JP3880317B2 - Substrate, liquid crystal display device and electronic apparatus - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基体、液晶表示装置および電子機器に係り、特に、反射膜または電磁遮蔽膜等の導体膜および電極を有する基体等に用いて好適な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
図12は単純マトリックス駆動型の液晶表示装置の例を示すものであり、図12に示す液晶表示装置200は、一対の透明の長方形状の基板220、221をそれらの間に封止材222を介在させて一体化させて構成されている。
図12に示す構成において基板220は通常上基板、基板221は通常下基板と呼称されるもので、図12に示すように基板221を手前側に基板220を裏側にして両者を横長にして起立させた状態において、基板220は基板221よりも背が高く形成され、基板221は基板220よりも横幅が長く形成されていて、基板220と基板221はそれぞれの底辺部分と右側面部分を揃えて一体化されるとともに、基板221よりも上にはみ出した部分が基板220の延出端部223とされ、基板220よりも左側部側にはみ出した部分が基板221の延出端部224とされている。
【0003】
そしてこれら基板220、221の間に、基板220、221の重なり部分の隅部に沿って樹脂製の封止材222が基板220、221に挟まれた状態で介装されている。この封止材222は、基板220、221の重なり部分の周縁部分に沿ってほぼ矩形環状に配置された環状部222aと、基板220、221の右側面側中央部分において基板220、221の右側面に向かって互いに離間した状態でほぼ平行に引き出されて形成され基板220、221の右側面側に液晶の注入部226を形成した延長部222b、222bと、該注入部226を閉塞して設けられた封止部222cとから構成されている。また、注入部226の若干内側には注入部226の幅と同程度の長さの樹脂で形成された線状の土手部材227が基板220、221に挟まれた状態で基板220の右側面とほぼ平行に設けられている。
【0004】
封止材222の内側の基板220、221の対向面には、それぞれ短冊状の多数の表示用電極が平行に形成され、基板220に形成された多数の表示用電極223bと基板221に形成された多数の表示用電極224bとが90度の角度を持って対向してマトリックス状なるように配置され、封止材222の内側には環状の封止材222よりも若干狭い矩形状の電極形成領域230が形成されている。
この表示用電極223b,224bはインジウム錫酸化物(以下、ITOと記載する)などの透明な導電材料からなる。
前記基板220の延出端部223において基板221側の面に、前述の多数の表示用電極223bから引き出された引出電極223a・・・が整列形成されるとともに、基板221の延出端部224において基板220側の面にも前述の多数の表示用電極224bから引き出された引出電極224aが整列形成されている。なお、これらの引出電極223a、224aは、液晶表示装置の駆動用ICなどを取り付けるために利用されるものである。
更に、基板220、221の対向面側には、電極層の他にオーバーコート層や配向膜が積層され、カラー表示を行う構造の場合は更にカラーフィルタが設けられるが、この形態の説明においてはこれらの部分の説明は省略してある。
【0005】
基板221(下基板)の外面側のほぼ全面に、蒸着Alなどからなる金属反射膜231が形成され、この金属反射膜231は、前記電極形成領域230に対応する部分にのみ金属反射膜が形成されるとともに、その周囲の前記基板221の引出電極形成領域に対応する部分では、金属反射膜の未形成部231bが形成されている。
【0006】
このような基板220を製造する際には、金属反射膜231および引出電極223a,表示用電極223bを形成した後、配向膜を形成する工程で、印刷用ロールと印刷用の金属ステージとの間で基板220を押圧する必要があるため、印刷用の金属ステージに基板220が強く押しつけられていた。
さらに、その後の工程において基板220を搬送する等のために、金属ステージから、基板220を引き剥がすことが必要となっている。このため、基板220をその四隅に位置するリフターピンなどにより金属ステージから剥離していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この基板220を金属ステージから剥離する工程において、帯電した電荷に起因した放電により、この表示用電極223bが損傷を受けてしまい、表示領域に表示欠陥が生じて不良品になってしまうという問題があった。
【0008】
本願発明者らは、この放電が起きる原因を探求したところ、配向膜印刷工程において、基板220と金属ステージが印刷用ロールにより押圧されて密着し、基板220と金属ステージとの接触率が上昇することで、この後の工程に搬送するため基板220を剥離した際に、この基板220が帯電する電荷の量が増えていることが判明した。
さらに、この基板220における帯電電位は、図9に示すように各ロットによって異なっており、その帯電量の値が高い場合にこの放電が起きる可能性が高いことが知見された。
【0009】
そして、本願発明者は、上記の放電を検知するためにEMI( electromagnetic induced)ロケータを設置して、放電により発生する電磁波を計測することにより、放電の発生過程を特定するとともに、帯電モデルを考慮して、原因を特定しようと試みた。すると、基板220が帯電しているため、金属ステージがら剥離される際にリフターピンの当接している付近のみの基板220が金属ステージから離間して基板220自体が撓み、基板220の中央部分は金属ステージに当接した状態となるために、表示用電極223b,223b間に電位差が生じて放電が発生することを突きとめた。
つまり、静電気破壊の生じる原因を突きとめることができたのである。
【0010】
さらに、本願発明者らは、鋭意追求した結果、基板裏面に発生した静電気に起因して発生する静電気放電により損傷を受けた部位に位置する隣り合った電極間の電位差が、反射膜の面積と、この反射膜と重ならない部分の電極の面積との比率に応じて変化することを突きとめた。
【0011】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
▲1▼ 静電気放電の発生を防止すること。
▲2▼ 静電気放電に起因する電極における欠損発生を防止すること。
▲3▼ 静電気放電に起因する表示欠損の発生を防止すること。
▲4▼ 上記の欠損発生を防止した基体を提供すること
▲5▼ 上記の表示欠損のない液晶表示装置を提供すること。
▲6▼ 上記の欠損を防止した電子機器の提供を図ること。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明の基体においては、絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる導電被覆膜と、該被覆膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、
前記導電被覆膜の面積S1と、前記配線のうち前記導電被覆膜と重ならない部分の面積S2とにおいて、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明の液晶表示装置においては、液晶層を挟持して対向配置され、前記液晶層側の面に、少なくとも所定のパターンの電極を具備する一対の基板のうち、第1基板には少なくとも表示領域を覆う導電性の反射膜が設けられ、
前記第1基板において、前記反射膜の面積S1と、前電極のうち前記反射膜と重ならない部分の面積S2とにおいて、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明の電子機器においては、絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる電磁遮蔽膜(導電被覆膜)と、該電磁遮蔽膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、
前記電磁遮蔽膜の面積S1と、前記配線のうち前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積S2とにおいて、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明において、前記比率S2/S1が0.0001以下に設定されてなることが好ましい。
また、本発明において、より好ましくは前記配線(電極)がすべて前記導電被覆膜(電磁遮蔽膜または反射膜)と重なることが可能である。
【0013】
本発明の基体においては、基板上の各配線のうち任意の一本において前記導電被覆膜と重ならない部分の面積S2を、前記導電被覆膜の面積S1に対する比率S2/S1が0.001以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各配線間の電位差を抑制することが可能となるため、配線間において静電気放電が発生することを防止し、放電による配線欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率を低下して、歩留まりを向上することが可能となる。
具体的には、比率S2/S1を0.001以下に設定した場合には、(放電による配線欠陥の1つでも発生したセル数)/(製造全セル数)で示される不良率を3%以下とすることが可能となる。
ここで、配線欠陥とは、配線の不良に限るものではなく、静電気放電により配線周囲の構造に影響が出て、所望の性能を呈さない状態を意味するものである。
【0014】
さらに、この比率S2/S1を0.0001以下に設定されてなることにより、不良率を0.5%とすることが可能であるため、より一層好ましい。
【0015】
また、前記配線(電極)がすべて前記導電被覆膜(電磁遮蔽膜または反射膜)と重なること、つまり、S2=0とすることにより静電気放電に起因する表示欠陥による不良率を0%とすることが可能であるため、より好ましい。
【0016】
本発明の液晶表示装置においては、基板上の各電極のうち任意の一本において前記反射膜と重ならない部分の面積S2を、前記反射膜の面積S1に対する比率S2/S1が0.001以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することが可能となるため、電極間において静電気放電が発生することを防止し、放電による表示欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の増大を防止して、歩留まりを向上することが可能となる。
具体的には、比率S2/S1を0.001以下に設定した場合には、(放電による表示欠陥の1つでも発生したセル数)/(製造全セル数)で示される不良率を30%以下とすることが可能となる。
【0017】
本発明の電子機器においては、基板上の各配線のうち任意の一本において前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積S2を、前記電磁遮蔽膜の面積S1に対する比率S2/S1が0.001以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各配線間の電位差を抑制することが可能となるため、配線間において静電気放電が発生することを防止し、放電による配線欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の低下を図り、歩留まりの向上を可能とすることができる。
【0018】
上記の基体、液晶表示装置および電子機器によれば、製造工程そのものおよび、その際の各条件を変化することなく、導電被覆膜(反射膜、電磁遮蔽膜)の面積S1と配線(電極)のうち、前記導電被覆膜と重ならない部分の面積S2とを設定することで、製造設備の改造等の手段を用いることなく、配線(電極)間の放電を防止し、放電に起因した不良率を低減して歩留まりの向上を可能とすることができる。ここで、配線(電極)のうち、前記導電被覆膜と重ならない部分とは、平面視して、導電被覆膜と重ならないと言う意味で、この導電被覆膜と対向していない部分という意味である。
【0019】
【発明の実施の形態】
[実施形態1]
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第1実施形態を、図面に基づいて説明する。
図1は本実施形態における液晶表示装置を示す断面図であり、図2は図1の液晶表示装置におけるコモン基板を示す断面図、図3は同コモン基板を示す平面図、図4は図3の拡大平面図である。
【0020】
本実施形態の液晶表示装置は反射型の単純マトリックス型の液晶表示装置とされ、図において、符号1は第1基板、2は反射膜、3は表示領域である。
本液晶表示装置は、基本的には、ガラス基板等からなる一対の基板1,31間にSTN(Super Twisted Nematic )液晶等からなる液晶層45が挟持されている。
【0021】
図1に示すように、下側基板(第1基板)1の上側基板31との対向面には、形状転写膜12を介して、反射膜(導電被覆膜)2、赤(R),緑(G),青(B)などのカラー画素と遮光層(ブラックマトリックス)とからなるカラーフィルタ層21が順次積層形成され、その上にオーバーコート層11を介して複数の電極(配線)7が形成され、さらにその上に配向膜43が形成されて、コモン基板(基体)47が構成されている。このコモン基板46は、図12に示した下基板221に対応する構成要素である。
同様に、上側基板31の下側基板1との対向面にはオーバーコート膜41を介して下側基板1の表示電極4と直交する方向に延在する複数の電極37が形成され、その上に配向層42が順次積層形成されて、セグメント基板46が構成されている。このセグメント基板46は図12に示した上基板220に対応する構成要素である。
【0022】
これら離間して対向配置された一対のガラス基板、すなわちコモン基板47およびセグメント基板46とがシール材44を介して貼合され、これら一対の基板46,47に挟持されて表示領域3となる部分の周囲を囲んで形成されたシール材44に囲まれたセル内に液晶45を充填することにより形成されている。
また、液晶層45内には液晶セルのセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、ポリスチレン等からなる多数の球状のスペーサが配置されており、上側基板31の外側には偏光板、位相差板などの光学素子が設けられているが、これらは、図面上省略している。
【0023】
反射膜2は光を反射する銀やアルミニウムなどからなり、上側基板31側(観察者側)から入射した太陽光などの外光が液晶層45を透過し、反射膜2で反射されて、再び液晶層45、上側基板31を透過して外部に出射され、表示することが可能な構造になっている。
反射膜2は、表示領域3のみならず、その外側の後述する引出配線6,端子部5に重なる位置まで設けられており、この反射膜2を設ける範囲に関しては後述するように設定される。
【0024】
カラーフィルター21は、図1に示すように、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層と隣接する着色層間を遮光する遮光層(ブラックマトリクス)とからなっている。本実施形態の液晶表示装置において、表示電極4と表示電極34とが交差する部分が画素になっており、各画素に対応して、赤、緑、青の着色層のうちいずれかの着色層が配置され、赤、緑、青を表示する3つの画素で1つの表示が可能になっている。オーバーコート膜(平坦化膜)11は有機膜などからなり、カラーフィルター21を形成した下側基板1の表面を平坦化するために設けられている。
【0025】
配向膜42,43は、ポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層45の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。
【0026】
下側基板1、上側基板31の液晶層45側表面上には、各々複数のITO(インジウム錫酸化物)などからなる電極(配線)7,37が形成されており、この電極7,37間に所定の電圧を印加することにより液晶の配向状態を変化させ、これを光学的に識別することにより、表示することが可能な構造になっている。これら電極7,37は、表示領域3において、表示電極4,34としてそれぞれ直交するストライプ状に形成され、これらの表示電極4,34が交差する部分が画素となっており、液晶を各画素毎に外部から駆動する方式が採用されている。
【0027】
表示電極4は、表示領域3の内部にストライプ状に形成されており、かつ、その端部が表示領域3外側に位置する引出配線(電極)6を介して表示領域3外側に位置する各端子部(電極)5に接続するように形成されている。これらの表示電極4、引出配線6、端子部5は電極7を構成している。
引出配線6,6…は、それぞれ、例えば幅寸法W1が70μm、その間隔寸法P1が20μmに設定される。
【0028】
表示領域3における複数の表示電極4,4…は、図3に示すように、4ブロックに区分されて、それぞれが、異なる部位に集められた端子部5,5に接続されている。
つまり、図3において右端に位置する表示領域3Aに位置する表示電極4,4…は、それぞれ、図の下側に位置する引出配線6,6…により下側基板1右下隅に位置する端子部5,5…に接続される。同様にして、図3において右から2番目に位置する表示領域3Bに位置する表示電極4,4…は、それぞれ、図の上側に位置する引出配線6,6…により下側基板1右上隅に位置する端子部5,5…に接続される。
同様に、図3において左から2番目に位置する表示領域3Cに位置する表示電極4,4…は、それぞれ、図の下側に位置する引出配線6,6…により下側基板1左下隅に位置する端子部5,5…に接続される。同様にして、図3において左橋に位置する表示領域3Dに位置する表示電極4,4…は、それぞれ、図の上側に位置する引出配線6,6…により下側基板1左上隅に位置する端子部5,5…に接続される。
【0029】
下側基板1上の電極7は、表示領域3外側に位置する端子部5において異方性導電材からなるシール材44によって上側基板31上の電極35に接続されている。この上側基板31上の表示領域外に位置する電極35と、上側基板31の電極37とに、各基板の表示電極4,34,に対して信号を供給する駆動用回路をそれぞれ実装し、各駆動用回路と各透明電極とを電気的に接続する構成とされている。
【0030】
このように、下側基板1の四隅に設けられた端子部5,5が、異方性導電材料からなるシール材44、上側基板31の電極35を介して駆動用回路と接続される構成とすることで、図12に示した下基板221に設けられていた延出端部224が必要なくなり、駆動用回路を上側基板のみに接続(実装)することなどが可能となり、液晶表示装置の小型化を図ることができるとともに、基板への駆動用回路の実装を容易にすることができる。
【0031】
次に、反射膜2を設ける範囲について説明する。
【0032】
反射膜2は、図3,図4に示すように、表示領域3の外側位置まで設けられるが、その範囲は、電極7の配置との関係によって設定される。
つまり、反射膜2の面積S1が、下側基板1上の各電極7,7…のうち任意の一本においてこの反射膜2と平面視して重ならない部分の面積S2に対して、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下になるように設定されている。
【0033】
図4においては、この電極7における反射膜2と重ならない部分の面積S2の一例として、基板1の最外側に位置する引出配線6を有する電極7に対して、S2となる領域を示してある。つまり、この例では、図3の表示領域3Aを通る電極7において、反射膜2と重ならない部分の長さが最大であるもの、つまり、電極7の幅W1と総延長との積で規定される領域S2の面積が最大のもの、すなわち、反射膜2の面積に対する比率S2/S1が最大のものを示した。
従って、図示したS2が上記の条件に該当していれば、表示領域3Aの他の電極7,7…はすべて上記の条件を満たしていることになる。
同様に、表示領域3B,3C,3Dにおいても、すべての電極7,7…において面積S2の値が、上記の条件を満たすように、反射膜2の設ける範囲を設定する。
【0034】
ここで、下側基板1の表示領域3外側には、図3に示すように、表示領域3を通る電極7に接続されていないダミー電極が存在する領域Dが設けられている。この領域Dに存在するダミー電極は、表示領域3に延在する表示電極4,4間における静電気放電には関与していないと考えられるので、本実施形態において、上記のS2/S1の条件を満たす必要はなく、上記の条件から除外されるものである。
【0035】
本実施形態の液晶表示装置においては、下側基板1上の各電極7,7…のうち任意の一本において前記反射膜2と重ならない部分の面積S2を、前記反射膜2の面積S1に対する比率S2/S1が0.001以下になるよう設定されてなることにより、コモン基板47の製造工程において、形状転写膜12、反射膜2、オーバーコート膜11、電極7の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜43の印刷時に、コモン基板47となる下側基板1を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板1を押圧した後、下側基板1を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極7,7…間の電位差を抑制することが可能となる。
【0036】
これにより、配向膜43印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板1を引き剥がしたときに、各電極7,7…間において静電気放電が発生することを防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極7,7の破損(配線欠陥)、あるいはオーバーコート膜11の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を3パーセント以下にすることができる。
ここで、不良率とは、全製造セル数に対して静電気放電に起因する表示欠損の生じたセル数の比で表される。
【0037】
また、本実施形態の液晶表示装置によれば、製造工程そのものおよび、その際の各条件を変化することなく、反射膜2を表示領域の外側に伸長することのみ、つまり、反射膜2の下側基板1に対する形成位置を設定することのみにより、製造設備の改造等の手段を用いることなく、電極7,7…間の放電を防止し、静電放電に起因した不良率を低減して歩留まりの向上を可能とすることができる。
【0038】
なお、本実施形態においては、反射膜2の輪郭を矩形としたが、この形状に限るものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の形状が可能である。たとえば、図14に示すように、各表示領域3A,3B,3C,3Dにおいて、それぞれ、各電極7が反射膜2と重ならない部分の長さが同一になるようにする、あるいは、各電極7,7に対してS2/S1の比率のばらつきを低減するようにすることも可能である。
【0039】
[実施形態2]
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第2実施形態を、図面に基づいて説明する。
【0040】
本実施形態において、図1ないし図4に示した第1実施形態と異なる点は、反射膜2に対する電極7の配置であり、それ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
図5は、本実施形態の液晶表示装置におけるコモン基板を示す平面図である。
【0041】
本実施形態のコモン基板47においては、その下側基板1に対する反射膜2の配置が、図3,図4に示す第1実施形態と略同一とされており、図5に示すように、各電極7,7においては、引出配線6’,6’…が反射膜2とすべて重なるように設定されている。
つまり、各電極7,7…において反射膜2と重ならない部分は、端子部5,5…のみとされている。これは各引出配線6’,6’…において、例えば、それぞれ幅寸法W1を50μmに設定することにより実現される。
【0042】
そして、反射膜2の面積S1が、下側基板1上の各電極7,7…のうち任意の一本においてこの反射膜2と平面視して重ならない部分の面積S2に対して、これらの面積の比率S2/S1が0.0001以下になるように設定されている。
【0043】
これは、図4に示した第1実施形態に比べて、この電極7における反射膜2と重ならない部分の面積S2のうち、端子部5の部分のみが本実施形態におけるS2として規定されることを示している。つまり、この例では、図5の各表示領域3A,3B,3C,3Dを通る電極7,7において、反射膜2と重ならない部分の面積S2はすべて等しく設定される。すなわち、反射膜2の面積に対する比率S2/S1の値がすべて同一の0.0001に設定されている。
【0044】
本実施形態の液晶表示装置においては、前述の第1実施形態と同様の効果を奏することができるとともに、下側基板1上の各電極7,7のうち任意の一本において前記反射膜2と重ならない部分の面積S2を、前記反射膜2の面積S1に対する比率S2/S1が0.0001以下になるよう設定されてなることにより、コモン基板47の製造工程において、形状転写膜12、反射膜2、オーバーコート膜11、電極7の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜43の印刷時に、コモン基板47となる下側基板1を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板1を押圧した後、下側基板1を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極7,7…間の電位差をより一層抑制することが可能となる。
【0045】
これにより、配向膜43印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板1を引き剥がした場合に、各電極7,7…間において静電気放電が発生することをさらに防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極7,7の破損、あるいはオーバーコート膜11の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を0.5パーセント以下にすることができる。
【0046】
なお、本実施形態においては、引出配線6’,6’…の幅寸法を第1実施形態の値よりも小さくすることによって、面積比率S2/S1の値を0.0001に設定したが、これ以外にも、反射膜2の形状を変化することによって、この面積比率S2/S1の値を変化することが可能である。
【0047】
[実施形態3]
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第3実施形態を、図面に基づいて説明する。
【0048】
本実施形態において、図1ないし図4に示した第1実施形態と異なる点は、下側基板1に対する反射膜2’の配置であり、それ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
図6は、本実施形態の液晶表示装置におけるコモン基板を示す平面図である。
【0049】
本実施形態のコモン基板47においては、反射膜2’が下側基板1を略同一の面積を有するように設定されており、図6に示すように、各電極7,7が反射膜2’とすべて重なるように設定されている。
つまり、各電極7,7…において反射膜2’と重ならない部分はない、つまり、各電極7,7において反射膜2に対向しない部分が存在しないように設定されている。
【0050】
そして、反射膜2’の面積S1が、下側基板1上の各電極7,7…のうち任意の一本においてこの反射膜2と平面視して重ならない部分の面積S2に対して、これらの面積の比率S2/S1が0になるように設定されている。
【0051】
本実施形態の液晶表示装置においては、前述の第1実施形態と同様の効果を奏することができるとともに、下側基板1上の各電極7のうち任意の一本において前記反射膜2’と重ならない部分の面積S2を0とし、前記反射膜2’の面積S1に対する比率S2/S1を0になるよう設定してなることにより、コモン基板47の製造工程において、形状転写膜12、反射膜2’、オーバーコート膜11、電極7の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜43の印刷時に、コモン基板47となる下側基板1を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板1を押圧した後、下側基板1を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極7,7…間の電位差をなくすことが可能となる。
【0052】
これにより、配向膜43印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板1を引き剥がした場合に、各電極7,7…間において静電気放電が発生することを完全に防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極7,7の破損、あるいはオーバーコート膜11の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を0パーセントにすることができる。
【0053】
なお、上記の各実施形態においては、カラー型液晶表示装置およびその基体として説明したが、図7に示すように、カラーフィルタ層21のない構成とすることも可能である
【0054】
[実施形態4]
以下、本発明に係る基体、電子機器の第4実施形態を、図面に基づいて説明する。
図10は、本発明の電子機器の一例を示した図であり、図11は、図10に示す電子機器の積層構造の要部を示す斜視図である。
【0055】
本実施形態における電子機器は、コンピュータ等に使用されるパッドタイプのデータ入力装置100であり、図10、図11に示すように、電極パターンが形成され、かつ、スルーホールを有するセンサ基板102と、片面に配線パターンが施されセンサ基板102と逆側に電磁波を遮蔽するための電磁遮蔽膜20が設けられた第1基板としてのプリント配線基板(以下、PCBで示す。)120とが、絶縁層を介して接着された積層基板を用いたものである。
【0056】
前記センサ基板102は、ポリエチレンテレフタレート(PET)などの樹脂シートからなり、図11に示すように、前記センサ基板102の表面には、複数本のX電極112が平行に形成され、裏面には、複数本のY電極113が平行に形成されている。前記X電極112と前記Y電極113とは、図11に示すように、マトリックス状に配置されて交又し、この交又部分には、入力点が形成されている。
【0057】
このデータ入力装置100では、前記入力点において、X電極112とY電極113との間の静電容量が変化することにより、座標情報の入力が行なわれる。
【0058】
図11に示すように、前記センサ基板102のX電極112と平行な縁部には、前記Y電極113の端部117と前記端部117に対向するダミー電極114とが形成されている。一方、前記センサ基板102のY電極113と平行な縁部には、前記X電極112の端部116と前記端部116に対向するダミー電極113aとが形成されている。
【0059】
そして、前記Y電極113の端部117とダミー電極114とが対向している領域内で、センサ基板102を貫通するスルーホール135が形成され、同じくX電極112の端部116とダミー電極113aとが対向している領域内で、センサ基板102を貫通するスルーホール136が形成されている。
【0060】
また、図11に示すように、前記センサ基板102のX電極112と平行な縁部のスルーホール135の外側には、空気抜き通路の縦通路を構成する空気穴102aが形成されている。
【0061】
さらに、センサ基板102の表面の縁部には、図11に示すように、グランドパターン118が一体に形成されている。前記グランドパターン118の端部は、図11に示すように、積層基板の外部に露出してフレームグランド115とされる。前記フレームグランド115は、静電気を接地部へ逃がすためのものである。
【0062】
なお、分解能を高めるため、前記Y電極113のラインの幅は、X電極112のラィンの幅よりも太く形成されることが好ましい。また、前記センサ基板(樹脂シート)102の厚さは、250〜800μm程度とすることが好ましい。
【0063】
前記センサ基板102の上面には、図11に示すように、例えば、エポキシ樹脂などからなるレジスト膜106が積層されており、下側にも同様のレジスト膜が積層されている。
【0064】
前記センサ基板102の表面側(図示上側)に設けられ、前記センサ基板102の表面側の絶縁層となるレジスト膜106のX電極112と平行な縁部には、図11に示すように、前記空気抜き通路の縦通路の一部を構成する空気穴124aと、前記縦通路を囲むように外側に向かって張り出して設けられた張り出し部124とが形成されている。また、前記レジスト膜106には、前記X電極112の端部116を露出させ、前記スルーホール136に対向する位置と、前記Y電極113の端部117に対向するダミー電極114を露出させ、前記スルーホール135に対向する位置とに切欠き穴125が設けられている。
【0065】
一方、前記センサ基板102の裏面側(図示下側)に設けられた絶縁層となるレジスト膜には、センサ基板102のダミー電極113aを露出させ、前記スルーホール136と対向する位置に形成された切り欠き穴と、Y電極113の端部117を露出させ、前記スルーホール135と対向する位置に形成された円形穴と、この円形穴からセンサ基板102に設けられた空気穴102aの下側の位置まで連続して形成された空気抜け通路の横通路とが備えられている。
【0066】
このレジスト膜の下面にはグランド層が形成されている。このグランド層は、PETなどの絶縁シートにCu箔またはAg系ぺーストを接着または印刷することにより形成されている。グランド層には、前記縦通路の一部を構成する空気穴と、前記レジスト膜に設けられた円形穴および切欠き穴に対向する位置に形成された切欠き穴とが備えられている。前記切欠き穴は、円形穴または前記切欠き穴と連続して形成されている。さらに、グランド層の下面には、接着層が形成されている。なお、前記接着層の材質は、ホットメルト接着剤などが好ましい。また、この接着層は、PCB120の表面またはセンサ基板102側の前記グランド層の表面に印刷法などにより形成される。
【0067】
図11に示すように、第1基板となる前記PCB120は、裏面(図示下側)にのみ配線パターンが形成された片面基板である。図11に示すように、前記PCB120の裏面において、前記センサ基板102のダミー電極113aおよびY電極113の端部117に対向する部分には、ランド182が形成されている。そして、前記ランド182の位置にスルーホール123が形成されている。すなわち、図11に示すように、前記センサ基板102のパターン(i),(ii),(iii)…と、前記PCB120側のランド(i),(ii),(iii)…とが、スルーホール135および123を介してそれぞれ対向し、さらに、前記センサ基板102のパターン▲1▼,▲2▼…と、前記PCB20側のランド▲1▼,▲2▼…とが、スルーホール136および123を介してそれぞれ対向している。
【0068】
さらに、前記PCB120の裏面には、前記ランド182から延びる配線パターンが形成され、さらに電磁遮蔽膜20がその全面に設けられている。前記配線パターンには電気的に接続するようにICなどの電子部品が実装されている。
【0069】
電磁遮蔽膜20は例えばAl等の金属とされ、データ入力装置100裏面側に位置する電子部品等から放射される電磁を遮蔽して、このデータ入力装置100の動作安定性を維持するためのものとされ、PCB120の全面に形成される。図においては、説明のためセンサ基板102、プリント配線基板120電磁遮蔽膜20を離間して描いてある。
【0070】
図11に示すように、前記センサ基板12と前記PCB120とが積層され、接着層を介して接着された積層体に対し、前記センサ基板102のスルーホール135および136から導電材が充填される。
この導電材は、導電性樹脂、例えば、エポキシ及びフェノールまたはポリエステル系などの熱硬化性樹脂にAgなどの導電性フィラーが混入されたものを使用することができる。前記導電材は、センサ基板102の表面の図11に示すスルーホール135および136が形成されている位置にスキージで充填される。
そして、前記導電材により、センサ基板102のX電極112およびY電極113の端部117と、PCB120の裏面のランド182とが電気的に接続され、積層基板とされる。
【0071】
本実施形態のデータ入力装置100は、前記積層基板のレジスト膜106の上面に、データを入力する際に指に直接接触するフェイスシートが、積層されてなるものである。
このように構成されたデータ入力装置100では、操作者がフェイスシート上を指で軽く擦るようにスライドさせることにより、前記センサ基板102に形成されたX電極112およびY電極113において、X電極112からY電極113へ向かう電気力線の一部が操作者の指に吸収される。それにより、Y電極113に吸収される電気力線が減って、静電容量が変化するという現象が起こる。そして、前記静電容量の変化に応じて変化するセンサ基板102の電流出力値に基づいて、指を押し当てた座標の位置が検出される。
【0072】
このようなデータ入力装置100においては、Y電極113が、電磁遮蔽膜20と重なっていない部分がないため、図6に示す第3実施形態と同様、S1/S2の値は0となる。ここで、電磁遮蔽膜20は反射膜2’に対応しており、Y電極113は電極7に対応している。
【0073】
本実施形態の電子機器としてのデータ入力装置100においては、前述の第3実施形態と同様の効果を奏することができる。つまり、Y電極113のうち任意の一本において電磁遮蔽膜20と重ならない部分の面積S2を、電磁遮蔽膜20の面積S1に対する比率S2/S1を0になるよう設定することにより、製造工程などで発生する静電気に起因して生じるY電極113、113間の電位差を抑制し、放電発生を防止して、静電気放電に起因するY電極113,113の破損、等による配線欠陥の発生する不良率を0パーセントにすることが可能となる。
【0074】
[実施例]
以下、本発明の実施例として、次のように面積の比率S2/S1を変化させて、その際の不良率を測定した。
【0075】
(実施例1)
先ず、実施例1として、図3に示す第1実施形態と同等の構造を製造した。この実施例1において、面積の比率S2/S1は0.001以下に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【0076】
S1に相当する反射膜2の寸法:4.3cm×3.6cm
S2の一部である引出配線6のうち最長のもの、つまり、表示領域3Cにおいて最外側に位置する引出配線6のうち、図3に示すように斜めになった引出配線6aにおける幅寸法155μm×長さ0.36cm
同図3において左右方向に延在する引出配線6bにおける幅寸法70μ×長さ1.1cm
端子部5の幅寸法50μm×0.3cm
【0077】
(実施例2)
次に、実施例2として、図5に示す第2実施形態と同等の構造を製造した。この実施例2において、面積の比率S2/S1は0.0001に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【0078】
S1に相当する反射膜2の寸法:4.3cm×3.6cm
S2の一部である電極7のうち端子部5の幅寸法50μm×0.3cm
【0079】
(実施例3)
次に、実施例3として、図6に示す第3実施形態と同等の構造を製造した。この実施例3においては、反射膜2は基板1のすべての部分を覆うように設けられる。
【0080】
(比較例)
そして、比較例として、図3に示す実施例1において、反射膜2の構造が異なる構造を製造した。この比較例においては、図3に示した構造で反射膜2が表示領域3のみに設けられるとともに、引出配線6の幅寸法が大きく設定されており、面積の比率S2/S1は0.0013に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【0081】
S1に相当する反射膜2”の寸法:3.8cm×3.0cm
S2の一部である引出配線6のうち最長のもの、つまり、表示領域3Cにおいて最外側に位置する引出配線6のうち、図3に示すものと同様に斜めになった引出配線6aにおける幅寸法155μm×長さ0.36cm
同図3に示すものと同様に左右方向に延在する引出配線6bにおける幅寸法70μ×長さ1.1cm
端子部5の幅寸法50μm×0.3cm
【0082】
上記のような実施例1〜3および比較例の構造のセルを4000個づつ製造し、このときの不良率を測定した。
不良率は、(静電気放電による表示欠陥が1つでも発生したセル数)/(製造全セル数)をパーセントで表した。
その結果を図9に示す。
【0083】
このグラフによれば、S1/S2の値が0.0013程度の比較例であると不良率が30%程度となっているが、S1/S2の値を0.001に設定した実施例1であると、不良率が3%まで低減し、S1/S2の値を0.0001に設定した実施例2であると、不良率が0.5%まで低減し、S1/S2の値を0に設定した実施例3であると、不良率が0%となることがわかる。
【0084】
これにより、本発明において、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することを可能とし、電極間において放電の発生を防止可能なことがわかる。
【0085】
【発明の効果】
本発明の基体、液晶表示装置および電子機器によれば、基板上の各電極(配線)のうち任意の一本において反射膜(導電被覆膜)と重ならない部分の面積S2を、反射膜の面積S1に対する比率S2/S1を0.001以下または0.0001または0になるよう設定することにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することが可能となるため、電極間において放電が発生することを防止し、静電気放電による表示欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の増大を防止して、歩留まりを向上することが可能となるという効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る液晶表示装置の第1実施形態を示す断面図である。
【図2】 図1の液晶表示装置におけるコモン基板を示す断面図である。
【図3】 図2のコモン基板を示す平面図である。
【図4】 図3における拡大平面図である。
【図5】 本発明における液晶表示装置の第2実施形態におけるコモン基板を示す平面図である。
【図6】 本発明における液晶表示装置の第3実施形態におけるコモン基板を示す平面図である。
【図7】 本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態におけるコモン基板を示す断面図である。
【図8】 配向膜印刷工程における各ロットの停電電位のばらつきを示すグラフである。
【図9】 本発明の実施例における面積比(S1/S2)と不良率(%)とを示すグラフである。
【図10】 本発明に係る電子機器の第4実施形態を示す平面図である。
【図11】 図10の電子機器を示す分解斜視図である。
【図12】 従来の液晶表示装置を示す平面図である。
【図13】 本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
1…下側基板(基板)
2,2’…反射膜(導電被覆膜)
3,3A,3B,3C,3D…表示領域
4,34…表示電極
5…端子部
6、6’…引出配線
7,37…電極(配線)
11…オーバーコート膜
12…形状転写膜
21…カラーフィルタ層
31…上側基板
35…電極
41…オーバーコート膜
42,43…配向膜
44…シール材
45…液晶層
46…セグメント基板
47…コモン基板(基体)
20…電磁遮蔽膜(導電被覆層)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate, a liquid crystal display device and an electronic apparatus, and more particularly to a technique suitable for use in a substrate having a conductive film such as a reflective film or an electromagnetic shielding film and an electrode.
[0002]
[Prior art]
FIG. 12 shows an example of a simple matrix drive type liquid crystal display device. The liquid
In the configuration shown in FIG. 12, the
[0003]
Between the
[0004]
A large number of strip-shaped display electrodes are formed in parallel on the opposing surfaces of the
The
In the extended
Further, an overcoat layer and an alignment film are stacked on the opposite surface side of the
[0005]
A metal
[0006]
When manufacturing such a
Furthermore, it is necessary to peel off the
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the process of peeling the
[0008]
The inventors of the present application have searched for the cause of this discharge, and in the alignment film printing process, the
Further, it has been found that the charging potential on the
[0009]
The inventor of the present application installs an EMI (electromagnetic induced) locator in order to detect the above-mentioned discharge, and measures the electromagnetic wave generated by the discharge to identify the discharge generation process and consider the charging model. And tried to identify the cause. Then, since the
In other words, the cause of electrostatic breakdown could be determined.
[0010]
Furthermore, as a result of earnest pursuit, the inventors of the present application have determined that the potential difference between the adjacent electrodes located at the site damaged by electrostatic discharge generated due to static electricity generated on the back surface of the substrate is the area of the reflective film. It has been found that the ratio varies depending on the ratio of the area of the electrode that does not overlap the reflective film.
[0011]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and intends to achieve the following object.
(1) Prevent the occurrence of electrostatic discharge.
(2) To prevent the occurrence of defects in the electrode due to electrostatic discharge.
(3) Prevent display defects caused by electrostatic discharge.
(4) To provide a substrate that prevents the above-mentioned defect from occurring.
(5) To provide a liquid crystal display device free from the above display defect.
(6) To provide electronic equipment that prevents the above-mentioned defects.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The substrate of the present invention includes a conductive coating film made of a conductive material on a substrate made of an insulating material, and a plurality of wirings formed in a film shape with respect to the coating film via the insulating film. ,
In the area S1 of the conductive coating film and the area S2 of the portion of the wiring that does not overlap the conductive coating film, the ratio S2 / S1 of these areas is set to 0.001 or less. Solved the problem.
In the liquid crystal display device of the present invention, the first substrate of the pair of substrates that are disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween and that has at least a predetermined pattern of electrodes on the surface on the liquid crystal layer side includes at least a display region. A conductive reflective film covering the
In the first substrate, the ratio S2 / S1 of these areas is set to 0.001 or less in the area S1 of the reflective film and the area S2 of the portion of the front electrode that does not overlap the reflective film. The above problem was solved.
In the electronic device of the present invention, an electromagnetic shielding film (conductive coating film) made of a conductive material on a substrate made of an insulating material, and a plurality of films formed on the electromagnetic shielding film through the insulating film. Wiring of,
In the area S1 of the electromagnetic shielding film and the area S2 of the portion of the wiring that does not overlap with the electromagnetic shielding film, the ratio S2 / S1 of these areas is set to 0.001 or less. Settled.
In the present invention, the ratio S2 / S1 is preferably set to 0.0001 or less.
In the present invention, it is more preferable that all the wirings (electrodes) overlap with the conductive coating film (electromagnetic shielding film or reflection film).
[0013]
In the substrate of the present invention, the area S2 of the portion that does not overlap the conductive coating film in any one of the wirings on the substrate, the ratio S2 / S1 to the area S1 of the conductive coating film is 0.001. By setting it to be as follows, it becomes possible to suppress the potential difference between the wirings caused by static electricity generated at the time of manufacturing, etc., thus preventing the occurrence of electrostatic discharge between the wirings. The yield rate can be improved by lowering the defect rate, which is the ratio of the number of products in which wiring defects due to discharge occur to the total number of products.
Specifically, when the ratio S2 / S1 is set to 0.001 or less, the defect rate represented by (number of cells in which even one wiring defect due to discharge has occurred) / (total number of manufactured cells) is 3%. It is possible to:
Here, the wiring defect is not limited to a defective wiring, but means a state in which the structure around the wiring is affected by electrostatic discharge and the desired performance is not exhibited.
[0014]
Furthermore, since the ratio S2 / S1 is set to 0.0001 or less, the defect rate can be 0.5%, which is even more preferable.
[0015]
In addition, when all the wirings (electrodes) overlap with the conductive coating film (electromagnetic shielding film or reflective film), that is, by setting S2 = 0, the defect rate due to display defects caused by electrostatic discharge is set to 0%. It is more preferable because it is possible.
[0016]
In the liquid crystal display device of the present invention, the area S2 of the portion that does not overlap the reflective film in any one of the electrodes on the substrate is set to a ratio S2 / S1 with respect to the area S1 of the reflective film of 0.001 or less. Since it is possible to suppress the potential difference between the electrodes caused by static electricity generated during manufacturing, etc., it is possible to prevent the occurrence of electrostatic discharge between the electrodes and discharge It is possible to prevent an increase in the defective rate, which is a ratio of the number of products in which display defects are caused to the total number of products, and improve the yield.
Specifically, when the ratio S2 / S1 is set to 0.001 or less, the defect rate indicated by (number of cells in which even one display defect due to discharge has occurred) / (total number of manufactured cells) is 30%. It is possible to:
[0017]
In the electronic apparatus according to the present invention, the area S2 of the portion that does not overlap the electromagnetic shielding film in any one of the wirings on the substrate has a ratio S2 / S1 to the area S1 of the electromagnetic shielding film of 0.001 or less. Since it becomes possible to suppress the potential difference between the wirings caused by static electricity generated during manufacturing, etc., it is possible to prevent electrostatic discharge from occurring between the wirings. It is possible to reduce the defect rate, which is a ratio of the number of products in which wiring defects due to discharge occur to the total number of products, and to improve the yield.
[0018]
According to the above-mentioned substrate, liquid crystal display device, and electronic device, the area S1 of the conductive coating film (reflection film, electromagnetic shielding film) and the wiring (electrode) without changing the manufacturing process itself and each condition at that time Among these, by setting the area S2 of the portion that does not overlap with the conductive coating film, it is possible to prevent discharge between wires (electrodes) without using means such as remodeling of manufacturing equipment, and to cause defects caused by discharge The rate can be reduced and the yield can be improved. Here, a portion of the wiring (electrode) that does not overlap with the conductive coating film means a portion that does not overlap with the conductive coating film in a plan view and does not overlap with the conductive coating film. It means that.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
[Embodiment 1]
Hereinafter, a substrate and a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 is a cross-sectional view showing a liquid crystal display device according to the present embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view showing a common substrate in the liquid crystal display device of FIG. 1, FIG. 3 is a plan view showing the common substrate, and FIG. FIG.
[0020]
The liquid crystal display device of this embodiment is a reflection type simple matrix type liquid crystal display device. In the figure,
In this liquid crystal display device, basically, a
[0021]
As shown in FIG. 1, on the surface of the lower substrate (first substrate) 1 facing the
Similarly, a plurality of
[0022]
A portion of the pair of glass substrates that are spaced apart from each other, that is, the
Further, in order to make the cell gap of the liquid crystal cell uniform in the
[0023]
The
The
[0024]
As shown in FIG. 1, the
[0025]
The
[0026]
A plurality of electrodes (wirings) 7 and 37 made of ITO (indium tin oxide) or the like are formed on the surface of the
[0027]
The
The lead wirings 6, 6... Are set to have a width dimension W1 of 70 μm and a spacing dimension P1 of 20 μm, respectively.
[0028]
As shown in FIG. 3, the plurality of
That is, the
Similarly, the
[0029]
The
[0030]
In this way, the
[0031]
Next, the range in which the
[0032]
As shown in FIGS. 3 and 4, the
That is, the area S1 of the
[0033]
In FIG. 4, as an example of the area S <b> 2 of the
Therefore, if S2 shown in the drawing meets the above condition, the
Similarly, in the
[0034]
Here, outside the
[0035]
In the liquid crystal display device of the present embodiment, the area S2 of the portion that does not overlap the
[0036]
This makes it possible to prevent electrostatic discharge from occurring between the
Here, the defect rate is represented by the ratio of the number of cells in which display defects due to electrostatic discharge occur to the total number of manufactured cells.
[0037]
In addition, according to the liquid crystal display device of the present embodiment, the
[0038]
In the present embodiment, the outline of the
[0039]
[Embodiment 2]
Hereinafter, a second embodiment of a substrate and a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[0040]
In the present embodiment, the difference from the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 is the arrangement of the
FIG. 5 is a plan view showing a common substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment.
[0041]
In the
In other words, the portions of the
[0042]
The area S1 of the
[0043]
Compared to the first embodiment shown in FIG. 4, only the portion of the
[0044]
In the liquid crystal display device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained, and any one of the
[0045]
Thereby, when the
[0046]
In the present embodiment, the value of the area ratio S2 / S1 is set to 0.0001 by making the width dimension of the
[0047]
[Embodiment 3]
Hereinafter, a third embodiment of a substrate and a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[0048]
In the present embodiment, the difference from the first embodiment shown in FIGS. 1 to 4 is the arrangement of the
FIG. 6 is a plan view showing a common substrate in the liquid crystal display device of the present embodiment.
[0049]
In the
That is, the
[0050]
The area S1 of the
[0051]
In the liquid crystal display device of this embodiment, the same effects as those of the first embodiment described above can be obtained, and any one of the
[0052]
Thereby, when the
[0053]
In each of the above embodiments, the color liquid crystal display device and the substrate thereof have been described. However, as shown in FIG. 7, a configuration without the
[0054]
[Embodiment 4]
Hereinafter, a fourth embodiment of a substrate and an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of an electronic device according to the present invention, and FIG. 11 is a perspective view illustrating a main part of the stacked structure of the electronic device illustrated in FIG.
[0055]
The electronic device in the present embodiment is a pad type
[0056]
The
[0057]
In the
[0058]
As shown in FIG. 11, an
[0059]
A through
[0060]
Further, as shown in FIG. 11, an
[0061]
Furthermore, as shown in FIG. 11, a
[0062]
In order to increase the resolution, it is preferable that the line width of the
[0063]
As shown in FIG. 11, a resist
[0064]
As shown in FIG. 11, the edge portion parallel to the
[0065]
On the other hand, the dummy electrode 113a of the
[0066]
A ground layer is formed on the lower surface of the resist film. This ground layer is formed by bonding or printing a Cu foil or an Ag-based paste on an insulating sheet such as PET. The ground layer is provided with an air hole that constitutes a part of the vertical passage, and a notch hole formed at a position facing the circular hole and the notch hole provided in the resist film. The notch hole is formed continuously with a circular hole or the notch hole. Further, an adhesive layer is formed on the lower surface of the ground layer. The material of the adhesive layer is preferably a hot melt adhesive. The adhesive layer is formed on the surface of the
[0067]
As shown in FIG. 11, the
[0068]
Further, a wiring pattern extending from the
[0069]
The
[0070]
As shown in FIG. 11, the
As the conductive material, a conductive resin, for example, a material in which a conductive filler such as Ag is mixed in a thermosetting resin such as epoxy and phenol or polyester can be used. The conductive material is filled with a squeegee at positions where the through
Then, by the conductive material, the
[0071]
In the
In the
[0072]
In such a
[0073]
In the
[0074]
[Example]
Hereinafter, as examples of the present invention, the ratio of area S2 / S1 was changed as follows, and the defect rate at that time was measured.
[0075]
Example 1
First, as Example 1, a structure equivalent to that of the first embodiment shown in FIG. In the first embodiment, the area ratio S2 / S1 is set to 0.001 or less.
Specific dimensions of each part are as follows.
[0076]
Dimensions of the
Among the
In FIG. 3, the
[0077]
(Example 2)
Next, as Example 2, a structure equivalent to that of the second embodiment shown in FIG. In the second embodiment, the area ratio S2 / S1 is set to 0.0001.
Specific dimensions of each part are as follows.
[0078]
Dimensions of the
Of the
[0079]
(Example 3)
Next, as Example 3, a structure equivalent to that of the third embodiment shown in FIG. In Example 3, the
[0080]
(Comparative example)
And as a comparative example, the structure in which the structure of the
Specific dimensions of each part are as follows.
[0081]
Dimensions of the
The longest of the
Similar to the one shown in FIG. 3, the
[0082]
Four thousand cells having the structures of Examples 1 to 3 and Comparative Example as described above were manufactured, and the defect rate at this time was measured.
The defect rate was expressed as a percentage of (number of cells in which even one display defect due to electrostatic discharge occurred) / (total number of manufactured cells).
The result is shown in FIG.
[0083]
According to this graph, in the comparative example in which the value of S1 / S2 is about 0.0013, the defect rate is about 30%, but in Example 1 in which the value of S1 / S2 is set to 0.001. In the second embodiment, the defect rate is reduced to 3% and the value of S1 / S2 is set to 0.0001. In Example 2, the defect rate is reduced to 0.5% and the value of S1 / S2 is set to 0. It can be seen that the defect rate is 0% in the set example 3.
[0084]
Thereby, in this invention, it turns out that it becomes possible to suppress the electric potential difference between each electrode resulting from the static electricity generate | occur | produced at the time of manufacture etc., and generation | occurrence | production of discharge between electrodes can be prevented.
[0085]
【The invention's effect】
According to the substrate, the liquid crystal display device, and the electronic apparatus of the present invention, the area S2 of the portion that does not overlap the reflective film (conductive coating film) in any one of the electrodes (wirings) on the substrate is reduced. By setting the ratio S2 / S1 with respect to the area S1 to be 0.001 or less, 0.0001, or 0, it is possible to suppress a potential difference between the electrodes caused by static electricity generated during manufacturing or the like. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of discharge between the electrodes, to prevent an increase in the defect rate, which is the ratio of the number of products having display defects due to electrostatic discharge to the total number of products, and to improve the yield. The effect that can be produced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a common substrate in the liquid crystal display device of FIG.
FIG. 3 is a plan view showing a common substrate of FIG. 2;
4 is an enlarged plan view of FIG. 3. FIG.
FIG. 5 is a plan view showing a common substrate in a second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.
FIG. 6 is a plan view showing a common substrate in a third embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a common substrate in another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
FIG. 8 is a graph showing a variation in power failure potential of each lot in an alignment film printing process.
FIG. 9 is a graph showing an area ratio (S1 / S2) and a defect rate (%) in an example of the present invention.
FIG. 10 is a plan view showing a fourth embodiment of the electronic apparatus according to the invention.
11 is an exploded perspective view showing the electronic device of FIG.
FIG. 12 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device.
FIG. 13 is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1 ... Lower substrate (substrate)
2, 2 '... Reflective film (conductive coating film)
3, 3A, 3B, 3C, 3D ... display area
4, 34 ... Display electrodes
5 ... Terminal part
6, 6 '... Lead-out wiring
7, 37 ... Electrode (wiring)
11 ... Overcoat film
12. Shape transfer film
21 ... Color filter layer
31 ... Upper substrate
35 ... Electrode
41. Overcoat film
42, 43 ... Alignment film
44 ... Sealing material
45 ... Liquid crystal layer
46 ... Segment substrate
47 ... Common substrate (base)
20 ... Electromagnetic shielding film (conductive coating layer)
Claims (9)
前記第1基板において、前記反射膜の面積S1と、前電極のうち前記反射膜と重ならない部分の面積S2とにおいて、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下に設定されてなることを特徴とする液晶表示装置。Among the pair of substrates that are disposed to face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween and that have at least a predetermined pattern of electrodes on the surface on the liquid crystal layer side, the first substrate is provided with a conductive reflective film that covers at least the display region. And
In the first substrate, the ratio S2 / S1 of these areas is set to 0.001 or less in the area S1 of the reflective film and the area S2 of the portion of the front electrode that does not overlap the reflective film. A liquid crystal display device.
前記電磁遮蔽膜の面積S1と、前記配線のうち前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積S2とにおいて、これらの面積の比率S2/S1が0.001以下に設定されてなることを特徴とする電子機器。On a substrate made of an insulating material, an electromagnetic shielding film made of a conductive material, and a plurality of wirings formed in a film shape with respect to the electromagnetic shielding film via an insulating film,
In the area S1 of the electromagnetic shielding film and the area S2 of the portion of the wiring that does not overlap the electromagnetic shielding film, a ratio S2 / S1 of these areas is set to 0.001 or less. Electronics.
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