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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板の如きFPD(FlatPanel Display)用基板、フォトマスク用ガラス基板および光ディスク用基板など(以下、単に「基板」と称する)の上面に有機材料を塗布するために使用される塗布装置に係り、特に移動式の吐出式ノズルから塗布液を吐き出して塗布するディスペンス方式の塗布装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、リソグラフィ技術に必要不可欠なフォトレジスト材料を基板(半導体ウェハ)の上面に塗布するための塗布装置として、レジスト材料を効率的に利用するために、基板上にレジスト成分を90%以上残し、レジスト材料の損失分を10%以下に抑制し得る塗布方法として、基板を回転させないで済むブレード・ディスペンス・ノズルを用いる方式が考えられている。図7は、従来考えられているブレード・ディスペンス方式の塗布装置の要部構成を概略的に示している。
【0003】
即ち、停止状態の基板Wの上面に向けて、ノズル100を図示矢印方向Aに移動させながらその先端部からフォトレジスト材料を噴霧状に吐き出して塗布するものである。この際、基板Wの搬送速度とフォトレジスト材料の吐き出し速度とを制御することにより基板W上に形成されるフォトレジスト膜の膜厚を制御する。
【0004】
しかし、実際のプロセスにおいては、図7の塗布装置により基板Wにフォトレジスト膜を塗布した時に、基板W周縁部分にもフォトレジスト膜が付くので、フォトレジスト塗布後に基板W周縁部上の不要なフォトレジスト膜を除去する工程を必要とし、この工程に伴うダストの発生により、後の工程(パターニング・エッチングなど)での基板搬送時のパーティクルの発生原因となるなどの不都合が生じる。
【0005】
そこで、停止状態の基板Wの周縁部に対して接触するように、あるいは接触することなく、近接・離間自在に設けられ、ノズル100から吐き出されるフォトレジスト材料から基板Wの周縁部をマスクする周縁部マスク装置101が付加された塗布装置が特開平6−225114号公報として提供されている。
【0006】
この従来技術によれば、図8(a)〜(c)に示すように、周縁部マスク装置101を有しているので、基板Wの周縁部W1にフォトレジスト膜が塗布することが防止できる。また、フォトレジスト塗布後に周縁部W1上の不要なフォトレジスト膜を除去するための専用装置を必要としなくなるので、プロセスのスループットが向上し、さらには、基板Wの周縁部W1上の不要なフォトレジスト膜の除去する工程が不要となり、この工程に伴うダストの発生がなくなる。
【0007】
一方、近年、有機EL(エレクトロンルミネッセンス)材料を基板上の所定パターン形状に塗布して有機EL表示装置を製造する工程においても上記のような塗布装置が用いられる。従来の有機EL表示装置は、次に説明するようにして製造されている。先ず、ガラス基板の表面上に透明なITO(インジウム錫酸化物)膜を成膜する。次に、このガラス基板上に成膜されたITO膜を、フォトリソグラフィー技術を用いて、複数本のストライプ状の第1電極にパターニング形成する。この第1電極は陽極に相当するものである。次に、ストライプ状の第1電極を囲むようにしてガラス基板上に突出させる電気絶縁性の隔壁を、フォトリソグラフィー技術を用いて形成する。
【0008】
そして、塗布装置のノズルから有機EL材料を隔壁内のストライプ状の第1電極に向けて噴出させて、隔壁内のストライプ状の第1電極上に有機EL材料を塗布する。具体的には、ある隔壁内のストライプ状の第1電極上には、赤色の有機EL材料用のノズルによって赤色の有機EL材料が塗布される。赤色の有機EL材料が塗布された第1電極に隣接する一方の第1電極上には、緑色の有機EL材料用のノズルによって緑色の有機EL材料が塗布される。緑色の有機EL材料が塗布された第1電極に隣接する次の第1電極上には、青色の有機EL材料用のノズルによって青色の有機EL材料が塗布される。青色の有機EL材料が塗布された第1電極に隣接する次の第1電極上には、赤色の有機EL材料が塗布される。このように、赤、緑、青色の有機EL材料がその順に個別に第1電極上に塗布される。
【0009】
次に、第1電極に直交するように対向させるストライプ状の第2電極を真空蒸着法によりガラス基板上に複数本並設するように形成して、第1電極と第2電極との間に有機EL材料を挟み込んでいる。この第2電極は陰極に相当するものである。このようにして、第1電極と第2電極とが単純XYマトリスク状に配列されたフルカラー表示可能な有機EL表示装置が製造されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、有機EL材料の塗布のような微細なパターン形状に応じて材料を塗布する要求には、従来考えられているブレード・ディスペンス方式の塗布装置は適さない。そこで、塗布液を線状に吐出可能な1つの微細孔より吐出するノズル方式(以下、ストレートノズルと称する)の塗布装置が多用される。
【0011】
このような、ストレートノズルでは、所望範囲に塗布するのにノズルをパターンに沿ってスライド移動させることで塗布する過程を必要とする。そして、塗布のスループットを上げるために、このスライド移動も高速化しており、従来技術にあるような基板Wの周縁部マスク装置で基板Wの周縁部W1をマスクした場合、次のような問題を生じていた。
【0012】
図9に示すように、ストレートノズル102を矢印方向Bへ高速で移動すると、噴射される塗布液Lにも矢印方向Bに沿った慣性力が働く。その結果、ストレートノズル102が移動を開始する側の塗布範囲W2においては、塗布液Lの塗布不充分領域W3が発生した。また、ストレートノズル102が移動を終了する側においては、塗布液Lが基板Wの周縁部W1の領域W4に飛び散ってしまっていた。
【0013】
このことは、ストレートノズル102の高速移動に伴い、塗布液Lが慣性力によりストレートノズル102の移動方向へ流れて塗布される現象が発生しているためである。すなわち、ストレートノズル102の進行方向へ常に塗布液Lが流れてしまい、本来、塗布されなければならない塗布範囲W2では不充分な塗布膜が形成され、被塗布領域である基板Wの周縁部W1に塗布液Lが塗布され、塗布液Lを不必要に消費してしまっていた。
【0014】
本発明は上記の問題点を解決すべくなされたもので、塗布液の使用量の削減、損失分(処分量)の減少を図ることが可能になり、基板上のパターンに対しても良好で均一性に優れた塗布膜を形成できる塗布装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】
上記目的を達成するために、本発明は、塗布液を基板上に塗布する塗布装置において、停止状態の基板上を横切る方向に吐出式ノズルが移動しながら、基板の上面に吐出式ノズルから塗布液を吐き出して塗布するノズル手段と、前記基板の周縁部に対して設けられ、前記ノズル手段から吐き出される塗布液から基板周縁部をマスクするマスク手段、前記マスク手段を前記ノズル手段の移動方向とは逆方向にシフトさせるシフト制御手段と、を具備することを特徴とする塗布装置である。
【0016】
本発明の作用は次のとおりである。請求項1に係る発明の塗布装置においては、ノズル手段による塗布液の塗布範囲はマスク手段によって設定される。この塗布の際、マスク手段はノズル手段の移動方向と逆方向にシフトされる。その結果、ノズル手段の移動とともに塗布液が慣性力でノズル手段の移動方向へ流れた場合、マスク手段にってマスクされる領域が逆方向へ制限することで、塗布液が流れて塗布される領域も制限される。すなわち、マスク手段をシフトすることで塗布液の塗布範囲をより確実に所望範囲に制限することとなる。
【0017】
請求項2に係る発明は、請求項1に記載の塗布装置において、前記ノズル手段は、前記基板の一方の周縁部に位置するマスク手段の上面から基板上面の塗布範囲を通過して、前記基板の他方の周縁部に位置するマスク手段の上面までを移動範囲とするものである。
【0018】
請求項2に係る発明の塗布装置においては、マスク手段によってマスクされた基板における、塗布範囲への塗布液の塗布が確実に達成される。
【0019】
請求項3に係る発明は、請求項2に記載の塗布装置において、前記マスク手段は、前記基板の周縁部に対して隙間を有して配置され、前記シフト制御手段は、ノズル手段の移動方向上流側のマスク手段を基板の周縁部上へ、移動方向下流側のマスク手段を基板の塗布範囲上へ移動させることを特徴とする。
【0020】
請求項3に係る発明の塗布装置においては、ノズル手段の移動方向上流側のマスク手段を基板の周縁部上へ移動することで、塗布範囲における塗布膜の不均一を防止する。一方、移動方向下流側のマスク手段を基板の塗布範囲上へ移動させることで、基板周縁部への塗布液の塗布を防止する。
【0021】
請求項4に係る発明は、請求項2または請求項3に記載の塗布装置において、前記ノズル手段は、前記移動範囲の端部で反転し異なる移動範囲を塗布することを繰り返すよう制御する駆動制御手段とを有し、前記シフト制御手段は、ノズル手段の反転に連動してシフト方向を調整することを特徴とする。
【0022】
請求項4に係る発明の塗布装置においては、ノズル手段が反転し塗布を繰り返すことで基板の広範囲において塗布できる。その際、ノズル手段がノズル手段の反転に連動してシフトされるので、塗布範囲以外への不必要な塗布や、塗布範囲における塗布膜の不均一を防止できる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
<第1実施例>
本発明の実施例に係る塗布装置は、具体的に塗布液として有機EL材料を矩形のガラス基板(単に、基板Sと称する)上に所定のパターン形状に塗布して有機EL表示装置を製造するものである。図1は本発明の実施例に係る有機EL表示装置の製造装置である塗布装置の要部の概略構成を示すブロック図である。
【0024】
この塗布装置は、基板搬送装置(図示せず)により搬送されてきた基板Sの上面に向けて、吐出式ノズル4a〜4c(ストレート・ノズル)の先端部から有機EL材料を直線棒状に吐き出して塗布するものである。
【0025】
塗布装置は、図1に示すように、赤、緑、青色の有機EL材料10a〜10cの塗布を受ける基板Sを載置するステージ1と、このステージ1を所定方向に移動させるステージ移動機構部2と、基板S上に形成された位置合せマークの位置を検出する位置合せマーク検出部3と、赤色の有機EL材料10aを赤色用のノズル4aに供給する第1供給部5と、緑色の有機EL材料10bを緑色用のノズル4bに供給する第2供給部6と、青色の有機EL材料10cを青色用のノズル4cに供給する第3供給部7と、各色のノズル4a〜4cを所定方向に移動させるノズル移動機構部8と、基板Sの周縁部をマスクする周縁部マスク装置50と、ステージ移動機構部2と位置合せマーク検出部3と第1〜第3供給部5〜7とノズル移動機構部8と周縁部マスク装置50とを制御する制御部9とで構成されている。
【0026】
以下、各部の構成を詳細に説明する。
なお、図2、図3に示すように、赤、緑、青色の有機EL材料10a〜10cの塗布を受ける基板Sの表面上には、各色の有機EL材料10a〜10cを塗布すべき所定のパターン形状に応じたストライプ状の溝11が複数本並設されるように形成されている。図2は、有機EL材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝が表面上に形成された基板Sを上から見た状態を示す概略平面図である。図3は、図2に示した基板Sの一部分の断面図を示す概略断面図である。
【0027】
ここで、各色の有機EL材料10a〜10cの塗布を受ける基板Sの製造工程について説明する。先ず、平板状の基板Sの表面上に透明なITO(イリジウム錫酸化物)膜を形成する。次に、この基板S上に成膜されたITO膜を、フォトリソグラフィー技術を用いて、複数本のストライプ状の第1電極12にパターニング形成する。この第1電極12は陽極に相当するものである。
【0028】
次に、ストライプ状の第1電極12を囲むようにして基板S上に突出させる電気絶縁性の隔壁13を、フォトリソグラフィー技術を用いて形成する。この隔壁13は、例えば、クロム(Cr)あるいはドライフィルムで形成されている。このようにして、基板Sの表面上には、各色の有機EL材料10a〜10cと塗布すべきストライプ状の溝11が複数本並設されて形成されている。
【0029】
なお、この溝11内でストライプ状の第1電極12上には、正孔を積極的に有機EL材料10a〜10cの方に輸送する正孔輸送層14が形成されている。この正孔輸送層14としては、例えば、PEDT(polyethylene dioxythiophene)−PSS(poly-styrene sulphonate)を採用している。溝11の幅は、例えば100μm程度であり、溝11の深さは、例えば1〜10μm程度であり、溝11と溝11との間の距離は、例えば10〜20μm程度である。このようにして、各色の有機EL材料10a〜10cの塗布を受ける状態にある基板Sを製造している。
【0030】
図1に戻って、第1供給部5は、例えば、赤色の有機EL材料10aの供給源20aと、この供給源20aから赤色の有機EL材料10aを取り出すためのポンプ21と、赤色の有機EL材料10aの流量を検出する流量計22と、赤色の有機EL材料10a中の異物を除去するためのフィルタ23とを備えている。
【0031】
第2供給部6は、例えば、緑色の有機EL材料10bの供給源20bと、この供給源20bから緑色の有機EL材料10bを取り出すためのポンプ21と、緑色の有機EL材料10bの流量を検出する流量計22と、緑色の有機EL材料10b中の異物を除去するためのフィルタ23とを備えている。
【0032】
第3供給部7は、例えば、青色の有機EL材料10cの供給源20cと、この供給源20cから青色の有機EL材料10cを取り出すためのポンプ21と、青色の有機EL材料10cの流量を検出する流量計22と、青色の有機EL材料10c中の異物を除去するためのフィルタ23とを備えている。
【0033】
図4に示すように、ノズル移動機構部8は、各色のノズル4a〜4cと、こららのノズル4a〜4cを並設した状態で保持する保持部材31と、この保持部材31を支持軸34の周りに回動自在に支持する支持部材32と、この支持部材32を沿わせて移動させるためのガイド部材33とを備えている。図4(a)は、ノズル移動機構部の概略斜視図であり、図4(b)は、ノズル移動機構部を上から見た概略平面図であり、図4(c)は、保持部材を支持部材の支持軸周りに回動させた状態を示す概略平面図である。
【0034】
支持部材32には、保持部材31のノズル並設面に直交する方向に支持軸34が設けられている。保持部材31には、この支持軸34と嵌合させるための嵌合孔35が設けられている。支持部材32の支持軸34に保持部材31の嵌合孔35が嵌合されており、支持部材32は、保持部材31を支持軸34の周りに回動自在に支持している。
【0035】
例えば、図4(c)に示すように、保持部材31を支持軸34周りに回動させることで、図4(b)に示す状態における各色の塗布ピッチ間隔P1よりも狭い塗布ピッチ間隔P2にすることができ、各色の塗布ピッチ間隔を狭くするように調整できる。なお、これらのノズル4a〜4cにおける有機EL材料を出力するための穴径は、基板Sに形成された溝11の幅より小さく、例えば数十μm程度であり、ここでは10〜70μmとしている。
【0036】
位置合わせマーク検出部3としては、例えば、CCDカメラを採用している。位置合わせマーク検出部3は、制御部9からの指示を受けると、図2に示したガラス基板Sの四隅にそれぞれ形成された位置合わせマークMをそれぞれ撮像し、これらの撮像した位置合わせマークMの画像データを制御部9に出力する。
【0037】
周縁部マスク装置50は、停止状態の基板Sの周縁部をマスクする一対の長尺なマスク板51、52と、このマスク板51、52をそれぞれ独立してスライド移動させるシリンダー等の駆動手段53、54より構成される。そして、周縁部マスク装置50は、停止状態の基板Sの周縁部に対して接触することなく接近し、あるいは離間することが可能なように、図示矢印のx方向に往復移動自在に構成される。基板S表面との隙間は、有機EL材料のマスク板51、52の裏面への回り込みをある程度防止する上で、0.5〜2mm程度に設定される。なお、この隙間が無い場合、マスク板51、52の裏面と基板S表面が擦ってゴミが発生してしまうので好ましくない。
【0038】
制御部9は、位置合わせマーク検出部3で撮像された画像データに基づいて位置合わせマークMの位置を検出する。制御部9は、CAD(Computer Aided Design)を使って設計された第1電極12や溝11などのレイアウトデータが予め与えられている。制御部9は、位置合わせマークMの位置の算出結果と、予め与えられている溝11のレイアウトデータとに基づいて、塗布のスタートポイント、すなわち、基板Sの溝11の一方の端部側で塗布を開始する塗布開始位置(後述する塗布開始位置B1に相当する)を算出する。なおここでは、基板Sに形成された位置合わせマークMを4点としているが、例えば2点とするなど、4点以外の点数であっても良い。
【0039】
制御部9は、図5に示すように、ステージ1を所定方向(y方向)に所定量だけ移動させるようにステージ移動機構部2を制御し、ノズル4a〜4cを所定方向(x方向)に所定量だけ移動させるようにノズル移動機構部8を制御し、図1に示すように、第1〜第3供給部5〜7の各流量計22からの検出量a〜cに応じて、ノズル4a〜4cから所定流量の有機EL材料10a〜10cを流し出すように第1〜第3供給部5〜7の各ポンプ21に指令d〜fを出力する。図5は、ステージとノズルの移動方向を説明するための概略斜視図である。
【0040】
制御部9は、ノズル移動機構部8の制御とともに、駆動手段53、54の駆動方向を制御し、マスク板51、52による基板Sのマスク領域を調整する。
【0041】
なお、上述したノズル移動機構部8とノズル4a〜4cが本発明におけるノズル手段に相当し、上述した制御部9が本発明における駆動制御手段として機能する。また、上述したマスク板51、52が本発明におけるマスク手段に相当し、駆動手段53、54と制御部9が本発明におけるシフト制御手段として機能する。
【0042】
次に上記のように構成された塗布装置によって有機EL表示装置を製造する製造工程について、以下に説明する。
【0043】
図2、図3に示すように、有機EL材料10a〜10cの塗布を受ける状態にある基板Sが製造されるまでについては、上述したように既に説明済みであるので、ステージ1上に載置された基板Sの溝11に有機EL材料10a〜10cを塗布する工程から説明するものとする。
【0044】
制御部9は、ステージ1上に載置された基板Sの四隅の位置合わせマークMをそれぞれ撮像するように位置合わせマーク検出部3に指示を与える。位置合わせマーク検出部3は、撮像した位置合わせマークMの画像データを制御部9に出力する。制御部9は、位置合わせマーク検出部3で撮像された画像データに基づいて位置合わせマークMの位置を算出する。制御部9は、位置合わせマークMの位置の算出結果と、予め与えられている溝11のレイアウトデータとに基づいて、塗布のスタートポイント、すなわち、基板Sの溝11の一方の端部側で塗布を開始する塗布開始位置B1を算出する。
【0045】
制御部9は、図5(a)(b)に示すように、周縁部マスク装置50を予めシフトさせておく。図5(a)(b)は、ノズル4a〜4cが移動しながら有機EL材料10a〜10cを吐き出して塗布する時に、周縁部マスク装置50が基板Sの周縁部W1、W1をマスクした状態になるように設定されている様子を示す側面図で、(a)はノズル4a〜4cが矢印B方向へ移動する場合、(b)はノズル4a〜4cが矢印B方向と逆方向へ移動する場合である。
【0046】
まず、マスク板51、52は、図5(a)に示すように図中、左側に移動されて配置される。即ち、ノズル4a〜4cの移動開始位置側のマスク板51は、上方から見て周縁部W1に臨むことができ、ノズル4a〜4cの移動方向側のマスク板52は、基板Sの塗布範囲W2の上方へマスク板52が重なる位置まで移動される。言い換えると、ノズル4a〜4cの移動方向であるB方向とは逆方向にシフトされ配置される。また、基板Sの塗布開始位置B1は、マスク板51の上面に設定される。
【0047】
制御部9は、図6に示すように、塗布開始位置B1にノズル4a〜4cが位置するように、ステージ移動機構部2とノズル移動機構部8とを制御する。図6は、ノズルの移動経路を説明するための模式図である。なお、ノズル移動機構部8の支持部材32は、赤、緑、青色の各ノズル4a〜4cが溝11の幅方向の中心付近にそれぞれ位置するように良好に調整されている。また、ノズル4a〜4cと基板S上の溝11迄の距離は、有機EL材料が吐出後も直線棒状の液柱を維持する距離に予め求められて設定される。
【0048】
次に、図5及び図6に示すように、塗布開始位置B1にノズル4a〜4cが位置すると、制御部9は、各ノズル4a〜4cから基板S上の溝11内への有機EL材料10a〜10cの流し込み開始を各ポンプ21に指示するとともに、有機EL材料10a〜10cを基板S上の溝11に沿わせながらこの溝11内に流し込むように支持部材32をガイド部材33に沿わせて移動させるように制御する。このように、赤、緑、青色の有機EL材料10a〜10cが同時にそれぞれの溝11に流し込まれていく。
【0049】
この時、ノズル4a〜4cからの塗布はマスク板51の上面から開始され、マスク板51を通過して基板Sの上方へ移動する。よって、吐出した有機EL材料10a〜10c には移動方向のB方向へ慣性力が作用し、マスク板51がなくなる境界では基板Sの周縁部W1へ向かう有機EL材料10a〜10c が慣性力で流れて塗布範囲W2に塗布される。すなわち、マスク板51が上方に存在しないので、基板Sの周縁部W1に向かう有機EL材料10a〜10c が、慣性力で塗布範囲W2へ塗布されることとなる。
【0050】
その結果、図5(a)に示すように、塗布範囲W2の開始端部において塗布膜が薄くなることを防止できる。この有機EL材料10a〜10c が慣性力で塗布範囲W2へ塗布されるようにマスク板51のシフト量を設定するには、予めノズル4a〜4cの移動速度と有機EL材料10a〜10c 吐出速度とノズル4a〜4cから基板Sまでの距離との関係より求めたシフト範囲を実験等で求める。そして、その値を制御部9に記憶させ、駆動手段53の移動量を制御するようにすればよい。なお、制御部9は、ストライプ状の溝11の各ポイントにおける有機EL材料の塗布量が均一となるように、ノズル4a〜4cの移動速度に応じてその塗布量を制御するようにしている。
【0051】
制御部9は、基板Sの溝11の他方の端部側で塗布を停止する塗布停止位置Eにノズル4a〜4cが位置すると、各ノズル4a〜4cから基板S上の溝11内への有機EL材料10a〜10cの流し込みを停止させるよう各ポンプ21に指示するとともに、支持部材32のガイド部材33に沿わせる移動を停止させる。なお、塗布停止位置Eにおいて、ノズル4a〜4cの移動を停止するのみで、有機EL材料10a〜10c の吐出は継続してもよい。これはマスク板52があるので基板Sに有機EL材料10a〜10cが塗布されないため可能であり、更に、この操作によって再吐出動作の起動に必要な負荷を低減することが可能となる。よって、以後の塗布停止位置Eにおいて同様にしても良い。
【0052】
この時、ノズル4a〜4cの塗布停止位置Eはマスク板52の上面に設定される。よって、吐出した有機EL材料10a〜10c には移動方向のB方向へ慣性力が作用し、マスク板52が現れる境界で基板Sへ向かう有機EL材料10a〜10c が慣性力で流れて、マスク52の下面に位置する塗布範囲W2に塗布される。本来、マスク板52があるため、上方より臨める基板Sの塗布範囲W2に向かう有機EL材料10a〜10c が、慣性力で流れる範囲を塗布範囲W2とするようにマスク板52をシフト制御することで、塗布範囲W2へ塗布されることとなる。
【0053】
その結果、図5(a)に示すように、塗布範囲W2の終了端部において塗布膜が周縁部W1に塗布されることを防止できる。この有機EL材料10a〜10cが慣性力でマスク板52の下側の塗布範囲W2へ塗布されるようにマスク板52のシフト量を設定するには、予めノズル4a〜4cの移動速度と有機EL材料10a〜10c 吐出速度とノズル4a〜4cから基板Sまでの距離との関係より求めたシフト範囲を実験等で求める。そして、その値を制御部9に記憶させ、駆動手段54の移動量を制御するようにすればよい。
【0054】
このようにして、三列分の溝11への有機EL材料10a〜10cの塗布が完了する。溝11内に流し込めれた有機EL材料10a〜10cの厚みは、有機EL材料10a〜10cの流し込み量によって調整できるが、ここではこの有機EL材料10a〜10cの厚みは0.1μm程度に形成されている。
【0055】
次に、図6に示すように、ステージ1をy方向に溝11三列分だけピッチ送りして、次の三列分の溝11への有機EL材料10a〜10cの塗布を行えるようにする。前述した最初の溝11三列分では、溝11の左端側を塗布開始位置B1とし、溝11の右端側を塗布停止位置Eとして、ノズル4a〜4cを溝11に沿うように左から右に移動させてそれぞれの溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込んだが、次の溝11三列分では、溝11の右端側を塗布開始位置B1とし、溝11の左端側を塗布停止位置Eとして、ノズル4a〜4cを溝11に沿うように右から左に移動させてそれぞれの溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込むようにする。
【0056】
同時に、マスク板51、52も図5(b)に示すように、図中、右にシフトされ、塗布停止位置Eを塗布開始位置B1とし、塗布開始位置B1と塗布停止位置Eと設定し、塗布開始位置B1と塗布停止位置Eとに対するノズル4a〜4cとの配置関係を前述した最初の溝11三列分と同じ配置関係とする。なお、この時、ノズル4a〜4c がマスク板51、52の上面に常に位置するようにマスク板51、52の大きさと移動量は設定される。
【0057】
そして、基板S上の残り溝11についても、前述の動作を繰り返し実行することで、各色の有機EL材料10a〜10cを溝11ごとに流し込むようにする。このようにして、赤、緑、青色の有機EL材料10a〜10cがストライプ状の溝11ごとに赤、緑、青色の順に配列された、いわゆる、ストライプ配列が形成される。
【0058】
なお、図6に示す半円状の破線は、各ノズル4a〜4cが次の三列分の溝11に移行することを示すものであり、各ノズル4a〜4cが、実際にこの破線で示す半円状の経路で移動するものではない。上述したように、ステージ1上をy方向に移動させてから、各ノズル4a〜4cをx方向に移動させることで、溝11内に良好に有機EL材料10a〜10cを流し込んでいる。
【0059】
次に、基板S上の全溝11内への有機EL材料10a〜10cの塗布が完了すると、第1電極12に直交するように対向させるストライプ状の第2電極を、真空蒸着法により基板S上に複数本並設するように形成する。第1電極12と第2電極との間に有機EL材料10a〜10cを挟み込んでいる。この第2電極は陰極に相当するものである。このようにして、第1電極12と第2電極とが単純XYマトリスク状に配列されたフルカラー表示可能な有機EL表示装置が製造される。
【0060】
このように、基板Sは周縁部マスク装置50でマスクされ、塗布すべき所定のパターン形状に応じノズル4a〜4cを移動させて有機EL材料10a〜10cを塗布する。そして、マスク板51、52をノズル4a〜4cの移動方向と逆方向に所定量シフトさせたので、有機EL材料10a〜10cを基板Sの所望塗布範囲に確実に塗布することができる。
【0061】
その結果、塗布後に基板周縁部上の不要な塗布膜を除去するための専用装置を必要としなくなるので、プロセスのスループットが向上し、大幅なコストダウンが可能になる。また、塗布後に基板周縁部上の不要な塗布膜を除去する工程が不要になり、この工程に伴うダストの発生がなくなり、この後の工程(パターニング・エッチングなど)での基板搬送時のパーティクルの発生原因が解消される。
【0062】
なお、本発明は、上述した実施例および変形例に限定されるものではなく、以下のように他の形態でも実施することができる。
【0063】
(1)上述した実施例では、図6に示すように、基板Sを載置したステージ1を、この基板S上の溝11の長手方向(x方向)に対して直交する方向(y方向)にピッチ送りしてから、ノズル4a〜4cを溝11の長手方向(x方向)に移動させるようにして、基板Sの溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込んでいるが、ステージ1を固定とし、ノズル4a〜4cを基板S上の溝11の長手方向に対して直交する方向にピッチ送りしてから、このノズル4a〜4cをこの溝11の長手方向に移動させるようにして、基板Sの溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込んでも良い。
【0064】
(2)上述した実施例では、赤、緑、青色の3個1組のノズル4a〜4cで基板Sの各溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込んでいるが、この3個1組のノズル4a〜4cを複数組設けて基板Sの各溝11内に有機EL材料10a〜10cを流し込んでも良い。こうすることで塗布処理にかかる時間を短縮することができる。
【0065】
また、各ノズル4a〜4cの間隔を、隣接する溝11の間隔(ある溝11の幅中心からそれに隣接する溝11の幅中心までの間隔)の4の倍数分として配置し、溝11の長手方向に対して直交する方向にこれらのノズル4a〜4cを隣接する溝11の間隔の3倍分の距離でピッチ送りするようにしても良い。こうすることでノズル間が広くなりメンテナンスが容易となる。
【0066】
(3)上述した実施例では、基板Sをガラス基板としてるが、ガラス以外の材料の基板や、その形状は矩形に限らず、円形であっても塗布範囲をマスク装置でもって制限する場合に採用しても良い。
【0067】
(4)なお、上記各実施例は、有機材料(ポリイミドなど)を塗布する場合を示したが、その他のフォトレジスト材料を塗布する場合にも本発明を適用できる。
【0068】
その他、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【0069】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、塗布液を基板上の所定のパターン形状に塗布できる装置において、ノズルを移動させて塗布液を供給しても、塗布する際、この塗布液の塗布領域を確実に制限して、塗布領域以外への飛び散りを防止できるとともに均一な塗布を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例に係る塗布装置の要部の概略構成を示すブロック図。
【図2】有機EL材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝が表面上に形成された基板を上から見た状態を示す概略平面図である。
【図3】図2に示した基板の一部分の断面を示す概略断面図である。
【図4】(a)は本実施例のノズル移動機構部の概略斜視図であり、(b)はノズル移動機構部を上から見た概略平面図であり、(c)は保持部材を支持部材の支持軸周りに回動させた状態を示す概略平面図である。
【図5】本実施例における基板Sとノズルの移動方向を説明するめの概略側面図で、(a)はノズルがB方向へ移動する場合、(b)はノズルがB方向と逆方向へ移動する場合である。
【図6】本実施例におけるノズルの移動経路を説明する模式図である。
【図7】従来考えられているブレード・ディスペンス方式の塗布装置の要部を概略的に示す構成説明図である。
【図8】従来装置の構成を示す基板周縁部マスク装置の例を概略的に示す構成を概略的に示す構成説明図で、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は塗布処理後の基板を説明する平面図である。
【図9】従来の塗布装置による塗布処理を概略的に示す図である。
【符号の説明】
W、S 基板
W1 周縁部
W2 塗布範囲
W3 塗布不充分領域
W4 周縁部W1の領域
L 塗布液
1 ステージ
2 ステージ移動機構部
4a、4b、4c、100 ノズル
8 ノズル移動機構部
9 制御部
10a、10b、10c 有機EL材料
50、101 周縁部マスク装置
51、52 マスク板
53、54 駆動手段[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention applies an organic material to the upper surface of a semiconductor substrate, an FPD (Flat Panel Display) substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display device, a photomask glass substrate, an optical disk substrate, or the like (hereinafter simply referred to as “substrate”). In particular, the present invention relates to an improvement in a dispense-type coating apparatus that discharges a coating liquid from a movable discharge nozzle and applies the coating liquid.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a coating apparatus for applying a photoresist material indispensable for lithography technology to the upper surface of a substrate (semiconductor wafer), in order to efficiently use the resist material, 90% or more of the resist component is left on the substrate, As a coating method that can suppress the loss of resist material to 10% or less, a method using a blade dispense nozzle that does not require rotation of the substrate is considered. FIG. 7 schematically shows the configuration of the main part of a conventionally known blade-dispensing type coating apparatus.
[0003]
That is, while the
[0004]
However, in the actual process, when the photoresist film is applied to the substrate W by the coating apparatus of FIG. 7, the photoresist film is also attached to the peripheral portion of the substrate W. The process of removing the photoresist film is required, and the generation of dust accompanying this process causes inconveniences such as generation of particles at the time of transporting the substrate in subsequent processes (patterning, etching, etc.).
[0005]
Therefore, a peripheral edge masking the peripheral edge portion of the substrate W from the photoresist material which is provided so as to be close to and away from the peripheral edge portion of the substrate W in a stopped state and without being in contact therewith. A coating apparatus to which a
[0006]
According to this prior art, as shown in FIGS. 8A to 8C, since the peripheral
[0007]
On the other hand, in recent years, a coating apparatus as described above is also used in a process of manufacturing an organic EL display device by coating an organic EL (electron luminescence) material in a predetermined pattern shape on a substrate. A conventional organic EL display device is manufactured as described below. First, a transparent ITO (indium tin oxide) film is formed on the surface of a glass substrate. Next, the ITO film formed on the glass substrate is patterned and formed on a plurality of stripe-shaped first electrodes by using a photolithography technique. This first electrode corresponds to the anode. Next, an electrically insulating partition wall that protrudes on the glass substrate so as to surround the stripe-shaped first electrode is formed using a photolithography technique.
[0008]
Then, the organic EL material is ejected from the nozzle of the coating device toward the striped first electrode in the partition wall, and the organic EL material is applied onto the striped first electrode in the partition wall. Specifically, a red organic EL material is applied onto a stripe-shaped first electrode in a certain partition wall by a nozzle for a red organic EL material. On the first electrode adjacent to the first electrode to which the red organic EL material is applied, the green organic EL material is applied by a nozzle for the green organic EL material. On the next first electrode adjacent to the first electrode to which the green organic EL material is applied, the blue organic EL material is applied by a blue organic EL material nozzle. On the next first electrode adjacent to the first electrode coated with the blue organic EL material, the red organic EL material is coated. Thus, red, green, and blue organic EL materials are individually applied on the first electrode in that order.
[0009]
Next, a plurality of stripe-shaped second electrodes that are opposed to each other so as to be orthogonal to the first electrode are formed on the glass substrate in parallel by a vacuum vapor deposition method, and between the first electrode and the second electrode. An organic EL material is sandwiched. This second electrode corresponds to a cathode. Thus, an organic EL display device capable of full-color display in which the first electrode and the second electrode are arranged in a simple XY matrix is manufactured.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, a blade dispense type coating apparatus which has been conventionally considered is not suitable for a requirement for applying a material according to a fine pattern shape such as application of an organic EL material. Therefore, a nozzle type (hereinafter, referred to as a straight nozzle) coating apparatus that discharges the coating liquid from one fine hole that can be discharged linearly is often used.
[0011]
In such a straight nozzle, in order to apply to a desired range, a process of applying by sliding the nozzle along the pattern is required. In order to increase the throughput of coating, this slide movement is also accelerated. When the peripheral edge W1 of the substrate W is masked by the peripheral edge mask device of the substrate W as in the prior art, the following problems are caused. It was happening.
[0012]
As shown in FIG. 9, when the
[0013]
This is because a phenomenon occurs in which the coating liquid L flows and is applied in the moving direction of the
[0014]
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to reduce the amount of coating liquid used and to reduce the amount of loss (disposal amount). It is an object of the present invention to provide a coating apparatus capable of forming a coating film having excellent uniformity.
[0015]
[Means for solving the problems and their functions and effects]
In order to achieve the above object, the present invention provides a coating apparatus that applies a coating liquid onto a substrate, and the discharge nozzle is applied to the upper surface of the substrate from the discharge nozzle while moving in a direction across the stopped substrate. Nozzle means for discharging and applying the liquid, mask means for masking the peripheral edge of the substrate from the coating liquid discharged from the nozzle means, and the mask means as the moving direction of the nozzle means Comprises a shift control means for shifting in the reverse direction.
[0016]
The operation of the present invention is as follows. In the coating apparatus according to the first aspect, the coating range of the coating liquid by the nozzle means is set by the mask means. During this application, the mask means is shifted in the direction opposite to the moving direction of the nozzle means. As a result, when the coating liquid flows in the moving direction of the nozzle means due to the inertial force with the movement of the nozzle means, the coating liquid flows and is applied by limiting the area masked by the mask means in the reverse direction. The area is also limited. That is, by shifting the mask means, the coating range of the coating liquid is more reliably limited to the desired range.
[0017]
According to a second aspect of the present invention, in the coating apparatus according to the first aspect, the nozzle means passes through a coating range of the upper surface of the substrate from the upper surface of the mask means positioned at one peripheral edge of the substrate, and the substrate The movement range is up to the upper surface of the mask means located at the other peripheral edge of the first.
[0018]
In the coating apparatus according to the second aspect of the present invention, the application of the coating liquid to the coating range is reliably achieved on the substrate masked by the mask means.
[0019]
According to a third aspect of the present invention, in the coating apparatus according to the second aspect, the mask means is disposed with a gap with respect to a peripheral edge portion of the substrate, and the shift control means is a moving direction of the nozzle means. The upstream mask means is moved onto the peripheral edge of the substrate, and the mask means downstream in the movement direction is moved onto the coating area of the substrate.
[0020]
In the coating apparatus according to the third aspect of the present invention, the mask means on the upstream side in the movement direction of the nozzle means is moved onto the peripheral edge of the substrate, thereby preventing unevenness of the coating film in the coating range. On the other hand, the mask means on the downstream side in the moving direction is moved onto the coating range of the substrate, thereby preventing the coating liquid from being applied to the peripheral edge of the substrate.
[0021]
According to a fourth aspect of the present invention, in the coating apparatus according to the second or third aspect of the present invention, the nozzle means is controlled so as to repeat reversing and coating different moving ranges at the end of the moving range. And the shift control means adjusts the shift direction in conjunction with the reversal of the nozzle means.
[0022]
In the coating apparatus according to the fourth aspect of the present invention, the coating can be performed over a wide range of the substrate by inverting the nozzle means and repeating the coating. At that time, since the nozzle means is shifted in conjunction with the reversal of the nozzle means, it is possible to prevent unnecessary application outside the application range and unevenness of the coating film in the application range.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
<First embodiment>
The coating apparatus according to the embodiment of the present invention specifically manufactures an organic EL display device by coating an organic EL material as a coating liquid on a rectangular glass substrate (simply referred to as substrate S) in a predetermined pattern shape. Is. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a main part of a coating apparatus which is an apparatus for manufacturing an organic EL display device according to an embodiment of the present invention.
[0024]
This coating apparatus discharges the organic EL material in the form of a straight bar from the tip of the
[0025]
As shown in FIG. 1, the coating apparatus includes a
[0026]
Hereinafter, the configuration of each unit will be described in detail.
As shown in FIGS. 2 and 3, the
[0027]
Here, the manufacturing process of the board | substrate S which receives application | coating of the
[0028]
Next, an electrically insulating
[0029]
A
[0030]
Returning to FIG. 1, the
[0031]
For example, the
[0032]
The
[0033]
As shown in FIG. 4, the nozzle moving
[0034]
The
[0035]
For example, as shown in FIG. 4C, by rotating the holding
[0036]
For example, a CCD camera is employed as the alignment
[0037]
The peripheral
[0038]
The control unit 9 detects the position of the alignment mark M based on the image data captured by the alignment
[0039]
As shown in FIG. 5, the control unit 9 controls the stage moving
[0040]
The control unit 9 controls the driving direction of the driving
[0041]
The
[0042]
Next, a manufacturing process for manufacturing an organic EL display device using the coating apparatus configured as described above will be described below.
[0043]
As shown in FIGS. 2 and 3, since the substrate S in a state of receiving the application of the
[0044]
The control unit 9 gives an instruction to the alignment
[0045]
As shown in FIGS. 5A and 5B, the controller 9 shifts the peripheral
[0046]
First, as shown in FIG. 5A, the
[0047]
As shown in FIG. 6, the control unit 9 controls the stage moving
[0048]
Next, as shown in FIGS. 5 and 6, when the
[0049]
At this time, application from the
[0050]
As a result, as shown in FIG. 5A, it is possible to prevent the coating film from becoming thin at the start end of the coating range W2. In order to set the shift amount of the
[0051]
When the
[0052]
At this time, the application stop position E of the
[0053]
As a result, as shown in FIG. 5A, it is possible to prevent the coating film from being applied to the peripheral edge W1 at the end portion of the coating range W2. In order to set the shift amount of the
[0054]
Thus, application | coating of the
[0055]
Next, as shown in FIG. 6, the
[0056]
At the same time, as shown in FIG. 5B, the
[0057]
Then, by repeating the above-described operation for the remaining
[0058]
The semicircular broken line shown in FIG. 6 indicates that each
[0059]
Next, when the application of the
[0060]
In this way, the substrate S is masked by the peripheral
[0061]
As a result, a dedicated apparatus for removing an unnecessary coating film on the peripheral edge of the substrate after coating is not required, so that the process throughput is improved and the cost can be significantly reduced. In addition, there is no need to remove an unnecessary coating film on the peripheral edge of the substrate after coating, dust generation associated with this step is eliminated, and particles during transport of the substrate in subsequent steps (patterning, etching, etc.) are eliminated. The cause of occurrence is eliminated.
[0062]
In addition, this invention is not limited to the Example and modification which were mentioned above, It can implement also with another form as follows.
[0063]
(1) In the embodiment described above, as shown in FIG. 6, the
[0064]
(2) In the above-described embodiment, the
[0065]
Further, the interval between the
[0066]
(3) In the above-described embodiment, the substrate S is a glass substrate. However, the substrate of a material other than glass and the shape of the substrate S are not limited to a rectangle. It may be adopted.
[0067]
(4) In addition, although each said Example showed the case where an organic material (polyimide etc.) was apply | coated, this invention is applicable also when apply | coating another photoresist material.
[0068]
In addition, various design changes can be made within the scope of technical matters described in the claims.
[0069]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the present invention, in the apparatus capable of applying the coating liquid in a predetermined pattern shape on the substrate, even when the coating liquid is supplied by moving the nozzle, this coating is applied. The liquid application area can be surely limited to prevent splashing to areas other than the application area, and uniform application can be realized.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a main part of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic plan view showing a state in which a substrate on which grooves corresponding to a predetermined pattern shape to which an organic EL material is to be applied is formed is viewed from above.
3 is a schematic cross-sectional view showing a cross section of a part of the substrate shown in FIG. 2;
4A is a schematic perspective view of a nozzle moving mechanism unit of the present embodiment, FIG. 4B is a schematic plan view of the nozzle moving mechanism unit viewed from above, and FIG. 4C supports a holding member. It is a schematic plan view which shows the state rotated around the support shaft of the member.
FIGS. 5A and 5B are schematic side views for explaining the moving direction of the substrate S and the nozzle in the present embodiment. FIG. 5A shows a case where the nozzle moves in the B direction, and FIG. 5B shows a case where the nozzle moves in the direction opposite to the B direction. This is the case.
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating nozzle movement paths in the present embodiment.
FIG. 7 is a structural explanatory view schematically showing a main part of a conventionally known blade-dispensing type coating apparatus.
FIGS. 8A and 8B are configuration explanatory views schematically showing a configuration of an example of a substrate peripheral portion mask device showing the configuration of a conventional device, wherein FIG. 8A is a plan view, FIG. 8B is a side view, and FIG. These are top views explaining the board | substrate after an application | coating process.
FIG. 9 is a diagram schematically showing a coating process by a conventional coating apparatus.
[Explanation of symbols]
W, S substrate
W1 edge
W2 application range
W3 insufficient coating area
W4 Area of peripheral edge W1
L Coating liquid
1 stage
2 Stage moving mechanism
4a, 4b, 4c, 100 nozzles
8 Nozzle movement mechanism
9 Control unit
10a, 10b, 10c Organic EL material
50, 101 Perimeter mask device
51, 52 Mask plate
53, 54 Driving means
Claims (4)
停止状態の基板上を横切る方向に吐出式ノズルが移動しながら、基板の上面に吐出式ノズルから塗布液を吐き出して塗布するノズル手段と、
前記基板の周縁部に対して設けられ、前記ノズル手段から吐き出される塗布液から基板周縁部をマスクするマスク手段、
前記マスク手段を前記ノズル手段の移動方向とは逆方向にシフトさせるシフト制御手段と、
を具備することを特徴とすることを特徴とする塗布装置。In a coating apparatus for coating a coating solution on a substrate,
Nozzle means for discharging and applying the coating liquid from the discharge nozzle to the upper surface of the substrate, while the discharge nozzle moves in a direction across the substrate in the stopped state,
Mask means provided for the peripheral edge of the substrate, for masking the peripheral edge of the substrate from a coating solution discharged from the nozzle means;
Shift control means for shifting the mask means in a direction opposite to the moving direction of the nozzle means;
The coating apparatus characterized by comprising.
前記ノズル手段は、前記基板の一方の周縁部に位置するマスク手段の上面から基板上面の塗布範囲を通過して、前記基板の他方の周縁部に位置するマスク手段の上面までを移動範囲とするものである塗布装置。The coating apparatus according to claim 1,
The nozzle means moves from the upper surface of the mask means positioned at one peripheral edge of the substrate to the upper surface of the mask means positioned at the other peripheral edge of the substrate through the coating range of the upper surface of the substrate. The applicator device.
前記マスク手段は、前記基板の周縁部に対して隙間を有して配置され、
前記シフト制御手段は、ノズル手段の移動方向上流側のマスク手段を基板の周縁部上へ、移動方向下流側のマスク手段を基板の塗布範囲上へ移動させることを特徴とする塗布装置。The coating apparatus according to claim 2,
The mask means is disposed with a gap with respect to the peripheral edge of the substrate,
The shift control means moves the mask means on the upstream side in the movement direction of the nozzle means to the peripheral portion of the substrate, and moves the mask means on the downstream side in the movement direction to the coating range of the substrate.
前記ノズル手段は、前記移動範囲の端部で反転し異なる移動範囲を塗布することを繰り返すよう制御する駆動制御手段とを有し、
前記シフト制御手段は、ノズル手段の反転に連動してシフト方向を調整することを特徴とする塗布装置。In the coating device according to claim 2 or 3,
The nozzle means includes drive control means for controlling to reverse and apply different movement ranges at the end of the movement range;
The said shift control means adjusts a shift direction in conjunction with inversion of a nozzle means, The coating device characterized by the above-mentioned.
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