JP3983140B2 - 半導体集積回路装置の入力回路 - Google Patents

半導体集積回路装置の入力回路 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、外部回路から入力される信号を半導体集積回路装置の内部回路に入力する半導体集積回路装置の入力回路、または上記内部回路から出力された信号を外部回路に出力する半導体集積回路装置の出力回路に関するものであり、特に半導体集積回路装置の内部電源電圧よりも高い信号電圧が外部回路から入力される場合に有効な入力回路または出力回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図13は従来の入力回路の回路構成図である。図13の従来の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P2,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N11,N12,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備え、LSIチップに内蔵されており、外部回路から入力ノードAに入力された信号を上記LSIチップの内部電源VDDに応じた適正レベルの信号にして出力ノードYから上記LSIチップの内部回路に入力する。このような入力回路は、例えば特願平10−373243に記載されている。
【0003】
PMOSトランジスタP1,P2およびNMOSトランジスタN1,N2は、プルアップ回路を構成しており、入力ノードAに信号が入力されないとき(外部回路の出力がハイインピーダンスにときを含む)、入力ノードAの電位をVDDにプルアップする。
【0004】
また、PMOSトランジスタP11−P13およびNMOSトランジスタN11,N13−N15は、レベル調整回路を構成しており、入力ノードAの電位がA>VDDのときに、ノードM3の電位をVDDに保持することによって、適正レベルの信号をインバータIV1に入力する。
【0005】
図13の従来の入力回路では、ソース電極またはドレイン電極が入力ノードAに接続されているPMOSトランジスタP1,P2,P11,P12,P17,P18の基板(PMOSトランジスタが形成されているNウェル)は、フローティングノードFL(内部電源VDDおよび接地電源GNDからフローティングになっているノード)に接続されており、入力ノードAの電位がA≧VDD(例えば3.0−3.5[V])のときに、P1,P2,P11,P12,P17,P18のソース電極またはドレイン電極と基板によるpn接合を介して、外部回路からからVDDにリーク電流が流れ込まないようになっている。
【0006】
また、図13の従来の入力回路では、入力ノードAの電位がA≧VDDのときにP2がONしてノードM1の電位を上昇させ、入力ノードAの電位がVDDよりも大きな電位のときにプルアップPMOSトランジスタP1をOFFして、外部回路からVDDにリーク電流が流れ込まないようにしている。
【0007】
図14は図13の従来の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の入出力回路では、P2がONしてもノーマリーONのNMOSトランジスタN1,N2によってノードM1の電位が下げられるので、入力ノードAの電位がVDDよりも相当に高くならないと、P1がOFFせず、入力ノードAの電位が上昇してA>VDDになってからP1がOFFするまでは、外部回路からVDDにリーク電流が流れ込むという問題がある。
【0009】
図14では、A>VDDにおいて、3.65[V]≦A<5.30[V]の範囲ではP1はONしていて、VDDに上記のリーク電流としての電流Ids(P1)が入力ノードからVDDに流れ込んでおり、A≧5.30[V]の範囲ではP1はOFFしていてリーク電流が遮断されている。
【0010】
本発明は、このような従来の問題を解決するためになされたものであり、外部回路からの入力信号の電位が内部電源よりも高いときに外部回路から内部電源に流れ込むリーク電流を低減できる半導体集積回路装置の入力回路を提供することを目的とするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体集積回路装置の入力回路は、
外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
第1ノードと
を有する半導体集積回路装置の入力回路であって、
上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
上記入力ノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートに上記第2電位が供給され、基板が上記フローティングノードに接続された第2のPMOSトランジスタと、
上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが第2ノードに接続され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
入力端が上記第1ノードに接続され、出力端が上記第2ノードに接続されたインバータ回路と
を有し、
上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になって、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づくと、上記インバータ回路によって上記第2ノードの電位が下がり、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成されたことを特徴としている。
【0012】
本発明の他の半導体集積回路装置の入力回路は、
外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
第1ノードと
を有する半導体集積回路装置の入力回路において、
上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが第2ノードに接続され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
入力端が上記第1ノードに接続され、出力端が上記第2ノードに接続されたインバータ回路と、
上記フローティングノード上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され第3のPMOSトランジスタ
を有し、
上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になって、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づくと、上記インバータ回路によって上記第2ノードの電位が下がり、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成されたことを特徴としている。
【0013】
本発明のさらに他の入力回路は、
外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
第1ノードと
を有する半導体集積回路装置の入力回路において、
上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートに上記第2電位が供給され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
上記フローティングノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続された第3のPMOSトランジスタと
を有し、
上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になると、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づき、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成されたことを特徴としている。
【0014】
【発明の実施の形態】
実施の形態1
図1は本発明の実施の形態1の入力回路の回路図である。なお、図1において、図13と同じものあるいはそれに相当するものには同じ符号を付してある。図1の入力回路は、P1,P2,P4,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N4,N5,N6,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備え、LSIチップに内蔵されており、外部回路から入力ノードAに入力された信号を上記LSIチップの内部電源VDDに応じた適正レベルの信号にして出力ノードYから上記LSIチップの内部回路に入力する。
【0015】
[実施の形態1の構成]
この実施の形態1の入力回路は、上記従来の入力回路(図13参照)において、PMOSトランジスタP4およびNMOSトランジスタN4−N6を設け、NMOSトランジスタN2のゲート入力を、P4,N5,N6で構成されるCMOSインバータ(以下、CMOSインバータ(P4,N5,N6)と記載する)の出力に変更した構成である。
【0016】
[プルアップ回路の構成]
PMOSトランジスタP1,P2,P4およびNMOSトランジスタN1,N2,N4−N6は、プルアップ回路を構成しており、入力ノードAに信号が入力されないとき(外部回路の出力がハイインピーダンスにときを含む)、入力ノードAの電位をVDDにプルアップする。
【0017】
PMOSトランジスタP1は、ノードM1をゲート入力とし、ソース電極がVDDに接続され、ドレイン電極が抵抗R1を介して入力ノードAに接続され、基板(PMOSトランジスタが形成されているNウェル)がフローティングノードFL(VDDおよび接地電源GNDからフローティングになっているノード)に接続されている。このPMOSトランジスタP1は、入力ノードAに信号が入力されないときに、入力ノードAに電流を流して入力ノードAの電位をプルアップする。
【0018】
PMOSトランジスタP2は、VDDをゲート入力とし、ソース電極がノードM1に接続され、ドレイン電極が抵抗R2を介して入力ノードAに接続され、基板がフローティングノードFLに接続されている。
【0019】
PMOSトランジスタP4ならびにNMOSトランジスタN5およびN6は、ノードM1をゲート入力とし、P4およびN5のドレイン電極を出力とするCMOSインバータ(P4,N5,N6)を構成しており、VDD−GND間に設けられている。N5は、ノードM1の電位がVDDよりも高いときに、VDDよりも大きな電圧がN6のゲート−ソース間にかからないようにするために設けられている。
【0020】
NMOSトランジスタN1はVDDをゲート入力とし、NMOSトランジスタN2はCMOSインバータの出力をゲート入力とし、NMOSトランジスタN4は、ノードM2をゲート入力としている。N2およびN4は並列に接続され、さらにこれらのN2,N4に直列にN1が接続され、このN1,N2,N4で構成される回路はノードM1−GND間に設けられている。N1は、ノードM1の電位がVDDよりも高いときに、VDDよりも大きな電圧がN2およびN4のソース−ドレイン間にかからないようにするために設けられている。
【0021】
[レベル調整回路の構成]
PMOSトランジスタP11−P13およびNMOSトランジスタN11,N13−N15は、レベル調整回路を構成しており、入力ノードAの電位がA>VDDのときに、ノードM3の電位をVDDに保持することによって、適正レベルの信号をインバータIV1に入力する。
【0022】
PMOSトランジスタP11およびNMOSトランジスタN11は、MOSゲート回路を構成しており、入力ノードA(ただし抵抗R2を介する)−ノードM3間に設けられている。P11はノードM4をゲート入力とし、NMOSトランジスタN11はVDDをゲート入力としている。
【0023】
PMOSトランジスタP12は、VDDをゲート入力とし、入力ノードA(ただし抵抗R2を介する)−ノードM4間に設けられている。このP14は、入力ノードAの電位がA>VDDのときにONし、ノードM4の電位を入力ノードAと同じにする。
【0024】
PMOSトランジスタP13およびNMOSトランジスタN13は、ノードM3をゲート入力とし、ノードM4を出力とするCMOSインバータ(以下、CMOSインバータ(P13,N13)と記載する)を構成しており、VDD−GND間に設けられている。
【0025】
NMOSトランジスタN14はノードM4をゲート入力、NMOSトランジスタN15はVDDをゲート入力としている。これらのN14およびN15は、直列接続されて、ノードM4−GND間に設けられている。NMOSトランジスタN15は、ノードM4の電位がVDDよりも高くなったときに、NMOSトランジスタN14のドレイン−ソース間にVDDよりも大きな電圧がかからないようにするために設けられている。
【0026】
[出力回路に転用するための回路の構成]
PMOSトランジスタP16,P17およびNMOSトランジスタN16,N17は、図1の入力回路を出力回路に転用するための回路を構成している。これらのP16,P17,N16,N17を設けたことによって、実施の形態1の入力回路は、出力回路に容易に転用することが可能である。出力回路として動作する場合は、P16およびN16のゲートを入力、入力ノードAを出力ノードとして、LSIチップの内部回路から入力された信号をノードAから外部回路に出力する。
【0027】
PMOSトランジスタP16はVDDをゲート入力とし、PMOSトランジスタP17はノードM4をゲート入力としており、P17の基板はフローティングゲートFLに接続されている。これらP16およびP17は、直列接続され、VDDと入力ノードAの間に設けられている。P16は、図1の入力回路を出力回路に転用したときに内部回路から入力される信号をゲート入力としてON/OFFするトランジスタであって、図1の入力回路ではノーマリーOFFである。P17は、図1の入力回路において、入力ノードAの電位がA>VDDのときに、P16のドレイン−基板間のpn接合が順方向バイアスされ、入力ノードAからVDDに電流が逆流するのを防止するために設けられている。
【0028】
互いに並列接続された複数のNMOSトランジスタN16はGNDをゲート入力し、互いに並列接続された複数のNMOSトランジスタN17はVDDをゲート入力としている。これら複数のN16および複数のN17は、直列接続され、GNDと入力ノードAの間に設けられている。N16およびN17は、図1の入力回路において、入力ノードAに電位がA<0なる負の電位が印加されたときに、N16がONして、入力ノードAをGNDの電位にクランプする保護回路として機能する。N16は、図1の入力回路を出力回路に転用したときに内部回路から入力される信号をゲート入力としてON/OFFするトランジスタであって、図1の入力回路では保護回路として動作する場合を除いてノーマリーOFFである。N17は、図1の入力回路において、入力ノードAの電位がA>VDDのときに、この入力ノードAの電位がN16のドレイン−ソース間にかからないようにするために設けられている。
【0029】
[その他の回路]
PMOSトランジスタP18は、VDDをゲート入力とし、ソース電極が抵抗R2を介して入力ノードAに接続され、ドレイン電極および基板がフローティングノードFLに接続されている。このPMOSトランジスタP15は、入力ノードAの電位がA>VDDのときにONし、フローティングノードFLの電位を確実に入力ノードAと同じにする。
【0030】
PMOSトランジスタP19は、VDDをゲート入力とし、VDD−ノードM3間に設けられている。このPMOSトランジスタP19は、ノードM3の電位がVDDよりも高くなったときにONし、ノードM3の電位をVDDにクランプする保護回路として機能する。
【0031】
インバータIV1およびIV2は、直列接続され、ノードM3−出力ノードB間に設けられている。
【0032】
なお、実施の形態1の入力回路では、上記従来の入力回路(図13参照)と同様に、ソース電極またはドレイン電極が入力ノードAに接続されているPMOSトランジスタP1,P2,P11,P12,P17,P18の基板は、フローティングノードFLに接続されており、入力ノードAの電位がA≧VDD(例えば3.0−3.5[V])のときに、P1,P2,P11,P12,P17,P18のソース電極またはドレイン電極と基板によるpn接合を介して、外部回路からからVDDにリーク電流が流れ込まないようになっている。
【0033】
[実施の形態1の動作]
図2は実施の形態1の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0034】
実施の形態1の入力回路の動作について以下に説明する。なお、説明を簡単にするために、PMOSトランジスタのスレッショルド電圧VtpおよびON抵抗による電圧降下、NMOSトランジスタのスレッショルド電圧VtnおよびON抵抗による電圧降下、ならびに抵抗R1,R2においての電圧降下は、これらの電圧を含めた説明が必要な場合を除き、無視するものとする。
【0035】
[レベル調整回路の動作]
まず、レベル調整回路の動作について説明する。CMOSインバータ(P13,N13)のスレッショルド電位をVT1とする。
【0036】
入力ノードAの電位が0≦A≦VT1のときには、P11およびN11はONであり、ノードM3の電位は入力ノードAと同じである。CMOSインバータ(P13,N13)はP13がON、N13がOFFであり、ノードM2(CMOSインバータ(P13,N13)出力)の電位はVDDである。N14はON、P12はOFFであり、ノードM4はLレベルである。
【0037】
入力ノードAの電位が上昇し、VT1≦A≦VDDになると、CMOSインバータ(P13,N13)はP13がターンOFF、N13がONし、ノードM4の電位はLレベルになる。これによって、N14がOFFするが、P12はOFFのままなので、ノードM4はLレベルのままである。従って、VT1≦A≦VDDのときにも、P11およびN11はONであり、ノードM3の電位は入力ノードAと同じである。
【0038】
さらに入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P12がONし、ノードM4の電位が入力ノードAと同じになる。これによって、P11がOFFする。また、N11はソースフォロワ動作になる。従って、ノードM3の電位はVDDに固定される。
【0039】
このように、VDD<Aのときには、入力信号を降圧して適正レベル(VDD)の信号がノードM3に生成される。
【0040】
VDD≦Aから入力ノードAの電位が降下し、VT1≦A≦VDDになると、P12がOFFする。ノードM4の電位がVDDなのでP11はOFFのままであるが、N11はONするので、ノードM3の電位は入力ノードAと同じになる。
【0041】
さらに入力ノードAの電位が降下し、0≦A≦VT1になると、CMOSインバータ(P13,N13)はP13がONしてN13がOFFし、ノードM4の電位はVDDになる。これによって、N14がONし、ノードM4はLレベルになり、P11がONする。
【0042】
[プルアップ回路の動作]
次にプルアップ回路の動作について説明する。CMOSインバータ(P13,N13)のスレッショルド電位をVT1とし、CMOSインバータ(P4,N5,N6)のスレッショルド電位をVT2とする。
【0043】
入力ノードAの電位が0≦A≦VT1のときには、P2はOFFである。ノードM2の電位がVDDなので、N4はONである。これによって、ノードM1の電位はLレベルであり(図2参照)、CMOSインバータ(P4,N5,N6)はP4がON、N5およびN6がOFFであり、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力の電位はVDDであり、N2はONである。また、ノードM1がLレベルなので、P1はONしており、P1はVDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図2のIds(P1)参照)。なお、フローティングノードFL(フローティングのNウェル)は、VDDかそれよりも少し低い電位になっている。
【0044】
入力ノードAの電位が上昇し、VT1≦A≦VDDになると、ノードM2がLレベルになるので、N4がOFFする。しかし、P2はOFFしたままなので、ノードM1はLレベルのままである(図2参照)。このため、P1は依然としてONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図2のIds(P1)参照)。
【0045】
さらに入力ノードAの電位が上昇し、VDD<A(厳密にはVDD+Vtp≦A)になると、P2がONする。なお、P18がONするので、フローティングノードFL(フローティングのNウェル)は入力ノードAと同じ電位になる。
【0046】
VDD<Aにおいて、Aの電位がVDD付近であるときには、P2がONしても、N1およびN2がONしているので、ノードM1の電位は入力ノードAよりも依然として低い(厳密にはノードM1の電位が入力ノードAよりもVtp以上低い依然として低い)。このため、P1はONしたままであり、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込むようになる(図2のIds(P1)参照)。また、Aの電位がVDD付近であるときには、ノードM1の電位はCMOSインバータ(P4,N5,N6)のスレッショルド電位VT2よりも低い。
【0047】
しかし、VDD<Aにおいて、Aの電位がVDD付近からさらに上昇すれば、それに応じてノードM1の電位もP2によって上昇し、M1の電位がVT2に達すると、CMOSインバータ(P4,N5,N6)は、P4がOFFしてN5,N6がONし、その出力がLレベルになる。これによって、N2がOFFする。これで、N2およびN4がともにOFFするので、ノードM1の電位は入力ノードAと同じになり、P1がOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図2のIds(P1)参照)。
【0048】
従来の入力回路では、図14に示すように、Aの電位がA≧5.25[V]にならないと、P1がOFFせず、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できないが、実施の形態1の入力回路では、図2に示すように、従来よりも低電位のA≧5.05[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0049】
VDD<Aから入力ノードAの電位が降下し、VT1≦A≦VDD(厳密にはVDD+Vtp≦A)になると、P2がOFFする。N2はすでにONしているので、ノードM1電位はLレベルになる。なお、P18もOFFするので、フローティングノードFL(フローティングのNウェル)はVDDになる。
【0050】
さらに入力ノードAの電位が降下し、0≦A≦VT1になると、ノードM2の電位がVDDになるので、N4がONする。
【0051】
以上のレベル調整回路およびプルアップ回路の動作は、入力ノードAの電位が外部回路によってコントロールされたときの動作であるが、入力ノードAが外部回路によって0≦A≦VDDからハイインピーダンスにされたときは、プルアップ回路のP1は電流IdsをVDDから入力ノードAに流し、入力ノードAの電位をVDDにプルアップする。このとき、プルアップ回路の他のトランジスタおよび降圧回路は、入力ノードAの電位に従って、上記と同様の動作をする。
【0052】
以上のように実施の形態1によれば、ノードM1を入力とするCMOSインバータ(P4,N5,N6)と、このCMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力をゲート入力とするNMOSトランジスタN2と、レベル調整回路のCMOSインバータ(P13,N13)出力であるノードM2をゲート入力とするNMOSトランジスタN4とをプルアップ回路に設け、入力ノードAの電位がVDDよりも高いときにプルアップ回路の全てのNMOSトランジスタ(N2およびN4)がOFFする構成にしたことにより、従来よりも低い入力ノードAの電位で、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0053】
また、プルアップ回路のCMOSインバータにNMOSトランジスタN6N5を設けたことにより、耐圧の弱いプロセスを用いてもNMOSトランジスタN6が破壊されることはない。
【0054】
また、N4を設けたことにより、入力ノードAの電位の降下に応じてノードM1の電位を降下させることができ、これによってプルアップPMOSトランジスタP1を入力ノードAの電位に応じて正確にONおよびOFFさせることができるので、誤動作の恐れなく外部回路からのリーク電流を遮断できる。
【0055】
実施の形態2
図3は本発明の実施の形態2の入力回路の回路図である。なお、図3において、図1と同じものには同じ符号を付してある。図3の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P2,P4,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N4,N5,N6,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備えている。
【0056】
この実施の形態2の入力回路は、上記実施の形態1の入力回路(図1参照)において、プルアップ回路の構成を変更したものである。実施の形態2のプルアップ回路は、上記実施の形態1のプルアップ回路において、PMOSトランジスタP5をさらに設けたものである。
【0057】
PMOSトランジスタP5は、ノードM1をゲート入力とし、フローティングノードFLとノードM1の間に設けられており、基板がフローティングノードFLに接続されている。つまり、P5はフローティングノードFLとノードM1の間にダイオード接続されている。このP5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げる働きをする。また、P5は、P2とは異なりダイオード接続によって設けられているので、そのディメンションをP2よりも大きくすることが可能である。P5を設けることによって、CMOSトランジスタ(P4,N5,N6)の出力が反転するとともにプルアップPMOSトランジスタP1がOFFする入力ノードAの電位を、上記実施の形態1よりも低くすることができる。
【0058】
図4は実施の形態2の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0059】
実施の形態2のプルアップ回路の動作について以下に説明する。なお、実施の形態2のレベル調整回路の動作は、上記実施の形態1と同様である。
【0060】
入力ノードAの電位が0≦A≦VDDのときには、P2はOFF、N4はON(0≦A≦VT1のとき)またはOFF(VT1≦A≦VDDのとき)である。P5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げようとする。しかし、ノードM1の電位は、ONしているN2およびN4(またはONしているN2)によって、入力ノードAの電位よりも低くなっている(厳密には入力ノードA−ノードM1間の電圧がVtpよりも大きくなっている)。従って、P1は、ONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図4のIds(P1)参照)。なお、ノードM1の電位はCMOSインバータ(P4,N5,N6)のスレッショルド電位VT2よりも低くなっており、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力の電位はVDDである。
【0061】
入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P18がONするので、フローティングノードFLの電位は入力ノードAと同じになる。また、VDD<A(厳密にはVDD+Vtp≦A)になると、P2がONし、ノードM1の電位はP2およびP5によってVT2に達し、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力がLレベルになり、N2がOFFする。このN2のターンOFFは、VDD<Aにおいて、上記実施の形態1においてのターンOFFの電位よりも低いVDD付近で生じる。これによって、ノードM1の電位はP2およびP5によって上昇して入力ノードAと同じになるので、P1はOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図4のIds(P1)参照)。
【0062】
上記実施の形態1の入力回路では、図2に示すように、A≧5.05[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みが遮断されるが、この実施の形態2の入力回路では、図4に示すように、上記実施の形態1よりも低電位のA≧3.75[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0063】
以上のように実施の形態2によれば、プルアップ回路のフローティングノードFLとノードM1の間にPMOSトランジスタP5をダイオード接続でさらに設けたことにより、上記実施の形態1よりもさらに低い入力ノードAの電位で、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0064】
また、P5をダイオード接続で設けたことにより、プロセス変動や内部電源VDDの電位変動を生じてもノードM1(プルアップPMOSトランジスタのゲート)に入力ノードAの電位が現れるので、誤動作を抑制できる。
【0065】
実施の形態3
図5は本発明の実施の形態3の入力回路の回路図である。なお、図5において、図3と同じものには同じ符号を付してある。図5の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P2,P4,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N4,N5,N6,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備えている。
【0066】
この実施の形態3の入力回路は、上記実施の形態2の入力回路(図3参照)において、プルアップ回路の構成を変更したものである。実施の形態3のプルアップ回路は、上記実施の形態2のプルアップ回路において、PMOSトランジスタP2のドレイン電極をノードM1から切り離し、PMOSトランジスタP2のドレイン電極をCMOSインバータ(P4,N5,N6)の入力として、回路構成を簡単にしたものである。また、P2のドレイン電極をノードM1から切り離すことによって、P2,CMOSインバータ(P4,N5,N6),N2,N1が正帰還回路を構成しないようになる。P2がOFFのとき、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の入力(P2のドレイン電極)には、P2のドレイン電極−基板間のpn接合、フローティングノードFL、およびP5を介して、ノードM1の電位の降下が伝達される。
【0067】
図6は実施の形態3の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0068】
実施の形態3のプルアップ回路の動作について以下に説明する。なお、実施の形態3のレベル調整回路の動作は、上記実施の形態1と同様である。
【0069】
入力ノードAの電位が0≦A≦VDDのときには、P2はOFF、N4はON(0≦A≦VT1のとき)またはOFF(VT1≦A≦VDDのとき)である。P5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げようとする。しかし、ノードM1の電位は、ONしているN2およびN4(またはONしているN2)によって、入力ノードAの電位よりも低くなっている(厳密には入力ノードA−ノードM1間の電圧がVtpよりも大きくなっている)。従って、、P1は、ONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図6のIds(P1)参照)。
【0070】
ただし、P2のドレイン電極がノードM1から切り離されているので、このときのノードM1の電位は、上記実施の形態2よりも高くなっており(図4および図6のM1参照)、P1の電流Idsは、上記実施の形態2よりも少なくなっている(図4および図6のIds(P1)参照)。
【0071】
なお、ノードM1の電位の降下は、P2のドレイン電極−基板間のpn接合、フローティングノードFL、およびP5を介して、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の入力に伝達されるので、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の入力はそのスレッショルド電位VT2よりも低くなっており、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力の電位はVDDである。
【0072】
入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P18がONするので、フローティングノードFLの電位は入力ノードAと同じになる。また、VDD<A(厳密にはVDD+Vtp≦A)になると、P2がONし、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の入力の電位はP2によってVT2に達し、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力がLレベルになり、N2がOFFする。このN2のターンOFFは、VDD<Aにおいて、上記実施の形態1においてのターンOFFの電位よりも低いVDD付近で生じる。これによって、ノードM1の電位は、P5によって上昇して入力ノードAと同じになる(厳密にはA−Vtpになる)ので、P1はOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図6のIds(P1)参照)。
【0073】
この実施の形態3の入力回路では、図6に示すように、上記実施の形態2と同様のA≧3.75[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0074】
以上のように実施の形態3によれば、上記実施の形態2と同様に、入力ノードAの電位が内部電源VDDよりも高いときに、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0075】
また、プルアップ回路のPMOSトランジスタP2のドレイン電極をノードM1から切り離したことにより、上記実施の形態2よりも回路構成を簡単にできる。
【0076】
実施の形態4
図7は本発明の実施の形態4の入力回路の回路図である。なお、図7において、図3と同じものには同じ符号を付してある。図7の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P4,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N4,N5,N6,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備えている。
【0077】
この実施の形態4の入力回路は、上記実施の形態2の入力回路(図3参照)において、プルアップ回路の構成を変更したものである。実施の形態4のプルアップ回路は、上記実施の形態2のプルアップ回路において、PMOSトランジスタP2を削除して回路構成を簡単にしたものである。
【0078】
図8は実施の形態4の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0079】
実施の形態4のプルアップ回路の動作について以下に説明する。なお、実施の形態4のレベル調整回路の動作は、上記実施の形態1と同様である。
【0080】
入力ノードAの電位が0≦A≦VDDのときには、N4はON(0≦A≦VT1のとき)またはOFF(VT1≦A≦VDDのとき)である。P5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げようとする。しかし、ノードM1の電位は、ONしているN2およびN4(またはONしているN2)によって、入力ノードAの電位よりも低くなっている(厳密には入力ノードA−ノードM1間の電圧がVtpよりも大きくなっている)。従って、P1は、ONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図8のIds(P1)参照)。なお、ノードM1の電位はCMOSインバータ(P4,N5,N6)のスレッショルド電位VT2よりも低くなっており、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力の電位はVDDである。
【0081】
入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P18がONするので、フローティングノードFLの電位は入力ノードAと同じになる。ノードM1の電位はP5によってVT2に達し、CMOSインバータ(P4,N5,N6)の出力がLレベルになり、N2がOFFする。このN2のターンOFFは、VDD<Aにおいて、VDD付近で生じる。これによって、ノードM1の電位はP5によって上昇して入力ノードAと同じになる(厳密にはA−Vtpになる)ので、P1はOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図8のIds(P1)参照)。
【0082】
この実施の形態4の入力回路では、図8に示すように、上記実施の形態2と同様のA≧3.75[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0083】
このように実施の形態4によれば、上記実施の形態2と同様に、入力ノードAの電位が内部電源VDDよりも高いときに、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0084】
また、P2を設けないので、上記実施の形態2および上記実施の形態3よりも回路構成を簡単にできる。ただし、ディメンジョンの大きなP5が必要になる。
【0085】
実施の形態5
図9は本発明の実施の形態5の入力回路の回路図である。なお、図9において、図3または図13と同じものあるいはそれに相当するものには同じ符号を付してある。図9の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P2,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備えている。
【0086】
この実施の形態5の入力回路は、上記従来の入力回路(図13参照)において、プルアップ回路の構成を変更したものである。実施の形態5のプルアップ回路は、上記従来のプルアップ回路において、上記実施の形態2のPMOSトランジスタP5を設けたものである。
【0087】
PMOSトランジスタP5は、ノードM1をゲート入力とし、フローティングノードFLとノードM1の間に設けられており、基板がフローティングノードFLに接続されている。つまり、P5はフローティングノードFLとノードM1の間にダイオード接続されている。このP5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げる働きをする。また、P5は、P2とは異なりダイオード接続によって設けられているので、そのディメンションをP2よりも大きくすることが可能である。P5を設けることによって、プルアップPMOSトランジスタP1がOFFする入力ノードAの電位を、上記従来の入力回路よりも低くすることができる。
【0088】
図10は実施の形態5の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0089】
実施の形態5のプルアップ回路の動作について以下に説明する。なお、実施の形態5のレベル調整回路の動作は、上記実施の形態1と同様である。
【0090】
入力ノードAの電位が0≦A≦VDDのときには、P2はOFFである。P5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げようとする。しかし、ノードM1の電位は、ノーマリーONのN1およびN2によって入力ノードAの電位よりも低くなっている(厳密には入力ノードA−ノードM1間の電圧がVtpよりも大きくなっている)。従って、P1は、ONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図10のIds(P1)参照)。
【0091】
入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P18がONするので、フローティングノードFLの電位は入力ノードAと同じになる。また、VDD<A(厳密にはVDD+Vtp≦A)になると、P2がONし、ノードM1の電位はP2およびP5によって上昇する。しかし、Aの電位がVDD付近であるときには、ノードM1の電位は、ノーマリーONのN1およびN2によって降下するので、入力ノードAよりも依然として低い(厳密にはノードM1の電位が入力ノードAよりもVtp以上低い依然として低い)。このため、P1はONしたままであり、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込むようになる(図10のIds(P1)参照)。
【0092】
しかし、VDD<Aにおいて、Aの電位がVDD付近からさらに上昇すれば、それに応じてノードM1の電位もP2およびP5によって上昇し、ノードM1の電位が入力ノードAと同じ電位に達すると(厳密にはA−Vtpになると)、P1がOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図10のIds(P1)参照)。
【0093】
従来の入力回路では、図14に示すように、Aの電位がA≧5.25[V]にならないと、P1がOFFせず、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できないが、実施の形態5の入力回路では、図10に示すように、従来よりも低電位のA≧5.05[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0094】
以上のように実施の形態5によれば、プルアップ回路のフローティングノードFLとノードM1の間にPMOSトランジスタP5をダイオード接続で設けたことにより、従来よりも低い入力ノードAの電位で、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0095】
実施の形態6
図11は本発明の実施の形態6の入力回路の回路図である。なお、図11において、図9と同じものには同じ符号を付してある。図11の入力回路は、PMOSトランジスタP1,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19と、NMOSトランジスタN1,N2,N11,N13,N14,N15,N16,N17と、抵抗R1,R2と、インバータIV1,IV2とを備えている。
【0096】
この実施の形態6の入力回路は、上記実施の形態5の入力回路(図9参照)において、プルアップ回路の構成を変更したものである。実施の形態6のプルアップ回路は、上記実施の形態5のプルアップ回路において、PMOSトランジスタP2を削除して回路構成を簡単にしたものである。
【0097】
図12は実施の形態6の入力回路においての入力ノードAの電位に対するノードM1(プルアップPMOSトランジスタP1のゲート電位)および出力ノードYの電位ならびにプルアップPMOSトランジスタP1のソース−ドレイン電流Ids(P1)のDC解析による特性図である。
【0098】
実施の形態6のプルアップ回路の動作について以下に説明する。なお、実施の形態6のレベル調整回路の動作は、上記実施の形態1と同様である。
【0099】
入力ノードAの電位が0≦A≦VDDのときには、P5はフローティングノードFLの電位に応じてノードM1の電位を上げようとするが、ノードM1の電位はノーマリーONのN1およびN2によって入力ノードAの電位よりも低くなっている(厳密には入力ノードA−ノードM1間の電圧がVtpよりも大きくなっている)。従って、P1は、ONしており、VDDから入力ノードAに電流Idsを流している(図12のIds(P1)参照)。
【0100】
入力ノードAの電位が上昇し、VDD<Aになると、P18がONするので、フローティングノードFLの電位は入力ノードAと同じになり、ノードM1の電位はP5によって上昇する。しかし、Aの電位がVDD付近であるときには、ノードM1の電位は、ノーマリーONのN1およびN2によって降下するので、入力ノードAよりも依然として低い(厳密にはノードM1の電位が入力ノードAよりもVtp以上低い依然として低い)。このため、P1はONしたままであり、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込むようになる(図10のIds(P1)参照)。
【0101】
しかし、VDD<Aにおいて、Aの電位がVDD付近からさらに上昇すれば、それに応じてノードM1の電位もP5によって上昇し、ノードM1の電位が入力ノードAと同じ電位に達すると(厳密にはA−Vtpになると)、P1がOFFし、入力ノードAからVDDに電流Idsが流れ込まなくなる(図10のIds(P1)参照)。
【0102】
従来の入力回路では、図14に示すように、Aの電位がA≧5.25[V]にならないと、P1がOFFせず、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できないが、実施の形態6の入力回路では、図12に示すように、従来よりも低電位のA≧5.05[V]において、P1がOFFし、電流Ids(P1)の流れ込みを遮断できる。
【0103】
以上のように実施の形態6によれば、上記実施の形態5と同様に、入力ノードAの電位が内部電源VDDよりも高いときに、プルアップPMOSトランジスタP1をOFFすることができ、外部回路から流れ込むリーク電流を遮断できる。
【0104】
また、P2を設けないので、上記実施の形態5よりも回路構成を簡単にできる。ただし、ディメンジョンの大きなP5が必要になる。
【0105】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の入力回路によれば、外部回路からの入力信号の電位が内部電源よりも高いときに外部回路から内部電源に流れ込むリーク電流を従来よりも低減できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態1の入力回路の回路構成図である。
【図2】 図1の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図3】 本発明の実施の形態2の入力回路の回路構成図である。
【図4】 図3の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図5】 本発明の実施の形態3の入力回路の回路構成図である。
【図6】 図5の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図7】 本発明の実施の形態4の入力回路の回路構成図である。
【図8】 図7の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図9】 本発明の実施の形態5の入力回路の回路構成図である。
【図10】 図9の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図11】 本発明の実施の形態6の入力回路の回路構成図である。
【図12】 図11の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【図13】 従来の入力回路の回路構成図である。
【図14】 図13の入力回路のDC解析による入出力特性等を示す図である。
【符号の説明】
P1,P2,P4,P5,P11,P12,P13,P16,P17,P18,P19 PMOSトランジスタ、 N1,N2,N4,N5,N6,N11,N13,N14,N15,N16,N17 NMOSトランジスタ、 R1,R2 抵抗、 IV1,IV2 インバータ、 A 入力ノード、 M1,M2,M3,M4 内部ノード、 Y 出力ノード、 VDD 内部電源、 GND 基準電源。

Claims (7)

  1. 外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
    第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
    上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
    上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
    第1ノードと
    を有する半導体集積回路装置の入力回路において、
    上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
    上記入力ノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートに上記第2電位が供給され、基板が上記フローティングノードに接続された第2のPMOSトランジスタと、
    上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが第2ノードに接続され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
    入力端が上記第1ノードに接続され、出力端が上記第2ノードに接続されたインバータ回路と
    を有し、
    上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になって、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づくと、上記インバータ回路によって上記第2ノードの電位が下がり、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成された
    ことを特徴とする半導体集積回路装置の入力回路。
  2. 上記フローティングノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続された第3のPMOSトランジスタをさらに有することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回路装置の入力回路。
  3. 上記インバータ回路の入力端及び上記第2のPMOSトランジスタが、上記第1のPMOSトランジスタのゲートから切り離されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体集積回路装置の入力回路。
  4. 外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
    第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
    上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
    上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
    第1ノードと
    を有する半導体集積回路装置の入力回路において、
    上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
    上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが第2ノードに接続され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
    入力端が上記第1ノードに接続され、出力端が上記第2ノードに接続されたインバータ回路と、
    上記フローティングノード上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され第3のPMOSトランジスタ
    を有し、
    上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になって、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づくと、上記インバータ回路によって上記第2ノードの電位が下がり、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成された
    ことを特徴とする半導体集積回路装置の入力回路。
  5. 第3ノードと、
    上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第3ノードに接続され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第2のNMOSトランジスタと、
    上記入力ノードの電位が、上記第1電位より高く上記電源電位より低い範囲内の所定電位以下のときには上記2のNMOSトランジスタを導通にし、上記所定電位より高いときには上記2のNMOSトランジスタを非導通にする電位を上記第3ノードに供給する回路と
    をさらに有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体集積回路装置の入力回路。
  6. 外部からの入力信号を受け取る入力ノードと、
    第1電位を供給する第1電位供給ラインと、
    上記第1電位よりも高い第2電位を供給する第2電位供給ラインと、
    上記第1電位供給ラインおよび上記第2電位供給ラインの両方からフローティングになっているフローティングノードと、
    第1ノードと
    を有する半導体集積回路装置の入力回路において、
    上記入力ノードと上記第2電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続され、上記入力ノードに上記入力信号が入力されていないときに上記入力ノードの電位を上記第2電位にプルアップする第1のPMOSトランジスタと、
    上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間に設けられ、ゲートに上記第2電位が供給され、上記第1ノードと上記第1電位供給ラインとの間を導通または非導通にする第1のNMOSトランジスタと、
    上記フローティングノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートが上記第1ノードに接続され、基板が上記フローティングノードに接続された第3のPMOSトランジスタと
    を有し、
    上記入力信号が上記第2電位よりも高い電位になると、上記第1のNMOSトランジスタが非導通になり、上記第1ノードの電位が上記入力ノードの電位に近づき、上記第1のPMOSトランジスタが導通になるように構成された
    ことを特徴とする半導体集積回路装置の入力回路。
  7. 上記入力ノードと上記第1ノードとの間に設けられ、ゲートに上記第2電位が供給され、基板が上記フローティングノードに接続された第2のPMOSトランジスタをさらに有することを特徴とする請求項6に記載の半導体集積回路装置の入力回路。
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