JP3787773B2 - Ionizer and system including the ionizer - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、イオン化装置、およびこのイオン化装置を利用したシステムに関する。
【0002】
【従来の技術】
マイナスイオンは、人の健康・生理機能(例えば、ストレスの緩和、疲労回復、血行促進)や生活環境改善(例えば、抗菌、除虫、ダイオキシンの抑制)に優れた機能を発揮することが知られている。このマイナスイオン(巨大な水のクラスターイオン)は、自然界において、滝の付近や噴水などのように、水が岩や石などに当たるときに小さな分子に拡散して発生する(レナード効果)。一方、マイナスイオンを人工的に生成する装置として、例えばコロナ放電法や水滴破砕法を利用したイオン化装置が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、コロナ放電法は、イオンを大きくするために大量の水を蒸気にする必要があるため、大容量のボイラーを必要とし、また居室内の湿度が過度に高くなって快適性が低下するという問題がある。また、水滴破砕法は大量の水を板に当てるため、大容量の貯留槽を必要とするうえ、水を板に当てるときに大きな音を発生するという問題がある。
【0004】
そこで、本発明は、大量のクラスターイオンを効率良く提供できるイオン化装置、また小型で騒音の少ないイオン化装置を提供することを目的とする。また、本発明は、このイオン化装置を利用したシステムを提供することを別の目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
これらの目的を達成するために、本発明に係るイオン化装置は、臨界オリフィス20を通じて外部空間14と連通する内部空間18を形成する容器12と、開口部20の近傍に配置された第1の電極16と、第1の電極16と所定の間隔をあけて対向するように内部空間18内に配置された第2の電極26と、内部空間18に所定の物質(例えば、水)の分子を含む気体を供給する気体供給部30と、第1の電極16と第2の電極26との間に所定の電圧を印加して放電させることで分子をイオン化する電源28と、臨界オリフィス20から外部空間14に向かって逆テーパ状に広がる拡大管24を形成する断熱部22で構成されている。
【0006】
本発明のシステムは、イオン化装置10Aとこのイオン化装置10Aで得られた分子イオンを基板84上に堆積するCVD成膜装置72とを備えたシステムにおいて、イオン化装置10Aが上述のイオン化装置であることを特徴とする。
【0010】
【発明の実施の形態】
(1)クラスターイオン発生器
図1は、本発明に係るイオン化装置の具体的実施形態であるクラスターイオン発生器10の概略構成を示す。このクラスターイオン発生器10は、筒状の容器又はハウジング12を有する。ハウジング12は、電気的に絶縁性を有する材料で形成されており、図面上左側の一端が閉鎖され、図面上右側の他端が外部空間14に開放されている。外部空間14に対して開放されたハウジング12の他端側は導電材料からなる隔壁(第1の電極)16によって閉鎖されており、これによりハウジング12の内側に内部空間18が形成されている。隔壁16は小径(例えば、内径が0.1〜0.4mm)の臨界オリフィス(孔)20を備えており、この臨界オリフィス20を通じて内部空間18と外部空間14が流体的に接続されている。臨界オリフィス20の外側には筒状の断熱部(断熱部材)22が配置されており、臨界オリフィス20から外部空間14に向けて逆テーパ状に広がる拡大管(断熱空間)24が形成されている。一方、臨界オリフィス20の内側には、臨界オリフィス20と所定の間隔をあけて、臨界オリフィス20に対向する針状電極(第2の電極)26が配置されている。本実施形態において、針状電極26は臨界オリフィス20の中心軸上に配置されて絶縁ハウジング12に支持されている。
【0011】
針状電極26は、高圧電源28と電気的に接続されている。一方、ハウジング12の内部空間18は加湿器(気体供給部)30に流体的に接続されている。加湿器30は、イオン化する分子である水を収容した貯留槽32と、この貯留槽32の底部に空気を供給する空気供給装置34を備えている。通常、空気供給装置34は、空気を供給するポンプと、一端がポンプの吐出口に接続されると共に他端が貯留槽32の底部に配置された空気供給管を有する。ハウジング12の内部空間18と空気加湿器30を接続する空気供給管は、その一端が貯留槽32の上部空間に連通し、他端が内部空間18に連通している。
【0012】
このような構成を備えたイオン発生器10によれば、空気供給装置34から供給された空気は、貯留槽32の底部から水中に放出される。水中に放出された空気は気泡となって上部空間に浮上し、その上部空間を加湿空気(湿度約30〜40%)で満たす。この加湿空気は、空気供給装置34から連続的に供給される空気によってハウジング12の内部空間18に所定の圧力(例えば、1〜2kg/cm)で送り込まれる。その結果、ハウジング12の内部空間18は加湿された圧力空気で満たされる。
【0013】
針状電極26には、直流又は交流の電圧(例えば、−6KV)が印加される。その結果、針状電極26とこれに対向する隔壁16との間の領域でコロナ放電が発生し、その領域に水分子のコロナ放電イオンが生成される。この水分子イオンは、加湿器30から内部空間18に供給される圧力空気により、高速ジェットとなって臨界オリフィス20から拡大管24に吐出する。拡大管24に吐出した高速ジェットの空気は、急激な圧力の低下によって断熱膨張し、過飽和雰囲気を形成する。その結果、雰囲気中の水分子がコロナ放電で発生した水分子イオンに凝集し、大きな水クラスターイオン36に成長する。
【0014】
ここで生成される水クラスターイオンは、図2に示すように、滝の近傍で発生するクラスターイオンと同程度の可動性(mobility)、即ち大きさを有し、それはハウジング12の内部空間18で発生したコロナ放電イオンよりも遥かに大きなものである。
【0015】
以上の説明では、加湿する気体として空気を用いたが、これは空気と他の気体との混合物、または空気以外の気体であってもよい。また、空気を加湿する液体として水を用いたが、これは水と他の液体との混合物、または水以外の液体であってもよい。さらに、針状電極26を高圧電源28に接続し、隔壁16を接地したが、逆に、隔壁16を高圧電源に接続し、針状電極を接地してもよい。さらにまた、以上の説明では隔壁16を導電部材で形成したが、臨界オリフィス20の周囲又はその近傍にのみ導電部材を配置し、この導電部材を第1の電極として利用してもよい。
【0016】
(2)ハウジング等の構成
上述したクラスターイオン発生器10において、ハウジング12等の具体的構成を図3に示す。この図に示すハウジング12は、円筒体40と、円筒体40の一端(図面上左側の端部)を閉鎖する基端部材42とからなる。これら円筒体40と基端部材42は、共に電気的に絶縁性の材料で形成されている。円筒体40の他端(図面上右側の端部)は、導電性の材料からなる電極板(隔壁)44で閉鎖されており、この電極板44の中央に約0.1〜0.4mmの貫通孔(臨界オリフィス)46が形成されている。一方、基端部材42の中央には貫通孔46の中心軸と同軸上に別の貫通孔48が形成されており、ハウジング12の内部(内部空間)50に配置されている導電性の針状電極支持部材52が当該別の貫通孔48にはめ込まれている。
【0017】
針状電極支持部材52は、図面上左側に、貫通孔48に連通する気体通路54と、この気体通路54とハウジング12の内部50とを連通する連通孔56が形成されており、図示しない加湿器(図1参照)から供給された加湿気体が貫通孔48、気体通路54から連通孔56を介してハウジング12の内部50に供給されるようにしてある。また、針状電極支持部材52の先端(電極板44に対向する端部)は針電極58を保持しており、この針電極58と電極板44との間に約2〜4mmの隙間があけてある。一方、基端部材42は、電源接続用電極収容孔60が形成されており、この電極収容孔60に電極62がその周囲を封止された状態で収容されている。そして、電極支持部材52と電極62が電線64によって電気的に接続されている。
【0018】
(3)実施の形態2
図4は、イオン発生器10Aと、このイオン発生器10Aで得られたイオンを利用するイオン化CVD成膜装置72を含むシステム70の構成を示す。システム70において、イオン発生器10Aは、実施の形態1で説明したイオン発生器10も使用可能であるが、このイオン発生器10から断熱部22を除いたイオン発生器であってもよい。イオン発生器10Aの内部空間は、CVD成膜法に利用される原料分子を供給するための原料分子供給部(気体供給部)74に接続されている。
【0019】
CVD原料は、気体・液体・固体のいずれかの形態を有する。例えば、固体原料としては金属カルボニル、金属錯体、金属βジケトン、金属塩化物(例えば、Ni(CO)4, (CH3COO)6Zn4O, Co[MeC(S)=CHCOMe]3, TiCl4)、液体原料としては有機金属・有機シリコン(例えば、Si(OC2H5)4 (TEOS;テトラエトキシシラン))、気体原料としてはSiH4(シラン)が挙げられるが、これらに限るものでない。これに対し、原料分子供給部74は、CVD原料の形態に応じた構成と機能を有する。例えば、CVD原料が液体又は固体の場合、原料分子供給部74は、蒸発器によって原料を蒸発し、この蒸発した原料ガスをキャリアガスと共にイオン発生器10Aに搬送する。一方、CVD原料が気体の場合、原料分子供給部74は、この原料ガスをキャリアガスと混合して所定濃度に調製した後、イオン発生器10Aに供給する。
【0020】
イオン発生器10Aの臨界オリフィスはイオン化CVD成膜装置72に接続されている。このイオン化CVD装置72は、一対の電極76,78と、一方の電極76の裏面(他方の電極78の反対側にある面で、図面上の下面)に設置されたヒータ80と、電極76,78の間に所定の電圧を印加する電源82を有する。そして、成膜の対象となる基板84は、上記一方の電極76の表面(他方の電極78に対向する面で、図面上の上面)に設置される。
【0021】
このような構成のシステム70において、イオン発生器10には、原料分子供給部74からCVDガス原料が供給される。このCVDガス原料は、針状電極と隔壁との対向領域(放電場)で発生したコロナ放電によりイオン化された後、高速ジェットとなって、一対の電極76、78間に噴射される。したがって、針状電極と隔壁との間の放電場で発生したCVD原料分子イオンは高い運動エネルギーを有し、針状電極又は隔壁に吸着されることなく、隔壁の貫通孔から効率良く噴射されて電極76,78の間に供給される。電極76,78の間に供給された原料分子イオンは、これら電極間に形成された電場に捕集された後、原料分子イオンと異なる極性の電圧が印加されている一方の電極76に向かって移動し、基板84上に堆積する。
【0022】
そのため、従来のCVD成膜装置では、膜や微粒子の素になる中間体やクラスターの反応容器内における運動がブラウン運動や対流に支配され、それらの運動を制御できず、高品質の薄膜やナノ粒子の合成ができなかったのに対し、上述のように、原料分子イオンの運動を目的の方向に制御できると共に、すべての又は殆どの原料分子イオンを成膜装置に供給することができるので高濃度の成膜が可能になる。
【0023】
なお、イオン発生器10Aの下流側にイオン化CVD成膜装置72を接続した場合を示したが、イオン化CVD成膜装置72に代えてヒーターにより壁面を所定の温度に加熱された反応管を接続してもよい。この場合、高品質のナノ粒子合成が可能となる。
【0024】
(4)実施の形態3
図5は、イオン発生器10Aと、このイオン発生器10Aで得られたイオンを利用する気流混合装置92を含むシステム90の構成を示す。イオン発生器10において、ハウジング内部はガス供給装置94に接続されており、このガス供給装置94からハウジング内部に所定の高圧ガスが供給されるようにしてある。気流混合装置92において、混合容器96は、イオン発生器10の臨界オリフィスと、ナノ粒子供給装置98に接続されている。
【0025】
このような構成において、イオン発生器10Aでは、ガス供給装置94からハウジング内部に供給された原料ガスはコロナ放電によりイオン化された後、高速ジェットとなって吐出する。吐出した高速ジェットの分子イオンは、混合容器96に供給され、そこでナノ粒子供給装置98から供給されたナノ粒子と混合されてその表面に付着し、ナノ粒子に電荷を与える。したがって、イオンが付着したナノ粒子は、後に電界を利用して分級、移送ができる。
【0026】
(5)実施の形態4
図6は、イオン発生器10Aと、このイオン発生器10Aで得られたイオンを利用するナノ粒子堆積装置102を含むシステム100の構成を示す。このシステム100において、イオン発生器10Aは、堆積装置102の容器104に接続され、イオン発生器10Aで生成されたイオンが容器104に供給されるようにしてある。堆積装置102の容器104には、その上部と下部にそれぞれ電極106,108が配置されている。電極106,108には直流電源110が接続され、これらの間に電界が形成されている。下部の電極108は、例えば金属又は非金属の電界ナノ粒子堆積基板112を支持している。容器104はまた、ナノ粒子供給装置114に接続されており、上部の電極106の下方領域にナノ粒子が供給されるようにしてある。
【0027】
このような構成において、イオン発生器10Aから容器104に供給された分子イオンは容器104に供給され、そこでナノ粒子供給装置114から供給されたナノ粒子と混合されてその表面に付着し、ナノ粒子に電荷を与える。電荷が付与されたナノ粒子は、電極間の電界によって下方の電極108に向かって吸引され、この電極108に支持された堆積基板(非沈着部材)112に沈着する。したがって、このシステム100によれば、ナノ粒子を効率良く捕集して目的の場所に堆積又は移送することができる。
【0028】
なお、イオンがマイナス電荷を持っている場合、図示するように上方の電極106にはマイナス極が接続され、下方の電極108にはプラス極が接続される。イオンがプラスの電荷を持っている場合、電極106,108は逆の極が接続される。
【0029】
以上の説明では下方の電極108に基板を配置したが、これに代えて他の液体又はスラリー若しくはゲルを収容した容器を配置し、この液体又はスラリー若しくはゲルの表面にナノ粒子を堆積してもよい。
【0030】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明に係るイオン化装置によれば、大量のクラスターイオン(例えば、マイナスイオン)を効率良く提供できる。
【0031】
また、イオン化装置とこのイオン化装置で得られた分子イオンを基板上に堆積するCVD成膜装置とを備えたシステムによれば、イオンの動きを所定の方向に制御できる。そのため、高濃度の成膜が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るイオン発生器の概略構成を示す断面図。
【図2】 クラスターイオンとコロナ放電イオン等の可動性を示すグラフを示す図。
【図3】 図1に示すイオン発生器の部分断面図。
【図4】 イオン発生器と該イオン発生器で生成したイオンを利用するイオン化CVD成膜装置を含むシステムの概略構成図。
【図5】 イオン発生器と該イオン発生器で生成したイオンを利用する気流混合装置を含むシステムの概略構成図。
【図6】 イオン発生器と該イオン発生器で生成したイオンを利用する堆積装置を含むシステムの概略構成図。
【符号の説明】
10:クラスターイオン発生器
10A:イオン発生器
12:ハウジング(容器)
14:外部空間
16:隔壁(第1の電極)
18:内部空間
20:臨界オリフィス
22:断熱部(断熱部材)
24:拡大管
26:針状電極(第2の電極)
28:高圧電源
36:クラスターイオン
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an ionizer and a system using the ionizer.
[0002]
[Prior art]
Negative ions are known to exhibit excellent functions in human health and physiological functions (for example, stress relief, fatigue recovery, blood circulation promotion) and living environment improvement (for example, antibacterial, insect repellent, dioxin suppression). ing. In the natural world, these negative ions (giant water cluster ions) are generated by diffusion into small molecules (Leonard effect) when water hits rocks or stones, like waterfalls or fountains. On the other hand, as an apparatus for artificially generating negative ions, for example, an ionization apparatus using a corona discharge method or a water droplet crushing method has been proposed.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the corona discharge method requires a large amount of water to vaporize a large amount of ions, so that a large-capacity boiler is required, and the humidity in the room becomes excessively high, resulting in a decrease in comfort. There's a problem. In addition, since the water droplet crushing method applies a large amount of water to the plate, it requires a large-capacity storage tank and generates a loud noise when the water is applied to the plate.
[0004]
Accordingly, an object of the present invention is to provide an ionizer that can efficiently provide a large amount of cluster ions, and a small ionizer that is small in noise. Another object of the present invention is to provide a system using this ionization apparatus.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve these objects, the ionization apparatus according to the present invention includes a container 12 that forms an internal space 18 that communicates with the external space 14 through a critical orifice 20, and a first electrode that is disposed in the vicinity of the opening 20. 16, a second electrode 26 disposed in the internal space 18 so as to face the first electrode 16 with a predetermined gap, and a molecule of a predetermined substance (for example, water) in the internal space 18. A gas supply unit 30 for supplying a gas; a power source 28 for ionizing molecules by applying a predetermined voltage between the first electrode 16 and the second electrode 26 to discharge the gas; It is comprised with the heat insulation part 22 which forms the expansion pipe 24 which spreads in the reverse taper shape toward 14. FIG.
[0006]
The system of the present invention includes an ionization apparatus 10A and a CVD film forming apparatus 72 that deposits molecular ions obtained by the ionization apparatus 10A on a substrate 84. The ionization apparatus 10A is the above-described ionization apparatus. It is characterized by.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(1) Cluster Ion Generator FIG. 1 shows a schematic configuration of a cluster ion generator 10 which is a specific embodiment of an ionization apparatus according to the present invention. The cluster ion generator 10 has a cylindrical container or housing 12. The housing 12 is formed of an electrically insulating material, one end on the left side in the drawing is closed, and the other end on the right side in the drawing is opened to the external space 14. The other end of the housing 12 opened to the external space 14 is closed by a partition wall (first electrode) 16 made of a conductive material, thereby forming an internal space 18 inside the housing 12. The partition wall 16 includes a critical orifice (hole) 20 having a small diameter (for example, an inner diameter of 0.1 to 0.4 mm), and the internal space 18 and the external space 14 are fluidly connected through the critical orifice 20. A cylindrical heat insulating portion (heat insulating member) 22 is disposed outside the critical orifice 20, and an enlarged tube (heat insulating space) 24 that extends in a reverse taper shape from the critical orifice 20 toward the external space 14 is formed. . On the other hand, a needle-like electrode (second electrode) 26 facing the critical orifice 20 is disposed inside the critical orifice 20 at a predetermined interval from the critical orifice 20. In the present embodiment, the needle electrode 26 is disposed on the central axis of the critical orifice 20 and supported by the insulating housing 12.
[0011]
The needle electrode 26 is electrically connected to a high voltage power supply 28. On the other hand, the internal space 18 of the housing 12 is fluidly connected to a humidifier (gas supply unit) 30. The humidifier 30 includes a storage tank 32 that stores water, which is a molecule to be ionized, and an air supply device 34 that supplies air to the bottom of the storage tank 32. Usually, the air supply device 34 has a pump for supplying air, and an air supply pipe having one end connected to the discharge port of the pump and the other end arranged at the bottom of the storage tank 32. One end of the air supply pipe connecting the internal space 18 of the housing 12 and the air humidifier 30 communicates with the upper space of the storage tank 32, and the other end communicates with the internal space 18.
[0012]
According to the ion generator 10 having such a configuration, the air supplied from the air supply device 34 is discharged into the water from the bottom of the storage tank 32. The air released into the water becomes bubbles and floats in the upper space, and the upper space is filled with humidified air (humidity of about 30 to 40%). The humidified air is sent to the internal space 18 of the housing 12 at a predetermined pressure (for example, 1 to 2 kg / cm 2 ) by the air continuously supplied from the air supply device 34. As a result, the internal space 18 of the housing 12 is filled with humidified pressure air.
[0013]
A DC or AC voltage (for example, −6 KV) is applied to the needle electrode 26. As a result, corona discharge is generated in a region between the needle electrode 26 and the partition wall 16 facing the needle electrode 26, and corona discharge ions of water molecules are generated in the region. The water molecule ions are discharged from the critical orifice 20 to the expansion tube 24 as a high-speed jet by the pressurized air supplied from the humidifier 30 to the internal space 18. The air of the high-speed jet discharged to the expansion tube 24 adiabatically expands due to a rapid pressure drop and forms a supersaturated atmosphere. As a result, water molecules in the atmosphere aggregate into water molecule ions generated by corona discharge and grow into large water cluster ions 36.
[0014]
As shown in FIG. 2, the water cluster ions generated here have the same mobility or size as the cluster ions generated in the vicinity of the waterfall. It is much larger than the generated corona discharge ions.
[0015]
In the above description, air is used as the gas to be humidified, but this may be a mixture of air and another gas, or a gas other than air. Moreover, although water was used as the liquid for humidifying the air, this may be a mixture of water and another liquid, or a liquid other than water. Furthermore, although the needle electrode 26 is connected to the high voltage power source 28 and the partition wall 16 is grounded, conversely, the partition wall 16 may be connected to the high voltage power source and the needle electrode may be grounded. Furthermore, in the above description, the partition wall 16 is formed of a conductive member. However, a conductive member may be disposed only around or in the vicinity of the critical orifice 20, and this conductive member may be used as the first electrode.
[0016]
(2) Configuration of Housing and the like In the cluster ion generator 10 described above, a specific configuration of the housing 12 and the like is shown in FIG. The housing 12 shown in this figure includes a cylindrical body 40 and a base end member 42 that closes one end (the left end in the drawing) of the cylindrical body 40. Both the cylindrical body 40 and the base end member 42 are formed of an electrically insulating material. The other end (right end in the drawing) of the cylindrical body 40 is closed by an electrode plate (partition wall) 44 made of a conductive material, and about 0.1 to 0.4 mm in the center of the electrode plate 44. A through hole (critical orifice) 46 is formed. On the other hand, another through hole 48 is formed coaxially with the central axis of the through hole 46 at the center of the base end member 42, and is a conductive needle-like shape disposed in the interior (internal space) 50 of the housing 12. An electrode support member 52 is fitted into the other through hole 48.
[0017]
The acicular electrode support member 52 is formed with a gas passage 54 communicating with the through hole 48 and a communication hole 56 communicating the gas passage 54 and the inside 50 of the housing 12 on the left side in the drawing. The humidified gas supplied from the vessel (see FIG. 1) is supplied from the through hole 48 and the gas passage 54 to the interior 50 of the housing 12 through the communication hole 56. The tip of the needle-shaped electrode support member 52 (the end facing the electrode plate 44) holds the needle electrode 58, and a gap of about 2 to 4 mm is provided between the needle electrode 58 and the electrode plate 44. It is. On the other hand, the base end member 42 has a power connection electrode housing hole 60 formed therein, and the electrode 62 is housed in the electrode housing hole 60 in a state where the periphery thereof is sealed. The electrode support member 52 and the electrode 62 are electrically connected by an electric wire 64.
[0018]
(3) Embodiment 2
FIG. 4 shows a configuration of a system 70 including an ion generator 10A and an ionization CVD film forming apparatus 72 that uses ions obtained by the ion generator 10A. In the system 70, the ion generator 10 </ b> A described in the first embodiment can be used as the ion generator 10 </ b> A, but may be an ion generator obtained by removing the heat insulating portion 22 from the ion generator 10. The internal space of the ion generator 10A is connected to a source molecule supply unit (gas supply unit) 74 for supplying source molecules used for the CVD film forming method.
[0019]
The CVD raw material has any form of gas, liquid, and solid. For example, solid materials include metal carbonyls, metal complexes, metal β diketones, metal chlorides (eg, Ni (CO) 4 , (CH 3 COO) 6 Zn 4 O, Co [MeC (S) = CHCOMe] 3 , TiCl 4 ) Organic materials and organic silicon (for example, Si (OC 2 H 5 ) 4 (TEOS; tetraethoxysilane)) are used as liquid materials, and SiH 4 (silane) is used as gas materials. Not. On the other hand, the raw material molecule supply unit 74 has a configuration and a function according to the form of the CVD raw material. For example, when the CVD raw material is liquid or solid, the raw material molecule supply unit 74 evaporates the raw material with an evaporator, and conveys the evaporated raw material gas to the ion generator 10A together with the carrier gas. On the other hand, when the CVD raw material is a gas, the raw material molecule supply unit 74 mixes this raw material gas with a carrier gas to prepare a predetermined concentration, and then supplies it to the ion generator 10A.
[0020]
The critical orifice of the ion generator 10A is connected to an ionization CVD film forming apparatus 72. The ionization CVD apparatus 72 includes a pair of electrodes 76 and 78, a heater 80 installed on the back surface of one electrode 76 (the surface on the opposite side of the other electrode 78, the lower surface in the drawing), the electrodes 76, 78 has a power supply 82 for applying a predetermined voltage. Then, the substrate 84 to be formed is placed on the surface of the one electrode 76 (the surface facing the other electrode 78 and the upper surface in the drawing).
[0021]
In the system 70 having such a configuration, the ion generator 10 is supplied with the CVD gas raw material from the raw material molecule supply unit 74. This CVD gas raw material is ionized by corona discharge generated in a region (discharge field) between the needle-like electrode and the partition wall, and then is jetted between the pair of electrodes 76 and 78 as a high-speed jet. Therefore, the CVD source molecular ions generated in the discharge field between the needle electrode and the barrier rib have high kinetic energy and are efficiently ejected from the through hole of the barrier rib without being adsorbed by the needle electrode or the barrier rib. It is supplied between the electrodes 76 and 78. The source molecular ions supplied between the electrodes 76 and 78 are collected in an electric field formed between these electrodes, and then directed toward one electrode 76 to which a voltage having a polarity different from that of the source molecular ions is applied. Move and deposit on the substrate 84.
[0022]
For this reason, in conventional CVD deposition systems, the motion of intermediates and clusters that are elementary films and fine particles in the reaction vessel is dominated by Brownian motion and convection, and these motions cannot be controlled. Although the particles could not be synthesized, as described above, the movement of the source molecular ions can be controlled in the target direction, and all or most of the source molecular ions can be supplied to the film forming apparatus. Concentration film formation is possible.
[0023]
In addition, although the case where the ionization CVD film-forming apparatus 72 was connected to the downstream of the ion generator 10A was shown, it replaced with the ionization CVD film-forming apparatus 72, and connected the reaction tube which heated the wall surface to predetermined temperature with the heater. May be. In this case, high-quality nanoparticle synthesis is possible.
[0024]
(4) Embodiment 3
FIG. 5 shows a configuration of a system 90 including an ion generator 10A and an airflow mixing device 92 that uses ions obtained by the ion generator 10A. In the ion generator 10, the inside of the housing is connected to a gas supply device 94, and a predetermined high-pressure gas is supplied from the gas supply device 94 to the inside of the housing. In the airflow mixing device 92, the mixing container 96 is connected to the critical orifice of the ion generator 10 and the nanoparticle supply device 98.
[0025]
In such a configuration, in the ion generator 10A, the source gas supplied into the housing from the gas supply device 94 is ionized by corona discharge, and then discharged as a high-speed jet. The discharged molecular ions of the high-speed jet are supplied to the mixing container 96, where they are mixed with the nanoparticles supplied from the nanoparticle supply device 98, adhere to the surface, and give a charge to the nanoparticles. Therefore, the nanoparticles to which ions are attached can be classified and transferred later using an electric field.
[0026]
(5) Embodiment 4
FIG. 6 shows a configuration of a system 100 including an ion generator 10A and a nanoparticle deposition apparatus 102 that uses ions obtained by the ion generator 10A. In this system 100, the ion generator 10 </ b> A is connected to the container 104 of the deposition apparatus 102 so that ions generated by the ion generator 10 </ b> A are supplied to the container 104. In the container 104 of the deposition apparatus 102, electrodes 106 and 108 are arranged on the upper and lower parts, respectively. A DC power supply 110 is connected to the electrodes 106 and 108, and an electric field is formed between them. The lower electrode 108 supports, for example, a metal or non-metal field nanoparticle deposition substrate 112. The container 104 is also connected to a nanoparticle supply device 114 so that nanoparticles are supplied to a region below the upper electrode 106.
[0027]
In such a configuration, the molecular ions supplied from the ion generator 10A to the container 104 are supplied to the container 104, where they are mixed with the nanoparticles supplied from the nanoparticle supply device 114 and attached to the surface thereof. Give a charge. The charged nanoparticles are attracted toward the lower electrode 108 by the electric field between the electrodes, and deposited on the deposition substrate (non-deposition member) 112 supported by the electrode 108. Therefore, according to this system 100, nanoparticles can be efficiently collected and deposited or transferred to a target location.
[0028]
When ions have a negative charge, a negative electrode is connected to the upper electrode 106 and a positive electrode is connected to the lower electrode 108 as shown in the figure. When the ions have a positive charge, the electrodes 106 and 108 are connected to the opposite poles.
[0029]
In the above description, the substrate is disposed on the lower electrode 108. Alternatively, a container containing another liquid, slurry, or gel may be disposed, and nanoparticles may be deposited on the surface of the liquid, slurry, or gel. Good.
[0030]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, the ionization apparatus according to the present invention can provide a large amount of cluster ions (for example, negative ions) efficiently.
[0031]
Further, according to a system including an ionization apparatus and a CVD film forming apparatus that deposits molecular ions obtained by the ionization apparatus on a substrate , the movement of ions can be controlled in a predetermined direction. Therefore, high concentration film formation is possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of an ion generator according to the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the mobility of cluster ions and corona discharge ions.
3 is a partial cross-sectional view of the ion generator shown in FIG.
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a system including an ion generator and an ionization CVD film forming apparatus that uses ions generated by the ion generator.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a system including an ion generator and an airflow mixing device using ions generated by the ion generator.
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a system including an ion generator and a deposition apparatus that uses ions generated by the ion generator.
[Explanation of symbols]
10: Cluster ion generator 10A: Ion generator 12: Housing (container)
14: External space 16: Partition wall (first electrode)
18: Internal space 20: Critical orifice 22: Heat insulation part (heat insulation member)
24: Magnifying tube 26: Needle electrode (second electrode)
28: High-voltage power supply 36: Cluster ion

Claims (3)

臨界オリフィス20を通じて外部空間14と連通する内部空間18を形成する容器12と、前記臨界オリフィス20の近傍に配置された第1の電極16と、前記第1の電極16と所定の間隔をあけて対向するように前記内部空間18内に配置された第2の電極26と、前記内部空間18に所定の物質の分子を含む気体を供給する気体供給部30と、前記第1の電極16と第2の電極26との間に所定の電圧を印加して放電させることで前記分子をイオン化する電源28、前記臨界オリフィス20から外部空間14に向かって逆テーパ状に広がる拡大管24を形成する断熱部22とを備えたことを特徴とするイオン化装置。  A container 12 that forms an internal space 18 that communicates with the external space 14 through a critical orifice 20, a first electrode 16 that is disposed in the vicinity of the critical orifice 20, and a predetermined interval from the first electrode 16. A second electrode 26 disposed in the internal space 18 so as to oppose, a gas supply unit 30 for supplying a gas containing molecules of a predetermined substance to the internal space 18, the first electrode 16, and the first electrode A power supply 28 for ionizing the molecules by applying a predetermined voltage between the two electrodes 26 and discharging them, and a heat insulation that forms an enlarged tube 24 that extends in a reverse taper shape from the critical orifice 20 toward the external space 14. An ionizer comprising the unit 22. 前記所定の物質が水であることを特徴とする請求項1に記載のイオン化装置。  The ionization apparatus according to claim 1, wherein the predetermined substance is water. イオン化装置10Aとこのイオン化装置10Aで得られた分子イオンを基板84上に堆積するCVD成膜装置72とを備えたシステムにおいて、前記イオン化装置10Aが請求項1に記載のイオン化装置であることを特徴とするシステム。In a system including an ionization apparatus 10A and a CVD film forming apparatus 72 for depositing molecular ions obtained by the ionization apparatus 10A on a substrate 84, the ionization apparatus 10A is the ionization apparatus according to claim 1. Features system.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2889082B1 (en) * 2005-07-28 2007-10-05 Commissariat Energie Atomique AIR / WATER EXTRACTION DEVICE BY SEMI-HUMID ELECTROSTATIC COLLECTION AND METHOD USING THE SAME
JP4779900B2 (en) * 2006-09-15 2011-09-28 株式会社島津製作所 Charging device
JP4710787B2 (en) * 2006-10-06 2011-06-29 株式会社島津製作所 Particle classifier
JP4905040B2 (en) * 2006-10-06 2012-03-28 株式会社島津製作所 Particle classifier
JP4615029B2 (en) * 2008-02-21 2011-01-19 春日電機株式会社 Blower type static elimination electrode structure and blow type static elimination electrode device
JP6043944B2 (en) * 2011-04-06 2016-12-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 Active species generating unit and active species generating apparatus using the same
WO2014002453A1 (en) * 2012-06-27 2014-01-03 パナソニック株式会社 Electricity discharging unit and air cleaning device using same
JP6210159B2 (en) * 2014-08-08 2017-10-11 株式会社島津製作所 Particle charging device
CN116438013A (en) * 2020-10-27 2023-07-14 国立大学法人东北大学 High-speed nano mist and generation method, generation device, processing method, processing device, measurement method, and measurement device thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008075607A1 (en) 2006-12-20 2008-06-26 Shimadzu Corporation Ionization device
US8022362B2 (en) 2006-12-20 2011-09-20 Shimadzu Corporation Ionization device

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