JP3916929B2 - Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body - Google Patents

Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body Download PDF

Info

Publication number
JP3916929B2
JP3916929B2 JP2001352720A JP2001352720A JP3916929B2 JP 3916929 B2 JP3916929 B2 JP 3916929B2 JP 2001352720 A JP2001352720 A JP 2001352720A JP 2001352720 A JP2001352720 A JP 2001352720A JP 3916929 B2 JP3916929 B2 JP 3916929B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ion
ion gun
hole
plate
gun body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001352720A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2003151485A (en
JP2003151485A5 (en
Inventor
光寿 松下
篤一 山本
仁 川口
Original Assignee
株式会社昭和真空
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社昭和真空 filed Critical 株式会社昭和真空
Priority to JP2001352720A priority Critical patent/JP3916929B2/en
Publication of JP2003151485A publication Critical patent/JP2003151485A/en
Publication of JP2003151485A5 publication Critical patent/JP2003151485A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3916929B2 publication Critical patent/JP3916929B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水晶振動子の周波数調整を行うために使用するイオンガン装置において、イオンガン本体に対して、ニュートラライザーユニット、イオンコレクターユニット等の付属部品を取り付ける方法及び構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、水晶振動子の周波数調整装置としては、抵抗加熱蒸発源を用いたものが一般的であった。しかし、この抵抗加熱蒸発源を用いた真空蒸着による周波数調整では、ワークが小型化するにつれて電極が小さくなるため、ベース電極と調整膜とのずれが生じる等の欠点があった。そこで、現在では、前記のような欠点がなく、しかも、蒸発材の補給が不要なため連続運転が可能であり、電極が多層にならないためデバイス特性が良い等の利点を有する、イオンガン装置を用いたイオンビームエッチングによる周波数調整が広く普及している。かかるイオンガン装置を用いた水晶振動子の周波数調整は、例えば、特開2000−323442号公報に開示されている。
【0003】
上記のようなイオンガン装置の概略的な構成を図14に基づいて説明する。同図において、1は略円筒形のイオンガン本体、2はイオンガン本体1の周囲を取り囲んでいる水冷ジャケット、3はイオンガン本体1の頂部に嵌装した防着筒である。この防着筒3の中心にはイオンガン本体1のイオンビーム照射口140からのイオンビームを貫通させるための穴が設けてある。100は前記イオンビーム照射口140から所定の間隔をおいて設置されたニュートラライザーユニット、120は同じくイオンコレクターユニットである。これらのニュートラライザーユニット100及びイオンコレクターユニット120はイオンガン本体1の付属部品となっており、図14には示していない支持部材によってイオンガン本体1又は該イオンガン本体を取り囲む水冷ジャケット2に支持してある。
【0004】
このイオンガン装置を使用する場合は、先ず真空容器内に陽極と熱陰極とを有するイオンガン本体1にArガスを導入してArプラズマを生成させる。次にプラズマからArの正イオンを引き出し、イオンビーム130を形成する。このイオンビーム130を水晶振動子131の電極膜に照射して電極表面をスパッタエッチングすることにより、水晶振動子の周波数を調整する。
【0005】
しかし、前記のように水晶振動子を発振させながら周波数計測を行う場合、イオンビームの照射と同時に水晶基板がプラス電荷により帯電して、発振が不安定な状態になる場合や、発振停止を引き起こす場合があり、正確な周波数計測ができないという問題がある。そこで、ニュートラライザーユニット100の先端に取り付けられたフィラメント101に通電し、電子(マイナス電荷)を放出させて水晶基板の電荷を中和し、イオンビームの照射と同時に周波数計測を行うようにしてある。また、ニュートラライザーの電力制御を行うためにイオンコレクターユニット120を設け、イオンコレクターに流れる電流を一定に保つことによりニュートラライザーの出力調整を行うようにしてある。
【0006】
かかる構成のイオンガン装置において、イオンビームからニュートラライザーユニット100のフィラメント101迄の距離はArイオンの中和に影響するため極めて重要であり、また、イオンコレクターユニット120のイオンビーム貫通穴122の中心がイオンビームの中心と一致しないと、正確なニュートラライザーの電力制御ができないため、ニュートラライザーユニット100及びイオンコレクターユニット120のイオンガン本体1に対する位置決めは非常に重要である。
【0007】
ニュートラライザーユニット100及びイオンコレクターユニット120をイオンガン本体1又は水冷ジャケット2に取り付ける場合、イオンガン本体1及び水冷ジャケット2の外形寸法は装置により多少のばらつきがあるため、各部品を取付け位置に対して調節の自由度を持たせずに固定してしまうと、取付け位置の微妙な調節ができないため正確な位置決めができなくなってしまう。そこで、従来技術においては、付属部品の取付け部に位置決めのための遊びを作り、上下方向及び水平方向の位置決めは目視によって行っていた。
【0008】
この目視による位置決めの方法を、図8a及び同図におけるA−A′部分の断面図である図8bを用いて説明する。なお、以下の説明において、イオンガン本体にニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニット等を装備したものを総称してイオンガン装置と称する。また、イオンガン本体を取り囲む水冷ジャケットは、特に符号によって説明する場合を除いてイオンガン本体の一部として説明する。
【0009】
1はイオンガン本体であり、該イオンガン本体1には図8bに示すように水冷ジャケット2及び防着筒3が取り付けられている。水冷ジャケット2には取付け板80がねじ81により固定されている。取付け板80は図9に示すように断面がL字形で、ねじ81の取付け部83を設けた部分が大きくU字型に広がっており、水冷ジャケット2のx方向及びy方向に対して取付け位置を調整できるようになっている。取付け板80の立ち上がり部のねじ穴82には図10に示す絶縁支柱90がねじ91で固定される。ねじ91の取付け部92はz方向に延びる長穴となっており、取付け板80に対する絶縁支柱90の取付け位置はz方向に調整できるようになっている。
【0010】
絶縁支柱90の上部には、図11に示すニュートラライザーユニット100がねじ103により固定される。ねじ103は前記ニュートラライザーユニット100のねじ穴102を貫通して絶縁支柱90のねじ穴94に固定される。絶縁支柱90の上部には、前記ニュートラライザーユニット100が固定され、更にその上部に防着板110が配置される。防着板110は図12に示すように、板金部111を斜線を付して示された絶縁部112にねじ113で固定して構成されており、板金部111と絶縁部112はねじ穴114を通して絶縁支柱90のねじ穴93の部分に固定される。この時、防着板110は、板金部111に設けた内径Bの貫通穴115がイオンガン本体のイオンビーム照射口の中央に位置するように目視によって配置される。更に、防着板110の上部には、図13に示すイオンコレクターユニット120が配置される。このイオンコレクターユニット120も、それに設けた内径Cのイオンビーム貫通穴122が前記イオンビーム照射口の中央に位置するように目視によって配置される。
【0011】
このように、防着板110及びイオンコレクターユニット120は、目視によって配置が決定された後、ねじ穴121、114、及び93を貫通するねじ123によって絶縁支柱90に固定される。ねじ81による取付け板80の固定位置、及びねじ91による絶縁支柱90の固定位置は、ニュートラライザーユニット100及びイオンコレクターユニット120がイオンビームに対して適切な位置に配置されるように、目視によって決定されていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
イオンガン装置では、イオンビームによるエッチングにより発生した被エッチング材料がグリッド表面に付着して加速グリッドと遮蔽グリッドとの間で短絡が生じてしまう場合があるため、少なくとも1日1回の定期的な清掃作業が必要である。また、ニュートラライザーユニット、防着板、イオンコレクターユニット等は消耗部品であるため適宜交換することが必要である。このため、清掃や部品交換等のメインテナンス作業のためにイオンガン装置の解体と組立を頻繁に行う必要がある。その際、前述のごとくイオンガン本体に対するニュートラライザーユニット、防着板及びイオンコレクターユニットの位置決めは非常に重要になる。
【0013】
しかし、従来は、イオンガン本体へのニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニット等の付属部品の取付けで重要となる位置決めは、前述のように目視により行われていたため、メインテナンス作業のためのイオンガン装置の解体と組立の前後で付属部品の取付け位置が異なることがあった。これにより、イオンガン本体に対する付属部品の水平方向と垂直方向の取付け位置が装置毎に異なるという問題や、装置の組立者により付属部品の取付け位置が異なるという問題が生じて、水晶振動子の周波数調整精度に悪影響を及ぼす原因となっていた。
【0014】
【課題を解決するための手段】
前記のような課題を解決するために、本発明では治具を使用してイオンガン本体に対するニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニットの正確な位置決めを行うものである。すなわち、イオンガン本体のイオンビーム照射口から所定の間隔をおいて付属部品であるニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニットを取り付ける方法において、前記イオンガン本体の所定の個所に対して着脱可能な位置決め板と前後、左右、上下方向の位置の調節ができる支持体とを介して前記付属部品を前後、左右、上下方向の何れにも遊びを持たせてイオンガン本体に仮止めした後、前記イオンガン本体と付属部品との間に介在させた複数の取付け治具を使用して前記付属部品をイオンガン本体に対して正確な位置に固定し、しかる後前記複数の取付け治具及び前記位置決め板に支持された付属部品の全てをそのままの状態で一度イオンガン本体から取り外し、ここで使用した取付け治具のみを全て取り外してから、前記位置決め板をイオンガン本体の所定の個所に再度取り付けることによって前記付属部品をイオンガン本体に取り付けるものである。
【0015】
【発明の実施の形態】
(1)実施例の構成の説明
以下、本発明の実施形態を図1乃至図7について説明する。なお、これらの図において先に説明した従来例と同様の部分は従来例と同じ番号をもって示し、その詳細な説明は従来例についての説明を参照することとする。
【0016】
本発明の実施にあたっては、先ず、イオンガン本体1を覆う水冷ジャケット2の所定の個所に位置決め板20を取り付ける。この位置決め板20は図2に示すように、該位置決め板20のx方向の取付け位置を規制する板部21とy方向の取付け位置を規制するL字形の板部22とをねじ24で連結することにより構成してある。板部21のx方向の一端にはイオンガン本体に当接する直角な折り曲げ部が形成してある。また、板部22には、その一辺に設けた長穴を貫通するねじ24によりy方向への板部22の位置の調節を可能にした取付け部25が設けてある。この板部22の他の一辺はイオンガン本体に当接させるようになっている。このように板部22の位置を調節できるようにしたのは、イオンガン本体を取り囲む水冷ジャケットの大きさに多少のバラツキがあるためであり、水冷ジャケットのy方向の寸法に合わせて位置決め板20のy方向の寸法を決定して板部21、22をねじ24で固定することにより、何回着脱しても水冷ジャケットの所定の位置に取り付けることができる位置決め板が得られる。この位置決め板20をねじ81で水冷ジャケット2に固定する。
【0017】
次に、ニュートラライザーユニット100をねじ103で固定した従来例と同様の絶縁支柱90を図3に示す取付け板30のねじ穴33に対応した部分に配置する。ねじ91の取付け部92はz方向に長い貫通穴となっており、これにより絶縁支柱90の固定位置を上下方向に調節できるようになっている。したがって、ねじ91は取付け部92及びねじ穴33を通した状態のまま固定せず仮止めしておく。
【0018】
次に、前述の取付け板30を位置決め板20の上部に配置する。この取付け板30には、図3に示すように該取付け板30を位置決め板20に固定するためのねじ31の取付け部32が設けてあり、ねじ31を位置決め板20のねじ穴23に挿入するようになっている。前記取付け部32は、ねじ31の有効径に対して大き目の長円形穴とすることにより、位置決め板20に対する取付け板30の固定位置をx方向及びy方向にも調整できるようになっている。したがって、ねじ31も固定せずに仮止めしておく。
【0019】
このように、付属部品の支持部材を構成している取付け板30と絶縁支柱90を固定するねじ91、及び位置決め板20と取付け板30を固定するねじ31を固定してしまわないことで、イオンガン本体の付属部品の位置決めは、x方向、y方向及びz方向について遊びを持たせることができる。
【0020】
次に、従来例と同様に防着筒3を取り外して、イオンガン本体1のイオンビーム照射口の上部にベース板40を配置する。ベース板40には、図4に示すように円周状に複数の円形貫通穴が設けられており、それら円形貫通穴のうちの一つが位置決め用のピンを取り付けるための貫通穴43となっている。円周中心部について前記貫通穴43と対称の位置におけるベース板裏面には固定ピン41が設けられており、また、円周中心部には中心部貫通穴42が設けられている。
【0021】
図15はイオンガン本体1のイオンビーム照射口を上から見た場合の概略図である。イオンガン本体1の中心部には、多数の小穴を配列してなるイオンビーム照射口140が設けてあり、該イオンビーム照射口の外側の円周上に位置決め用のピンを挿入するための貫通穴141及び142が設けてある。前述のベース板40は、固定ピン41を貫通穴142に挿入し、位置決めぴん44を貫通穴43を通して前記貫通穴141に挿入した状態でイオンガン本体1の上面に配置される。これにより、イオンガン本体1の中心にあるイオンビーム照射口140とベース板40の中心が一致した状態でベース板40が固定される。
【0022】
次に、ベース板40の上面中心に図5に示す四角柱ブロック50を配置する。四角柱ブロック50は、その中心部にベース板40の中心部貫通穴42と直線的につながる同内径の中心部貫通穴51を設けるとともに、該中心部貫通穴51に対して垂直方向、すなわちx方向に二つのねじ穴52を設けてある。
【0023】
次に、四角柱ブロック50のねじ穴52の部分にニュートラライザーユニット100を配置してねじ53で固定する。この時、ニュートラライザーユニット100がベース板40に接する位置でニュートラライザーユニット100のz方向の位置決めを行う。
【0024】
次に、四角柱ブロック50の上面に図6に示す円盤型のカラー60を配置する。このカラー60は、四角柱ブロック50の貫通穴51と同内径の貫通穴61を有する。
【0025】
次いで、カラー60の中心部貫通穴61、四角柱ブロック50の中心部貫通穴51及びベース板40の中心部貫通穴42に図7に示す位置決めピン70を挿入する。更に、カラー60の一部を防着板110のイオンビーム貫通穴115に挿入し、また、位置決めピン70の一部をイオンコレクターユニット120のイオンビーム貫通穴122に挿入した状態で順次配置する。この場合、前記カラー60及び位置決めピン70の外径は、それぞれイオンビーム貫通穴115及び122の内径に合わせた寸法となっている。例えば位置決めピン70の外径はイオンコレクターユニット120のイオンビーム貫通穴122の内径Cに略等しい寸法となっている。
【0026】
そして、この状態において防着板110とイオンコレクターユニット120をねじ123によって絶縁支柱90に固定する。更に、位置決めピン70を滑らかに抜き取ることができる位置で、取付け板30に対する絶縁支柱90の位置と、位置決め板20に対する取付け板30の位置を決定し、ねじ91とねじ31を固定する。
【0027】
上述の工程を終えてから、ねじ81を取り外してイオンガン本体1から位置決め板20及びその上部に固定された付属部品をそのままの状態で一度取り外す。そして、位置決めのために使用した位置決めピン70、カラー60、四角柱ブロック50及びベース板40等の治具を取り外す。しかる後、イオンガン本体1に防着筒3を取り付けたうえで、再度位置決め板20をイオンガン本体1の所定の個所にねじ81で固定することにより、位置決め板20の上に固定されている付属部品をイオンガン本体1に対して正確な位置に固定するものである。
【0028】
(2)実施例の作用・動作の説明
前述の工程において、イオンガン本体1の上部にベース板40を固定ピン41及び位置決めピン44で取り付けることにより、イオンガン本体1の中心にあるイオンビーム照射口140の中心とベース板40の中心が一致する。また、位置決めピン70により四角柱ブロック50がベース板40の中心、延いてはイオンガン本体1の中心に配置されることとなる。さらに、四角柱ブロック50にニュートラライザーユニット100を固定し、ベース板40とニュートラライザーユニット100が接する位置でねじ91を固定することにより、ニュートラライザーユニット100のz方向の位置決めがなされ、メインテナンス作業に伴う解体後の再組立においても、常にイオンビーム照射口140からベース板40の厚みと同じ距離だけ隔たった位置にニュートラライザーユニット100を固定することが可能となる。これによって取付け板30に対する絶縁支柱90のz方向の位置決めがなされる。
【0029】
また、イオンガン本体の中心に位置する位置決めピン70と同心円型のカラー60の外径に防着板110のイオンビーム貫通穴115の内径を合わせ、位置決めピン70の外径にイオンコレクターユニット120のイオンビーム貫通穴122の内径を合わせて各構成部品を配置することにより、防着板110及びイオンコレクターユニット120はイオンガン本体1の中心に正確に配置されることになる。この状態で防着板110及びイオンコレクターユニット120を絶縁支柱90に固定し、ねじ31を固定することで、位置決め板20に対する取付け板30の位置決めがなされる。
【0030】
以上のようにして、ニュートラライザーユニット100、防着板110及びイオンコレクターユニット120のイオンガン本体1に対するx、y、zの各方向についての位置決めがなされる。
【0031】
位置決め板20は水冷ジャケット2の寸法に合わせて所定の個所に固定されるようになっているため、位置決め板20を何回着脱しても位置決め板20に固定された付属部品のイオンガン本体に対する取付け位置が変わることはない。したがって、位置決めピン70、カラー60、四角柱ブロック50、ベース板40等の治具をイオンガン本体と付属部品との間に介在させて付属部品のイオンガン本体に対する位置決めを行った後に、前記付属部品等を固定してある位置決め板20を一度イオンガン本体から取り外したうえで、治具等を取り外してから再びイオンガン本体の所定の位置に取り付けても、イオンガン本体に対する付属部品の位置は変わらないため、高い精度で付属部品の取付けを行うことができる。
【0032】
従来の目視によるニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニットの取付け方法では、正規の取付け位置からx、y方向について約2mmずれて固定されてしまうことがあったが、本発明の取付け方法によれば±0.1mm以内の精度で取付けを行うことが可能となり、周波数調整の精度を安定化することが可能となった。具体的には、24MHz帯VCXO(周波数可変型水晶発振器)の調整量1000PPMとした時の周波数調整結果は、従来の方法で付属部品の取付けを行ったイオンガン装置ではターゲット周波数に対して±15PPMであったのに対して、本発明の付属品取付け方法を用いたイオンガン装置では、±2PPM以内となった。
【0033】
(3)他の実施例の説明、他の用途への転用例の説明
上記実施例は、水晶振動子の周波数調整用イオンガン装置に使用されるニュートラライザー及びイオンコレクターに対応しているが、水晶振動子以外の対象物について用いられるイオンガン装置についても、形状の変更によって対応することが可能である。
【0034】
【発明の効果】
本発明によれば、ベース板、四角柱ブロック、カラー、位置決めピン等の治具を用いて組み立てるため、イオンガン本体に対するニュートラライザーユニット及びイオンコレクターユニット等の付属部品の位置決め精度が向上し、メインテナンス作業に伴う解体と再組立の際に組立者によって付属部品の取付け位置が変わり、水晶振動子の周波数調整精度に悪影響を及ぼすことがなくなった。これによりイオンガン式周波数調整装置の周波数調整精度を安定化することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明において用いる位置決め用の治具を取り付けたイオンガン装置の概略図である。
【図2】本発明において用いる位置決め板を示すもので、(a)は正面図、(b)は左側面図、(c)は右側面図、(d)は平面図である。
【図3】本発明において用いる取付け板を示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図4】本発明において用いるベース板を示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図5】本発明において用いる四角柱ブロックを示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図6】本発明において用いるカラーを示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図7】本発明において用いる位置決めピンを示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図8】(a)は従来の附属部品取付け方法を用いたイオンガン装置の概略図、(b)は図8(a)のイオンガン装置におけるA−A′部分の断面図である。
【図9】従来方法で用いていた取付け板を示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図10】附属部品の支持に用いる絶縁支柱を示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図11】ニュートラライザーユニットを示すもので、(a)は正面図、(b)右側面図、(c)は平面図である。
【図12】防着板を示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図13】イオンコレクターユニットを示すもので、(a)は正面図、(b)は右側面図、(c)は平面図である。
【図14】イオンガン装置の概念図である。
【図15】イオンガン本体の上面概略図である。
【符号の説明】
1 イオンガン本体
2 水冷ジャケット
3 防着筒
20 位置決め板
21 板部
22 板部
23 ねじ穴
24 ねじ
25 ねじ取付け部
30 取付け板
31 ねじ
32 ねじ取付け部
33 ねじ穴
40 ベース板
41 固定ピン
42 中心部貫通穴
43 貫通穴
44 位置決めピン
50 四角柱ブロック
51 中心部貫通穴
52 ねじ穴
53 ねじ
60 カラー
61 中心部貫通穴
70 位置決めピン
80 取付け板
81 ねじ
82 ねじ穴
83 ねじ取付け部
90 絶縁支柱
91 ねじ
92 ねじ取付け部
93 ねじ穴
94 ねじ穴
100 ニュートララザーユニット
101 フィラメント
102 ねじ穴
103 ねじ
110 防着板
111 板金部
112 絶縁部
113 ねじ
114 ねじ穴
115 イオンビーム貫通穴
120 イオンコレクターユニット
121 ねじ穴
122 イオンビーム貫通穴
123 ねじ
130 イオンビーム
131 水晶振動子
140 イオンビーム照射口
141 貫通穴
142 貫通穴
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method and a structure for attaching accessory parts such as a neutralizer unit and an ion collector unit to an ion gun body in an ion gun apparatus used for frequency adjustment of a crystal resonator.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a frequency adjusting device for a crystal resonator, a device using a resistance heating evaporation source has been generally used. However, the frequency adjustment by vacuum deposition using this resistance heating evaporation source has the disadvantage that the electrode becomes smaller as the work is downsized, and the base electrode and the adjustment film are displaced. Therefore, at present, an ion gun apparatus having advantages such as the above-described disadvantages, continuous operation is possible because the replenishment of the evaporating material is unnecessary, and the device characteristics are good because the electrodes are not multi-layered. Frequency adjustment by ion beam etching has been widespread. The frequency adjustment of a crystal resonator using such an ion gun apparatus is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-323442.
[0003]
A schematic configuration of the ion gun apparatus as described above will be described with reference to FIG. In the figure, 1 is a substantially cylindrical ion gun body, 2 is a water-cooling jacket surrounding the periphery of the ion gun body 1, and 3 is an anti-adhesion cylinder fitted to the top of the ion gun body 1. In the center of the deposition preventing cylinder 3, a hole for allowing the ion beam from the ion beam irradiation port 140 of the ion gun main body 1 to pass therethrough is provided. 100 is a neutralizer unit installed at a predetermined interval from the ion beam irradiation port 140, and 120 is an ion collector unit. The neutralizer unit 100 and the ion collector unit 120 are attached to the ion gun body 1, and are supported by the ion gun body 1 or the water cooling jacket 2 surrounding the ion gun body by a support member not shown in FIG. .
[0004]
When this ion gun apparatus is used, Ar gas is first introduced into an ion gun body 1 having an anode and a hot cathode in a vacuum vessel to generate Ar plasma. Next, Ar positive ions are extracted from the plasma to form an ion beam 130. The frequency of the crystal unit is adjusted by irradiating the electrode film of the crystal unit 131 with the ion beam 130 and performing sputter etching on the electrode surface.
[0005]
However, when frequency measurement is performed while oscillating a crystal resonator as described above, the crystal substrate is charged with a positive charge simultaneously with the irradiation of the ion beam, and the oscillation becomes unstable, or the oscillation is stopped. In some cases, there is a problem that accurate frequency measurement cannot be performed. Therefore, the filament 101 attached to the tip of the neutralizer unit 100 is energized to emit electrons (negative charges) to neutralize the charge on the quartz substrate, and the frequency measurement is performed simultaneously with the ion beam irradiation. . Also, an ion collector unit 120 is provided to control the power of the neutralizer, and the neutralizer output is adjusted by keeping the current flowing through the ion collector constant.
[0006]
In such an ion gun apparatus, the distance from the ion beam to the filament 101 of the neutralizer unit 100 is extremely important because it affects the neutralization of Ar ions, and the center of the ion beam through hole 122 of the ion collector unit 120 is the center. If it does not coincide with the center of the ion beam, the power of the neutralizer cannot be accurately controlled. Therefore, the positioning of the neutralizer unit 100 and the ion collector unit 120 with respect to the ion gun body 1 is very important.
[0007]
When the neutralizer unit 100 and the ion collector unit 120 are attached to the ion gun main body 1 or the water cooling jacket 2, the external dimensions of the ion gun main body 1 and the water cooling jacket 2 vary somewhat depending on the device, so that each part is adjusted with respect to the installation position. If it is fixed without having the degree of freedom, accurate adjustment cannot be performed because the attachment position cannot be finely adjusted. Therefore, in the prior art, a play for positioning is made in the attachment portion of the accessory, and the positioning in the vertical direction and the horizontal direction is performed by visual observation.
[0008]
This visual positioning method will be described with reference to FIG. 8a and FIG. 8b which is a cross-sectional view taken along the line AA 'in FIG. In the following description, an ion gun body equipped with a neutralizer unit, an ion collector unit, and the like is collectively referred to as an ion gun apparatus. The water-cooling jacket surrounding the ion gun main body will be described as a part of the ion gun main body except for the case where it is specifically described by reference numerals.
[0009]
Reference numeral 1 denotes an ion gun main body, and a water cooling jacket 2 and a protection cylinder 3 are attached to the ion gun main body 1 as shown in FIG. A mounting plate 80 is fixed to the water cooling jacket 2 by screws 81. As shown in FIG. 9, the mounting plate 80 has an L-shaped cross section, and the portion provided with the mounting portion 83 of the screw 81 is greatly U-shaped and is mounted in the x- and y-directions of the water cooling jacket 2. Can be adjusted. An insulating support 90 shown in FIG. 10 is fixed to the screw hole 82 at the rising portion of the mounting plate 80 with a screw 91. A mounting portion 92 of the screw 91 is a long hole extending in the z direction, and the mounting position of the insulating support 90 on the mounting plate 80 can be adjusted in the z direction.
[0010]
A neutralizer unit 100 shown in FIG. The screw 103 passes through the screw hole 102 of the neutralizer unit 100 and is fixed to the screw hole 94 of the insulating column 90. The neutralizer unit 100 is fixed to the upper part of the insulating support column 90, and the deposition preventing plate 110 is further arranged on the upper part. As shown in FIG. 12, the adhesion preventing plate 110 is configured by fixing a sheet metal part 111 to an insulating part 112 shown by hatching with screws 113, and the sheet metal part 111 and the insulating part 112 are screw holes 114. It is fixed to the portion of the screw hole 93 of the insulating support 90 through. At this time, the adhesion preventing plate 110 is visually arranged so that the through hole 115 having the inner diameter B provided in the sheet metal portion 111 is located at the center of the ion beam irradiation port of the ion gun body. Furthermore, an ion collector unit 120 shown in FIG. The ion collector unit 120 is also visually arranged so that the ion beam through hole 122 having an inner diameter C provided in the ion collector unit 120 is located at the center of the ion beam irradiation port.
[0011]
As described above, after the arrangement of the deposition preventing plate 110 and the ion collector unit 120 is determined by visual observation, the attachment plate 110 and the ion collector unit 120 are fixed to the insulating support 90 by the screws 123 that pass through the screw holes 121, 114, and 93. The fixing position of the mounting plate 80 by the screw 81 and the fixing position of the insulating column 90 by the screw 91 are determined by visual observation so that the neutralizer unit 100 and the ion collector unit 120 are arranged at appropriate positions with respect to the ion beam. It had been.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
In the ion gun apparatus, the material to be etched generated by etching with an ion beam may adhere to the grid surface and cause a short circuit between the acceleration grid and the shielding grid. Therefore, periodic cleaning is performed at least once a day. Work is necessary. Moreover, since a neutralizer unit, a deposition prevention plate, an ion collector unit, etc. are consumable parts, it is necessary to replace them as appropriate. For this reason, it is necessary to frequently disassemble and assemble the ion gun apparatus for maintenance work such as cleaning and parts replacement. At that time, as described above, the positioning of the neutralizer unit, the deposition preventing plate and the ion collector unit with respect to the ion gun main body is very important.
[0013]
However, in the past, positioning, which is important for attaching accessory parts such as a neutralizer unit and an ion collector unit to the ion gun main body, has been performed visually as described above, so that the ion gun apparatus for maintenance work can be disassembled. The attachment positions of the accessory parts sometimes differed before and after assembly. As a result, there are problems that the attachment position of the accessory in the horizontal direction and the vertical direction with respect to the ion gun body varies from device to device, and that the attachment position of the accessory varies depending on the device assembler. It was a cause of adverse effects on accuracy.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problems, in the present invention, a jig is used to accurately position the neutralizer unit and the ion collector unit with respect to the ion gun body. That is, in the method of attaching the neutralizer unit and the ion collector unit which are accessory parts at a predetermined interval from the ion beam irradiation port of the ion gun main body, the positioning plate which can be attached to and detached from the predetermined portion of the ion gun main body and the front and rear, The accessory is temporarily fixed to the ion gun body with play in any of the front, rear, left, and right directions via a support that can adjust the position in the left and right and up and down directions. The attachment parts are fixed at an accurate position with respect to the ion gun body using a plurality of attachment jigs interposed between the plurality of attachment jigs, and then the attachment parts supported by the plurality of attachment jigs and the positioning plate are fixed. Remove everything from the ion gun body as it is, remove only the mounting jig used here, It is intended to attach the accessory to the ion gun body by attaching again the positioning plate to a predetermined point of the ion gun body.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(1) Description of Configuration of Examples Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same parts as those of the conventional example described above are denoted by the same reference numerals as those of the conventional example, and the detailed description thereof refers to the description of the conventional example.
[0016]
In carrying out the present invention, first, the positioning plate 20 is attached to a predetermined portion of the water cooling jacket 2 covering the ion gun main body 1. As shown in FIG. 2, the positioning plate 20 connects a plate portion 21 that regulates the mounting position of the positioning plate 20 in the x direction and an L-shaped plate portion 22 that regulates the mounting position in the y direction with screws 24. It is constituted by. At one end of the plate portion 21 in the x direction, a right-angled bent portion that contacts the ion gun body is formed. Further, the plate portion 22 is provided with an attachment portion 25 that enables the position of the plate portion 22 in the y direction to be adjusted by a screw 24 penetrating a long hole provided on one side thereof. The other side of the plate portion 22 is brought into contact with the ion gun body. The position of the plate portion 22 can be adjusted in this way because there is some variation in the size of the water cooling jacket surrounding the ion gun main body, and the positioning plate 20 of the positioning plate 20 is adjusted according to the dimension in the y direction of the water cooling jacket. By determining the dimension in the y direction and fixing the plate portions 21 and 22 with screws 24, a positioning plate that can be attached to a predetermined position of the water cooling jacket is obtained no matter how many times it is attached or detached. The positioning plate 20 is fixed to the water cooling jacket 2 with screws 81.
[0017]
Next, an insulating support 90 similar to the conventional example in which the neutralizer unit 100 is fixed with the screw 103 is disposed in a portion corresponding to the screw hole 33 of the mounting plate 30 shown in FIG. The attachment portion 92 of the screw 91 is a through hole that is long in the z direction, so that the fixing position of the insulating support 90 can be adjusted in the vertical direction. Therefore, the screw 91 is temporarily fixed without being fixed in the state where the mounting portion 92 and the screw hole 33 are passed.
[0018]
Next, the mounting plate 30 described above is disposed on the positioning plate 20. As shown in FIG. 3, the mounting plate 30 is provided with a mounting portion 32 of a screw 31 for fixing the mounting plate 30 to the positioning plate 20, and the screw 31 is inserted into the screw hole 23 of the positioning plate 20. It is like that. The attachment portion 32 is an oval hole that is larger than the effective diameter of the screw 31 so that the fixing position of the attachment plate 30 with respect to the positioning plate 20 can be adjusted in the x direction and the y direction. Therefore, the screw 31 is also temporarily fixed without being fixed.
[0019]
In this way, the ion gun is not fixed by fixing the screw 91 for fixing the mounting plate 30 and the insulating support 90 and the screw 31 for fixing the positioning plate 20 and the mounting plate 30 constituting the supporting member of the accessory part. The positioning of the accessory parts of the main body can have play in the x, y and z directions.
[0020]
Next, similarly to the conventional example, the deposition preventing cylinder 3 is removed, and the base plate 40 is disposed above the ion beam irradiation port of the ion gun body 1. As shown in FIG. 4, the base plate 40 is provided with a plurality of circular through holes circumferentially, and one of the circular through holes is a through hole 43 for attaching a positioning pin. Yes. A fixing pin 41 is provided on the back surface of the base plate at a position symmetrical to the through hole 43 with respect to the center of the circumference, and a center through hole 42 is provided in the center of the circumference.
[0021]
FIG. 15 is a schematic view when the ion beam irradiation port of the ion gun main body 1 is viewed from above. At the center of the ion gun body 1, there is provided an ion beam irradiation port 140 in which a large number of small holes are arranged, and a through hole for inserting a positioning pin on the outer circumference of the ion beam irradiation port. 141 and 142 are provided. The aforementioned base plate 40 is disposed on the upper surface of the ion gun body 1 with the fixing pin 41 inserted into the through hole 142 and the positioning pin 44 inserted into the through hole 141 through the through hole 43. Thereby, the base plate 40 is fixed in a state where the ion beam irradiation port 140 at the center of the ion gun main body 1 and the center of the base plate 40 coincide.
[0022]
Next, the quadrangular prism block 50 shown in FIG. The rectangular column block 50 is provided with a central through hole 51 having the same inner diameter that is linearly connected to the central through hole 42 of the base plate 40 at the center thereof, and is perpendicular to the central through hole 51, that is, x Two screw holes 52 are provided in the direction.
[0023]
Next, the neutralizer unit 100 is disposed in the screw hole 52 portion of the quadrangular prism block 50 and fixed with the screw 53. At this time, the neutralizer unit 100 is positioned in the z direction at a position where the neutralizer unit 100 contacts the base plate 40.
[0024]
Next, a disc-shaped collar 60 shown in FIG. The collar 60 has a through hole 61 having the same inner diameter as the through hole 51 of the rectangular column block 50.
[0025]
Next, the positioning pin 70 shown in FIG. 7 is inserted into the central through hole 61 of the collar 60, the central through hole 51 of the quadratic prism block 50, and the central through hole 42 of the base plate 40. Further, a part of the collar 60 is inserted into the ion beam through hole 115 of the deposition preventing plate 110, and a part of the positioning pin 70 is sequentially inserted in a state of being inserted into the ion beam through hole 122 of the ion collector unit 120. In this case, the outer diameters of the collar 60 and the positioning pin 70 are sized according to the inner diameters of the ion beam through holes 115 and 122, respectively. For example, the outer diameter of the positioning pin 70 is substantially equal to the inner diameter C of the ion beam through hole 122 of the ion collector unit 120.
[0026]
In this state, the deposition preventing plate 110 and the ion collector unit 120 are fixed to the insulating support 90 with screws 123. Further, the position of the insulating support 90 relative to the mounting plate 30 and the position of the mounting plate 30 relative to the positioning plate 20 are determined at positions where the positioning pins 70 can be smoothly extracted, and the screws 91 and 31 are fixed.
[0027]
After completing the above-described steps, the screw 81 is removed, and the positioning plate 20 and the accessory parts fixed to the upper portion thereof are once removed from the ion gun main body 1 as they are. Then, jigs such as the positioning pin 70, the collar 60, the quadrangular prism block 50, and the base plate 40 used for positioning are removed. After that, the attachment cylinder 3 is attached to the ion gun main body 1 and the positioning plate 20 is fixed to a predetermined portion of the ion gun main body 1 with a screw 81 again. Is fixed to the ion gun main body 1 at an accurate position.
[0028]
(2) Description of Action and Operation of Embodiment In the above-described steps, the base plate 40 is attached to the upper part of the ion gun body 1 with the fixing pins 41 and the positioning pins 44, so that the ion beam irradiation port 140 at the center of the ion gun body 1 is provided. And the center of the base plate 40 coincide. In addition, the square pole block 50 is disposed at the center of the base plate 40 by extension by the positioning pins 70, and thus at the center of the ion gun main body 1. Furthermore, the neutralizer unit 100 is fixed to the square pillar block 50, and the screw 91 is fixed at a position where the base plate 40 and the neutralizer unit 100 are in contact with each other, so that the neutralizer unit 100 is positioned in the z direction for maintenance work. Even in the reassembly after the disassembly, the neutralizer unit 100 can always be fixed at a position separated from the ion beam irradiation port 140 by the same distance as the thickness of the base plate 40. As a result, the insulating support 90 is positioned with respect to the mounting plate 30 in the z direction.
[0029]
In addition, the inner diameter of the ion beam through hole 115 of the deposition preventing plate 110 is aligned with the outer diameter of the positioning pin 70 and the concentric collar 60 positioned at the center of the ion gun body, and the ion of the ion collector unit 120 is aligned with the outer diameter of the positioning pin 70. By arranging the components so that the inner diameters of the beam through holes 122 are matched, the deposition preventing plate 110 and the ion collector unit 120 are accurately arranged at the center of the ion gun body 1. In this state, the attachment plate 30 and the ion collector unit 120 are fixed to the insulating support 90 and the screw 31 is fixed, whereby the mounting plate 30 is positioned with respect to the positioning plate 20.
[0030]
As described above, the neutralizer unit 100, the adhesion preventing plate 110, and the ion collector unit 120 are positioned with respect to the ion gun body 1 in the x, y, and z directions.
[0031]
Since the positioning plate 20 is fixed at a predetermined position according to the dimensions of the water-cooling jacket 2, no matter how many times the positioning plate 20 is attached or detached, the attachment parts fixed to the positioning plate 20 are attached to the ion gun body. The position does not change. Therefore, after positioning jigs such as positioning pins 70, collars 60, quadratic prism blocks 50, base plate 40, etc. between the ion gun body and the accessory parts and positioning the accessory parts with respect to the ion gun body, the accessory parts etc. Even if the positioning plate 20 that has been fixed is removed from the ion gun body once and then the jig is removed and then attached to the ion gun body again in the specified position, the position of the accessory relative to the ion gun body does not change, so it is high Attached parts can be attached with high accuracy.
[0032]
In the conventional method for attaching the neutralizer unit and ion collector unit by visual observation, the fixed position may be fixed with a deviation of about 2 mm in the x and y directions from the normal attachment position. However, according to the attachment method of the present invention, ± 0.1 Installation can be performed with an accuracy of less than mm, and the frequency adjustment accuracy can be stabilized. Specifically, the frequency adjustment result when the adjustment amount of 1000 MHz for the 24 MHz band VCXO (frequency variable crystal oscillator) is ± 15 PPM with respect to the target frequency in the ion gun device with the attached parts attached by the conventional method. In contrast, in the ion gun apparatus using the accessory mounting method of the present invention, it was within ± 2 PPM.
[0033]
(3) Description of other embodiments, description of examples of diversion to other applications The above embodiments correspond to neutralizers and ion collectors used in ion gun devices for frequency adjustment of crystal resonators. An ion gun apparatus used for an object other than the vibrator can also be dealt with by changing the shape.
[0034]
【The invention's effect】
According to the present invention, since assembly is performed using jigs such as a base plate, a square pole block, a collar, and a positioning pin, positioning accuracy of accessory parts such as a neutralizer unit and an ion collector unit with respect to the ion gun body is improved, and maintenance work is performed. When disassembling and reassembling, the attachment position of the accessory changes depending on the assembler, and the frequency adjustment accuracy of the crystal unit is no longer adversely affected. This makes it possible to stabilize the frequency adjustment accuracy of the ion gun type frequency adjustment device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view of an ion gun apparatus equipped with a positioning jig used in the present invention.
2A and 2B show a positioning plate used in the present invention, in which FIG. 2A is a front view, FIG. 2B is a left side view, FIG. 2C is a right side view, and FIG.
3A and 3B show a mounting plate used in the present invention, in which FIG. 3A is a front view, FIG. 3B is a right side view, and FIG. 3C is a plan view.
4A and 4B show a base plate used in the present invention, in which FIG. 4A is a front view, FIG. 4B is a right side view, and FIG. 4C is a plan view.
5A and 5B show a quadrangular prism block used in the present invention, in which FIG. 5A is a front view, FIG. 5B is a right side view, and FIG. 5C is a plan view.
6A and 6B show a color used in the present invention. FIG. 6A is a front view, FIG. 6B is a right side view, and FIG. 6C is a plan view.
7A and 7B show positioning pins used in the present invention, in which FIG. 7A is a front view, FIG. 7B is a right side view, and FIG. 7C is a plan view.
FIG. 8A is a schematic view of an ion gun apparatus using a conventional accessory part mounting method, and FIG. 8B is a cross-sectional view of the AA ′ portion in the ion gun apparatus of FIG.
9A and 9B show a mounting plate used in a conventional method, in which FIG. 9A is a front view, FIG. 9B is a right side view, and FIG. 9C is a plan view.
FIGS. 10A and 10B show insulating posts used for supporting attached parts, wherein FIG. 10A is a front view, FIG. 10B is a right side view, and FIG. 10C is a plan view.
11A and 11B show a neutralizer unit, where FIG. 11A is a front view, FIG. 11B is a right side view, and FIG. 11C is a plan view.
FIGS. 12A and 12B show a protection plate, where FIG. 12A is a front view, FIG. 12B is a right side view, and FIG. 12C is a plan view;
FIG. 13 shows an ion collector unit, where (a) is a front view, (b) is a right side view, and (c) is a plan view.
FIG. 14 is a conceptual diagram of an ion gun device.
FIG. 15 is a schematic top view of an ion gun body.
[Explanation of symbols]
1 Ion gun body
2 Water cooling jacket
3 Anti-stick cylinder
20 Positioning plate
21 Plate
22 Plate
23 Screw holes
24 screws
25 Screw mounting part
30 Mounting plate
31 screw
32 Screw mounting part
33 Screw hole
40 base plate
41 Fixing pin
42 Center through hole
43 Through hole
44 Locating pin
50 square block
51 Center through hole
52 Screw holes
53 screw
60 colors
61 Center through hole
70 Positioning pin
80 Mounting plate
81 screw
82 Screw holes
83 Screw mounting part
90 Insulating post
91 screw
92 Screw mounting part
93 Screw hole
94 Screw hole
100 neutral unit
101 filament
102 Screw hole
103 screw
110 Armor plate
111 Sheet metal part
112 Insulation
113 screw
114 Screw hole
115 Ion beam through hole
120 ion collector unit
121 Screw hole
122 Ion beam through hole
123 screw
130 Ion beam
131 Quartz crystal
140 Ion beam irradiation port
141 Through hole
142 Through hole

Claims (8)

イオンガン本体のイオンビーム照射口から所定の空間位置に、ニュートラライザーユニット及びイオンビーム貫通穴を有するイオンコレクターユニットからなる付属部品を取り付ける方法であって、
(a)前記イオンガン本体に対する所定の位置に位置決め板と、前後、左右及び上下方向の位置の調節ができる支持部材とを介して、前記付属部品を前後、左右又は上下方向のいずれにも遊びを持たせて仮止めする工程、
(b)前記イオンガン本体と前記付属部品との間に介在させた取付け治具を使用して、前記イオンビーム照射口と前記イオンビーム貫通穴が同軸となるように、前記付属部品を該イオンガン本体に対して固定する工程、
(c)前記取付け治具、前記位置決め板、前記支持部材及び前記付属部品を互いに固定した状態で前記イオンガン本体及び前記所定の位置から取り外す工程、
(d)前記取付け治具を前記付属部品から取り外す工程、及び
(e)前記位置決め板を前記所定の位置に再度取り付ける工程
からなる方法。
A method of attaching an accessory part consisting of a neutralizer unit and an ion collector unit having an ion beam through hole to a predetermined spatial position from an ion beam irradiation port of an ion gun body,
(A) Play the accessory part in the front / rear, left / right or up / down direction via a positioning plate at a predetermined position with respect to the ion gun body and a support member capable of adjusting the position in the front / rear, left / right and up / down directions. The process of holding and temporarily fixing,
(B) Using an attachment jig interposed between the ion gun body and the accessory part, attach the accessory part to the ion gun body so that the ion beam irradiation port and the ion beam through hole are coaxial. Fixing to,
(C) removing the attachment jig, the positioning plate, the support member, and the accessory from the ion gun body and the predetermined position while being fixed to each other;
(D) A method comprising the step of removing the attachment jig from the accessory part, and (e) a step of reattaching the positioning plate to the predetermined position.
請求項1記載の方法において、
前記工程(a)、(c)及び(e)における前記所定の位置が、前記イオンガン本体に固定された水冷ジャケットに設けられた所定の個所であることを特徴とする方法。
The method of claim 1, wherein
The method, wherein the predetermined position in the steps (a), (c) and (e) is a predetermined portion provided in a water cooling jacket fixed to the ion gun body.
請求項2記載の方法であって、
前記工程(a)において、前記支持部材が取付け板及び絶縁支柱からなり、
該工程(a)が、
前記位置決め板を前記水冷ジャケットの予め決められた位置に固定する工程、
該取付け板を該位置決め板に、該取付け板の位置を該位置決め板に対して所定の第1及び第2の方向に調整し得るように該取付け板に設けた長穴にねじを通して仮止めする工程、及び
該絶縁支柱を該取付け板に、該絶縁支柱の位置を該取付け板に対して該第1及び第2の方向とは異なる第3の方向に調整し得るように該絶縁支柱に設けた長穴にねじを通して仮止めする工程
からなることを特徴とする方法。
The method of claim 2, comprising:
In the step (a), the support member is composed of a mounting plate and an insulating column,
The step (a)
Fixing the positioning plate at a predetermined position of the water-cooling jacket;
The mounting plate is temporarily fixed to the positioning plate, and a screw is temporarily fixed to a slot provided in the mounting plate so that the position of the mounting plate can be adjusted in predetermined first and second directions with respect to the positioning plate. And a step of providing the insulating support post on the mounting plate, and a position of the insulating support post on the insulating support post so as to be adjusted in a third direction different from the first and second directions with respect to the mounting plate. A method characterized by comprising a step of temporarily fixing a screw through a long hole.
請求項1から請求項3いずれか一項に記載の方法であって、
前記工程(b)において、前記取付け治具がベース板、四角柱ブロック及びカラーからなり、
該工程(b)が、
前記イオンガン照射口の上部に前記イオンガン本体の中心に合わせて該ベース板、該四角柱ブロック、該カラーの順に配置する工程、
配置された該取付け治具の中心に中央位置決めピンを貫通する工程、
該四角柱ブロックと前記ニュートラライザーユニットを固定する工程、
前記イオンコレクターユニットを、前記貫通穴を前記中央位置決めピンに合わせて配置する工程、及び
前記仮止めする工程によって仮止めされた箇所を固定する工程
からなることを特徴とする方法。
A method according to any one of claims 1 to 3, comprising
In the step (b), the mounting jig is composed of a base plate, a square pole block, and a collar,
The step (b)
A step of arranging the base plate, the quadrangular prism block, and the collar in this order in accordance with the center of the ion gun main body at the top of the ion gun irradiation port;
A process of penetrating a center positioning pin at the center of the arranged mounting jig;
Fixing the square prism block and the neutralizer unit;
A method comprising: arranging the ion collector unit with the through hole aligned with the central positioning pin; and fixing a portion temporarily fixed by the temporary fixing step.
請求項2から請求項4いずれか一項に記載の方法であって、
前記工程(c)において、該位置決め板を前記水冷ジャケットから取り外すことを特徴とする方法。
A method according to any one of claims 2 to 4, comprising
In the step (c), the positioning plate is removed from the water-cooling jacket.
請求項4又は請求項5記載の方法であって、
前記工程(d)において、前記ベース板、前記四角柱ブロック、前記カラー及び前記中央位置決めピンのみを前記イオンコレクターユニット及び前記ニュートラライザーユニットから取り外すことを特徴とする方法。
A method according to claim 4 or claim 5, wherein
In the step (d), only the base plate, the quadrangular prism block, the collar and the central positioning pin are removed from the ion collector unit and the neutralizer unit.
イオンガン本体のイオンビーム照射口から所定の空間位置に、ニュートラライザーユニット及びイオンビーム貫通穴を有するイオンコレクターユニットからなる付An ion collector unit having a neutralizer unit and an ion beam through hole at a predetermined spatial position from the ion beam irradiation port of the ion gun body. 属部品をイオンガン本体に取り付ける取り付け部材であって、An attachment member for attaching a genus part to the ion gun body,
前記イオンガン本体の所定の位置に着脱可能な位置決め板と、A positioning plate detachable at a predetermined position of the ion gun body;
前記位置決め板に対する固定位置を所定の第1及び第2の方向に調整し得る長穴を有する取付け板と、A mounting plate having an elongated hole capable of adjusting a fixed position with respect to the positioning plate in predetermined first and second directions;
前記取付け板に対する固定位置を該第1及び第2の方向とは異なる第3の方向に調整し得る長穴を有し前記付属部品を固定配置する絶縁支柱とから構成され、An insulating column having a slot that can adjust the fixing position with respect to the mounting plate in a third direction different from the first and second directions;
前記取付け板と、前記絶縁支柱とが、The mounting plate and the insulating column are
各々が貫通穴を有するベース板、四角柱ブロック、およびカラー、並びに中央位置決めピンからなる治具であって前記位置決め板が前記イオンガン本体に装着されていない状態において該イオンガン本体から取り外し可能な前記治具により前記ニュートラライザーユニットおよび前記イオンコレクターユニットを位置決め可能に構成され、A jig comprising a base plate having a through-hole, a quadratic prism block, a collar, and a central positioning pin, and the jig detachable from the ion gun main body when the positioning plate is not attached to the ion gun main body. It is configured so that the neutralizer unit and the ion collector unit can be positioned by a tool,
前記ベース板が、該ベース板の貫通穴の中心が前記イオンガン本体の照射口の中心と一致するように該イオンガン本体の所定位置に配置され、The base plate is disposed at a predetermined position of the ion gun body so that the center of the through hole of the base plate matches the center of the irradiation port of the ion gun body,
前記四角柱ブロックが前記ニュートラライザーユニットの予め定められた位置に固定され、The quadrangular prism block is fixed at a predetermined position of the neutralizer unit;
前記カラーが前記ベース板と前記イオンコレクターユニット間に配置され、The collar is disposed between the base plate and the ion collector unit;
前記中央位置決めピンが、前記イオンコレクターユニットのイオンビーム貫通穴、前記ベース板の貫通穴、前記四角柱ブロックの貫通穴、及び前記カラーの貫通穴を貫通するように構成され、The central positioning pin is configured to pass through the ion beam through hole of the ion collector unit, the through hole of the base plate, the through hole of the rectangular column block, and the through hole of the collar,
前記位置決め板と前記イオンガン本体との前記所定の位置における着脱により、該位置決め板に固定された前記取付け板、前記絶縁支柱および前記付属品の、該イオンガン本体に対する取り付けおよび取り外しが可能であることを特徴とする取り付け部材。By attaching and detaching the positioning plate and the ion gun body at the predetermined position, it is possible to attach and detach the mounting plate, the insulating column and the accessory fixed to the positioning plate to the ion gun body. A featured mounting member.
請求項1から請求項6いずれか一項に記載の取り付け方法により前記付属品が取り付けられたイオンガン本体。An ion gun body to which the accessory is attached by the attachment method according to any one of claims 1 to 6.
JP2001352720A 2001-11-19 2001-11-19 Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body Expired - Fee Related JP3916929B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001352720A JP3916929B2 (en) 2001-11-19 2001-11-19 Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001352720A JP3916929B2 (en) 2001-11-19 2001-11-19 Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003151485A JP2003151485A (en) 2003-05-23
JP2003151485A5 JP2003151485A5 (en) 2005-06-09
JP3916929B2 true JP3916929B2 (en) 2007-05-23

Family

ID=19164856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001352720A Expired - Fee Related JP3916929B2 (en) 2001-11-19 2001-11-19 Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3916929B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115091393B (en) * 2022-07-21 2024-03-01 宁波晶创科技有限公司 Positioning structure convenient for installation of molybdenum sheet of ion gun

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54139465A (en) * 1978-04-21 1979-10-29 Toshiba Corp Electron gun assembly and its assembling method
JPH0415143U (en) * 1990-05-30 1992-02-06
JP3024233B2 (en) * 1991-02-22 2000-03-21 日新電機株式会社 Ion beam extraction electrode system
JP2591081Y2 (en) * 1993-12-29 1999-02-24 日新電機株式会社 Ion source electrode support device
US5420415A (en) * 1994-06-29 1995-05-30 Eaton Corporation Structure for alignment of an ion source aperture with a predetermined ion beam path
JP2000156157A (en) * 1998-11-19 2000-06-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electron gun assembling device
JP3422724B2 (en) * 1999-05-14 2003-06-30 株式会社昭和真空 Frequency adjustment device for piezoelectric element

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003151485A (en) 2003-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900008793B1 (en) Masked ion beam lithography system and method
US5420415A (en) Structure for alignment of an ion source aperture with a predetermined ion beam path
US6125522A (en) Manufacturing method for electrostatic deflector
JPH0132626B2 (en)
EP0720206B1 (en) Plasma processing method and plasma processing apparatus
JP2009545102A (en) Ion source
RU2238602C1 (en) Electron gun with linear hot cathode for electron-beam heating
JP3916929B2 (en) Attachment method and attachment structure of accessory parts to the ion gun body
JPH0745226A (en) Electron-beam generator and emission cathode
JP2001222970A (en) Electrode assembly and electrostatic tetrode lens assembly for ion injection device
US7425710B2 (en) Anode layer particle beam device
JP2011122195A (en) Magnet unit for magnetron sputtering electrode and sputtering apparatus
JPH04196708A (en) Frequency adjustment device and method for piezoelectric element
KR20010021341A (en) Arc type ion plating apparatus
JP2002220655A (en) Vapor deposition source and vapor deposition apparatus
JPH07138743A (en) Ion plating device
JP2626928B2 (en) Apparatus and method for adjusting frequency of piezoelectric element
JPH1154296A (en) Plasma generator and plasma device
EP1830382B1 (en) Electron beam gun
JP2014041904A (en) Method for patterning resin film and method for manufacturing sensor using the same
JP4567488B2 (en) Method for adjusting frequency of piezoelectric device
KR100379677B1 (en) Method for loading target in sputtering vacuum chamber
JP2506389B2 (en) Dry etching method for mask substrate
JP2002363735A (en) Ion-plating apparatus
JPH08167397A (en) Ion gun

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040824

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040824

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061011

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061208

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070109

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140216

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees