JP3881684B2 - optical disk - Google Patents
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Description
本発明は、光ディスクおよびその製造方法に関し、特にたとえば、レーザ光が入射する側の基板を薄くした光ディスクおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical disc and a manufacturing method thereof, and more particularly to an optical disc having a thin substrate on which laser light is incident and a manufacturing method thereof.
近年、情報記録の分野では様々な光情報記録に関する研究が進められている。この光情報記録は高密度化が可能であり、また、非接触で記録・再生が行え、それを安価に実現できる方式として幅広い用途での応用が実現されつつある。現在の光ディスクとしては、厚さ1.2mmの透明樹脂基板に情報層を設け、それをオーバーコートによって保護した構造、あるいは0.6mmの透明樹脂基板の一方もしくは両方に情報層を設け、それら2枚を貼り合わせた構造が用いられている。 In recent years, research on various optical information recording has been advanced in the field of information recording. This optical information recording can be densified, can be recorded / reproduced in a non-contact manner, and is being realized in a wide range of applications as a method that can be realized at low cost. As an optical disk at present, an information layer is provided on a transparent resin substrate having a thickness of 1.2 mm, and the information layer is protected by an overcoat, or an information layer is provided on one or both of a 0.6 mm transparent resin substrate. A structure in which sheets are bonded together is used.
近年、光ディスクの記録密度を上げる方法として、対物レンズの開口数(NA)を大きくする方法や、使用するレーザの波長を短くする方法が検討されている。このとき記録・再生側基板(レーザ光が入射する側の基板)の厚みが薄いほうが、レーザスポットが受ける収差の影響を小さくでき、ディスクの傾き角度(チルト)の許容値を大きくできる。このことから、記録・再生側基板の厚さを0.1mm程度にし、NAを0.85程度、レーザの波長を400nm程度にすることが提案されている。 In recent years, methods for increasing the numerical aperture (NA) of an objective lens and methods for shortening the wavelength of a laser to be used have been studied as methods for increasing the recording density of an optical disk. At this time, if the thickness of the recording / reproducing side substrate (the substrate on which the laser beam is incident) is thinner, the influence of the aberration received by the laser spot can be reduced, and the allowable value of the tilt angle (tilt) of the disc can be increased. For this reason, it has been proposed that the thickness of the recording / reproducing side substrate is about 0.1 mm, the NA is about 0.85, and the laser wavelength is about 400 nm.
現在のDVD(デジタル バーサタイル ディスク)では、成膜等の処理を行った厚さ0.6mmの2枚の透明樹脂基板を放射線硬化性樹脂で貼り合わせるという方法が主に用いられている。高密度化のために記録・再生側基板の厚みが0.1mm程度になったときも、現在と同様の設備を用いて同様の方法で貼り合わせることが望ましい。 In the current DVD (Digital Versatile Disc), a method is mainly used in which two transparent resin substrates having a thickness of 0.6 mm subjected to processing such as film formation are bonded with a radiation curable resin. Even when the thickness of the recording / reproducing side substrate becomes about 0.1 mm due to high density, it is desirable to use the same equipment as in the present method to bond them together.
しかしながら、2枚の基板を貼りあわせた構造の光ディスクにおいて、高密度記録のために記録・再生側基板の厚みが薄くなると、記録・再生側基板の剥離や割れが生じやすいという課題があった。また、2枚の基板を貼りあわせる際の偏心(中心のずれ)を抑制する必要もある。本発明は、基板の耐久性に優れ、貼りあわせた基板の偏心の小さい光ディスクを提供することを目的とする。 However, in an optical disc having a structure in which two substrates are bonded together , there is a problem that if the recording / reproducing side substrate becomes thin for high density recording, the recording / reproducing side substrate is likely to be peeled off or cracked. In addition, it is necessary to suppress eccentricity (center shift) when bonding two substrates. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical disc having excellent substrate durability and small eccentricity of bonded substrates.
上記目的を達成するため、本発明の光ディスクは、一主面に信号領域を備え中心孔Aを有する第1の基板と、前記第1の基板の前記一主面側に貼り合わされた、前記第1の基板よりも薄い透光性の第2の基板とを備える光ディスクであって、前記第2の基板は前記中心孔Aよりも直径が大きい中心孔Bを有し、前記第1の基板と前記第2の基板とが、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された接着部材によって貼り合わされており、前記第1の基板は、前記一主面側に、前記第中心孔Aを取り囲むように円環状に形成され且つ外径が前記中心孔Bの直径以下である凸部を備え、前記凸部の前記一主面からの高さが、前記第2の基板の厚さと前記接着部材の厚さとの和よりも大きいことを特徴とする。 In order to achieve the above object, an optical disc of the present invention includes a first substrate having a signal region on one principal surface and having a center hole A, and the first substrate bonded to the one principal surface side of the first substrate . an optical disk and a thin light-transmissive second substrate than the first substrate, the second substrate has the center hole a central hole B is also larger in diameter than the previous SL first substrate And the second substrate are bonded together by an adhesive member disposed between the first substrate and the second substrate, and the first substrate is disposed on the one main surface side, A convex portion formed in an annular shape so as to surround the first central hole A and having an outer diameter equal to or smaller than the diameter of the central hole B; and the height of the convex portion from the one main surface is the second substrate It is characterized by being larger than the sum of the thickness of the adhesive member and the thickness of the adhesive member.
本発明によれば、2枚の基板を貼りあわせる際の偏心を抑制することができ、記録・再生側基板の薄型化による基板の強度の低下に対応できる。したがって、基板の耐久性に優れ、高密度記録が可能な光ディスクが得られる。 According to the present invention, it is possible to suppress eccentricity when two substrates are bonded together, and it is possible to cope with a decrease in strength of the substrate due to thinning of the recording / reproducing side substrate. Therefore, an optical disc having excellent substrate durability and capable of high density recording can be obtained.
上記光ディスクでは、上記凸部の高さは、0.05mm以上0.5mm以下であってもよい。 In the optical disc, the height of the convex portion may be 0.05 mm or more and 0.5 mm or less.
上記光ディスクでは、上記接着部材は、少なくとも第2の基板の内周端から外周端にかけて配置されていてもよい。 In the above optical disc, the upper SL adhesive member may be disposed to the outer edge from the inner peripheral end of the at least a second substrate.
上記光ディスクでは、前記第2の基板の厚さが、0.03mm〜0.3mmの範囲内であってもよい。この構成によれば、特に高密度に情報を記録することが可能な光ディスクが得られる。 In the optical disc, the thickness of the second substrate may be in the range of 0.03 mm to 0.3 mm. According to this configuration, an optical disc capable of recording information at a particularly high density can be obtained.
上記光ディスクでは、第1の基板の前記信号領域に、複数の信号記録層が形成されていてもよい。 In the optical disc, a plurality of signal recording layers may be formed in the signal area of the first substrate.
上記光ディスクでは、前記接着部材が放射線硬化性樹脂であってもよい。上記構成によれば、製造が容易になる。 In the optical disc, the adhesive member may be a radiation curable resin. According to the said structure, manufacture becomes easy.
上記光ディスクでは、前記第1の基板は、前記一主面の前記信号領域と前記中心孔Aとの間の領域にクランプ領域を有し、前記中心孔Bはクランプ領域よりも大きくてもよい。この構成によれば、光ディスクを安定して固定できる。また、光ディスクのクランプ時に、第2の基板が剥離することを防止できる。 In the above optical disc, the first substrate, said has a clamping area in the region between the signal area of the one main surface and the center hole A, the central hole B may be greater than the clamp region. According to this configuration, the optical disk can be stably fixed. Further, it is possible to prevent the second substrate from being peeled off when the optical disk is clamped.
上記光ディスクでは、前記第1の基板のクランプ領域の厚さが、1.1mm以上1.3mm以下であってもよい。 In the optical disc, the thickness of the clamp region of the first substrate may be 1.1 mm or greater and 1.3 mm or less.
上記光ディスクでは、前記接着部材の平均厚さが、0.5μm〜30μmの範囲内であってもよい。 In the optical disc, an average thickness of the adhesive member may be in a range of 0.5 μm to 30 μm.
上記光ディスクでは、情報の再生のために照射されるレーザの波長が450nm以下であってもよい。この構成によれば、特に高密度に情報を記録できる。 In the optical disc, the wavelength of the laser irradiated for information reproduction may be 450 nm or less. According to this configuration, information can be recorded particularly at high density.
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。なお、同様の部分については、同一の符号を付して重複する説明を省略する場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, about the same part, the same code | symbol may be attached | subjected and the overlapping description may be abbreviate | omitted.
(参考例)
まず、凸部を備えない光ディスクについて一例を説明する。図1(A)に平面図を、図1(B)に断面図を示す。
( Reference example )
First, an example of an optical disc that does not have a convex portion will be described . FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a cross-sectional view.
図1を参照して、光ディスク10は、第1の基板11(ハッチングを省略する。以下、第1の基板のハッチングは同様に省略する場合がある。)と、第1の基板11に貼り合わされた第2の基板12とを備える。そして、第1の基板11と第2の基板12とは、第1の基板11と第2の基板12との間に配置された放射線硬化性樹脂(接着部材)13によって貼り合わされている。
Referring to FIG. 1, an optical disc 10 is bonded to a first substrate 11 (hatching is omitted. Hereinafter, hatching of the first substrate may be omitted in the same manner) and the
第1の基板11は、一主面11aに信号領域SAを備える。信号領域SAには、信号記録層14が形成されている。信号領域SAの構造は、光ディスクの用途などによって異なる。光ディスク10が再生専用のディスクである場合には、たとえば、一主面11aのうち信号領域SAの部分には凹凸形状のピットが形成され、ピット上には信号記録層としてAlなどからなる膜が形成される。また、光ディスク10が記録・再生用のディスクである場合には、信号領域SAには、記録・再生が可能なように、相変化材料や色素などから構成される記録膜が形成される。
The
第1の基板11は、その中央部に、直径がdA(たとえば15mm)の円形の中心孔Aを備える。第1の基板11の厚さは、特に限定がないが、第2の基板12の厚さとの合計が、0.5mm〜0.7mmまたは1.1mm〜1.3mmの範囲内となることが好ましい。第1の基板11の外径については特に限定はなく、たとえば120mmである。第1の基板11は、たとえば、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などの熱可塑性樹脂、またはビニルエステル樹脂やポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂などからなる。
The
第2の基板12は、第1の基板11よりも薄い基板であり、透光性である。第2の基板12の厚さは、0.03mm〜0.3mmの範囲内であり、0.03mm〜0.12mmの範囲内であることがより好ましい。具体的には、第2の基板12の厚さは、たとえば、0.05mmや0.1mmである。第1の基板11の厚さと第2の基板12の厚さとの合計を、1.1mm〜1.3mmの範囲内とすることによって、既存の光ディスクとの互換性を確保できる。また、厚さの合計を、0.5mm〜0.7mm、または1.1mm〜1.3mmの範囲内とすることによって、光ディスクの従来の製造装置を利用できる。
The
第2の基板12は、信号を記録・再生するために照射されるレーザ光(好ましくは波長が450nm以下)が照射される側の基板であり、透光性の材料からなる。具体的には、第2の基板12は、たとえば、ポリカーボネート樹脂やアクリル樹脂などの熱可塑性樹脂、またはビニルエステル樹脂やポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂などからなる。第2の基板12は、その中央部に、直径がdBの円形の中心孔Bを備える。図1(A)に示すように、中心孔Bは、クランプ領域Cよりも大きいことが好ましい。
The
ここで、クランプ領域Cは、記録・再生のために光ディスク10を搬送したり回転させたりする際に保持される領域である。第1の基板11のクランプ領域Cの厚さは1.1mm以上1.3mm以下であることが好ましい。
Here, the clamp area C is an area held when the optical disk 10 is transported or rotated for recording / reproduction. The thickness of the clamp region C of the
接着部材である放射線硬化性樹脂13は、少なくとも第2の基板の内周端12sから外周端12tまで配置されている。すなわち、放射線硬化性樹脂13は、第2の基板12の主面のうち、第1の基板11側の主面の全面に少なくとも配置されている。なお、放射線硬化性樹脂13は、第1の基板の内周端11sまで配置されていてもよい。放射線硬化性樹脂13は、放射線によって硬化する樹脂である。放射線硬化性樹脂13には、たとえば、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂や、電子線照射によって硬化する樹脂などを用いることができる。図1(A)に示すように、放射線硬化性樹脂13は、クランプ領域Cよりも外周側に配置されているか、または、クランプ領域Cのすべてを覆うように配置されていることが好ましい。放射線硬化性樹脂13の平均厚さは、0.5μm〜30μmの範囲内であることが好ましい。なお、放射線硬化性樹脂13の代わりに、両面テープなどの接着部材を用いてもよい。
The radiation
この光ディスク10では、光入射側の第2の基板12が薄いため、高密度記録が可能である。また、第2の基板12の中心孔Bの直径が第1の基板11の中心孔Aの直径よりも大きいため、第2の基板12の剥離や割れが生じにくくハンドリングが容易である。さらに、第2の基板12の内周端12sにまで放射線硬化性樹脂が配置されているため、第2の基板12の剥離や割れが生じにくくハンドリングが容易である。
In the optical disc 10 of this, since the
なお、第1の基板11は、一主面11a側に、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ外径が中心孔Bの直径以下である凸部、および、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ直径が中心孔Bの直径以下である凹部から選ばれる少なくとも1つを備えることが好ましい。
The
(実施形態1)
第1の基板が、上記円環状の凸部を備える場合の光ディスク20について、平面図を図2(A)に、断面図を図2(B)に示す。また、第1の基板が他の形状の凸部を備える場合の光ディスク30について、平面図を図3(A)に、断面図を図3(B)に示す。また、第1の基板が、円環状の凸部と円環状の凹部とを備える場合の第1の基板51および56について、断面図をそれぞれ図4(A)および(B)に示す。なお、第1の基板21、31、51および56は、凸部および凹部以外の部分については第1の基板11と同様である。すなわち、一主面21a、31a、51aおよび56aは、一主面11aに対応する。また、光ディスク20および30は、それぞれ、第1の基板21および31を除いて光ディスク10と同様であるため、重複する説明は省略する。
(Embodiment 1)
FIG. 2A shows a plan view and FIG. 2B shows a cross-sectional view of the optical disc 20 in the case where the first substrate has the above-described annular convex portion. FIG. 3A shows a plan view and FIG. 3B shows a cross-sectional view of the optical disc 30 in the case where the first substrate has convex portions of other shapes . Also, the first substrate, the
図2(A)および(B)に示すように、光ディスク20の第1の基板21は、信号領域SAが形成された一主面21a側に、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ外径L1が中心孔Bの直径dBと等しい凸部22を備える。凸部22によって、以下に説明するように光ディスクの製造が容易になる。また、凸部22の高さ(一主面21aからの高さ)は、0.05mm以上0.5mm以下であることが好ましい。また、凸部22の高さは、図2(B)に示すように、第2の基板の厚さと放射線硬化性樹脂13の厚さとの和よりも大きいことが好ましい(以下の凸部においても同様である)。これによって、光ディスク20を重ね合わせて保持・保存する際に、再生面が他の光ディスクに直接触れることがなくなり、再生面が傷つくことがなくなる。また、図2(B)に示すように、凸部22は、第2の基板12の内周端に接するように形成する(凸部22の外径L1と中心孔Bの直径dBとを等しくする)ことが好ましい(以下の凸部においても同様である)。これによって、第1の基板11と第2の基板12との偏心を抑制できる。さらに、記録・再生時に、クランプのセンターコーンやモーターターンテーブルが第2の基板12と接触しないため、第2の基板12の薄形化による強度の低下にも対応でき、また、チルトが大きくなることを抑制できる。
As shown in FIGS. 2A and 2B, the
図3(A)および(B)に示すように、光ディスク30の第1の基板31は、信号領域SAが形成された一主面31a側に、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ外径L1が中心孔Bの直径dBと等しい凸部(段差)32を備える。この場合の凸部32は、第1の基板31の内周端にまで形成されている。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the
図4(A)に示すように、第1の基板51は、信号領域SAが形成された一主面51a側に、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ外径が中心孔Bの直径以下である凸部22と、凸部22を囲むように円環状に配置された凹部42とを備える。これによって、凸部および凹部の効果が得られる。
Figure 4 (A), the
図4(B)に示すように、第1の基板56は、信号領域SAが形成された一主面56a側に、中心孔Aを囲むように円環状に形成され且つ外径が中心孔Bの直径以下である凸部32と、凸部32を囲むように円環状に配置された凹部42とを備える。これによって、凸部および凹部の効果が得られる。
Figure 4 (B), the
なお、上述した光ディスク20および30も、光ディスク10と同様の効果を有することはいうまでもない。 It should be noted that the optical disc 2 0 Contact and 3 0 the materials given above, it is needless to say that the same effects as the optical disc 10.
なお、本実施形態では、第1の基板のみに信号記録層が形成されている光ディスクについて説明した。しかし、本発明の光ディスクおよびその製造方法では、第2の基板に信号記録層が形成されていてもよい(以下、同様である)。たとえば、本発明の光ディスクおよびその製造方法では、第2の基板にも半透明の信号記録層を形成し、第1の基板および第2の基板がともに信号記録層を備えてもよい。また、第1の基板に、複数の信号記録層を形成してもよい(以下、同様である)。これらの構成によって、2層構造の光ディスクが得られる。この場合には、第2の基板側から入射させたレーザ光によって、両方の信号記録層に記録された情報を再生できる。 In the present exemplary type condition it has been described an optical disk signal recording layer only on the first substrate is formed. However, in the optical disc of the present invention and the manufacturing method thereof, a signal recording layer may be formed on the second substrate ( the same applies hereinafter). For example, in the optical disk of the present invention and the manufacturing method thereof, a semitransparent signal recording layer may be formed on the second substrate, and both the first substrate and the second substrate may be provided with the signal recording layer. Further, a plurality of signal recording layers may be formed on the first substrate ( the same applies hereinafter). With these configurations, an optical disk having a two-layer structure can be obtained. In this case, the information recorded in both signal recording layers can be reproduced by the laser light incident from the second substrate side.
(光ディスクの製造方法)
ここでは、本発明の光ディスクの製造方法について一例を説明する。参考例で説明した光ディスク10を製造する場合の製造工程を図5に示すが、上述した光ディスク20および30を製造する場合も同様である。
( Optical disk manufacturing method )
Here , an example of the manufacturing method of the optical disk of the present invention will be described . Shows a manufacturing process in the case of producing an optical disk 10 described in Reference Example 5, the same applies to the case of manufacturing the optical disc 20 and 30 described above.
ここで説明する製造方法では、図5(A)に示すように、一主面11aに信号領域SAを備え中心孔Aを有する第1の基板11と、中心孔Aよりも直径が大きい中心孔Bを有し第1の基板11よりも薄い透光性の第2の基板12とを、一主面11aが内側になるように硬化前の放射線硬化性樹脂13aを挟んで密着させる(工程(a))。このとき、第2の基板12の少なくとも内周端12sから外周端12tまで、放射線硬化性樹脂13aを配置する。なお、放射線硬化性樹脂13aは、第1の基板11の内周端11sまで配置されてもよいし、参考例で説明したように、クランプ領域Cにかからないように配置されてもよい。
The manufacturing method described here, FIG. 5 (A), the first and the
第1の基板11の信号領域SAは、たとえば、射出成形法やフォトポリマー法によって樹脂を成形して凹凸形状のピットを形成したのち、膜厚がたとえば50nmのAlからなる反射膜(信号記録層14)をスパッタリング法で形成することによって形成できる。また、信号領域SAを相変化膜や色素膜などで形成する場合には、スパッタリング法や蒸着法によって形成できる。第1の基板11は、たとえば、厚さが1.1mm、直径が120mm、中心孔径が15mmのポリカーボネート製基板である。
The signal area SA of the
第2の基板12は、たとえば、厚さが90μm、外径が120mm、中心孔径が40mmのポリカーボネート製またはアクリル製基板である。第2の基板12は、射出成形法やキャスティング法によって形成することができる。第2の基板12の厚さは、0.03mm〜0.3mmの範囲内である。
The
その後、図5(B)に示すように、放射線硬化性樹脂13aに放射線(紫外線や電子線など)を照射することによって、放射線硬化性樹脂13aを硬化させて硬化後の放射線硬化性樹脂13とし、第1の基板11と第2の基板12とを貼り合わせる(工程(b))。放射線は、連続的に照射してもよいし、パルス的に照射してもよい(以下の製造方法においても同様である)。このようにして、光ディスク10を製造できる。
Thereafter, as shown in FIG. 5 (B), the radiation
以下に、上記第1の工程において、放射線硬化性樹脂13aを挟んで第1の基板11と第2の基板12とを密着させる方法について、2通りの方法を説明する。
Hereinafter, in the first step, two methods will be described with respect to the method of bringing the
第1の方法は、第1の基板11と第2の基板12とによって放射線硬化性樹脂13aを挟んで一体としたのち、一体となった第1の基板11と第2の基板12とを回転させることによって、放射線硬化性樹脂13aを延伸する方法である。この方法について、工程の一例を図6に示す。図6の工程では、まず、図6(A)に示すように、第1の基板11上にノズル71によって円環状に放射線硬化性樹脂13aを塗布する。この際、第1の基板11またはノズル71を低速(20rpm〜120rpm)で回転させる。また、第2の基板12の内周端12sまできっちりと接着するために、放射線硬化性樹脂13aを第1の基板11上であって内周端12sが配置される位置(たとえば、半径20mm〜25mmの位置)に塗布する。
In the first method, the
次に、図6(B)に示すように、第1の基板11と第2の基板12とを、同心円になるように対向させ重ね合わせる。ただし、クランプ領域Cに放射線硬化性樹脂13aが付着するとチルトへの影響が大きくなるため、図6(C)に示すように、クランプ領域Cの外周側に円環状に紫外線などの放射線72を照射して、これ以上内周に放射線硬化性樹脂13aが浸入するのを防ぐことが好ましい。すなわち、工程(a)は、第1の基板11を回転させる前に、信号領域SAよりも内側に配置された放射線硬化性樹脂13aの少なくとも一部を硬化させる工程を含んでもよい(以下の第2の方法においても同様である)。なお、放射線硬化性樹脂13aは、第2の基板12上に塗布してもよい。
Next, as shown in FIG. 6 (B), the
その後、図6(D)に示すように、第1の基板11と第2の基板12とを重ね合わせたままの状態で、2枚の基板を高速(1000rpm〜10000rpm)で回転させ、外周部分まで放射線硬化性樹脂13aを拡散させる。これによって、接着部分に気泡が入りにくく、また余分な放射線硬化性樹脂13aが振り切られて第1の基板11と第2の基板12との間から排出される。このようにして、工程(a)を行うことができる。
Thereafter, as shown in FIG. 6 (D), the two substrates are rotated at a high speed (1000 rpm to 10000 rpm) while the
なお、上記工程において、放射線硬化性樹脂13aの厚さを均一にするためには、樹脂拡散のための基板の回転数・回転時間や放射線硬化性樹脂13aの厚さに応じて放射線硬化性樹脂13aの粘度を選択することが好ましい。一般に、上記方法では放射線硬化性樹脂13aの厚さは内周側で薄くなり、外周側で厚くなりやすい。光ディスクの高密度化のために検討されているような波長400nmのレーザ、対物レンズのNA0.85といった条件での記録・再生を行うためには、放射線硬化性樹脂13の膜厚バラツキは、その中心値(第2の基板12の厚さと放射線硬化性樹脂13の厚さとの和であり、たとえば0.1mm)に対して±3μm程度の範囲に収めることが要求される。
In the above process, in order to make the thickness of the radiation
上記第1の方法における、放射線硬化性樹脂13aの粘度と硬化後の放射線硬化性樹脂13の面内ばらつきとの関係を表1に示す。
In the first method, Table 1 shows the relationship between the in-plane variation of the radiation
表1から明らかなように、放射線硬化性樹脂13aの粘度を10mPa・s以上1500mPa・s以下とすることによって、硬化後の放射線硬化性樹脂13の膜厚のばらつきを6μm以下、すなわち±3μm以下とすることができる。
As apparent from Table 1, the viscosity of the radiation
また、上記第1の方法における放射線硬化性樹脂13aの粘度とタクトタイムとの関係を表2に示す。
Table 2 shows the relationship between the viscosity of the radiation
表2から明らかなように、タクトタイムを短縮するためには放射線硬化性樹脂13aの粘度を10mPa・s〜600mPa・sの範囲内とすることが好ましい。
As is apparent from Table 2, in order to shorten the tact time, it is preferable that the viscosity of the radiation
次に、第1の工程を行うための第2の方法について説明する。第2の方法は、放射線硬化性樹脂13aを第1の基板11上に滴下したのち、第1の基板11を回転させることによって放射線硬化性樹脂13aを第1の基板11上に塗布し、次いで、第1の基板11と第2の基板12とを放射線硬化性樹脂13aを挟んで密着させる方法である。この方法について、工程の一例を図7に示す。第2の方法では、まず、図7(A)に示すように、第1の基板11上にノズル71によって円環状に放射線硬化性樹脂13aを塗布する。この工程は、図6(A)で説明した工程と同様である。
Next, the 2nd method for performing a 1st process is demonstrated. In the second method, after the radiation
次に、図7(B)に示すように、第1の基板11を高速(1000rpm〜10000rpm)で回転することによって、放射線硬化性樹脂13aを外周部まで延伸する。このとき、図6(C)の工程で説明したように、クランプ領域Cの外周側の放射線硬化性樹脂13aに円環状にレーザ光を照射してもよい。
Next, as shown in FIG. 7 (B), the
その後、図7(C)に示すように、第1の基板11と第2の基板12とを同心円となるように重ね合わせ、密着させる。このようにして、上記工程(a)を行うことができる。なお、重ね合わせの際に適当な圧力を均一に加えてやることで、放射線硬化性樹脂13aの分布をさらに均一にすることができる。このとき、気泡が入らないように注意する必要がある。気泡が入らないようにするためには、図8に示すように、基板を密着させる工程を真空チャンバ90内、すなわち真空雰囲気中で行うことが好ましい。
Thereafter, as shown in FIG. 7 (C), the
上記第2の方法における、放射線硬化性樹脂13aの粘度と硬化後の放射線硬化性樹脂13の面内ばらつきとの関係を表3に示す。
Table 3 shows the relationship between the viscosity of the radiation
表3から明らかなように、放射線硬化性樹脂13aの粘度を10mPa・s以上15000mPa・s以下とすることによって、硬化後の放射線硬化性樹脂13の膜厚のばらつきを6μm以下(±3μm以下)とすることができる。
As is apparent from Table 3, by setting the viscosity of the radiation
また、上記第1の方法における放射線硬化性樹脂13aの粘度とタクトタイムとの関係を表4に示す。
Table 4 shows the relationship between the viscosity of the radiation
表4から明らかなように、タクトタイムを短縮するためには放射線硬化性樹脂13aの粘度を10mPa・s〜1000mPa・sの範囲内とすることが好ましい。
As is apparent from Table 4, in order to shorten the tact time, it is preferable that the viscosity of the radiation
以上のように、上記の光ディスクの製造方法によれば、光ディスクを容易に製造できる。なお、上記第2の方法では、第2の基板に放射線硬化性樹脂を塗布してから、第1の基板と密着させるようにしてもよい。 As described above, according to the method of manufacturing the above SL of the optical disc, the optical disc can be easily manufactured. In the second method, a radiation curable resin may be applied to the second substrate and then adhered to the first substrate.
なお、上記の製造方法では、第1の基板11の代わりに、実施形態1で説明した第1の基板21、31、51または56を用いてもよい。これらの基板を用いることによって、円環状の凸部よりも内周側に放射線硬化性樹脂13aが塗布されることを防止できる。この場合、円環状に放射線を照射する工程は行わなくてもよくなるため、生産が容易になる。また、凸部の外径L1を第2の基板12の直径dBと同じ大きさとすることによって、第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる際に、偏心が生じることを防止できる。
In the above manufacturing method, instead of the
以上、本発明の実施の形態について例を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されず本発明の技術的思想に基づき他の実施形態に適用することができる。 Although the embodiments of the present invention have been described above by way of examples, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be applied to other embodiments based on the technical idea of the present invention.
本発明の光ディスクによれば、再生面が傷つくことがなくなった光ディスクが得られる。 According to the optical disk of the present invention, an optical disk in which the reproduction surface is not damaged can be obtained.
10、20、30 光ディスク
11、21、31、51、56 第1の基板
11a、12a、21a、31a、51a、56a 一主面
12 第2の基板
12s 内周端
12t 外周端
13、13a 放射線硬化性樹脂(接着部材)
14 信号記録層
22、32 凸部
42 凹部
71 ノズル
A、B 中心孔
C クランプ領域
SA 信号領域
dA、dB、L1 直径
10,20,3 0
14 signal recording layers 22 and 32
71 nozzles
A , B Center hole C Clamp area SA Signal area dA, dB, L 1 diameter
Claims (10)
前記第2の基板は前記中心孔Aよりも直径が大きい中心孔Bを有し、
前記第1の基板と前記第2の基板とが、前記第1の基板と前記第2の基板との間に配置された接着部材によって貼り合わされており、
前記第1の基板は、前記一主面側に、前記第中心孔Aを取り囲むように円環状に形成され且つ外径が前記中心孔Bの直径以下である凸部を備え、
前記凸部の前記一主面からの高さが、前記第2の基板の厚さと前記接着部材の厚さとの和よりも大きいことを特徴とする光ディスク。 A first substrate having a signal region on one main surface and having a central hole A, and a light-transmitting second thin film bonded to the one main surface side of the first substrate and thinner than the first substrate An optical disc comprising a substrate,
The second substrate has a central hole B having a diameter larger than that of the central hole A,
The previous SL first substrate and the second substrate, are bonded by arranged adhesive member between the first substrate and the second substrate,
The first substrate includes, on the one main surface side, a convex portion that is formed in an annular shape so as to surround the center hole A and whose outer diameter is equal to or less than the diameter of the center hole B ,
An optical disc, wherein a height of the convex portion from the one main surface is larger than a sum of a thickness of the second substrate and a thickness of the adhesive member.
前記中心孔Bは前記クランプ領域よりも大きい請求項1〜6のいずれか一項に記載の光ディスク。 The first substrate has a clamp region in a region between the signal region of the one main surface and the central hole A,
The optical disk according to claim 1, wherein the center hole B is larger than the clamp region.
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