JP3895205B2 - Microwave integrated circuit semiconductor device and high frequency module - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロ波集積回路半導体素子、及びこのマイクロ波集積回路半導体素子が組込まれた高周波モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
マイクロ波集積回路半導体素子(Microwave Monolithic Integrated Circuit:以下MMICと略記する)、特に、砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)を能動素子とするマイクロ波集積回路半導体素子(GaAsMMIC)は、動作周波数が1ギガヘルツ(GHz)を超える高周波モジュールに組込まれて広く利用されている。
【0003】
砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)を能動素子とするマイクロ波集積回路半導体素子(GaAsMMIC)は、半絶縁性基板上に形成されたGaAsFETと、同じくこの半絶縁性基板上に形成され、GaAsFETに信号を入出力するための伝送線路とから構成されている。
【0004】
伝送線路としては、従来、半絶縁性基板の表面に信号線、裏面に接地導体を有するマイクロストリップ型伝送線路が用いられていたが、最近はオンウエーハでの測定評価が可能なコプレーナ型伝送線路、すなわち半絶縁性基板の表面に信号線と接地導体との両方を形成した伝送線路が注目され、特に製品レベルのマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)においては広く用いられ始めている。
【0005】
図8に、このようなマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)が組込まれた高周波モジュールの上面図を示す。矩形状の金属台1の周囲には側壁2a、2b、2c、2dが一体形成され、互いに対向する側壁2a、2bには信号を入出力するためのコネクタ3a、3bが取付けられている。この金属台1の上面の中央にはマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4が取付けられ、MMIC4の近傍には、このMMIC4へ駆動電源を供給するための電源回路5a、5bが設けられている。
【0006】
さらに、この金属台1の上面には、誘電体基板6a、6bの表面と裏面とに信号線及び接地導体が形成されたマイクロストリップ型伝送線路7a、7bが取付けられている。このマイクロストリップ型伝送線路7a、7bは、コネクタ3a、3bとMMIC4とを接続する。この高周波モジュールには、図示しないカバーが設けられている。
【0007】
図9に電力増幅用のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4の概略構成を示す。例えば砒化ガリウム(GaAs)からなる矩形形状を有す厚み0.4mmの半絶縁性基板8の表面に、砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)9、及び幅0.3mmの信号線10とこの信号線10の両側に0.3mm離れて形成された一対の接地導体11、12からなるコプレーナ型伝送線路13が形成されている。
【0008】
さらに、半絶縁性基板8の裏面14には、このMMIC4を高周波モジュールの金属台1の上面に半田付けするための例えば金(Au)からなる裏面導体15が形成されている。このMMIC4の上面の形状は例えば1mm×3mmである。
【0009】
図10は図8の高周波モジュールの要部を取出して示す斜視図である。金属台1の上面におけるMMIC4に対する信号の入力側及び出力側に、それぞれマイクロストリップ型伝送線路7a、7bが取付けられている。この各マイクロストリップ型伝送線路7a、7bは、厚み0.3mmの誘電体基板6a、6bと、この誘電体基板6a、6bの表面に形成された幅0.5mmの信号線16と、この誘電体基板6a、6bの裏面全面に形成された接地導体17とから構成されている。
【0010】
なお、マイクロストリップ型伝送線路7a、7bには直流分を遮断するためのキャパシタ、及び直流電源供給用のインダクタが設けられるが、ここでは省略されている。
【0011】
高周波モジュールにおいては、MMIC4の表面に形成されたコプレーナ伝送線路13の信号線10とマイクロストリップ型伝送線路7a、7bの信号線16とが金属リボン18により電気的に連結されている。さらに、コプレーナ型伝送線路13の接地導体11、12とマイクロストリップ型伝送線路7a、7bの接地導体17(金属台1の上面)が同じく金属リボン18により電気的に連結されている。なお、MMIC4の入力側と出力側と、マイクロストリップ伝送線路7a、7bと間にはそれぞれ連結部19、20が設けられている。
【0012】
このような構成の高周波モジュールにおいて、コネクタ3aから入力された高周波信号は、マイクロストリップ型伝送線路7a、コプレーナ伝送線路13を介して、砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)9へ入力され、電力増幅されたのち、コプレーナ伝送線路13、マイクロストリップ型伝送線路7bを介してコネクタ3bから外部へ出力される。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図8、図9、図10に示したマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4、及びこのマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4が組込まれた高周波モジュールにおいてもまだ解消すべき次のような課題があった。
【0014】
すなわち、かかる構造の高周波モジュールの欠点は、特定のマイクロ波周波数で電力利得の急激な変化(ディップ)が生じ、またパルス動作の場合には、パルス信号波形にいわゆるリンギング等が生じることである。この原因は以下の様に説明できる。
【0015】
図9において、マイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4におけるコプレーナ型伝送線路13の直下である半絶縁性基板8の裏面14に、半田付けするための裏面導体15がある場合には、半絶縁性基板8の表面に形成されたコプレーナ伝送線路13の接地導体11、12とこの裏面導体15との間で平行平板モード電磁波が伝播する。
【0016】
この状態で、MMIC4の入出力側に、例えば50Ωの特性インピーダンスを有するマイクロストリップ型伝送線路7a、7bを接続した場合、MMIC4内を伝播する平行平板モード電磁波がインピーダンスの不整合により連結部19、20で反射し、MMIC4内で共振状態が生じる。
【0017】
高周波モジュールの周波数特性を検証すると、MMIC4内での共振状態における共振周波数での異常な振る舞い、すなわち、前述の電力利得の急激な変化(ディップ)やパルス増幅信号におけるリンギング現象が発生する。
【0018】
図11に、上述した、電力増幅用の高周波モジュールにおける周波数特性の実測値を示す。図11の特性に示すように、複数の特定周波数(約30GHz、38GHz、45GHz)で顕著な電力利得の落ち込み(最大3dBのディップ)が生じ、高周波モジュールにおける有効帯域幅である3dB帯域幅が約37GHzに制限される。
【0019】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、抵抗体膜を採用することにより、コプレーナ型伝送線路を有する集積回路半導体素子における平行平板モード電磁波のエネルギーを低減させ、良好な周波数特性を有するマイクロ波集積回路半導体素子及びこのマイクロ波集積回路半導体素子が組込まれた高周波モジュールを提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明は、板形状を有する半絶縁性基板の表面に、マイクロ波半導体素子とこのマイクロ波半導体素子に対して信号を入出力するためのコプレーナ型伝送線路とが形成されたマイクロ波集積回路半導体素子に適用される。
【0021】
そして、上記課題を解消するために、本発明のマイクロ波集積回路半導体素子においては、半絶縁性基板における、表面に対向する裏面とコプレーナ型伝送線路に直交する一対の端面とコプレーナ型伝送線路に平行する一対の側面との少なくとも一つの面に抵抗体膜を形成している。
【0022】
このように構成されたマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)においては、表面にコプレーナ型伝送線路が形成された半絶縁性基板における表面以外の裏面、端面、側面のいずれかの面には抵抗体膜が形成されている。
【0023】
この抵抗体膜は、コプレーナ型伝送線路と半絶縁性基板の裏面に形成された裏面導体又は抵抗体膜との間で生起され、MMIC内を伝搬される平行平板モード電磁波のエネルギーを抵抗損失の形で吸収する。
【0024】
したがって、たとえ、この平行平板モード電磁波が、MMICと外部のマイクロストリップ型伝送線路等の信号入出力線路との間のインピーダンス不一致により、MMIC内に共振現象が生じたとしても、そのレベルは小さい。よって、このMMICの周波数特性において共振現象に起因して特定の周波数に大きな変化(ディップ)が生じることが防止され、良好な周波数特性を得ることが可能である。
【0025】
また、別の発明においては、上述した発明のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)において、抵抗体膜を半絶縁性基板の裏面全面のみに形成している。
【0026】
また、別の発明においては、抵抗体膜を半絶縁性基板の裏面、一対の端面及び一対の側面に形成している。
【0027】
また、別の発明においては、抵抗体膜を半絶縁性基板の一対の端面にのみに形成している。
【0028】
また、別の発明においては、抵抗体膜半絶縁性基板の一対の側面にのみに形成している。
【0029】
さらに、別の発明は、金属台と、この金属台の上面の一部に、少なくとも裏面がこの上面に対向するように取付けられた上述した発明のマイクロ波集積回路半導体素子と、この金属台の上面におけるマイクロ波集積回路半導体素子の近接位置に取付けられ、コプレーナ型伝送線路を介してマイクロ波半導体素子に対して信号を入出力するためのマイクロストリップ型伝送線路とを備えた高周波モジュールである。
【0030】
そして、金属台の上面におけるマイクロ波集積回路半導体素子が対向する領域の一部と対向するマイクロ波集積回路半導体素子との間に空隙を設けている。
【0031】
このように構成された高周波モジュールにおいては、金属台の上面とマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)との間に空隙が設けられている。このように、空隙を設けることによって、金属台がMMICの半絶縁性基板の裏面の抵抗体膜又は裏面導体に接触する面積が減少するので、前述した平行平板モード電磁波のエネルギーの低減効果をさらに促進できる。
【0032】
また、別の発明は、上述した発明を、抵抗体膜が半絶縁性基板の裏面全面のみに形成されたマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)が組込まれた高周波モジュールに適用している。
【0033】
このように、抵抗体膜の形成位置を金属台に対向する半絶縁性基板の裏面全面に限定することによって、上述した空隙を設けたことによる作用効果をより一層向上できる。
【0034】
さらに、別の発明は、上述した発明の高周波モジュールにおいて、マイクロ波半導体素子に対して入出力される信号の周波数をfとし、空気の誘電率をε0とすると、抵抗体膜のシート抵抗値Rと空隙の厚みdとの関係を、
0.1πε0f≦(d/R)≦0.4πε0f
のように設定している。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施形態を図面を用いて説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)の概略構成を示す斜視図である。図9に示す従来のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4と同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明は省略する。
【0036】
この第1実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4aにおいては、図9に示す従来のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4における裏面導体15に代えて、半絶縁性基板8の裏面14の全面に亘って抵抗体膜21が形成されている。
【0037】
例えば砒化ガリウム(GaAs)からなる矩形形状を有す厚み0.4mmの半絶縁性基板8の表面に、砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)9、及び幅0.3mmの信号線10とこの信号線10の両側に0.3mm離れて形成された一対の接地導体11、12とからなるコプレーナ型伝送線路13が形成されている。
【0038】
さらに、半絶縁性基板8の裏面14には、全面に亘ってニッケル(Ni)・クロム(Cr)からなるシート抵抗40Ωを有し、例えば0.5μmの厚みを有した抵抗体膜21が例えば真空蒸着法により形成されている。このMMIC4aの上面の形状は例えば1mm×3mmである。
【0039】
なお、この第1実施形態のMMIC4aにおいては、半絶縁性基板8のコプレーナ型伝送線路13に直交する一対の端面22及びコプレーナ型伝送線路13に平行する一対の側面23には、抵抗体膜21は形成されていない。
【0040】
このように構成された第1実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4aの特徴を説明する。
【0041】
すなわち、このように構成されたMMIC4aにおいても、図9に示した従来のMMIC4と同様に、半絶縁性基板8の表面に形成された接地導体11、12と裏面14に形成された抵抗体膜21との間で平行平板モード電磁波が発生しMMIC4a内を伝搬する。しかし、この平行平板モード電磁波のエネルギーは抵抗体膜21により抵抗損として消費される。
【0042】
したがって、このMMIC4aを図3に示すように高周波モジュールに組込んだ場合に、この平行平板モード電磁波が、MMIC4aと外部のマイクロストリップ型伝送線路7a、7bとの間のインピーダンス不一致により、MMIC4a内に共振現象が生じたとしても、そのレベルは小さい。よって、このMMIC4aの周波数特性において共振現象に起因して特定の周波数に大きな変化(ディップ)が生じることが防止され、良好な周波数特性を得ることが可能である。
【0043】
(第2実施形態)
図2は本発明の第2実施形態に係わる高周波モジュールの要部を取出して示す斜視図である。図10に示す従来の高周波モジュールと同一部分には、同一符号を付して、重複する部分の詳細説明は省略する。なお、高周波モジュールの上面図は、図8とほぼ同一であるので省略する。この第2実施形態に係わる高周波モジュール内には、図1に示す第1実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4aが組込まれている。
【0044】
金属台1の上面におけるMMIC4aに対する信号の入力側及び出力側に、それぞれマイクロストリップ型伝送線路7a、7bが取付けられている。この各マイクロストリップ型伝送線路7a、7bは、厚み0.3mmの誘電体基板6a、6bと、この誘電体基板6a、6bの表面に形成された幅0.5mmの信号線16と、この誘電体基板6a、6bの裏面全面に形成された接地導体17とから構成されている。
【0045】
また、MMIC4aの表面に形成されたコプレーナ伝送線路13の信号線10とマイクロストリップ型伝送線路7a、7bの信号線16とが金属リボン18により電気的に連結されている。さらに、コプレーナ型伝送線路13の接地導体11、12とマイクロストリップ型伝送線路7a、7bの接地導体17(金属台1の上面)が同じく金属リボン18により電気的に連結されている。なお、MMIC4aの入力側と出力側と、マイクロストリップ伝送線路7a、7bと間にはそれぞれ連結部19、20が設けられている。
【0046】
そして、この第2実施形態の高周波モジュールにおいては、金属台1の上面におけるMMIC4aの半絶縁性基板8の抵抗体膜21が形成された裏面14に対向する領域の一部に凹部からなる厚みdを有する空隙24が形成されている。
【0047】
このように構成された第2実施形態の高周波モジュールにおいては、図10で示した従来の高周波モジュールと同様に、コネクタ3aから入力された高周波信号は、マイクロストリップ型伝送線路7a、コプレーナ伝送線路13を介して、砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)9へ入力され、電力増幅されたのち、コプレーナ伝送線路13、マイクロストリップ型伝送線路7bを介してコネクタ3bから外部へ出力される。
【0048】
次に、厚みdを有する空隙24を設けた理由を説明する。
すなわち、図1に示す抵抗体膜21が形成されたMMIC4aを空隙24が形成されていない高周波モジュールの金属台1の上面に直接搭載すると、抵抗体膜21は金属台1により電気的に短絡されてしまうため、平行平板モード電磁波のエネルギーを消費させる効力を十分発揮できない。
【0049】
抵抗体膜21に平行平板モード電磁波のエネルギーを十分に消費させさせるためには、MMIC4aから金属台1を無限に遠方に遠ざけること、言い換えれば、MMIC4aと金属台1との聞に無限大の間隔を設ける必要がある。しかし、無限大の間隔を設けることは実際面では不可能である。
【0050】
しかしながら、半絶縁性基板8の比誘電率は約12.7と空気の比誘電率の10倍以上である。したがって、平行平板モード電磁波のエネルギーの大半は半絶縁性基板8の中に閉じ込められるため、半絶縁性基板8の裏面14に設けた抵抗体膜21において、十分な電磁エネルギーの消費が期待できる。
【0051】
ここで再び前記の間隔、すなわち、半絶縁性基板8の裏面14と金属台1との間に設ける空隙24の厚みdについて検証する。発明者等はその間隔(空隙24の厚みd)としては、おおよそ以下の様に見積ると共に、電磁化シミュレーションによりそれを確認した。
【0052】
すなわち、抵抗体膜21と金属台1との間の結合インピーダンスを抵抗休膜21の横方向抵抗の1/10を1つの目安とした。1/10は半絶縁性基板8の比誘電率と空気の比誘電率との比を考慮している。この関係を計算式で現せば下式となる。ただし、Rは抵抗体のシート抵抗値、fはスプリアスを抑制したい周波数(マイクロ波半導体素子に対して入出力される信号の周波数)、ε0は空気の誘電率、Cはキャパシティである。
【0053】
1/(2πfC)=R/10
但し、C=ε0/d
したがって、
d=0.2πfε0R
d/R=0.2πε0f
今、抵抗体膜21のシート抵抗値Rを40Ω、周波数f=40GHz、空気の誘電率ε0=8.85×10-14とすると、空隙24の厚みdは約1mmとなる。
【0054】
図3は、電磁界シミユレーションにより平行平板モード電磁波のエネルギー低減の効果を確かめた周波数特性の結果を示す図である。なお、半絶縁性基板8の表面積は8mm×1mm、厚みは0.4mmである。さらに、この半絶縁性基板8の表面(上面)は導体でメタライズされており、半絶縁性基板8の裏面14と金属台1との間の空隙24の厚みdは1mmとしている。そして、
(a)半絶縁性基板8の裏面14に従来の裏面導体15を形成
(b)半絶縁性基板8の裏面14にシート抵抗40Ωの抵抗体膜21を形成
(c)半絶縁性基板8の裏面14にシート抵抗20Ωの抵抗体膜21を形成
(d)半絶縁性基板8の裏面14にシート抵抗10Ωの抵抗体膜21を形成
の条件でシミュレーション計算を実施した。
【0055】
このシミュレーション結果で理解できるように、半絶縁性基板8の裏面14に裏面導体15を形成した従来のMMIC4の掲合には、35GHzと44GHzおよび55GHz、58GHz近傍で共振が発生している(利得偏差量:約3dB)。これに対して、実施形態で示す半絶縁性基板8の裏面14にシート抵抗40Ωの抵抗体膜21を形成した場合には、共振は殆ど抑制されていることが理解できる。
【0056】
なお、上記の結果は前記の式に基づいて空隙24の厚みdを1mm、抵抗体膜21のシート抵抗を40Ωとしたが、この値に限る必要はないことは言うまでもない。例えば、抵抗体膜21のシート抵抗を半分の20Ωとした場合にも相当の効果が得られることは図3のシミユレーション結果から解る。
【0057】
一方、抵抗体膜21のシート抵抗Rが大きくなると、抵抗体膜21中の電磁波エネルギー消費は少なくなり、最終的には半絶縁性基板8の表面における表面電極11、12と金属台1との間で平行平板モード電磁波が発生する。このことより、空隙24の厚みdと抵抗体膜21のシート抵抗Rとの比d/Rの下限を0.1πε0fとした。
【0058】
以上の考察及び電磁界シミユレーション結果より、抵抗体膜21のシート抵抗値Rと空隙24の厚みdの好ましい関係としては下式が妥当といえる。
【0059】
0.1πε0f≦(d/R)≦0.4πε0f
したがって、図1、図2に示す第1、第2の実施形態のMMIC4a、高周波モジュールにおける抵抗体膜21のシート抵抗Rを40Ωとし、空隙24の厚みdを1mmとしている。
【0060】
図4は、第2実施形態の高周波モジュールにおける実測された利得(ゲイン)の周波数特性図である。約38GHzの共振周波数における利得の落込み量は約1dBと、図11に示す従来の高周波モジュールにおける同一共振周波数における利得の落込み量3dBに比較して、大幅に改良されている。さらに、高周波モジュールにおける有効帯域幅である3dB帯域幅が約47GHzに改善されている。
【0061】
(第3実施形態)
図5は、本発明の第3実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)の概略構成を示す斜視図である。図1に示す第1実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4aと同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明は省略する。
【0062】
この第3実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4bにおいては、半絶縁性基板8の裏面14に抵抗体膜21が形成されるとともに、半絶縁性基板8のコプレーナ型伝送線路13に直交する一対の端面22及びコプレーナ型伝送線路13に平行する一対の側面23にも、裏面14の抵抗体膜21と同一厚さ及び同一シート抵抗値を有する抵抗体膜21a、21bが形成されている。
【0063】
半絶縁性基板8の各端面22及び各側面23に抵抗体膜21a、21bを形成する方法としては、例えば半絶縁性基板8の表面(上面)のみホトレジストを残存させた状態で上面方向及び斜め方向より、例えばCr、Niからなる抵抗体膜21a、21bを真空蒸着することにより実現できる。
【0064】
但し、その際、端面22の抵抗体膜21aはコプレーナ型伝送線路13の信号線10と離して形成する必要があることは言うまでもない。一方、端面22の抵抗体膜21aはコプレーナ型伝送線路13の接地導体11、12と接触している方が好ましいが、高周波的な結合が確保されているため必ずしも接触している必要はない。
【0065】
このように構成された第3実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4bにおいては、製造方法がやや複雑になるという欠点はあるものの、MMIC4b内で伝搬される共振状態の平行平板モード電磁波が外部のマイクロストリップ型伝送線路7a、7bへ出力される際に、この端面22に形成された抵抗体膜21aで有効に吸収されるため、図1に示す第1実施形態のMMIC4aに比較して改善の度合いは大きい。
【0066】
(第4実施形態)
図6は、本発明の第4実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)の概略構成を示す斜視図である。図5に示す第3実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4bと同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明は省略する。
【0067】
この第4実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4cにおいては、半絶縁性基板8の裏面14に、従来のMMIC4で用いた裏面導体15が形成されるとともに、半絶縁性基板8のコプレーナ型伝送線路13に直交する一対の端面22に抵抗体膜21aが形成されている。しかし、コプレーナ型伝送線路13に平行する一対の側面23には抵抗体膜21bは形成されていない。
【0068】
このように構成された第4実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4cにおいては、半絶縁性基板8の一対の端面22に抵抗体膜21aが形成されているので、図5に示す第3実施形態のMMIC4bと同様に、平行平板モード電磁波が端面22に形成された抵抗体膜21aで有効に吸収されるので、共振のエネルギーは小さくなり、高周波モジュール特性が改善される。
【0069】
また、この第4実施形態のMMIC4cにおいては、半絶縁性基板8の裏面14に裏面導体15が形成さているので、このMMIC4cを高周波モジュールの金属台1上に直接半田付けできるので、熱伝導性を高めることができ、高周波モジュールの温度上昇を抑制できる。
【0070】
(第5実施形態)
図7は、本発明の第5実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)の概略構成を示す斜視図である。図6に示す第4実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4cと同一部分には同一符号を付して、重複する部分の詳細説明は省略する。
【0071】
この第5実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4dにおいては、半絶縁性基板8の裏面14に従来のMMIC4で用いた裏面導体15が形成されるとともに、半絶縁性基板8のコプレーナ型伝送線路13に平行する一対の側面23に抵抗体膜21bが形成されている。しかし、コプレーナ型伝送線路13に直交する一対の端面22には抵抗体膜21aは形成されていない。
【0072】
このように構成された第5実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)4dにおいては、半絶縁性基板8の一対の側面23に抵抗体膜21bが形成されているので、図6に示す第4実施形態のMMIC4cと同様に、平行平板モード電磁波が側面23に形成された抵抗体膜21bで有効に吸収されるので、共振のエネルギーは小さくなり、高周波モジュール特性が改善される。
【0073】
また、この第4実施形態のMMIC4dにおいても、半絶縁性基板8の裏面14に裏面導体15が形成さているので、このMMIC4dを高周波モジュールの金属台1上に直接半田付けできるので、熱伝導性を高めることができ、高周波モジュールの温度上昇を抑制できる。
【0074】
なお、本発明は上述した各実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)に限定されるものではない。各実施形態のマイクロ波集積回路半導体素子(MMIC)においては、能動素子としてのマイクロ波半導体素子として砒化ガリウム電界効果トランジスタ(GaAsFET)9を採用したが、シリコン等の他の半導体材料を用いたマイクロ波半導体素子を採用することも可能である。
【0075】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のマイクロ波集積回路半導体素子、及びこのマイクロ波集積回路半導体素子が組込まれた高周波モジュールにおいては、抵抗体膜を採用することにより、また、金属台と半絶縁性基板の裏面との間に空隙を設けることにより。コプレーナ型伝送線路を有する集積回路半導体素子における平行平板モード電磁波のエネルギーを低減させ、広帯域の良好な周波数特性を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子の概略構成を示す斜視図
【図2】本発明の第2実施形態に係わる高周波モジュールの要部を取出して示す斜視図
【図3】同第2実施形態に係わる高周波モジュールに組込まれたマイクロ波集積回路半導体素子にて生起される平行平板モード電磁波のシミュレーション結果を示す図
【図4】同第2実施形態の高周波モジュールにおける実測された利得(ゲイン)の周波数特性図
【図5】本発明の第3実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子の概略構成を示す斜視図
【図6】本発明の第4実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子の概略構成を示す斜視図
【図7】本発明の第5実施形態に係わるマイクロ波集積回路半導体素子の概略構成を示す斜視図
【図8】従来の高周波モジュールの上面図
【図9】従来のマイクロ波集積回路半導体素子の概略構成を示す斜視図
【図10】従来の高周波モジュールの要部を取出して示す斜視図
【図11】同従来の高周波モジュールにおける実測された利得(ゲイン)の周波数特性図
【符号の説明】
1…金属台
4、4a、4b、4c、4d…マイクロ波集積回路半導体素子
6a、6b…誘電体基板
7a、7b…マイクロストリップ型伝送線路
8…半絶縁性基板
9…砒化ガリウム電界効果トランジスタ
10、16…信号線
11、12、17…接地導体
13…コプレーナ型伝送線路
14…裏面
15…裏面導体
18…金属リボン
19、20…連結部
21、21a、21b…抵抗体膜
22…端面
23…側面
24…空隙[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a microwave integrated circuit semiconductor element and a high-frequency module in which the microwave integrated circuit semiconductor element is incorporated.
[0002]
[Prior art]
Microwave monolithic integrated circuit (hereinafter abbreviated as MMIC), especially microwave integrated circuit semiconductor device (GaAsMMIC) using gallium arsenide field-effect transistor (GaAsFET) as an active element has an operating frequency of 1 GHz It is widely used by being incorporated in a high-frequency module exceeding (GHz).
[0003]
A microwave integrated circuit semiconductor device (GaAsMMIC) using a gallium arsenide field-effect transistor (GaAsFET) as an active device is formed on a semi-insulating substrate, and is also formed on this semi-insulating substrate. And a transmission line for inputting and outputting.
[0004]
As the transmission line, a microstrip type transmission line having a signal line on the surface of the semi-insulating substrate and a ground conductor on the back side has been used, but recently, a coplanar type transmission line that can be measured and evaluated on-wafer, That is, a transmission line in which both a signal line and a ground conductor are formed on the surface of a semi-insulating substrate has attracted attention, and has begun to be widely used particularly in a product-level microwave integrated circuit semiconductor device (MMIC).
[0005]
FIG. 8 shows a top view of a high-frequency module in which such a microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) is incorporated.
[0006]
Further, on the upper surface of the
[0007]
FIG. 9 shows a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4 for power amplification. For example, a gallium arsenide field effect transistor (GaAsFET) 9 and a
[0008]
Further, a
[0009]
FIG. 10 is a perspective view showing an essential part of the high-frequency module shown in FIG.
[0010]
The
[0011]
In the high frequency module, the
[0012]
In the high-frequency module having such a configuration, the high-frequency signal input from the
[0013]
[Problems to be solved by the invention]
However, the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4 shown in FIGS. 8, 9, and 10 and the high frequency module in which the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4 is incorporated are still to be solved. There was such a problem.
[0014]
That is, the disadvantage of the high-frequency module having such a structure is that a sudden change (dip) in power gain occurs at a specific microwave frequency, and so-called ringing or the like occurs in the pulse signal waveform in the case of pulse operation. This cause can be explained as follows.
[0015]
In FIG. 9, when there is a
[0016]
In this state, when the
[0017]
When the frequency characteristics of the high-frequency module are verified, the abnormal behavior at the resonance frequency in the resonance state in the
[0018]
FIG. 11 shows measured values of frequency characteristics in the above-described high-frequency module for power amplification. As shown in the characteristics of FIG. 11, a significant power gain drop (up to 3 dB dip) occurs at a plurality of specific frequencies (about 30 GHz, 38 GHz, 45 GHz), and the effective bandwidth of the high-frequency module is about 3 dB. Limited to 37 GHz.
[0019]
The present invention has been made in view of such circumstances, and by adopting a resistor film, energy of a parallel plate mode electromagnetic wave in an integrated circuit semiconductor element having a coplanar transmission line is reduced, and good frequency characteristics are obtained. It is an object of the present invention to provide a microwave integrated circuit semiconductor device having a high frequency module incorporating the microwave integrated circuit semiconductor device.
[0020]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a microwave integrated circuit semiconductor in which a microwave semiconductor element and a coplanar transmission line for inputting / outputting a signal to / from the microwave semiconductor element are formed on the surface of a semi-insulating substrate having a plate shape. Applied to the device.
[0021]
In order to solve the above problems, in the microwave integrated circuit semiconductor device of the present invention, a semi-insulating substrate includes a back surface facing the front surface, a pair of end surfaces orthogonal to the coplanar transmission line, and a coplanar transmission line. A resistor film is formed on at least one of a pair of parallel side surfaces.
[0022]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) configured as described above, a resistor is provided on any of the back surface, the end surface, and the side surface other than the front surface of the semi-insulating substrate having a coplanar transmission line formed on the surface. A film is formed.
[0023]
This resistor film is generated between the coplanar transmission line and the back conductor or resistor film formed on the back surface of the semi-insulating substrate, and the energy of the parallel plate mode electromagnetic wave propagating in the MMIC is reduced by resistance loss. Absorb in form.
[0024]
Therefore, even if the parallel plate mode electromagnetic wave causes a resonance phenomenon in the MMIC due to impedance mismatch between the MMIC and a signal input / output line such as an external microstrip transmission line, the level is small. Therefore, it is possible to prevent a large change (dip) from occurring at a specific frequency due to a resonance phenomenon in the frequency characteristics of the MMIC, and to obtain a favorable frequency characteristic.
[0025]
In another invention, in the above-described microwave integrated circuit semiconductor device (MMIC), the resistor film is formed only on the entire back surface of the semi-insulating substrate.
[0026]
In another invention, the resistor film is formed on the back surface, the pair of end surfaces, and the pair of side surfaces of the semi-insulating substrate.
[0027]
In another invention, the resistor film is formed only on the pair of end faces of the semi-insulating substrate.
[0028]
In another invention, it is formed only on a pair of side surfaces of the resistor film semi-insulating substrate.
[0029]
Furthermore, another invention relates to a metal base, a microwave integrated circuit semiconductor element according to the above-described invention attached to a part of the top surface of the metal base so that at least the back surface faces the top surface, and the metal base of the metal base. A high-frequency module including a microstrip transmission line that is attached to a position close to the microwave integrated circuit semiconductor element on the upper surface and that inputs and outputs signals to and from the microwave semiconductor element via a coplanar transmission line.
[0030]
Then, a gap is provided between a part of a region where the microwave integrated circuit semiconductor element faces on the upper surface of the metal table and the facing microwave integrated circuit semiconductor element.
[0031]
In the high-frequency module configured as described above, a gap is provided between the upper surface of the metal base and the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC). Thus, by providing the air gap, the area where the metal base contacts the resistor film or the back conductor of the back surface of the semi-insulating substrate of the MMIC is reduced, so that the effect of reducing the energy of the parallel plate mode electromagnetic wave described above can be further increased. Can promote.
[0032]
In another invention, the above-described invention is applied to a high-frequency module in which a microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) in which a resistor film is formed only on the entire back surface of a semi-insulating substrate is incorporated.
[0033]
As described above, by limiting the formation position of the resistor film to the entire back surface of the semi-insulating substrate facing the metal base, it is possible to further improve the operational effect by providing the above-described gap.
[0034]
Furthermore, in another invention, in the high-frequency module of the above-described invention, the frequency of a signal input to and output from the microwave semiconductor element is f, and the dielectric constant of air is ε 0 Then, the relationship between the sheet resistance value R of the resistor film and the thickness d of the gap is
0.1πε 0 f ≦ (d / R) ≦ 0.4πε 0 f
It is set like this.
[0035]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device (MMIC) according to the first embodiment of the present invention. The same parts as those of the conventional microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4 shown in FIG. 9 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of the overlapping parts is omitted.
[0036]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4a of the first embodiment, the back surface of the
[0037]
For example, a gallium arsenide field effect transistor (GaAsFET) 9 and a
[0038]
Further, the
[0039]
In the
[0040]
The characteristics of the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4a of the first embodiment configured as described above will be described.
[0041]
That is, in the
[0042]
Therefore, when this
[0043]
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a perspective view showing an essential part of a high-frequency module according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those of the conventional high-frequency module shown in FIG. 10 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of the overlapping parts is omitted. The top view of the high-frequency module is substantially the same as FIG. In the high-frequency module according to the second embodiment, the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4a of the first embodiment shown in FIG. 1 is incorporated.
[0044]
[0045]
Further, the
[0046]
In the high-frequency module according to the second embodiment, the thickness d of the concave portion is formed in a part of the region facing the
[0047]
In the high-frequency module of the second embodiment configured as described above, the high-frequency signal input from the
[0048]
Next, the reason why the
That is, when the
[0049]
In order for the
[0050]
However, the dielectric constant of the
[0051]
Here, the above-mentioned interval, that is, the thickness d of the
[0052]
That is, the coupling impedance between the
[0053]
1 / (2πfC) = R / 10
However, C = ε 0 / D
Therefore,
d = 0.2πfε 0 R
d / R = 0.2πε 0 f
Now, the sheet resistance value R of the
[0054]
FIG. 3 is a diagram showing the result of the frequency characteristics in which the effect of reducing the energy of the parallel plate mode electromagnetic wave has been confirmed by electromagnetic field simulation. The
(A) A
(B) A
(C) A
(D) A
The simulation calculation was carried out under the following conditions.
[0055]
As can be understood from this simulation result, the resonance of the
[0056]
In the above results, the thickness d of the
[0057]
On the other hand, when the sheet resistance R of the
[0058]
From the above consideration and the electromagnetic field simulation results, the following equation is appropriate as a preferable relationship between the sheet resistance value R of the
[0059]
0.1πε 0 f ≦ (d / R) ≦ 0.4πε 0 f
Therefore, the sheet resistance R of the
[0060]
FIG. 4 is a frequency characteristic diagram of actually measured gain in the high-frequency module according to the second embodiment. The amount of gain drop at the resonance frequency of about 38 GHz is about 1 dB, which is a significant improvement compared to the amount of gain drop of 3 dB at the same resonance frequency in the conventional high frequency module shown in FIG. Furthermore, the 3 dB bandwidth, which is the effective bandwidth in the high frequency module, has been improved to about 47 GHz.
[0061]
(Third embodiment)
FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) according to the third embodiment of the present invention. The same parts as those of the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4a of the first embodiment shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of the overlapping parts is omitted.
[0062]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4 b of the third embodiment, a
[0063]
As a method of forming the
[0064]
However, it goes without saying that the
[0065]
In the microwave integrated circuit semiconductor device (MMIC) 4b of the third embodiment configured as described above, although there is a drawback that the manufacturing method is somewhat complicated, the parallel plate mode electromagnetic wave in the resonance state propagated in the
[0066]
(Fourth embodiment)
FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) according to the fourth embodiment of the present invention. The same parts as those of the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4b of the third embodiment shown in FIG.
[0067]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4c of the fourth embodiment, the
[0068]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4c of the fourth embodiment configured as described above, the
[0069]
In the MMIC 4c of the fourth embodiment, since the
[0070]
(Fifth embodiment)
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device (MMIC) according to the fifth embodiment of the present invention. The same parts as those of the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4c of the fourth embodiment shown in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description of the overlapping parts is omitted.
[0071]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4d of the fifth embodiment, the
[0072]
In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) 4d of the fifth embodiment configured as described above, the
[0073]
Also in the MMIC 4d of the fourth embodiment, since the
[0074]
The present invention is not limited to the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) of each of the embodiments described above. In the microwave integrated circuit semiconductor element (MMIC) of each embodiment, the gallium arsenide field effect transistor (GaAsFET) 9 is adopted as the microwave semiconductor element as the active element. However, the micro-circuit using other semiconductor materials such as silicon is used. A wave semiconductor element can also be employed.
[0075]
【The invention's effect】
As described above, in the microwave integrated circuit semiconductor device of the present invention and the high frequency module in which the microwave integrated circuit semiconductor device is incorporated, the resistor film is used and the metal base and the semi-insulating material are used. By providing a gap between the back of the substrate. It is possible to reduce the energy of the parallel plate mode electromagnetic wave in the integrated circuit semiconductor element having the coplanar type transmission line and realize a good frequency characteristic in a wide band.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing an essential part of a high-frequency module according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view showing a simulation result of parallel plate mode electromagnetic waves generated in a microwave integrated circuit semiconductor element incorporated in the high-frequency module according to the second embodiment.
FIG. 4 is a frequency characteristic diagram of actually measured gain in the high-frequency module according to the second embodiment.
FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device according to a third embodiment of the invention.
FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device according to a fourth embodiment of the invention.
FIG. 7 is a perspective view showing a schematic configuration of a microwave integrated circuit semiconductor device according to a fifth embodiment of the invention.
FIG. 8 is a top view of a conventional high-frequency module.
FIG. 9 is a perspective view showing a schematic configuration of a conventional microwave integrated circuit semiconductor device.
FIG. 10 is a perspective view showing an essential part of a conventional high-frequency module.
FIG. 11 is a frequency characteristic diagram of actually measured gain in the conventional high-frequency module.
[Explanation of symbols]
1 ... Metal stand
4, 4a, 4b, 4c, 4d ... microwave integrated circuit semiconductor element
6a, 6b ... dielectric substrate
7a, 7b: microstrip transmission line
8 ... Semi-insulating substrate
9 ... Gallium arsenide field effect transistor
10, 16 ... Signal line
11, 12, 17 ... grounding conductor
13 ... Coplanar transmission line
14 ... Back side
15 ... Back conductor
18 ... Metal ribbon
19, 20 ... connection part
21, 21a, 21b ... resistor film
22 ... end face
23 ... Side
24 ... Gap
Claims (8)
前記半絶縁性基板(8)における、前記表面に対向する裏面(14)と前記コプレーナ型伝送線路(13)に直交する一対の端面(22)と前記コプレーナ型伝送線路に平行する一対の側面(23)との少なくとも一つの面に抵抗体膜(21、21a、21b)が形成されたことを特徴とするマイクロ波集積回路半導体素子。A microwave semiconductor element (9) and a coplanar transmission line (13) for inputting / outputting signals to / from the microwave semiconductor element were formed on the surface of a semi-insulating substrate (8) having a plate shape. In the microwave integrated circuit semiconductor elements (4a to 4d),
In the semi-insulating substrate (8), a back surface (14) facing the front surface, a pair of end surfaces (22) orthogonal to the coplanar transmission line (13), and a pair of side surfaces parallel to the coplanar transmission line ( 23) A microwave integrated circuit semiconductor device, characterized in that a resistor film (21, 21a, 21b) is formed on at least one surface thereof.
前記金属台の上面における前記マイクロ波集積回路半導体素子が対向する領域の一部と前記対向するマイクロ波集積回路半導体素子との間に空隙(24)を設けたことを特徴とする高周波モジュール。The microwave integrated circuit semiconductor device (4a-4d) according to claim 1, wherein the metal base (1) and a part of the upper surface of the metal base are attached so that at least the back surface (14) faces the upper surface. And a signal input / output to / from the microwave semiconductor element (9) via the coplanar transmission line (13). A high frequency module comprising a microstrip transmission line (7a, 7b) of
A high-frequency module, wherein a gap (24) is provided between a part of a region of the upper surface of the metal base facing the microwave integrated circuit semiconductor element and the facing microwave integrated circuit semiconductor element.
前記金属台の上面における前記マイクロ波集積回路半導体素子が対向する領域の一部と前記対向するマイクロ波集積回路半導体素子との間に空隙(24)を設けたことを特徴とする高周波モジュール。The microwave integrated circuit semiconductor element (4a) according to claim 2, wherein the metal base (1) is attached to a part of the upper surface of the metal base so that at least the back surface faces the upper surface. A microstrip type transmission line that is attached to the upper surface of the microwave integrated circuit semiconductor element in the vicinity of the microwave integrated circuit semiconductor element and inputs / outputs a signal to / from the microwave semiconductor element via the coplanar transmission line (13). (7a, 7b), a high frequency module comprising:
A high-frequency module, wherein a gap (24) is provided between a part of a region of the upper surface of the metal base facing the microwave integrated circuit semiconductor element and the facing microwave integrated circuit semiconductor element.
0.1πε0f≦(d/R)≦0.4πε0fThe relationship between the sheet resistance value R of the resistor film (21) and the thickness d of the gap, where f is the frequency of a signal input / output to / from the microwave semiconductor element and ε 0 is the dielectric constant of air. The high frequency module according to claim 7, wherein:
0.1πε 0 f ≦ (d / R) ≦ 0.4πε 0 f
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