JP3901396B2 - エンコーダ - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザのコヒーレンシ(可干渉性)を利用した位置決め、あるいは変位センサ、ならびにその応用であるマイクロマシンに係る。
【0002】
【従来の技術】
従来この種のコヒーレントな光を用いて構成した超小型エンコーダとしては、例えば、本発明者等によって報告されている「超小型ハイブリッドマイクロエンコーダ」1998年(平成10年)秋季第59回応用物理学会講演会予稿集No.3、16a−ZC−1、pp.879が有る。図7はこの論文で報告されている超小型エンコーダの構成を示すもので、半導体レーザ4、光導波路1、信号(A、B相信号)検出用フォトダイオード5、モニタリング用フォトダイオード6等の各部品がベース基板3上に配列され、光学系を構成している。すなわち、半導体レーザ4の片方の面から放射されたコヒーレントな光は光導波路1で光路を曲げられ、スケール9に達する。一方半導体レーザ4の他方の面から射出された光の大部分は他の導波路15を経てスケール9に達し、残りの一部分はモニタ用フォトダイオード6に達し、半導体レーザ4の出力光の強度をモニタする。スケール9には回折格子が形成されており、上記2本の光ビームは回折されると同時に反射される。この反射回折された光のうち一方の光の+1次の回折光、他方の光の−1次回折光がそれぞれ互いに同方向に進行し、A相、B相検出用フォトダイオード5に到達する。これら両光ビームの波面の位相は互いに90°ずれている。 エンコーダの動作上で必要とされる信号としては、一般的には被測定物の移動量あるいは回転角の測定用およびその移動方向または回転方向を検出するために位相の異なるA相、B相と呼ばれる2種の光ビームによる検出信号と、スケール9上での測定基準位置を設定するためのZ信号と呼ばれる合計3種の信号が有る。エンコーダで移動又は回転の方向を検出するための信号としては、上記の90°位相の異なる光ビームの信号が用いられ、一方の信号をA相と呼び、もう一方をB相と通常呼んでいる。ここで、エンコーダの方向とは、リニアエンコーダの場合はスケール両端のどちらの端部の方向に移動しているかを示すものであり、ロータリエンコーダの場合は右または左いずれの方向に回転しているかを示すものである。Z信号については、特にエンコーダをロータリエンコーダとして使用する場合、1回転するたびに測定系をリセットすると同時に回転数を検出するために用いられる。このように、1回転毎に得られる信号をエンコーダではZ信号と称している。なお、リニアエンコーダの場合でもスケール上のある一点を基準として測定する必要が生じる場合が有り、この場合にもZ信号が必要となる。
【0003】
従来のエンコーダでは上記のZ信号を得るためにはこのための別の光学系を必要とし、小型モータあるいはアクチュエータに内蔵して使用される超小型エンコーダに対しては、Z信号の検出機能を持たせることが出来なかった。このように、超小型ロータリエンコーダのような場合には1回転毎のリセット機能が無いためA相、B相の信号が積算され、莫大な数値を示すことになるという問題が有った。このため、超小型という制約条件を満たしつつ、A相、B相の信号に対しては1回転(すなわち360°以内の角度)における数値で計測し、別の信号で回転数のみを検出する方法が望まれていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の超小型エンコーダではスペースの問題からA相、B相の信号検出用光学系のみで、回転数検出および測定系リセット用のZ信号検出用の光学系を設けることは出来なかった。本発明においては、A相、B相の光による信号を検出すると同時にZ信号の検出をも可能にした光学系を有する超小型エンコーダの提供を目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明においては、以下の手段により上記目的を達成している。すなわち、
請求項1においては、半導体レーザの一方の窓から射出した第1の光ビームと、上記半導体レーザの他方の窓から射出した第2の光ビームとを、スケール上に形成された周期的パターンで回折反射させ、回折反射された第1の光ビームと第2の光ビームの干渉信号を検知してスケールの相対移動量を測定するエンコーダにおいて、上記スケールの基準位置を示す反射パターンを、上記両光ビームが上記スケールに照射された際の光ビームの広がりの範囲内の上記周期的パターン近傍に配し、上記反射パターンで反射された上記光ビーム広がりの周辺光を検知することにより、上記スケールの基準位置を設定し、上記光ビームと上記スケールとが互いに傾斜角を有して配置されており、少なくとも、上記半導体レーザと、上記半導体レーザの両方の窓から射出される光ビームを上記スケールに照射するように光路を制御する導波路と、上記スケール上の上記周期的パターンで回折反射された上記光ビームの光軸に沿った中心部分のビームを直接受光する位置に配置された光検知手段と上記スケール上の上記基準位置を示す反射パターンで回折反射された上記光ビームの光軸から外れた方向に広がる周辺光を直接受光する位置に配置された光検知手段とを同一基板上に一体的に形成した光学系により形成された上記光ビームを用い、かつ、上記導波路の光射出部における開口を形成しているコア部の厚さによる回折に起因する出射光の広がり角の中に上記周期的パタンと上記基準位置を示す反射パターンとが含まれるように配置した構成としている。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の構成を図面により詳細に説明する。
【0009】
図1は本発明における光学系の基本構成図である。図1に示すように、本発明においても基本構成は図7に示した光学系と同様で、電極及びはんだ形成パターン2を形成した酸化シリコンあるいはセラミックのベース基板3上に、半導体レーザ4、A相、B相検出用フォトダイオード5、モニタ用フォトダイオード6を予備加熱(例えば、AuSnはんだの場合は180°程度)して仮止めしておく。同時に、はんだで表面コートした炭化シリコン(SiC)あるいはシリコン(Si)のブロック7を電極及びはんだパターン21の上に載せ、さらにZ信号検出用のフォトダイオード8を載せて仮止めする。なお、図1において、パターン21は本発明の実施に対して必要となる上記Z信号検出用のフォトダイオードを固定するために形成されたはんだパターンで、従来の電極及びはんだ形成パターン形成のときに同時に形成されたものである。このように各部品の配置が完了した後全体を270°乃至320°に加熱して完全に各要素部品をボンディングしベース基板3上に固定する。図2は本発明の構成要素であるZ信号検出用フォトダイード8のチップの仮止めに際し載置する時の見取り図である。
【0010】
回転角を測定する場合は、図3(a)に示す円盤状に形成されたドーナッツ形状のガラス板に放射状の周期的な凹凸あるいは反射率に高低を与えた繰り返しパターン10をA相、B相信号を得るスケールとして形成し、さらにこの円形スケール部以外の所でかつこの円形スケールの近傍にZ信号形成用の高反射率パターン11を1点だけ形成しておく。また、線形運動の移動量を測定するリニアエンコーダとして使用する場合には、図3(b)に示す直線状のスケールを使用する。この場合、回転測定用ロータリエンコーダの場合の円形スケールと形状は異なるものの、角度測定の場合と同様にA相、B相信号生成用のための繰り返しパターン10に対して、中心位置にして数100ミクロン離れた位置に高反射率のパターン11を1箇所形成し、このパターン11をZ信号検出用とするものである。
【0011】
本発明をリニアエンコーダあるいはロータリエンコーダいずれに適用してもその動作原理は同じで、以下のようにして説明される。先ず、ベース基板3およびその上に形成された光学系で構成されたエンコーダ本体を図4に示すようにスケールに対して傾けて設置する。この最適傾け角度αは以下の(数1)式で与えられる。
【0012】
【数1】
Figure 0003901396
【0013】
ここで、d1はスケールからA相、B相検出用フォトダイオード5までの距離、半導体レーザの光出射窓中心の高さ、h2はZ信号検出用ダイオード8の受光窓中心の高さで、本実施の形態における実験では h1=6.5μm、h2=200μm、d1=1330μmを用いたので、(数1)式よりα=4.1度傾けた。
【0014】
図4において、スケール9上でA相、B相検出用パターンとZ信号用パターンとの中心間距離h4は、導波路1および導波路15の光射出部の大きさ、すなわちコア部の厚さにより光ビームは回折され広がるため、上記両パターンの中心間距離h2はこの広がり角の中に含まれることが要求され、この値は(数2)式で求めることが出来る。
【0015】
【数2】
Figure 0003901396
【0016】
ここで、γはビーム垂直方向広がり角度(全値半角)、tは導波路1のコア厚さ、D1は導波路1の先端の中央部から出射したビームがスケールで反射した後Z信号検出用フォトダイオードに至るまでの距離である。本実施の形態における実験ではγ=10度、D1=1300μmであるので、距離h4はh4=230μmとなる。なお、Z信号検出用フォトダイオード8の位置を高くするため高さ430μmのブロックを用いた。導波路1の先端から出射した光ビームのうち光軸に沿った中心部分のビーム12はA相、B相検出用の信号を得るために形成されたスケール9上のパターン10で反射回折した後、A相、B相検出用フォトダイオード5で検出される。同時に、Z信号検出用のフォトダイオード8からは一回転に一度だけ急峻なパルス信号が検出される。この場合、図4におけるパターン11に対する照射光としては、導波路1から出射する光ビームのうち、光軸に沿った成分ではなく導波路1および導波路15の開口部の回折による広がり成分のうち一部の光ビーム13を用いている。
【0017】
なお、本実施の形態ではZ信号検出用フォトダイオード8の位置を高くするためにブロック7を挿入したが、エッチングによりSiO2あるいはSiN等のパターンを形成しておき、その後、KOH水溶液あるいはTMAH等による薬剤によりシリコンを異方性エッチングしても同様の結果が得られる。あるいは、機械加工により図5に示すようなZ信号検出用フォトダイオードを載せるテラス14を有するベース基板を予め製作しておき、その後、導波路1や電極及びはんだパターン2等の作成、さらに半導体レーザ4、A相、B相検出用フォトダイオード5、モニタ用フォトダイオード6、Z信号検出用フォトダイオード8等をボンディングして図6に示すように同様なZ信号検出可能なエンコーダを実現し得ることは明らかである。
【0018】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明においては光軸方向から外れた方向に広がる光ビーム成分を利用するため、従来のエンコーダの光学系にフォトダイオードを1個追加するのみでよいため、エンコーダの寸法が横方向(スケール方向)に100μm大きくなる程度で簡易な構造で高性能エンコーダを実現することが出来る。このサイズ変化は全体寸法の5%であり、超小型エンコーダが得られているため、微小モータ、ロボットアーム等に組み込んだ状態で回転動作の検出が可能となった。さらに、超小型でかつZ信号検出も可能であることから、アクチュエータ、ミニステージ等に組み込んで、スケールの基準値を同定できるため、いったん停止した後でも同じ位置からの再現が可能となっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるエンコーダ光学系の構成図。
【図2】本発明におけるZ信号検出用フォトダイオード取り付け部分見取り図。
【図3】本発明において使用するスケール外観図。
【図4】本発明における動作原理説明用光学系構成図。
【図5】本発明におけるベース基板の形状の一例を示す外観図。
【図6】図5のベース基板を用いたエンコーダの光学系構成図。
【図7】従来公知の超小型エンコーダの光学系構成図。
【符号の説明】
1: 導波路
2: 電極及びはんだ形成パターン
21: ブロック上にコートした電極及びはんだパターン
3: ベース基板
4: 半導体レーザ
5: A相、B相検出用フォトダイオード
6: モニタ用フォトダイオード
7: はんだコートされたSiCまたはSiのブロック
8: Z信号検出用フォトダイオード
9: スケール
10: A相、B相検出用パターン
11: Z信号検出用パターン
12: 導波路先端部から射出した光ビームのうち光軸に沿った中心部の光ビーム
13: 導波路先端部から射出した光ビームのうち周辺に広がる光成分の光ビーム
14: ベース基板上にエッチングまたは機械加工により形成されたテラス

Claims (1)

  1. 半導体レーザの一方の窓から射出した第1の光ビームと、上記半導体レーザの他方の窓から射出した第2の光ビームとを、スケール上に形成された周期的パターンで回折反射させ、回折反射された第1の光ビームと第2の光ビームの干渉信号を検知してスケールの相対移動量を測定するエンコーダにおいて、
    上記スケールの基準位置を示す反射パターンを、上記両光ビームが上記スケールに照射された際の光ビームの広がりの範囲内の上記周期的パターン近傍に配し、上記反射パターンで反射された上記光ビーム広がりの周辺光を検知することにより、上記スケールの基準位置を設定し、
    上記光ビームと上記スケールとが互いに傾斜角を有して配置されており、
    少なくとも、上記半導体レーザと、上記半導体レーザの両方の窓から射出される光ビームを上記スケールに照射するように光路を制御する導波路と、上記スケール上の上記周期的パターンで回折反射された上記光ビームの光軸に沿った中心部分のビームを直接受光する位置に配置された光検知手段と、上記スケール上の上記基準位置を示す反射パターンで回折反射された上記光ビームの光軸から外れた方向に広がる周辺光を直接受光する位置に配置された光検知手段とを同一基板上に一体的に形成した光学系により形成された上記光ビームを用い、
    かつ、上記導波路の光射出部における開口を形成しているコア部の厚さによる回折に起因する出射光の広がり角の中に上記周期的パタンと上記基準位置を示す反射パターンとが含まれるように配置したことを特徴とするエンコーダ。
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