JP3963605B2

JP3963605B2 - Rotary substrate processing equipment

Info

Publication number: JP3963605B2
Application number: JP05741199A
Authority: JP
Inventors: 英紀田口; 勝利中田; 貴村田; 大輔菅長
Original assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority date: 1999-03-04
Filing date: 1999-03-04
Publication date: 2007-08-22
Anticipated expiration: 2019-03-04
Also published as: JP2000260743A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハ、液晶用ガラス基板等の基板類を湿式処理する際に使用される回転式基板処理装置に関し、特にその基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプの回転式基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスや液晶パネルの製造に使用される枚葉タイプの回転式基板処理装置は、処理槽内で基板をロータ上に水平に載せ、このロータを所定速度で回転させながら、基板の上面に液体を散布することにより、その上面を湿式処理する。基板の上面に散布された液体は遠心力により周囲に飛散する。また、液体の散布後に基板上に溜まる液体を除去するためにロータを高速で回転させるが、このときも基板から周囲に液体が飛散する。これらの飛散液体を回収するために、回転機構の周囲にはカップが設けられている。
【０００３】
ところで、この種の回転式基板処理装置では、同一槽内でエッチング等の薬液処理と純水による洗浄処理を連続して行う場合がある。この場合、使用後の薬液と洗浄処理で生じる廃液（純水と薬液が混じった液体）を分離回収する必要があり、その分離回収機構としては次の３つが知られている。
【０００４】
第１は、図５に示す三方弁方式である。これは、基板１を回転させる回転機構２の周囲に設けられたカップ３の底部にドレン配管４を設け、この配管途中に三方弁４ａを設けたものである。そして、三方弁４ａを操作することにより、薬液と廃液が分離回収される。
【０００５】
第２の方式は、図６及び図７に示すカップ昇降式である。これは、蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５を用いてカップ３を昇降可能にすると共に、カップ３の内側空間を上下に仕切る仕切り部３ａをカップ３の内面に設けたものである。薬液を回収するときは、図６に示されるように、仕切り部３ａが基板１の下方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより上方の空間に薬液が回収され、フレキシブル管６ａを介してカップ３の外に取り出される。廃液を回収するときは、図７に示されるように、仕切り部３ａが基板１の上方となる高さにカップ３を固定する。これにより、カップ３内の仕切り部３ａより下方の空間に廃液が回収され、フレキシブル管６ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００６】
第３の方式は、図８及び図９に示すロータ昇降式である。これは、仕切り部３ａを備えたカップ３を固定し、代わりに回転機構２をシリンダー７により昇降させるようにしたものである。回転機構２を昇降させることにより、カップ昇降式の場合と同様に薬液と廃液が分離回収される。ただし、カップ昇降式の場合と異なり、カップ３が固定されているので、フレキシブル管６ａ，６ｂは不要となり、カップ３内に回収された薬液及び廃液は、カップ３の外面に取り付けられたポケット８ａ，８ｂを介してカップ３の外に導出される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの分離回収機構には次のような問題がある。
【０００８】
図５に示す三方弁方式の場合は、薬液と廃液の間でカップ２及びドレン配管４の一部が共用されるため、薬液処理に切り替わった最初の数秒間は、先の洗浄処理で残った純水が薬液に混入する。このため、この間に回収される薬液は廃液としなければならず、薬液回収率の低下を招く。
【０００９】
図６及び図７に示すカップ昇降式の場合は、回転機構２の周囲に設けられるカップ３を回転機構２に対して昇降させなければならないため、両者の間を蛇腹やテレスコ等の伸縮部材５によってシールする必要がある。また、カップ３内に回収された液体をカップ３の外に導出するために、その導出管にフレキシブル管６ａ，６ｂを使うことが必要になる。ここにおける薬液としては、例えばエッチング処理の場合は腐食性が非常に強いフッ化水素等も使用されるので、薬液の種類によっては伸縮部材５及びフレキシブル管６ａ，６ｂの材質が限定され、非常に高価なものとなる。
【００１０】
図８及び図９に示すロータ昇降式の場合は、カップ３が固定式となるため、カップ内からカップ外へ液体を導出するための導出管にフレキシブル管を使う必要はなくなる。しかし、ローラ２とカップ３の間をシールするためのシール部材としての伸縮部材５は依然として必要である。このため、伸縮部材５に要するコストが大きな問題として残る。また、回転機構２を昇降可能な可動構造とする必要があるため、振動が大きくなりやすいという問題がある。
【００１１】
本発明の目的は、高い薬液回収率を確保し得るのは勿論のこと、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除することにより装置価格の低減を図り、しかも振動が少ない回転式基板処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本出願人は２段カップ方式の回転式基板処理装置を特願平９−２８８０１６号により先に特許出願した。
【００１３】
この先願装置は、図１０〜図１２に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構２と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構２の周囲に設けられたカップ３とを備えている。カップ３は、円筒形状をした可動式の上カップ３Ａと、上カップ３Ａを収容する固定式の下カップ３Ｂとに分割されている。可動式の上カップ３Ａは、シリンダー７，７の同期動作により昇降動作を行う。上カップ３Ａの上端部は、内側に傾斜した環状の上段液体ガイド部３′である。上段液体ガイド部３′の下方には、内側空間を上下に仕切る仕切り部として、内側に傾斜した環状の下段液体ガイド部３″が設けられている。
【００１４】
基板１の搬入・搬出を行う待機時は、図１０に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる位置に、上カップ３Ａが保持される。薬液処理時は、図１１に示すように、上段液体ガイド部３′が基板１より上方に位置し、下段液体ガイド部３″が基板１より下方となる薬液回収位置に、上カップ３Ａが上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の薬液は下カップ３Ｂの外（上カップ３Ａ内）に回収され、第１ポケット８ａ，８ａより薬液用の気液分離ボックス等に導かれる。純水による洗浄処理時は、図１２に示すように、下段液体ガイド部３″が基板１より上方となる廃液回収位置まで、上カップ２０Ａが更に上昇する。この状態で基板１を回転させると、基板１上の廃液は固定式の下カップ３Ｂ内に回収され、第２ポケット８ｂ，８ｂを経由して廃液用の気液分離ボックス等に導かれる。
【００１５】
かくして、先願装置では、フレキシブル材を必要とする可動部が可及的に排除され、装置価格が低減される。また、回転機構が固定されることにより、振動が抑えられる。
【００１６】
しかし、その一方では、上カップ３Ａの薬液導入口である上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間が常時開放している。このため、待機時にも上段液体ガイド部３′と下段液体ガイド部３″の間から薬液蒸気が上方へ逸散し、薬液濃度の濃い雰囲気と廃液から生じる薬液の濃度の薄い雰囲気が混じり合うという問題がある。この問題を解決するために、ダウンフローが与えられているが、そのファンを駆動するためのモータの設備コストや運転コストが増大する問題がある。また、ダウンフローよっても、薬液と廃液の雰囲気分離を完全に行うことは困難である。
【００１７】
即ち、先願装置では、薬液と廃液の分離回収は行えても、それぞれの雰囲気分離までは困難である。
【００１８】
また、上カップ３Ａは、上段液体ガイド部３′が基板１より下方となる待機位置まで下降する必要がある。このとき、下段液体ガイド部３″は基板１の遙か下方へ必要以上に下降する。一方、下段液体ガイド部３″が廃液回収位置へ上昇したときは、上端液体ガイド部３′は薬液回収位置の遙か上方へ必要以上に上昇する。このため、上段カップ３Ａの昇降ストロークが非常に大きい。このストロークの大きさ、特に下方への必要以上の下降は下カップ３Ｂの深さを大きくする原因になり、装置高の増大につながる。
【００１９】
本発明の回転式基板処理装置は、先願装置の利点を残しつつ、これらの欠点を解消するものであり、２種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の周囲に設けられたカップと、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降し、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を前記カップ内に導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側で且つ最も外側に配置される液体回収ガイドであって、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降し、上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を前記カップの外に導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備している。
【００２０】
本発明の回転式基板処理装置では、カップに対して独立に昇降する２段の環状液体ガイドのダブルアクションにより、先願装置の利点を残しつつ、薬液蒸気の逸散が抑制され、且つ昇降部の動作ストロークが抑制される。この作用効果には、カップに対して独立に昇降する２段の環状液体ガイドのダブルアクションに加えて、２段の環状液体ガイドが昇降方向で重ね合わせできる構成、より詳しくは、基板位置の下方または上方で重ね合わせできる構成が更に寄与している。
【００２１】
即ち、基板位置より下方の待機位置では、上段液体ガイドと下段液体ガイドを重ね合わせる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が閉止される。また、下段液体ガイドの必要以上の降下が回避される。２種類の液体のうちの他方を回収するときは、上段液体ガイドのみを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が開放し、基板から飛散する他方の液体は、この液体導入口からカップの外へ排出される。一方の液体を回収するときは、下段液体ガイドを、基板位置より上方の回収位置へ上昇させる。これにより、基板から飛散する一方の液体はカップ内に回収される。
【００２２】
一方の液体を回収するとき、上段液体ガイドを上昇させず、下段液体ガイドのみを上昇させて上段液体ガイドに重ねれば、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間の液体導入口が閉止される。また、上段液体ガイドの必要以上の上昇が回避される。上段液体ガイドを下方の待機位置から２段階に上昇駆動し、上段液体ガイドが１段目の上昇位置に駆動されたときに下段液体ガイドが下方の待機位置に保持され、上段液体ガイドが２段目の上昇位置に駆動されたときに下段液体ガイドが上方の回収位置へ引き上げられるように、下段液体ガイドを上段液体ガイドに連結すれば、下段液体ガイドの駆動機構が不要になり、しかも、下段液体ガイドの必要以上の降下が回避される。
【００２３】
上段液体ガイド及び下段液体ガイドが上方の回収位置へ上昇したときに各液体ガイドの内側に挿入される環状の飛散防止カバーを回転機構の上方に設ければ、液体の飛散が効果的に防止されるだけでなく、上段液体ガイド及び下段液体ガイドが上方の回収位置へ上昇したときにも、上段液体ガイドと下段液体ガイドの間に形成される液体導入口が、この飛散防止カバーによって閉止される。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。図２は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。図３は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。図４は同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【００２５】
本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置は、図１〜図４に示すように、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構１０の周囲に設けられたカップ２０と、カップ２０に組み合わされた筒状の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０と、回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０とを備えている。これらは、処理槽を兼ねるケーシング６０内に設けられている。ケーシング６０の天井面にはダウンフローを形成するためにクリーンファン７０が設けられている。
【００２６】
回転機構１０は、基板１を水平に支持するロータ１１と、その駆動部１２とからなる。カップ２０は廃液を回収する。このカップ２０は円筒形状で固定式であり、２重の周壁２１を有している。周壁２１の外側には、薬液を回収するために、環状の回収部２０′が一体的に設けられている。
【００２７】
カップ２０内に回収された廃液は、図３及び図４に示すように、カップ２０の底面に接続された排気ダクト兼用の導管２２，２２を介してカップ２０の下方へ取り出され、廃液用の気液分離ボックス２３に送られる。カップ２０の外側に設けられた回収部２０′に回収された薬液は、図１及び図２に示すように、回収部２０′の底面に接続された導管２４，２４を介して回収部２０′の下方へ取り出され、薬液用の気液分離ボックス２５に送られる。両方の液体回収系は、干渉を回避するために、水平面内で周方向に９０°変位して配置されている。
【００２８】
カップ２０に組み合わされる上段液体ガイド３０は、カップ２０に外嵌する円筒部３１と、円筒部３１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部３２とを有しており、傾斜部３２はカップ２０の上方に突出している。この上段液体ガイド３０は、薬液の回収に使用されるもので、薬液の回収部２０′の周壁内面をガイド面として昇降自在に支持され、図示されない駆動機構により、待機位置を起点として上方へ２段階に駆動される。
【００２９】
待機位置では、傾斜部３２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。１段目の上昇位置は薬液回収位置であり、この位置では傾斜部３２の上端（内縁）はロータ１１上の基板１より上方に位置する。２段目の上昇位置は、下段液体ガイド４０を廃液回収位置へ引き上げる引き上げ位置である。
【００３０】
下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０の内側に配置され、廃液の回収に使用される。この下段液体ガイド４０は、上段液体ガイド３０と同様、円筒部４１と、円筒部４１の上端から内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部４２とを有している。円筒部４１は、カップ２０の２重の周壁２１内に挿入されている。カップ２０の上方に突出する傾斜部４２は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２の下側に位置し、その傾斜部３２と同じかこれより若干小さい角度で内側に傾斜している。
【００３１】
下段液体ガイド４０は、カップ２０の周壁２１をガイドとして昇降自在に支持され、最も下の待機位置では、上段液体ガイド３０と同様に、傾斜部４２の上端（内縁）がロータ１１より下方に位置する。上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、周方向に間隔をあけて配置された複数本のロッド３３，３３・・により連結されている。各ロッド３３は、上段液体ガイド３０の傾斜部３２に結合固定され、その傾斜部３２から下方に延出している。そして各ロッド３３は、円筒部４１の上端部外面に取り付けられたガイド４３に昇降自在に通され、下端のストッパにより抜け止めされている。
【００３２】
これにより、上段液体ガイド３０が待機位置にあるときは、各ロッド３３が各ガイド４３に深く挿入されることにより、下段液体ガイド４０が待機位置に保持され、上段液体ガイド３０の傾斜部３２が下段液体ガイド４０の傾斜部４２に重なり合う（図１）。上段液体ガイド３０が１段目の上昇位置（薬液回収位置）へ上昇する間は、各ロッド３３が各ガイド４３から引き抜かれ、下段液体ガイド４０は待機位置に保持される（図２）。上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇すると、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０により引き上げられ、廃液回収位置へ移動する。
【００３３】
上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の上昇時にロータ１１と干渉するのを回避するために、傾斜部３２，４２の上端開口径は、ロータ１１の外径より大きく設定されている。
【００３４】
回転機構１０の上方に設けられた環状の飛散防止カバー５０は、ロータ１１の上方に同心円状に配置された円筒部５１と、円筒部５１の上端部から内側に張り出したフランジ部５２とを有している。円筒部５１は、ロータ１１上に基板１をセット・リセットするための隙間をロータ１１との間に確保する。また、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０の昇降を阻害しないように、傾斜部３２，４２の上端開口径より小さい外径とされている。円筒部５１の高さは、上段液体ガイド３０が２段目の上昇位置（引き上げ位置）へ上昇し、下段液体ガイド４０が廃液回収位置へ引き上げられた状態で、両ガイドの傾斜部３２，４２が円筒部５１に外嵌するように設定されている。
【００３５】
次に本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の機能について説明する。
【００３６】
ロータ１１上への基板１のセットは、図１に示す待機状態、即ち、上段液体ガイド３０が待機位置へ下降した状態で行われる。この状態では、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０は、ロータ１１より下方の実質同じ高さに位置し、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は傾斜部４２の上に重なり合う。このため、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は全周にわたって閉止され、薬液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。
【００３７】
ケーシング６０内では、常時クリーンファン７０によりダウンフローが形成されている。待機時、このダウンフローは、飛散防止カバー５０の内側を通り、ロータ１１と液体ガイド３０，４０の間に形成された環状の微小な隙間を通ってカップ２０内に入り、廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。このため、廃液蒸気のケーシング６０内への逸散が防止される。従って、比較的弱いダウンフローでも、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。
【００３８】
また、下段液体ガイド４０が上段液体ガイド３０と実質同じ高さにあることにより、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避され、カップ２０の深さが抑制される。
【００３９】
薬液処理を行うときは、図２に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置へ駆動される。これにより、傾斜部３２，４２間の薬液導入口が開放する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。下段液体ガイド４０は待機位置に残っている。この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の薬液噴出ノズル８０から薬液が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の薬液を除去する。基板１上の薬液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入し回収される。
【００４０】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に上段液体ガイド３０の傾斜部３２が嵌合している。このため、基板１上からの薬液飛散が防止され、且つ、薬液蒸気の逸散も最小限に抑制される。更に、下段液体ガイド４０が待機位置に残り、ロータ１１との間の隙間が微小なことから、ダウンフローは主に傾斜部３２，４２間の薬液導入口からカップ２０外側の回収部２０′に流入する。このため、カップ２０内への薬液蒸気の侵入も最小限に抑制される。従って、ここでも薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４１】
薬液処理が終わると洗浄処理を行う。このときは、図３に示すように、上段液体ガイド３０が薬液処理位置からその上の引き上げ位置へ駆動される。これにより、下段液体ガイド４０は廃液回収位置へ上昇し、ロータ１１との間の隙間を増大させると共に、その傾斜部３２は飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。また、上段液体ガイド３０の傾斜部３２は、引き続き飛散防止カバー５０の円筒部５１に僅かの隙間をあけて外嵌する。
【００４２】
この状態で、基板１が回転し、その基板１上に、飛散防止カバー５０内の純水噴出ノズル９０から純水が散布される。散布が終わると、基板１を高速で回転させて、基板１上の廃液を除去する。基板１上の廃液は、基板１の回転に伴う遠心力により外側へ移動し、下段液体ガイド４０の傾斜部４２に案内されてカップ２０内に流入し回収される。
【００４３】
このとき、ロータ１１の上方には飛散防止カバー５０があり、且つ、その外側に液体ガイド３０，４０の傾斜部３２，４０が２重に嵌合している。このため、基板１上からの廃液飛散が防止される。また、傾斜部３２，４２間の薬液導入口は飛散防止カバー５０の円筒部５１により実質的に閉止されており、ダウンフローは主に下段液体ガイド４０とロータ１１の間の増大した隙間からカップ２０内に流入する。従って、ここでも薬液蒸気の逸散が最小限に抑制され、薬液と廃液の雰囲気分離が図られる。
【００４４】
洗浄処理が終わると、乾燥処理を行う。このときは、図４に示すように、上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０が回収位置に保持されたまま、回転する基板１の上面中心部に、飛散防止カバー５０内のガス噴出ノズル１００から窒素ガスがパージされると共に、回転機構１０を通して基板１の下面中心部に窒素ガスがパージされる。これらのパージガスはダウンフローと共に、カップ２０内から廃液回収用の導管２２，２２及び気液分離ボックス２３などを経てケーシング６０外へ導出される。
【００４５】
このような分離回収によると、薬液と廃液が混じり合うことがない。従って、廃液の混入による薬液回収効率の低下は生じない。
【００４６】
回転機構１０が固定されているため、振動が少ない。
【００４７】
回転機構１０が固定されている上に、廃液を回収するカップ２０も固定式であるため、両者の間をシールするのに伸縮部材を必要とせず、フレキシブル管も必要としない。従って、薬液として腐食性の強いものを使用する場合にあっても装置コストが上昇しない。
【００４８】
上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０のダブルアクションにより、薬液導入口である傾斜部３２，４２間が待機時に閉止されるので、薬液蒸気の逸散が防止され、薬液と廃液の雰囲気分離が可能になる。また、薬液蒸気の逸散を防止するためのクリーンファン７０の設備費及び運転費が節減される。また、下段液体ガイド４０の必要以上の降下が回避されるので、カップ２０が浅くなり、装置高が低減される。
【００４９】
可動式の液体ガイド３０，４０と飛散防止カバー５０の組合せにより、薬液及び廃液の飛散が防止されると共に、薬液蒸気の逸散防止、薬液と廃液の雰囲気分離が更に完全になる。
【００５０】
上段液体ガイド３０のみが強制的に駆動されるので、ガイド駆動機構が簡単である。
【００５１】
なお、ガイド駆動については、上段液体ガイド３０と下段液体ガイド４０を独立に駆動することも可能である。独立駆動によれば、下段液体ガイド４０が廃液回収位置にあるとき、これに上段液体ガイド３０を重ね合わせることができるので、上段液体ガイド３０を薬液回収位置より上方に移動させる操作は不要となる。
【００５２】
【発明の効果】
以上に説明した通り、本発明に係る回転式基板処理装置は、回転機構の周囲に設けられるカップに、独立に昇降可能とされた上下２段の液体ガイドを組み合わせることにより、液体の混合を回避し、高い薬液回収率を確保できる。また、フレキシブル材を必要とする可動部を可及的に排除し、装置価格を低減できる。更に、回転機構を固定できるので、振動を抑制できる。これらに加え、薬液蒸気の逸散防止を図り、薬液と廃液の雰囲気分離を可能にすると共に、薬液蒸気の逸散防止に要する経費を抑制でき、装置高も抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置の概略縦断面図で、待機時を示す。
【図２】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、薬液処理時を示す。
【図３】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、洗浄処理時を示す。
【図４】同回転式基板処理装置の概略縦断面図で、乾燥処理時を示す。
【図５】従来の回転式基板処理装置（三方弁式）の構造を示す概略縦断面図である。
【図６】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図７】従来の回転式基板処理装置（カップ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図８】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を薬液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図９】従来の回転式基板処理装置（ロータ昇降式）の構造を廃液回収動作の場合について示し、（ａ）概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１０】先願の回転式基板処理装置を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１１】同回転式基板処理装置の薬液処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【図１２】同回転式基板処理装置の洗浄処理時を示し、（ａ）は概略平面図、（ｂ）は概略縦断面図である。
【符号の説明】
１基板
１０回転機構
１１ロータ
１２駆動部
２０廃液回収用のカップ
２０′ 薬液回収部
３０上段液体ガイド
３１円筒部
３２傾斜部
３３ロッド
４０下段液体ガイド
４１円筒部
４２傾斜部
４３ガイド
５０飛散防止カバー
６０ケーシング
７０クリーンファン
８０薬液噴射ノズル
９０純水噴射ノズル
１００ガス噴射ノズル[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a rotary substrate processing apparatus used for wet processing of substrates such as semiconductor wafers and glass substrates for liquid crystal, and more particularly to a single wafer type rotary substrate processing apparatus that processes the substrates one by one.
[0002]
[Prior art]
A single-wafer type rotary substrate processing apparatus used in the manufacture of semiconductor devices and liquid crystal panels places a substrate horizontally on a rotor in a processing tank, and rotates the rotor at a predetermined speed while liquid on the upper surface of the substrate. The upper surface is wet-treated by spraying. The liquid sprayed on the upper surface of the substrate is scattered around by centrifugal force. In addition, the rotor is rotated at a high speed in order to remove the liquid accumulated on the substrate after the liquid is sprayed, and at this time, the liquid is scattered from the substrate to the surroundings. In order to collect these scattered liquids, a cup is provided around the rotating mechanism.
[0003]
By the way, in this type of rotary substrate processing apparatus, chemical processing such as etching and cleaning processing with pure water may be continuously performed in the same tank. In this case, it is necessary to separate and recover the chemical solution after use and the waste liquid (liquid in which pure water and chemical solution are mixed) generated in the cleaning process, and the following three are known as the separation and recovery mechanism.
[0004]
The first is a three-way valve system shown in FIG. In this configuration, a drain pipe 4 is provided at the bottom of a cup 3 provided around a rotating mechanism 2 that rotates the substrate 1, and a three-way valve 4a is provided in the middle of the pipe. And the chemical | medical solution and a waste liquid are isolate | separated and collect | recovered by operating the three-way valve 4a.
[0005]
The second method is a cup lifting type shown in FIGS. In this configuration, the cup 3 can be moved up and down by using an expansion / contraction member 5 such as a bellows or a telescope, and a partition portion 3 a for partitioning the inner space of the cup 3 up and down is provided on the inner surface of the cup 3. When recovering the chemical solution, as shown in FIG. 6, the cup 3 is fixed at a height at which the partition portion 3 a is below the substrate 1. Thereby, a chemical | medical solution is collect | recovered by the space above the partition part 3a in the cup 3, and it takes out out of the cup 3 via the flexible pipe | tube 6a. When collecting the waste liquid, as shown in FIG. 7, the cup 3 is fixed to a height at which the partition portion 3 a is above the substrate 1. Thereby, waste liquid is collect | recovered by the space below the partition part 3a in the cup 3, and it is derived | led-out outside the cup 3 via the flexible pipe | tube 6b.
[0006]
The third method is a rotor lifting type shown in FIGS. In this configuration, the cup 3 provided with the partition portion 3a is fixed, and the rotating mechanism 2 is moved up and down by the cylinder 7 instead. By moving the rotating mechanism 2 up and down, the chemical solution and the waste solution are separated and recovered as in the case of the cup lifting type. However, since the cup 3 is fixed unlike the case of the cup lifting type, the flexible tubes 6a and 6b are not required, and the chemical solution and waste liquid collected in the cup 3 are pockets 8a attached to the outer surface of the cup 3. , 8b is led out of the cup 3.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, these separation and recovery mechanisms have the following problems.
[0008]
In the case of the three-way valve system shown in FIG. 5, since a part of the cup 2 and the drain pipe 4 is shared between the chemical liquid and the waste liquid, the first few seconds after switching to the chemical liquid treatment remained in the previous cleaning process. Pure water enters the chemical. For this reason, the chemical | medical solution collect | recovered in the meantime must be made into a waste liquid, and causes the fall of a chemical | medical solution collection rate.
[0009]
In the case of the cup lifting type shown in FIGS. 6 and 7, the cup 3 provided around the rotating mechanism 2 must be lifted and lowered with respect to the rotating mechanism 2. Need to be sealed by. Further, in order to lead the liquid collected in the cup 3 out of the cup 3, it is necessary to use the flexible pipes 6a and 6b for the lead-out pipe. As the chemical solution here, for example, hydrogen fluoride or the like having a very strong corrosive property is used in the case of an etching process. Therefore, depending on the type of the chemical solution, the materials of the expandable member 5 and the flexible pipes 6a and 6b are limited. It becomes expensive.
[0010]
In the case of the rotor lifting type shown in FIGS. 8 and 9, since the cup 3 is a fixed type, there is no need to use a flexible pipe as a lead-out pipe for leading the liquid from the cup to the outside of the cup. However, the expansion / contraction member 5 as a sealing member for sealing between the roller 2 and the cup 3 is still necessary. For this reason, the cost which the expansion-contraction member 5 requires remains as a big problem. Moreover, since it is necessary to make the rotating mechanism 2 a movable structure that can be raised and lowered, there is a problem that vibration tends to increase.
[0011]
The object of the present invention is to provide a high chemical recovery rate, as well as to reduce the cost of the apparatus by eliminating movable parts that require a flexible material as much as possible, and a rotary type with less vibration It is to provide a substrate processing apparatus.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present applicant has previously filed a patent application for a two-stage cup type rotary substrate processing apparatus by Japanese Patent Application No. 9-288016.
[0013]
As shown in FIGS. 10 to 12, this prior application device includes a rotating mechanism 2 that horizontally supports and rotates a substrate 1 to be processed, and a rotating mechanism that collects liquid that is scattered from the substrate 1 by the rotation of the substrate 1. 2 and a cup 3 provided around 2. The cup 3 is divided into a movable upper cup 3A having a cylindrical shape and a fixed lower cup 3B that accommodates the upper cup 3A. The movable upper cup 3 </ b> A moves up and down by the synchronous operation of the cylinders 7 and 7. The upper end portion of the upper cup 3A is an annular upper liquid guide portion 3 'inclined inward. Below the upper liquid guide portion 3 ′, an annular lower liquid guide portion 3 ″ inclined inward is provided as a partition portion that partitions the inner space vertically.
[0014]
During standby for loading / unloading the substrate 1, the upper cup 3 </ b> A is held at a position where the upper liquid guide portion 3 ′ is below the substrate 1 as shown in FIG. 10. At the time of the chemical treatment, as shown in FIG. 11, the upper cup 3A is raised to the chemical recovery position where the upper liquid guide portion 3 ′ is located above the substrate 1 and the lower liquid guide portion 3 ″ is below the substrate 1. When the substrate 1 is rotated in this state, the chemical solution on the substrate 1 is collected outside the lower cup 3B (inside the upper cup 3A), and is guided from the first pockets 8a and 8a to the gas-liquid separation box for the chemical solution. At the time of the cleaning process with pure water, the upper cup 20A further moves up to the waste liquid recovery position where the lower liquid guide portion 3 ″ is above the substrate 1, as shown in FIG. When the substrate 1 is rotated in this state, the waste liquid on the substrate 1 is collected in the fixed lower cup 3B and guided to a gas-liquid separation box for waste liquid through the second pockets 8b and 8b.
[0015]
Thus, in the prior application apparatus, movable parts that require a flexible material are eliminated as much as possible, and the apparatus price is reduced. Moreover, vibration is suppressed by fixing the rotation mechanism.
[0016]
However, on the other hand, the space between the upper liquid guide portion 3 ′ and the lower liquid guide portion 3 ″, which are the chemical liquid inlets of the upper cup 3A, is always open. There is a problem in that the chemical vapor escapes upward from between the lower liquid guide portion 3 ″, and the atmosphere having a high concentration of the chemical and the atmosphere having a low concentration of the chemical generated from the waste liquid are mixed. In order to solve this problem, a down flow is given, but there is a problem that the equipment cost and operation cost of the motor for driving the fan increase. Also, even with downflow, it is difficult to completely separate the atmosphere of the chemical liquid and the waste liquid.
[0017]
That is, with the prior application apparatus, even if the chemical solution and the waste liquid can be separated and recovered, it is difficult to separate the respective atmospheres.
[0018]
Further, the upper cup 3 </ b> A needs to be lowered to a standby position where the upper liquid guide portion 3 ′ is below the substrate 1. At this time, the lower liquid guide portion 3 ″ is lowered more than necessary below the substrate 1. On the other hand, when the lower liquid guide portion 3 ″ is raised to the waste liquid collecting position, the upper liquid guide portion 3 ′ is recovered by the chemical solution. Raise more than necessary to the top of the position. For this reason, the raising / lowering stroke of the upper cup 3A is very large. The size of the stroke, particularly the downward descent more than necessary, causes the depth of the lower cup 3B to increase, leading to an increase in the height of the apparatus.
[0019]
The rotary substrate processing apparatus of the present invention eliminates these disadvantages while retaining the advantages of the prior application apparatus, and is a cup provided around the rotation mechanism to collect one of the two types of liquids. And a cylindrical movable lower liquid guide that moves up and down between a standby position below the substrate position and an upper collection position and guides one liquid scattered from the substrate at the upper collection position into the cup, and a lower stage A liquid recovery guide arranged outside and outside the liquid guide, and is lifted and lowered independently from the lower liquid guide between a standby position below the substrate position and an upper recovery position, and the substrate is at the upper recovery position. And a movable upper liquid guide that is cylindrical and guides the other liquid scattered from the cup to the outside of the cup.
[0020]
In the rotary substrate processing apparatus of the present invention, the double action of the two-stage annular liquid guide that moves up and down independently with respect to the cup suppresses the escape of the chemical vapor while leaving the advantages of the prior application apparatus, and the lifting unit The operation stroke is suppressed. In addition to the double action of the two-stage annular liquid guide that moves up and down independently of the cup, this function and effect can be configured so that the two-stage annular liquid guide can be superposed in the up-and-down direction. Or the structure which can be overlap | superposed above contributes further.
[0021]
That is, the upper liquid guide and the lower liquid guide are overlapped at the standby position below the substrate position. As a result, the liquid inlet formed between the upper liquid guide and the lower liquid guide is closed. Further, lowering of the lower liquid guide than necessary is avoided. When recovering the other of the two types of liquids, only the upper liquid guide is raised to a recovery position above the substrate position. Thereby, the liquid inlet formed between the upper liquid guide and the lower liquid guide is opened, and the other liquid scattered from the substrate is discharged out of the cup from the liquid inlet . When recovering one liquid, the lower liquid guide is raised to a recovery position above the substrate position. As a result, one liquid scattered from the substrate is collected in the cup.
[0022]
When collecting one liquid, if the upper liquid guide is not raised and only the lower liquid guide is raised and overlapped with the upper liquid guide, the liquid inlet between the upper liquid guide and the lower liquid guide is closed. Further, the upper liquid guide is prevented from rising more than necessary. The upper liquid guide is driven to rise in two stages from the lower standby position, and when the upper liquid guide is driven to the first higher position, the lower liquid guide is held at the lower standby position, and the upper liquid guide is moved to the second stage. If the lower liquid guide is connected to the upper liquid guide so that the lower liquid guide is pulled up to the upper recovery position when driven to the raised position of the eyes, the drive mechanism for the lower liquid guide is not required, and Unnecessary descent of the liquid guide is avoided.
[0023]
If an annular splash prevention cover that is inserted inside each liquid guide when the upper liquid guide and the lower liquid guide are raised to the upper recovery position is provided above the rotation mechanism, the liquid splash is effectively prevented. In addition, when the upper liquid guide and the lower liquid guide rise to the upper recovery position, the liquid inlet formed between the upper liquid guide and the lower liquid guide is closed by the scattering prevention cover. .
[0024]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of a rotary substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, showing a standby state. FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view of the rotary substrate processing apparatus, showing the time of chemical processing. FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view of the rotary substrate processing apparatus, showing a cleaning process. FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view of the rotary substrate processing apparatus, showing the time of the drying process.
[0025]
As shown in FIGS. 1 to 4, the rotary substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention starts from the substrate 1 by rotating the substrate 1 and the rotating mechanism 10 that horizontally supports and rotates the substrate 1 to be processed. A cup 20 provided around the rotating mechanism 10 to collect the scattered liquid, a cylindrical upper liquid guide 30 and a lower liquid guide 40 combined with the cup 20, and an annular provided above the rotating mechanism 10. The anti-scattering cover 50 is provided. These are provided in a casing 60 that also serves as a treatment tank. A clean fan 70 is provided on the ceiling surface of the casing 60 in order to form a downflow.
[0026]
The rotation mechanism 10 includes a rotor 11 that horizontally supports the substrate 1 and a drive unit 12. The cup 20 collects the waste liquid. The cup 20 is cylindrical and fixed, and has a double peripheral wall 21. An annular collection portion 20 ′ is integrally provided outside the peripheral wall 21 in order to collect the chemical solution.
[0027]
As shown in FIGS. 3 and 4, the waste liquid collected in the cup 20 is taken out below the cup 20 via the conduits 22, 22 serving as exhaust ducts connected to the bottom surface of the cup 20. It is sent to the gas-liquid separation box 23. As shown in FIGS. 1 and 2, the chemical solution collected in the collecting unit 20 ′ provided outside the cup 20 is collected through conduits 24 and 24 connected to the bottom surface of the collecting unit 20 ′. And is sent to a gas-liquid separation box 25 for chemicals. Both liquid recovery systems are arranged 90 ° displaced in the circumferential direction in the horizontal plane in order to avoid interference.
[0028]
The upper liquid guide 30 combined with the cup 20 includes a cylindrical portion 31 that is externally fitted to the cup 20, and an inclined portion 32 that is inclined inward from the upper end of the cylindrical portion 31 and extends upward. 32 protrudes above the cup 20. The upper liquid guide 30 is intended to be used for the recovery of chemical, is vertically movably supporting the inner surface of the peripheral wall of the collecting section 20 'of the chemical as a guide surface, by a driving mechanism (not shown), upward standby position starting 2 Driven in stages.
[0029]
In the standby position, the upper end (inner edge) of the inclined portion 32 is positioned below the rotor 11. The rising position of the first stage is a chemical solution recovery position, and at this position, the upper end (inner edge) of the inclined portion 32 is located above the substrate 1 on the rotor 11. The second-stage lift position is a pull-up position for pulling up the lower-stage liquid guide 40 to the waste liquid collection position.
[0030]
The lower liquid guide 40 is disposed inside the upper liquid guide 30 and is used for collecting the waste liquid. Similar to the upper liquid guide 30, the lower liquid guide 40 includes a cylindrical portion 41 and an inclined portion 42 that is inclined inward from the upper end of the cylindrical portion 41 and extends upward. The cylindrical portion 41 is inserted into the double peripheral wall 21 of the cup 20. The inclined portion 42 protruding above the cup 20 is located below the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 and is inclined inward at an angle that is the same as or slightly smaller than the inclined portion 32.
[0031]
The lower liquid guide 40 is supported to be movable up and down with the peripheral wall 21 of the cup 20 as a guide. At the lowest standby position, the upper end (inner edge) of the inclined portion 42 is positioned below the rotor 11 in the same manner as the upper liquid guide 30. To do. The upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 are connected by a plurality of rods 33, 33,... Arranged at intervals in the circumferential direction. Each rod 33 is coupled and fixed to the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30, and extends downward from the inclined portion 32. Each rod 33 is passed through a guide 43 attached to the outer surface of the upper end portion of the cylindrical portion 41 so as to be movable up and down, and is prevented from being detached by a stopper at the lower end.
[0032]
Thus, when the upper liquid guide 30 is in the standby position, the rods 33 are inserted deeply into the guides 43, whereby the lower liquid guide 40 is held in the standby position, and the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 is It overlaps with the inclined portion 42 of the lower liquid guide 40 (FIG. 1). While the upper liquid guide 30 is raised to the first raised position (chemical solution collecting position), each rod 33 is pulled out from each guide 43, and the lower liquid guide 40 is held at the standby position (FIG. 2). When the upper liquid guide 30 is raised to the second-stage raised position (pickup position), the lower liquid guide 40 is raised by the upper liquid guide 30 and moved to the waste liquid collection position.
[0033]
In order to avoid interference with the rotor 11 when the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 are raised, the upper end opening diameters of the inclined portions 32 and 42 are set larger than the outer diameter of the rotor 11.
[0034]
An annular scattering prevention cover 50 provided above the rotation mechanism 10 has a cylindrical portion 51 disposed concentrically above the rotor 11 and a flange portion 52 projecting inward from the upper end portion of the cylindrical portion 51. is doing. The cylindrical portion 51 secures a gap between the rotor 11 and the rotor 11 for setting and resetting the substrate 1. The outer diameter of the upper and lower liquid guides 30 and 40 is smaller than the upper end opening diameter of the inclined portions 32 and 42 so as not to hinder the elevation of the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40. The height of the cylindrical portion 51 is such that the upper liquid guide 30 is raised to the second raised position (pickup position) and the lower liquid guide 40 is raised to the waste liquid collection position, and the inclined portions 32 and 42 of both guides are raised. Is set so as to fit around the cylindrical portion 51.
[0035]
Next, functions of the rotary substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention will be described.
[0036]
The substrate 1 is set on the rotor 11 in a standby state shown in FIG. 1, that is, in a state where the upper liquid guide 30 is lowered to the standby position. In this state, the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 are located at substantially the same height below the rotor 11, and the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 overlaps the inclined portion 42. For this reason, the chemical | medical solution inlet between the inclination parts 32 and 42 is closed over the perimeter, and dispersion | distribution of the chemical | medical solution vapor | steam into the casing 60 is prevented.
[0037]
In the casing 60, a down flow is always formed by the clean fan 70. During standby, this downflow passes through the inside of the anti-scatter cover 50 and enters the cup 20 through an annular minute gap formed between the rotor 11 and the liquid guides 30 and 40, and is a conduit for collecting waste liquid. 22 and 22 and the gas-liquid separation box 23 and the like are led out of the casing 60. For this reason, the escape of the waste liquid vapor into the casing 60 is prevented. Accordingly, it is possible to separate the atmosphere of the chemical liquid and the waste liquid even with a relatively weak downflow.
[0038]
Further, since the lower liquid guide 40 is substantially at the same height as the upper liquid guide 30, the lower liquid guide 40 is prevented from being lowered more than necessary, and the depth of the cup 20 is suppressed.
[0039]
When performing chemical processing, as shown in FIG. 2, the upper liquid guide 30 is driven to the chemical processing position. Thereby, the chemical | medical solution inlet between the inclination parts 32 and 42 opens. Further, the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 is fitted on the cylindrical portion 51 of the anti-scatter cover 50 with a slight gap. The lower liquid guide 40 remains in the standby position. In this state, the substrate 1 rotates, and a chemical solution is sprayed onto the substrate 1 from the chemical solution ejection nozzle 80 in the scattering prevention cover 50. When spraying is completed, the substrate 1 is rotated at a high speed to remove the chemical solution on the substrate 1. The chemical solution on the substrate 1 moves outward due to the centrifugal force accompanying the rotation of the substrate 1, and flows into the recovery portion 20 ′ outside the cup 20 from the chemical solution inlet between the inclined portions 32 and 42 and is recovered.
[0040]
At this time, the scattering prevention cover 50 is provided above the rotor 11, and the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 is fitted to the outside thereof. For this reason, scattering of the chemical solution from the substrate 1 is prevented, and the escape of the chemical solution vapor is suppressed to the minimum. Furthermore, since the lower liquid guide 40 remains in the standby position and the gap between the rotor 11 and the rotor 11 is very small, the downflow is mainly from the chemical solution inlet between the inclined portions 32 and 42 to the recovery portion 20 ′ outside the cup 20. Inflow. For this reason, the penetration of the chemical vapor into the cup 20 is also suppressed to a minimum. Therefore, the atmosphere separation of the chemical liquid and the waste liquid is also achieved here.
[0041]
When the chemical treatment is completed, the cleaning process is performed. At this time, as shown in FIG. 3, the upper liquid guide 30 is driven from the chemical solution processing position to the upper pulling position. As a result, the lower liquid guide 40 rises to the waste liquid collection position and increases the gap with the rotor 11, and the inclined portion 32 is fitted over the cylindrical portion 51 of the anti-scattering cover 50 with a slight gap. . Further, the inclined portion 32 of the upper liquid guide 30 is continuously fitted to the cylindrical portion 51 of the scattering prevention cover 50 with a slight gap.
[0042]
In this state, the substrate 1 rotates, and pure water is sprayed onto the substrate 1 from the pure water ejection nozzle 90 in the scattering prevention cover 50. When spraying is finished, the substrate 1 is rotated at a high speed to remove the waste liquid on the substrate 1. The waste liquid on the substrate 1 moves outward by the centrifugal force accompanying the rotation of the substrate 1, is guided by the inclined portion 42 of the lower liquid guide 40, flows into the cup 20, and is collected.
[0043]
At this time, the scattering prevention cover 50 is above the rotor 11, and the inclined portions 32 and 40 of the liquid guides 30 and 40 are doubly fitted on the outside thereof. For this reason, scattering of waste liquid from the substrate 1 is prevented. Further, the chemical solution inlet between the inclined portions 32 and 42 is substantially closed by the cylindrical portion 51 of the anti-scattering cover 50, and the downflow is mainly caused by the increased gap between the lower liquid guide 40 and the rotor 11. 20 flows in. Therefore, here again, the escape of the chemical vapor is suppressed to a minimum, and the chemical liquid and the waste liquid are separated from each other.
[0044]
When the cleaning process is completed, a drying process is performed. At this time, as shown in FIG. 4, the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 are held at the collection position, and the gas jet nozzle 100 in the scattering prevention cover 50 is placed at the center of the upper surface of the rotating substrate 1. Nitrogen gas is purged and nitrogen gas is purged through the rotation mechanism 10 to the center of the lower surface of the substrate 1. These purge gases are led out of the casing 60 from the inside of the cup 20 through the conduits 22 and 22 for collecting the waste liquid and the gas-liquid separation box 23 together with the down flow.
[0045]
According to such separation and recovery, the chemical liquid and the waste liquid are not mixed. Accordingly, there is no reduction in chemical recovery efficiency due to the mixing of waste liquid.
[0046]
Since the rotation mechanism 10 is fixed, there is little vibration.
[0047]
Since the rotating mechanism 10 is fixed and the cup 20 for collecting the waste liquid is also a fixed type, an expansion member is not required and a flexible tube is not required to seal between the two. Therefore, the apparatus cost does not increase even when a highly corrosive chemical solution is used.
[0048]
The double action of the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 closes the inclined portions 32 and 42, which are chemical liquid inlets, during standby, so that the chemical liquid vapor is prevented from escaping and the chemical liquid and waste liquid atmosphere can be separated. become. In addition, the equipment cost and operating cost of the clean fan 70 for preventing the escape of the chemical vapor are reduced. Further, since the lower liquid guide 40 is prevented from descending more than necessary, the cup 20 becomes shallow and the height of the apparatus is reduced.
[0049]
The combination of the movable liquid guides 30 and 40 and the anti-scattering cover 50 prevents the chemical liquid and the waste liquid from scattering, and further prevents the chemical vapor from escaping and separating the chemical liquid and the waste liquid from the atmosphere.
[0050]
Since only the upper liquid guide 30 is forcibly driven, the guide driving mechanism is simple.
[0051]
As for the guide drive, the upper liquid guide 30 and the lower liquid guide 40 can be driven independently. According to the independent drive, when the lower liquid guide 40 is at the waste liquid recovery position, the upper liquid guide 30 can be superimposed on the lower liquid guide 40, so that the operation of moving the upper liquid guide 30 upward from the chemical liquid recovery position becomes unnecessary. .
[0052]
【The invention's effect】
As described above, the rotary substrate processing apparatus according to the present invention avoids liquid mixing by combining a cup provided around the rotation mechanism with two upper and lower liquid guides that can be moved up and down independently. In addition, a high chemical recovery rate can be secured. Moreover, the movable part which requires a flexible material can be eliminated as much as possible, and the apparatus price can be reduced. Furthermore, since the rotation mechanism can be fixed, vibration can be suppressed. In addition to these, it is possible to prevent the chemical vapor from escaping and to separate the atmosphere of the chemical from the waste liquid, to suppress the cost required to prevent the chemical vapor from escaping, and to suppress the height of the apparatus.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of a rotary substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, showing a standby state.
FIG. 2 is a schematic vertical cross-sectional view of the rotary substrate processing apparatus, showing the time of chemical processing.
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view of the rotary substrate processing apparatus showing a cleaning process.
FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view of the rotary substrate processing apparatus, showing a drying process.
FIG. 5 is a schematic longitudinal sectional view showing the structure of a conventional rotary substrate processing apparatus (three-way valve type).
6A and 6B show the structure of a conventional rotary substrate processing apparatus (cup raising / lowering type) in the case of a chemical recovery operation, where FIG. 6A is a schematic plan view, and FIG.
FIGS. 7A and 7B show the structure of a conventional rotary substrate processing apparatus (cup elevating type) in the case of waste liquid recovery operation, where FIG. 7A is a schematic plan view, and FIG.
FIGS. 8A and 8B show the structure of a conventional rotary substrate processing apparatus (rotor lifting type) in the case of a chemical recovery operation, where FIG. 8A is a schematic plan view, and FIG.
FIGS. 9A and 9B show the structure of a conventional rotary substrate processing apparatus (rotor raising / lowering type) in the case of waste liquid recovery operation, where FIG. 9A is a schematic plan view, and FIG.
10A and 10B show a rotary substrate processing apparatus of a prior application, in which FIG. 10A is a schematic plan view, and FIG. 10B is a schematic longitudinal sectional view.
FIGS. 11A and 11B show a chemical processing of the rotary substrate processing apparatus, where FIG. 11A is a schematic plan view, and FIG. 11B is a schematic longitudinal sectional view.
FIGS. 12A and 12B show a cleaning process of the rotary substrate processing apparatus, where FIG. 12A is a schematic plan view, and FIG. 12B is a schematic longitudinal sectional view;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 10 Rotating mechanism 11 Rotor 12 Drive part 20 Cup 20 'for waste liquid collection | recovery Liquid recovery part 30 Upper stage liquid guide 31 Cylindrical part 32 Inclination part 33 Rod 40 Lower stage liquid guide 41 Cylindrical part 42 Inclination part 43 Guide 50 Scatter prevention cover 60 Casing 70 Clean fan 80 Chemical solution injection nozzle 90 Pure water injection nozzle 100 Gas injection nozzle

Claims

In a single-wafer type rotary substrate processing apparatus for rotating and supporting a substrate to be processed horizontally by a rotating mechanism and separating and recovering two types of liquid scattered from the substrate by the rotation, one of the two types of liquid A cup provided around the rotation mechanism to collect the liquid, and a liquid that is lifted and lowered between a standby position below the substrate position and an upper collection position, and splashes from the substrate at the upper collection position into the cup. A cylindrical and movable lower liquid guide that is guided, and is moved up and down independently from the lower liquid guide between a standby position below the substrate position and an upper collection position , and is disposed outside and outside the lower liquid guide. a liquid recovery guide, rotary substrate processing instrumentation, characterized by comprising a upper liquid guide movable in a cylindrical guiding the other liquid scattered from the substrate above the recovery position outside the cup .

The rotary substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the upper liquid guide and the lower liquid guide can be overlapped in the up and down direction .

The rotary substrate processing apparatus according to claim 2 , wherein the upper liquid guide and the lower liquid guide can be overlapped at a collection position above the substrate position .

The rotary substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the upper liquid guide and the lower liquid guide can be simultaneously held below the substrate position.