JP3866991B2 - 湿度センサ素子およびその製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、雰囲気中の水分を検知、定量するための湿度センサ素子およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電気抵抗値などの電気特性の変化により湿度を検出する湿度センサ用材料（感湿材料）として、塩化リチウム等の電解質を用いたもの、金属酸化物を用いたもの、有機高分子化合物を用いたものが知られている。
【０００３】
しかし、塩化リチウム等の電解質系のものは、計測湿度範囲が狭く、また結露や水漏れで特性が変化し耐水性が悪い。また、金属酸化物を用いたものは耐水性は強いが感度が低く、またそのままでは長期安定性が悪いため加熱クリーニング回路が必要で、そのため運転コストが高く、かつセンサ構造が複雑という欠点を有している。
【０００４】
他方、湿度センサ用材料の中でも、有機高分子化合物、特に第四級アンモニウム塩を持つ高分子電解質は、民生用や産業用に広く利用され、高く評価されている材料である。
【０００５】
例えば、特公昭６１−５４１７６号公報には、疎水性モノマーとイオン性あるいは非イオン性の親水性モノマーとの共重合体であり、かつ表面層が親水性があるラテックス粒子の集合体からなる感湿材料が開示されており、そのなかにカチオン性化合物として第一級ないし第四級の各アンモニウム塩を有するものが挙げられている。
【０００６】
また、特公昭６２−７９７６号公報には、２−ヒドロキシ−３−メタクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドを含む高分子を、重合度１０００〜１００００の範囲で重合させて得た重合体を感湿材料に用いることが開示されている。
【０００７】
さらに、特公平２−２４４６５号公報には、
−（Ｎ⁺（Ｒ₁）（Ｒ₂）Ｘ^-−Ａ−Ｎ⁺（Ｒ₃）（Ｒ₄）Ｘ^-−Ｂ）_n−
［ここで、Ｒ₁〜Ｒ₄はアルキル基、Ｘ^-はハロゲンイオン、Ａ、Ｂは−（ＣＨ₂）_m−（ｍ≧２）］の構造式を有するアイオネンポリマーの薄膜、あるいは基板に対する接着性や耐水性を向上させる目的で、このポリマーとポリビニルピロリドンのような他のポリマーとの混合物の薄膜を感湿高分子の薄膜として用いることが開示されている。
【０００８】
しかし、上記に例示したようなこれまでの高分子電解質を湿度センサ用材料に用いた湿度センサの場合、高い湿度領域、特に結露雰囲気中では高分子電解質が一部溶出するなど耐水性が悪く、また湿度を増加させた場合と減少させた場合とで同じ湿度でも異なる出力値を示すヒステリシス現象もみられた。また１０％ＲＨ以下の低湿度領域では高い抵抗値をもち実用上湿度測定が不可能であった。
【０００９】
特開平７−３１８５２６号公報には耐水性を向上させるために、上記のアイオネンポリマーの両末端に不飽和結合を導入し、紫外線架橋を行っている例が開示されている。この場合には、きわめて小さな膜厚で良好な特性および耐水性が得られている。しかしながら、膜厚が小さいとポリマーの絶対量が少なく、水に溶けてイオンを形成するようなガス（例えばＣｌ₂、ＮＯ_x、ＳＯ_x）の影響を受けやすくなってしまう。特に、民生用では深刻である。
【００１０】
膜厚が一定以上であれば、表面層にガス由来のイオンを生成しても導電性にはそれほどの影響を受けないが、上記の架橋方法ではポリマー層の給水による膨潤がきわめて大きく、クラックの発生、基板からの剥離等、大きな問題を生じるために、１μm 以下の小さな膜厚で使用せざるを得ないのが実状である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の主たる目的は、耐水性に優れ、結露する雰囲気中でも長期間安定に動作し、その上、耐溶剤性が良好で、窒素酸化物や硫黄酸化物、あるいは塩素などのガスの影響を受けにくく、かつ広い湿度領域で、特に低湿度領域においても、安定した優れた出力特性をもつ感湿薄膜を有する湿度センサ素子および製造方法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（１４）の本発明により達成される。
（１） 絶縁基板上にギャップを介して対向するように一対の電極を有し、このギャップ上に感湿薄膜を有する湿度センサ素子において、前記感湿薄膜が、式（１）で示されるモノマーの１種以上と式（２）で示されるモノマーの１種以上との共重合体を含有する湿度センサ素子。
【００１３】
【化５】

【００１４】
［式（１）において、ＡおよびＢはそれぞれ二価基を表わす。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅およびＹ₆は、それぞれ一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよく、これらのうち少なくとも一つは、エチレン性不飽和反応基を末端に有する基である。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅、Ａおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上、またはＹ₄，Ｙ₅、Ｙ₆，Ｂおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうちの任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ_l ^-およびＸ₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。ｎは、２〜５０００である。］
【００１５】
【化６】

【００１６】
［式（２）において、Ａ₁₁は二価基を表わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれアルキル基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｙ_l1およびＹ₁₂は、それぞれエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。］
（２） 式（１）中のＸ_l ^-およびＸ₂ ^-で表わされる陰イオン、ならびに式（２）中のＸ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-で表わされる陰イオンが、それぞれハロゲン化物イオンである上記（１）の湿度センサ素子。
（３） ハロゲン化物イオンとして塩化物イオンまたは臭化物イオンを含む上記（２）の湿度センサ素子。
（４） 式（１）中のＡおよびＢで表わされる二価基、ならびに式（２）中のＡ₁₁で表わされる二価基が、それぞれアルキレン基、アルケニレン基もしくはアリーレン基またはこれらの組合せである上記（１）〜（３）のいずれかの湿度センサ素子。
（５） 式（２）中のＹ₁₁およびＹ₁₂で表わされる一価基が、それぞれアクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンエステル基またはアクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンアミド基である上記（１）〜（４）のいずれかの湿度センサ素子。
（６） 式（２）で示されるモノマーが、アクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルエステルまたはアクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルアミドとジハロゲン化合物とを反応させて得られる２官能性モノマーである上記（１）〜（５）のいずれかの湿度センサ素子。
（７） 式（２）で示されるモノマーが、ジアルキルアミノ基を有するアクリル系不飽和化合物と式（２）中のＡ₁₁で表わされる二価基のジハロゲン化合物との反応で得られたものである上記（１）〜（６）のいずれかの湿度センサ素子。
（８） 前記共重合体が、さらに、アルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーとの共重合体である上記（１）〜（７）のいずれかの湿度センサ素子。
（９） 前記絶縁基板が、最表層の汚染物および／または酸化物を物理的手段により除去した絶縁基板である上記（１）〜（８）のいずれかの湿度センサ素子。
（１０） 絶縁基板上にギャップを介して対向するように一対の電極を有し、このギャップ上に感湿薄膜を有する湿度センサ素子の製造方法において、式（１）で示されるモノマーおよび式（２）で示されるモノマーを含有する塗布液を、絶縁基板上に塗布し、次いで共重合させて感湿薄膜を形成する湿度センサ素子の製造方法。
【００１７】
【化７】

【００１８】
［式（１）において、ＡおよびＢはそれぞれ二価基を表わす。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅およびＹ₆は、それぞれ一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよく、これらのうち少なくとも一つは、エチレン性不飽和反応基を末端に有する基である。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅、Ａおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上、またはＹ₄，Ｙ₅、Ｙ₆，Ｂおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうちの任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ_l ^-およびＸ₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。ｎは、２〜５０００である。］
【００１９】
【化８】

【００２０】
［式（２）において、Ａ₁₁は二価基を表わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれアルキル基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｙ_l1およびＹ₁₂は、それぞれエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。］
（１１） あらかじめアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーで絶縁基板を処理して、アクリル系官能基を絶縁基板に結合し、次いで前記塗布液を塗布するか、またはあらかじめアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーを前記塗布液に含有させるかして感湿薄膜を形成する上記（１０）の湿度センサ素子の製造方法。
（１２） 絶縁基板の最表層の汚染物および／または酸化物を物理的手段により除去し、次いで前記塗布液を塗布する上記（１０）の湿度センサ素子の製造方法。
（１３） 物理的手段が、プラズマ表面処理である上記（１２）の湿度センサ素子の製造方法。
（１４） 紫外線照射により共重合する上記（１０）〜（１３）のいずれかの湿度センサ素子の製造方法。
【００２１】
【作用】
本発明では、絶縁基板上に設けた一対の電極を被覆するように導電性高分子の感湿薄膜を形成する。
【００２２】
この感湿薄膜は、式（１）で示される架橋性モノマー（以下、式（１）のモノマーと略す。）と式（２）で示される架橋性モノマー（以下、式（２）のモノマーと略す。）を、それぞれ、少なくとも１種、合わせて２種以上含有させ、これを、紫外線照射または加熱などの適当な手段により共重合して得られたものであり、式（１）、式（２）のモノマーに示されるように、これらにより得られる共重合体中に第四級アンモニウム塩（環化したものも含む。）を有するアイオネンポリマー構造を有することが特徴である。
【００２３】
上記架橋性共重合体は、モノマーが、好ましくはアクリル系不飽和反応性基を２個有する２官能性であるために、３次元的に反応して架橋構造を形成して、水に不溶性とすることができる。
【００２４】
このようなアイオネンポリマー構造の架橋性共重合体を用いた感湿薄膜では、共重合体分子内に含まれる第四級アンモニウム塩部分が導電性を発現する部分となり、第四級アンモニウム塩の対イオンが雰囲気中の水分により解離し、イオン伝導性を示す。そして、雰囲気中の水分の多寡により、この解離の程度が変化する現象を利用して湿度を検出するものである。本発明におけるアイオネンポリマー構造は架橋性共重合体中にあり、いわゆる側鎖型とは異なって自由度の少ない主鎖型に近い。このために湿度応答特性はヒステリシスを生じない。
【００２５】
これら感湿膜形成が、電極上でのモノマーの共重合によるものは、重合が乾燥状態で行われるために、内部の架橋点分布は必ずしも均一ではない。これは、例えば紫外線照射などによるとき、膜表面と内部で光量子密度の差が固体の場合大きくなるためで、外側の方が架橋密度が高くなる傾向にある。そして、感湿膜が厚いほど、吸水して膜が膨潤した時にクラックが入りやすくなるため、架橋密度を均一にするか、架橋点を増やす必要がある。
【００２６】
そこで、本発明においては、重合させて感湿材料としたとき、優れた特性を持つアイオネンポリマー構造をとりうる式（２）のモノマーを、架橋剤として、式（１）のモノマーに混在させて、低インピーダンスを維持したまま架橋点を増やすことを特徴としている。式（１）のモノマーも式（２）のモノマーも、分子量は異なるが、内部にアイオネンポリマー構造を持ち得る同種のモノマーであることから、イオン密度を減らすことなく架橋点を増やすことが可能となる。
【００２７】
さらに、素子設計の面では、耐水性および耐ガス性、ヒステリシスなどの湿度センサの基本的特性のうち、どこに重点を置くかを、式（１）のモノマーの分子量とモノマーの混合比を変えることにより自在に設計することが可能となる。イオン密度を高めることは耐ガス性を向上させ、架橋密度を高めることは耐水性を向上させる。また、式（１）のモノマーの分子量が大きいほど柔軟性が高まるため、膨潤後クラックを押さえることができる。ただし、この場合、耐水性を得るためには式（２）のモノマーの含有量を増やして架橋度を上げる必要がある。一方、極端な架橋はヒステリシスが生じる可能性が高まるため、適度な調整が必要である。
【００２８】
また、架橋性共重合体の導電性を決定する構造上の要因としては、式（１）、式（２）を用いて説明すると、式（１）中のＡ、Ｂ、式（２）中のＡ₁₁の主鎖の炭素数（すなわち二価の連結基の長さ）や、式（１）中のＸ₁ ^-、Ｘ₂ ^-、式（２）中のＸ₁₁ ^-、Ｘ₁₂ ^-の陰イオンの種類などである。したがって、これらを適当に選択したモノマーを組み合わせることによってもセンサ特性を所望のものとした素子設計が可能である。
【００２９】
これに対し、架橋点を増やすために一般に添加される、例えば、ジビニルベンゼン等のような架橋剤では、式（１）のモノマーに添加することで膜の強度が増し、架橋点が増えたことが確認される。しかしながら、一般に用いられる架橋剤は、架橋剤添加で架橋点が増すことにより膨潤が押さえられることと架橋剤自身に導電性がないことにより得られる感湿膜のインピーダンスが高くなるため、湿度センサ用の感湿膜には適さなくなる。
【００３０】
なお、特公平２−２４４６５号公報には、前記のように、主鎖中に第四級アンモニウム塩を有する本発明と類似の重合体が開示されている。しかし、本発明と異なり、重合体中に架橋構造を形成することについては示唆すらされていない。したがって、上記公報と本発明とは、その構成ないし特定事項が明らかに異なるものである。また、上記公報には、耐水性向上のため、ポリビニルピロリドンのような他の重合体を併用する旨の記載があるが、耐水性が明らかに劣るものである。
【００３１】
また、特開平４−３０９８５５号公報および特開平７−１２８２７１号公報には、ヒドロキシル基を有するメタクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウム塩とトリメチロールプロパントリメタクリレートとを塗布し、膜形成後に重合不溶化させることで耐水性を向上させることができるとされている。この方法は、２種以上の高分子材料を混在させ重合する方法の開示であるが、感湿材料のアンモニウム基がいわゆる側鎖（ペンダント）型であるので、湿度応答特性上ヒステリシスが大きかった。
【００３２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００３３】
本発明の湿度センサ素子は、絶縁基板上にギャップを介して対向するように一対の電極を有し、このギャップ上に感湿薄膜を有するものである。
【００３４】
そして、上記の感湿薄膜は式（１）のモノマーと式（２）のモノマーとの共重合体を含有する。
【００３５】
式（１）で示されるモノマーについて記す。
【００３６】
【化９】

【００３７】
式（１）において、Ｙ_l〜Ｙ₆は一価基を表わし、Ｙ_l〜Ｙ₆のうち少なくとも一つは、エチレン性不飽和反応性基を末端に有する基である。このような基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、アリル基、ジアリルメチル基、アリルオキシ基、ジアクリロイルアミノ基、ジメタクリロイルアミノ基およびこれらの基を導入した基等が挙げられる。
【００３８】
また、Ｙ_l〜Ｙ₆で表わされるエチレン性不飽和反応性基を末端に有する基以外の基としては、アルキル基、アルケニル基、ハロゲン原子等が挙げられる。アルキル基、アルケニル基の具体例については、式（１）のなかで好ましいものである、式（３）、式（４）のＲ_l等と同様のものが挙げられ、以下で併せて説明する。ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。また、Ｙ_l〜Ｙ₅、Ａおよびこれらの一部のうちから任意の２つ以上の組合せで、あるいはＹ₄〜Ｙ₆、Ｂおよびこれらの一部のうちから任意の２つ以上の組合せで、これらの２つ以上が結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよいが、形成される環としては、式（３）、式（４）のＲ_l等によって形成される環と同様であるので、後述する。
【００３９】
式（１）で示されるモノマーは、上記のように、エチレン性不飽和反応性基を少なくとも１個有するものであればよく、通常は２個程度が好ましい。
【００４０】
また、Ｙ₂〜Ｙ₅で表わされる一価基は、式（１）に示される分子構造中の繰り返し単位の結合鎖を含むものであってもよく、そのとき式（１）中の繰り返し単位は各々同一であっても、異なるものであってもよい。
【００４１】
なお、式（１）中のＡ、Ｂ、ｎ、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-は、式（３）、式（４）のものと同義のものであるので、式（３）、式（４）のところで併せて説明する。
【００４２】
式（１）で示されるモノマーのなかでも、式（３）、式（４）で示されるモノマーが好ましい。式（３）、式（４）について記す。
【００４３】
【化１０】

【００４４】
【化１１】

【００４５】
式（３）、式（４）において、ＡおよびＢは各々二価基を表わす。
【００４６】
Ａで表わされる二価基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基またはこれらの組合せが好ましく、これらはヒドロキシ基やメチル基等のアルキル基、あるいはカルバモイル基などが置換していてもよい。
【００４７】
アルキレン基の総炭素数は１〜２０が好ましく、ヒドロキシ基が置換するときの置換基数は１〜５が好ましい。
【００４８】
アルケニレン基の総炭素数は２〜１０が好ましい。
【００４９】
アリーレン基の総炭素数は６〜２０が好ましい。
【００５０】
また、これらの組合せであるときの総炭素数は３〜２０が好ましい。
【００５１】
具体的には、−（ＣＨ₂）_m−（ｍ＝１〜２０の整数）、
−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−
−ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ₆Ｈ₄−、
−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ（ＯＨ）−Ｃ₆Ｈ₄−等が好ましいものとして挙げられる。
【００５２】
なかでも、Ａとしては無置換のアルキレン基、特に直鎖状の−（ＣＨ₂）_m−が好ましい。ｍは、Ｂ、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-あるいは共重合に供される式（２）のモノマーの種類や共重合比に依存して決定されるが、３〜１６程度であることが好ましい。
【００５３】
Ｂで表わされる二価基としては、アルキレン基、オキシ基（−Ｏ−）およびカルポニル基（−ＣＯ−）のうちの１種以上が介在したアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基またはこれらの組合せが好ましく、これらはヒドロキシ基やビニル基等のアルケニル基などが置換していてもよい。
【００５４】
アルキレン基の総炭素数は１〜２０が好ましく、ヒドロキシ基が置換するときの置換基数は１〜５が好ましい。また、アルキレン基に−Ｏ−、−ＣＯ−が介在するときの介在数は合計で１〜５が好ましい。
【００５５】
アルケニレン基の総炭素数は２〜１０が好ましい。アリーレン基の総炭素数は６〜２０が好ましい。また、これらの組合せであるときの総炭素数は３〜２０が好ましい。
【００５６】
具体的には、
−（ＣＨ₂）_m−（ｍ＝１〜２０の整数）、
−（ＣＨ₂）₂−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂−、
−ＣＨ₂−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ＝ＣＨ₂）−、
−（ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ）₂−（ＣＨ₂）₂−、
−ＣＨ₂−（ＣＯ）−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−
等が好ましいものとして挙げられる。
【００５７】
なかでも、Ｂとしては無置換のアルキレン基、特に直鎖状の−（ＣＨ₂）_m−が好ましい。ｍは、Ａ、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-あるいは共重合に供される式（２）のモノマーの種類や共重合比に依存して決定されるが、３〜１６程度であることが好ましい。
【００５８】
Ｒ_l、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は各々アルキル基またはアルケニル基を表わす。
【００５９】
Ｒ_l〜Ｒ₄で表わされるアルキル基としては、炭素数の１〜１０のものが好ましく、置換基を有していてもよいが、無置換のものが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましいものとして挙げられる。
【００６０】
Ｒ_l〜Ｒ₄で表わされるアルケニル基としては、炭素数２〜１０のものが好ましく、置換基を有していてもよいが、無置換のものが好ましい。具体的にはビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基等が好ましいものとして挙げられる。
【００６１】
Ｒ₁とＲ₂、Ｒ₁とＡもしくはＡの一部、Ｒ₂とＡもしくはＡの一部、Ｒ₃とＲ₄、Ｒ₃とＡもしくはＡの一部、Ｒ₄とＡもしくはＡの一部、Ｒ₁とＲ₃もしくはＲ₄、またはＲ₂とＲ₃もしくはＲ₄が互いに結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。このような環としては、５員または６員、特に６員の含窒素複素環が好ましく挙げられ、さらには橋かけ環であってもよい。このような含窒素複素環としては、ピリジン環、１，４−アザビシクロ〔２．２．２〕オクタン環、ピペリジン環、ピペラジン環、ピラジン環等が好ましく、場合によってはカルバモイル基等が置換していてもよい。
【００６２】
式（３）において、Ｒ₅およびＲ₆は、各々、アルキル基またはアルケニル基を表わす。なかでも、アルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のものが好ましく、置換基を有していてもよいが、無置換であることが好ましく、メチル基、エチル基等が好ましいものとして挙げられる。また、Ｒ₅、Ｒ₆で表わされるアルケニル基の具体例等については、Ｒ₁〜Ｒ₄におけるものと同様のものが挙げられる。
【００６３】
式（３）、式（４）において、Ｌは二価基を表わす。式（３）におけるＬの好ましいものとしては、−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＮＨ（ＣＨ₂）₃−、−（ＣＨ₂）_m−（ｍは１〜２０の整数）などが挙げられる。また、式（４）におけるＬの好ましいものとしては、−ＯＣＨ₂ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）_m−（ｍは１〜２０の整数）、−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂−、−ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−（ｐ−またはｍ−）などが挙げられる。
【００６４】
なお、式（３）において、Ｒ₅、Ｒ₆およびＬは、これらのなかの２個または３個の組合せで適宜結合して窒素原子（Ｎ）とともにピリジン環等を形成していてもよい。
【００６５】
式（３）、式（４）において、Ｒは水素原子またはアルキル基を表わすが、水素原子、メチル基が特に好ましい。
【００６６】
式（３）、式（４）において、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-は陰イオンを表わし、ハロゲン化物イオンが好ましく、具体的には塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等であってよいが、塩化物イオン、臭化物イオンが好ましい。これらのＸ₁ ^-、Ｘ₂ ^-は通常同一であるが、各々異なっていてもよい。式（４）において、Ｘ₃ ^-は陰イオンを表わし、式（４）中の２個のＸ₃ ^-は後述の合成スキームに従い同一記号を用いており、また、これらは通常同一であるが、場合によっては異なるものであってもよい。その具体例や好ましいものは、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-と同様である。また、Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-、Ｘ₃ ^-は通常同一である。ｎは２〜５０００の数を表わす。
【００６７】
式（１）、式（３）、式（４）で示されるモノマーは所定の繰り返し単位を有する重合体ともいうべきもので、その数平均分子量Ｍ_nは１０００〜１００万程度である。
【００６８】
式（３）のモノマーは以下に示すようなスキームに従って合成される。Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-がハロゲン化物イオンである場合を例にし、スキーム中の記号は上記と同義である。
【００６９】
【化１２】

【００７０】
まず、ジアミン化合物とジハロゲン化合物との反応から、第四級アンモニウム塩を有し、末端基がハロゲンである中間重合体Ｉを得る。この場合、ジアミン化合物に対しジハロゲン化合物が１．０倍モル量〜２．０倍モル量となる条件下で反応させればよい。また、中間重合体Ｉの末端基を確実にハロゲンとするために、ジハロゲン化合物を２回に分けて添加してもよく、この場合の１回目の添加量は、ジアミン化合物に対し１倍モル量〜１．３倍モル量程度とし、２回目は残部を添加するようにすればよい。
【００７１】
このときの反応はメタノール、イソプロパノール、メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等の非水溶媒中で還流温度あるいは１００℃程度の温度にて５〜１００時間程度行う。
【００７２】
次に、エチレン性不飽和反応性基を有する化合物Ａを中間重合体Ｉと反応させ、中間重合体Ｉの両末端にエチレン性不飽和反応性基を導入して式（３）のモノマーを得る。この場合の反応は、上記の反応に引き続き行えばよく、上記溶液にジハロゲン化合物とほぼ等モル量のエチレン性不飽和反応性基を有する化合物Ａを添加し、１５〜１００℃程度の温度で、１０〜１５０時間程度反応させる。
【００７３】
その後、反応溶液をアセトン、酢酸エチル等の溶媒に滴下して沈澱物を生成させ、これを濾取することにより沈澱精製し、目的物が得られる。
【００７４】
一方、式（４）のモノマーは以下に示すようなスキームに従って合成される。Ｘ₁ ^-、Ｘ₂ ^-がハロゲン化物イオンである場合を例とし、スキーム中の記号は上記と同義である。なお、Ｘ₃ ^-もハロゲン化物イオンが好ましい。
【００７５】
【化１３】

【００７６】
まず、ジアミン化合物とジハロゲン化合物との反応から、第四級アンモニウム塩を有し末端基がアミノ基である中間重合体IIを得る。この場合、ジハロゲン化合物に対しジアミン化合物が１．１倍モル量〜２．０倍モル量となる条件下で反応させればよい。このほかの反応条件等については、前記の中間重合体Ｉを得る場合と同様であり、末端基を確実にアミノ基とするための方法も前記に準じて行えばよい。
【００７７】
次に、エチレン性不飽和反応性基を有する化合物Ｂを中間重合体IIと反応させ、中間重合体IIの両末端エチレン性不飽和反応性基を導入して式（４）のモノマーを得る。この場合の反応は前記の式（３）のモノマーと同様に行えばよい。
【００７８】
式（３）、式（４）で示されるモノマーは、ジアミン化合物とジハロゲン化合物との反応によって得られるものであり、上記のスキームに従う反応が可能なものであれば、用いられるジアミン化合物およびジハロゲン化合物はいずれであってもよく、特に限定されるものではない。なお、これらのモノマーおよび中間重合体は、通常、重合度ｎが２〜２０程度のオリゴマーと重合度ｎが２０をこえるポリマーとの混合物として得られる。
【００７９】
ジアミン化合物の好適例を以下に示す。
【００８０】
【化１４】

【００８１】
【化１５】

【００８２】
【化１６】

【００８３】
ジハロゲン化合物の好適例を以下に示す。
【００８４】
【化１７】

【００８５】
【化１８】

【００８６】
上記において、Ｘはハロゲン原子であるが、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【００８７】
式（３）、式（４）のモノマーの中間重合体の例をジアミン化合物とジハロゲン化合物の組合せから得られる重合体として以下に示す。なお、カッコ内の数値はモル比を表わす。
【００８８】
（１）Ａ−１６／Ｂ−１０（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（２）Ａ−８／Ｂ−１２／Ｂ−１０（５０／４８／２）の組合せから得られる重合体
（３）Ａ−８／Ｂ−１３／Ｂ−１０（５０／４８／２）の組合せから得られる重合体
（４）Ａ−８／Ｂ−１５／Ｂ−１０（５０／４８／２）の組合せから得られる重合体
（５）Ａ−１６／Ｂ−２（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（６）Ａ−７／Ｂ−１０（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（７）Ａ−２／Ｂ−１０（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（８）Ａ−９／Ｂ−１０（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（９）Ａ−１６／Ｂ−９（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１０）Ａ−３／Ａ−８／Ｂ−１０（２／４８／５０）の組合せから得られる重合体
【００８９】
（１１）Ａ−１４／Ａ−１６／Ｂ−１７（４９／１／５０）の組合せから得られる重合体
（１２）Ａ−１１／Ｂ−１６（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１３）Ａ−６／Ｂ−４／Ｂ−１５（５０／４７／３）の組合せから得られる重合体
（１４）Ａ−１１／Ｂ−６（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１５）Ａ−１３／Ｂ−３（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１６）Ａ−１０／Ｂ−１５（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１７）Ａ−１５／Ｂ−１６（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１８）Ａ−４／Ｂ−１０（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（１９）Ａ−１０／Ｂ−１２／Ｂ−１０（５０／４８／２）の組合せから得られる重合体
（２０）Ａ−８／Ｂ−２（５０／５０）の組合せから得られる重合体
【００９０】
（２１）Ａ−７／Ａ−１６／Ｂ−１０（１５／３５／５０）の組合せから得られる重合体
（２２）Ａ−８／Ａ−１６／Ｂ−１０（１５／３５／５０）の組合せから得られる重合体
（２３）Ａ−９／Ａ−１６／Ｂ−１０（１５／３５／５０）の組合せから得られる重合体
（２４）Ａ−１０／Ａ−１６／Ｂ−１０（１５／３５／５０）の組合せから得られる重合体
（２５）Ａ−８／Ｂ−１３（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（２６）Ａ−８／Ａ−１０／Ｂ−１３（１５／３５／５０）の組合せから得られる重合体
（２７）Ａ−８／Ｂ−１３／Ｂ−１０（５０／４０／１０）の組合せから得られる重合体
（２８）Ａ−８／Ｂ−１３／Ｂ−２（５０／４０／１０）の組合せから得られる重合体
（２９）Ａ−９／Ｂ−１３（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（３０）Ａ−８／Ａ−９／Ｂ−１３（２５／２５／５０）の組合せから得られる重合体
【００９１】
（３１）Ａ−９／Ａ−１０／Ｂ−１３（２５／２５／５０）の組合せから得られる重合体
（３２）Ａ−１９／Ｂ−１５（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（３３）Ａ−１５／Ｂ−９（５０／５０）の組合せから得られる重合体
（３４）Ａ−１５／Ｂ−１５（５０／５０）の組合せから得られる重合体
【００９２】
中間重合体Ｉ、IIの両末端にエチレン性不飽和反応性基を導入する際に用いられる化合物Ａ、Ｂとしては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、アリル基、ジアリルメチル基、アリルオキシ基、ジアクリロイルアミノ基、ジメタクリロイルアミノ基等のエチレン性不飽和反応性基を有する化合物であれば特に制限はない。なお、中間重合体Ｉ、IIの生成の段階で末端にエチレン性不飽和反応性基を有する重合体［例えば（１０）、（１１）、（１３）］の場合は，そのまま本発明のモノマーとして用いることができる。
【００９３】
中間重合体Ｉとの組合せにおいて好ましく用いられる化合物Ａとしては以下のものが挙げられる。
【００９４】
【化１９】

【００９５】
一方、中間重合体IIとの組合わせにおいて好ましく用いられる化合物Ｂとしては以下のものが挙げられる。
【００９６】
【化２０】

【００９７】
上記において、Ｘはハロゲン原子であり、塩素原子、臭素原子が好ましい。
【００９８】
本発明の感湿薄膜に含有される共重合体を得るのに、式（１）のモノマーとともに用いられる式（２）のモノマーについて述べる。
【００９９】
式（２）について記す。
【０１００】
【化２１】

【０１０１】
式（２）において、Ａ₁₁は二価基を表わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれアルキル基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｙ₁₁およびＹ₁₂は、それぞれエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ₁₁ ^-、Ｘ₁₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。
【０１０２】
Ａ₁₁で表わされる二価基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基またはこれらの組合せが好ましく、これらはメチル基等のアルキル基、あるいはカルバモイル基などが置換していてもよい。
【０１０３】
アルキレン基の総炭素数は１〜２０が好ましい。
【０１０４】
アルケニレン基の総炭素数は２〜１０が好ましい。
【０１０５】
アリーレン基の総炭素数は６〜２０が好ましい。
【０１０６】
また、これらの組合せであるときの総炭素数は３〜２０が好ましい。
【０１０７】
具体的には、−（ＣＨ₂）_m−（ｍ＝１〜２０の整数）、−ＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ₆Ｈ₄−等があり、特に−（ＣＨ₂）_m−（ｍ＝１〜２０の整数）が好ましい。
【０１０８】
このように、Ａ₁₁は無置換の直鎖状のアルキレン基が好ましく、この場合のｍは、Ｘ₁₁ ^-、Ｘ₁₂ ^-あるいは共重合に供される式（１）のモノマーの種類や共重合比などに依存して決定されるが、３〜１６程度であることが好ましい。
【０１０９】
Ｙ₁₁、Ｙ₁₂で表わされるエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基としては、アクリル系のものが好ましく、アクリロイルオキシアルキル基、メタクリロイルオキシアルキル基、アクリロイルアミノアルキル基、メタクリロイルアミノアルキル基を有する基であり、好ましくは、アクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンエステル基、またはアクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンアミド基等が挙げられる。Ｙ₁₁、Ｙ₁₂の総炭素数は４〜８であることが好ましい。Ｙ₁₁とＹ₁₂は、通常、同一であるが、各々異なっていてもよい。
【０１１０】
また、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄で表わされるアルキル基としては、無置換のものが一般的であるが、置換基を有していてもよく、総炭素数は１〜５であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられ、特にメチル基が好ましい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄は、通常、同一であるが、各々異なっていてもよい。
【０１１１】
また、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの一部（Ｎ側）のうちから任意の２つ以上の組合せで、これらの２つ以上が結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよいが、環は形成しない方が好ましい。
【０１１２】
Ｘ₁₁ ^-、Ｘ₁₂ ^-で表わされる陰イオンは、特に、ハロゲン化物イオンが好ましく、具体的には塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等であってよいが、塩化物イオン、臭化物イオンが好ましく、特に塩化物イオンが好ましい。Ｘ₁₁ ^-、Ｘ₁₂ ^-は通常同一であるが、各々異なっていてもよい。
【０１１３】
式（２）で示されるモノマーは、上記のように、両末端にアクリル系不飽和反応基を有する２官能性モノマーであることが好ましい。
【０１１４】
本発明に用いられる式（２）で示されるモノマーは次のようにして得られる。具体的には、式（２）のモノマーは、以下に示すようなスキームに従って合成される。
【０１１５】
【化２２】

【０１１６】
なお、上記のＹ₁₁、Ｙ₁₂、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ａ₁₁は、式（２）と同義のものである。また、Ｘ₁₁、Ｘ₁₂がハロゲン原子である場合を例にする。
【０１１７】
まず、アクリル系アミン化合物（ａ−１、ａ−２）とジハロゲン化合物（ｂ）との反応から、第四級アンモニウム塩を有し両末端基がアクリル系不飽和基である式（２）のモノマーを得る。この時、アクリル系アミン化合物の添加量は、ジハロゲン化合物に対し２倍モル量以上、特に２．０〜３．０倍モル量とするようにすればよい。
【０１１８】
このときの反応はアセトニトリル、ジオキサンなどの非プロトン性極性溶剤で約５０℃程度で数日間撹拌して行う。溶剤として、メタノール、イソプロパノール、メトキシエタノール、２−エトキシエタノール等のアルコール中で還流させると、エステル交換が起きてしまい、目的のジアクリル系第四級アンモニウム塩は得られない。したがって、エステル交換反応を引き起こす可能性のある、アルコール系溶剤は適さない。
【０１１９】
反応終了後、アセトンなどを加えて目的の第四級アンモニウム塩を析出させ、得られた白色沈殿物を濾過する。アセトンで洗浄後、乾燥させて目的物を得る。
【０１２０】
式（２）のモノマーの両末端に、エチレン性不飽和反応性基、好ましくはアクリル系不飽和反応性基を導入する際に用いられる化合物は、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ジアクリロイルアミノ基、ジメタクリロイルアミノ基等のエチレン性不飽和反応性基、好ましくはアクリル系不飽和反応性基を有する化合物であれば特に制限はなく、アクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルエステルまたはアクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルアミドが好適であるが、これらも含めて、以下に具体例を示す。
【０１２１】
アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル
アクリル酸ジメチルアミノプロピルアミド
メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル
メタクリル酸ジメチルアミノエチルアミド
メタクリル酸ジメチルアミノプロピルエステル
メタクリル酸ジメチルアミノプロピルアミド
メタクリル酸ジメチルアミノブチルエステル
メタクリル酸ジメチルアミノペンチルエステル
メタクリル酸ジメチルアミノヘキサンエステル
メタクリル酸ジメチルアミノオクチルエステル
メタクリル酸ジメチルアミノオクチルアミド
など
【０１２２】
これと反応させるジハロゲン化合物の具体例を以下に示す。
【０１２３】
１，３−ジクロロプロパン、１，４−ジクロロブタン、１，５一ジクロロペンタン、１，６−ジクロロへキサン、１，８−ジクロロオクタン、１，１０−ジクロロデカン、１，１２−ジクロロドデカン、１，３−ジブロモプロパン、１，４−ジブロモブタン、１，５−ジブロモペンタン、１，６−ジブロモへキサン、１，８−ジブロモオクタン、１，１０−ジブロモデカン、１，１２−ジブロモドデカンなど
【０１２４】
式（２）のモノマーの分子量に特に制限はないが、好ましいＡ₁₁などを考慮に入れると、通常６５０以下である。その下限に特に制限はないが、通常３７０程度である。
【０１２５】
本発明の共重合体を得るには、式（１）のモノマーと式（２）のモノマーと光重合開始剤との混合溶液を基板上に塗布して成膜し、乾燥後に紫外線を照射して重合させる。この場合、各モノマーは、各々１種以上用いればよい。
【０１２６】
式（１）のモノマーと式（２）のモノマーの混合比率は、各々のモノマーの固有インピーダンスと混合時の架橋度と、基板上に設けられた電極形状により決まる。したがって、混合比率は、個々のケースにより異なり、一義的には決定できないが、一般的には、式（１）のモノマー：式（２）のモノマーがモル比で１０：１〜１：１０程度である。
【０１２７】
重合開始剤はベンゾフェノン誘導体など種々の市販されている重合開始剤を用いることができる。
【０１２８】
本発明において、重合は紫外線照射によることが好ましいが、場合によっては加熱などによってもよく、加熱処理後に紫外線照射することも好ましい。
【０１２９】
式（１）と式（２）の第四級アンモニウム塩モノマー、好ましくは２官能性アンモニウム塩の共重合反応によって得られた感湿薄膜は、３次元的な架橋がされており、きわめて丈夫な膜となっているばかりでなく、第四級アンモニウム塩がいわゆる主鎖型であるアイオネン構造となっており、ペンダント型構造のような自由度の高い構造を有しない。したがって、感湿曲線はヒステリシスのきわめて小さな特性を維持することができる。
【０１３０】
本発明における感湿薄膜は、前記のとおり、式（１）のモノマーと式（２）のモノマーとを反応させた共重合体の架橋物を含有するものであるが、感湿薄膜の形成は次のように行うことが好ましい。
【０１３１】
式（１）のモノマーおよび式（２）のモノマーを含有する塗布液を調製する。この場合、式（１）のモノマーおよび式（２）のモノマーは通常、各々１種ずつ用いられるが、各々２種以上用いてもよく、いずれか一方のみを２種以上としてもよい。なお、これらのモノマーとしては、陰イオンとしてハロゲン化物イオンを有するものが好ましく用いられるが、特に塩化物イオン、臭化物イオンを有するものが好ましく、とりわけ、塩化物イオンを有するモノマーを少なくとも１種用いることが好ましい。
【０１３２】
塗布液は、上記各モノマーを所定比で含有する１〜１０％（質量百分率）の水溶液またはアルコールなどの有機溶剤溶液あるいは混合溶剤の溶液とする。このとき、後に上記共重合体を放射線、好ましくは紫外線照射により架橋させる湯合には、光重合開始剤（例えば水溶性のベンゾフェノン系の化合物）を０．０３〜０．７％（質量百分率）程度添加することが好ましい。
【０１３３】
なお、本発明により得られる感湿薄膜は従来の膜に比べ膨潤量が抑えられるため、基板から感湿薄膜が剥離することはないが、基板との密着性を確実にして高い耐水性を得るために、下記のような処理を施してもよい。
【０１３４】
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのように基板や電極と反応し得る官能基（アルコキシシリル基）を持つアクリル系モノマーであるアクリル系シランカップリング剤と共重合させるか、あるいは基板（通常、電極付）をアクリル系シランカップリング剤で処理加熱後、式（１）のモノマーおよび式（２）のモノマーを含有する液を塗布乾燥し、共重合させる方法がよい。前者の方法では、共重合させて感湿薄膜を形成した後、高湿度下（すなわち水蒸気存在下）に保存し、密着性を向上させることが好ましい。
【０１３５】
アクリル系シランカップリング剤としては、例えばγ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学製ＫＢＭ５０２）、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（同ＫＢＭ５０３）、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン（同ＫＢＥ５０２）、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン（同ＫＢＥ５０３）などが市販されていて便利である。
【０１３６】
本発明に用いる絶縁基板としては、材質は感湿薄膜との接着性を確保するために表面に水酸基などの官能基を有し、かつ電気絶縁性を有するものであればどのようなものでもよく、例えばガラス、フェノール樹脂やエポキシ樹脂などのプラスチック、セラミックまたは水酸基等を有する樹脂で絶縁被覆した金属等が用いられる。また、電極は通常使用されているものであれば特に制限はなく、例えばＡｕないしはＲｕＯ₂等を含有し、さらに、必要に応じガラスフリットを含有する低抵抗ペースト等をスクリーン印刷し高温焼結したものなどが使用できる。なお、ＲｕＯ₂等の酸化物電極であれば、表面の水酸基などの官能基が、感湿薄膜との接着性向上に寄与する。
【０１３７】
また、本発明では、前述のアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーを用いる方法にかえて、絶縁基板の最表層の汚染物および／または酸化物を物理的手段により除去した後に、感湿薄膜を形成して感湿薄膜と基板との密着性の向上を図ってもよい。
【０１３８】
感湿膜を形成する絶縁基板はアルミナ基板が一般的であり、その最表層は汚染物、吸着ガス、有機物、基板自身の酸化物等で覆われているため、感湿膜との密着性が阻害されているが、このような操作を施すことにより、絶縁基板と感湿薄膜との密着性を向上させることができる。
【０１３９】
物理的手段による方法としたのは、化学的手段による方法では汚染物や有機物の除去は可能であるが、酸化物層を取り除くことは難しく、さらには化学処理後の廃液の問題もあるため好ましい方法ではないからである。一方、物理的手段による方法では下地の破壊を最小限にとどめて比較的簡単に上記の汚染物や酸化物を取り除くことが可能である。また、処理対象となる材質の選択の幅が広い。
【０１４０】
いくつかある物理的手段の中で、プラズマ表面処理は効果が高く好ましい。プラズマ表面処理（以下、「プラズマ処理」ともいう。）は、プラズマ中に存在する活性な電子、ラジカル、イオン、分子を、絶縁基板表面と相互作用させることで、エッチング作用とインプランテーション作用により表面状態を改質する。
【０１４１】
プラズマ発生雰囲気により、発生するプラズマが変わり、特に使用するガス種で酸素プラズマと水素プラズマに大別されるが、これらの使用は好ましい。酸素プラズマは、表面有機汚染物の除去と表面改質に有効であり、水素プラズマは、金属酸化物を還元することが可能である。
【０１４２】
本発明においては、このプラズマによる物理的手段により絶縁基板の最表層の汚染物および／または最表層の酸化物を除去して、以下の二つの作用機構により感湿薄膜と絶縁基板との密着性を高めていると考えられる。
【０１４３】
第１に、最表層の汚染物と酸化物とが、感湿薄膜と絶縁基板の両界面間の「弱い結合層（weak boundary layer）」として働くためで、この層を除去することにより密着が強くなる。
【０１４４】
第２に、最表層の汚染物および／または酸化物を除去することで、絶縁基板表面のぬれ性が高まり、感湿薄膜形成用モノマーを塗布する時に絶縁基板の細孔までモノマーが到達して、重合させた後は感湿薄膜が絶縁基板に根を下ろし、「錨」のような作用で感湿薄膜と絶縁基板とを密着させる。
【０１４５】
本発明においては、後者の作用が大きく働いていると考えられる。
【０１４６】
物理的手段による処理は、電極、好ましくは櫛形電極を配置した絶縁基板に対して行われる。
【０１４７】
ここに使用する一対の櫛形電極を持つ絶縁基板は、材質は感湿薄膜と化学的反応性がないもので、電気絶縁性を有するものであれば特に制限はなく、例えばガラス、プラスチック、セラミックまたは絶縁被覆した金属板などが用いられる。特にアルミナは、機械的強度と絶縁性および安定性が高いため好適である。
【０１４８】
以降、本発明に好ましく使用されるアルミナ基板を例に説明する。
このような一対の櫛形電極を持つ絶縁基板（以降、櫛形電極基板）の表層には、作成時および保管時に多くの汚染物、吸着ガス、有機物が吸着し、また、アルミナ基板の最表層は、基板自身の酸化物等で覆われている。
【０１４９】
本発明では、上記のような汚染物、吸着ガス、吸着有機物など、外部から櫛形電極基板に取り込まれた酸化物以外のものをまとめて汚染物といい、酸化物の汚染物のほか、絶縁基板自身の材質も含めて酸化物という。
【０１５０】
さらに具体的には、例えば、環境中に漂う有機物の付着や製造時使用した薬品の残滓や添加剤などが付着している。これらは、基板自身の酸化物と相まって、櫛形電極基板のぬれ性を低下させているため、感湿薄膜形成用モノマー液を塗布しても塗り広がらないだけでなく、重合後の感湿薄膜との密着性が悪い。
【０１５１】
したがって、感湿薄膜形成用モノマー液の塗布前に、物理的手段による処理により最表層の汚染物および／または最表層の酸化物を除去している。
【０１５２】
アルミナ基板を例にすれば、最表層は、汚染物が表面に存在するときは、細孔を無視すると、その部分も含めて表面から１nm程度の深さの領域部分にあり、最表層の汚染物や酸化物が物理的手段によって除去されたことについては、表面のぬれ性により確認することができる。多くの場合、水の接触角が０°近くになる。除去は、汚染物のほか、電極や基板そのものの表層（それ自体の表面から１nm程度の深さにある領域部分）に対して行うことが好ましい。したがって、汚染物および酸化物の両方を除去することが好ましい。ただし、電極や基板そのものの表層の除去がすぎると、それらの形状変化を伴い好ましくない。
【０１５３】
物理的手段による処理としては、フレームプラズマ処理、ＵＶ/オゾン処理、エキシマＵＶ処理、コロナ処理、電子線処理、レーザー処理、スパッタ処理、プラズマ処理等を用いることが可能であるが、絶縁基板へのダメージが少なく、廉価であることから、プラズマ処理が好適である。ＵＶ/オゾン処理もコストが低いため適する櫛形電極基板があるが、アルミナ基板に限ると処理後に着色が見られることが多い。ただし、処理条件を選択すれば着色の防止が可能である。
【０１５４】
ここで、好ましく用いられるプラズマ処理について説明する。
前述のように、ここでは、酸素プラズマの持つ有機物を除去する作用と表面改質作用、また水素プラズマの持つ金属酸化物を還元する作用が有効であり、酸素プラズマ単独、または酸素プラズマの後水素プラズマの処理を行うことが好ましい。また、手軽さからいえば、不活性ガスを導入したプラズマ処理も好ましい。
【０１５５】
プラズマ処理を行う方法としては、真空中、不活性ガス中、大気圧中のいずれの条件でも、櫛形電極基板にダメージを与えない比較的低温のプラズマ条件であれば良く、装置も作成条件に合わせて選択する。中でも、不活性ガス中と大気圧中の条件は、装置が簡単になるため好適であるが、真空中で酸素あるいは水素を上記のように導入したプラズマ処理が一般的である。
【０１５６】
いずれの方法にせよ、電源周波数が数kHz〜数百MHzで発生するプラズマを使用するが、プラズマ発生条件に合わせて適宜出力を調整する。櫛形電極基板がアルミナの場合、高周波出力５０〜１０００Ｗの範囲で、２秒〜１０分処理することにより効果が得られる。
【０１５７】
プラズマ処理を施した櫛形電極基板は、次に感湿薄膜形成用モノマー溶液を塗布する。塗布までの時間は、真空中に保管すれば２４時間から９６時間、大気圧下では、処理直後から２４時間以内に処理することが好ましい。保存状態が悪いと表面状態を良好に保持できる時間が短くなるため、プラズマ処理直後に連続して塗布することが望ましい。
【０１５８】
なお、このような物理的手段による場合、これによって、感湿薄膜との十分な密着性を得ることが可能であり、これのみで十分であるが、この処理後の櫛形電極基板に対し、前述のアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマー（例えばアクリル系シランカップリング剤）による方法と併用することもできる。
【０１５９】
本発明では、好ましくは、塗布により、前記の塗布液を用いて、前記のように電極が設けられた絶縁基板上に感湿薄膜を形成する。塗布方法としては、一定量を絶縁基板に塗布できればいずれの方法でも可能である。例えば浸漬（ディッピング）法、滴下（ディスペンス）法、刷毛塗り法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、スピナー塗布法等、種々の方法が使用でき、工程や製品の用途・種類等により選択すればよい。
【０１６０】
このように塗膜を形成したのち、１５〜１００℃程度の温度で３〜１５分程度乾操および／または熱的に架橋し、さらに、その後に放射線架橋させる。放射線照射による架橋は、特に、紫外線照射によることが好ましい。なお、架橋は共重合とともに進行する。
【０１６１】
紫外線照射による架橋方法は、公知の方法に従って行えばよい。通常、照射する紫外線強度は、８０mW/cm²程度以上、照射量は２００〜２５００mJ/cm²程度とすればよい。また、紫外線源としては、水銀灯などの通常のものを用いればよい。
【０１６２】
このようにして得られる感湿薄膜の架橋後の膜厚は０．５〜１０μm程度であることが好ましいが、さらに好ましくは３〜１０μm程度である。膜が厚すぎると、湿度に対する膜の電気抵抗値の応答速度すなわちレスポンスが遅くなり、膜が薄すぎると、特に低湿度領域での出力が低下し、さらに耐ガス性も低下することになり、好ましくない。
【０１６３】
なお、本発明では、付着する水滴の影響を防止し、迅速に正確な湿度測定を行うために、前記薄膜上に、水との接触角が９０度以上（通常１３０度以下）の撥水性被膜（膜厚５μm以下０．１μm以上）を形成してもよい。このような撥水性被膜を構成する材料としては、疎水性のポリマー、例えばポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系ポリマー、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー、シリコーン系ポリマー等が好適に使用される。このような撥水性被膜の形成方法に限定はないが、上記材料を可溶な溶媒（例えば飽和炭化フッ素等）に溶解し、塗布すればよい。
【０１６４】
本発明の湿度センサ素子は、前記のように電極が設けられた絶縁基板上に、上記のような感湿薄膜を有するものであれば、他の溝成については特に制限はない。
【０１６５】
このような湿度センサ素子の一構成例が図１に示されている。図１は平面図である。
【０１６６】
図１に示すように、湿度センサ素子１は、絶縁基板２上に一対の櫛形電極４を有し、一対の櫛形電極４は、一定距離のギャップ５を介し、かつ噛み合うようにして絶縁基板２上に配置されている。そして、絶縁基板２および櫛形電極４上には図示のように感湿薄膜３が設けられている。また、櫛形電極４の各々の一端には電極端子６が取り付けられており、電極端子６の各々にはリード線７が半田８を用いて接続されている。また、図示のように、電極材料の拡散防止のためのレジスト膜９が設けられている。
【０１６７】
このような構成で、両電極間に好ましくは交流を印加する。感湿薄膜の湿度に応じた抵抗ないしインピーダンス変化により出力電圧が変化し、湿度が検出される。印加電圧は１２V程度以下とする。
【０１６８】
図１に従って説明すれば、本発明に用いる絶縁基板２、電極４としては、前述のとおりである。また、電極端子６は半田８との相溶性のあるものであればどのようなものでもよく、例えばＡｇ−Ｐｄ合金等を用い、これらを通常の方法で印刷して高温で焼付等すればよい。さらに、例えば電極４にＡｕを用いる場合は、図１に示すように、半田付け処理時のＡｕ拡散防止のためにレジストまたはガラスよりなるレジスト膜９を設けることが好ましい。レジスト膜９の厚さおよび形状には制限はなく、半田付け処理時のＡｕ拡散防止の効果を有すればよい。
【０１６９】
本発明の湿度センサ素子は図示例に限らず、種々のものであってよい。
【０１７０】
なお、本発明における一対の電極間のギャップは、通常、１００〜５００μm程度である。
【０１７１】
【実施例】
以下、本発明の具体的実施例を比較例とともに示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【０１７２】
＜実施例１＞
まず始めに式（１）のモノマーを合成した。
N,N,N',N'−テトラメチル−１，１２−ドデカンジアミン３．６２g（２１．０mmol）と１，１２−ジブロモドデカン６．９２g（２１．１mmol）を、２０．２gのメタノール中で１１０℃で４８時間反応させ、アセトンによる再沈殿で９．０４ｇの白色沈殿を得た。続いて、白色沈殿６．９２gとジメチルアミノプロピルメタクリルアミド３．５４gをメタノール中９０℃で２４時間反応させ、アセトン中の逆再沈操作により淡黄色沈殿を５．４７ｇ得た。数平均分子量は約５０００であった。
【０１７３】
次に式（２）のモノマーを合成した。
メタクリル酸ジメチルアミノエチルエステル１１．８２ｇ（７５．２ｍｍｏｌ）と、１，３−ジクロロプロパン４．２３ｇ（３７．４ｍｍｏｌ）を２１．０４ｇのアセトニトリルに溶解し、重合禁止剤として４−メトキシフェノールを０．２７ｇ添加した後、６０℃で１２０時間反応させ、アセトン１０００ｍｌの再沈殿により１７．５２ｇの４級塩を得た。収率は９０％であった。
【０１７４】
このような式（１）のモノマーと式（２）のモノマーをそれぞれ０．５ｇと０．６ｇ秤量し、エチルセロソルブを２０．９ｇ加えて溶解し、重合開始剤として０．２％（質量百分率）のKAYACURE ABQ（日本化薬社製）を添加し、感湿薄膜形成用モノマー液（塗布液）とした。液は４℃で保管した。
【０１７５】
次に、図１に示すような湿度センサ素子を組み立てた。絶縁基板としてはアルミナ製の多孔性セラミック基板を用い、電極４はＲｕＯ₂とガラスフリットとを含むペーストをスクリーン印刷し、高温焼成して得られた櫛形電極とした。また、電極４間のギャップは、２２５μm 程度であった。
【０１７６】
イソプロピルアルコール１００ｍｌに上記櫛形電極基板を入れ、１０分間超音波を掛けながら浸漬して洗浄した後、放置により乾燥した。この操作を３回繰り返した。
【０１７７】
乾燥後直ちにディスペンサを使って、感湿薄膜形成用モノマー液を素子１個当たり2.75μl塗布した。２５℃の状態で１５分放置し乾燥させ塗膜を作成した。次に、この塗膜に窒素雰囲気下で１分間紫外線を照射し重合させて、感湿薄膜を得た。この時の紫外線照射量は、1000mJ/cm²で、感湿薄膜の膜厚は約5μm であった。
【０１７８】
こうして得られた湿度センサ素子について出力特性の評価および耐水性試験を行った。
【０１７９】
出力特性は特開平２−１２３８４３号公報に記載の回路に湿度センサを組み込み、分流式湿度発生装置（モデルＳＲＨ−１、神栄株式会社製）を用いて評価した。前記分流式湿度発生装置内に前記回路に組み込んだ湿度センサ素子を設置し、２５℃にて相対湿度を低湿度側から高湿度側へ、続いて高湿度側から低湿度側へ変化させ、その各過程における５％ＲＨ、１０％ＲＨ、２０％ＲＨ、３０％ＲＨ、４０％ＲＨ、５０％ＲＨ、６０％ＲＨ、７０％ＲＨ、８０％ＲＨ、９０％ＲＨ、９５％ＲＨの各湿度条件下に湿度センサ素子を３０分間放置したときの出力電圧を測定した。得られた結果を図２に示す。
【０１８０】
耐水性試験は、上述のように出力電圧を測定したのち、湿度センサ素子を１分間蒸留水中に浸漬し大気中で乾燥させて再度出力電圧を測定した。続いて同じセンサ素子に対して蒸留水中の浸水時間を１０分間、３０分間、６０分間と延長して同様に各々１０％ＲＨ、３０％ＲＨ、５０％ＲＨ、８０％ＲＨ、９０％ＲＨの時の出力電圧を測定し比較した。得られた結果を図３に示す。
【０１８１】
図２よりわかるように、ヒステリシスがみられず、良い応答曲線を示した。また、図３より、耐水性に優れたものであることがわかった。
【０１８２】
さらに、耐ガス性試験を行った。耐ガス性は、湿度センサの各相対湿度に対する出力値を測定し、直線性を確認し、次いで、二酸化窒素ガス、塩化水素ガス、アンモニアガス、二酸化硫黄ガス、塩素ガス、および硫化水素ガスをそれぞれ５ppmの濃度で流しながら、温度４０℃、湿度７０℃〜８０%ＲＨの条件で１００時間放置した後、各設定湿度（%ＲＨ）に対する湿度センサの湿度の出力値（%ＲＨ）を測定し、変化率（%ＲＨ）の最大値を求めた。結果を表１に示す。
【０１８３】
【表１】

【０１８４】
これより、変化率が少なく、耐ガス性に優れることがわかる。
【０１８５】
以上より、本発明の効果は明らかである。
【０１８６】
＜実施例２＞
実施例１と同様の方法で作成した櫛形電極付きのアルミナ基板をあらかじめ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学製ＫＢＭ５０３）の１%（質量百分率）酢酸水溶液で処理し、乾燥後１２０℃に２０分間放置し、基板表面にアクリロイル基を導入した。次いで、実施例１と同じ感湿薄膜形成用モノマー液にディップして塗布膜を形成した。これに実施例１と同様に紫外線を照射して重合、架橋し、湿度センサ素子を得た。
【０１８７】
このようにして得られた湿度センサ素子の出力特性の評価および耐水性試験は実施例１と同様に行った。得られた出力特性の測定結果を図４に、耐水性試験の測定結果を図５に示す。
【０１８８】
図４、図５より、良好な湿度応答特性を示し、かつ耐水性に優れることがわかる。また、実施例１に比べて耐水性が向上していることもわかる。
また、実施例１と同様にして耐ガス性試験を行ったが、実施例１と同様の良好な結果が得られた。
【０１８９】
＜実施例３＞
まず始めに式（１）のモノマーを合成した。
【０１９０】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，１２−ドデカンジアミン６．３０g（３６．６mmol）と１，１２−ジクロロドデカン９．６２g（４０．２mmol）を、２３gのメタノール中に溶解し、ナスフラスコ中で還流させた。この時のオイルバス温度は１１０℃であった。３６時間反応時には、溶液が白濁していることを確認した。４８時間で反応を停止させ、白濁粘調溶液にメタノールを４０ml加えた。不溶物はないが、一度濾過後逆再沈殿操作により白色沈殿を得た。使用したアセトン量は５００mlであった。乾燥後の重量は、６．０４gであった。引き続き、白色沈殿５．０７gを、メタノール９gに溶解した。ここにジメチルアミノプロピルメタクリルアミド２．９８gを加え、オイルバス温度９０℃で２４時間反応させた。溶液は暗オレンジ粘調状態であった。この溶液に、メタノール２０mlを加え、逆再沈操作により淡黄色沈殿を得た。収量は、２．４７gであった。ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ法）分析によると、数平均分子量Mnは２７３４であった。
【０１９１】
次に式（２）のモノマーを合成した。
【０１９２】
アクリル酸２−ジメチルアミノエチルエステル９．６３g（６７．２mmol）と１，３−ジクロロプロパン３．７９g（３３．６mmol）を２０mlのアセトニトリルに溶解した。そこに、４−メトキシフェノールを０．３５g添加した。ナスフラスコ中６０℃で５日間（正確には１２８時間）マグネチックススターラで撹拌した。３日後では溶液には変化がないが、５日目には白色沈殿が析出しているのを確認した。４級塩を完全に析出させた。反応停止後、そこにメタノールを５０ml加え、白色沈殿を溶解させた。この時、不溶物が０．１１２gあり（後から乾燥し秤量）、一度濾過した。濾液にアセトン５００mlを加えて逆再沈操作により４級塩を完全に析出させた。この４級塩を分離後、真空乾燥し生成物を得た。収量は、５．１３１gであった。
【０１９３】
得られた式（１）のモノマー０．３g、得られた式（２）のモノマー０．６gを秤量し、１８mlの水に溶解して約５%（質量百分率）の水溶液を調製した。この水溶液に重合開始剤として０．２%（質量百分率）のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＡＢＱ（日本化薬社製；ベンゾフェノン系化合物）を添加して、塗布液（感湿薄膜形成用モノマー液）を調製した。
【０１９４】
この塗布液を用いて図１に示すような湿度センサ素子１を組み立てた。絶縁基板２としてはアルミナ製の多孔性セラミック基板を用い、電極４はＲｕＯ₂とガラスフリットとを含むペーストをスクリーン印刷し、高温焼成して得られた櫛形電極とした。また、電極４間のギャップは、２２５μm程度であった。
【０１９５】
このような絶縁基板２上に上記塗布液を用いてディッピングにより塗布し、５０℃で５分間乾操して塗膜を形成した。次に、窒素雰囲気下でこの塗膜の電極面に対しそれぞれ１分間ずつ紫外線照射を行い架橋処理を施し感湿薄膜３を得た。このときの紫外線照射量は１０００mJ/cm²とした。このようにして形成した感湿薄膜３の膜厚は５μmであった。こうして得られた湿度センサ素子について出力特性の評価および耐水性試験を実施例１と同様に行った。得られた出力特性の測定結果を図６に、耐水性試験の測定結果を図７に示す。
【０１９６】
図６よりわかるように、ヒステリシスがみられず、良い応答曲線を示した。また、図７より、耐水性に優れたものであることがわかる。
【０１９７】
さらに、実施例１と同様にして耐ガス性試験を行った。結果を実施例１とともに表１に示したが、耐ガス性は良好であることがわかった。
【０１９８】
＜実施例４＞
実施例３と同様の方法で作成した櫛形電極付きのアルミナ基板をあらかじめ、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学製ＫＢＭ５０３）の１%（質量百分率）酢酸水溶液で処理し、乾燥後１２０℃に２０分間放置し、基板表面にアクリロイル基を導入した。次いで、実施例１と同じ感湿薄膜形成用モノマー液にディップして塗布膜を形成した。これに実施例３と同様に紫外線を照射して重合、架橋し、湿度センサ素子を得た。
【０１９９】
このようにして得られた湿度センサ素子の出力特性の評価および耐水性試験は実施例１と同様に行った。得られた出力特性の測定結果を図８に、耐水性試験の測定結果を図９に示す。
【０２００】
図８、図９より、良好な湿度応答特性を示し、かつ耐水性に優れることがわかる。また、実施例３に比べて耐水性が向上していることもわかる。
また、実施例１と同様にして耐ガス性試験を行ったが、実施例３と同様の良好な結果が得られた。
【０２０１】
＜実施例５＞
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，１２−ドデカンジアミン５．０４g（２５．６mmol）と１，１２−ジブロモドデカン９．９１g（３０．２mmol）を原料に実施例３と同様な方法で式（１）のモノマーを合成した。
【０２０２】
メタクリル酸２−ジメチルアミノエチルエステル９．８８g（６６．９mmol）と１，３−ジクロロプロパン３．６８g（３３．３mmol）を原料に実施例１と同様な方法で式（２）のモノマーを合成した。
【０２０３】
得られた式（１）のモノマー０．１g、得られた式（２）のモノマー０．５gを秤量し、１２mlの水に溶解して約５%（質量百分率）の水溶液を調製し、実施例１と同様な方法で素子を作製した。
【０２０４】
このようにして得られた湿度センサ素子の出力特性の評価および耐水性試験は実施例１と同様に行った。得られた出力特性の測定結果を図１０に、耐水性試験の測定結果を図１１に示す。
【０２０５】
図１０、図１１より、良好な湿度応答特性を示し、かつ耐水性に優れることがわかる。
【０２０６】
また、実施例１と同様にして耐ガス性試験を行ったが、実施例３と同様の良好な結果が得られた。
【０２０７】
＜比較例１＞
実施例３において、式（１）のモノマーと式（２）のモノマーをそれぞれ単独で用いて素子化して評価した。このなかで、式（２）のモノマーを用いた素子の出力特性の測定結果を図１２に、式（１）のモノマーを用いた素子の耐水性試験の測定結果を図１３に示す。
【０２０８】
湿度応答特性については、式（１）のモノマーの素子は実施例３とほぼ同等の特性が得られたが、式（２）のモノマーの素子は、全体の出力が低く、さらに、図１２に示すように、低湿度領域にヒステリシスが観測された。また、両素子とも耐ガス試験に関しては問題がなかったが、耐水性試験をしたところ、図１３に示すように、式（１）のモノマーの素子は出力が若干低下した。また、式（２）のモノマーの素子は耐水性が悪かった。
【０２０９】
＜比較例２＞
実施例３と同じ櫛形電極を形成したアルミナ基板上に、特開平７−３１８５２６号公報に記載のようにして、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルジアミノヘキサン８．６gと１，３−ジクロロプロパン６．８gとの反応で得られたアイオネンポリマーの両末端にアクリルアミド基を導入した共重合体（数平均分子量１１万）を架橋させた感湿薄膜を０．１μm厚に形成するほかは、実施例３と同様にして湿度センサ素子を得た。
【０２１０】
これについて、実施例１と同様の評価を行ったところ、湿度応答特性、耐水性については、ほぼ良好な結果を示すことがわかった。また、耐ガス性試験の結果を、実施例１、３とともに、表１に示したが、耐ガス性に劣ることがわかった。
【０２１１】
＜比較例３＞
実施例３において、式（２）のモノマーのかわりに、ジビニルベンゼン０．０１５g を用いるほかは同様にして素子を作製し、同様に評価を行った。その結果、耐水性、耐ガス性については問題がなかったが、インピーダンスが高くなるため、出力が小さかった。
【０２１２】
＜実施例６＞
実施例１〜４において、式（２）のモノマーの合成の際に、１，３−ジクロロプロパンのかわりに、１，６−ジクロロヘキサンまたは１，１０−ジクロロデカンを用いるほかは同様にして４種の素子を作製し、同様に評価を行ったところ、実施例１〜４の素子構成に応じて、いずれの素子も、実施例１〜４と同様の良好な結果が得られた。
【０２１３】
＜実施例７＞
実施例３、４において、式（１）のモノマーの合成の際に、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ヘキサンジアミンと１，３−ジクロロプロパンとの組合せ、あるいはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，６−ヘキサンジアミンと１，１２−ジクロロドデカンとの組合せとするほかは同様にして４種の素子を作製し、同様に評価を行ったところ、実施例３、４の素子構成に応じて、いずれの素子も、実施例３、４と同様の良好な結果が得られた。
【０２１４】
＜実施例８＞
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，１２−ドデカンジアミン６．３０g（３６．６mmol）と１，１２−ジクロロドデカン９．６２g（４０．２mmol）から得られた式（１）のモノマーと、アクリル酸２−ジメチルアミノエチルエステル９．６３g（６７．２mmol）と１，３−ジクロロプロパン３．７９g（３３．６mmol）から得られた式（２）のモノマーを使い実施例３と同じ組成比の感湿薄膜形成用モノマー液（塗布液）を１０ｍｌ作成した。
【０２１５】
次に、図１に示すような湿度センサ素子１を組み立てた。絶縁基板２としてはアルミナ製の多孔性セラミック基板を用い、電極４はＲｕＯ₂とガラスフリットとを含むペーストをスクリーン印刷し、高温焼成して得られた櫛形電極とした。また、電極４間のギャップは、２２５μm 程度であった。
【０２１６】
イソプロピルアルコール１００ｍｌに上記櫛形電極基板を入れ、１０分間浸漬して洗浄した後、放置により乾燥した。
【０２１７】
プラズマ処理は、ヤマト科学製プラズマドライクリーナーＰＤＣ２００型を用いて行った。装置に、処理用サンプルを１００個投入し、１０分間真空ポンプＥＣ−４０３（ＵＬＶＡＣ製）を用いて真空状態にした。そこに酸素ガスを流量３００sccm（０．５１Pa・m³・s^-1）で投入、真空度を５５Paになるように保ち、ＲＦ出力２００Ｗにてプラズマを発生させ、１分間処理した。この時の電極間距離は１０ｃｍである。
【０２１８】
処理後直ちに、実施例３と同様にして、感湿薄膜を形成した。
【０２１９】
こうして得られた湿度センサ素子について出力特性の評価および耐水性試験を実施例１と同様に行った。
【０２２０】
得られた出力特性の測定結果を図１４に、耐水性試験の測定結果を図１５に示す。
【０２２１】
図１４よりわかるように、ヒステリシスがみられず、良い応答曲線を示した。また、図１５より、耐水性に優れたものであることがわかった。さらに、実施例１と同様にして耐ガス性試験を行ったが、実施例３と同様の良好な結果が得られることがわかった。
【０２２２】
＜実施例９＞
実施例８において、櫛形電極基板を大気圧中でプラズマ処理する以外は同様にして湿度センサ素子を得、同様に特性評価を行ったところ、同様に良好な結果を示すことがわかった。
【０２２３】
この場合のプラズマ処理は、松下電工マシンアンドビジョン製大気圧プラズマクリーニング装置を用いて行った。出力７００Ｗ、照射距離5mm、10mm/secのヘッド移動スピードで酸素プラズマを照射後に、引き続き同じ条件で水素プラズマを照射して処理した。
【０２２４】
【発明の効果】
本発明によれば、耐水性に優れ、かつガスによる影響が少なく、さらには耐溶剤性に優れ、広い湿度領域で安定した出力特性を示す湿度センサ素子が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の湿度センサ素子の構成例の一つを示す平面図である。
【図２】実施例１で得た湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図３】実施例１で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図４】実施例２で得た湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図５】実施例２で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図６】実施例３の湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図７】実施例３で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図８】実施例４で得た湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図９】実施例４で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図１０】実施例５で得た湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図１１】実施例５で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図１２】比較例１の湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図１３】比較例１で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【図１４】実施例８で得た湿度センサ素子の出力特性の測定結果を示すグラフである。
【図１５】実施例８で得た湿度センサ素子の耐水性試験の測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
１ 湿度センサ素子
２ 絶縁基板
３ 感湿薄膜
４ 電極
５ ギャップ
６ 電極端子
７ リード線
８ 半田
９ レジスト膜

Claims (14)

1. 絶縁基板上にギャップを介して対向するように一対の電極を有し、このギャップ上に感湿薄膜を有する湿度センサ素子において、前記感湿薄膜が、式（１）で示されるモノマーの１種以上と式（２）で示されるモノマーの１種以上との共重合体を含有する湿度センサ素子。
   

   

   ［式（１）において、ＡおよびＢはそれぞれ二価基を表わす。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅およびＹ₆は、それぞれ一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよく、これらのうち少なくとも一つは、エチレン性不飽和反応基を末端に有する基である。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅、Ａおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上、またはＹ₄，Ｙ₅、Ｙ₆，Ｂおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうちの任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ_l ^-およびＸ₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。ｎは、２〜５０００である。］
   

   

   ［式（２）において、Ａ₁₁は二価基を表わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれアルキル基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｙ_l1およびＹ₁₂は、それぞれエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。］
2. 式（１）中のＸ_l ^-およびＸ₂ ^-で表わされる陰イオン、ならびに式（２）中のＸ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-で表わされる陰イオンが、それぞれハロゲン化物イオンである請求項１の湿度センサ素子。
3. ハロゲン化物イオンとして塩化物イオンまたは臭化物イオンを含む請求項２の湿度センサ素子。
4. 式（１）中のＡおよびＢで表わされる二価基、ならびに式（２）中のＡ₁₁で表わされる二価基が、それぞれアルキレン基、アルケニレン基もしくはアリーレン基またはこれらの組合せである請求項１〜３のいずれかの湿度センサ素子。
5. 式（２）中のＹ₁₁およびＹ₁₂で表わされる一価基が、それぞれアクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンエステル基またはアクリル酸もしくはメタクリル酸アルキレンアミド基である請求項１〜４のいずれかの湿度センサ素子。
6. 式（２）で示されるモノマーが、アクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルエステルまたはアクリル酸もしくはメタクリル酸ジアルキルアミノエチルアミドとジハロゲン化合物とを反応させて得られる２官能性モノマーである請求項１〜５のいずれかの湿度センサ素子。
7. 式（２）で示されるモノマーが、ジアルキルアミノ基を有するアクリル系不飽和化合物と式（２）中のＡ₁₁で表わされる二価基のジハロゲン化合物との反応で得られたものである請求項１〜６のいずれかの湿度センサ素子。
8. 前記共重合体が、さらに、アルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーとの共重合体である請求項１〜７のいずれかの湿度センサ素子。
9. 前記絶縁基板が、最表層の汚染物および／または酸化物を物理的手段により除去した絶縁基板である請求項１〜８のいずれかの湿度センサ素子。
10. 絶縁基板上にギャップを介して対向するように一対の電極を有し、このギャップ上に感湿薄膜を有する湿度センサ素子の製造方法において、式（１）で示されるモノマーおよび式（２）で示されるモノマーを含有する塗布液を、絶縁基板上に塗布し、次いで共重合させて感湿薄膜を形成する湿度センサ素子の製造方法。
    

    

    ［式（１）において、ＡおよびＢはそれぞれ二価基を表わす。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅およびＹ₆は、それぞれ一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよく、これらのうち少なくとも一つは、エチレン性不飽和反応基を末端に有する基である。Ｙ_l，Ｙ₂，Ｙ₃，Ｙ₄，Ｙ₅、Ａおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上、またはＹ₄，Ｙ₅、Ｙ₆，Ｂおよびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうちの任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ_l ^-およびＸ₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。ｎは、２〜５０００である。］
    

    

    ［式（２）において、Ａ₁₁は二価基を表わす。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は、それぞれアルキル基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｙ_l1およびＹ₁₂は、それぞれエチレン性不飽和反応性基を末端に有する一価基を表わし、同一でも異なるものであってもよい。Ｒ₁₁〜Ｒ₁₄、Ｙ₁₁、Ｙ₁₂、Ａ₁₁およびこれらの窒素原子（Ｎ）側の一部のうち任意の２つ以上は、それぞれ結合して窒素原子（Ｎ）とともに環を形成してもよい。Ｘ₁₁ ^-およびＸ₁₂ ^-は、それぞれ陰イオンを表わし、同一でも異なるものであってもよい。］
11. あらかじめアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーで絶縁基板を処理して、アクリル系官能基を絶縁基板に結合し、次いで前記塗布液を塗布するか、またはあらかじめアルコキシシリル基を有するアクリル系モノマーを前記塗布液に含有させるかして感湿薄膜を形成する請求項１０の湿度センサ素子の製造方法。
12. 絶縁基板の最表層の汚染物および／または酸化物を物理的手段により除去し、次いで前記塗布液を塗布する請求項１０の湿度センサ素子の製造方法。
13. 物理的手段が、プラズマ表面処理である請求項１２の湿度センサ素子の製造方法。
14. 紫外線照射により共重合する請求項１０〜１３のいずれかの湿度センサ素子の製造方法。

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