半導体装置30の試験に際しては、テストプログラムに基づいて定まる時間aと時間bとを比較し、以下に示す条件に従ってテスト信号及びストローブ信号について使用するキャリブレーションデータを選択する。
a<bのとき:右端を合わせるキャリブレーションデータ
a=bのとき:中央を合わせるキャリブレーションデータ
a>bのとき:左端を合わせるキャリブレーションデータ
このように、時間aと時間bの大小関係によって使用するキャリブレーションデータを選択することで、精度が高いテストを行うことができる。
【0037】
なお、上記したキャリブレーションデータの選択は、全てのピンについてジッタ分布幅の右端、中央、又は、左端を基準タイミングに合わせても良いし、あるピンは右端を基準タイミングに合わせ、他のピンでは左端を基準タイミングに合わせてもよい。また、上記の例では、テストプログラムに基づいて定まる時間aと時間bとを比較して、使用するキャリブレーションデータを選択したが、これに代えて、ラッチタイミングから、ラッチタイミングの直前でアドレス/データピンのデータの反転が最も進んだサイクル(ジッタの右端)となる変化点のタイミングまでの時間差を時間a’とし、ラッチタイミングと、ラッチタイミングの直後でアドレス/データピンのデータの反転が最も遅れたサイクル(ジッタの左端)となる変化点のタイミングまで時間差を時間b’として、ピン毎に時間a’と時間b’とを測定し、その時間の大小関係に基づいて、ピン毎に右端、中央、又は、左端を同じタイミングに合わせるキャリブレーションデータを選択することもできる。また、ジッタ分布幅や信号の変化点などは、HレベルとLレベルの中間(50%)の値を用いて定める例を説明したが、これに限られず、HレベルとLレベルの50%意外の値を採用することもできる。
【0038】
以上、本発明をその好適な実施形態例に基づいて説明したが、本発明の半導体装置の試験方法及び試験装置は、上記実施形態例にのみ限定されるものでなく、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施した半導体装置の試験方法及び試験方法も、本発明の範囲に含まれる。例えば、測定器19には、オシロスコープ以外に、半導体装置の試験装置内のコンパレータを使用することもできる。
【0039】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の半導体装置の試験方法及び試験装置は、テスト信号又はストローブ信号が、そのジッタ分布幅の所定比率位置が同じタイミングになるようにスキューを調整される。このため、テスト信号又はストローブ信号のジッタがテスト対象の半導体装置のテスト結果に与える影響を低減でき、テスト信号又はストローブ信号が、ジッタによって最も進んだタイミングで供給されるとき、又は、最も遅れたタイミングで供給されるときにクリティカルとなるテスト項目の精度が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態例の半導体装置の試験装置の構成を示すブロック図。
【図2】テスト対象の半導体装置の各ピンにおける、(a)は調整前、(b)はジッタの左端で調整したきの、(c)はジッタの中央で調整したときの、(d)ジッタの右端で調整したときの信号波形をそれぞれ示すタイミングチャート。
【図3】本発明の一実施形態例の半導体装置の試験方法の手順を示すフローチャート。
【図4】基準ピンとアドレス/データピンの信号波形を示すタイミングチャート。
【図5】従来の半導体装置の試験装置の構成を示すブロック図。
【図6】テスト対象の半導体装置の各ピンにおける、(a)はスキュー調整前の、(b)はスキュー調整後の信号波形をそれぞれ示すタイミングチャート。
【図7】基準ピンとアドレス/データピンの信号波形を示すタイミングチャート。
【符号の説明】
10:半導体試験装置
11:信号生成回路
12:出力可変遅延回路
13:比較可変遅延回路
14:出力回路
15:比較回路
16:キャリブレーションデータ選択回路
17:キャリブレーションデータ記憶装置
18:キャリブレーションデータ取得回路
19:測定器
20:基準出力回路
21:判定回路
22、23、24:リレー
25:調整回路
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a test method and a test apparatus for a semiconductor device, and more particularly to a test method and a test apparatus for a semiconductor device for performing an operation test on a semiconductor device such as a semiconductor memory device.
[0002]
[Prior art]
Whether a semiconductor device such as an IC or a memory has a desired performance is tested by a semiconductor device testing apparatus. The test apparatus inputs a test signal of a predetermined pattern to the semiconductor device to be tested via a pin, and checks whether the output from the semiconductor device is a desired signal based on the input test signal. Then, it is determined whether or not the semiconductor device is a non-defective product.
[0003]
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor device testing apparatus. The test apparatus 10 includes the output variable delay circuit 12, the comparison variable delay circuit 13, the output circuit 14, and the comparison circuit 15 as many as the number (n) of pins of the semiconductor device to be tested, and further includes a signal generation circuit. 11, a determination circuit 21, and an adjustment circuit 25. The n pins of the semiconductor device 30 to be tested are connected to the corresponding output circuit 14 and comparison circuit 15.
[0004]
The signal generation circuit 11 generates a test signal and a strobe signal based on a predetermined pattern. The test signal generated by the signal generation circuit 11 is delayed by the output variable delay circuit 12 and input to the semiconductor device 30 via the output circuit 14 such as a driver. The output of the semiconductor device 30 based on the test signal is binarized by the comparison circuit 15 such as a comparator at the timing of the strobe signal delayed by the comparison variable delay circuit 13 and input to the determination circuit 21. The determination circuit 21 determines whether or not the input from the comparison circuit 15 is the same as a predetermined expected value determined by the test signal pattern.
[0005]
FIG. 6 shows the waveform of the signal at each pin, (a) shows the waveform before timing adjustment, and (b) shows the waveform after timing adjustment. In general, when the delay amounts of the output variable delay circuit 12 and the comparison variable delay circuit 13 are not adjusted, the timing at which the test signal is input to the semiconductor device 30 and the timing at which the strobe signal is input to the comparison circuit 15 are the wiring length. Due to the influence of noise and the like, the timing differs for each pin, and skew occurs as shown in FIG. The output variable delay circuit 12 and the comparison variable delay circuit 13 have their delay amounts controlled by the adjustment circuit 25 to adjust the skew of the test signal and the strobe signal. As shown in FIG. 5B, the adjusted test signal is supplied to each pin of the semiconductor device 30 at the same timing, and the adjusted strobe signal is supplied to each comparison circuit 15 at the same timing. When there is variation in wiring delay between signal paths from each input / output pin to each comparison circuit 15 of the semiconductor device 30, a variable delay circuit is provided in the signal path in this section to skew the output signal of the semiconductor device 30. Adjustments can also be made.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the test of the semiconductor device 30, test signals and strobe signals having high frequencies such as thousands and tens of thousands of cycles are used. Therefore, the test signals and strobe signals depend not only on delay elements but also on heat and test patterns. There is jitter with a certain distribution. In addition, the jitter distribution width is not constant, and is often different for each pin. For this reason, even when the adjustment circuit 25 adjusts the output variable delay circuit 12 and the comparison variable delay circuit 13 and the timing at which the test signal and the strobe signal are input is adjusted to the same timing for all pins, the jitter It is not possible to adjust the timing deviation due to fluctuations.
[0007]
FIG. 7 is a timing chart showing a setup test of address / data pins with respect to the clock signal (CLK) of the semiconductor device. In the semiconductor device 30, the data of the address / data pin is latched at the latch timing indicated by the dotted line in FIG. Each test signal input to the address / data pin has jitter with a certain distribution width as shown in FIG.
[0008]
In FIG. 7, the test result of the semiconductor device 30 becomes the worst condition when the test signal is the most delayed cycle, that is, the cycle located at the right end of the jitter distribution width shown in FIG. In this case, in order to determine that the semiconductor device 30 is a non-defective product, it is necessary to complete the setup within a time period from the right end time of the jitter at which the test signal is input to the latch timing time. For this reason, even if the time required for the semiconductor device 30 to be set up is within a predetermined specified time, there is a problem that the possibility of being judged as a defective product increases due to the delay of the input test signal.
[0009]
If the jitter distribution width of the test signal is different for each pin, the pin that inputs the test signal with the narrowest distribution width is tested most loosely, and the pin that inputs the test signal with the widest distribution width is It will be the most severely tested. In order to guarantee the quality of the semiconductor device 30, a test standard must be determined so as to satisfy the required specification of the semiconductor device even with a pin that is loosely tested. As a result, the semiconductor device itself is judged as a defective product even when it is a non-defective product, which causes a problem that the yield of the semiconductor device is reduced.
[0010]
The present invention solves the above-described problems and reduces the influence of jitter of test signals and strobe signals having different distribution widths for each pin generated in the signal path of the test apparatus of the semiconductor device on the test results of the semiconductor device. It is an object to provide a test method and a test apparatus for an apparatus.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a semiconductor device test apparatus according to the present invention includes a signal generation circuit that generates a plurality of test signals based on a predetermined pattern, and performs skew adjustment between the plurality of test signals. In the test apparatus for testing the semiconductor device under test, the first skew adjustment based on the test signal that rises earliest in the jitter distribution is performed by sampling a plurality of cycles of the test signal to measure the jitter distribution width. Calibration data acquisition circuit for acquiring calibration data for calibration and second calibration data for skew adjustment based on a test signal that rises the latest in the jitter distribution, and latch timing based on a reference signal in the semiconductor device under test And input / output signals input / output from the input / output pins of the semiconductor device under test A time difference between the first timing at which data is inverted immediately before the latch timing is defined as a first time difference, and the latch timing and a second timing at which data of the input / output signal is inverted immediately after the latch timing. The second time difference is a second time difference. When the first time difference is smaller than the second time difference, the first skew adjustment calibration data is selected, and the second time difference is the first time difference. And a calibration data selection circuit for selecting the second skew adjustment calibration data when the time difference is smaller than.
[0012]
In the test apparatus of the present invention, the first skew adjustment calibration data is acquired at a timing at which the test signal rising fastest in the jitter distribution becomes an intermediate level between the level before rising and the level after rising. Configuration can be used. The second skew adjustment calibration data may employ a configuration in which the test signal that rises the latest in the jitter distribution is acquired at a timing that is an intermediate level between the level before rising and the level after rising.
[0013]
In the test apparatus of the present invention, the calibration data acquisition circuit includes a third skew adjustment based on a timing that is the center of the jitter distribution at an intermediate level between the level before the rise of the test signal and the level after the rise. It is possible to adopt a configuration for acquiring calibration data for the printer.
[0014]
In the test apparatus of the present invention, the test signal may be a test signal input to the semiconductor device under test. The test signal may be a strobe signal that determines the binarization timing of the signal output from the semiconductor device under test.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, with reference to the drawings, the present invention will be described in more detail based on exemplary embodiments of the present invention. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a semiconductor device test apparatus according to an embodiment of the present invention. The semiconductor device test apparatus 10 includes an output variable delay circuit 12, a comparison variable delay circuit 13, an output circuit 14, a comparison circuit 15, a relay 22, a relay 23, and a relay 24, the number of pins (n ), And further includes a signal generation circuit 11, a determination circuit 21, a calibration data selection circuit 16, a calibration data storage device 17, a calibration data acquisition circuit 18, and a reference output circuit 20. . The n input / output pins of the semiconductor device 30 to be tested are connected to the corresponding output circuit 14 and comparison circuit 15.
[0023]
The signal generation circuit 11 generates a test signal and a strobe signal based on a predetermined pattern. The test signal generated by the signal generation circuit 11 is delayed by the output variable delay circuit 13 and input to the semiconductor device 30 via the output circuit 14 such as a driver. The output of the semiconductor device 30 based on the test signal is binarized at the timing of the strobe signal delayed by the comparison variable delay circuit 13 in the comparison circuit 15 such as a comparator, and is input to the determination circuit 21. The determination circuit 21 determines whether or not the signal input from the comparison circuit 15 is the same as a predetermined expected value determined by the test signal pattern.
[0024]
The measuring instrument 19 observes the waveform of the test signal input to the semiconductor device 30 and the waveform of the pulse signal having a predetermined cycle output from the reference output circuit 20 with an oscilloscope or the like. The calibration data acquisition circuit 18 grasps the jitter and skew of the test signal and the strobe signal based on the measurement result of the measuring device 19 and the determination result of the output of the comparison circuit 15 in the determination device 21. The calibration data acquisition circuit 18 controls the delay amounts of the output variable delay circuit 12 and the comparison variable delay circuit 13 based on the grasped jitter and skew of the test signal and the strobe signal, and calibrates these delay amounts. To obtain as action data.
[0025]
The calibration data acquired by the calibration acquisition circuit 18 includes the following three data for each of the test signal and the strobe signal. Each calibration data is stored in the calibration data storage device 17. The calibration data selection circuit 16 selects any one of the three calibration data stored in the calibration data storage device 17 when the semiconductor device 30 is tested, and the comparison variable delay circuit 12 and the comparison variable delay. The delay amount of the circuit 13 is controlled.
[0026]
FIG. 2 shows an example of a waveform observed by the measuring instrument 19, where (a) shows a waveform before timing adjustment, and (b), (c), and (d) show waveforms after timing adjustment, respectively. . Hereinafter, the three calibration data described above will be described with reference to FIGS. 1 and 2. When acquiring calibration data for a test signal, each relay 24 in FIG. 1 is turned on, and the measuring instrument 19 observes the test signal at each pin of the semiconductor device 30. As shown in FIG. 2A, the observed waveform of the test signal has jitter and skew for each pin. The measuring device 19 samples the test signal a plurality of times, measures the skew amount and the jitter distribution width at each pin, and inputs the measurement results to the calibration data acquisition circuit 18.
[0027]
The calibration data acquisition circuit 18 has a predetermined point (predetermined ratio position in the jitter width) of the test signal at the same reference timing as the reference based on the input jitter distribution width and skew amount. As described above, skew adjustment is performed by controlling the delay amount of each variable delay circuit 12. The predetermined points include the following three points. The first point is an intermediate point (50%) between the rise (L level) and the rise (H level) of the test signal in the cycle in which the test signal rises earliest, and the second point is The third point is an intermediate point between the L level and the H level in the cycle in which the test signal rises most slowly. The reference timing is generated using a reference periodic signal that is a periodic pulse signal output from the reference output circuit 20.
[0028]
When the skew is adjusted at the first point, as shown in FIG. 2B, the cycle in which the test signal at each pin rises earliest (the left end toward the paper surface, hereinafter simply the left end) has the same timing. Similarly, when the skew is adjusted at the second point, as shown in FIG. 2C, the center of the jitter distribution width of the test signal has the same timing, and when the skew is adjusted at the third point, As shown in FIG. 4D, the test signal has the same timing in the cycle in which it rises the latest (the right end toward the paper surface, hereinafter simply the right end). The delay amount of each comparison variable delay circuit 13 adjusted by the skew adjustment is divided into three points and stored in the calibration data storage device 17 as calibration data of the test signal.
[0029]
When acquiring the calibration data for the strobe signal, each relay 23 in FIG. 1 is turned ON, and the reference periodicity signal output from the reference output circuit 20 is input to the comparison circuit 15. The comparison variable delay circuit 13 changes the delay amount given to the strobe signal at a minute time interval, and supplies the strobe signal whose timing is changed to the comparison circuit 15. The determination circuit 21 receives the periodic signal binarized at the timing of the strobe signal, and performs time comparison between the signal change point of the binarized signal and the signal change point of the reference periodic signal a plurality of times. Thus, the skew and jitter of the strobe signal are grasped.
[0030]
Based on the jitter distribution width and the amount of skew grasped by the determination circuit 21, the calibration data acquisition circuit 18 makes each comparison variable so that the above three points similar to the test signal have the same timing. The delay amount of the delay circuit 13 is acquired. The obtained delay amount of each comparison variable delay circuit 13 is divided into three points and stored in the calibration data storage device 17 as calibration data for the strobe signal.
[0031]
FIG. 3 is a flowchart showing an operation procedure of the test apparatus for the semiconductor device of FIG. Hereinafter, a method for testing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. When testing the semiconductor device, the calibration data acquisition circuit 18 matches the calibration data that matches the right end (FIG. 2B) and the center (FIG. 2C) of the jitter distribution width of the strobe signal at each pin. The calibration data and the calibration data for matching the left end (FIG. 2D) are acquired, and each of them is stored in the calibration data storage device 17 (step S1 in FIG. 3). Similarly, for the test signal, the calibration data acquisition circuit 18 acquires calibration data that matches the right end, the center, and the left end of the jitter distribution width at each pin, and stores each of them in the calibration data storage device 17. (Step S2).
[0032]
The operator of the test apparatus 10 sets a condition setting file, a switch, or the like according to test conditions such as a test program that defines a test signal pattern, and from among the acquired calibration data for each of the test signal and the strobe signal. Then, calibration data used for the test is selected (step S3). The output variable delay circuit 12 and the comparison variable delay circuit 13 control the delay amount according to the calibration data selected by the calibration data selection circuit 16 to match any of the right end, the center, or the left end (step S4). The test target semiconductor device 30 is tested by a test signal and a strobe signal controlled by an appropriate delay amount (step S5).
[0033]
In the present embodiment example, each signal generated in the signal path for inputting the test signal of the test apparatus 10 of the semiconductor device to the output circuit 14 or the signal path for inputting the strobe signal to the comparison circuit 15 is not constant for each pin. The jitter having a non-distributed width is adjusted so that any one of the right end, center, and left end of the distribution width has the same timing. For this reason, in a test of a semiconductor device that requires high timing accuracy, a highly accurate test can be performed, and the influence of jitter on the test result of the semiconductor device can be reduced. In addition, since it is not necessary to tighten the standard value that is a non-defective product in consideration of poor timing accuracy, the yield of the semiconductor device to be tested is improved.
[0034]
In the above-described embodiment, the example in which the operator of the test apparatus 10 selects the calibration data to be used has been described. However, the calibration data is automatically recognized by the test apparatus 10 as to the waveform mode (modulation) of the test signal, Calibration data set in advance in association with the waveform mode may be selected. In addition, the test apparatus 10 tests each of the three calibration data at the right end, the center, and the left end, and automatically evaluates data having the best characteristics such as yield and derivation among the three, and evaluates the evaluation. Calibration data can also be selected based on the results.
[0035]
Of the three, the selection of which calibration data to use can be made by the timing difference between the latch timing for latching the data of the address / data pin and the inversion timing of the data at the address / data pin. FIG. 4 is a timing chart showing an address / data pin setup test with respect to the clock signal (CLK) of the semiconductor device. The latch timing indicated by a dotted line in the figure is determined with reference to a pin to which CLK or the like is input. In the example shown in the figure, the latch timing is a timing at which the falling edge of the clock signal becomes 50%.
[0036]
In the address / data pin, the time a is the difference between the latch timing and the timing A in FIG. 4 which is the timing at which data is inverted immediately before the latch timing when there is no jitter. The difference between the latch timing and the timing B shown in the figure, which is the timing at which data is inverted immediately after the latch timing when there is no jitter, is defined as time b. When testing the semiconductor device 30, the time a determined based on the test program is compared with the time b, and calibration data to be used for the test signal and the strobe signal is selected according to the following conditions.
When a <b: Calibration data for matching the right end When a = b: Calibration data for aligning the center When a> b: Calibration data for matching the left end By selecting the calibration data to be performed, a highly accurate test can be performed.
[0037]
The above-mentioned calibration data may be selected by adjusting the right end, the center, or the left end of the jitter distribution width for all pins to the reference timing. The left end may be adjusted to the reference timing. In the above example, the calibration data to be used is selected by comparing the time a and the time b determined based on the test program, but instead of this, the address / The time difference up to the timing of the change point at which the data pin data inversion is most advanced (the right end of jitter) is time a ′, and the inversion of the address / data pin data is the most immediately after the latch timing and the latch timing. Measure time a ′ and time b ′ for each pin, with the time difference as the time b ′ until the timing of the change point that becomes the delayed cycle (the left end of jitter), and the right end for each pin based on the magnitude relationship of the time In addition, it is possible to select calibration data in which the center or the left end is matched with the same timing. In addition, the example in which the jitter distribution width and the signal change point are determined by using an intermediate value (50%) between the H level and the L level has been described. The value of can also be adopted.
[0038]
Although the present invention has been described based on the preferred embodiments thereof, the semiconductor device test method and test apparatus of the present invention are not limited to the above embodiments, and the configuration of the above embodiments. A test method and a test method for a semiconductor device subjected to various modifications and changes are included in the scope of the present invention. For example, the measuring device 19 may be a comparator in a semiconductor device test apparatus in addition to an oscilloscope.
[0039]
【The invention's effect】
As described above, in the semiconductor device test method and test apparatus according to the present invention, the skew of the test signal or the strobe signal is adjusted so that the predetermined ratio position of the jitter distribution width has the same timing. For this reason, the influence of the jitter of the test signal or strobe signal on the test result of the semiconductor device to be tested can be reduced, and when the test signal or strobe signal is supplied at the most advanced timing due to the jitter, or the most delayed Improves accuracy of test items that are critical when supplied at the timing.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a test apparatus for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 2A and 2B show (a) before adjustment, (b) when adjusting at the left end of jitter, and (c) when adjusting at the center of jitter in each pin of the semiconductor device to be tested. The timing chart which shows each signal waveform when adjusting at the right end of jitter.
FIG. 3 is a flowchart showing a procedure of a test method for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a timing chart showing signal waveforms of a reference pin and an address / data pin.
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor device testing apparatus.
6A and 6B are timing charts showing signal waveforms before skew adjustment, and FIG. 6B after skew adjustment, at each pin of a semiconductor device to be tested, respectively.
FIG. 7 is a timing chart showing signal waveforms of a reference pin and an address / data pin.
[Explanation of symbols]
10: Semiconductor test apparatus 11: Signal generation circuit 12: Output variable delay circuit 13: Comparison variable delay circuit 14: Output circuit 15: Comparison circuit 16: Calibration data selection circuit 17: Calibration data storage device 18: Calibration data acquisition Circuit 19: Measuring instrument 20: Reference output circuit 21: Determination circuits 22, 23, 24: Relay 25: Adjustment circuit

Claims (6)

所定パターンに基づく複数の試験用信号を生成する信号生成回路を備え、前記複数の試験用信号間のスキュー調整を行った上で、被試験半導体装置のテストを行う試験装置において、
前記試験用信号の複数サイクルについてサンプリングを行ってジッタ分布幅を測定し、前記ジッタ分布で最も早く立ち上がる試験用信号に基づく第1のスキュー調整用キャリブレーションデータと、前記ジッタ分布で最も遅く立ち上がる試験用信号に基づく第2のスキュー調整用キャリブレーションデータとを取得するキャリブレーションデータ取得回路と、
前記被試験半導体装置における基準信号に基づくラッチタイミングと、前記被試験半導体装置の入出力ピンから入出力される入出力信号のデータが前記ラッチタイミングの直前で反転する第1のタイミングとの間の時間差を第1の時間差とし、前記ラッチタイミングと、前記入出力信号のデータが前記ラッチタイミングの直後で反転する第2のタイミングとの間の時間差を第2の時間差として、前記第1の時間差が前記第2の時間差よりも小さいときには前記第1のスキュー調整用キャリブレーションデータを選択し、前記第2の時間差が前記第1の時間差よりも小さいときには前記第2のスキュー調整用キャリブレーションデータを選択するキャリブレーションデータ選択回路とを備えたことを特徴とする試験装置。
In a test apparatus that includes a signal generation circuit that generates a plurality of test signals based on a predetermined pattern, performs a skew adjustment between the plurality of test signals, and tests a semiconductor device under test .
Sampling for a plurality of cycles of the test signal to measure the jitter distribution width, and the first skew adjustment calibration data based on the test signal that rises earliest in the jitter distribution and the test that rises latest in the jitter distribution A calibration data acquisition circuit for acquiring second calibration data for skew adjustment based on the signal for use;
Between the latch timing based on the reference signal in the semiconductor device under test and the first timing at which the data of the input / output signal input / output from the input / output pin of the semiconductor device under test is inverted immediately before the latch timing. The time difference is the first time difference, the time difference between the latch timing and the second timing at which the data of the input / output signal is inverted immediately after the latch timing is the second time difference, and the first time difference is When the second time difference is smaller than the second time difference, the first skew adjustment calibration data is selected. When the second time difference is smaller than the first time difference, the second skew adjustment calibration data is selected. And a calibration data selection circuit for performing the test.
前記第1のスキュー調整用キャリブレーションデータは、前記ジッタ分布で最も早く立ち上がる前記試験用信号が、立ち上がり前と立ち上がり後のレベルとの中間レベルとなるタイミングについて取得されることを特徴とする、請求項1に記載の試験装置。The first skew adjustment calibration data is acquired at a timing at which the test signal rising fastest in the jitter distribution becomes an intermediate level between a level before rising and a level after rising. Item 2. The test apparatus according to Item 1. 前記第2のスキュー調整用キャリブレーションデータは、前記ジッタ分布で最も遅く立ち上がる前記試験用信号が、立ち上がり前と立ち上がり後のレベルとの中間レベルとなるタイミングについて取得されることを特徴とする、請求項1に記載の試験装置。The second calibration data for skew adjustment is acquired at a timing at which the test signal rising most slowly in the jitter distribution becomes an intermediate level between a level before rising and a level after rising. Item 2. The test apparatus according to Item 1. 前記キャリブレーションデータ取得回路は、前記試験用信号の立ち上がり前のレベルと立ち上がり後のレベルとの中間レベルにおいて、前記ジッタ分布の中央であるタイミングに基づく第3のスキュー調整用キャリブレーションデータを取得することを特徴とする、請求項1に記載の試験装置。The calibration data acquisition circuit acquires third skew adjustment calibration data based on a timing that is the center of the jitter distribution at an intermediate level between a level before rising and a level after rising of the test signal. The test apparatus according to claim 1, wherein: 前記試験用信号は、前記被試験半導体装置に入力されるテスト信号であることを特徴とする、請求項1に記載の試験装置。The test apparatus according to claim 1, wherein the test signal is a test signal input to the semiconductor device under test. 前記試験用信号は、前記被試験半導体装置から出力される信号の2値化タイミングを定めるストローブ信号であることを特徴とする、請求項1に記載の試験装置。2. The test apparatus according to claim 1, wherein the test signal is a strobe signal that determines a binarization timing of a signal output from the semiconductor device under test.
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