JP3755192B2

JP3755192B2 - Method and apparatus for producing organic polymer film

Info

Publication number: JP3755192B2
Application number: JP15019396A
Authority: JP
Inventors: 賢一大久保; 哲生池上; 英敏岡城
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1996-05-22
Filing date: 1996-05-22
Publication date: 2006-03-15
Anticipated expiration: 2016-05-22
Also published as: JPH09309137A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、包装材料、インクリボンおよびプリペイドカード等の基材に用いられる有機高分子体フィルム、とくに芳香族ポリエステルフィルムの製造方法および製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
芳香族ポリエステルなどの有機高分子体をフィルムに成形する場合、該有機高分子体の吐出孔である口金スリット部分の近傍には、いわゆる「目やに」などと呼ばれる付着物が堆積してゆき、そのためフィルムに局所的な厚みむらである口金すじを引き起こす。従来、この付着物の除去のためには付着物を物理的に掻き落とす方法以外なかったため、フィルムの製造を一時中断せざるを得ず、そのため製造ロスの問題があった。その改善のため、例えば特開平４−２９９１１５号公報などに示されているように、口金スリット部分自身の材質を改良する方法、あるいは特開昭６３−３１２３４７号公報などに示されているように、有機高分子体中に酸化防止剤などを添加する方法など、が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の手段はいずれも付着物の発生や付着を抑えるための方法であり、一旦付着物が口金スリット部分近傍に付着した場合には、製造を一旦中断して付着物を掻き落とす必要があり、やはり製造ロスとなるため、その改善が必要であった。
【０００４】
本発明の課題は、このような問題点に着目し、製造を中断することなく、つまり製造ロスを伴うことなく、口金の付着物を除去可能な有機高分子体フィルムの製造方法および製造装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の有機高分子体フィルムの製造方法は、有機高分子体を口金より押し出してフィルムを製造する方法において、該口金のスリット部分近傍の付着物を、下記（ａ）又は（ｂ）を用いて除去しながら該有機高分子体をフィルム状に成形することを特徴とする方法からなる。
（ａ）湿度０．００５〜０．５ｋｇ／ｋｇ’の加湿空気
（ｂ）紫外線、コロナ放電および活性気体のうちから選ばれる少なくとも１種または２種以上と、湿度０．００５〜０．５ｋｇ／ｋｇ’の加湿空気との組合せ
【０００６】
また、本発明の有機高分子体フィルムの製造装置は、口金のスリット部分近傍の付着物を口金からポリマー吐出中に除去する付着物除去装置を具備してなり、該付着物除去装置が下記（ｃ）又は（ｄ）であることを特徴とするものからなる。
（ｃ）空気の加湿装置
（ｄ）紫外線照射装置、コロナ放電装置および活性気体の発生装置から選ばれる少なくとも１種または２種以上の装置と、空気の加湿装置との組合せ
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の有機高分子体には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリエチレンα，β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン４，４−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレートなどの芳香族ポリエステル、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミド、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンなどが用いられるが、主として芳香族ポリエステルであることが好ましく、特に主としてポリエチレンテレフタレートであることが好ましい。ここで「主として」とは、芳香族ポリエステルを７０モル％以上含むことを指す。なお、上記の芳香族ポリエステルはホモポリエステルであってもよいし、コポリエステルであってもよいし、また他の成分を３０モル％未満の割合で単に混合したものでもよい。
【０００８】
また、本発明の有機高分子体には、基材フィルムの特性を損なわない程度に滑剤、酸化防止剤、帯電防止剤その他の添加剤等が添加されていてもよい。
【０００９】
また、本発明のフィルムは、単層のフィルムはもちろんのこと、２層以上からなる複合フィルムであってもよい。
【００１０】
本発明の有機高分子体フィルムは、口金のスリット部分近傍の付着物を除去しながら該有機高分子体をフィルム状に成形する必要がある。すなわち、口金からポリマを吐出しつつ、付着物の除去を行うのである。口金のスリット部分近傍は溶融状態にある有機高分子体に接触あるいは肉薄しているため、有機高分子体の一部やその変成物などが堆積して付着物を形成し、吐出直後の未固化状態にある有機高分子体フィルムに凹凸を生じさせ、結果として口金すじを引き起こすことがあるので、この付着物を除去するのである。
【００１１】
なおここで「付着物」とは、口金すじの原因物を指すので、口金のスリット部分近傍に付着しているものは勿論、有機高分子体からの湧出物や昇華物など口金のスリット部分近傍に付着する可能性のあるものは全て含む。またここで「除去」とは、口金すじの解消および軽減を目的としているので、付着物を口金のスリット部分近傍から掻き落とす方法や付着物を分解して口金のスリット部分近傍から排除する方法は勿論、該付着物の粘度および硬度を低下させて吐出直後の有機高分子体フィルムの凹凸を軽減させる方法も含む。なお口金のスリット部分近傍とは、吐出孔であるスリット部分自身、およびスリット部分の外周からの距離が１０ｍｍ以内の部分を指す。また、「除去しながら」とは、フィルムの製造を一時中断し強制的にフィルムを破断した後に付着物を除去することや付着物の除去による結果としてフィルムの製造の中断が引き起こされる状態を指すものではない。すなわち、付着物の除去によるフィルム破断などを引き起こすことなく、付着物の除去とフィルムの製造を同時に実施できることを指す。
【００１２】
本発明の付着物の除去の方法は、口金から吐出している有機高分子体に実質的に非接触である方法が好ましい。すなわち、付着物の除去の方法が実質的に非接触でなければ、付着物の除去の際に除去装置全体あるいはその一部が口金から吐出されている有機高分子体に接触し、フィルムの厚みむらやフィルム破断を引き起こし、結果としてフィルムの製造が中断する可能性があるためである。口金から吐出されている有機高分子体に実質的に非接触で付着物を除去する方法としては、例えば付着物を加水分解する方法、光分解する方法、熱や電気で分解する方法や化学反応によって分解する方法などを用いることができる。すなわち、付着物はフィルムを構成する有機高分子体自身および／又はその変成物が主成分であるので、上記の除去の方法を用いることにより、該付着物および有機高分子体フィルムに直接に接触することなく該付着物の分解、粘度低下あるいは硬度低下が可能となるためである。具体的には、加湿空気を用いて口金のスリット部分近傍の周辺の湿度を０．００５〜０．５ｋｇ／ｋｇ’に、好ましくは０．００７〜０．１ｋｇ／ｋｇ’に上げる方法、４００ｎｍ以下の短波長の光、好ましくは３５０ｎｍ以下の波長の紫外線、より好ましくは３００ｎｍ以下の波長の紫外線を口金のスリット部分近傍に照射する方法、コロナ放電を用いて口金のスリット部分近傍の付着物を電気的に、あるいは熱的に分解する方法、およびオゾンなどの活性気体を口金のスリット部分近傍に吹付ける、あるいは充填する方法や、これらの組合せを用いる方法が使用できるが、上記のうち、後述の実施例に示すように、加湿空気、あるいは加湿空気と紫外線の組合せを用いる方法が実用的で特に好ましい。
【００１３】
上記の理由により本発明のフィルムの製造装置は、口金のスリット部分近傍への付着物の除去装置を具備している必要があり、また付着物の除去装置は、口金から吐出している有機高分子体に実質的に非接触の方法で付着物を除去する装置であることが好ましい。除去装置として具体的には、スチームや加湿器などの加湿装置、ブラックライト、水銀ランプや水銀−キセノンランプなどの紫外線照射装置、コロナ放電装置、およびオゾンなどの活性気体発生装置などや、これらの組合せから成るものを用いることができる。なお、上記の付着物除去装置は、製造装置に直接据え付けされていても、あるいはポータプル式で必要に応じて取り付けられる装置であってもよい。
【００１４】
なお本発明の付着物の除去は、フィルムの製造を妨げることがないので、製造開始から終始実施してもよく、口金すじが発生してから実施してもよい。
【００１５】
次に本発明フィルムの製造方法について、芳香族ポリエステルフィルムを例に挙げて説明するが、これに限定されるものではない。
【００１６】
まず常法によりポリエステルを重合し、ポリエステルペレットを得る。この際に粒子添加法を用いて適宜粒子を添加してもよい。このポリエステルペレットを十分に乾燥させ、公知の溶融法、押出法、キャスト法を用いてフィルム状に成形する。なお、口金のスリット部分近傍は、加湿空気で周辺を加湿する、紫外線を照射する、コロナ放電を用いる、活性気体を吹付ける、あるいは活性気体を充填する方法のうちから選ばれる少なくとも１種、または２種以上の組合せを、製造開始から終始、あるいは口金すじが発生した時点で実施する。
こうして得られた未延伸フィルムに、必要に応じて公知の延伸方法および熱処理方法を加えてもよい。
【００１７】
［特性の測定方法］
本発明の特性値は次の測定法、評価基準によるものである。
（１）口金すじの判定
キャストして得られた未延伸フィルムを、長手方向の延伸を実施する直前の箇所で目視にて観察し、口金すじの有無を調査し、下記の３段階で評価した。
◎：口金すじの発生はまったく見られない。
△：軽度の口金すじが発生している。
×：重度の口金すじが発生している。
なお、口金すじの強度については、長手方向および幅方向の延伸が終了したフィルムを採取し、該フィルムの幅方向の厚みを電子マイクロメータ（アンリツ（株）製FILM THICKNESS TESTER KG601A）により下記の測定条件でフィルムを連続的に走行させ測定して得られたチャートから、該口金すじ箇所の厚みの変位が０．５μｍ以上の場合を「強度」、０．５μｍ未満を「軽度」と定義した。
・測定条件
フィルム引取速度：１．５ｍ／ｍｉｎ、チャート速度：６０ｃｍ／ｍｉｎ
【００１８】
（２）口金のスリット部分近傍の雰囲気の湿度
口金のスリット部分から４０ｍｍの距離で、口金、フィルム、および冷却ドラムに接触しない箇所の湿度を、横河電気（株）製高温湿度検出器ＺＨ８Ｄを用いて測定し、得られた絶対湿度を口金のスリット部分近傍の雰囲気の湿度とした。
【００１９】
【実施例】
次に実施例に基づき本発明を更に詳細に説明する。評価結果を表１に示す。
参考例１
平均粒径１μｍの乾式シリカを０．２重量％含むポリエチレンテレフタレートを２８０℃で溶融押出し、２８０℃とした口金のスリット部分から吐出して冷却ドラム上にキャストして未延伸フィルムを作った。なおこの際の口金のスリット部分の間隙は２ｍｍ、口金のスリット部分近傍の周辺の湿度は０．００４ｋｇ／ｋｇ’であった。
【００２０】
口金スリット部分から、溶融されたポリエステルが吐出した直後から、紫外線照射装置にて口金スリット部分近傍に紫外線照射を開始し、製造終了まで使用した。なお紫外線照射装置は、浜松ホトニクス（株) 製ＵＶスポット光源Ｌ２８５９−０１を用いた。なお紫外線照射装置の照射部分から口金のスリット部分までの距離は１００ｍｍとし、口金幅５０ｍｍに対して１基の割合で設置した。
【００２１】
得られた未延伸フィルムを長手方向に１００℃で３倍、幅方向に１００℃で４倍に逐次延伸し、延伸終了後にステンターにて２００℃で１０秒間、熱処理を施し、厚さ１０μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを製造した。
【００２２】
上記未延伸フィルムを観察したところ、製造を開始してから７２時間経過まで、口金すじの発生はなかった。なお、９６時間経過した時点で口金すじの発生があったが、極めて軽度であった。
【００２３】
実施例１
参考例１の方法において、紫外線照射装置を用いる代わりに、より安価で簡易に実施できる超音波式の加湿器を用いて、口金スリット部分に加湿空気を照射してスリット部分の周辺の湿度を０．００７ｋｇ／ｋｇ’とした他は、参考例１と同じ方法で本発明を実施した。４８時間経過した後に口金すじの発生はあったが極めて軽度であったため、そのまま９６時間以上製造が継続できた。
【００２４】
実施例２
参考例１の方法において、紫外線照射装置の使用に加えて、超音波式の加湿器を用いて口金スリット部分に加湿空気を照射してスリット部分の周辺の湿度を０．００７ｋｇ／ｋｇ’とした他は、参考例１と同じ方法で本発明を実施した。９６時間以上経過した後も、口金すじの発生はなかった。
【００２５】
比較例１
参考例１の方法において、紫外線照射装置を用いない他は、参考例１と同じ方法で本発明を実施した。製膜開始から４８時間後にフィルムに重度の口金すじが発生した。
【００２６】
【表１】

【００２７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る有機高分子体フィルムの製造方法および製造装置によれば、口金すじを発生させることなく、また、口金すじ対策に伴い製造を中断させることなく、連続して安定的に所望のフィルムを製造することが可能となる。口金すじ対策に伴う製造ロスが発生しないので、生産性、収率の向上を図ることができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method and an apparatus for producing an organic polymer film, particularly an aromatic polyester film, used for a substrate such as a magnetic recording medium, a packaging material, an ink ribbon, and a prepaid card.
[0002]
[Prior art]
When an organic polymer such as an aromatic polyester is formed into a film, an adhering material called “eyes” is deposited in the vicinity of the mouth slit portion that is a discharge hole of the organic polymer. Causes a streak that is uneven in thickness locally on the film. Conventionally, there has been no method other than physically scraping off the deposits to remove the deposits, so that the production of the film has to be temporarily interrupted, thus causing a problem of manufacturing loss. For the improvement, for example, as shown in JP-A-4-299115 or the like, a method of improving the material of the base slit part itself, or as shown in JP-A-63-312347 or the like A method of adding an antioxidant or the like to an organic polymer has been proposed.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, all of the above means are methods for suppressing the generation and adhesion of deposits, and once the deposits adhere to the vicinity of the base slit part, it is necessary to interrupt the production and scrape the deposits. There was also a manufacturing loss, so improvement was necessary.
[0004]
An object of the present invention is to provide an organic polymer film manufacturing method and a manufacturing apparatus capable of removing deposits on a base without interrupting manufacturing, that is, without accompanying manufacturing loss, focusing on such problems. It is to provide.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the organic polymer film production method of the present invention is a method for producing a film by extruding an organic polymer material from a die. The organic polymer is formed into a film while being removed using a) or (b).
(A) Humidified air with a humidity of 0.005 to 0.5 kg / kg ' (b) At least one or more selected from ultraviolet rays, corona discharge and active gas, and a humidity of 0.005 to 0.5 kg / Combination with kg ' humidified air [0006]
Moreover, the organic polymer film manufacturing apparatus of the present invention comprises a deposit removing device that removes deposits in the vicinity of the slit portion of the die from the die during the discharge of the polymer. c) or (d).
(C) Air humidifier (d) A combination of at least one device selected from an ultraviolet irradiation device, a corona discharge device, and an active gas generator, and an air humidifier
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The organic polymer of the present invention includes an aromatic polyester such as polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polyethylene α, β-bis (2-chlorophenoxy) ethane 4,4-dicarboxylate, polybutylene terephthalate. An aromatic polyamide or an aromatic polyimide, a polyolefin such as polyethylene or polypropylene, etc. are used, and it is preferably an aromatic polyester, particularly preferably polyethylene terephthalate. Here, “mainly” means containing 70 mol% or more of aromatic polyester. The aromatic polyester may be a homopolyester, a copolyester, or a mixture of other components simply in a proportion of less than 30 mol%.
[0008]
In addition, a lubricant, an antioxidant, an antistatic agent, and other additives may be added to the organic polymer of the present invention to such an extent that the characteristics of the base film are not impaired.
[0009]
The film of the present invention may be a single layer film or a composite film composed of two or more layers.
[0010]
The organic polymer film of the present invention needs to be formed into a film while removing deposits near the slit portion of the die. That is, the deposit is removed while discharging the polymer from the die. Since the vicinity of the slit portion of the die is in contact with or thinned with the molten organic polymer, a part of the organic polymer or its denatured material is deposited to form an adhering material, which is not solidified immediately after discharge. Since the organic polymer film in the state is made uneven, as a result, it may cause a die streak, so this deposit is removed.
[0011]
Here, “attachment” refers to the cause of the base streaks, and therefore, not only those attached in the vicinity of the slit portion of the base, but also the vicinity of the slit portion of the base, such as a spring or sublimate from the organic polymer. Anything that may adhere to The term “removal” here is intended to eliminate and reduce the base streaks, so the method of scraping off the deposit from the vicinity of the slit portion of the base and the method of disassembling the deposit and removing it from the vicinity of the slit portion of the base Of course, a method of reducing the unevenness of the organic polymer film immediately after discharge by reducing the viscosity and hardness of the deposit is also included. Note that the vicinity of the slit portion of the base means the slit portion itself that is a discharge hole and a portion that is within a distance of 10 mm from the outer periphery of the slit portion. In addition, “while removing” refers to a state in which the production of the film is interrupted as a result of removing the adhering material after the film production is temporarily interrupted and forcibly breaking the film or removing the adhering material. It is not a thing. That is, it means that the removal of the deposit and the production of the film can be carried out at the same time without causing film breakage due to the removal of the deposit.
[0012]
The method for removing the deposits of the present invention is preferably a method that is substantially non-contact with the organic polymer discharged from the die. That is, if the method of removing the deposit is not substantially non-contact, the entire removal device or a part thereof contacts the organic polymer discharged from the base when removing the deposit, and the thickness of the film This is because unevenness and film breakage may be caused, and as a result, production of the film may be interrupted. Examples of methods for removing deposits in a substantially non-contact manner from the organic polymer discharged from the base include hydrolysis of the deposits, photolysis, thermal and electrical decomposition, and chemical reaction. A method of decomposing by the method can be used. That is, the deposit is mainly composed of the organic polymer itself constituting the film and / or a modified product thereof. Therefore, by using the above removal method, the deposit and the organic polymer film are directly contacted. This is because the deposits can be decomposed, the viscosity can be lowered, or the hardness can be lowered without the need for the above. Specifically, a method of increasing the humidity in the vicinity of the slit portion of the base to 0.005 to 0.5 kg / kg ′, preferably 0.007 to 0.1 kg / kg ′ using humidified air, 400 nm or less Short wavelength light, preferably ultraviolet light with a wavelength of 350 nm or less, more preferably ultraviolet light with a wavelength of 300 nm or less, in the vicinity of the slit portion of the die, and the deposits in the vicinity of the slit portion of the die are electrically discharged using corona discharge. Alternatively, a method of thermally decomposing, a method of spraying or filling an active gas such as ozone near the slit portion of the base, or a method using a combination thereof can be used . as shown in the examples, a method using humidified air or humidified air and a combination of ultraviolet light, is especially preferred practical.
[0013]
For the above reasons, the film production apparatus of the present invention needs to have a device for removing deposits in the vicinity of the slit portion of the die, and the device for removing deposits is a high organic material discharged from the die. It is preferable that the apparatus removes deposits by a method substantially non-contact with the molecular body. Specific examples of removal devices include humidifiers such as steam and humidifiers, ultraviolet irradiation devices such as black lights, mercury lamps and mercury-xenon lamps, corona discharge devices, and active gas generators such as ozone. A combination can be used. Note that the above deposit removing device may be installed directly on the manufacturing device, or may be a portable device that is attached as necessary.
[0014]
In addition, since the removal of the deposit | attachment of this invention does not prevent manufacture of a film, it may be implemented from the start of manufacture all the time, and may be implemented after a nozzle streaks generate | occur | produces.
[0015]
Next, although the manufacturing method of this invention film is demonstrated taking an aromatic polyester film as an example, it is not limited to this.
[0016]
First, polyester is polymerized by a conventional method to obtain polyester pellets. At this time, particles may be appropriately added using a particle addition method. The polyester pellets are sufficiently dried and formed into a film using a known melting method, extrusion method, or casting method. The vicinity of the slit portion of the base is at least one selected from a method of humidifying the periphery with humidified air, irradiating ultraviolet rays, using corona discharge, spraying an active gas, or filling an active gas, or Two or more types of combinations are carried out from the start of production or when a base streak is generated.
You may add the well-known extending | stretching method and heat processing method to the unstretched film obtained in this way as needed.
[0017]
[Measurement method of characteristics]
The characteristic values of the present invention are based on the following measurement methods and evaluation criteria.
(1) Determination of base stripes An unstretched film obtained by casting is visually observed at a place immediately before carrying out stretching in the longitudinal direction, and the presence or absence of the base stripes is investigated and evaluated in the following three stages. .
A: No base streaks are observed.
Δ: Mild base streaks are generated.
X: Severe base lines are generated.
In addition, as for the strength of the base stripe, a film having been stretched in the longitudinal direction and the width direction was collected, and the thickness in the width direction of the film was measured with an electronic micrometer (FILM THICKNESS TESTER KG601A manufactured by Anritsu Corporation) as follows. From the chart obtained by continuously running the film under conditions and measuring, the case where the displacement of the thickness of the base streak portion was 0.5 μm or more was defined as “strength” and the case where the thickness was less than 0.5 μm was defined as “mild”.
Measurement conditions Film take-off speed: 1.5 m / min, chart speed: 60 cm / min
[0018]
(2) Humidity in the vicinity of the slit portion of the base At a distance of 40 mm from the slit portion of the base, the humidity of the portion not in contact with the base, film, and cooling drum is measured as a high temperature humidity detector ZH8D manufactured by Yokogawa Electric Corporation. The absolute humidity obtained was measured as the humidity of the atmosphere near the slit portion of the die.
[0019]
【Example】
Next, based on an Example, this invention is demonstrated in detail. The evaluation results are shown in Table 1.
Reference example 1
Polyethylene terephthalate containing 0.2% by weight of dry silica having an average particle diameter of 1 μm was melt-extruded at 280 ° C., discharged from the slit portion of the die at 280 ° C., and cast on a cooling drum to produce an unstretched film. At this time, the gap between the slit portions of the die was 2 mm, and the humidity around the slit portion of the die was 0.004 kg / kg ′.
[0020]
Immediately after the melted polyester was discharged from the base slit portion, ultraviolet irradiation was started in the vicinity of the base slit portion with an ultraviolet irradiation device and used until the end of production. The UV irradiation device used was a UV spot light source L2859-01 manufactured by Hamamatsu Photonics. In addition, the distance from the irradiation part of an ultraviolet irradiation device to the slit part of a nozzle | cap | die was 100 mm, and it installed in the ratio of 1 unit | set with respect to the nozzle | cap | die width of 50 mm.
[0021]
The obtained unstretched film was sequentially stretched 3 times at 100 ° C. in the longitudinal direction and 4 times at 100 ° C. in the width direction. After stretching, the film was subjected to heat treatment at 200 ° C. for 10 seconds with a tenter thickness of 10 μm. An axially stretched polyester film was produced.
[0022]
As a result of observing the unstretched film, no base streaks occurred until 72 hours after the start of production. In addition, when 96 hours passed, the base streaks occurred, but it was very mild.
[0023]
Example 1
In the method of Reference Example 1, instead of using an ultraviolet irradiation device, using an ultrasonic humidifier that can be carried out at a lower cost and simpler , the humidified air is applied to the base slit portion to reduce the humidity around the slit portion to 0. The present invention was carried out in the same manner as in Reference Example 1 except that the amount was 0.007 kg / kg ′. After 48 hours, the base streaks were found to be extremely mild, but production could be continued for 96 hours or longer.
[0024]
Example 2
In the method of Reference Example 1, in addition to the use of an ultraviolet irradiation device, humidified air was irradiated to the base slit portion using an ultrasonic humidifier, and the humidity around the slit portion was set to 0.007 kg / kg ′. Otherwise, the present invention was carried out in the same manner as in Reference Example 1. Even after 96 hours or more had passed, there were no spitting lines.
[0025]
Comparative Example 1
In the method of Reference Example 1, the present invention was carried out by the same method as Reference Example 1 except that no ultraviolet irradiation device was used. After 48 hours from the start of film formation, severe base lines were generated on the film.
[0026]
[Table 1]

[0027]
【The invention's effect】
As described above, according to the method and apparatus for producing an organic polymer film according to the present invention, without causing the base streaks, and without interrupting the production in accordance with the base streaks countermeasure, A desired film can be stably produced. Since there is no production loss associated with the counterfeit lines, productivity and yield can be improved.

Claims

In a method for producing a film by extruding an organic polymer from a die, the organic polymer is formed into a film while removing deposits near the slit portion of the die using the following (a) or (b): A method for producing an organic polymer film, characterized by forming.
(A) Humidified air with a humidity of 0.005 to 0.5 kg / kg ' (b) At least one or more selected from ultraviolet rays, corona discharge and active gas, and a humidity of 0.005 to 0.5 kg / Combination with kg ' humidified air

2. The method for producing an organic polymer film according to claim 1, wherein the organic polymer is mainly composed of an aromatic polyester.

A deposit removing device that removes deposits in the vicinity of the slit portion of the die during discharge of the polymer from the die, and the deposit removing device is the following (c) or (d): Molecular film production equipment.
(C) Air humidifier (d) Combination of at least one or two or more devices selected from an ultraviolet irradiation device, a corona discharge device, and an active gas generator, and an air humidifier