JP3984971B2 - Black particle and light absorber using black particle - Google Patents
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Description
本発明は、光を吸収するための光吸収体に関し、基材の大きさ、形状、材質の制限や、光の入射角の制限をなくすための技術に関する。 The present invention relates to a light absorber for absorbing light, and relates to a technique for eliminating restrictions on the size, shape, and material of a substrate and the restriction on the incident angle of light.
例えば、光のパワーを精密測定するための光パワー計では、測定対象の光を受光部で受けて熱に変換し、その熱による温度変化を測定しており、その受光部として光吸収体が用いられている。 For example, in an optical power meter for precisely measuring the power of light, the light to be measured is received by a light receiving part and converted into heat, and the temperature change due to the heat is measured, and a light absorber is used as the light receiving part. It is used.
このような目的で使用される光吸収体は、光の吸収率が高いこと、即ち、反射率が低いことが要求される。 The light absorber used for such a purpose is required to have a high light absorption rate, that is, a low reflectance.
現在、光の吸収率が最も高い光吸収体として、基板の表面にNiP(ニッケル・リン)合金をメッキし、そのNiP合金の皮膜をエッチング処理して光を吸収するための微細な凹凸を形成(黒化という)したものが多く用いられている(特許文献1)。 Currently, NiP (nickel-phosphorus) alloy is plated on the surface of the substrate as the light absorber with the highest light absorption rate, and the NiP alloy film is etched to form fine irregularities for absorbing light. Many (blackened) are used (Patent Document 1).
このように形成された光吸収体の光反射率は、広い波長帯域で0.1〜0.4%が得られている。 The light reflectance of the light absorber thus formed is 0.1 to 0.4% in a wide wavelength band.
しかし、上記のように、光吸収体自身の基材に対するメッキ処理とエッチング処理を行なって所望の光吸収体を製造する方法では、製造できる光吸収体の大きさ、形状、材質に制限を受ける。 However, as described above, the method of manufacturing a desired light absorber by performing plating and etching on the base material of the light absorber itself is limited by the size, shape, and material of the light absorber that can be manufactured. .
即ち、基本的にメッキ槽やエッチング槽より大きな光吸収体を作ることができず、また、顕微鏡、望遠鏡等のように筒状の基材の内壁面に光吸収層を形成したり、あるいは幅の狭い溝等がある場合、筒内や溝内にメッキ液やエッチング液を流動させることが困難となり、製造品質が大きくばらついてしまう。 That is, it is basically impossible to make a light absorber larger than a plating tank or an etching tank, and a light absorbing layer is formed on the inner wall surface of a cylindrical base material such as a microscope or a telescope, When there is a narrow groove or the like, it becomes difficult to flow the plating solution or the etching solution into the cylinder or the groove, and the manufacturing quality greatly varies.
また、光吸収体の基材としては、メッキ処理やエッチング処理に耐えられるように硬質で変形しないものに限定されてしまい、例えば紙や布等のように可撓性を有するシート材を基材とする光吸収体を作ることができなかった。 Further, the base material of the light absorber is limited to a hard and non-deformable material that can withstand the plating process and the etching process. For example, a flexible sheet material such as paper or cloth is used as the base material. It was not possible to make a light absorber.
また、別の問題として、光の吸収率が高い入射角が限定されるという問題がある。即ち、図13に示すように、基材1の表面にメッキされた皮膜2はエッチング処理によってその厚さ方向に浸食されるため、微細な凹凸2aが基材1の表面に直交する方向にほぼ沿って山形に形成されるので、その基材1の表面に直交する方向に入射する光Aは谷部に深く進入して吸収されるので反射率は非常に低くなるが、基材1の表面に対して浅い角度で入射する光A′は、各山部の先端側斜面で入射方向に反射されて谷部に進入できないので、反射率が高くなってしまう。つまり、吸収する光の入射角の範囲に制限を受ける。
Another problem is that the incident angle with high light absorption is limited. That is, as shown in FIG. 13, the
本発明は、これらの問題を解決し、吸収しようとする光の入射角の制限や、基材の大きさや形状、材質による制限のない光吸収を実現できる黒色粒子および光吸収体を提供することを目的としている。 The present invention provides to solve these problems, limitations and the angle of incidence of the light to be absorbed, the size and shape of the substrate, the black particles child Contact and light absorber can achieve unrestricted light absorption by the material The purpose is to do.
前記目的を達成するために、本発明の請求項1の黒色粒子は、
粒状の核体(21)の表面に光を吸収するための微細な凹凸(22a)が前記核体を中心にして放射状に形成されている黒色粒子において、
前記微細な凹凸が、前記核体の表面にメッキされたニッケル・リン合金に対するエッチング処理によって形成されていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the black particles of
In the black particles in which fine irregularities (22a) for absorbing light are formed radially on the surface of the granular nuclei (21) ,
The fine irregularities are formed by etching a nickel-phosphorus alloy plated on the surface of the core .
また、本発明の請求項2の黒色粒子は、請求項1記載の黒色粒子において、
一つの粒子内に前記核体が複数含まれていることを特徴としている。
The black particles according to
A plurality of the nuclei are contained in one particle.
また、本発明の請求項3の光吸収体は、
基材の所定面に前記請求項1または請求項2記載の黒色粒子が接着されている。
The light absorber of
また、本発明の請求項4の光吸収体は、請求項3記載の光吸収体において、
前記黒色粒子が前記基材の曲面または凹凸面に接着されている。
Moreover, the light absorber of
The black particles are bonded to the curved or uneven surface of the substrate.
また、本発明の請求項5の光吸収体は、請求項3記載の光吸収体において、
前記黒色粒子が、可撓性を有するシート状の基材の表面に接着されている。
The light absorber according to
The black particles are bonded to the surface of a flexible sheet-like substrate.
このように、本発明の黒色粒子は、粒状の核体の表面に光を吸収するための微細な凹凸が核体を中心にして放射状に形成されているので、この黒色粒子を基材の所定面に接着することで、任意の大きさ、形状、材質で、あらゆる方向からの光の吸収が可能な光吸収体を構成することができる。 As described above, the black particles of the present invention have fine irregularities for absorbing light on the surface of the granular nuclei formed radially around the nuclei. By adhering to the surface, a light absorber capable of absorbing light from any direction can be configured with any size, shape, and material.
また、核体が小さい場合、一つの粒子に複数の核体が含まれた黒色粒子が得られる場合があり、このような黒色粒子であっても、その表面に形成された微細な凹凸により、光を効率よく吸収する。 In addition, when the nuclei are small, there may be obtained black particles containing a plurality of nuclei in one particle, even with such black particles, due to fine irregularities formed on the surface, Absorbs light efficiently.
また、微細な凹凸を核体の表面にメッキされたニッケル・リン合金に対するエッチング処理によって形成したものでは、あらゆる方向からの入射光に対して極めて低い反射率が得られる。 In addition, in the case where fine irregularities are formed by etching a nickel-phosphorus alloy plated on the surface of the core, extremely low reflectance can be obtained with respect to incident light from all directions.
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
図1は、実施形態の黒色粒子の製造工程を示す図である。この図にしたがって、黒色粒子の製造工程を説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
始めに、図1の(a)のように、多数の粒状の核体21を用意する。
この核体21は、金属、セラミックス、ガラス、あるいはプラスチック等のいずれかで、例えば、直径5μm〜5ミリ程度の球状に形成されたものである。
First, as shown in FIG. 1A, a large number of
The
なお、この核体21の大きさは、黒色粒子を接着して構成する光吸収体の表面の大きさや凹凸等に応じて決定し、形状は点対称の真球が好ましいが、楕円球、多面体等であってもよい。
The size of the
次に、核体21の材質に応じてメッキ処理のための前処理をおこない、その前処理された核体21を、図1の(b)のようにメッキ槽1内のメッキ液2に浸けて、核体21の表面全体にNiP合金の皮膜22を形成する。
Next, pretreatment for plating is performed according to the material of the
ここで、メッキ処理のための前処理としては、核体21が金属の場合、有機溶剤およびアルカリ脱脂液で脱脂した後に酸洗いする。なお、核体21がニッケル以外の金属の場合には、この後にニッケルストライクメッキ処理を行なう場合もある。
Here, as a pretreatment for the plating treatment, when the
また、核体21がガラス、セラミックス、プラスチック等の非導体の場合には、塩化錫溶液および塩化バラジウム溶液で核体表面の活性化処理を行なう。
When the
また、メッキ液2は、ニッケル塩、還元剤、オキシカルボン酸、ジカルボン酸からなり、その総量が0.6〜1.2mol/リットルのものが使用される。
The
より具体的に言えば、
ニッケル塩として硫酸ニッケル0.11〜0.20M(モル:以下同じ)、
還元剤としてホスフィン酸ナトリウム0.24〜0.36M、
オキシカルボン酸としてDLリンゴ酸0.40〜0.8M、
ジカルボン酸としてマロン酸0.20〜0.40M
を含有する浴を使用し、80〜95°Cの液温で10分〜30時間の適度な時間浸漬させて、核体21の表面全体にNiP合金の皮膜22を、例えば10〜80μmの厚さに形成する。このメッキ時間は、核体21の表面積およびNiP合金の皮膜22の厚さに応じて決める。
More specifically,
Nickel sulfate 0.11 to 0.20M (mole: the same shall apply hereinafter) as a nickel salt,
Sodium phosphinate 0.24-0.36M as a reducing agent,
DL malic acid 0.40-0.8M as oxycarboxylic acid,
Malonic acid 0.20-0.40M as dicarboxylic acid
The
また、図示しないが、核体21は、例えば、メッキ液2が内部を流動できる籠状の容器に収容された状態でメッキ槽1に浸けられ、容器に適度に振動を与えて、核体21を容器内で遊動させて、核体21個々の表面にNiP合金の皮膜22をほぼ一定の厚さに形成する。
Although not shown, the
このメッキ処理によって、図1の(c)のように、核体21の表面に所定厚さのNiP合金の皮膜22が形成された後、これを水洗い乾燥してから、図1の(d)のようにエッチング槽3内のエッチング液4に浸けて、核体21個々のNiP合金の皮膜22をエッチングして黒化する。
As a result of this plating treatment, as shown in FIG. 1 (c), a
ここで、エッチング液4は、硝酸塩、例えば、濃度200〜450g/リットルの硝酸ナトリウムであり、これに、濃度が300〜700g/リットル、好ましくは400〜600g/リットルの硫酸が添加されるものを用い、液温30〜80°C、浸漬時間5秒〜5分の間の適度な時間でエッチングを行なう。
Here, the
このエッチング処理により、NiP合金の皮膜22がその表層側から厚さ方向(核体中心側)に浸食される。
By this etching treatment, the
なお、このエッチング処理は、メッキ処理の場合と同様に容器を振動させて、核体21個々の皮膜22が全周にわたって一様にエッチング液に触れるようにする。
In this etching process, as in the case of the plating process, the container is vibrated so that the
このエッチング後、水洗い乾燥することで、図1の(e)のように、核体21を中心にして外表部に微細な凹凸22aが放射状に形成された粒子径10μm〜5mmの黒色粒子20が完成する。
After this etching, by washing with water and drying, as shown in FIG. 1E,
図2は、エッチングによって実際に形成された微細な凹凸22aの拡大写真であり、表面全体に無数の山型の凹凸が形成されていることがわかる。 FIG. 2 is an enlarged photograph of fine irregularities 22a actually formed by etching, and it can be seen that innumerable mountain-shaped irregularities are formed on the entire surface.
このようにして形成された黒色粒子20個々の表面の反射率は、波長範囲320nm〜2200nmの範囲で0.05〜0.4%であり、赤外領域でも低反射率が得られる。
The reflectance of each surface of the
また、図3のように、エッチング処理によって、光を吸収するための微細な凹凸22aが、核体21を中心に放射状に形成されているので、核体21の中心に向かう光であれば、どの方向からの光Aも凹凸22aの谷部に進入させることができ、低い反射率で均等に吸収することができる。
In addition, as shown in FIG. 3, fine irregularities 22a for absorbing light are formed radially around the
このようにして得られた黒色粒子20を用いることで、任意の大きさ、形状、材質の光吸収体を構成することができる。
By using the
以下、上記した黒色粒子20を用いて各種形状および材質の光吸収体を構成する方法について説明する。
Hereinafter, a method for constructing light absorbers of various shapes and materials using the above-described
始めに、大きな平板状の光吸収体を構成する場合、図4の(a)のように、平板状の基材31の表面31a全体に例えばエポキシ系の接着剤32を塗布し、図4の(b)のように接着剤32の表面全体を覆うように黒色粒子20を振りかけて(あるいは吹き付けて)隙間なく接着させ、接着剤32に触れてない表層の黒色粒子20を取り除く。
First, when forming a large flat light absorber, for example, an epoxy-based
この不要な黒色粒子20を除去する方法としては、基材31の上下を逆さにして落す方法、エアを吹き付けて飛ばす方法、エアで吸引する方法等がある。
これによって、図4の(c)のように、一面側が一様に黒色粒子20で覆われた大きな平板状の光吸収体30が得られる。
As a method for removing the unnecessary
As a result, as shown in FIG. 4C, a large
このように構成した光吸収体30では、前記したように、光の入射角に対して均等で且つ低い反射率を示す黒色粒子20が基材31の表面31aを覆っているので、その表面31aに直交するような深い角度で入射する光や、浅い角度で入射する光に対しても低反射率で吸収することができる。
In the
したがって、吸収対象の光の入射角が異なる場合でも共通の光吸収体30で吸収することができる。また、吸収対象の光の光路が1つに限定されているような場合には、その光路と表面31aとが交わるような範囲内であれば、光吸収体30の位置や向きを任意にでき、設計時の自由度が非常に大きくなる。
Therefore, even when the incident angles of the light to be absorbed are different, the light can be absorbed by the
また、顕微鏡、望遠鏡等のように、円筒状でその内部に光吸収層をもつ光吸収体を構成する場合を図5に示す。図5の(a)、(b)は円筒状の基材41の概略断面を示したものであり、図5の(a)のように、基材41の内周面41a全体にエポキシ系の接着剤32を塗布してから、図5の(b)のように、接着剤32の表面全体に黒色粒子20を隙間なく接着させる。
Further, FIG. 5 shows a case where a light absorber having a cylindrical shape and having a light absorption layer therein is formed, such as a microscope or a telescope. FIGS. 5A and 5B show schematic cross sections of a cylindrical base material 41. As shown in FIG. 5A, the entire inner peripheral surface 41a of the base material 41 is made of an epoxy-based material. After the adhesive 32 is applied, the
これによって、内周面全体が黒色粒子20で覆われた円筒状の光吸収体40が得られる。なお、円筒以外の筒状の光吸収体も同様に作ることができる。
Thereby, a
また、図6の(a)のように、基材51の表面51a側に溝52が形成されている場合でも、前記同様に、その表面51a全体にエポキシ系の接着剤32を塗布し、図6の(b)のように、その接着剤32の表面全体に黒色粒子20を隙間なく接着させる。
Further, as shown in FIG. 6A, even when the
これによって、溝52の内壁を含めて表面51a全体が黒色粒子20で一様に覆われた光吸収体50が得られる。なお、溝52の代わりにリブが設けられている場合や、溝とリブの両方が設けられている場合でも同様に構成することができる。
Thereby, the
また、可撓性を有するシート状の光吸収体を構成する場合、図7の(a)のように、紙、布あるいは合成樹脂等の可撓性を有するシート状の基材61の一面61a全体(あるいは一部)に接着剤42を塗布し、図7の(b)のように、その接着剤42の表面全体に前記黒色粒子20を隙間無く接着させる。
When a flexible sheet-like light absorber is constructed, as shown in FIG. 7A, one surface 61a of a flexible sheet-like substrate 61 such as paper, cloth, or synthetic resin. The adhesive 42 is applied to the whole (or part), and the
これによって可撓性を有するシート状の光吸収体60が得られる。なお、この場合に用いる接着剤42は基材61の可撓性を失わない軟性のものを用いる。
Thus, a flexible sheet-
この光吸収体60は、例えば大きな平坦な壁面等に貼り付けて使用するだけでなく、貼り付け面が曲面の場合でも図7の(c)のように湾曲させて(あるいは折り曲げて)使用することができる。
The
また、適当な大きさに切って任意の物体の表面に貼り付けて使用したり、あるいは、ロール状のカーテンとすることもできる。 Further, it can be cut into a suitable size and attached to the surface of an arbitrary object or used as a roll curtain.
また、電気回路のフレキシブル基板の表面の一部に前記同様に黒色粒子20を接着してフレキシブル基板上に光吸収体を設けることもできる。
Alternatively, the light absorber can be provided on the flexible substrate by adhering the
なお、黒色粒子20を基材の所定面に接着するための接着剤32、42の代わりに、両面接着テープを用いることもできる。また、プラスチック等のような合成樹脂からなる基材の場合には、その所定面の表層部を加熱して軟化したり、溶剤で軟化し、その軟化部分を接着層として黒色粒子20を接着してもよい。
Note that a double-sided adhesive tape may be used instead of the
また、上記説明では、光吸収体の基材に接着する黒色粒子20の粒子径を1種類としていたが、図8の光吸収体70のように、大径の黒色粒子20aと、小径の黒色粒子20bを混ぜたものを、基材71の所定面71aに接着材32(42)を介して接着し、大径の黒色粒子20a同士の隙間を小径の黒色粒子20bで埋めるようにすれば、光吸収性をより完全なものにすることができる。また、径が異なる3種類以上の黒色粒子を混ぜて使用することも可能である。
In the above description, the particle diameter of the
上記黒色粒子20を用いた光吸収体は、前記したように、大きな基材、曲面や凹凸面を有する基材、可撓性を有する基材に対して構成でき、前記した光パワー計の受光部等の他に、顕微鏡、望遠鏡、カメラ等の光学機器の構造部材、太陽熱温水器の太陽熱吸収部、光学実験室の壁材等に広く適用できる。
As described above, the light absorber using the
なお、前記説明では、核体21にメッキ処理する際に、核体21をメッキ液2が内部を流動できる籠状の容器に収容してメッキ槽1に浸け、その容器に適度に振動を与える方法を示したが、メッキ槽1のメッキ液2を磁気式攪拌機等により攪拌しながら、籠状の容器をメッキ槽1内で動かすことで、核体21に対するメッキ処理を行ってもよく、核体21をメッキ槽1に直に入れて、磁気式攪拌機により攪拌する方法も採用できる。
In the above description, when the
本件発明者らは、さらに別のメッキ処理方法として、構成が簡単で比較的均一なものが得られる構成を見いだした。 The inventors of the present invention have found a structure that is simple and relatively uniform as another plating method.
図9は、その黒色粒子製造用のメッキ装置100の構成例を示している。
このメッキ装置100は、核体21とメッキ液2を開口部101aから受け入れて底部101bに収容する有底筒状の容器101、容器101をその開口部101aと底部101bを結ぶ線Cが鉛直方向に対して傾いた状態で回転自在に支持する支持部材102、容器101に収容されたメッキ液2を所定温度に加熱保持する加熱保温器103、容器101を、前記線Cを中心軸として回転(同心、偏心のいずれでもよい)させ、底部101b内のメッキ液2を攪拌するとともにメッキ液2中の核体21を転がす回転駆動装置104とを備えている。
FIG. 9 shows a configuration example of the
The
ここで、容器101は、耐メッキ性、耐熱性を有する有底筒状のものであればよく、例えば耐熱ガラス製で、図に示しているようなフラスコ状(ビーカー状あるいは試験管状等であってもよい)のものとし、支持部材102は、容器101の下がりを規制しつつ口元部を回転自在に保持できる構造を有している。
Here, the
また、加熱保温器103は、保温槽103a内の液体(水や油など)103bをヒータ103cによって加熱して所定の温度に保持する構造を有し、この液体103bに底部101bが浸けられた容器101のメッキ液2の温度をメッキ処理に適した80〜95°Cに保持する。なお、ヒータ103cは保温槽103aの外にあってもよい。
Further, the heating and
また、回転駆動装置104は、支持部材102と一体的に構成され、例えばモータ(図示せず)の回転力を容器101の口元部に伝達して、容器101を傾いた状態で一定速度(例えば1分あたり数回転)で回転させ、底部101b内のメッキ液2を攪拌させ、またメッキ液2中の核体21を転がす。
The rotation driving device 104 is configured integrally with the
この構成のメッキ装置100は、容器101そのものを傾けた状態で回転させてメッキ液2を攪拌させるとともにメッキ液2中の核体21を転がしているので、メッキ槽内に攪拌用の可動部材を設ける必要がなく、簡単な構成で、核体21の表面にNiP合金の皮膜22をほぼ一定の厚さに形成することができる。
The
また、エッチング処理の具体例としては、次の方法を実施している。
即ち、上記のようにしてメッキ処理が終了した後に、容器101の内容物を図10の(a)に示すように籠状容器111に入れて、余分なメッキ液を除いて、メッキ処理された核体21のみを残し、図10の(b)のように、エア引きのエッチング装置120のタンク121にセットする。
Moreover, the following method is implemented as a specific example of an etching process.
That is, after the plating process was completed as described above, the contents of the
そして、図10の(c)のように、ポンプ122によってタンク内のエア抜きをしながら、籠状容器111にエッチング液4を流し込む。このエッチング液4は、籠状容器111の核体21のメッキ部をエッチングしつつ、エア抜きされたタンク内へ流れ出す。このエッチング液4の流し込みを一定時間続けることにより、核体21のメッキ層に対するエッチングが完了する。
Then, as shown in FIG. 10C, the
そして、エッチング完了後、籠状容器111内の内容物(黒色粒子20)を水洗いし、乾燥させることにより、前記した黒色粒子20が得られる。
Then, after the etching is completed, the contents (black particles 20) in the bowl-shaped container 111 are washed with water and dried to obtain the
また、上記説明は、一つの黒色粒子20に一つの核体21が含まれる場合であったが、核体21が小さい場合(例えば数10μmの場合)には、前記メッキ装置100によるメッキ処理の過程において、図11の(a)に示すように、複数の核体21が共通の皮膜22で覆われたものも得られることが確認されている。
In addition, the above description is a case where one
このように複数の核体21を含むものに対しても、前記同様のエッチング処理を行うことにより、図11の(b)のように微細な凹凸22aが、各核体21に対して放射状に形成された黒色粒子20を得ることができる。
As described above, by performing the same etching process as described above on a structure including a plurality of
図12は、その微細な凹凸の一例を示す拡大写真であり、前記図2と同様に、表面全体に無数の微細な凹凸が放射状に形成されていることがわかる。 FIG. 12 is an enlarged photograph showing an example of the fine irregularities, and it can be seen that innumerable fine irregularities are radially formed on the entire surface as in FIG.
したがって、このような複数の核体21を含む黒色粒子の場合も、前記同様に、光に対して広い角度範囲にわたり低反射率が得られ、これを前記同様に各基材31、41、51、61の各面に接着することで、前記光吸収体30、40、50、60と同様のものが得られる。
Accordingly, also in the case of such black particles including a plurality of
20、20a、20b……黒色粒子、21……核体、22……皮膜、22a……凹凸、30、40、50、60、70……光吸収体、31、41、51、61、71……基材、32、42……接着剤、100……メッキ装置、101……容器、102……支持部材、103……加熱保温器、104……回転駆動装置、111……籠状容器、120……エッチング装置、121……タンク、122……ポンプ 20, 20a, 20b ... black particles, 21 ... core, 22 ... coating, 22a ... uneven, 30, 40, 50, 60, 70 ... light absorber, 31, 41, 51, 61, 71 ... Base material, 32, 42 ... Adhesive, 100 ... Plating device, 101 ... Container, 102 ... Supporting member, 103 ... Heating / warming device, 104 ... Rotation drive device, 111 ... Spear-like container , 120 ... Etching device, 121 ... Tank, 122 ... Pump
Claims (5)
前記微細な凹凸が、前記核体の表面にメッキされたニッケル・リン合金に対するエッチング処理によって形成されていることを特徴とする黒色粒子。 In the black particles in which fine irregularities (22a) for absorbing light are formed radially on the surface of the granular nuclei (21) ,
The black particles, wherein the fine irregularities are formed by etching a nickel-phosphorus alloy plated on the surface of the core .
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