JP3814130B2

JP3814130B2 - カラーフィルター基板の製造方法

Info

Publication number: JP3814130B2
Application number: JP2000253817A
Authority: JP
Inventors: 正幸片上; 寛之北山
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2000-08-24
Filing date: 2000-08-24
Publication date: 2006-08-23
Anticipated expiration: 2020-08-24
Also published as: JP2002071929A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばカラー液晶表示装置に使用されるカラーフィルター基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、カラーフィルター基板の製造方法の１つとして、スピンコート法がある。このスピンコート法は、ガラス基板上にクロム等のメタルからなるブラックマトリックス（以下ＢＭと呼ぶ）を、フォトリソグラフィ、エッチングによって形成した後、上記ガラス基板の全面に、所定の色の顔料を分散させた感光性樹脂をスピンナーによってコーティングして乾燥し、その後、この感光樹脂を露光・現像して、所定の色の色画素パターンを得る。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂ（赤、緑、青）の３色について３回繰り返して、カラーフィルターパターンを形成する。
【０００３】
また、新たなカラーフィルター基板の製造方法としてカラードライフィルム法が行われている。この方法は、まず所定の顔料を分散させた感光性樹脂を、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム支持体上に塗膜し、この感光性樹脂をガラス基板上に熱圧着転写し、その後、この転写した感光性樹脂を露光・現像して、所定の色の色画素パターンを得る。以上の工程をＲ、Ｇ、Ｂの色画素パターンとＢＭとを形成するために４回繰り返して、カラーフィルター基板を形成する。このカラードライフィルム法は、フィルム支持体上に感光性樹脂を連続塗布するので、この感光性樹脂は上記スピンコート法による場合と比べて均一な膜厚になって、色画素パターンの品質が安定する。さらに、上記感光性樹脂はフィルム支持体上への塗布効率が良いので、顔料の使用量が少なくて済み、また、塗布時間も短いので、製造コストが低減できるという利点がある。
【０００４】
さらに最近では、インクジェット印刷やオフセット印刷などの印刷技術を用いて、ガラス基板上の所定の位置のみにＲＧＢのインクを印刷して色画素パターンを形成するというカラーフィルター基板の製造方法が提案されている。この方法は、色画素位置にのみインクを乗せるので、上記カラードライフィルム法よりさらに顔料の使用量が少なくて済み、また、フィルム支持体や塗膜保護用のフィルムが不要であるから材料費が非常に少ない。さらに、手間のかかる露光・現像の工程がなく、露光・現像装置が不要であるため、製造コストが安価になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記スピンコート法は、ガラス基板への感光性樹脂の塗布効率が悪く、また、製造工程も煩雑なため不良品が発生し易いという問題がある。
【０００６】
一方、上記カラードライフィルム法は、色画素配置がデルタ形状の場合は適用が極めて困難になるという問題がある。より詳しくは、図４に示すように、デルタ形状の色画素配置においては、最初の２色Ｒ，Ｂを形成した後、３色目の色画素パターンを形成すべき画素位置１０１が、それ以前に形成した２色Ｒ，Ｂの色画素パターン１０２,１０３によって囲まれる。その状態で、図５に示すようにローラ１０５によって３色目の感光性樹脂１０７をガラス基板１０８上にラミネートすると、上記２色の色画素パターン１０２,１０３によって空気の逃げ道が遮断されて、上記３色目の色画素パターンを形成すべき画素位置１０１に気泡１０９が生じる。なお、図５においては、１画素分の大きさの気泡１０９が生じているが、感光性樹脂１０７が貼り付けられると、上記気泡１０９はラミネート圧によって圧縮されて、１画素分以下の大きさのラミネート気泡となる場合が多い。上記ガラス基板１０８において、気泡１０９やラミネート気泡が生じた位置には、第３色目の感光性樹脂１０７が付着しないので、いわゆる色抜けの欠陥が生じてしまう。また、カラードライフィルム法は顔料の使用量は少ないが、前述の様にＰＴＥフィルム支持体等が必要なので、材料費全体としてはコストダウンにならない。
【０００７】
また、上記印刷法は、インクが色画素位置の外に漏れないように、色画素間の境界に形成されたＢＭをインクの区画壁として使用したり、上記ＢＭに撥水性を持たせるといった工夫が必要である。いずれにしても、カラーフィルター基板にＢＭを配置しなければならない。これに対して、前述のスピンコート法やカラードライフィルム法では、例えば特開平９−１５２５９３号公報に開示されているように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイ基板のソース配線メタルとゲート配線メタルをＢＭとして利用できる。すなわち、上記ソース配線メタルとゲート配線メタルとを層間絶縁層によって組み合わせて、これらの配線メタルによってＴＦＴアレイ基板の画素部分以外の部分を遮光することによって、カラーフィルター基板にＢＭを形成することを削除できる。こうしてＢＭを形成する工程を削除すると、大幅に製造コストが削減できる。したがって、ＢＭが必須である印刷法は、ＢＭを削除できる上記スピンコート法やカラードライフィルム法に比べると、必ずしもコスト面で有利とはいえない。また、印刷法においては、色画素パターンを形成するインクは多くの溶剤を含む。この溶剤は、インクがガラス基板上に印刷される際に、インクに不均一に含まれる場合が多い。その状態で、カラーフィルター基板の焼成の工程において上記溶剤が乾燥すると、インクによる色画素パターンの膜厚のばらつきが生じる。その結果、印刷法によって形成された色画素パターンは色むらが生じ易いという問題がある。
【０００８】
そこで、本発明の目的は、色画素配置がデルタ形状の場合おいても色画素パターンに気泡が生じることがなく、色むらがなく、ＢＭが不要で安価なカラーフィルター基板の製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によるカラーフィルター基板の製造方法は、透明基板上に、赤、青の２色のうちの第１色の色顔料を分散させた第１感光性樹脂膜をスピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成する工程と、
上記第１感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして、第１色の色画素パターンを形成する工程と、
上記透明基板上に、赤、青の２色のうちの第２色の色顔料を分散させた第２感光性樹脂膜をスピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成する工程と、
上記第２感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして、一方の縁が上記第１色の色画素パターンに接する一方、上記一方の縁に対向する他方の縁が、上記一方の縁が接する第１色の色画素パターンに隣合う第１色の色画素パターンに対して隔てられた第２色の色画素パターンを形成する工程と、
上記透明基板上の上記第１色の色画素パターンと第２の色画素パターンとが互いに隔たる領域に、印刷法によって、緑色の色画素パターンを形成する工程とを有する。
【００１０】
本発明によれば、上記第１色および第２色の色画素パターンを、透明基板上に形成した感光性樹脂膜をフォトグラフィ技術によってパターニングして各々形成した後、第３色の色画素パターンのみを印刷法によって形成する。したがって、この第３色の色画素パターンの形成時に、カラードライフィルム法におけるような気泡が生じないので、カラーフィルター基板の色抜けの欠陥が回避されて、製造時に不良品が生じる確率が少なくなる。
【００１１】
また、スピンコート法またはカラードライフィルム法によって上記第１、第２感光性樹脂膜を形成するので、これら第１、第２感光性樹脂膜は均一な厚さに形成され、第１色および第２色の色画素パターンは均一な厚さに形成できるから、色むらが少ないカラーフィルター基板になる。
【００１２】
また、赤色または青色を第１色または第２色として、これらの色の顔料を分散させた第１および第２感光性樹脂を、夫々スピンコート法またはカラードライフィルム法によって成膜し、フォトリソグラフィによってパターニングして、第１色および第２色の色画素パターンを夫々形成する。こうして、膜厚の変化が色むらとして認識されやすい赤色および青色の膜を、膜厚を均一に形成できるスピンコート法またはカラードライフィルム法によって成膜する。一方、膜厚の変化が色むらとして認識され難い緑色の膜は、膜厚がばらつきやすい印刷法によって形成するのである。その結果、色むらが少なく、かつ、色画素配置がデルタ形状であっても色抜けのないカラーフィルター基板が、安価に製造される。
【００１３】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記印刷法は、インクジェット印刷法またはオフセット印刷法である。
【００１４】
上記実施形態によれば、第３色の色画素パターンを、インクジェット印刷法またはオフセット印刷法で形成するので、色画素パターンを形成する際に使用する顔料が少なくなり、また、フォトリソグラフィによるパターニングが不要であるから、露光、現像工程の手間が省かれて、カラーフィルター基板の製造コストが削減される。
【００１５】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記第１色の色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねて形成し、かつ、上記透明基板上にＢＭを形成しない。
【００１６】
上記実施形態によれば、上記第１色の色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねて形成するので、第１色の色画素パターンと第２色の色画素パターンとが多少ずれても、第１色の色画素パターンと第２色の色画素パターンとの間に隙間が生じないから、カラーフィルター基板からの光漏れが防止される。
【００１７】
また、上記色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねる部分を、完成したカラーフィルター基板を重ね合せる例えばＴＦＴアレイ基板のＴＦＴ素子部に対応する大きさに形成すると共に、ＴＦＴ素子部に対応する位置に形成して、このＴＦＴ素子の位置を遮光する。かつ、上記ＴＦＴアレイ基板において、ＴＦＴアレイ基板のメタル配線によって、ＴＦＴアレイ基板の画素部分以外の部分を遮光する。こうして、カラーフィルター基板側にＢＭを形成することを回避する。その結果、カラーフィルター基板の製造コストが大幅に削減される。
【００１８】
また、印刷法によって第３色の色画素パターンを形成する際、この第３色の色画素パターンを形成すべき位置は、それ以前に形成された第１色および第２色の色画素パターンに囲まれているから、この第１色および第２色の色画素パターンに囲まれた位置に第３色のインクを配置すればよい。したがって、従来の印刷法におけるような混色を防ぐためのＢＭをカラーフィルター基板に設ける必要がない。また、上記第３色の色画素位置は、上記第１色の色画素パターンと第２色の色画素パターンとで囲まれているから、例えば上記印刷法がインクジェット法である場合、インクの噴射位置が画素内で多少ずれても、インクは上記色画素位置内に広がるので、従来の印刷方式の課題であった位置精度の問題も生じない。
【００１９】
以下、色画素パターンを形成する膜の厚みの変化と、その色画素パターンを透過する光の色むらとの相関について述べる。
【００２０】
図１は、ノートブック型パーソナルコンピュータ用の液晶表示装置に使用されているカラーフィルター基板と同一のカラーフィルター基板を用いて、このカラーフィルター基板のＲＧＢの３色の色画素パターンについて、これらの色画素パターンの膜厚を変化させた際の色差を示した図である。縦軸は、色度の変化分を示す色差ΔＥ_ab ^*であり、横軸は、色画素パターンの膜厚を示し、変化させる前の膜厚に対する比で表した膜厚比である。
【００２１】
ここにおいて、色度としてＬ^*ａ^*ｂ^*表色系色度（国際照明委員会：等色差表色系色度）を用い、膜厚を変化させる前に色画素パターンが有する色度を基準色度とした。この基準色度からの色差は、下記の式（１）を用いて計算した。
△Ｅ_ab ^*＝［（△Ｌ^*）²＋（△ａ^*）²＋（△ｂ^*）²］^1/2・・・（１）
ここに、ΔＥ_ab ^*：色差、△Ｌ^*，△ａ^*，△ｂ^*：標準色度からの色度の増分である。
【００２２】
図１に示すように、色画素パターンの膜厚が変化前の膜厚（基準膜厚）よりも大きくなるにつれて、その色画素パターンを透過する光の色差が大きくなると共に、色画素パターンの膜厚が基準膜厚よりも小さくなるにつれて、その色画素パターンを透過する光の色差は大きくなる。すなわち、色画素パターンを透過する光の色度の変化は、色画素パターンの膜厚と相関がある。図１から分かるように、Ｂの色画素パターンの膜厚を増加および減少させた場合の光の色差が最も大きい。Ｂの色画素パターンに次いで、膜厚を変化させた場合の色差が大きいのは、Ｒの色画素パターンである。膜厚の変化に対する色差が最も小さいのは、Ｇの色画素パターンである。色差は、色むらとして認識されるので、Ｇの色画素パターンは、その膜厚がばらついても他の２色よりも色むらとして感知され難いことになる。したがって、膜厚のばらつきが生じ易い印刷法で形成する色画素パターンを、Ｇの色画素パターンにすると、色むらが最も目立ち難くなる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のカラーフィルター基板の製造方法を、図示の実施形態により詳細に説明する。
【００２４】
図２は、１実施形態におけるカラーフィルター基板の製造方法を示す工程図であり、ＴＦＴ液晶表示装置に用いられるストライプ画素配列のカラーフィルター基板を製造する工程を示している。
【００２５】
図２（ａ）に示すように、第１の工程において、透明基板としてのガラス基板１の上に、ＲＧＢの３色のうちの第１色のとしてのＲの顔料を分散させた第１感光性樹脂膜２を、カラードライフィルム法によって形成する。
【００２６】
続いて、図２（ｂ）に示す第２の工程において、上記第１感光性樹脂膜２にマスク露光し、現像して、Ｒの色画素パターン３を形成する。このとき、ガラス基板１に、第２色あるいは第３色の色画素パターンを形成する際、および、完成したカラーフィルター基板をＴＦＴアレイ基板と貼り合わせる際に用いられる図示しない位置合わせ用マークを形成しておく。
【００２７】
次いで、図２（ｃ）に示す第３の工程において、ガラス基板１上の全面に、第２色としてのＢの顔料を分散させた第２感光性樹脂膜を、カラードライフィルム法によって形成する。この第２感光性樹脂膜を乾燥させた後、上記第２の工程において形成した位置合わせ用マークによってマスクの位置合わせをして、このマスクを用いてフォトリソグラフィによってＢの色画素パターン５を形成する。このとき、図２（ｃ）に示すように、第１色の色画素パターン３と第２色の色画素パターン５との境界部分ｂにおいて、上記第１色の色画素パターン３と第２色の色画素パターン５とが重なるように形成する。そうすることによって、上記第１色および第２色の色画素パターン３，５の位置が多少ずれても、その間に隙間が生じないようにする。さらに、図３の平面図に示すように、上記第１色の色画素パターン３の１部と、第２色の色画素パターン５の１部とを重ねてなる遮光部７を形成する。この遮光部７は、完成したカラーフィルター基板をＴＦＴアレイ基板と張り合わせた際に、このＴＦＴアレイ基板のＴＦＴ素子に対向する位置に形成して、上記ＴＦＴ素子部を通過する光を遮光するために設ける。
【００２８】
そして、図２（ｄ）に示す第４の工程において、上記第１色の色画素パターン３と第２色の色画素パターン５とで挟まれた位置である第３色の色画素位置８に、第３色としてのＧのインク９を、印刷法としてのインクジェット印刷法によって噴射する。このとき、ガラス基板１上には、第３色の色画素位置８のみに色画素パターンが形成されずに残っている。その結果、上記第３色の色画素位置８に上記噴射されたＧ（緑）のインク９が広がって、図２（ｅ）に示すように、第３色の色画素パターン１０が形成される。
【００２９】
その後、上記第１乃至第３色画素パターン３,５,１０を形成したガラス基板１を焼成し、その上に図示しない透明保護膜を塗布して、さらに焼成してカラーフィルター基板が完成する。
【００３０】
一方、上記完成したカラーフィルター基板と張り合わせるＴＦＴアレイ基板において、ソース配線メタルとゲート配線メタルとを層間絶縁膜を介して重ね合わせる。そうすると、上記ソース配線メタルとゲート配線メタルとによって、ＴＦＴアレイ基板の画素部分以外の部分が遮光されてＢＭの機能を奏するので、カラーフィルター基板にＢＭが不要になる。なお、上記ＴＦＴアレイ基板のＴＦＴ素子部分は、カラーフィルター基板に上記第３の工程において形成した遮光部７によって遮光する。したがって、このカラーフィルター基板の製造方法によって製造されたカラーフィルター基板は、ＢＭを設けなくても色画素以外の部分が遮光されるので、ＢＭの製造工程が削除されて安価にカラーフィルター基板を製造できる。
【００３１】
本実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記第４の工程において、上記インク９を噴射する位置が第３色の色画素位置８内で多少ずれても、この第３色の色画素位置８は上記第１色の色画素パターン３と第２色の色画素パターン５とで挟まれているから、インク９は上記第３色の色画素位置８内に広がる。そして、上記第３色の色画素パターンが所定の形状に形成される。したがって、従来の印刷法におけるようにインクを噴射する位置を精度良く位置決めする必要がないので、カラーフィルター基板の製造工程における手間を省くことができる。
【００３２】
また、本実施形態のカラーフィルター基板は、上記第１色の色画素パターン３と第２色の色画素パターン５とが、第３色の色画素パターン１０を形成するインク９が広がるべき色画素位置８の両側を挟んでいるので、従来の印刷法におけるような画素間の境界、あるいはインクの流出を防ぐ壁としてのＢＭが不要である。また、前述のように、画素部分以外の遮光についても、上記ＴＦＴアレイ基板の配線メタルによって画素部分以外の部分を遮光するので、カラーフィルター基板にＢＭを設ける必要がない。したがって、カラーフィルター基板の製造コストが安価になる。
【００３３】
また、上記第３色の色画素パターン１０は印刷法によって形成するので、従来におけるようなカラードライフィルム法における第３色の色画素位置に生じる気泡を回避して、気泡に起因する色抜けの問題を回避できる。
【００３４】
また、本実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、色画素パターンの膜厚が変化した場合に、色画素パターンを透過する光の色度が変わり易くて色むらとして認識され易いＲとＢの色画素パターン３，５について、これらの色画素パターン３，５が形成される第１感光性樹脂膜２および第２感光性樹脂膜を、膜厚が均一に形成されるカラードライフィルム法によって形成する。一方、色画素パターンの膜厚が変化した場合に、色画素パターンを透過する光の色度が変わり難くて色むらとして認識され難いＧの色画素パターン１０を、膜厚がばらつき易いインクジェット法によって形成する。したがって、ＲＧＢの色画素パターン３，５，１０は、全体として色むらが殆ど認識されない。したがって、色むらが殆ど無いにも拘らず、安価なカラーフィルター基板を得ることができる。
【００３５】
なお、上記実施形態において、第１感光性樹脂膜２および第２感光性樹脂膜をカラードライフィルム法によって形成したが、スピンコート法によって形成してもよい。
【００３６】
また、上記実施形態において、第１色はＲであり、第２色はＢであったが、第１色をＢにして第２色をＲにしてもよい。
【００３７】
また、上記実施形態はストライプ画素配列のカラーフィルター基板を製造したが、図４に示したような色画素配列がデルタ形状のカラーフィルター基板でもよい。この場合、第３色の色画素パターンを形成すべき色画素位置１０１が、第１色および第２色の色画素パターン１０２,１０３によって囲まれるので、この第３色の色画素位置１０１に噴射されたＧ（緑）のインクは、このインクの噴射位置が高精度に位置決めされなくても上記第３色の色画素位置１０１内に広がる。したがって、上記インクが広がる領域を定めて画素間の境界となって、インクの流出を防ぐＢＭは不要である。
【００３８】
また、上記第３色の色画素パターンを形成する際の印刷法は、オフセット印刷でもよい。
【００３９】
上記実施例においては、ＢＭを設けなかったが、コストアップが許容されるならば、ＢＭを形成してもよい。
【００４０】
【発明の効果】
本発明によるカラーフィルター基板の製造方法は、第１色の色顔料を分散させた第１感光性樹脂膜を形成する工程と、この第１感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして第１色の色画素パターンを形成する工程と、第２色の色顔料を分散させた第２感光性樹脂膜を形成する工程と、この第２感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして、一方の縁が上記第１色の色画素パターンに接する一方、上記一方の縁に対向する他方の縁が、上記一方の縁が接する第１色の色画素パターンに隣合う第１色の色画素パターンに対して隔てられた第２色の色画素パターンを形成する工程と、上記透明基板上の上記第１色の色画素パターンと第２の色画素パターンとが互いに隔たる領域に、印刷法によって第３色の色画素パターンを形成する工程とを有するので、上記第３色の色画素パターンの形成時に、カラードライフィルム法におけるような気泡が生じないので、気泡によるカラーフィルター基板の色抜けの欠陥を回避できて不良品を少なくできる。
【００４１】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記第１、第２感光性樹脂膜は、スピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成するので、第１色および第２色の色画素パターンを均一な厚さに形成できるから、色むらが少ない高品質なカラーフィルター基板にできる。
【００４２】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記印刷法は、インクジェット印刷法またはオフセット印刷法であるので、色画素パターンを形成する際に使用する顔料を少なくでき、また、フォトリソグラフィによるパターニングが不要であるから、露光、現像工程の手間を省くことができる。
【００４３】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記第１色の色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねて形成するので、第１色の色画素パターンと第２色の色画素パターンとが多少ずれても、第１色の色画素パターンと第２色の色画素パターンとの間に隙間が生じないから、カラーフィルター基板からの光漏れを防止できる。
【００４４】
また、上記色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねる部分を、例えばＴＦＴアレイ基板のＴＦＴ素子部に対応する部分に位置させると共に、上記ＴＦＴアレイ基板のメタル配線によってＴＦＴアレイ基板の画素部分以外の部分を遮光することによって、カラーフィルター基板側のＢＭを削除できるから、カラーフィルター基板の製造コストを削減できる。
【００４５】
また、上記第１色および第２色の色画素パターンは、第３色の色画素パターンを形成する前に、第３色の色画素位置の周りを囲んで形成されるので、従来の印刷法におけるようなインクの漏れを防止するためのＢＭが不要になるから、カラーフィルター基板にＢＭを形成する必要がなくなって、カラーフィルター基板の製造コストを削減できる。
【００４６】
１実施形態のカラーフィルター基板の製造方法は、上記第３色の色画素パターンは、Ｇの色画素パターンであり、Ｇは、ＲおよびＢよりも色画素パターンの膜厚の変化による色むらが認識され難いから、膜厚がばらつきやすい印刷法によって緑色の色画素パターンを形成することによって、カラーフィルター基板の色むらを少なくできる。
【００４７】
以上のように、本発明によれば、材料効率が良く、デルタ画素配列の色画素パターンを形成する際に色抜けが殆ど起こらない印刷法によって、ＢＭを設けないで緑色の色画素パターンを形成し、しかも、膜厚のばらつきが色むらとして認識されにくい緑色の色画素パターンを、比較的膜厚がばらつき易い印刷法によって形成し、膜厚の変化が色むらとして認識され易い赤色および青色の色画素パターンは、膜厚が均一に形成できるスピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成するので、従来のスピンコート法またはカラードライフィルム法の長所と、印刷法の長所を取り入れて、低コストかつ高品質なカラーフィルター基板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＲＧＢの３色の色画素パターンに関して、その膜厚比の変化と色画素パターンを透過した光の色差との関係を示した図である。
【図２】本発明によるカラーフィルター基板の製造方法を示す工程図である。
【図３】図２（ｃ）の第３の工程におけるカラーフィルター基板を示す平面図である。
【図４】デルタ画素配列に形成された色画素パターンを示す平面図であり、第１色および第２色のＲとＢの色画素パターンが形成された状態を示している。
【図５】カラードライフィルム法によって第３色の色画素パターンを形成する様子を示した図である。
【符号の説明】
１ガラス基板
２Ｒの顔料を分散させた第１感光性樹脂膜
３Ｒの色画素パターン
５Ｂの色画素パターン
８第３色の色画素位置
９Ｇのインク
１０Ｇの色画素パターン

Claims

透明基板上に、赤、青の２色のうちの第１色の色顔料を分散させた第１感光性樹脂膜をスピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成する工程と、
上記第１感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして、第１色の色画素パターンを形成する工程と、
上記透明基板上に、赤、青の２色のうちの第２色の色顔料を分散させた第２感光性樹脂膜をスピンコート法またはカラードライフィルム法によって形成する工程と、
上記第２感光性樹脂膜を現像、露光によってパターニングして、一方の縁が上記第１色の色画素パターンに接する一方、上記一方の縁に対向する他方の縁が、上記一方の縁が接する第１色の色画素パターンに隣合う第１色の色画素パターンに対して隔てられた第２色の色画素パターンを形成する工程と、
上記透明基板上の上記第１色の色画素パターンと第２の色画素パターンとが互いに隔たる領域に、印刷法によって、緑色の色画素パターンを形成する工程と
を有することを特徴とするカラーフィルター基板の製造方法。
上記印刷法は、インクジェット印刷法またはオフセット印刷法であることを特徴とする請求項１のカラーフィルター基板の製造方法。
上記第１色の色画素パターンの１部と、第２色の色画素パターンの１部とを重ねて形成し、かつ、上記透明基板上にブラックマトリックスを形成しないことを特徴とする請求項１または２のカラーフィルター基板の製造方法。