JP3898517B2 - Clean room - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造等に使用されるクリーンルーム、特にクリーンルームの壁と床の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体製造工場、手術室等のクリーンルームが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従来のクリーンルームにおいては壁や床の帯電防止対策が万全とは言えず、壁や床に電荷が蓄積され、静電気により埃がたまったり、静電気スパークにより有機物反応を起こすことによってガスが発生してしまい、半導体製造等においてトラブルの原因となるという課題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係るクリーンルームは、導電性を有するシート状床仕上げ材が壁下地面に延長するように取付けられ、導電性を有するシート状壁仕上げ材と壁下地面に延長するシート状床仕上げ材とが導通するように構成されたとともに、壁下地面と床下地面との境界部付近に壁下地面と床下地面とを繋ぐ傾斜面を形成するための傾斜面形成部材を設け、シート状床仕上げ材を上記傾斜面上に沿わせるようにして壁下地面に延長させたことを特徴とする。
請求項2は、シート状壁仕上げ材の表面に一端側が取付けられるとともに壁下地面に延長するシート状床仕上げ材の表面に他端側が取付けられる導通接続部材を介してシート状壁仕上げ材とシート状床仕上げ材とを導通状態に接続した。
請求項3は、導通接続部材の一端とシート状壁仕上げ材の表面との間及び導通接続部材の他端と壁下地面に延長するシート状床仕上げ材の表面との間のシーリング処理をガス発散の少ないシーリング剤で施すようにした。
【0005】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図1,図2に基づき説明する。まず、本実施の形態における半導体製造工場のクリーンルームの概要を図2に基づいて説明する。
クリーンルームは3層構造となっている。即ち、半導体製造や検査などに必要な精密機器が設置されるプロセスエリア10と、床下エリア20と、天井エリア30とを備える。プロセスエリア10の床は有孔床(グレーチング)11となっており、プロセスエリア10の天井は有孔天井12となっている。天井エリア30には、空調機31と空気洗浄フィルタ32が設けられている。プロセスエリア10の横には空気循環空間10Aが設けられ、これにより、空気が空気洗浄フィルタ32で浄化されて、矢示のように各エリア10,20,30を循環する構造となっている。また、出入口40と外部との間にはエアーシャワーが装備された前室が設けられており、クリーンルームへの入室者は前室で空気洗浄を行った後にクリーンルーム内に入る。前室は、クリーンルーム側のドア40aと外部側のドアとで密閉空間となる。尚、41は空気循環空間10Aとプロセスエリア10との間の出入口、41aはこの出入口41のドア、42は柱、43、44は耐火被覆梁、45は二重窓、46は廊下、47は配線を収納する配線ピットである。
【0006】
次に、クリーンルームの壁と床の構造について、図2の床下エリア20のA部分における壁と床の構造を例にして図1に基づいて説明する。
コンクリートによる床下地面1と壁下地面2との境界部付近には壁下地面2と床下地面1とを繋ぐ傾斜面3fを形成するための傾斜面形成部材3が設けられている。この傾斜面形成部材3は、断面が直角二等辺三角形状の長尺材である。よって、傾斜面形成部材3の直角部分を壁下地面2と床下地面1の境界部の角に対応させて二等辺部分を壁下地面2と床下地面1に接着することにより、壁下地面2と床下地面1とを繋ぐ45°の傾斜面3fが形成される。そして、導電性を有するシート状床仕上げ材として導電性塩化ビニルシート4が床下地面1に取付けられている。この導電性塩化ビニルシート4は上記傾斜面3f上に沿って壁下地面2に延長するように接着剤で取付けられている。即ち、上記傾斜面3f及び壁下地面2に沿って導電性塩化ビニルシート4を立ち上げる。壁下地面2には導電性を有するシート状壁仕上げ材として導電性クロス5がクロスのりで取付けられている。この導電性クロス5は、壁下地面2に延長する塩化ビニルシートの上端4tに下端5uが突き合わされるように取付けられる。これにより導電性クロス5と導電性塩化ビニルシート4とが導通状態となる。6は長尺なガルバリウム鋼板から成る導通接続部材であり、これは、短手方向の一端6a側がコンクリートビス7Aにより導電性クロス5の表面5aに取付けられるとともに、短手方向の他端6b側がコンクリートビス7Bにより導電性塩化ビニルシート4の上端4t側の表面4aに取付けられて、導電性塩化ビニルシート4と導電性クロス5とを確実に導通状態に接続するものである。この導通接続部材6の一端6aと導電性クロス5の表面5aとの間及び導通接続部材6の他端6bと導電性塩化ビニルシート4の表面4aとの間は、ガス発散の少ないウレタン系,シリコン系等のシーリング剤8でシーリング処理される。
【0007】
以上によれば、導電性塩化ビニルシート4と導電性クロス5との突き合わせにより、導電性塩化ビニルシート4と導電性クロス5との導通が図られるので、導電性塩化ビニルシート4により導電処理された導電処理床14と導電性クロス5により導電処理された導電処理壁15の導電性が確保され、導電処理床14や導電処理壁15をアースすることで、導電処理床14と導電処理壁15が均一電位となるので、帯電電流をアースに素早く逃がすことができるようになる。よって、半導体製造においてトラブルの原因となる静電気の蓄積を防止できる帯電防止効果の優れた壁床を備えたクリーンルームが得られる。さらに、導電性塩化ビニルシート4と導電性クロス5との導通は金属製のコンクリートビス7A,7B及び導通接続部材6によっても図られるので、導電処理床14と導電処理壁15の導電性がさらに良くなり、さらに帯電防止効果の優れた壁床が得られる。尚、導電処理床14と導電処理壁15の導電性が確保されていない場合は、導電処理床14と導電処理壁15とを均一電位にできないので、本実施の形態に比べて、帯電電流をアースに素早く逃がすことができない。
また、傾斜面形成部材3の傾斜面3fにより、導電処理床14と導電処理壁15との境界部付近のほこりだまりを防止でき、かつ、清掃作業も容易となる。
また、ガス発散の少ないシーリング剤8を用いているので、半導体製造においてトラブルの原因となるガスの発生を抑えることができる。
【0008】
尚、導電性塩化ビニルシートの上端4tと導電性クロスの下端5uとを重ね合わせるようにして導通させてもよい。
また、上記では、コンクリート壁下地の場合について説明したが、ボード壁下地に本発明を採用する場合は、導通接続部材6をビス止めする下地材にベニヤ合板等を設ければよい。また、ALC(軽量気泡コンクリート)等の成形コンクリートの表面側にGL工法などで取付けたボード壁下地の場合は、成形コンクリートまで届く長い金属製のビスを用いればよい。
また、上記では図2の床下エリア20の壁床構造部分を例にして説明したが、本発明は前室の壁床構造部分にも適用できる。
また、本発明は、金属製のグレーチング床が採用されていないプロセスエリア10の壁床構造にも適用できる。
また、本発明は、手術室のようなクリーンルームの壁床構造にも適用でき、これにより、手術室のコンピュータ機械の誤動作の原因となる静電気やガスを少なくできる。
【0009】
【発明の効果】
本発明の請求項1によれば、クリーンルームの導電処理壁と導電処理床の導電性を確保したので、帯電防止効果の優れたクリーンルームが得られるとともに、傾斜面形成部材を設けたので、導電処理壁と導電処理床との境界部付近のほこりだまりを防止でき、かつ、清掃作業も容易となる。
請求項2によれば、導通接続部材を介してシート状壁仕上げ材とシート状床仕上げ材とを確実に導通する状態に接続したので、導電処理壁と導電処理床の導電性がさらに良くなり、さらに帯電防止効果の優れたクリーンルームが得られる。
請求項3によれば、シーリング処理をガス発散の少ないシーリング剤で施したので、ガス発生防止効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態によるクリーンルームの壁と床の構造を示す断面図。
【図2】 実施の形態によるクリーンルームの概要を示す断面図。
【符号の説明】
1 床下地面、2 壁下地面、3 傾斜面形成部材、3f 傾斜面、4 導電性塩化ビニルシート(導電性を有するシート状床仕上げ材)、5 導電性クロス(導電性を有するシート状壁仕上げ材)、6 導通接続部材、6a 導通接続部材の一端、6b 導通接続部材の他端、8 シーリング剤。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a clean room used for semiconductor manufacturing or the like, and more particularly to a structure of a clean room wall and floor.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, clean rooms such as semiconductor manufacturing factories and operating rooms are known.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In conventional clean rooms, the measures for preventing static charge on walls and floors are not perfect, and charges are accumulated on the walls and floors, dust is accumulated due to static electricity, and gas is generated due to organic reaction caused by electrostatic sparks. There has been a problem of causing troubles in semiconductor manufacturing and the like.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
Clean room according to claim 1 of the present invention, a sheet-like floor covering having conductivity is attached to extend in wall base surfaces, sheet extending in the sheet-like wall coverings and wall base surface having electrical conductivity The floor finishing material is configured to conduct, and an inclined surface forming member for forming an inclined surface connecting the wall base surface and the floor base surface is provided near the boundary between the wall base surface and the floor base surface. The floor finishing material is extended to the wall base surface so as to be along the inclined surface.
According to a second aspect of the present invention, a sheet-like wall finishing material and a sheet are connected to each other through a conductive connecting member having one end attached to the surface of the sheet-like wall finishing material and the other end attached to the surface of the sheet-like floor finishing material extending to the wall base surface. The floor finish was connected to the conductive state.
According to a third aspect of the present invention, the sealing treatment between one end of the conductive connecting member and the surface of the sheet-like wall finish is gas-sealed between the other end of the conductive connecting member and the surface of the sheet-like floor finish extending to the wall base surface. A sealant with low divergence was applied .
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. First, an outline of a clean room of a semiconductor manufacturing factory in the present embodiment will be described with reference to FIG.
The clean room has a three-layer structure. That is, it includes a
[0006]
Next, the wall and floor structure of the clean room will be described with reference to FIG. 1 by taking the wall and floor structure in the portion A of the
An inclined
[0007]
According to the above, since the conductive vinyl chloride sheet 4 and the
Further, the inclined surface 3f of the inclined
Moreover, since the sealing agent 8 with little gas divergence is used, generation of gas that causes trouble in semiconductor manufacturing can be suppressed.
[0008]
The
In the above description, the concrete wall base is described. However, when the present invention is adopted for the board wall base, a veneer plywood or the like may be provided on the base material for screwing the conductive connecting member 6. Moreover, in the case of the board wall base attached by the GL method etc. to the surface side of shaping | molding concrete, such as ALC (lightweight aerated concrete), what is necessary is just to use the long metal screw which reaches to shaping | molding concrete.
In the above description, the wall floor structure portion of the
The present invention can also be applied to a wall floor structure in the
The present invention can also be applied to a wall floor structure of a clean room such as an operating room, thereby reducing static electricity and gas causing malfunction of a computer machine in the operating room.
[0009]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, since the conductivity of the conductive treatment wall and the conductive treatment floor of the clean room is ensured, a clean room having an excellent antistatic effect is obtained and the inclined surface forming member is provided. Dust accumulation near the boundary between the wall and the conductive treatment floor can be prevented, and cleaning work is facilitated.
According to the second aspect, since the sheet-like wall finishing material and the sheet-like floor finishing material are connected to each other through the conductive connecting member in a surely conductive state, the conductivity of the conductive treatment wall and the conductive treatment floor is further improved. Furthermore, a clean room having an excellent antistatic effect can be obtained.
According to the third aspect of the present invention, since the sealing process is performed with a sealing agent with little gas divergence, a gas generation preventing effect can be obtained .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a wall and a floor of a clean room according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an outline of a clean room according to the embodiment.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Floor base surface, 2 Wall base surface, 3 Inclined surface formation member, 3f Inclined surface, 4 Conductive vinyl chloride sheet (sheet-like floor finishing material which has conductivity), 5 Conductive cloth (Sheet-like wall finish which has conductivity) Material), 6 conduction connection member, 6a one end of conduction connection member, 6b other end of conduction connection member, 8 sealing agent.
Claims (3)
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