JP3950319B2 - Method for cleaning glass substrate for information recording medium, method for producing glass substrate for information recording medium, and method for producing information recording medium - Google Patents

Method for cleaning glass substrate for information recording medium, method for producing glass substrate for information recording medium, and method for producing information recording medium Download PDF

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    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等といった情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法及び情報記録媒体用ガラス基板の作製方法並びに情報記録媒体の作製方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、上記のような情報記録媒体用ガラス基板は、シート状のガラス素板を円盤状に切断してその表面を研磨した後、化学強化が施されて形成されている。この化学強化とは、加熱した化学強化処理液にガラス素板を浸漬させ、ガラス素板中に含まれる一価の金属イオンをこれと比較してそのイオン半径が大きな一価の金属イオンに置き換えることにより、得られるガラス基板の強度を高めるものである。化学強化後のガラス基板の表面には置き換えられ、外部に放出された一価の金属イオンにより生成される溶融塩が付着物として付着している。また、この他にも溶融塩に混じり込んだ化学強化処理装置等を形成する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等の微粒子が付着物として付着している。そして、これら付着物を除去するため、化学強化後のガラス基板には洗浄処理が施されるようになっている。
【0003】
ガラス基板に洗浄処理を施すための洗浄装置は、上面が開口された略四角箱状をなす洗浄槽を備えている。この洗浄槽内にはガラス基板を洗浄するための洗浄液として水が貯留されており、化学強化処理後のガラス基板は当該洗浄槽内の水に浸漬されるようになっている。前記洗浄槽の内部又は外部にはヒーターが取り付けられており、このヒーターによって洗浄槽内に貯留された水は加熱されて30〜100℃の温水となっている。また、洗浄槽の内部には超音波発生装置が取り付けられており、水に浸漬されたガラス基板に超音波を照射するようになっている。
【0004】
さて、化学強化処理後のガラス基板は、化学強化処理装置から取り出された後、常温程度まで冷却される。このとき、溶融塩がガラス基板の表面に析出し、付着物として付着する。この表面に付着物が付着したガラス基板は、まず洗浄槽内に投入され、30〜100℃の温水に浸漬される。その後、温水に浸漬されたガラス基板に超音波発生装置から超音波が照射される。すると、ガラス基板の表面の付着物は、超音波による振動という物理的外力で微粒子状に粉砕され、ガラス基板の表面から遊離されるとともに、温水の極性と熱エネルギーによって温水に溶解されて除去されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来の洗浄装置を使用してガラス基板を洗浄する場合、超音波は対象となる付着物を振動させ、粉砕する機能を有するが、この超音波による振動では洗浄槽内の温水を攪拌することはできない。このため、粉砕された付着物のうち特に溶融塩は、洗浄槽内で均一に分散されることなく、ガラス基板の近傍にのみ分散されて溶解されてしまい、温水に対する溶融塩の溶解速度が急激に低下して十分な洗浄能力を維持することができなくなるという問題があった。
【0006】
さらに、付着物には溶融塩だけでなく、前に挙げた微粒子ような温水に溶けないものも混じり込んでいる。このような温水に溶けない付着物は超音波を照射している間はガラス基板の近傍に分散されているが、超音波の照射を停止するとガラス基板の表面に再び付着されるおそれがある。そして、このような再付着した付着物により、ガラス基板の表面の清浄度が低下し、微小突起が形成され、平滑性が失われて欠陥が発生してしまうという問題があった。
【0007】
また、超音波は超音波発生装置からの距離が長くなったり、対象物が多くなったりすると対象物を振動させる力が弱まってしまう。このため、超音波では一作業当たりのガラス基板の処理量を多くすると、ガラス基板に付着した付着物を十分に除去することができなくなるという問題があった。
【0008】
この発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、洗浄槽内に貯留された洗浄液全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができるとともに、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法及び情報記録媒体用ガラス基板の作製方法並びに情報記録媒体の作製方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、加熱した化学強化処理液に浸漬して化学強化処理を施した後の円盤状をなすガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄処理を施す情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように洗浄処理を施すことを特徴とするものである。
【0010】
請求項2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項1に記載の発明において、前記洗浄槽には洗浄液の流入口及び流出口をそれぞれ設け、これら流入口と流出口との間を循環配管で接続し、同循環配管にポンプを連結して洗浄槽内の洗浄液を流出口から吸い込み、循環配管を介して流入口から洗浄槽内に戻すように構成するとともに、当該循環配管にヒーターを連結し、同ヒーターで循環配管内を流れる洗浄液を加熱して洗浄槽内に戻すように構成することを特徴とするものである。
【0011】
請求項3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項2に記載の発明において、前記循環配管にはフィルターを連結し、同フィルターで洗浄槽内に戻される洗浄液中に存在する一定以上の粒径の微粒子を除去することを特徴とするものである。
【0012】
請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項1から請求項3のいずれかに記載の発明において、前記泡の径は1〜40mmであることを特徴とするものである。
請求項5に記載の情報記録媒体用ガラス基板の作製方法の発明は、加熱した化学強化処理液に円盤状をなすガラス基板を浸漬して化学強化を行う化学強化処理工程と、化学強化処理工程後の前記ガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄工程を具える情報記録媒体用ガラス基板の作製方法であって、前記洗浄工程は、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように行うことを特徴とするものである。
請求項6に記載の情報記録媒体の作製方法の発明は、請求項5に記載の作製方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板に少なくとも磁性層を設ける工程を含むことを特徴とするものである
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態を、図面に基づいて詳細に説明する。
実施形態のガラス基板は、シート状をなすガラス素板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状に形成されている。ガラス素板の材料としては、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。このガラス基板の表面に、例えば磁気特性を向上させるための下地層、磁性層、保護層及び潤滑層等を設けることにより、例えば磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が作製される。そして、情報記録媒体とした際に要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、ガラス基板には化学強化処理が施されている。
【0014】
この化学強化処理は、ガラス基板を加熱した化学強化処理液に浸漬させることによって行われる。化学強化処理液としては、例えば硝酸カリウム溶液、硝酸ナトリウム溶液、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは2種以上混合したものが挙げられる。この化学強化処理液の温度は、好ましくはガラス基板を形成するガラス材料の歪点よりも50〜150℃程度低い温度である。より好ましくは、350〜400℃程度である。加熱した化学強化処理液に浸漬されたガラス基板は組成中に含まれるリチウム、ナトリウム等の一価の金属イオンを、これと比較してそのイオン半径が大きいカリウム等の一価の金属イオンに置き換えられている。この状態でガラス基板の表面に圧縮応力が作用し、ガラス基板が化学的に強化される。
【0015】
化学強化処理した後のガラス基板の表面には溶融塩が付着物として付着されている。また、この溶融塩に混じり込むことによって化学強化処理装置を形成する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等の微粒子も付着物としてガラス基板の表面に付着している。そして、これらの付着物を除去するため、ガラス基板には洗浄装置を使用して洗浄処理が施されるようになっている。
【0016】
次に、前記洗浄装置について説明する。
図1は、ガラス基板に洗浄処理を施すための洗浄装置の正断面図、図2は同洗浄装置の側断面図、図3は同洗浄装置を上方から見た平面図を示している。洗浄装置を構成する洗浄槽11は、上面に開口部11aを有する略四角箱状に形成されている。この洗浄槽11の底壁には中央部及び一隅部にそれぞれドレン管27が下方から接続されている。また、これらドレン管27には図示しないバルブがそれぞれ接続されており、バルブを操作することにより、各ドレン管27を開閉することができるようになっている。
【0017】
洗浄槽11の内側には給水管12が図1中で右側となる一側壁の内面から内底面上に渡って敷設されている。給水管12の基端部にはバルブ13を有する給水配管14が接続されており、バルブ13の開放により、給水配管14から給水管12に洗浄液が供給されている。そして、給水管12内の洗浄液は給水管12の先端部12aから吐出され、洗浄槽11内に貯留されるようになっている。
【0018】
ガラス基板31は、複数枚が縦置きで一定間隔おきの状態でホルダー32内に収納されるとともに、このホルダー32ごとケージ33内に収容されている。該ガラス基板31は、ケージ33を洗浄槽11の開口部11aからその内部に投入することにより、ホルダー32及びケージ33とともに洗浄槽11内に貯留された洗浄液に浸漬されている。
【0019】
前に挙げた溶融塩、微粒子等からなる付着物は、イオン結合、分子間力、静電力、クーロン力等のような親和力によってガラス基板31の表面に付着されている。洗浄液は、当該洗浄液に付着物を溶解させたり、ガラス基板31の表面と付着物との間に入り込んでガラス基板31の表面から付着物を浮き上がらせたり等することにより、付着物の親和力を低減させ、ガラス基板31の表面から遊離させるものである。そして、この洗浄液には付着物である溶融塩を溶解することが可能であるとともに、中性であるためガラス基板31に影響を与えず、入手が容易な水が用いられる。
【0020】
この水には通常の水を用いてもよいが、微粒子等がガラス基板31に付着することを抑制するためにはフィルタリングした純水、イオン交換水、超純水等を用いることが好ましい。また、ガラス基板31の表面に影響を与えない程度であれば、この水にイソプロピルアルコール(IPA)、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール、カチオン性、アニオン性又はノニオン性界面活性剤等を混合してもよい。
【0021】
図2中で左側となる洗浄槽11の後壁の上端部にはオーバーフロー部15が横方向へ延びるように突設されている。該オーバーフロー部15の下面には排水管16が接続されている。給水管12の先端部12aから洗浄槽11内に吐出された水は、洗浄槽11内を満たしつつ、オーバーフロー部15へとオーバーフローして排水管16から外部へと排水されている。
【0022】
洗浄槽11の内底面上にはその外部から延びる複数本のガス供給管17が敷設されている。各ガス供給管17の周壁には複数の孔17aがそれぞれ透設されている。当該ガス供給管17には洗浄槽11の外部にて図示しないポンプが接続されており、その内部にはガスが供給されている。このガスにはガラス基板31に影響を与えず、入手が容易なエアが用いられる。また、エア以外にもヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス等のような不活性ガスを用いてもよい。そして、ガス供給管17に供給されたエアが孔17aから洗浄槽11内に放出される際、洗浄槽11内に貯留された水中に泡を発生させる。
【0023】
ガス供給管17の孔17aから発生した泡は、ここから洗浄槽11内に貯留された水中を水面に向かって移動しようとする。この泡はケージ33内のホルダー32に収容されたガラス基板31に接触する際にガラス基板31の表面に対する付着物の親和力を低減又は消滅させる。
【0024】
つまり、水に浸漬された状態で付着物はガラス基板31の表面に対する親和力を低減されている。この状態でガラス基板31の表面に泡が接触すると、例えば泡が破裂して細かな泡となったり、潰れたり等することによって生じる衝撃等のような付着物が遊離する程度の物理的外力がガラス基板31の表面に付与され、付着物が除去される。また、水面に近付くにつれて水圧が低下することから、泡はその径を拡大させながら水を押し上げ、かき回すようにして移動することにより、洗浄槽11内の水を攪拌している。
【0025】
前記ガス供給管17内へのエアの供給量は、1分間当たり3万〜11万cm3とすることが好ましい。1分間当たりのエアの供給量が3万cm3よりも少ない場合、水中に泡が十分に発生しないおそれがあり、11万cm3よりも多い場合、泡が接触するときの勢いによってガラス基板31が大きく振動し、細かな傷、ひび割れ、破損等の欠陥が生じるおそれがある。
【0026】
前記泡はガス供給管17の孔17aの径を調整することによってその径を1〜40mmとすることが好ましい。泡の径が1mm未満の場合、付着物を十分に遊離させることができなくなるとともに、水を十分に攪拌することができなくなるおそれがある。また、泡の径が40mmより大きい場合、泡の接触によりガラス基板31が大きく振動し、細かな傷、ひび割れ、破損等が生じるおそれがある。
【0027】
また、ガス供給管17には洗浄槽11の外部にて図示しないフィルターが接続されている。このフィルターを通過したエアからは一定以上の粒径の微粒子が除去されており、洗浄槽11内で水に浸漬されたガラス基板31に泡が接触する際、この泡に混じり込んだ微粒子がガラス基板31に付着することが防止されている。
【0028】
フィルターでエアから除去される微粒子の粒径は0.3μm以上であることが好ましい。0.3μm未満の微粒子をフィルターで除去しようとする場合、フィルターが目詰まりして抵抗が大きくなり、ガス供給管17内へエアを十分に送り込むことができなくなるおそれがある。なお、微粒子の粒径の上限については特に規定されないが、通常は100μm以下である。100μmより大きな微粒子はその大半が水面に浮き上がるため、ガラス基板31を水に浸漬するのみで取り除くことができる。
【0029】
洗浄槽11の一側壁の下端部には流出口19が透設されるとともに、この流出口19よりも洗浄槽11の外部には流出管20が接続されている。また、洗浄槽11の他側壁の上端部には流入管21が配設されるとともに、この流入管21の下端は流入口22として開口されている。これら流出管20と流入管21との間は循環配管23によって接続されている。さらに、この循環配管23にはポンプ24が連結されている。そして、洗浄槽11内の水はポンプ24により流出管20から吸い出され、循環配管23を介して流入管21に至り、この流入管21から洗浄槽11内に戻されることにより、洗浄槽11と循環配管23との間で循環されるようになっている。
【0030】
前記循環配管23の途中にはフィルター25が連結されている。このフィルター25は、循環配管23内を流れる水中に存在する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等といった水に対して不溶性であり、一定以上の粒径の微粒子を除去するように機能している。そして、フィルター25で一定以上の粒径の微粒子を除去することにより、洗浄槽11に戻される水の清浄度が良好に維持されるようになっている。このときフィルター25で除去される微粒子の粒径は0.2μm以上であることが好ましい。0.2μm未満の微粒子をフィルター25で除去しようとする場合、循環配管23中においてフィルター25が目詰まりして抵抗が大きくなり、水が流れにくくなるおそれがある。なお、微粒子の粒径の上限については特に規定されないが、通常は100μm以下である。100μmより大きな微粒子はその大半が水面に浮き上がるため、ガラス基板31を水に浸漬するのみで取り除くことができる。
【0031】
さらに、循環配管23の途中にはフィルター25よりも流入管21側に位置するようにヒーター26が連結されている。このヒーター26は、循環配管23内を流れる水を加熱することによって、流入管21から洗浄槽11内に所定温度の温水を戻すように機能している。そして、ヒーター26で加熱しながら水を洗浄槽11と循環配管23との間で循環させることにより、洗浄槽11内に貯留された水は一定温度に維持された温水となり、ガラス基板31は一定時間、温水で洗浄されるように構成されている。また、一定時間温水で洗浄されたガラス基板31は、ヒーター26による加熱を停止するとともに、前記給水管12から水が給水され、洗浄槽11内の水が入れ替えられることにより、徐冷されるようになっている。
【0032】
前記温水の温度は20〜70℃であることが好ましい。温度を20℃未満とすると溶融塩が溶けにくく、洗浄能力が低下するおそれがあり、70℃より高くすると、水が蒸発しやすくなり、溶解された溶融塩が再び析出するおそれがある。また、ガラス基板31を温水で洗浄する時間は、30〜60分であることが好ましい。温水で洗浄する時間が30分未満の場合、付着物を十分に除去できず、60分より長く温水で洗浄しても、ガラス基板31の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。
【0033】
温水で洗浄している間のポンプ24による水の循環量は、洗浄槽11の容量及び温水による洗浄時間によって調整され、温水による洗浄時間中に洗浄槽11の全ての水が1〜5回循環するように設定することが好ましい。具体的には1分間当たりの循環量を洗浄槽11の容量の20分の1〜10分の1とすることが好ましい。例えば、洗浄槽11の容量を1.015m3、温水による洗浄時間を40分とし、40分間で1.015m3の水を2.4回循環させる場合、1分間当たりの循環量は、洗浄槽11の容量の17分の1である0.06m3となる。
【0034】
温水による洗浄時間中における水の循環回数を1回未満とした場合、水に多量の微粒子が混じり込み、その洗浄能力を十分に維持することができず、5回より多くしても、ガラス基板31の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。また、1分間当たりの循環量を洗浄槽11の容量の20分の1未満とした場合、水が十分に温まらず、十分な洗浄能力を発揮できないおそれがあり、10分の1より多くしてもガラス基板31の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。
【0035】
次いで、前記洗浄装置の作用について説明する。
さて、図1〜図3に示すような洗浄装置を使用するときには、予め2つのドレン管27が閉塞された状態でバルブ13が開放され、給水配管14から給水管12を介して洗浄槽11内に水が給水される。この給水は、オーバーフロー部15から水がオーバーフローするまで続けられ、その後バルブ13が閉塞されて洗浄槽11内に水が貯留される。この後、ポンプ24を作動させ、ヒーター26でこの水を加熱しながら洗浄槽11内の水を循環させ、洗浄槽11内の水を温水とし、その温度を20〜70℃に維持する。
【0036】
この状態でホルダー32及びケージ33ごとガラス基板31を洗浄槽11内に投入し、温水に浸漬させる。そして、ガラス基板31を温水に浸漬させた後、温水を循環させたまま、ガス供給管17にエアを供給し、その孔17aからエアを放出させて温水中に泡を発生させる。
【0037】
温水中に発生した泡は、温水を攪拌しつつ、このまま水面に向かって移動する。このとき、ガラス基板31に泡が接触される。ガラス基板31に接触した泡は、温水に浸漬されることによってガラス基板31の表面に対する親和力が低減された付着物に物理的外力を与える。すると、その物理的外力により、ガラス基板31の表面に対する付着物の親和力が消滅し、付着物がガラス基板31の表面から遊離される。遊離された付着物のうち、溶融塩はそのまま温水に溶解し、微粒子は泡内に取り込まれたり、温水中に分散されたり等する。
【0038】
ガラス基板31の表面では、溶融塩が溶解した温水が泡の移動に伴ってガラス基板31の表面から水面に向かって押し上げられることにより、液交換が常に行われる。また、溶融塩が溶解した温水は水面まで達すると、そのまま洗浄槽11内の温水中に均一に拡散される。このため、ガラス基板31の近傍と、その他の箇所とで温水に対する溶融塩の溶解度に大きな差を生じることがなく、洗浄槽11内の温水全体で溶融塩の溶解度は均一となり、その洗浄能力が十分に維持される。
【0039】
微粒子が分散された温水は、溶融塩が溶解した温水と同様に泡の移動に伴ってガラス基板31の表面から水面に向かって押し上げられ、水面まで達するとそのまま洗浄槽11内の温水中に均一に分散される。また、温水中に均一に分散された微粒子のうち粒径が0.3μm以上のものは、温水が循環配管23内を流れるときにフィルター25で除去され、ガラス基板31の表面に再付着することを防止される。
【0040】
ガラス基板31を温水で一定時間洗浄した後、ヒーター26による水の加熱が停止され、ポンプ24による循環と、ガス供給管17からのエアの放出は継続されたまま、給水管12から常温の水が給水される。すると、温水は溶融塩が溶解され、微粒子が分散されたままの状態で、その大半がオーバーフロー部15からオーバーフローされ、洗浄槽11から外部に排水される。その後、洗浄槽11内の温水が常温の水へと入れ替わるまでガラス基板31が徐冷される。そして、ガラス基板31が徐冷された後、給水管12からの給水、ポンプ24による循環及びガス供給管17からのエアの放出が停止され、ガラス基板31がケージ33ごと洗浄槽11内から引きあげられ、次工程へと搬送される。また、洗浄槽11内の水は、ガラス基板31が洗浄槽11内から引きあげられた後、両ドレン管27が開放されて排水される。
【0041】
前記の実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・ 実施形態の洗浄装置によれば、洗浄槽11内に貯留された水中に泡を発生させ、この泡により水を攪拌するとともに、泡をガラス基板31に接触させて付着物を除去している。このため、洗浄槽11内に貯留された水全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができる、加えて、従来例で挙げた超音波とは異なり、泡は洗浄槽11内の全体に均一に広がり、ガラス基板31にほぼ確実に接触されるため、付着物の洗い残しがなく、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる。
【0042】
・ また、洗浄槽11内に貯留された水をヒーター26で加熱しながらポンプ24を用いて循環させることにより、洗浄槽11内の水を一定温度に維持することができ、付着物に対する水の洗浄能力を良好に維持することができる。
【0043】
・ さらに、循環配管23にフィルターを連結し、水中に存在する微粒子を除去するように構成したことにより、ガラス基板31に対する付着物の再付着をより効果的に抑制することができる。
【0044】
・ さらにまた、泡の径を1〜40mmとしたことにより、ガラス基板31の損傷を抑制しつつ、付着物の除去及び水の攪拌をより良好に行うことができる。
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
【0045】
・ 例えば、洗浄槽11の両側壁内面にガス供給管17をそれぞれ敷設し、下方に加えて側方からもガラス基板31に泡を接触させるように構成してもよい。このように構成した場合、水をより効率よく攪拌することができる。
【0046】
・ 洗浄槽11内に温水がある程度貯留された状態であれば、給水管12から水を給水しつつ、ヒーター26で循環される水を加熱しながら洗浄を行ってもよい。このように構成した場合、給水管12から水を給水した分だけ洗浄槽11内の付着物が溶解又は分散された温水がオーバーフロー部15から排水されるため、洗浄槽11内の水の清浄度を高めることができる。
【0047】
・ ヒーター26を省略し、給水管12から温水を給水してもよい。
・ 洗浄槽11内の洗浄液にガラス基板31が浸漬された状態で、同ガラス基板31に超音波を照射するように構成してもよい。このように構成した場合、超音波による振動でガラス基板の表面の付着物を粉砕することが可能であり、超音波と泡の相乗効果により、ガラス基板31の表面の清浄度をより良好なものとすることができる。
【0048】
さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する
【0049】
・ 前記ヒーターで洗浄槽内に戻される洗浄液を加熱することによって洗浄槽内の洗浄液を20〜70℃で一定の温度に維持することを特徴とする請求項2から請求項4のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、洗浄液の付着物に対する洗浄能力を良好に維持することができる。
【0050】
・ 前記フィルターで粒径0.2μm以上の微粒子を除去することを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、除去され、洗浄液中に分散された微粒子がガラス基板に再付着することを防止することができる。
【0051】
・ 前記ガス供給管には1分間当たり3万〜11万cmのエアを供給することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄装置。このように構成した場合、ガラス基板の損傷を抑制しつつ、洗浄液中に十分な量の泡を発生させることができる。
【0052】
・ 前記ガス供給管にフィルターを接続し、当該フィルターにより、ガス供給管に供給されるエア中から粒径が0.3μm以上の微粒子を除去することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄装置。このように構成した場合、泡を発生させるエア中に混じり込んだ微粒子がガラス基板に付着することを防止することができる。
【0053】
・ 前記ポンプによる洗浄液の1分間当たりの循環量が洗浄槽の容量の20分の1〜10分の1であることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、洗浄液がその洗浄能力を十分に発揮することができる。
【0054】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、洗浄槽内に貯留された洗浄液全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができるとともに、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる。
【0055】
請求項2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項1に記載の発明の効果に加えて、付着物に対する水の洗浄能力を良好に維持することができる。
【0056】
請求項3に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項2に記載の発明の効果に加えて、ガラス基板に対する付着物の再付着をより効果的に抑制することができる。
【0057】
請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項1から請求項3のいずれかに記載の発明の効果に加えて、ガラス基板の損傷を抑制しつつ、付着物の除去及び水の攪拌をより良好に行うことができる。
請求項5に記載の情報記録媒体用ガラス基板の作製方法の発明によれば、請求項1に記載の発明の効果に加えて、化学強化処理を施す際に付着する付着物を好適に除去することができる。
請求項6に記載の情報記録媒体の作製方法の発明によれば、好適な情報記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施形態の洗浄装置を示す正断面図。
【図2】 実施形態の洗浄装置を示す側断面図。
【図3】 実施形態の洗浄装置を示す平面図。
【符号の説明】
11…洗浄槽、11a…開口部、17…ガス供給管、19…流出口、22…流入口、23…循環配管、24…ポンプ、25…フィルター、26…ヒーター、31…ガラス基板。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
  The present invention relates to cleaning of a glass substrate for an information recording medium used for an information recording medium such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, an optical disk, etc., which is a magnetic recording medium of an information recording apparatus such as a hard disk.Methodas well asMethod for producing glass substrate for information recording mediumThe present invention also relates to a method for manufacturing an information recording medium.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a glass substrate for an information recording medium as described above is formed by cutting a sheet-like glass base plate into a disc shape and polishing the surface thereof, and then chemically strengthening it. In this chemical strengthening, a glass base plate is immersed in a heated chemical strengthening treatment solution, and monovalent metal ions contained in the glass base plate are replaced with monovalent metal ions having a larger ion radius than this. In this way, the strength of the obtained glass substrate is increased. The surface of the glass substrate after chemical strengthening is replaced, and a molten salt generated by monovalent metal ions released to the outside adheres as deposits. In addition to this, fine particles such as metal particles, dust, abrasives, and abrasive powders that form a chemical strengthening treatment device or the like mixed in the molten salt are attached as deposits. In order to remove these deposits, the glass substrate after chemical strengthening is subjected to a cleaning process.
[0003]
A cleaning apparatus for performing a cleaning process on a glass substrate includes a cleaning tank having a substantially square box shape with an upper surface opened. In this cleaning tank, water is stored as a cleaning liquid for cleaning the glass substrate, and the glass substrate after the chemical strengthening treatment is immersed in the water in the cleaning tank. A heater is attached to the inside or outside of the washing tank, and water stored in the washing tank is heated by this heater to become hot water of 30 to 100 ° C. In addition, an ultrasonic generator is attached inside the cleaning tank so as to irradiate the glass substrate immersed in water with ultrasonic waves.
[0004]
Now, the glass substrate after the chemical strengthening treatment is taken out from the chemical strengthening treatment apparatus and then cooled to about room temperature. At this time, the molten salt precipitates on the surface of the glass substrate and adheres as a deposit. The glass substrate with the deposits attached to the surface is first put into a cleaning tank and immersed in warm water at 30 to 100 ° C. Then, an ultrasonic wave is irradiated to the glass substrate immersed in warm water from an ultrasonic generator. Then, the deposits on the surface of the glass substrate are pulverized into fine particles by a physical external force called vibration caused by ultrasonic waves, released from the surface of the glass substrate, and dissolved and removed in the warm water by the polarity and thermal energy of the warm water. It has become so.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, when a glass substrate is cleaned using the above-described conventional cleaning apparatus, the ultrasonic wave has a function to vibrate and crush the target deposit, but this ultrasonic vibration stirs the hot water in the cleaning tank. I can't do it. For this reason, in particular, the molten salt among the crushed deposits is not uniformly dispersed in the cleaning tank, but is dispersed and dissolved only in the vicinity of the glass substrate, and the dissolution rate of the molten salt in hot water is rapidly increased. However, there is a problem that it becomes impossible to maintain a sufficient cleaning ability.
[0006]
Furthermore, the deposits contain not only molten salts but also those that are not soluble in warm water, such as the fine particles listed above. Such deposits that do not dissolve in warm water are dispersed in the vicinity of the glass substrate while the ultrasonic wave is applied, but if the ultrasonic wave irradiation is stopped, the adhering substance may be attached again to the surface of the glass substrate. Then, due to such reattached deposits, the cleanliness of the surface of the glass substrate is reduced, fine protrusions are formed, smoothness is lost, and defects are generated.
[0007]
Further, when the distance from the ultrasonic generator becomes long or the number of objects increases, the ultrasonic force weakens the force for vibrating the object. For this reason, there has been a problem that, when the amount of processing of the glass substrate per operation is increased with ultrasonic waves, the adhered matter adhering to the glass substrate cannot be sufficiently removed.
[0008]
  The present invention has been made paying attention to such problems existing in the prior art. The purpose is to disperse or dissolve the deposits uniformly in the entire cleaning liquid stored in the cleaning tank to maintain sufficient cleaning ability, and to prevent the deposits from reattaching. Cleaning glass substrates for information recording media that can improve throughput per workMethodas well asMethod for producing glass substrate for information recording mediumAnother object is to provide a method for manufacturing an information recording medium.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve the above object, the glass substrate for an information recording medium according to claim 1 is cleaned.MethodThe invention ofAfter immersion and chemical strengthening treatmentDisc-shaped glass substrateWhereasFor cleaning and removing deposits adhering to the surface of the glass substrateApply cleaning treatmentCleaning glass substrates for information recording mediaMethodBecauseHas an opening,A cleaning liquid for reducing the affinity of deposits on the surface of the glass substrate is stored inside, a cleaning tank for storing the glass substrate in the cleaning liquid in a state immersed therein, and the cleaning tankWithinGas supply for generating bubbles in the cleaning liquid that is installed and releases gas in the cleaning tankUsing a cleaning device with holes,Bubbles are generated in the cleaning solution with the glass substrate immersed in the cleaning solution.LetThe bubbles move through the cleaning solution and agitate the cleaning solution to contact the surface of the glass substrate and remove the deposits.Apply cleaning treatmentIt is characterized by this.
[0010]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 2MethodIn the invention of claim 1, in the cleaning tank, the cleaning tank is provided with an inlet and an outlet for the cleaning liquid, the inlet and the outlet are connected by a circulation pipe, and the pump is connected to the circulation pipe. The cleaning liquid in the cleaning tank is sucked from the outlet and returned to the cleaning tank from the inlet through the circulation pipe, and a heater is connected to the circulation pipe. The flowing cleaning liquid is heated and returned to the cleaning tank.
[0011]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 3MethodThe invention according to claim 2 is characterized in that, in the invention according to claim 2, a filter is connected to the circulation pipe, and fine particles having a particle diameter of a certain size or more existing in the cleaning liquid returned to the cleaning tank by the filter are removed. It is what.
[0012]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 4MethodIn the invention according to any one of claims 1 to 3, the bubble has a diameter of 1 to 40 mm.
  The glass substrate for an information recording medium according to claim 5.ProductionThe invention of the method isA chemical strengthening treatment step for chemical strengthening by immersing a disk-shaped glass substrate in a heated chemical strengthening treatment solution, and an adherent adhering to the surface of the glass substrate after the chemical strengthening treatment step. A method for producing a glass substrate for an information recording medium, comprising a cleaning step for cleaning and removing, wherein the cleaning step has an opening, and the inside has an affinity for the deposit on the surface of the glass substrate. The cleaning liquid to be reduced is stored, and the glass tank is immersed in the cleaning liquid, the cleaning tank for storing the glass substrate therein, the cleaning tank is disposed in the cleaning tank, and the gas is discharged and stored in the cleaning tank. Using a cleaning device having a gas supply hole for generating bubbles in the cleaning liquid, generating bubbles in the cleaning liquid in a state where the glass substrate is immersed in the cleaning liquid, and moving the bubbles through the cleaning liquid Stir the cleaning solution Conducted to remove deposits in contact with the surface of the reluctant glass substrateIt is characterized by this.
  The information recording medium according to claim 6.Body productionThe invention of the method isA step of providing at least a magnetic layer on the glass substrate for an information recording medium obtained by the production method according to claim 5.It is characterized by.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
The glass substrate of the embodiment is formed in a disk shape having a circular hole at the center thereof by cutting a sheet-shaped glass base plate using a cemented carbide or diamond cutter. Examples of the material of the glass base plate include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and crystallized glass produced by a float method, a downdraw method, a redraw method, or a press method. For example, an information recording medium such as a magnetic disk, a magneto-optical disk, or an optical disk is manufactured by providing an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, a lubricating layer, and the like for improving magnetic characteristics on the surface of the glass substrate. . In order to satisfy the impact resistance, vibration resistance, heat resistance, etc. required when the information recording medium is used, the glass substrate is subjected to a chemical strengthening treatment.
[0014]
This chemical strengthening treatment is performed by immersing the glass substrate in a heated chemical strengthening treatment solution. Examples of the chemical strengthening treatment liquid include a potassium nitrate solution, a sodium nitrate solution, silver nitrate, etc., each alone or a mixture of two or more. The temperature of the chemical strengthening treatment liquid is preferably about 50 to 150 ° C. lower than the strain point of the glass material forming the glass substrate. More preferably, it is about 350-400 degreeC. The glass substrate immersed in the heated chemical strengthening solution replaces monovalent metal ions such as lithium and sodium contained in the composition with monovalent metal ions such as potassium, which has a larger ion radius than this. It has been. In this state, compressive stress acts on the surface of the glass substrate, and the glass substrate is chemically strengthened.
[0015]
On the surface of the glass substrate after the chemical strengthening treatment, a molten salt is attached as a deposit. In addition, fine particles such as metal particles, dust, abrasives, and abrasive powder forming the chemical strengthening apparatus by mixing with the molten salt also adhere to the surface of the glass substrate as deposits. In order to remove these deposits, the glass substrate is subjected to a cleaning process using a cleaning device.
[0016]
Next, the cleaning apparatus will be described.
FIG. 1 is a front sectional view of a cleaning apparatus for performing a cleaning process on a glass substrate, FIG. 2 is a side sectional view of the cleaning apparatus, and FIG. 3 is a plan view of the cleaning apparatus as viewed from above. The cleaning tank 11 constituting the cleaning device is formed in a substantially square box shape having an opening 11a on the upper surface. A drain pipe 27 is connected to the bottom wall of the cleaning tank 11 at the center and one corner from below. In addition, valves (not shown) are connected to the drain pipes 27, and each drain pipe 27 can be opened and closed by operating the valves.
[0017]
A water supply pipe 12 is laid from the inner surface of one side wall on the right side in FIG. A water supply pipe 14 having a valve 13 is connected to the proximal end portion of the water supply pipe 12, and the cleaning liquid is supplied from the water supply pipe 14 to the water supply pipe 12 by opening the valve 13. The cleaning liquid in the water supply pipe 12 is discharged from the distal end portion 12 a of the water supply pipe 12 and stored in the cleaning tank 11.
[0018]
A plurality of glass substrates 31 are accommodated in a holder 32 in a state of being vertically arranged at regular intervals, and the holder 32 and the entire holder 32 are accommodated in a cage 33. The glass substrate 31 is immersed in the cleaning liquid stored in the cleaning tank 11 together with the holder 32 and the cage 33 by inserting the cage 33 into the opening 11 a of the cleaning tank 11.
[0019]
The deposits made of the molten salt, fine particles and the like mentioned above are adhered to the surface of the glass substrate 31 by affinity such as ionic bond, intermolecular force, electrostatic force, Coulomb force and the like. The cleaning liquid reduces the affinity of the deposit by dissolving the deposit in the cleaning liquid, or entering between the surface of the glass substrate 31 to lift the deposit from the surface of the glass substrate 31. And released from the surface of the glass substrate 31. In addition, it is possible to dissolve the molten salt, which is an adhering substance, in this cleaning liquid, and water that is easily available without affecting the glass substrate 31 because it is neutral.
[0020]
Normal water may be used as this water, but it is preferable to use filtered pure water, ion-exchanged water, ultrapure water, or the like in order to prevent fine particles from adhering to the glass substrate 31. In addition, if it does not affect the surface of the glass substrate 31, an alcohol such as isopropyl alcohol (IPA), methanol, ethanol, butanol, a cationic, anionic or nonionic surfactant is mixed with this water. May be.
[0021]
An overflow portion 15 is projected from the upper end portion of the rear wall of the cleaning tank 11 on the left side in FIG. 2 so as to extend in the lateral direction. A drain pipe 16 is connected to the lower surface of the overflow portion 15. The water discharged from the front end portion 12a of the water supply pipe 12 into the cleaning tank 11 overflows into the overflow section 15 while filling the cleaning tank 11, and is drained from the drain pipe 16 to the outside.
[0022]
A plurality of gas supply pipes 17 extending from the outside are laid on the inner bottom surface of the cleaning tank 11. A plurality of holes 17 a are formed in the peripheral wall of each gas supply pipe 17. A pump (not shown) is connected to the gas supply pipe 17 outside the cleaning tank 11, and gas is supplied to the inside thereof. Air that does not affect the glass substrate 31 and is easily available is used for this gas. In addition to air, an inert gas such as helium gas, neon gas, or argon gas may be used. Then, when the air supplied to the gas supply pipe 17 is released into the cleaning tank 11 from the hole 17a, bubbles are generated in the water stored in the cleaning tank 11.
[0023]
Bubbles generated from the holes 17a of the gas supply pipe 17 try to move in the water stored in the washing tank 11 from here toward the water surface. When the bubbles come into contact with the glass substrate 31 accommodated in the holder 32 in the cage 33, the affinity of the deposit on the surface of the glass substrate 31 is reduced or eliminated.
[0024]
That is, the adhering substance has a reduced affinity for the surface of the glass substrate 31 when immersed in water. When bubbles come into contact with the surface of the glass substrate 31 in this state, there is a physical external force to such an extent that deposits such as impact generated by the bubbles bursting into fine bubbles or being crushed are released. It is applied to the surface of the glass substrate 31 and the deposits are removed. Further, since the water pressure decreases as it approaches the water surface, the foam pushes up the water while expanding its diameter, and stirs and moves the water in the washing tank 11 by stirring.
[0025]
The amount of air supplied into the gas supply pipe 17 is 30,000 to 110,000 cm per minute.ThreeIt is preferable that Air supply per minute is 30,000cmThreeIf there is less, there is a possibility that bubbles are not sufficiently generated in the water, 110,000 cmThreeIn the case where the amount is larger, the glass substrate 31 vibrates greatly due to the momentum when the bubbles come into contact, and there is a possibility that defects such as fine scratches, cracks, and breakage may occur.
[0026]
The bubble preferably has a diameter of 1 to 40 mm by adjusting the diameter of the hole 17 a of the gas supply pipe 17. When the diameter of the foam is less than 1 mm, the adhered substance cannot be sufficiently released and the water cannot be sufficiently stirred. Moreover, when the diameter of a bubble is larger than 40 mm, the glass substrate 31 will vibrate greatly by contact of a bubble, and there exists a possibility that a fine crack, a crack, damage, etc. may arise.
[0027]
In addition, a filter (not shown) is connected to the gas supply pipe 17 outside the cleaning tank 11. Fine particles with a particle size of a certain size or more are removed from the air that has passed through the filter. When bubbles come into contact with the glass substrate 31 immersed in water in the cleaning tank 11, the fine particles mixed in the bubbles are glass. The adhesion to the substrate 31 is prevented.
[0028]
The particle diameter of the fine particles removed from the air by the filter is preferably 0.3 μm or more. When trying to remove fine particles of less than 0.3 μm with a filter, the filter is clogged and resistance increases, and there is a possibility that air cannot be sufficiently fed into the gas supply pipe 17. The upper limit of the particle size of the fine particles is not particularly specified, but is usually 100 μm or less. Since most of the fine particles larger than 100 μm float on the water surface, they can be removed only by immersing the glass substrate 31 in water.
[0029]
An outlet 19 is formed through the lower end of one side wall of the cleaning tank 11, and an outflow pipe 20 is connected to the outside of the cleaning tank 11 beyond the outlet 19. An inflow pipe 21 is disposed at the upper end of the other side wall of the cleaning tank 11, and the lower end of the inflow pipe 21 is opened as an inflow port 22. The outflow pipe 20 and the inflow pipe 21 are connected by a circulation pipe 23. Further, a pump 24 is connected to the circulation pipe 23. Then, the water in the cleaning tank 11 is sucked out of the outflow pipe 20 by the pump 24, reaches the inflow pipe 21 through the circulation pipe 23, and is returned from the inflow pipe 21 into the cleaning tank 11. And the circulation pipe 23 are circulated.
[0030]
A filter 25 is connected in the middle of the circulation pipe 23. The filter 25 is insoluble in water such as metal particles, dust, abrasives, and abrasive powders existing in the water flowing in the circulation pipe 23, and functions to remove fine particles having a certain particle size or more. ing. And the cleanliness of the water returned to the washing tank 11 is maintained favorably by removing fine particles having a particle diameter of a certain size or more with the filter 25. At this time, the particle diameter of the fine particles removed by the filter 25 is preferably 0.2 μm or more. When trying to remove fine particles of less than 0.2 μm with the filter 25, the filter 25 is clogged in the circulation pipe 23, the resistance increases, and water may not flow easily. The upper limit of the particle size of the fine particles is not particularly specified, but is usually 100 μm or less. Since most of the fine particles larger than 100 μm float on the water surface, they can be removed only by immersing the glass substrate 31 in water.
[0031]
Further, a heater 26 is connected to the circulation pipe 23 so as to be positioned closer to the inflow pipe 21 than the filter 25. The heater 26 functions to return warm water having a predetermined temperature from the inflow pipe 21 into the cleaning tank 11 by heating water flowing in the circulation pipe 23. And by circulating water between the washing tank 11 and the circulation piping 23 while heating with the heater 26, the water stored in the washing tank 11 becomes warm water maintained at a constant temperature, and the glass substrate 31 is fixed. It is configured to be washed with warm water for a period of time. Further, the glass substrate 31 that has been washed with warm water for a certain period of time is stopped by heating by the heater 26, and water is supplied from the water supply pipe 12, and the water in the washing tank 11 is replaced, so that the glass substrate 31 is gradually cooled. It has become.
[0032]
The temperature of the warm water is preferably 20 to 70 ° C. When the temperature is less than 20 ° C., the molten salt is difficult to dissolve and the washing ability may be reduced. When the temperature is higher than 70 ° C., water tends to evaporate, and the dissolved molten salt may be precipitated again. Moreover, it is preferable that the time which wash | cleans the glass substrate 31 with warm water is 30 to 60 minutes. If the time for washing with warm water is less than 30 minutes, the deposits cannot be removed sufficiently, and even if washed with warm water for longer than 60 minutes, the cleanliness of the glass substrate 31 does not increase, but the processing amount per work is on the contrary. Decrease.
[0033]
The amount of water circulated by the pump 24 during washing with warm water is adjusted by the capacity of the washing tank 11 and the washing time with warm water, and all the water in the washing tank 11 circulates 1 to 5 times during the washing time with warm water. It is preferable to set so as to. Specifically, the circulation rate per minute is preferably set to 1/20 to 1/10 of the capacity of the washing tank 11. For example, the capacity of the washing tank 11 is 1.015 mThree, Washing time with warm water is 40 minutes, 1.015m in 40 minutesThreeWhen the water is circulated 2.4 times, the circulation rate per minute is 1/17 of the capacity of the washing tank 11 0.06 mThreeIt becomes.
[0034]
When the number of times of water circulation during the washing time with hot water is less than one, a large amount of fine particles are mixed in the water, and the washing ability cannot be sufficiently maintained. The cleanliness of 31 does not increase, but on the contrary, the throughput per work decreases. In addition, if the circulation rate per minute is less than 1/20 of the capacity of the washing tank 11, the water may not be sufficiently heated, and sufficient washing ability may not be exhibited. However, the cleanliness of the glass substrate 31 does not increase, but the processing amount per operation decreases.
[0035]
Next, the operation of the cleaning device will be described.
When the cleaning apparatus as shown in FIGS. 1 to 3 is used, the valve 13 is opened in a state where the two drain pipes 27 are closed in advance, and the cleaning tank 11 is supplied from the water supply pipe 14 through the water supply pipe 12. Water is supplied. This water supply is continued until the water overflows from the overflow part 15, and then the valve 13 is closed and water is stored in the cleaning tank 11. Thereafter, the pump 24 is operated, and the water in the cleaning tank 11 is circulated while heating the water with the heater 26, and the water in the cleaning tank 11 is heated and maintained at 20 to 70 ° C.
[0036]
In this state, the glass substrate 31 together with the holder 32 and the cage 33 is put into the cleaning tank 11 and immersed in warm water. Then, after the glass substrate 31 is immersed in warm water, air is supplied to the gas supply pipe 17 while circulating the warm water, and air is discharged from the holes 17a to generate bubbles in the warm water.
[0037]
Bubbles generated in the warm water move toward the water surface as it is while stirring the warm water. At this time, bubbles are brought into contact with the glass substrate 31. The bubbles in contact with the glass substrate 31 are physically immersed in warm water to give a physical external force to the deposit with reduced affinity for the surface of the glass substrate 31. Then, due to the physical external force, the affinity of the deposit on the surface of the glass substrate 31 disappears, and the deposit is released from the surface of the glass substrate 31. Of the adhered matter released, the molten salt is dissolved in the warm water as it is, and the fine particles are taken into the foam or dispersed in the warm water.
[0038]
On the surface of the glass substrate 31, the hot water in which the molten salt is dissolved is pushed up from the surface of the glass substrate 31 toward the water surface along with the movement of the bubbles, so that liquid exchange is always performed. Further, when the hot water in which the molten salt is dissolved reaches the water surface, it is uniformly diffused into the hot water in the washing tank 11 as it is. For this reason, there is no great difference in the solubility of the molten salt in the warm water between the vicinity of the glass substrate 31 and other locations, and the solubility of the molten salt is uniform throughout the warm water in the cleaning tank 11, and the cleaning ability is Well maintained.
[0039]
The hot water in which the fine particles are dispersed is pushed up from the surface of the glass substrate 31 toward the water surface along with the movement of the bubbles in the same manner as the hot water in which the molten salt is dissolved. To be distributed. Further, among the fine particles uniformly dispersed in the warm water, those having a particle size of 0.3 μm or more are removed by the filter 25 when the warm water flows through the circulation pipe 23 and reattached to the surface of the glass substrate 31. Is prevented.
[0040]
After the glass substrate 31 is washed with warm water for a certain period of time, the heating of the water by the heater 26 is stopped, the circulation by the pump 24 and the release of the air from the gas supply pipe 17 are continued, and the water at room temperature is supplied from the water supply pipe 12. Is supplied with water. Then, in the hot water, the molten salt is dissolved and the fine particles are still dispersed, and most of the warm water overflows from the overflow portion 15 and is drained from the cleaning tank 11 to the outside. Thereafter, the glass substrate 31 is gradually cooled until the hot water in the cleaning tank 11 is replaced with water at room temperature. Then, after the glass substrate 31 is gradually cooled, water supply from the water supply pipe 12, circulation by the pump 24, and release of air from the gas supply pipe 17 are stopped, and the glass substrate 31 is pulled up together with the cage 33 from the cleaning tank 11. And transported to the next process. Further, the water in the cleaning tank 11 is drained by opening both drain pipes 27 after the glass substrate 31 is pulled up from the cleaning tank 11.
[0041]
The effects exhibited by the above embodiment will be described below.
-According to the cleaning device of the embodiment, bubbles are generated in the water stored in the cleaning tank 11, the water is stirred by the bubbles, and the bubbles are brought into contact with the glass substrate 31 to remove the deposits. . For this reason, it is possible to uniformly disperse or dissolve the deposits in the entire water stored in the cleaning tank 11 to maintain sufficient cleaning ability, and to suppress the reattachment of deposits. Unlike the ultrasonic waves mentioned in the conventional example, the foam spreads uniformly in the entire cleaning tank 11 and is almost certainly in contact with the glass substrate 31, so that there is no residue left behind and the amount of processing per work Can be improved.
[0042]
In addition, by circulating the water stored in the cleaning tank 11 using the pump 24 while being heated by the heater 26, the water in the cleaning tank 11 can be maintained at a constant temperature. The cleaning ability can be maintained well.
[0043]
Furthermore, by connecting the filter to the circulation pipe 23 and removing the fine particles present in the water, it is possible to more effectively suppress the reattachment of the deposit on the glass substrate 31.
[0044]
Furthermore, by setting the diameter of the bubbles to 1 to 40 mm, it is possible to perform better removal of deposits and stirring of water while suppressing damage to the glass substrate 31.
In addition, this embodiment can also be changed and embodied as follows.
[0045]
For example, the gas supply pipes 17 may be laid on the inner surfaces of both side walls of the cleaning tank 11 so that bubbles are brought into contact with the glass substrate 31 from the side in addition to the lower side. When comprised in this way, water can be stirred more efficiently.
[0046]
As long as warm water is stored in the washing tank 11 to some extent, washing may be performed while supplying water from the water supply pipe 12 and heating water circulated by the heater 26. When configured in this manner, since the warm water in which the deposits in the washing tank 11 are dissolved or dispersed by the amount of water supplied from the water supply pipe 12 is drained from the overflow portion 15, the cleanliness of the water in the washing tank 11 Can be increased.
[0047]
The heater 26 may be omitted and hot water may be supplied from the water supply pipe 12.
-You may comprise so that the glass substrate 31 may be irradiated with an ultrasonic wave in the state by which the glass substrate 31 was immersed in the washing | cleaning liquid in the washing tank 11. FIG. When configured in this way, it is possible to pulverize the deposits on the surface of the glass substrate by vibration caused by ultrasonic waves, and with the synergistic effect of ultrasonic waves and bubbles, the surface cleanliness of the glass substrate 31 is improved. It can be.
[0048]
  Furthermore, the technical idea that can be grasped from the embodiment is described below..
[0049]
  5. The cleaning liquid in the cleaning tank is maintained at a constant temperature of 20 to 70 ° C. by heating the cleaning liquid returned to the cleaning tank with the heater. 6. Cleaning glass substrates for information recording mediaMethod. When comprised in this way, the washing | cleaning capability with respect to the deposit | attachment of a washing | cleaning liquid can be maintained favorable.
[0050]
  The glass substrate for an information recording medium according to claim 3 or 4, wherein fine particles having a particle size of 0.2 µm or more are removed by the filter.Method. When configured in this way, it is possible to prevent the fine particles removed and dispersed in the cleaning liquid from reattaching to the glass substrate.
[0051]
  -30,000-110,000 cm per minute in the gas supply pipe3It is characterized by supplying the air ofFeelingCleaning device for glass substrate for recording media. When comprised in this way, sufficient quantity of foam can be generated in a washing | cleaning liquid, suppressing the damage of a glass substrate.
[0052]
  A filter is connected to the gas supply pipe, and the filter removes fine particles having a particle size of 0.3 μm or more from the air supplied to the gas supply pipe.FeelingCleaning device for glass substrate for recording media. When comprised in this way, it can prevent that the microparticles | fine-particles mixed in the air which generate | occur | produces a bubble adhere to a glass substrate.
[0053]
  5. The information recording medium according to claim 2, wherein a circulating amount of the cleaning liquid per minute by the pump is 1/20 to 1/10 of a capacity of the cleaning tank. Glass substrate for cleaningMethod. When comprised in this way, a washing | cleaning liquid can fully exhibit the washing | cleaning capability.
[0054]
【The invention's effect】
  As described in detail above, the present invention has the following effects.
  Cleaning of the glass substrate for information recording media according to claim 1MethodAccording to the invention, it is possible to uniformly disperse or dissolve the deposits in the entire cleaning liquid stored in the cleaning tank and maintain a sufficient cleaning ability, and to suppress the reattachment of deposits, The throughput per work can be improved.
[0055]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 2MethodAccording to the invention, in addition to the effect of the invention of the first aspect, it is possible to satisfactorily maintain the water cleaning ability for the deposit.
[0056]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 3MethodAccording to the invention, in addition to the effect of the invention according to claim 2, it is possible to more effectively suppress the reattachment of the deposit to the glass substrate.
[0057]
  Cleaning the glass substrate for information recording media according to claim 4MethodAccording to the invention, in addition to the effects of the invention according to any one of claims 1 to 3, it is possible to perform better removal of deposits and stirring of water while suppressing damage to the glass substrate. it can.
  The glass substrate for an information recording medium according to claim 5.ProductionAccording to the method invention,In addition to the effects of the first aspect of the invention, it is possible to suitably remove deposits that are attached when the chemical strengthening treatment is performed.
  The information recording medium according to claim 6.Body productionAccording to the method invention,A suitable information recording medium can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front sectional view showing a cleaning apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a side sectional view showing the cleaning device of the embodiment.
FIG. 3 is a plan view showing the cleaning apparatus according to the embodiment.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Cleaning tank, 11a ... Opening part, 17 ... Gas supply pipe | tube, 19 ... Outlet, 22 ... Inlet, 23 ... Circulation piping, 24 ... Pump, 25 ... Filter, 26 ... Heater, 31 ... Glass substrate.

Claims (6)

加熱した化学強化処理液に浸漬して化学強化処理を施した後の円盤状をなすガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄処理を施す情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、
開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、
前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように洗浄処理を施すことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法
It was immersed in a heated chemical strengthening treatment solution to the glass substrate which forms a disc-shaped after having been subjected to chemical strengthening treatment, information for performing a cleaning process for removing by washing the material adhering to the surface of the glass substrate A method for cleaning a glass substrate for a recording medium,
A cleaning liquid that has an opening and stores therein a cleaning liquid that reduces the affinity of deposits with respect to the surface of the glass substrate, and is stored in the cleaning liquid in a state where the glass substrate is immersed in the cleaning liquid; Using a cleaning device that is disposed in the cleaning tank and has a gas supply hole for generating bubbles in the cleaning liquid that is released and stored in the cleaning tank ,
The cleaning solution is generated bubbles in the washing liquid in a state where the glass substrate is immersed in, so as to remove deposits in the bubbles in contact with the surface of the glass substrate while stirring the cleaning liquid moves through the washing liquid A method for cleaning a glass substrate for an information recording medium, comprising performing a cleaning process .
前記洗浄槽には洗浄液の流入口及び流出口をそれぞれ設け、これら流入口と流出口との間を循環配管で接続し、同循環配管にポンプを連結して洗浄槽内の洗浄液を流出口から吸い込み、循環配管を介して流入口から洗浄槽内に戻すように構成するとともに、当該循環配管にヒーターを連結し、同ヒーターで循環配管内を流れる洗浄液を加熱して洗浄槽内に戻すように構成することを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法The cleaning tank is provided with an inlet and an outlet for the cleaning liquid, the inlet and the outlet are connected by a circulation pipe, and a pump is connected to the circulation pipe so that the cleaning liquid in the cleaning tank is supplied from the outlet. Suction and return to the washing tank from the inlet through the circulation pipe, and a heater is connected to the circulation pipe so that the cleaning liquid flowing in the circulation pipe is heated by the heater and returned to the washing tank. The method for cleaning a glass substrate for an information recording medium according to claim 1, comprising : 前記循環配管にはフィルターを連結し、同フィルターで洗浄槽内に戻される洗浄液中に存在する一定以上の粒径の微粒子を除去することを特徴とする請求項2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法3. The glass for an information recording medium according to claim 2, wherein a filter is connected to the circulation pipe to remove fine particles having a particle diameter of a certain size or more present in the cleaning liquid returned to the cleaning tank by the filter. Substrate cleaning method . 前記泡の径は1〜40mmであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法The diameter of the said foam is 1-40 mm, The washing | cleaning method of the glass substrate for information recording media in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 加熱した化学強化処理液に円盤状をなすガラス基板を浸漬して化学強化を行う化学強化処理工程と、化学強化処理工程後の前記ガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄工程を具える情報記録媒体用ガラス基板の作製方法であって、A chemical strengthening treatment step for chemical strengthening by immersing a disk-shaped glass substrate in a heated chemical strengthening treatment solution, and an adherent adhering to the surface of the glass substrate after the chemical strengthening treatment step. A method for producing a glass substrate for an information recording medium comprising a cleaning step for cleaning and removing,
前記洗浄工程は、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、The cleaning step has an opening, and a cleaning liquid that reduces the affinity of the deposit on the surface of the glass substrate is stored therein, and the glass substrate is immersed in the cleaning liquid and accommodated therein. Using a cleaning device provided with a cleaning tank and a gas supply hole for generating bubbles in the cleaning liquid that is disposed in the cleaning tank and releases gas in the cleaning tank,
前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように行うことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の作製方法。A bubble is generated in the cleaning liquid in a state where the glass substrate is immersed in the cleaning liquid, and the bubbles move in the cleaning liquid so as to contact the surface of the glass substrate while stirring the cleaning liquid and remove deposits. A method for producing a glass substrate for an information recording medium.
請求項5に記載の作製方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板に少なくとも磁性層を設ける工程を含むことを特徴とする情報記録媒体の作製方法。A method for producing an information recording medium, comprising a step of providing at least a magnetic layer on the glass substrate for information recording medium obtained by the production method according to claim 5.
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