JP3726951B2 - Screen printing method for film carrier - Google Patents

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JP3726951B2 JP2001108332A JP2001108332A JP3726951B2 JP 3726951 B2 JP3726951 B2 JP 3726951B2 JP 2001108332 A JP2001108332 A JP 2001108332A JP 2001108332 A JP2001108332 A JP 2001108332A JP 3726951 B2 JP3726951 B2 JP 3726951B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ICチップ等の電子部品を金属箔からなる導体に実装するためのフィルムキャリア(TAB(Tape Automated Bonding)テープ)上にソルダーレジスト層を形成するスクリーン印刷方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、IC、LSIチップ等の電子部品をフィルムキャリアに実装することで、ノートパソコン、プリンタ、携帯電話等の電子機器の小型化、軽量化が進んでいる。また、電子機器の小型化に伴い、折り曲げて使用できるフィルムキャリアの用途はますます広がっている。例えば、液晶素子を駆動するためのフィルムキャリアでは、リードの一方の端部が液晶素子に接合され、さらにフィルムキャリアは折り曲げられて、外部配線基板と接合される。このように、折り曲げて使用されるフィルムキャリアは、折り曲げられる部分にあらかじめスリットのあるフレックス部が設けられている。このフレックス部は、所望の形状に成形する際に、パンチングにより絶縁性フィルムを打ち抜いてフレックススリット形成される部分で、絶縁性フィルムが部分的にない部分である。そのために、ソルダーレジスト層を形成することで、配線パターンを保護するとともに、フレックス部を強度的に補強していた。
【0003】
ソルダーレジスト層は、以下のようにスクリーン印刷方法で形成されている。フィルムキャリアは、絶縁性フィルム上に接着剤層を設け、その上に金属箔を接着させた後、エッチングして所望の配線パターンを形成する。その後、この配線パターンが形成された絶縁性フィルム上に、あらかじめソルダーレジスト層となる部分以外の部分に乳剤が塗布されたスクリーン版を当接し、そのスクリーン版上にソルダーレジスト用塗布液を一様に塗布し、その後硬化させてソルダーレジスト層を形成する。
【0004】
しかし、このようなスクリーン印刷方法において、部分的に絶縁性フィルムのないフレックス部やデバイスホールのある部分では、印刷用へら(スキージ)の圧力が一様にかかりにくく、塗布液の塗り残しの未充填部分が生ずるという問題点がある。逆に、部分的に厚く塗布された部分では塗布液中の気泡の抜けが悪くなりピンホール又はボイドが発生するという問題点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされものであり、その課題は、フレックス部を有するフィルムキャリアにおいて、フレックス部に塗り残し及びピンホール等の生じないフィルムキャリアのスクリーン印刷方法を提供することである。さらに、塗布時におけるスキージの圧力が滑らかに移動することで、均一なソルダーレジスト層を得ることができるフィルムキャリアのスクリーン印刷方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成するために、請求項1に記載の発明は、 屈曲用フレックス部を備えた絶縁性フィルムと、
この絶縁性フィルム上に形成された金属箔による配線パターン
を有するフィルムキャリアを、
前記絶縁性フィルムのフレックス部に対応する凸部を有する印刷ステージで支持して前記金属箔による配線パターン上にソルダーレジスト層を形成するフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
前記絶縁性フィルムのフレックス部の周囲に、丘状の盛り上がり部分がある場合は、前記凸部の周囲に、前記丘状の盛り上がり部分に対応する窪みを設けた印刷ステージを用いて前記絶縁性フィルムを支持する フィルムキャリアのスクリーン印刷方法とする。
請求項2に記載の発明は、 請求項1に記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、前記丘状の盛り上がり部分は、前記フレックス部を保護する保護膜形成時の塗布液に起因するものである フィルムキャリアのスクリーン印刷方法とする。
請求項3に記載の発明は、 請求項1又は2に記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、 フレックス部に対応する印刷ステージの凸部の大きさが、前記フィルムキャリアの平面図上、対応するフレックス部より、縦横とも100〜200μmの範囲で小さい フィルムキャリアのスクリーン印刷方法とする。
請求項4に記載の発明は、 請求項1ないし3のいずれかに記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、 フレックス部の幅が、500μm以上である フィルムキャリアのスクリーン印刷方法とする。
求項に記載の発明は、 請求項1ないしのいずれかに記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、 絶縁性フィルムの厚さが、40μm以上である フィルムキャリアのスクリーン印刷方法とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、フィルムキャリアの構成を概略的に示す平面図である。図2は、図1に示すフィルムキャリアのA−A‘線に沿った断面図である。屈曲用フレックス部8を有するフィルムキャリア1は、図1及び図2に示すように、絶縁性フィルム2上に接着剤層3、金属箔による配線パターン5’、ソルダーレジスト層4の順序で積層して構成されている。
【0008】
絶縁性フィルム2は、フィルムキャリア1の製造工程において、化学的・機械的な加工を受けるために、種々の特性が要求される。例えば、ボンディングにより高温に曝されても変質しない耐熱性、また、エッチングによる酸、洗浄による溶剤等と接触しても変質しない耐薬品性が求められる。さらに、折り曲げて使用されることが多いために、可撓性に優れていることが必要である。このために、絶縁性フィルム2用材料としては、ガラスエポキシ、BTレジン、ポリエステル、ポリイミド樹脂及びこれらの変性体が挙げられる。特に、ポリイミド樹脂が好ましい。ポリイミド樹脂は、高い耐熱性と電気絶縁性を示し、さらに、可撓性に優れている。このポリイミド樹脂は、酸イミド構造を有する高分子で、ピロメリット酸二無水物と芳香族ジアミンの縮重合体、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの縮重合体等が挙げられる。絶縁性フィルム2の厚さは、40μm以上が良い。フレックス部8のあるフィルムキャリア1の強度を補償するためである。
【0009】
接着剤層3に用いる接着剤は、耐熱性、耐薬品性、可撓性の他に接着性が必要である。接着剤としては、エポキシ、フェノール接着剤及びこれらの変性体が挙げられる。特に、エポキシ接着剤が好ましい。エポキシ接着剤は、金属との接着性に優れ、電気絶縁性、耐熱性も優れている。エポキシ接着剤にこれらの硬化剤を加え、絶縁性フィルム2又は金属箔5表面に塗布して、常温で放置又は加熱することにより絶縁性フィルム2と金属箔5を接着させる。硬化剤としては、アミン類、ポリアミド類、ポリサルファイド類、有機酸無水物等の中から適宜選択して用いることができる。接着剤層の厚さは、3〜23μm、好ましくは10〜21μmの範囲である。
【0010】
金属箔5としては、導電性、耐蝕性に優れている銅箔5を用いる。銅箔5として、電解銅箔、圧延銅箔が挙げられる。特に、表面が粗く接着剤となじみやすいため、電解銅箔が好ましい。銅箔5の厚さとしては、6〜75μm、好ましくは9〜75μm、さらに好ましくは9〜35μmの範囲である。このように薄い銅箔5の方が、アウターリード10の微細化に対応しやすい。
【0011】
エッチング等の方法により配線パターン5’を形成し、さらに、配線パターン5’上に表面を保護するためにウレタン樹脂が塗布されソルダーレジスト層4を設ける。
ウレタン樹脂は、ジイソシアネートとグリコール成分の反応で生成するウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン樹脂としては、熱硬化性のものがよく、また、このウレタン樹脂にエラストマーを混合しても良いし、ウレタン樹脂にエラストマー成分を共重合させたものであってもよい。また、このウレタン樹脂には、シリコーン消泡剤を添加しないものであってもよい。また、このウレタン樹脂等のソルダーレジスト層4には、樹脂の硬化を促進する促進剤、耐薬品性を向上させる充填剤、柔軟性を付与する添加剤、塗布液の粘度を調整するチキソ剤等を適宜添加することができる。さらに、ソルダーレジスト層4の可撓性等の機械的性質を向上させるために、ゴム微粒子等の微粒子を添加しても良い。
【0012】
また、出力アウターリード10aに接する部分には、ポリイミド樹脂によるソルダーレジスト層4を設ける。ポリイミド樹脂は、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等よりも濡れ性が低く、フラックスが付着しにくいため、出力アウターリード10aに接する部分に用いられている。さらに、ポリイミド樹脂の塗布厚さを25μm以下にすることで、半田付けの際の接合不良を防止して信頼性を向上させている。
【0013】
また、フレックス部には、保護樹脂層13を設けても良い。フレックス部の保護樹脂層13としては、耐熱性、耐薬品性が高く、かつ、撓ませたり、曲げて使用されることが多いので、可撓性に優れた樹脂を用いることが好ましい。この樹脂としては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等が好ましい。この保護樹脂層13の形成方法としては、スクリーン印刷方法、ロールコータ方法、タンポ印刷方法等を適宜選択することができる。また、保護樹脂層の厚さは、絶縁性フィルムより薄い方が良く、5〜95μm、好ましくは20〜40μmの範囲がよい。
【0014】
また、ここで、本発明のフィルムキャリアの製造方法を説明する。ポリイミド樹脂のような耐熱性の高い絶縁性フィルム2に接着剤層3を設け、導電性金属箔(銅箔)5を接着する。次に、銅箔5上にフォトレジストを塗布して、所望の配線パターン5’を形成するようにマスクを通して露光し、次に、エッチングして配線パターン5’を形成する。次に、フォトレジストを除去して、電子部品をボンディングするインナーリード9を残して、配線パターン5’の上から絶縁性フィルム2表面に、ソルダーレジスト用塗布液23を塗布してソルダーレジスト層4を形成する。その後、ソルダーレジスト層4で覆われていない銅箔5上にスズ等によりメッキ処理してフィルムキャリア1とする。このとき、ソルダーレジスト層4は、熱硬化性樹脂を有機溶剤中に溶解して調液されるソルダーレジスト用塗布液23により形成される。
【0015】
つぎに、ソルダーレジスト層4を形成するスクリーン印刷方法について説明する。
図3は、本発明のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法の一実施形態を示す概略図である。図4(a)は、本発明のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法に用いる印刷ステージの構造を示す概略図である。図4(b)は、フレックス部の部分を拡大した図である。
フィルムキャリア1のスクリーン印刷方法は、以下のように行われる。枠体(図示せず)に張設されるスクリーン21に、光硬化性の乳剤22を塗布して所望のパターンを感光させ硬化させ、その他の未硬化の部分を除去することでマスキングされたスクリーン印刷用のスクリーン21を作製する。スクリーン印刷機では、絶縁性フィルム2上に均等幅で設けられるスプロケットホール7に歯車を入れて搬送し、印刷ステージ24周辺には上下する複数のピン(図示せず)が設けられており、絶縁性フィルム2が搬送されてくると、ピンを上昇させて絶縁性フィルム2上の小孔(図示せず)に挿入する。次いで、押さえ板で押さえ、絶縁性フィルム2を印刷ステージ上に位置決めして吸引固定し、固定した絶縁性フィルム2にスクリーン21を配置する。このスクリーン21上にウレタン樹脂等で調液したソルダーレジスト用塗布液23を流し込み、スキージ20を一定の圧力・速度で移動させて、マスクのない部分からスクリーン21を通して、フィルムキャリア1上にソルダーレジスト用塗布液23を塗布する。
【0016】
つぎに、従来のスクリーン印刷方法について説明する。図5は、従来のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法の例を示す概略図である。従来の印刷ステージ24は、図5に示すように、フレックス部8に対応する凸部24aが設けられていなかった。そのために、従来のスクリーン印刷方法では、フレックス部8の裏側に保護樹脂層13が設けられていても、絶縁性フィルム2が無いために、スキージ20の通過時に、その圧力により配線パターン5’の出力アウターリード10aが撓んだり、図5中の符号Dに示すように、断線することがある。また、スキージ20の圧力により保護樹脂層13等が揺らいで、スクリーン21と出力アウターリード10a及び保護樹脂層13の空間が広くなったり狭くなったりするそのために、スキージ20の圧力でスクリーン21を一定量のソルダーレジスト用塗布液23が通過し、撓んだ部分に塗布液が集まり厚いソルダーレジスト層4が形成され、そのため他の部分の塗布液が少なくなり、薄いソルダーレジスト層4になり、塗り残し部分が発生する。このように、ソルダーレジスト層4が不均一になり、厚い部分と薄い部分がランダムな塗り斑が形成される。さらに、厚いソルダーレジスト層4が形成された部分では、ピンホール等が発生しやすくなり、その他の部分は薄いソルダーレジスト層4になり塗り残し部分が発生する。
【0017】
そのために、本発明では、図3及び4に示すように、フレックス部8に対応する凸部24aを有する印刷ステージ24を設けることで、スキージ20の圧力によってスクリーン21が撓んだり、変形することがなく、塗り斑の発生を押さえることができる。そのために、ピンホール及び塗り残しがないフィルムキャリア1を製造することができる。
このフレックス部8に対応する凸部24aを有する印刷ステージ24は、例えば、所定の高さになるように接着剤が貼着されたテープを貼り合わせるか、または印刷ステージをフライス盤等の機械、放電加工等又は化学研磨等のエッチングにより加工する等の方法を適宜選択することで製造することができる。
【0018】
また、本発明の印刷ステージの凸部の周囲に段差(以下、窪みという)を設けてもよい。図6は、保護樹脂層形成時にフレックス部の周囲に丘状の盛り上がり部分が形成された場合のソルダーレジスト層のスクリーン印刷例を示す図である。
フレックス部8に保護樹脂層13を設けるフィルムキャリア1では、フレックス部8の周囲に丘状の盛り上がり部分14が形成される。すなわち、保護樹脂層13をスクリーン印刷法で形成する場合は、フレックス部8に対応する部分以外を乳剤で塗布してマスキングされたスクリーンを作製する。このスクリーンの非マスキング部分がフレックス部8より大きい場合は、絶縁性フィルムの部分が露出し、その露出した部分にスクリーン塗布液が塗布されて丘状の盛り上がり部分14形成される。逆に、スクリーンの非マスキング部分スリット部より小さい場合は、スクリーンと絶縁性フィルム2の間には隙間を有するために、この隙間部分に保護樹脂層形成用塗布液が侵入して、フレックス部8の周囲に丘状の盛り上がり部分14が形成される。
6に示すように、印刷ステージ24に窪み24cを設けることで、丘状の盛り上がり部分14を窪み24c内に引き込むことで、印刷ステージ24の凸部24aが直接保護樹脂層13を支持することで、さらに、スキージ20の圧力で配線パターン5‘及びスクリーン21が撓んだり、変形することがないために、スキージ20を円滑に移動させることができる。この円滑な移動により、ソルダーレジスト層4を一定の厚さに塗布することができ、塗り斑の発生を押さえ、ピンホール及び塗り残しのないフィルムキャリア1を製造することができる。
【0019】
印刷ステージ24のフレックス部8に対応する凸部24aの大きさは、図4に断面図として示したように、対応するフレックス部8よりも、前記フィルムキャリア1の平面図(図1)上、縦横とも100〜200μm小さいことが好ましい。フレックス部8に対応する凸部24aの縦または横寸法がフレックス部より200μm以上小さいと、保護樹脂層13等が撓んで、ピンホール等及び塗り残しが発生する。逆に、フレックス部8に対応する凸部24aの縦または横寸法がフレックス部8より100μm以下小さいと、印刷ステージ24上にフィルムキャリアを吸引固定するための精度が必要となり、生産性が低下するからである。 また、印刷ステージ24のフレックス部8に対応する凸部24aの高さは、少なくとも30μm以上あることが良い。フレックス部8に対応する凸部24aの高さが30μm未満であると、絶縁性フィルム2及び保護樹脂層13が撓んで、ピンホール等及び塗り残しが発生する。
また、印刷ステージ24の凸部24aの周囲に設ける窪み24cは、幅が少なくとも200μm以上で、深さが少なくとも5μm以上あることが好ましい。フレックス部8の周囲丘状の盛り上がり部分14、スクリーン印刷の条件によるが、幅が200〜1000μm、高さが5〜50μmの範囲で形成される。したがって、これらを完全に収納する大きさが必要である。
【0020】
また、フレックス部8の幅が、スキージ20の移動方向又はこの移動方向に直交する方向に対して、少なくとも幅が500μm以上であることが好ましい。500μm未満であると、フレックス部8の両端絶縁性フィルム2に支持されているために、撓みや変形等が少なく、フレックス部8に対応する凸部24aのある印刷ステージ24を設ける効果が小さいからである。
【0021】
また、絶縁性フィルム2の厚さが、40μm以上であることが好ましいのは、40μm未満では薄いために強度が低く、スキージ20の圧力で絶縁性フィルム2が撓んだり、曲がったりするために、フレックス部8以外のソルダーレジスト層4が均一に形成することができない。また、特に、フレックス部8の端部が、曲がったりするために、フレックス部8で均一なソルダーレジスト層4の形成が困難である。
また、本発明のフィルムキャリア1は、ソルダーレジスト層4を両面に設けることが好ましい。両面にソルダーレジスト層4を設けることで、さらに、フレックス部8等の補強をすることができる。
【0022】
さらに、印刷ステージ24は、フィルムキャリア1のデバイスホール6に対応する凸部24bを有することが好ましい。デバイスホール6は、ICチップ、LSIチップ等の電子部品を搭載するために、フィルムキャリア1に設けられる部分で、パンチング等により形成される絶縁性樹脂のない部分である。このデバイスホール6には、電子部品の電極と接合させるインナーリード9が形成されている。インナーリード9は、デバイスホール6内に突き出たようになっており、ソルダーレジスト層4を形成時に、スクリーン21には乳剤22でマスクされ、ソルダーレジスト用塗布液23により塞がれないようにしているが、スキージ20の圧力がかかるために、インナーリード9が下側に変形する。この変形は、他の製造工程中の搬送で引っかけて変形し、電子部品の電極と位置が合わなくなり接合できなくなることがある。デバイスホール6に対応する凸部24bを印刷ステージ24に設けることで、インナーリード9等の変形を防止する。
【0023】
さらに、フレックス部8に対応する凸部24aが、デバイスホール6に対応する凸部24bよりも低い印刷ステージ24が好ましい。フレックス部8は、補強のための保護樹脂層13を設ける。デバイスホール6は、後で電子部品を搭載し、その後封止樹脂層(図示せず)を設ける。そのため、ソルダーレジスト用塗布液23を塗布するときは、デバイスホール6を補強するものがないためデバイスホール6に対応する凸部24bを高くしておくことが好ましい。また、フレックス部8に対応する凸部24aが、デバイスホール6に対応する凸部24bよりも55〜65μm低いものであることが好ましい。保護樹脂層13の厚さが、40〜70μmにすることが好ましいからである。
【0024】
【実施例】
(実施例1)
以下、本発明の実施例を示す。
厚さ40μmのポリイミド樹脂製絶縁性フィルム2に厚さ12μmの接着剤層3としてエポキシ樹脂をラミネートしたものに、パンチングによりデバイスホール6、スプロケットホール7、フレックス部8を形成する。次に、この接着剤層3に厚さ18μmの電解銅箔5を接着させる。この電解銅箔5上にフォトレジストを塗布し、露光、エッチングして配線パターン5’を形成する。この絶縁性フィルム2は、デバイスホール6が、3000×16000μmで、フレックス部8が、1500×29000μmと800×29000μmの二つある。
次いで、スクリーン版の枠体に、350メッシュのスクリーン21を張り、このスクリーン21に乳剤22を30μmの厚さに塗布して、硬化させてスクリーンを作製した。次に、スクリーン印刷機で、印刷ステージ24のフィルムキャリア1上にスクリーン21を配置し、ソルダーレジスト用塗布液23を流し込み、スキージ20の圧力294kPa(3kg/cm)、移動速度150mm/secで塗布する。一層目は、ウレタン樹脂を用いる塗布液で、二層目はポリイミド樹脂を用いる塗布液である。その後、熱処理して硬化させる。
【0025】
このとき、印刷ステージ24は、デバイスホール6に対応して2800×15800μmで高さ95μmの凸部24bを、フレックス部8に対応して1100×28500μmで高さが30μmと400×28600μmで高さが30μmの二つの凸部24aを設けてある。いずれのソルダーレジスト層4形成時でも、スキージ20の移動は一様であり、スクリーン21が沈み込んだり、絶縁性フィルム2が撓んだりすることはなかった。また、熱処理後のフィルムキャリア1でも、塗り斑が無く、そのため、ピンホール等及び塗り残しは発生しなかった。
【0026】
(比較例1)
比較例1では、凸部24aを有しない印刷ステージ24を用いること以外は、実施例1と同じようにソルダーレジスト層4を設けるフィルムキャリア1を作製した。
ここでは、スキージ20の移動中にその圧力で、絶縁性フィルム2が撓むことがあった。また、フレックス部8では大きく撓んで、塗り斑があり、塗り残し又はピンホールが発生しているものがあった。
【0027】
(実施例2)
実施例2では、凸部24aの周囲に、幅300μm、深さ15μmの窪み24cを設けた印刷ステージ24を用いること以外は、実施例1と同じようにソルダーレジスト層4を設けるフィルムキャリア1を作製した。このとき、ポリイミド樹脂による塗布液によって、絶縁フィルム2上にできた保護樹脂層13の丘状の盛り上がり部分14は、幅が平均200μm、高さが平均10μmであった。 いずれのソルダーレジスト層4形成時でも、実施例1に比べても、スキージ20の移動は一様であり、スクリーン21が沈み込んだり、絶縁性フィルム2が撓んだりすることはなかった。また、熱処理後のフィルムキャリア1でも、塗り斑が無く、そのため、ピンホール等及び塗り残しは発生しなかった。
【0028】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法では、絶縁性フィルムが撓んだり曲がったりすることが無く、また、スキージも塗布時に滑らかに移動して、フレックス部のフレックス部及びデバイスホールでの塗り斑の発生が無かった。そのために、フレックス部等における未充填の塗り残し及び厚くなった部分でのピンホール等の発生を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、フィルムキャリアの構成を概略的に示す平面図である。
【図2】 図2は、図1に示すフィルムキャリアのA−A‘線に沿った断面図である。
【図3】 図3は、本発明のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法の一実施形態を示す概略図である。
【図4】 図4(a)は、本発明のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法に用いる印刷ステージの構造を示す概略図である。図4(b)は、フレックス部の部分を拡大した図である。
【図5】 図5は、従来のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法の例を示す概略図である。
【図6】 図6は、保護樹脂層を形成時にフレックス部の周囲に丘状の盛り上がり部分が形成された場合のソルダーレジスト層のスクリーン印刷例を示す図である。
【符号の説明】
1 フィルムキャリア
2 絶縁性フィルム
3 接着剤層
4 ソルダーレジスト層
5 金属箔(銅箔)
5‘ 配線パターン
6 デバイスホール
7 スプロケットホール
8 フレックス部(フレックススリット)
9 インナーリード
10 アウターリード
10a 出力アウターリード
10b 入力アウターリード
11 保護樹脂層
12 ICチップ
13 保護樹脂層
14 丘状の盛り上がり部分
20 スキージ
21 スクリーン
22 乳剤
23 ソルダーレジスト用塗布液
24 印刷ステージ
24a フレックス部に対応する凸部
24b デバイスホールに対応する凸部
24c 段差(窪み)
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a screen printing method for forming a solder resist layer on a film carrier (TAB (Tape Automated Bonding) tape) for mounting an electronic component such as an IC chip on a conductor made of a metal foil.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, electronic devices such as notebook computers, printers, and mobile phones have been reduced in size and weight by mounting electronic components such as ICs and LSI chips on film carriers. In addition, with the downsizing of electronic devices, the applications of film carriers that can be folded and used are becoming increasingly widespread. For example, in a film carrier for driving a liquid crystal element, one end of a lead is bonded to the liquid crystal element, and the film carrier is bent and bonded to an external wiring board. In this way, the film carrier used by being bent is provided with a flex portion having a slit in advance in the portion to be bent. The flex portion is a portion where the insulating film is punched out to form a flex slit when forming into a desired shape, and is a portion where the insulating film is partially absent. Therefore, by forming a solder resist layer, the wiring pattern is protected and the flex portion is reinforced in strength.
[0003]
The solder resist layer is formed by a screen printing method as follows. In the film carrier, an adhesive layer is provided on an insulating film, a metal foil is adhered thereon, and then a desired wiring pattern is formed by etching. Thereafter, a screen plate on which an emulsion is coated in advance on the insulating film on which the wiring pattern is formed is brought into contact with a portion other than the portion that becomes the solder resist layer, and a coating solution for the solder resist is uniformly applied on the screen plate. And then cured to form a solder resist layer.
[0004]
However, in such a screen printing method, the pressure of the printing spatula (squeegee) is difficult to be applied uniformly in the flex portion or the device hole portion where there is no insulating film, and the coating liquid remains uncoated. There is a problem that a filling portion occurs. On the contrary, there is a problem that in the part where the coating is partially thick, the bubbles in the coating solution are not easily removed and pinholes or voids are generated.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the above problems, the problems is the film carrier having a flex portion, provide a screen printing method of the film carrier which does not cause such unpainted and pinhole flex portion It is to be. Furthermore, it is providing the screen printing method of the film carrier which can obtain a uniform soldering resist layer because the pressure of the squeegee at the time of application | coating moves smoothly.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the invention described in claim 1 includes an insulating film provided with a flex portion for bending,
A film carrier having a wiring pattern with a metal foil formed on this insulating film,
In the screen printing method of a film carrier that supports a printing stage having a convex portion corresponding to the flex portion of the insulating film and forms a solder resist layer on the wiring pattern with the metal foil ,
When there is a hill-like raised portion around the flex portion of the insulating film, the insulating film is formed using a printing stage provided with a depression corresponding to the hill-like raised portion around the convex portion. A screen printing method of a film carrier that supports
The invention according to claim 2 is the film carrier screen printing method according to claim 1, wherein the hill-shaped raised portion is caused by a coating liquid at the time of forming a protective film for protecting the flex portion. A screen printing method for a film carrier.
According to a third aspect of the present invention, in the screen printing method for a film carrier according to the first or second aspect, the size of the convex portion of the printing stage corresponding to the flex portion corresponds to the plan view of the film carrier. The screen printing method of the film carrier is smaller in the range of 100 to 200 μm in both vertical and horizontal directions than the flex part.
According to a fourth aspect of the invention, the screen printing method of the film carrier according to any one of claims 1 to 3, the width of the flex portion, shall be the screen printing method of the film carrier is 500μm or more.
The invention described in Motomeko 5, the screen printing method of the film carrier according to any one of claims 1 to 4, the thickness of the insulating film, a screen printing method of the film carrier is 40μm or more.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of a film carrier. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the film carrier shown in FIG. Film carrier 1 having a bending flex portion 8, as shown in FIGS. 1 and 2, the insulating film 2 on the adhesive layer 3, the wiring of a metal foil pattern 5 'were laminated in the order of the solder resist layer 4 It is configured Te.
[0008]
The insulating film 2 is required to have various characteristics in order to be subjected to chemical and mechanical processing in the manufacturing process of the film carrier 1. For example, heat resistance that does not change even when exposed to a high temperature by bonding, and chemical resistance that does not change even when contacted with an acid by etching, a solvent by washing, or the like are required. Furthermore, since it is often used by being bent, it must be excellent in flexibility. For this reason, examples of the material for the insulating film 2 include glass epoxy, BT resin, polyester, polyimide resin, and modified products thereof. In particular, a polyimide resin is preferable. Polyimide resin exhibits high heat resistance and electrical insulation, and is excellent in flexibility. This polyimide resin is a polymer having an acid imide structure, and examples thereof include a condensation polymer of pyromellitic dianhydride and aromatic diamine, a condensation polymer of biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, and the like. The thickness of the insulating film 2 is preferably 40 μm or more. This is to compensate for the strength of the film carrier 1 having the flex portion 8.
[0009]
The adhesive used for the adhesive layer 3 requires adhesiveness in addition to heat resistance, chemical resistance, and flexibility. Examples of the adhesive include epoxy, phenol adhesive, and modified products thereof. In particular, an epoxy adhesive is preferable. Epoxy adhesives are excellent in adhesion to metals, and are excellent in electrical insulation and heat resistance. These curing agents are added to the epoxy adhesive, applied to the surface of the insulating film 2 or the metal foil 5, and the insulating film 2 and the metal foil 5 are adhered by leaving or heating at room temperature. As the curing agent, it can be appropriately selected from amines, polyamides, polysulfides, organic acid anhydrides and the like. The thickness of the adhesive layer is 3 to 23 μm, preferably 10 to 21 μm.
[0010]
As the metal foil 5, a copper foil 5 having excellent conductivity and corrosion resistance is used. Examples of the copper foil 5 include electrolytic copper foil and rolled copper foil. In particular, an electrolytic copper foil is preferable because it has a rough surface and is easily compatible with an adhesive. The thickness of the copper foil 5 is in the range of 6 to 75 μm, preferably 9 to 75 μm, and more preferably 9 to 35 μm. Thus, the thin copper foil 5 is easy to cope with the miniaturization of the outer lead 10.
[0011]
A wiring pattern 5 ′ is formed by a method such as etching, and a urethane resist is applied on the wiring pattern 5 ′ to provide a solder resist layer 4 to protect the surface.
The urethane resin is a resin having a urethane bond generated by a reaction between a diisocyanate and a glycol component. As the urethane resin, a thermosetting resin is preferable, an elastomer may be mixed with the urethane resin, or an elastomer component may be copolymerized with the urethane resin. The urethane resin may not be added with a silicone antifoaming agent. In addition, the solder resist layer 4 such as urethane resin has an accelerator that accelerates curing of the resin, a filler that improves chemical resistance, an additive that imparts flexibility, a thixotropic agent that adjusts the viscosity of the coating solution, and the like. Can be added as appropriate. Furthermore, in order to improve mechanical properties such as flexibility of the solder resist layer 4, fine particles such as rubber fine particles may be added.
[0012]
Further, a solder resist layer 4 made of polyimide resin is provided in a portion in contact with the output outer lead 10a. The polyimide resin has lower wettability than epoxy resin, urethane resin, and the like, and the flux is less likely to adhere to it. Therefore, the polyimide resin is used in a portion in contact with the output outer lead 10a. Furthermore, by setting the application thickness of the polyimide resin to 25 μm or less, the bonding failure during soldering is prevented and the reliability is improved.
[0013]
Moreover, you may provide the protective resin layer 13 in a flex part. As the protective resin layer 13 of the flex part, it is preferable to use a resin having high heat resistance and chemical resistance and being excellent in flexibility because it is often bent or bent. As this resin, polyimide resin, acrylic resin, urethane resin and the like are preferable. As a method for forming the protective resin layer 13, a screen printing method, a roll coater method, a tampo printing method, or the like can be appropriately selected. The thickness of the protective resin layer is preferably thinner than the insulating film, and is in the range of 5 to 95 μm, preferably 20 to 40 μm.
[0014]
Here, the method for producing the film carrier of the present invention will be described. An adhesive layer 3 is provided on an insulating film 2 having high heat resistance such as polyimide resin, and a conductive metal foil (copper foil) 5 is bonded thereto. Next, a photoresist is applied on the copper foil 5 and exposed through a mask so as to form a desired wiring pattern 5 ′, and then etched to form a wiring pattern 5 ′. Next, the photoresist is removed, leaving the inner leads 9 for bonding the electronic components, and a solder resist coating solution 23 is applied onto the surface of the insulating film 2 from above the wiring pattern 5 'to form the solder resist layer 4 Form. Thereafter, the film carrier 1 is obtained by plating the copper foil 5 not covered with the solder resist layer 4 with tin or the like. At this time, the solder resist layer 4 is formed by a solder resist coating solution 23 prepared by dissolving a thermosetting resin in an organic solvent.
[0015]
Next, a screen printing method for forming the solder resist layer 4 will be described.
FIG. 3 is a schematic view showing an embodiment of the screen printing method of the film carrier of the present invention. FIG. 4A is a schematic diagram showing the structure of a printing stage used in the screen printing method for a film carrier of the present invention. FIG. 4B is an enlarged view of the flex portion.
The screen printing method of the film carrier 1 is performed as follows. A screen 21 masked by applying a photocurable emulsion 22 to a screen 21 stretched on a frame (not shown), exposing and curing a desired pattern, and removing other uncured portions. A screen 21 for printing is produced. In the screen printing machine, a gear is put into a sprocket hole 7 provided with a uniform width on the insulating film 2 and conveyed, and a plurality of pins (not shown) that move up and down are provided around the printing stage 24. When the conductive film 2 is conveyed, the pin is raised and inserted into a small hole (not shown) on the insulating film 2. Next, the insulating film 2 is pressed by a pressing plate, positioned and fixed on the printing stage by suction , and the screen 21 is disposed on the fixed insulating film 2. A solder resist coating solution 23 prepared with urethane resin or the like is poured onto the screen 21, the squeegee 20 is moved at a constant pressure and speed, and the solder resist is applied onto the film carrier 1 through the screen 21 from a portion without a mask. The coating liquid 23 is applied.
[0016]
Next, a conventional screen printing method will be described. FIG. 5 is a schematic view showing an example of a conventional screen printing method for a film carrier. As shown in FIG. 5, the conventional printing stage 24 is not provided with the convex portion 24 a corresponding to the flex portion 8. Therefore, in the conventional screen printing method, even if the protective resin layer 13 is provided on the back side of the flex portion 8, since the insulating film 2 is not provided, the pressure of the wiring pattern 5 ′ is caused by the pressure when the squeegee 20 passes. The output outer lead 10a may be bent or disconnected as indicated by a symbol D in FIG. Further, the pressure of the squeegee 20 swings the protective resin layer 13 and the like, and the space between the screen 21, the output outer lead 10 a and the protective resin layer 13 is widened or narrowed . Therefore, passing a certain amount of the solder resist coating solution 23 on the screen 21 at a pressure of the squeegee 20, the thick solder resist layer 4 coating solution gathered in flexed portion is formed, the coating liquid of the other portion for its Decreases, the solder resist layer 4 becomes thin, and unpainted portions occur. In this way, the solder resist layer 4 becomes non-uniform, and random coating spots are formed between the thick and thin portions. Furthermore, pinholes and the like are likely to occur in the portion where the thick solder resist layer 4 is formed, and the remaining portions become thin solder resist layers 4 and unpainted portions occur.
[0017]
Therefore, in the present invention, as shown in FIGS. 3 and 4, the screen 21 is bent or deformed by the pressure of the squeegee 20 by providing the printing stage 24 having the convex portion 24 a corresponding to the flex portion 8. The occurrence of smears can be suppressed. Therefore, the film carrier 1 without pinholes and unpainted parts can be manufactured.
The printing stage 24 having the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 is, for example, a method in which a tape to which an adhesive is adhered is bonded to a predetermined height , or the printing stage is machined by a milling machine or the like It can manufacture by selecting suitably methods, such as processing by etching, such as processing or chemical polishing.
[0018]
Further, a step (hereinafter referred to as a dent) may be provided around the convex portion of the printing stage of the present invention. FIG. 6 is a diagram illustrating a screen printing example of a solder resist layer in the case where a hill-shaped raised portion is formed around the flex portion when the protective resin layer is formed.
In the film carrier 1 in which the protective resin layer 13 is provided on the flex portion 8, a hill-shaped raised portion 14 is formed around the flex portion 8. That is, when the protective resin layer 13 is formed by a screen printing method, a masked screen is prepared by coating the portion other than the portion corresponding to the flex portion 8 with an emulsion. If the unmasked portion of the screen is greater than the flex section 8, part of the insulating film is exposed, hill-shaped raised portions 14 screen coating liquid to the exposed portion thereof is coated is formed. Conversely, if the unmasked portion of the screen is smaller than the slit portion in order to have inter gap between SCREEN and the insulating film 2, the protective resin layer forming coating liquid in the gap portion is penetrated, A hill-shaped raised portion 14 is formed around the flex portion 8.
As shown in FIG. 6, by providing the recess 24c in the printing stage 24, by pulling in 24c depressions hill-shaped raised portion 14, the convex portion 24a of the printing stage 24 supports the direct protective resin layer 13 Further, since the wiring pattern 5 ′ and the screen 21 are not bent or deformed by the pressure of the squeegee 20, the squeegee 20 can be moved smoothly. Due to this smooth movement, the solder resist layer 4 can be applied to a certain thickness, and the film carrier 1 can be manufactured with no occurrence of pinholes and unpainted spots while suppressing the occurrence of smears.
[0019]
The size of the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 of the printing stage 24 is larger than the corresponding flex portion 8 on the plan view (FIG. 1) of the film carrier 1, as shown in the sectional view of FIG. The length and width are preferably 100 to 200 μm smaller. When the vertical or horizontal dimension of the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 is 200 μm or more smaller than that of the flex portion, the protective resin layer 13 or the like is bent, and pinholes and unpainted portions are generated. On the other hand, if the vertical or horizontal dimension of the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 is 100 μm or less smaller than the flex portion 8, accuracy for sucking and fixing the film carrier on the printing stage 24 is required, and productivity is reduced. Because. The height of the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 of the printing stage 24 is preferably at least 30 μm. If the height of the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 is less than 30 μm, the insulating film 2 and the protective resin layer 13 are bent, and pinholes and unpainted portions are generated.
In addition, the recess 24c provided around the convex portion 24a of the printing stage 24 preferably has a width of at least 200 μm and a depth of at least 5 μm. The hill-like raised portion 14 around the flex portion 8 is formed in a range of a width of 200 to 1000 μm and a height of 5 to 50 μm, depending on screen printing conditions. Therefore, it is necessary to have a size for completely storing them.
[0020]
Moreover, it is preferable that the width of the flex part 8 is at least 500 μm or more with respect to the moving direction of the squeegee 20 or the direction perpendicular to the moving direction. If it is less than 500 [mu] m, in order to both ends of the flex portion 8 is supported on the insulating film 2, less deflection or deformation, the effect is small to provide a printing stage 24 with a protrusion 24a corresponding to the flex portion 8 Because.
[0021]
Moreover, it is preferable that the thickness of the insulating film 2 is 40 μm or more because the thickness is less than 40 μm and the strength is low, and the insulating film 2 is bent or bent by the pressure of the squeegee 20. The solder resist layer 4 other than the flex portion 8 cannot be formed uniformly. In particular, since the end portion of the flex portion 8 is bent, it is difficult to form a uniform solder resist layer 4 in the flex portion 8.
Moreover, it is preferable that the film carrier 1 of this invention provides the soldering resist layer 4 on both surfaces. By providing the solder resist layer 4 on both sides, the flex portion 8 and the like can be further reinforced.
[0022]
Further, the printing stage 24 preferably has a convex portion 24 b corresponding to the device hole 6 of the film carrier 1. The device hole 6 is a portion provided on the film carrier 1 for mounting electronic components such as an IC chip and an LSI chip, and is a portion without an insulating resin formed by punching or the like. Inner leads 9 are formed in the device holes 6 to be joined to the electrodes of the electronic components. The inner lead 9 protrudes into the device hole 6. When the solder resist layer 4 is formed, the screen 21 is masked with the emulsion 22 so that it is not blocked by the solder resist coating solution 23. However, since the pressure of the squeegee 20 is applied, the inner lead 9 is deformed downward. This deformation may be caught by conveyance during another manufacturing process, and may not be aligned with the electrode of the electronic component and may not be joined. Protruding portions 24b corresponding to the device holes 6 are provided on the printing stage 24, thereby preventing deformation of the inner leads 9 and the like.
[0023]
Furthermore, the printing stage 24 in which the convex portion 24a corresponding to the flex portion 8 is lower than the convex portion 24b corresponding to the device hole 6 is preferable. The flex portion 8 is provided with a protective resin layer 13 for reinforcement. The device hole 6 is later mounted with electronic components, and then a sealing resin layer (not shown) is provided. Therefore, when applying the solder resist coating solution 23, it is preferable to make the convex portion 24 b corresponding to the device hole 6 high because there is nothing to reinforce the device hole 6. Moreover, it is preferable that the convex part 24a corresponding to the flex part 8 is 55-65 micrometers lower than the convex part 24b corresponding to the device hole 6. FIG. This is because the thickness of the protective resin layer 13 is preferably 40 to 70 μm.
[0024]
【Example】
(Example 1)
Examples of the present invention will be described below.
A device hole 6, a sprocket hole 7, and a flex part 8 are formed by punching a laminate of epoxy resin as a 12 μm thick adhesive layer 3 on an insulating film 2 made of polyimide resin having a thickness of 40 μm. Next, an electrolytic copper foil 5 having a thickness of 18 μm is bonded to the adhesive layer 3. A photoresist is applied on the electrolytic copper foil 5, exposed and etched to form a wiring pattern 5 ′. The insulating film 2 has two device holes 6 of 3000 × 16000 μm and flex portions 8 of 1500 × 29000 μm and 800 × 29000 μm.
Next, a 350-mesh screen 21 was stretched on the frame of the screen plate, and emulsion 22 was applied to the screen 21 to a thickness of 30 μm and cured to produce a screen. Next, with a screen printer, the screen 21 is placed on the film carrier 1 of the printing stage 24, the solder resist coating solution 23 is poured, the pressure of the squeegee 20 is 294 kPa (3 kg / cm 2 ), and the moving speed is 150 mm / sec. Apply. The first layer is a coating solution using a urethane resin, and the second layer is a coating solution using a polyimide resin. Thereafter, it is cured by heat treatment.
[0025]
At this time, the printing stage 24 is 2800 × 15800 μm in height corresponding to the device hole 6 and 95 μm high in the convex portion 24 b, and the flex portion 8 is corresponding to 1100 × 28500 μm in height and 30 μm and 400 × 28600 μm in height. Are provided with two convex portions 24a of 30 μm. Even when any solder resist layer 4 was formed, the movement of the squeegee 20 was uniform, and the screen 21 did not sink and the insulating film 2 did not bend. Moreover, the film carrier 1 after the heat treatment was free from smears, and therefore no pinholes or unpainted parts were generated.
[0026]
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, a film carrier 1 provided with a solder resist layer 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the printing stage 24 having no convex portions 24a was used.
Here, the insulating film 2 may bend by the pressure during the movement of the squeegee 20. Further, the flex portion 8 was greatly bent and had smears, and there were some where unpainted portions or pinholes were generated.
[0027]
(Example 2)
In Example 2, the film carrier 1 in which the solder resist layer 4 is provided in the same manner as in Example 1 except that the printing stage 24 provided with a recess 24c having a width of 300 μm and a depth of 15 μm is used around the convex portion 24a. Produced. At this time, the hill-shaped raised portion 14 of the protective resin layer 13 formed on the insulating film 2 by the coating solution of polyimide resin had an average width of 200 μm and an average height of 10 μm. Even when any solder resist layer 4 was formed, the movement of the squeegee 20 was uniform as compared with Example 1, and the screen 21 did not sink and the insulating film 2 did not bend. Moreover, the film carrier 1 after the heat treatment was free from smears, and therefore no pinholes or unpainted parts were generated.
[0028]
【The invention's effect】
As described above, in the screen printing method of the film carrier of the present invention, the insulating film does not bend or bend, and the squeegee also moves smoothly at the time of application, so that the flex portion of the flex portion and the device There was no smearing in the hall. Therefore, generation | occurrence | production of the pinhole etc. in the unfilled unpainted residue in a flex part etc. and the thick part can be suppressed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view schematically showing the configuration of a film carrier.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of the film carrier shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic view showing one embodiment of a screen printing method for a film carrier of the present invention.
FIG. 4 (a) is a schematic view showing the structure of a printing stage used in the screen printing method of a film carrier of the present invention. FIG. 4B is an enlarged view of the flex portion.
FIG. 5 is a schematic view showing an example of a conventional film carrier screen printing method.
FIG. 6 is a diagram illustrating a screen printing example of a solder resist layer in a case where a hill-shaped raised portion is formed around the flex portion when the protective resin layer is formed.
[Explanation of symbols]
1 Film carrier 2 Insulating film 3 Adhesive layer 4 Solder resist layer 5 Metal foil (copper foil)
5 'Wiring pattern 6 Device hole 7 Sprocket hole 8 Flex part (flex slit)
9 Inner lead 10 Outer lead 10a Output outer lead 10b Input outer lead 11 Protective resin layer 12 IC chip 13 Protective resin layer 14 Hill-like raised portion 20 Squeegee 21 Screen 22 Emulsion 23 Solder resist coating solution 24 Printing stage 24a On flex portion Corresponding convex part 24b Convex part 24c corresponding to the device hole Step (dent)

Claims (5)

屈曲用フレックス部を備えた絶縁性フィルムと、
この絶縁性フィルム上に形成された金属箔による配線パターン
を有するフィルムキャリアを、
前記絶縁性フィルムのフレックス部に対応する凸部を有する印刷ステージで支持して前記金属箔による配線パターン上にソルダーレジスト層を形成するフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
前記絶縁性フィルムのフレックス部の周囲に、丘状の盛り上がり部分がある場合は、前記凸部の周囲に、前記丘状の盛り上がり部分に対応する窪みを設けた印刷ステージを用いて前記絶縁性フィルムを支持することを特徴とするフィルムキャリアのスクリーン印刷方法。
An insulating film having a flex portion for bending;
A film carrier having a wiring pattern with a metal foil formed on this insulating film,
In the screen printing method of a film carrier that supports a printing stage having a convex portion corresponding to the flex portion of the insulating film and forms a solder resist layer on the wiring pattern with the metal foil ,
When there is a hill-like raised portion around the flex portion of the insulating film, the insulating film is formed using a printing stage provided with a depression corresponding to the hill-like raised portion around the convex portion. A screen printing method for a film carrier characterized by supporting the film.
請求項1に記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
前記丘状の盛り上がり部分は、前記フレックス部を保護する保護膜形成時の塗布液に起因するものであることを特徴とするフィルムキャリアのスクリーン印刷方法。
In the screen printing method of the film carrier of Claim 1,
The method for screen printing a film carrier, wherein the hill-shaped raised portion is caused by a coating liquid at the time of forming a protective film for protecting the flex portion.
請求項1又は2に記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
フレックス部に対応する印刷ステージの凸部の大きさが、前記フィルムキャリアの平面図上、対応するフレックス部より、縦横とも100〜200μmの範囲で小さい
ことを特徴とするフィルムキャリアのスクリーン印刷方法。
In the screen printing method of the film carrier of Claim 1 or 2,
The film carrier screen printing method characterized in that the size of the convex portion of the printing stage corresponding to the flex portion is smaller in the range of 100 to 200 μm both vertically and horizontally than the corresponding flex portion on the plan view of the film carrier.
請求項1ないし3のいずれかに記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
フレックス部の幅が、500μm以上である
ことを特徴とするフィルムキャリアのスクリーン印刷方法。
In the screen printing method of the film carrier in any one of Claims 1 thru | or 3,
The screen printing method for a film carrier, wherein the width of the flex part is 500 μm or more.
請求項1ないしのいずれかに記載のフィルムキャリアのスクリーン印刷方法において、
絶縁性フィルムの厚さが、40μm以上である
ことを特徴とするフィルムキャリアのスクリーン印刷方法。
In the screen printing method of the film carrier in any one of Claims 1 thru | or 4 ,
A film carrier screen printing method, wherein the thickness of the insulating film is 40 μm or more.
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