JP3863996B2 - Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board - Google Patents

Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP3863996B2
JP3863996B2 JP20116698A JP20116698A JP3863996B2 JP 3863996 B2 JP3863996 B2 JP 3863996B2 JP 20116698 A JP20116698 A JP 20116698A JP 20116698 A JP20116698 A JP 20116698A JP 3863996 B2 JP3863996 B2 JP 3863996B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystallized glass
parts
weight
ceramic composite
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP20116698A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2000016837A (en
Inventor
秀俊 水谷
努 境
真司 鈴村
聡 飯尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Spark Plug Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP20116698A priority Critical patent/JP3863996B2/en
Publication of JP2000016837A publication Critical patent/JP2000016837A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3863996B2 publication Critical patent/JP3863996B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、結晶化ガラス−セラミック複合体及びそれを用いた配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージに関する。更に詳しくは、本発明の複合体は高熱膨張であり、低誘電率であり、銀、銅等の低抵抗配線と同時焼成が可能であり、高い機械的強度をもつ、という優れた特性を備えると共に、耐湿性にも優れた結晶化ガラス−セラミック複合体及びそれを用いた配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージに関する。
【0002】
【従来の技術】
これまでに、プリント配線板を面実装するタイプのパッケージ或いは圧電素子をパッケージに実装するために、プリント配線板或いは圧電素子との熱膨張係数の差を小さくしたパッケージ材料として、ガラス−セラミック複合体が開発されてきた。例えば、リチウムシリケート結晶を使ったもの(特開平9−17904号公報、特開平9−74153号公報、特開平9−86960号公報、特開平9−142879号公報、特開平9−142880号公報、特開平9−169568号公報、特開平9−208261号公報、特開平9−208299号公報)や、フォルステライトを使ったもの(特開平6−191887号公報、特開平9−208261号公報等)が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、これらのガラス−セラミック複合体では、いずれも、熱膨張差を小さくするために、即ち熱膨張率を大きくするために、このガラス中に5〜20重量%程度の比較的高濃度のアルカリ金属酸化物が含有されている。従って、これらの複合体においては、結晶化が不十分でガラス中にアルカリ金属酸化物が残留することで、耐湿性が劣化し、誘電損失が増加し、更には絶縁抵抗が低下するので、配線基板材料としては好ましくない。これらの公報のうち、特に、特開平9−142879号公報、特開平9−169568号公報及び特開平9−208261号公報は、ガラスとして結晶化ガラスを用いている。しかし、特開平9−142879号公報においては、高強度を目的としており、そのためにガラスの屈伏点を400〜770℃とするものである。特開平9−169568号公報においては、Cr化合物等を配合することにより焼結体を着色させようとするものである。また、特開平9−208261号公報においては、結晶化ガラス中にP25成分を含有させて十分に結晶化させ、且つフォルステライトを所定量含有させて、圧電部品の熱膨張係数に近似させるとともに高強度を得ようとするものである。以上に示すように、これらの結晶化ガラスを用いた場合においても、耐湿性に加えて、高熱膨張であり、低誘電率であり、低抵抗配線と同時焼成が可能であり且つ高強度な性能を全て備えた結晶化ガラス−セラミック複合体が得られていない。
【0004】
本発明は上記の課題を解決したものであり、高熱膨張であり、低誘電率であり、低抵抗配線と同時焼成が可能であり、且つ高い機械的強度を持つと共に、耐湿性にも優れた新たな組成の結晶化ガラス−セラミック複合体及びそれを用いた配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、アルカリ金属化合物を含有しない新たな組成において、高熱膨張であり、低誘電率であり、低抵抗配線と同時焼成が可能であり、且つ高い機械的強度を持つと共に、耐湿性にも優れた、結晶化ガラス−セラミック複合体を検討したところ、アルカリ金属化合物を含有しないか又は極めて少量の含量であっても、結晶相としてディオプサイド(CaO・MgO・2SiO2)及びエンスタタイト(MgO・SiO2)を同時に析出する結晶化ガラス及びSiO2系のフィラーを所定割合に配合することにより達成できることを見出して、本発明を完成したものである。
【0006】
発明の結晶化ガラス−セラミック複合体(以下、「複合体」ともいう。)は、結晶相としてディオプサイド(CaO・MgO・2SiO)及びエンスタタイト(MgO・SiO)の両結晶を含有し、且つワラストナイト(CaO・SiO)を含有しない結晶化ガラスと、石英、クリストバライト及びトリジマイトから選ばれる少なくとも一種のフィラーと、を含む結晶化ガラス−セラミック複合体であって、上記結晶化ガラスの組成は、該結晶化ガラス成分全体を100重量部とする場合、SiO が40〜60重量部、MgOが15〜30重量部、CaOが15〜30重量部、Al が0.1〜10重量部、B が0.1〜10重量部の範囲であり、該結晶化ガラス−セラミック複合体を100重量部とする場合、上記結晶化ガラスが30〜90重量部(特に好ましくは、50〜90重量部)、上記フィラーが10〜70重量部(特に好ましくは、10〜50重量部)であり、該結晶化ガラス−セラミック複合体全体を100重量部とする場合、アルカリ金属酸化物を含まない、又は1重量部以下含むものであることを特徴とする。
このアルカリ金属酸化物の含有量が1重量部を超える場合は、耐湿性(耐水性)が低下するからである。尚、この含有量は、アルカリ元素化合物を積極的に含有させずに、即ち不純物程度に含有されるもの又はそれ以下のものである。従って、上記の「含まない」とは、現在の測定限界値(数ppmオーダー)以下は含まない意味に用いるものとする。
【0007】
上記「結晶化ガラス」の組成(組成成分種類及び組成割合)は、アルカリ金属酸化物が不純物程度以下に含まれる(又は含まれない。)ものであり且つ結晶化ガラスとなるようなものであればよい。特に、この組成は、結晶化ガラス成分全体を100重量部とする場合、SiOが40〜60重量部(好ましくは、45〜57重量部)、MgOが15〜30重量部(好ましくは、17〜30重量部、より好ましくは、18〜28重量部)、CaOが15〜30重量部(好ましくは18〜29重量部、特に好ましくは20〜29重量部)、Alが0.1〜10重量部(好ましくは0.1〜5重量部)、Bが0.1〜10重量部(好ましくは0.1〜8重量部)の範囲とすることができる。
【0008】
このSiO2が60重量部を越えるとガラスの焼成時の粘性が上がり緻密化しにくくなり、40重量部より少ないとガラス化しにくくなる。このMgOが30重量部を越えるとガラス化しにくくなり、15重量部より少ないとディオプサイドの析出が少なくなり、強度が低下する。このCaOが30重量部を越えるとエンスタタイトの結晶がなくなり、15重量部より少ないとガラスの焼成時の粘性が上がり緻密化しにくくなる。尚、このCaOの含有量は28重量部以下とすることが好ましく、この場合にはワラストナイトの結晶の生成をより確実に防止できる。このAl23が10重量部を越えると失透しやすくなり、0.1重量部より少ないとガラスの焼成時の粘性が上がり緻密化しにくくなる。このB23が10重量部を越えるとディオプサイドの結晶の析出が少なくなり強度が低下し、0.1重量部より少ないとガラスの焼成時の粘性が上がり緻密化しにくくなる。
【0009】
本発明の結晶化ガラスの組成成分として、更に、核形成剤を配合することができる。この核形成剤としては、結晶化ガラスの核形成用に用いられるものであればよく、例えば、TiO、ZrO及びSnOのうちの少なくとも1種を用いることができ、通常、このうち、TiO又はZrOが用いられる。この核形成剤の配合量は、結晶化ガラス成分全体を100重量部とする場合、上記TiO、ZrO及びSnOのうちの1種又は2種以上を5重量部以下(通常、3重量部以上、好ましくは1重量部以下)含有するものとすることができる。これが5重量部を越える場合は、緻密化を阻害するため、好ましくない。
更に、本結晶化ガラスには、Pbが含まれていない。これは、毒性の高いPbによる被毒を防止するための装置及び管理を不必要にするためである。
【0010】
上記「フィラー」としては、石英、クリストバライト及びトリジマイトから選ばれる一種又は二種以上であればよいが、通常、石英のみ、石英とクリストバライトとの組み合わせ、石英とトリジマイトとの組み合わせ等が用いられる。また、このフィラーとしては、更にマグネシア及び/又はアルミナを用いることができる。このフィラーの配合量が10重量部未満の場合は、低誘電率化及び高熱膨張化の効果が少なく、70重量部を越える場合は、緻密化しにくくなり好ましくない。
【0011】
本発明の結晶化ガラス−セラミック複合体は、吸水率が0.1%以下、熱膨張係数が8〜15ppm/℃(好ましくは9〜14ppm/℃)、抗折強度が150MPa以上(好ましくは170MPa、且つ誘電率が8以下(好ましくは7以下)とすることができる。
【0012】
発明の配線基板は、上記発明に示される結晶化ガラス−セラミック複合体から成る基板部と、この基板部内又はこの基板部上に形成された配線パターン部と、を備えることを特徴とする。尚、この基板部内に配線パターン部(特に2以上の配線パターン部)を備える場合は、複数のグリーンシートを積層して作製された多層配線基板となる。このグリーンシートの積層数は、特に限定されない。また、上下に隣接する配線パターン部は、ビアにより電気的に接続される。更に、基板部表面のみに配線パターン部を形成させた場合は、単層配線基板となる。
また、発明のパッケージは、上記の配線基板を備え、更に、例えばこの配線基板に搭載される各種チップ及び密閉用の蓋等を具備する。
【0013】
本発明の複合体では、結晶相としてディオプサイド及びエンスタタイトを同時に析出する結晶化ガラスと、フィラーとして高熱膨張で低誘電率のSiO2系の結晶とが複合化されているので、ディオプサイドの結晶化を促進でき、アルカリ金属酸化物を含有しなくても、誘電率が小さく(例えば8以下)、且つ熱膨張係数(例えば8〜15ppm/℃程度)が大きな複合体が得られる。特に、MgOの含有量を多くすることにより、ワラストナイト結晶の生成を抑えている。また、結晶化ガラスを用いるので、低温で焼成した場合でも、高い緻密性を備える複合体とでき、これにより耐水性及び高強度を確保できる。更に、本複合体にはアルカリ金属酸化物が含まれないか又は著しく少ないので、上記耐水性は特に向上し、更に誘電損失を低下させることができる。
【0014】
また、フィラーとしてマグネシア及びアルミナの少なくとも1種を添加することにより、更なる高熱膨張化及び高強度化を図ることができる。更に、結晶化ガラスに核形成剤としてTiO2、ZrO2及びSnO2の少なくとも1種を添加する場合は、結晶化が促進され、高強度化をより一層図ることができる。また、結晶化ガラスの組成において、ディオプサイド組成(CaO・MgO・2SiO2)よりもSiO2成分量を少なくすることにより、特にSiO2系フィラーとの濡れ性及び反応性を向上させ、焼結性を高めることができる。
更に、本発明の配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージは、上記に示す有用な結晶化ガラス−セラミック複合体を基板に用いるので、プリント配線板、圧電素子等の高熱膨張素材との熱膨張の整合を図ることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1
本実施例は結晶化ガラス−セラミック複合体に関するものである。
(1)ガラス粉末の調製
表1に示す量比の各粉末成分を混合したものを1450℃の温度で熔解し、その後、急冷してガラスを得た。このガラスをエタノール中で湿式粉砕した後、平均粒径3〜7μmのガラス粉末No.G1〜G20(本発明品;G1〜G14、比較品;G13〜G20)を得た。
【0016】
【表1】

Figure 0003863996
【0017】
(2)結晶化ガラス−セラミック複合体の製造
上記ガラス粉末と表2〜4に示す各添加フィラーを、この表2〜4に示す量比にし調製して、混合粉末(No.F1〜F31、本発明品;No.F1〜F25、比較品;No.F26〜F31)を作った。その後、この混合粉末100重量部(以下、単に「部」という。)にバインダ4部と、エタノール75部を加えて造粒し、80MPaの圧力を加えて成形した各成形体を得た。次いで、150MPaの圧力で等方静水圧プレス(CIP)処理を行い、この各成形体を大気雰囲気中で、850〜1000℃で焼成して、焼結体(結晶化ガラス−セラミック複合体)である各試験品No.F1〜F31(本発明品;No.F1〜F25、比較品;No.F26〜F31)を得た。
【0018】
【表2】
Figure 0003863996
【0019】
【表3】
Figure 0003863996
【0020】
【表4】
Figure 0003863996
【0021】
上記各焼結体について、X線回折により主結晶相の同定を行った。この結果を表5〜7に示す。その代表例として、試験品No.F1のX線チャートを、図1に示す。また、この各焼結体中に含まれるアルカリ金属(Li、Na、K)の酸化物量を測定した。この結果を表5〜7に示す。この測定はICP発光法により行った。
【0022】
更に、上記各焼結体を所定の大きさに研磨し、各試験片No.F1〜F31を得、この各試験品について、吸水率、抗折強度、熱膨張係数及び比誘電率(εr)を測定した。この各測定方法は以下の通りである。これらの結果を表5〜7に示す。
(1)吸水率;JIS C 2141による。
(2)抗折強度;JIS R 1601の3点曲げ法(3×4mm、スパン:30mm)によった。
(3)熱膨張係数;試験片:4mmφ×20mm、温度30〜400℃、で示差膨張式熱機械分析装置にて測定を行った。
(4)比誘電率;1MHzにおいてRF−インピーダンス法により測定を行った。
【0023】
【表5】
Figure 0003863996
【0024】
【表6】
Figure 0003863996
【0025】
【表7】
Figure 0003863996
【0026】
(3)実施例1の効果
表1〜7の結果によれば、以下のことが判る。
まず、試験例No.F26では、各本発明品に比べて結晶化ガラス中のSiO2量が多いために、緻密化が不十分となり、吸水率が16.2%と大きくなる。試験例No.F27では、結晶化ガラス中のAl23が多いため、緻密化が不十分となり、吸水率が5.6%と高くなる。試験例No.F28では、各本発明品に比べて結晶化ガラス中のB23が多いため抗折強度が140MPaと低下する。試験例No.F29では、各本発明品に比べて結晶化ガラス中のTiO2が多過ぎるため、緻密化が不十分となり、吸水率が2.1%と高くなる。更に、比較品No.F26、27、29、30では950℃という高温で焼成しても十分に緻密化しなかった。
【0027】
一方、本発明品であるNo.F1〜F25の複合体のいずれにも、結晶相としてディオプサイト、エンスタタイト、フォルステライト、ラーナイト及びα-石英を確認(図1参照)し、ワラストナイトの結晶は確認されなかった。尚、MgO含有量が本発明品の中で最も少ない(17.0重量%)結晶化ガラス(No.G10)を用いた場合(No.F17)でも、ワラストナイトの結晶は確認されなかった。
【0028】
一方、試験品No.F1〜F25に示した各発明品については、結晶化ガラス組成が、SiO2:42.0〜57.0重量%(以下、単に「%」と言う。)、MgO:17.0〜28.0%、CaO:16.0〜28.7%、Al23:0.3〜8.0%、B23:0.2〜7.0%、の範囲(表1参照)、結晶化ガラスの配合量が55〜80%の範囲(表2及び3参照)、石英系フィラーの添加量が20〜40%の範囲(表2及び3参照)であるので、いずれも吸水率が0.1%以下、抗折強度が170〜240MPa、熱膨張係数が9.5〜12.8ppm/℃、誘電率が6.0〜7.5(特に6.0〜7.0、更に6.0〜6.7)であり(表5〜7参照)、すべての性能について実用的で優れたものである。そして、これらの全ての本発明品において、ディオプサイド結晶及びエンスタタイト結晶の両方が生成されており、ワラストナイト結晶は生成されなかった。 また、上記全ての本発明品においては、アルカリ金属酸化物の含有量が1.0%以下という少量であった。
【0029】
特に、SiO2系結晶のフィラーの添加量が20%〜40%まで順次増大するに伴って(20%;No.F2、3、30%;No.F1、4、5、40%;No.F6、7、14)、高熱膨張化及び低誘電率化を実現していることが判る。更に、マグネシア又はアルミナをフィラーとして添加した場合(No.F2、F8、F12等)は、抗折強度が220〜240MPaと大きい。
また、結晶化ガラスの核形成剤としてTiO2、ZrO2又はSnO2を添加した場合(No.F11〜F14、F20、F21)は、結晶化が促進され高強度化、高熱膨張化が可能となる。更に、本発明品においては、850〜1000℃で焼成しており、いずれの場合も緻密体が得られている。特に、石英系フィラーの添加量が30%以下の多くの場合では、850〜900℃というやや低温で焼成しても緻密体が得られている。
【0030】
実施例2
本実施例は、配線基板に関するものである。
まず、以下の方法により、配線基板を製造した。
表1中のガラスNo.G1の組成を持つガラス粉末70部を、フィラー30部、アクリル系バインダ10部、可塑剤5部、及び分散剤1部とともに、トルエンとメチルエチルケトン及びアルコール系の混合溶剤中で十分に混合し、粉砕してスラリーを調製した。このフィラーとしては、石英を用いた。
【0031】
その後、このスラリーからドクターブレード法によって、厚み0.1〜0.7mmのグリーンシートを作製した。このグリーンシート4枚(いずれも同材料からなる。)に、Ag(又はCu)ペーストを用いて、所定パターンの印刷を行い、また、上下の接続をとるためにビアホールにAg(又はCu)ペーストを充填した後、積層した。この4枚の積層された積層グリーンシートを、温度450℃で60分間の条件下において、樹脂抜きを行った。次いで、Agの場合は大気中(Cuの場合は窒素雰囲気中)、900℃の温度で30分間保持しながら焼成した。
【0032】
この配線基板1は、図2に示すように、所定組成の結晶化ガラス−セラミック複合体から成る基板部2と、この基板部2上及び基板部2内に形成された4層の配線パターン部3a〜3d備える。尚、この配線基板1は、4枚のグリーンシートを積層形成された4層配線基板であり、同図中、2a、2b、2c、2d各グリーンシートが焼成されてなる各基板層部を表している。
【0033】
上記により製造された多層配線基板1は、これを構成する基板部2が実施例1で説明した試験品No.F1の材料から構成される。従って、この配線基板は、高熱膨張な材料との整合に優れ、接合部の信頼性に欠けることもないし、低誘電率で、低抵抗配線と同時焼成が可能であり、且つ高い機械的強度を持つと共に、耐湿性にも優れ、配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージの性能として極めて優れている。
【0034】
尚、本発明においては、前記具体的実施例に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した実施例とすることができる。即ち、ガラス組成は、表1の示すものに限らず、本発明の範囲内における組成とすることができる。また、ガラス組成の種類と添加フィラーとの組合せは表2〜4に示す場合に限らず、種々の組合せを適用できる。
【0035】
【発明の効果】
本発明の結晶化ガラス−セラミック複合体は、アルカリ金属酸化物(更にはPb元素化合物)を含有しなくても、高熱膨張、低誘電率、機械的高強度、高吸湿性(高耐水性)及び低温焼成が可能という全ての特徴を同時に有する。従って、この複合体は、高熱膨張材料と表面実装するために用いられる配線基板材料として好適である
本発明の配線基板並びにその配線基板を具備するパッケージは、上記に示す優れた性能をバランスよく備えた結晶化ガラス−セラミック複合体を基板部に用いるので、プリント配線板、圧電素子等の高熱膨張素材との熱膨張の整合を図ることができ、そのため、高熱膨張素材を表面実装しても不具合が生じない。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1における試験例No.F1に係わる結晶化ガラスーセラミック複合体のX線回折結果を示すチャートである。
【図2】実施例2において製造された多層配線基板の縦断面図である。
【符号の説明】
1;配線基板、2;基板部、3a、3b、3c、3d;配線パターン部。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a crystallized glass-ceramic composite, a wiring board using the same, and a package including the wiring board. More specifically, the composite of the present invention has excellent properties such as high thermal expansion, low dielectric constant, simultaneous firing with low resistance wiring such as silver and copper, and high mechanical strength. In addition, the present invention relates to a crystallized glass-ceramic composite excellent in moisture resistance, a wiring board using the same, and a package including the wiring board.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a glass-ceramic composite has been used as a package material in which a difference in thermal expansion coefficient from a printed wiring board or a piezoelectric element is reduced in order to mount a package or a piezoelectric element of a surface mounting type on a printed wiring board. Has been developed. For example, those using lithium silicate crystals (Japanese Patent Laid-Open Nos. 9-17904, 9-74153, 9-86960, 9-142879, 9-142880, JP-A-9-169568, JP-A-9-208261, JP-A-9-208299, and those using forsterite (JP-A-6-191887, JP-A-9-208261, etc.) It has been known.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, in these glass-ceramic composites, in order to reduce the difference in thermal expansion, that is, to increase the coefficient of thermal expansion, a relatively high concentration alkali of about 5 to 20% by weight in the glass is used. Metal oxide is contained. Therefore, in these composites, the crystallization is insufficient and the alkali metal oxide remains in the glass, so that the moisture resistance is deteriorated, the dielectric loss is increased, and the insulation resistance is lowered. It is not preferable as a substrate material. Among these publications, in particular, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-142879, 9-169568, and 9-208261 use crystallized glass. However, Japanese Patent Laid-Open No. 9-142879 aims at high strength, and for that purpose, the yield point of glass is set to 400 to 770 ° C. In JP-A-9-169568, an attempt is made to color a sintered body by blending a Cr compound or the like. In JP-A-9-208261, the crystallized glass is sufficiently crystallized by containing a P 2 O 5 component, and a predetermined amount of forsterite is contained to approximate the thermal expansion coefficient of a piezoelectric component. And is intended to obtain high strength. As shown above, even when using these crystallized glasses, in addition to moisture resistance, high thermal expansion, low dielectric constant, simultaneous firing with low resistance wiring, and high strength performance A crystallized glass-ceramic composite having all of the above has not been obtained.
[0004]
The present invention solves the above problems, has high thermal expansion, low dielectric constant, can be simultaneously fired with low resistance wiring, has high mechanical strength, and is excellent in moisture resistance. It is an object of the present invention to provide a crystallized glass-ceramic composite having a new composition, a wiring board using the same, and a package including the wiring board.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The inventors of the present invention have a new composition that does not contain an alkali metal compound, high thermal expansion, low dielectric constant, simultaneous firing with low resistance wiring, high mechanical strength, and moisture resistance. Of the crystallized glass-ceramic composite, which is excellent in the production of diopside (CaO · MgO · 2SiO 2 ) and ensta The present invention has been completed by finding out that it can be achieved by blending crystallized glass and SiO 2 -based fillers that simultaneously precipitate tight (MgO · SiO 2 ) in a predetermined ratio.
[0006]
The crystallized glass-ceramic composite of the present invention (hereinafter also referred to as “composite”) has both crystals of diopside (CaO · MgO · 2SiO 2 ) and enstatite (MgO · SiO 2 ) as crystal phases. A crystallized glass-ceramic composite containing a crystallized glass containing and not containing wollastonite (CaO.SiO 2 ) and at least one filler selected from quartz, cristobalite and tridymite, wherein the crystal the composition of the glass, when it is 100 parts by weight of the entire said crystallized glass component, SiO 2 is 40 to 60 parts by weight, MgO is 15 to 30 parts by weight, CaO 15 to 30 parts by weight, Al 2 O 3 When 0.1 to 10 parts by weight, B 2 O 3 is in the range of 0.1 to 10 parts by weight, and the crystallized glass-ceramic composite is 100 parts by weight The crystallized glass is 30 to 90 parts by weight (particularly preferably, 50 to 90 parts by weight), and the filler is 10 to 70 parts by weight (particularly preferably 10 to 50 parts by weight). When the total ceramic composite is 100 parts by weight, it is characterized by not containing an alkali metal oxide or containing 1 part by weight or less.
This is because when the content of the alkali metal oxide exceeds 1 part by weight, the moisture resistance (water resistance) decreases. In addition, this content does not contain an alkali element compound positively, ie, is contained to the extent of impurities, or less. Therefore, the above “not including” is used to mean not including the current measurement limit value (several ppm order) or less.
[0007]
The composition (type of composition component and composition ratio) of the above “crystallized glass” is such that the alkali metal oxide is included (or not included) below the impurity level and becomes a crystallized glass. That's fine. In particular, in this composition, when the entire crystallized glass component is 100 parts by weight, SiO 2 is 40 to 60 parts by weight (preferably 45 to 57 parts by weight), and MgO is 15 to 30 parts by weight (preferably 17 parts by weight). To 30 parts by weight, more preferably 18 to 28 parts by weight), CaO to 15 to 30 parts by weight (preferably 18 to 29 parts by weight, particularly preferably 20 to 29 parts by weight), and Al 2 O 3 to 0.1 To 10 parts by weight (preferably 0.1 to 5 parts by weight), and B 2 O 3 can be in the range of 0.1 to 10 parts by weight (preferably 0.1 to 8 parts by weight).
[0008]
If this SiO 2 exceeds 60 parts by weight, the viscosity during firing of the glass will increase and it will be difficult to densify, and if it is less than 40 parts by weight, it will be difficult to vitrify. If this MgO exceeds 30 parts by weight, it becomes difficult to vitrify, and if it is less than 15 parts by weight, precipitation of diopside is reduced and the strength is lowered. If this CaO exceeds 30 parts by weight, the enstatite crystals disappear, and if it is less than 15 parts by weight, the viscosity at the time of firing the glass increases and it becomes difficult to densify. The CaO content is preferably 28 parts by weight or less. In this case, the formation of wollastonite crystals can be more reliably prevented. If this Al 2 O 3 exceeds 10 parts by weight, devitrification tends to occur, and if it is less than 0.1 parts by weight, the viscosity at the time of firing of the glass increases and it becomes difficult to make it dense. If this B 2 O 3 exceeds 10 parts by weight, the precipitation of diopside crystals is reduced and the strength is lowered, and if it is less than 0.1 parts by weight, the viscosity at the time of firing the glass increases and it becomes difficult to make it dense.
[0009]
As a composition component of the crystallized glass of the present invention, a nucleating agent can be further blended. Any nucleating agent may be used as long as it is used for nucleation of crystallized glass. For example, at least one of TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 can be used. TiO 2 or ZrO 2 is used. The compounding amount of the nucleating agent is 5 parts by weight or less (usually 3 parts by weight) of one or more of TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 when the entire crystallized glass component is 100 parts by weight. Part or more, preferably 1 part by weight or less). When this exceeds 5 weight part, since densification is inhibited, it is unpreferable.
Further, the crystallized glass does not contain Pb. This is because an apparatus and management for preventing poisoning due to highly toxic Pb are unnecessary.
[0010]
The “filler” may be one or more selected from quartz, cristobalite, and tridymite. Usually, only quartz, a combination of quartz and cristobalite, a combination of quartz and tridymite, and the like are used. Further, magnesia and / or alumina can be used as the filler. If the blending amount of the filler is less than 10 parts by weight, the effect of lowering the dielectric constant and increasing the thermal expansion is small, and if it exceeds 70 parts by weight, it becomes difficult to densify, which is not preferable.
[0011]
The crystallized glass-ceramic composite of the present invention has a water absorption of 0.1% or less, a thermal expansion coefficient of 8 to 15 ppm / ° C. (preferably 9 to 14 ppm / ° C.), and a bending strength of 150 MPa or more (preferably 170 MPa. The dielectric constant can be 8 or less (preferably 7 or less).
[0012]
Wiring board of the present invention, crystallized glass shown in the present invention - characterized in that it comprises a substrate portion made of a ceramic composite body, and the substrate portion or the wiring pattern formed on the substrate portion on the . In addition, when a wiring pattern part (especially two or more wiring pattern parts) is provided in this board part, it becomes a multilayer wiring board produced by laminating a plurality of green sheets. The number of stacked green sheets is not particularly limited. Further, the wiring pattern portions adjacent in the vertical direction are electrically connected by vias. Further, when the wiring pattern portion is formed only on the surface of the substrate portion, a single-layer wiring substrate is obtained.
The package of the present invention includes the above wiring board, and further includes, for example, various chips mounted on the wiring board, a sealing lid, and the like.
[0013]
In the composite of the present invention, a crystallized glass in which diopside and enstatite are simultaneously precipitated as a crystal phase and a SiO 2 -based crystal having a high thermal expansion and a low dielectric constant are combined as a filler. Even if it does not contain an alkali metal oxide, a composite having a small dielectric constant (for example, 8 or less) and a large thermal expansion coefficient (for example, about 8 to 15 ppm / ° C.) can be obtained. In particular, the generation of wollastonite crystals is suppressed by increasing the content of MgO. In addition, since crystallized glass is used, even when fired at a low temperature, a composite having high density can be obtained, thereby ensuring water resistance and high strength. Furthermore, since the present composite does not contain or significantly contains an alkali metal oxide, the water resistance is particularly improved, and the dielectric loss can be further reduced.
[0014]
Further, by adding at least one of magnesia and alumina as a filler, it is possible to achieve further higher thermal expansion and higher strength. Furthermore, when at least one of TiO 2 , ZrO 2 and SnO 2 is added to the crystallized glass as a nucleating agent, crystallization is promoted and the strength can be further increased. Further, in the composition of the crystallized glass, the wettability and reactivity with the SiO 2 filler are improved particularly by reducing the amount of SiO 2 component compared to the diopside composition (CaO · MgO · 2SiO 2 ). It can increase the ligation.
Furthermore, the wiring board of the present invention and the package including the wiring board use the above-described useful crystallized glass-ceramic composite for the board, so that thermal expansion with a high thermal expansion material such as a printed wiring board and a piezoelectric element is possible. Can be achieved.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The present invention will be specifically described below with reference to examples.
Example 1
This example relates to a crystallized glass-ceramic composite.
(1) Preparation of glass powder A mixture of powder components having a quantitative ratio shown in Table 1 was melted at a temperature of 1450 ° C, and then rapidly cooled to obtain glass. After this glass was wet pulverized in ethanol, glass powder No. 3 having an average particle size of 3 to 7 μm was obtained. G1 to G20 (invention product; G1 to G14, comparative product; G13 to G20) were obtained.
[0016]
[Table 1]
Figure 0003863996
[0017]
(2) Manufacture of crystallized glass-ceramic composite The above glass powder and each additive filler shown in Tables 2 to 4 were prepared in the quantitative ratios shown in Tables 2 to 4, and mixed powders (No. F1 to F31, Invention product: No. F1 to F25, Comparative product: No. F26 to F31). Thereafter, 4 parts of a binder and 75 parts of ethanol were added to 100 parts by weight of the mixed powder (hereinafter simply referred to as “parts”), granulated, and each molded body formed by applying a pressure of 80 MPa was obtained. Subsequently, an isotropic hydrostatic press (CIP) process is performed at a pressure of 150 MPa, and each molded body is fired at 850 to 1000 ° C. in an air atmosphere to obtain a sintered body (crystallized glass-ceramic composite). Each test product No. F1-F31 (the product of the present invention; No. F1-F25, comparative product; No. F26-F31) was obtained.
[0018]
[Table 2]
Figure 0003863996
[0019]
[Table 3]
Figure 0003863996
[0020]
[Table 4]
Figure 0003863996
[0021]
About each said sintered compact, the main crystal phase was identified by X-ray diffraction. The results are shown in Tables 5-7. As a representative example, the test product No. An X-ray chart of F1 is shown in FIG. Moreover, the oxide amount of the alkali metal (Li, Na, K) contained in each sintered body was measured. The results are shown in Tables 5-7. This measurement was performed by ICP emission method.
[0022]
Furthermore, each said sintered compact was grind | polished to the predetermined magnitude | size, and each test piece No. F1 to F31 were obtained, and the water absorption, the bending strength, the thermal expansion coefficient, and the relative dielectric constant (εr) of each test product were measured. Each measuring method is as follows. These results are shown in Tables 5-7.
(1) Water absorption rate: According to JIS C 2141.
(2) Folding strength: According to JIS R 1601 three-point bending method (3 × 4 mm, span: 30 mm).
(3) Thermal expansion coefficient: Test piece: 4 mmφ × 20 mm, temperature 30 to 400 ° C., measured with a differential expansion thermomechanical analyzer.
(4) Dielectric constant: Measured by RF-impedance method at 1 MHz.
[0023]
[Table 5]
Figure 0003863996
[0024]
[Table 6]
Figure 0003863996
[0025]
[Table 7]
Figure 0003863996
[0026]
(3) Effects of Example 1 According to the results in Tables 1 to 7, the following can be understood.
First, Test Example No. In F 26, in order SiO 2 content in the crystallized glass as compared to the present invention product is large, the densification becomes insufficient, water absorption increases as 16.2%. Test Example No. In F 27, since Al 2 O 3 of the crystallized glass is high, the densification becomes insufficient, water absorption is as high as 5.6%. Test Example No. In F28, since the amount of B 2 O 3 in the crystallized glass is larger than that of each product of the present invention, the bending strength is lowered to 140 MPa. Test Example No. In F29, since there is too much TiO 2 in the crystallized glass as compared with the products of the present invention, the densification is insufficient and the water absorption is as high as 2.1%. Furthermore, comparative product No. F26, 27, 29, and 30 were not sufficiently densified even when fired at a high temperature of 950 ° C.
[0027]
On the other hand, no. Diopsite, enstatite, forsterite, larnite and α-quartz were confirmed as crystal phases in any of the composites F1 to F25 (see FIG. 1), and no wollastonite crystals were confirmed. Even when the crystallized glass (No. G10) having the lowest MgO content (17.0% by weight) among the products of the present invention was used (No. F17), no wollastonite crystals were observed. .
[0028]
On the other hand, the test product No. Each inventions shown in F1~F25, crystallized glass composition, SiO 2: 42.0 to 57.0 wt% (hereinafter, simply referred to as "%".), MgO: 17.0~28. 0%, CaO: 16.0 to 28.7%, Al 2 O 3 : 0.3 to 8.0%, B 2 O 3 : 0.2 to 7.0% (see Table 1), Since the blending amount of the crystallized glass is in the range of 55 to 80% (see Tables 2 and 3) and the addition amount of the quartz filler is in the range of 20 to 40% (see Tables 2 and 3), both have a water absorption rate. 0.1% or less, flexural strength of 170 to 240 MPa, thermal expansion coefficient of 9.5 to 12.8 ppm / ° C., dielectric constant of 6.0 to 7.5 (especially 6.0 to 7.0, further 6 0.0 to 6.7) (see Tables 5 to 7), which is practical and excellent for all performance. In all these products of the present invention, both diopside crystals and enstatite crystals were generated, and wollastonite crystals were not generated. Moreover, in all the said products of this invention, content of the alkali metal oxide was a small amount of 1.0% or less.
[0029]
In particular, as the amount of SiO 2 -based crystal filler gradually increases from 20% to 40% (20%; No. F2, 3, 30%; No. F1, 4, 5, 40%; F6, 7, 14), it can be seen that high thermal expansion and low dielectric constant are realized. Furthermore, when magnesia or alumina is added as a filler (No. F2, F8, F12, etc.), the bending strength is as large as 220 to 240 MPa.
In addition, when TiO 2 , ZrO 2 or SnO 2 is added as a nucleating agent for crystallized glass (No. F11 to F14, F20, F21), crystallization is promoted and high strength and high thermal expansion are possible. Become. Furthermore, in this invention product, it baked at 850-1000 degreeC, and the dense body is obtained in any case. In particular, in many cases where the addition amount of the quartz filler is 30% or less, a dense body is obtained even when firing at a slightly low temperature of 850 to 900 ° C.
[0030]
Example 2
The present embodiment relates to a wiring board.
First, a wiring board was manufactured by the following method.
Glass No. in Table 1 Mix 70 parts of glass powder having the composition of G1 in a mixed solvent of toluene, methyl ethyl ketone and alcohol together with 30 parts of filler, 10 parts of an acrylic binder, 5 parts of a plasticizer and 1 part of a dispersant, and pulverize To prepare a slurry. Quartz was used as this filler.
[0031]
Thereafter, a green sheet having a thickness of 0.1 to 0.7 mm was produced from this slurry by a doctor blade method. On these four green sheets (both are made of the same material), a predetermined pattern is printed using Ag (or Cu) paste, and Ag (or Cu) paste is placed in the via holes to make the upper and lower connections. And then laminated. The resin was removed from the four laminated green sheets at a temperature of 450 ° C. for 60 minutes. Next, in the case of Ag, it was fired in the air (in the case of Cu, in a nitrogen atmosphere) while being held at 900 ° C. for 30 minutes.
[0032]
As shown in FIG. 2, the wiring board 1 includes a substrate part 2 made of a crystallized glass-ceramic composite having a predetermined composition, and four layers of wiring pattern parts formed on and in the substrate part 2. 3a-3d are provided. The wiring board 1 is a four-layer wiring board formed by laminating four green sheets. In the figure, the wiring board 1 represents each board layer portion formed by firing the green sheets 2a, 2b, 2c, and 2d. ing.
[0033]
In the multilayer wiring board 1 manufactured as described above, the substrate part 2 constituting the same is the test product No. described in the first embodiment. It is comprised from the material of F1. Therefore, this wiring board is excellent in matching with a material having a high thermal expansion, does not lack reliability of the joint, has a low dielectric constant, can be simultaneously fired with a low resistance wiring, and has high mechanical strength. In addition to having excellent moisture resistance, the performance of the wiring board and the package including the wiring board is extremely excellent.
[0034]
The present invention is not limited to the specific examples described above, and various modifications can be made within the scope of the present invention depending on the purpose and application. That is, the glass composition is not limited to that shown in Table 1, and can be a composition within the scope of the present invention. Moreover, the combination of the kind of glass composition and an addition filler is not restricted to the case shown in Tables 2-4, A various combination is applicable.
[0035]
【The invention's effect】
The crystallized glass-ceramic composite of the present invention has high thermal expansion, low dielectric constant, high mechanical strength, high hygroscopicity (high water resistance) even if it does not contain an alkali metal oxide (or Pb element compound). And all the features that low temperature firing is possible. Therefore, this composite body is suitable as a wiring board material used for surface mounting with a high thermal expansion material, and the wiring board of the present invention and the package including the wiring board have the above-described excellent performance in a balanced manner. Because the crystallized glass-ceramic composite is used for the substrate part, thermal expansion matching with high thermal expansion materials such as printed wiring boards and piezoelectric elements can be achieved. Does not occur.
[Brief description of the drawings]
1 shows test example No. 1 in Example 1. FIG. It is a chart which shows the X-ray-diffraction result of the crystallized glass ceramic composite concerning F1.
2 is a longitudinal sectional view of a multilayer wiring board manufactured in Example 2. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1; Wiring board, 2; Board | substrate part, 3a, 3b, 3c, 3d; Wiring pattern part.

Claims (6)

結晶相としてディオプサイド及びエンスタタイトの両結晶を含有し且つワラストナイトを含有しない結晶化ガラスと、石英、クリストバライト及びトリジマイトから選ばれる少なくとも一種のフィラーと、を含む結晶化ガラス−セラミック複合体であって、上記結晶化ガラスの組成は、該結晶化ガラス成分全体を100重量部とする場合、SiOが40〜60重量部、MgOが15〜30重量部、CaOが15〜30重量部、Alが0.1〜10重量部、Bが0.1〜10重量部の範囲であり、該結晶化ガラス−セラミック複合体を100重量部とする場合、上記結晶化ガラスが30〜90重量部、上記フィラーが10〜70重量部であり、該結晶化ガラス−セラミック複合体全体を100重量部とする場合、アルカリ金属酸化物を含まない、又は1重量部以下含むものであることを特徴とする結晶化ガラス−セラミック複合体。A crystallized glass-ceramic composite comprising a crystallized glass containing both diopside and enstatite crystals as a crystal phase and containing no wollastonite, and at least one filler selected from quartz, cristobalite and tridymite The composition of the crystallized glass is as follows. When the entire crystallized glass component is 100 parts by weight, SiO 2 is 40 to 60 parts by weight, MgO is 15 to 30 parts by weight, and CaO is 15 to 30 parts by weight. In the case where Al 2 O 3 is 0.1 to 10 parts by weight, B 2 O 3 is 0.1 to 10 parts by weight, and the crystallized glass-ceramic composite is 100 parts by weight, the above crystallization When the glass is 30 to 90 parts by weight, the filler is 10 to 70 parts by weight, and the entire crystallized glass-ceramic composite is 100 parts by weight, A crystallized glass-ceramic composite characterized in that it does not contain a metal oxide or contains 1 part by weight or less. 上記フィラーとして、更にマグネシア及びアルミナの少なくとも一種を含有する請求項1記載の結晶化ガラス−セラミック複合体。  The crystallized glass-ceramic composite according to claim 1, further comprising at least one of magnesia and alumina as the filler. 上記結晶化ガラスの組成に、更にTiO2、ZrO2及びSnO2のうちの少なくとも1種を含み、これらを含む結晶化ガラス成分全体を100重量部とする場合、上記TiO2、ZrO2及びSnO2のうちの少なくとも1種を5重量部以下含有する請求項1又は2記載の結晶化ガラス−セラミック複合体。The composition of the crystallized glass further comprises TiO 2, ZrO 2 and at least one of SnO 2, if the entire crystallized glass component containing them and 100 parts by weight, the TiO 2, ZrO 2 and SnO at least one of 2 containing less than 5 parts by claim 1 or 2, wherein the crystallized glass - ceramic composites. 吸水率が0.1%以下、熱膨張係数が8〜15ppm/℃、抗折強度が150MPa以上、且つ誘電率が8以下である請求項1乃至3のいずれかに記載の結晶化ガラス−セラミック複合体。  The crystallized glass-ceramic according to any one of claims 1 to 3, having a water absorption rate of 0.1% or less, a thermal expansion coefficient of 8 to 15 ppm / ° C, a bending strength of 150 MPa or more, and a dielectric constant of 8 or less. Complex. 請求項1乃至4のいずれかに記載の結晶化ガラス−セラミック複合体から成る基板部と、該基板部内又は該基板部上に形成された配線パターン部と、を備えることを特徴とする配線基板。  5. A wiring board comprising: a substrate portion made of the crystallized glass-ceramic composite according to claim 1; and a wiring pattern portion formed in or on the substrate portion. . 請求項1乃至4のいずれかに記載の結晶化ガラス−セラミック複合体から成る基板部と、該基板部内又は該基板部上に形成された配線パターン部と、を備える配線基板を具備することを特徴とするパッケージ。  A wiring board comprising: a substrate part made of the crystallized glass-ceramic composite according to claim 1; and a wiring pattern part formed in or on the substrate part. Features package.
JP20116698A 1998-06-30 1998-06-30 Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board Expired - Fee Related JP3863996B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20116698A JP3863996B2 (en) 1998-06-30 1998-06-30 Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20116698A JP3863996B2 (en) 1998-06-30 1998-06-30 Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000016837A JP2000016837A (en) 2000-01-18
JP3863996B2 true JP3863996B2 (en) 2006-12-27

Family

ID=16436471

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20116698A Expired - Fee Related JP3863996B2 (en) 1998-06-30 1998-06-30 Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3863996B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6753277B2 (en) * 2000-02-29 2004-06-22 Kyocera Corporation Ceramics having excellent high-frequency characteristics and method of producing the same
JP4929534B2 (en) * 2001-05-18 2012-05-09 株式会社村田製作所 Low temperature fired ceramic substrate
WO2003040057A1 (en) 2001-11-05 2003-05-15 Asahi Glass Company, Limited Glass ceramic composition
JP4637017B2 (en) * 2003-02-28 2011-02-23 太陽誘電株式会社 Ceramic composition and ceramic wiring board
KR101069952B1 (en) * 2009-09-01 2011-10-04 삼성전기주식회사 Low Temperature Co-fired Ceramic Substrate and manufacturing method thereof
WO2011105519A1 (en) 2010-02-24 2011-09-01 日本山村硝子株式会社 Glass composition and sealing material

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000016837A (en) 2000-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3358589B2 (en) Composition for ceramic substrate, green sheet and ceramic circuit component
EP1369402B2 (en) Tape composition for constrained sintering of low temperature co-fired ceramic
US4749665A (en) Low temperature fired ceramics
JP3240271B2 (en) Ceramic substrate
US7722732B2 (en) Thick film paste via fill composition for use in LTCC applications
JPH11335134A (en) Production of glass composition and dielectric composition, and formation of green tape
JPH04231363A (en) Conductive composition containing iolite and glass
EP1505040B1 (en) Thick film dielectric compositions for use on aluminium nitride substrates
JPH0881265A (en) Aluminum nitride sintered compact, its production, circuit board and its production
JP3863996B2 (en) Crystallized glass-ceramic composite, wiring board using the same, and package including the wiring board
EP0960866B1 (en) Ceramic substrate composition and ceramic circuit component
EP1435651A2 (en) Process for the constrained sintering of asymetrically configured dielectric layers
JP3419291B2 (en) Low-temperature sintered ceramic composition and multilayer ceramic substrate using the same
JP2001287984A (en) Glass ceramic composition
JP7348587B2 (en) glass ceramic dielectric
JP2000086288A (en) Crystallized glass-ceramic composite, wiring substrate using the same and package arranged with the wiring substrate
JP4569000B2 (en) Low-frequency sintered dielectric material for high frequency and its sintered body
JPS62278145A (en) Sintered material of glass ceramic
JPH0676227B2 (en) Glass ceramic sintered body
JP3890779B2 (en) Glass ceramic composition
JPH0617249B2 (en) Glass ceramic sintered body
JPH0617250B2 (en) Glass ceramic sintered body
JPH0758454A (en) Glass ceramic multilayered substrate
JPS63295473A (en) Dielectric material for circuit board
JP2014529573A (en) Low K low temperature co-fired composite (LTCC) tape composition and low shrinkage multilayer LTCC structure formed therefrom

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050530

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060516

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060711

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060801

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060811

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060906

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061002

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091006

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091006

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees