JP3778621B2 - Optical component coating method - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学部品のコーティング(例えば 、無反射コーティング)方法に関し、特に同一の光学素子を複数個、又は異種の光学素子を複数個を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製の光学基板に対するコーティング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
回折格子、ホログラム素子、各種レンズなどの光学部品は、ガラスの基板を加工(エッチング、又は切削研磨)することにより製造されている。しかしこの製造方法では、製造工程が煩雑であること、及び大量に製造することが困難であったが、近年においては、樹脂成形による製造方法が用いられている。しかし、従来の成形によって製造する場合は、数個単位で成形されることから、充分なコストダウンに繋がってはいない。
【0003】
そこで、本願出願人は特願平8−77375号で一度の成形で多数(例えば、1000個以上)の光学素子を、一枚の樹脂基板上に成形し、その後、樹脂基板を個別の光学素子毎に分割する製造方法を発明し、安価な光学部品の提供を可能とした。
一般的に、光学部品には、例えば無反射コーティングなどの、コーティング処理が必要となっている。
【0004】
光学部品のコーティング処理は、一般に真空蒸着装置によって蒸着処理されており、光学部品の表面とコーティング層の密着力を高める為、蒸着する際にある程度の温度が必要となる。充分な密着力を得ようとした場合は、およそ300℃程度の温度環境が必要となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、樹脂製光学部品においては、低温(例えば、100℃前後)で処理する必要性がある。さもないと樹脂自体が熱変形したりする。そのために低温で処理すると、今度は樹脂表面とコーティング層の密着力が弱くなる、という欠点がある。
【0006】
従って、コーティング処理後、光学部品をダイシングマシンなどにより分割した場合、光学素子個々のエッジ部分から、コーティング層が剥がれたり、欠けたりする不具合が発生し、コーティング処理による効果の有効性を阻害する。
本発明は、光学素子のコーティング処理による効果を損なうことのないコーティング方法を提供することを目的として為されたものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は斯かる課題を解決すべく為されたものであり、請求項1に係る発明は、複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂からなり、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温で保持されることを特徴とする。
また、請求項2に係る発明は、複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂としてポリカーボネートを用い、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温である摂氏約100度で保持されることを特徴とする
【0008】
更に、請求項3に係る発明は、複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂からなり、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温で保持され、
前記光学素子は、回折格子、ホログラム素子、フレネルレンズであり、前記光学素子に無反射コーティング処理が施されることを特徴とする
【0009】
【実施の形態】
図1は、本発明のコーティング方法を説明するためのマスキングの一例を示す摸式的断面図、図2は樹脂成形により製造された光学基板の正面図、図3は光学基板にマスキングを施すマスキング冶具の一例を示す正面図、図4はコーティング処理後の光学基板の光学素子への分割を示す摸式図、図5は光学部品のコーティング方法を説明するための、典型的な真空蒸着装置としての電子ビーム蒸着装置を示す摸式図である。
【0010】
図1は、ポリカーボネートやアクリル等の光学特性に富んだ熱可塑性樹脂からなる光学基板1をマスキング冶具2により、マスキングしたときの断面を示すものである。図1において、前記熱可塑性樹脂からなる光学基板1の片側表面(この実施例では片面であるが両面でも良い)には、樹脂成形により回折格子、ホログラム素子、フレネルレンズ等の光学素子1aが複数個形成されている。図2は斯かる光学基板1の正面図であり、この実施例では例えば円板状の光学樹脂基板1に光学素子1aが多数形成されている。
【0011】
光学素子1aが形成された部分より少し大きめのエリアの表面にコーティングできるように図3に示すマスキング冶具2には、例えば金属製のマスキング治具2に角型にフォトリソグラフィ手法やプレス加工等により開口された開口部2aが形成されている。斯かるマスキング治具2を、前記樹脂製光学基板1に密着させた後、樹脂製光学基板1の露出表面に、図5に示すような電子ビーム蒸着装置によって蒸着処理を施すと、当該光学素子1aの露出表面に無反射コーティングのためのコーティング層3が形成される。
【0012】
図5を参照して、典型的な電子ビーム蒸着装置を使用した具体的コーティング方法について説明する。表面コーティングされる光学基板1は、10-5(10のマイナス5乗)torr以下の真空状態をつくることができる真空システム10を具備した真空窯6の中にそのコーティング面を下方にしてセットされ、気化されるコーティング材料7、例えば弗化マグネシウム(MgF2)、二酸化シリコン(SiO2)、二酸化セシウム(CeO2)は、真空窯6の底部の水冷るつぼ11に設置される。
【0013】
光学基板1は、各基板が真空窯6の中において、時間的に平均して同じ量になる気化コーティング材料で掃引がなされるよう設置されている回転木馬型のマウント8にセットされる。回転木馬型のマウント8は、回転駆動モーター9により回転動作する。コーティング材料7は、高密度の電子ビーム銃(図示せず)によって電子ビームが照射され、強烈な部分加熱により、溶融され、気化される。加熱用クオーツランプ12は、気化される蒸気の殆どを確実に原子または分子の状態にできるように、真空窯6の内部の温度をコントロールする為のものである。
【0014】
当然蒸着時、光学基板1もクオーツランプ12により加熱されるが、斯かる光学基板1は樹脂材料により決定される熱変形温度(荷重たわみ温度)より低温に保持されている。本実施例では熱可塑性樹脂として熱変形温度(荷重たわみ温度)が摂氏120〜140度のポリカーボーネートを使用して、光学基板1の温度を摂氏100〜110度と100度程度の低温に保持してコーティング処理を実行した。
【0015】
前記のようにコーティング材料7は気化され、真空窯6の内部は高真空で減圧されていることから、自由原子又は分子のフリー通路ができるため、重たい蒸気も真空窯6の上部で回転している、光学基板1に到達し、気化されたコーティング材料7は、光学基板1の表面で均一なコーティング層3を形成し、固体状態に凝縮される。
【0016】
コーティング層3の膜厚のコントロールについては、モニター用基板13に形成されたコーティング層の厚みを、モニター用光線ビーム及び光ディテクター(図示せず)により、光学的にモニターすることにより行う。
シャッター14は、多層膜コーティングを行う場合に、必要なコーティング材料を蒸着させる際に開閉させる為のものである。
【0017】
前記のようなマスキング技術を利用したコーティング方法によって、図4に示す如く光学素子1aをカバーするようにコーティング層3を熱的変形を招くことなく低温で形成することができる。そして、樹脂製光学基板1は、コーティング処理後カッテイングライン4に沿って数mm角の個々の光学素子にダイシングソーにより分割される。カッティングされる部分には、低温コーティングによるコーティング層3がないことから、当該コーティング層3がダイシングソーなどによる分割によって、剥がれたり欠けたりすることがなく、コーティング処理による効果の特性劣化防止が図れるものである。
【0018】
尚、本実施例ではコーティング層3は光学基板1の光学素子1aが形成されている側のみにコーティングされていたが、同じマスキング治具2を利用して反対の面にも必要に応じてコーティングしても良く、また抵抗加熱による真空蒸着、スパッタリング更には化学的気層成長法(CVD)によりコーティングしても良い。
【0019】
【発明の効果】
以上説明した如く、本発明のコーティング方法によれば、熱可塑性樹脂からなる樹脂製光学基板を複数個の光学素子に分割するに際して、斯かる分割によるコーティング層の剥がれや欠けを招くことがないので、信頼性の高いコーティング処理の施された光学素子を安価に多数製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のコーティング方法を示す摸式的断面図である。
【図2】樹脂成形により製造され本発明のコーティング方法によりコーティング処理が施される光学基板の正面図である。
【図3】本発明のコーティング方法に使用する、光学基板にマスキングを施すマスキング冶具を示す摸式図である
【図4】本発明のコーティング方法により、コーティング処理される光学基板の光学素子への分割を示す摸式図である。
【図5】光学部品のコーティング処理をおこなう為の、典型的な電子ビーム蒸着装置の一例を示す摸式図である。
【符号の説明】
1 樹脂製光学基板
1a 光学素子
2 マスキング冶具
2a 開口部
3 コーティング層
4 カッティングライン
6 真空窯
7 コーティング材料
8 マウント
10 真空システム
12 加熱用クオーツランプ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for coating optical parts (for example, non-reflective coating), and in particular, a resin formed by resin molding using a molding die, using a plurality of identical optical elements or a plurality of different optical elements. The present invention relates to a coating method for a manufactured optical substrate.
[0002]
[Prior art]
Optical components such as a diffraction grating, a hologram element, and various lenses are manufactured by processing (etching or cutting and polishing) a glass substrate. However, in this manufacturing method, the manufacturing process is complicated and it is difficult to manufacture in large quantities, but in recent years, a manufacturing method by resin molding has been used. However, in the case of manufacturing by conventional molding, since it is molded by several units, it does not lead to a sufficient cost reduction.
[0003]
Therefore, the applicant of the present application forms a large number (for example, 1000 or more) of optical elements on a single resin substrate by molding once in Japanese Patent Application No. 8-77375, and then the resin substrate is formed into individual optical elements. Invented a manufacturing method that divides every time, making it possible to provide inexpensive optical components.
In general, optical components require a coating process, such as an anti-reflective coating.
[0004]
The coating process of the optical component is generally performed by a vacuum deposition apparatus. In order to increase the adhesion between the surface of the optical component and the coating layer, a certain temperature is required for the deposition. In order to obtain sufficient adhesion, a temperature environment of about 300 ° C. is required.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, resin optical parts need to be processed at a low temperature (for example, around 100 ° C.). Otherwise, the resin itself is thermally deformed. For this reason, if the treatment is performed at a low temperature, there is a disadvantage that the adhesion between the resin surface and the coating layer is weakened.
[0006]
Therefore, when the optical component is divided by a dicing machine or the like after the coating process, a defect that the coating layer is peeled off or chipped from the edge portion of each optical element occurs, and the effectiveness of the effect by the coating process is hindered.
The present invention has been made for the purpose of providing a coating method that does not impair the effect of the coating treatment of the optical element.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made to solve such a problem, and the invention according to claim 1 is a method for coating a resin optical substrate in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die. The resin optical substrate is made of a thermoplastic resin, and a portion for dividing a plurality of optical elements formed on the resin optical substrate made of the thermoplastic resin into individual optical elements is masked. , when applying a coating process to the optical element, the resin optical substrate characterized in that it is held at a temperature lower than the heat deformation temperature.
The invention according to claim 2 is a method of coating a resin optical substrate in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die, wherein the resin optical substrate is a polycarbonate as a thermoplastic resin. And masking portions for dividing the plurality of optical elements formed on the resin optical substrate made of the thermoplastic resin into individual optical elements, and applying the coating treatment to the optical elements, the resin Ltd. optical substrate is characterized by Rukoto held in Celsius to about 100 degrees is a lower temperature than the thermal deformation temperature.
[0008]
Further, the invention according to claim 3 is a coating method of a resin optical substrate in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die, and the resin optical substrate is made of a thermoplastic resin. When the optical element is subjected to a coating treatment by masking a portion for dividing the plurality of optical elements formed on the resin optical substrate made of the thermoplastic resin into individual optical elements, the resin optical The substrate is held at a temperature lower than its thermal deformation temperature,
The optical element, a diffraction grating, the hologram element, a Fresnel lens, wherein the anti-reflective coating process is performed on the optical element.
[0009]
Embodiment
1 is a schematic sectional view showing an example of masking for explaining the coating method of the present invention, FIG. 2 is a front view of an optical substrate manufactured by resin molding, and FIG. 3 is a masking for masking the optical substrate. 4 is a front view showing an example of a jig, FIG. 4 is a schematic diagram showing division of an optical substrate after coating processing into optical elements, and FIG. 5 is a typical vacuum deposition apparatus for explaining a coating method of optical components. It is a model diagram which shows the electron beam vapor deposition apparatus.
[0010]
FIG. 1 shows a cross-section when an optical substrate 1 made of a thermoplastic resin rich in optical properties such as polycarbonate and acrylic is masked by a masking jig 2. In Figure 1, the thermoplastic composed of a resin optical substrate 1 on one side surface (although one side or on both sides in this embodiment), the diffraction grating by resin molding, the hologram element, an optical element 1a such Fresnel lens is more Individually formed. FIG. 2 is a front view of such an optical substrate 1. In this embodiment, for example, a large number of optical elements 1a are formed on a disc-shaped optical resin substrate 1. FIG.
[0011]
The masking jig 2 shown in FIG. 3 can be coated on the surface of an area slightly larger than the portion where the optical element 1a is formed, for example, by using a metal masking jig 2 in a square shape by a photolithography technique or pressing. Opened opening 2a is formed. After such a masking jig 2 is brought into close contact with the resin optical substrate 1, the exposed surface of the resin optical substrate 1 is subjected to a vapor deposition process by an electron beam vapor deposition apparatus as shown in FIG. A coating layer 3 for antireflection coating is formed on the exposed surface of 1a.
[0012]
A specific coating method using a typical electron beam evaporation apparatus will be described with reference to FIG. The optical substrate 1 to be surface-coated is set in a vacuum furnace 6 equipped with a vacuum system 10 capable of creating a vacuum state of 10 −5 (10 to the fifth power) torr or less with its coating surface facing downward. The vaporized coating material 7, for example, magnesium fluoride (MgF 2), silicon dioxide (SiO 2), and cesium dioxide (CeO 2) is placed in a water-cooled crucible 11 at the bottom of the vacuum kiln 6.
[0013]
The optical substrate 1 is set in a carousel mount 8 that is installed so that each substrate is swept with a vaporized coating material that averages the same amount in time in the vacuum kiln 6. The carousel mount 8 is rotated by a rotation drive motor 9. The coating material 7 is irradiated with an electron beam by a high-density electron beam gun (not shown), and melted and vaporized by intense partial heating. The quartz lamp 12 for heating is for controlling the temperature inside the vacuum furnace 6 so that most of the vaporized vapor can be in an atomic or molecular state.
[0014]
Of course, the optical substrate 1 is also heated by the quartz lamp 12 at the time of vapor deposition, but the optical substrate 1 is kept at a temperature lower than the thermal deformation temperature (deflection temperature under load) determined by the resin material. In this embodiment, polycarbonate having a thermal deformation temperature (deflection temperature under load) of 120 to 140 degrees Celsius is used as the thermoplastic resin, and the temperature of the optical substrate 1 is kept at a low temperature of about 100 degrees Celsius, such as 100 to 110 degrees Celsius. The coating process was performed.
[0015]
As described above, since the coating material 7 is vaporized and the inside of the vacuum furnace 6 is decompressed with a high vacuum, a free path of free atoms or molecules is created, so that heavy steam also rotates at the top of the vacuum furnace 6. The coating material 7 that has reached the optical substrate 1 and is vaporized forms a uniform coating layer 3 on the surface of the optical substrate 1 and is condensed into a solid state.
[0016]
The film thickness of the coating layer 3 is controlled by optically monitoring the thickness of the coating layer formed on the monitor substrate 13 using a monitor beam and a photodetector (not shown).
The shutter 14 is for opening and closing when a necessary coating material is deposited when performing multilayer coating.
[0017]
By the coating method using the masking technique as described above, the coating layer 3 can be formed at a low temperature without causing thermal deformation so as to cover the optical element 1a as shown in FIG. The resin optical substrate 1 is divided by a dicing saw into individual optical elements of several square mm along the coating line 4 after the coating process. Since the part to be cut does not have the coating layer 3 formed by low temperature coating, the coating layer 3 is not peeled off or chipped by division with a dicing saw or the like, and the characteristic deterioration of the effect due to the coating process can be prevented. It is.
[0018]
In this embodiment, the coating layer 3 is coated only on the side of the optical substrate 1 on which the optical element 1a is formed, but the opposite surface is coated as necessary using the same masking jig 2. Alternatively, vacuum evaporation by resistance heating, sputtering, or chemical vapor deposition (CVD) may be used.
[0019]
【The invention's effect】
As described above, according to the coating method of the present invention, when a resin optical substrate made of a thermoplastic resin is divided into a plurality of optical elements, peeling or chipping of the coating layer due to such division is not caused. Thus, a large number of optical elements subjected to highly reliable coating processing can be manufactured at low cost.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a coating method of the present invention.
FIG. 2 is a front view of an optical substrate manufactured by resin molding and coated by the coating method of the present invention.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a masking jig for masking an optical substrate used in the coating method of the present invention. FIG. 4 shows that an optical substrate coated with an optical substrate is coated by the coating method of the present invention. It is a model diagram which shows a division | segmentation.
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a typical electron beam evaporation apparatus for performing a coating process on an optical component.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin optical board 1a Optical element 2 Masking jig 2a Opening part 3 Coating layer 4 Cutting line 6 Vacuum kiln 7 Coating material 8 Mount 10 Vacuum system 12 Quartz lamp for heating

Claims (3)

複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂からなり、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温で保持されることを特徴とする光学部品のコーティング方法。  A resin optical substrate coating method in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die, wherein the resin optical substrate is made of a thermoplastic resin, and the resin optical substrate is made of the thermoplastic resin. The resin optical substrate is held at a temperature lower than its thermal deformation temperature when the optical element is subjected to a coating process by masking portions for dividing the optical elements formed on the optical substrate into individual optical elements. A method for coating an optical component. 複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂としてポリカーボネートを用い、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温である摂氏約100度で保持されることを特徴とする光学部品のコーティング方法。 A resin optical substrate coating method in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die, wherein the resin optical substrate uses polycarbonate as a thermoplastic resin , and is made of the thermoplastic resin. When a portion for dividing a plurality of optical elements formed on a resin optical substrate into individual optical elements is masked and the optical element is subjected to a coating process, the resin optical substrate has a temperature lower than its thermal deformation temperature. coating method of the optical component, characterized in Rukoto held at about 100 degrees Celsius is. 複数の光学素子を、成形用金型を利用した樹脂成形によって作成した樹脂製光学基板のコーティング方法であって、前記樹脂製光学基板は熱可塑性樹脂からなり、当該熱可塑性樹脂からなる前記樹脂製光学基板に成形された複数の光学素子を個々の光学素子に分割するための部分をマスキングして、光学素子にコーティング処理を施す際に、前記樹脂製光学基板はその熱変形温度より低温で保持され、
前記光学素子は、回折格子、ホログラム素子、フレネルレンズであり、前記光学素子に無反射コーティング処理が施されることを特徴とする光学部品のコーティング方法。
A resin optical substrate coating method in which a plurality of optical elements are formed by resin molding using a molding die, wherein the resin optical substrate is made of a thermoplastic resin, and the resin optical substrate is made of the thermoplastic resin. The resin optical substrate is held at a temperature lower than its thermal deformation temperature when the optical element is subjected to a coating process by masking portions for dividing the optical elements formed on the optical substrate into individual optical elements. And
The optical element, a diffraction grating, the hologram element, a Fresnel lens, a coating method of an optical component, characterized in that non-reflection coating treatment is performed on the optical element.
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