JP3719208B2 - 光路制御素子、それを用いたミラー搭載発光素子、ミラー - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、その製造方法、及び、ミラーに関し、特に、半導体基板、プリント回路基板の配線を光学回路化する光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、その製造方法、及び、ミラーに関する。
【0002】
【従来の技術】
光通信には、光ファイバ、半導体レーザ素子(LD)、発光ダイオード(LED)、フォトダイオード(PD)から形成される光モジュールが用いられる。そのモジュールの光スイッチ、アイソレータ、光導波路のような受動素子、能動素子は、その高性能化、高機能化により、それらの応用範囲が拡大されつつある。光加入者系では、個々の光素子の低価格化が求められるとともに、光素子が機能的に組み合わされて配列される光モジュールの低価格化が不可避的に求められている。
【0003】
その低価格化のためには、光素子をマイクロオプティツク的にブロック状に配列する同軸型のモジュール構成ではなく、複数の光素子を同一基板上に配列する平面型光回路のモジュール構成がより望ましいと考えられている。図32は、そのように望ましいとされている従来の双方向モジュールの平面型光回路を示している。同一のSi基板101の上面に、LD102、PD103、光導波路104、波長フィルタ105、光ファイバ106が配置されている。送信源であるLD102から出射され、波長が1.3μmである出射光は、光導波路104に入射し、波長フィルタ105の中で直進して伝送路である光ファイバ106により受信側へ伝送される。光ファイバ106により伝送されてくる波長が1.55μmの信号光は、光導波路104に入射し、波長フィルタ105で隣接の導波路に光路が変更されてPD103に入射して、光の受信がなされる。このように平面型光回路が用いられて、小型の送受信光モジュールが実現され得る。慣用の半導体プロセス技術により、Si基板101に、光導波路104、波長フィルタ105、光ファイバ106を位置決めする溝が一括に形成され、製作コスト、実装コストの低減が可能であり、更に、実装面積の縮小化が実現される。
【0004】
光素子には、LED、PDのように表面発光(受光)素子であって光軸が垂直方向に向くものと、LDのように端面発光(受光)素子であって、通常平面内に配置される導波路のように光軸が水平方向に向くものとがある。光軸方向が互いに直交するこれらの2種の光素子が同一基板上に混在して平面的に配置されて光学的に結合されると、光路の90°変換が必要になる。Masataka Itoh, et.al.,46th Electronic Component & Technology Conference, p.1などに示されるように(図33)、この技術では、光ファイバ106からの出射光を、シリコン基板101を異方性エッチングして作製した斜面109で反射して、PD103に向かう方向に光路変換して光結合している。また、特開平7−159658号に示されるように、光路変換の慣用の技術としてプリズムが知られている(図34)。光導波路104から出射した光ビーム107は、プリズム108又は反射ミラーの反射面109で90゜の方向変換を受ける。しかし、これらの方法では、光ビーム107は、光路の変換を可能とするが、その変換方向は1方向に限られている。
【0005】
光路を変換しない場合の実装方法が、図35に示されている。PD103の非平面的実装のためには、新たに立体的な位置調整を行い、PD103を支持する他の基板110と、その基板を調整位置で固定するための部品とを必要とし、この方法においても光導波路104から出射された光ビームをPD103にて、一定の位置で受光するものである。
【0006】
このような問題点が解決されたとしても、次に、光経路のスイッチングのため光経路変換機構が必要になる。光経路変換機構として、非可動式スイッチと可動式スイッチが知られている。非可動式スイッチとして、光学結晶の電気光学効果、磁気光学効果が利用される技術が知られている。可動式スイッチとして、R.Jebens et.al., Sensors and Actuators 20, p.65-73, 1989 で示されているように、光ファイバを機械的に駆動する技術が知られ、又は、L.Y.Lin et.al., IEEE Photon Technol. Lett. 10, 1425, 1998, J.Mohr et.al., Technical Digest of International Conf. on Optical MEMS and Their Applications, p221-226 に示されているように、複数の微小ミラーを駆動する技術・方式(Micro-electro-mechanical-systems:MEMS)が知られている。後者は、安価に大規模な光スイッチを実現する技術として期待されているが、複数の微小ミラーを必要とし、微小ミラーを個々に制御する必要がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題を解決するべく、光路変換を任意に変更することを目的とし、光路中に設けられたミラーにより任意に光路の制御を行う事ができる光路制御素子、それを用いたミラー搭載発光素子、ミラーを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の光路制御素子は、光路中に設けられたミラーの反射面の角度を任意に設定することによって光路の制御を行うことを特徴とする。
更に、ミラーは回転可能な能動体上に設けられ、更に、能動体が基板上に設けられることを特徴とし、更に、ミラーは支持体を介して前記能動体上に設けられている。
【0009】
また、本発明のミラー搭載発光素子は、能動体を基板上に有する光路制御素子と同じ基板上に発光素子が設けられていることを特徴とする。
【0010】
また、本発明の光路制御素子は、ミラーが接して設けられた能動体によって変位力を与えられて変形することで反射面の角度を変化させることを特徴とし、更に、能動体が物理的変位力を受けて変位するものであって、物理的変位力は、電歪、磁歪、磁気、電気、相転移、光圧、熱的膨張収縮、気体圧力、圧電、光圧電のいずれかであることを特徴とする。
【0011】
また、本発明の光路制御素子は、ミラーが外部より物理的変位力を受けて変形するものであって、物理的変位力は、電歪、磁歪、磁気、電気、相転移、光圧、熱的膨張収縮、気体圧力、圧電、光圧電のいずれかであることを特徴とする。
【0012】
また、本発明の光路制御素子は、ミラーが少なくとも1層の薄膜よりなることを特徴とする。更に、ミラーが多層薄膜構造よりなり、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた圧電膜と、更に前記圧電膜の下部に設けられた電極膜とからなることを特徴とする。
また、更に、ミラーが多層薄膜構造よりなり、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた形状記憶合金層とからなることを特徴とする。
更に、ミラーが基板に対し垂直な面において線対称形状を保持する構造よりなることを特徴とし、更に、ミラーが錐体よりなることを特徴とする。
また、更に、ミラーが、錐体の頂点・頂線部分を分離することで1対以上に分離分割された構造よりなることを特徴とし、更に、分離分割されたミラーのそれぞれに電流を流すことによって生じた分離分割されたミラーの吸引力もしくは反発力によってミラーを変形させることを特徴とする。また、分離分割されたミラーのそれぞれが磁気材料よりなり、分離分割されたミラーの極性を変更することによってミラーを変形させることを特徴とする。
【0013】
また、本発明のミラー搭載発光素子は、能動体に接して設けられ、変位力を与えて変形することで反射面の角度を変化させることができるミラーを有する光路制御素子と同じ基板上に発光素子が設けられていることを特徴とする。
【0014】
また、本発明の光路制御素子は、光路中に設けられたミラーの位置を任意に設定することによって光路の制御を行うことを特徴とし、さらに、また、光路の発光側からの距離を制御することによってミラーを任意の位置に設け、光路の制御を行うことを特徴とする。
更に、ミラーを能動体上に設け、能動体の位置を制御することでミラーの位置を変更することを特徴とし、更に、能動体が物理的変位力を受けて変位もしくは移動するものであって、前記物理的変位力は、電歪、磁歪、磁気、電気、相転移、光圧、熱的膨張収縮、気体圧力、圧電、光圧電のいずれかであることを特徴とする。
更に、能動体が基板上に設けられていることを特徴とし、更に、ミラーは支持体を介して前記能動体上に設けられていることを特徴とする。
【0015】
更に、本発明のミラー搭載発光素子は、光路中に設けられたミラーの位置を任意に設定することによって光路の制御を行う光路制御素子と同じ基板上に発光素子が設けられていることを特徴とする。
【0016】
また、更に、本発明のミラーは、少なくとも1層の薄膜より構成された錐体よりなることを特徴とする。
更に、ミラーが多層薄膜構造よりなり、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた圧電膜と、更に前記圧電膜の下部に設けられた電極膜とからなることを特徴とする。
また、更に、ミラーが多層薄膜構造よりなり、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた形状記憶合金層とからなることを特徴とする。
また、本発明のミラーは、錐体の頂点・頂線部分を分離することで1対以上に分離分割された構造よりなることを特徴とする。
【0017】
また、本発明のミラーは、薄膜で形成された内部に金属が充填されていることを特徴とする。
【0018】
【発明の実施の形態】
図に対応して、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の実施の形態は、基板にミラーが実装され、図1に示されるように、その基板1の上面側にミラー2が立体的に配置されている。基板1にはその上面に円盤状の歯車3が可動的・回転的に配置されている。歯車3の上面に、それと同軸に台座4が接合している。ミラー2は、後述される別工程で型に形成され、その型から剥がされ台座4の斜面5に転写されて台座4に接合される。ミラー2は、三角錐、三角柱、四角錐、四角柱のような形状に形成されている。ミラー2が三角柱であれば、その軸直角断面上でその三角形は正三角形であり、3つの角度はそれぞれに60度である。台座4は、その断面が直角三角形であり、斜面5と基板1又は歯車3の上面との間の角度は、30度である。ミラー2の1つの面は反射面2’として形成され、その反射面2’と基板1の上面との間の角度は、90度であり、反射面2’は基板1に直交している。
【0019】
図2(a)〜(h)は、本発明によるミラーの製造方法の実施の形態を示している。図2(a)に示されるように、結晶方位(100)の直径6インチ、厚み1mmのシリコンウエハ6の両面に、熱酸化膜7を厚み1μmで成膜する。図2(b)に示されるように、片側の熱酸化膜7にフォトレジスト8を厚み5μmで塗布し、所定のマスクを通して露光した後に、現像、水洗、パターニングの各処理を行って、フォトレジスト8に第1開口部9を形成する。
【0020】
第1開口部9の形状は、縦70μm×横100μmである。第1開口部9をバッファ−ドフッ酸に浸してシリコンウエハ6の表面の熱酸化膜7をエッチングし、水洗した後に、図2(c)に示されるように、フォトレジスト8を溶剤で除去し、洗浄して、熱酸化膜7に第2開口部11を形成して、シリコンウエハ6に露出面12を形成する。図2(d)に示されるように、水酸化カリウム溶液で第2開口部11に露出しているシリコンウエハ6を異方性エッチングして(111)面を持つ四角錐形状の窪み13を作製する。図2(e)に示されるように、シリコンウエハ6のくぼみ13が形成されている側(既述の片側)の熱酸化膜7をバッファ−ドフッ酸で全てエッチングする。ここで、実装を考慮して、シリコンウエハである型6には、図3に示されるように、凸部分14が形成され、凸部分14に既述の窪み13が形成されると好都合である。
【0021】
図2(f)に示されるように、シリコンウエハ6の窪み13が形成されている側の面に、銅スパッタ膜15を厚さ1μmに成膜する。図2(g)に示されるように、フォトレジスト16を銅スパッタ膜15の上面に塗布して、露光し、現像しパターニングを行う。その開口部形状は、図4に示されるように、その開口部は窪み13を含み、左右に接続部分が形成された形状になっている。ここで、光回路基板1との接続部分を光学的入射方向以外に設けている(その光軸は点線で示されている。)。
【0022】
次に、電解メッキでAuメッキ膜17を銅スパッタ膜15の上面に厚さ5μmで形成する。図2(h)に示されるように、フォトレジスト16を溶剤で除去し、硫酸5%と過酸化水素水5%のエッチング液に浸して、銅スパッタ膜15を0.8μmエッチングする。この工程により、銅スパッタ膜15が薄くなって、後の工程のミラー転写時の応力を低減することができ、不良を少なくすることができる。
【0023】
このように形成されるミラー2は、板状に薄く中ぐりされた錐体または角柱体に形成される。全体の質量が小さいので、小さい力で運動しやすく、且つ、変形しやすい。四角錐、四角柱に形成される場合は、屈折ラインを持つ屈折部分の形成が可能であり、屈折的変位が容易である。角柱、錐体は、型としての結晶体の結晶軸の向きが利用されて、慣用のエッチング技術により、容易に形成されることができ、鏡面精度が高い。
【0024】
図5(a),(b),(c)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の製造方法の他の実施の形態を示し、特に、歯車3と三角形状部品である台座4を基板1に接合する接合方法を示している。歯車3と台座4とは、X線リソグラフィーと電気メッキを用いる既述のLIGAプロセスにより作製され得る。歯車3と台座4は、共にNiで形成され、そのNi本体にはAuメッキが施されている。
【0025】
台座4は、図5(b)に示されるように、X線リソグラフィーにより、基板1上に回転可能に形成されている。台座4は、歯車3の上面に半田を介して接合されて実装される。図5(c)に示されるように、Auメッキ膜17が形成された図2(h)に示されるシリコンウエハ6と台座4とを接続装置(図示されず)により位置合わせし、Auメッキ膜17を台座4の斜面5に接合する。その接合の状態で、型であるシリコンウエハ6をAuメッキ膜17から剥離し、Auメッキ膜17の表面側の銅スパッタ膜15をエッチングして、Auメッキ膜17のAu膜面を露出させる。反射面2’は、四角錐面の4つの面(底面側2”は開放されている)の1つに一致している。次に、光ファイバ18と集光レンズ19とを目標位置に実装する。
【0026】
図6に示されるように、基板1上には、静電アクチュエータ21とラック(時計のガンギ車)22とが配置されている。静電アクチュエータ21の線形運動をラック22が歯車3に伝達し、ラック22は、静電アクチュエータ21の線形運動を歯車3の回転運動に変換する。静電アクチュエータ21の変位量は厳密に制御され、PD23の出射光24は正確に出射側光ファイバ18の端面に直角に十分な精度で入射することができる。歯車3を正確に90度回転させて、出射側光ファイバ18に180度で対向する他の光ファイバ18に入射させることができた。ミラー2の反射面2’の反射損失は、0.1dB程度であり、十分に低い値がえられることが確認され、結果的に、反射面2’の鏡面度と静電アクチュエータ21による回転角度制御が十分に高精度であることが確認された。図2(d)のステップで、窪み13の窪み角度を変更することにより、反射面2’と基板面との間の角度は自由に変更することが可能である。
【0027】
図7は、本発明によるミラーの製造方法の実施の更に他の形態を示している。図2(g)に示されるフォトレジスト16により形成されている開口部の形状は、図7に示されるように改変されている。その開口部は、両側の接続部相当面25’,26’と、2反射面相当面25,26とから形成されている(従って、斜線部は除去される)。図7に示される型で形成されるミラー2は、図8に示されるように、実装される。接続部相当面25’,26’に対応して形成される両側接続部27,28は、基板1の本体側と、可動側とにそれぞれに接合されている。2反射面相当面25,26に対応して形成されている両側反射面を有する両側反射面体29,31は、対称基準平面30に対して対称に形成されている。
【0028】
基板1の一部に低位部分が形成され、その低位部分の上面にアクチェータ21が対称基準平面30に直交する方向に変位することができるように配置されている。片側の接続部27は基板1に対して固着され、他方側の接続部28は静電アクチュエータ21の上面に固着されている。接続部27と接続部28は、同一平面上に位置している。アクチェータ21は、線形に100μmほど伸縮変位することができる。両側反射面体29,31は、ミラー2を形成し互いに相対的に屈折する両側の屈折部分が薄く形成され、その屈折変位が容易である。ここで、片側の接続部27は、支持体に固着した上で、基板1上に固定しても良い。
【0029】
図9(a),(b)に示されるように、静電アクチュエータ21は膨縮し、静電アクチュエータ21の膨張位置と収縮位置との2変位位置で、反射面体29の反射面と反射面体31の反射面の角度が異なる。図10は、このように反射角度を変えることができる2×2の4つのミラー2を用いた光スイッチを示している。4つのミラー2は、4つの静電アクチュエータ21により個別にそれぞれに既述の通りに変形的に駆動される。2チャンネルの出力側光ファイバ18と2チャンネルの入力側光ファイバ18’は、出力側レンズ19と入力側レンズ19’と、ミラー2と、反射鏡33とを介して、光により接続される。
【0030】
一方の出力側光ファイバ18から出射する一方の出射光34は、第1ミラー2の一方の反射面体31で反射し、反射鏡33で反射し、第4ミラー2の他方の反射面体29で反射して、一方の入力側光ファイバ18’に入射する。他方の出力側光ファイバ18から出射する他方の出射光35は、第2ミラー2の一方の反射面体31で反射し、反射鏡33で反射し、第3ミラー2の他方の反射面体29で反射して、他方の入力側光ファイバ18’に入射する。静電アクチュエータ21を2位置動作させることにより、出射光34又は出射光35を入射させる2つの入力側光ファイバ18’を選択的に変更することができる。ミラー2が持つ2反射面のうちの1つが用いられ、回路構成が簡素化する。
【0031】
図11は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の他の実施の形態を示している。図8に示されるミラー2の頂点・頂線部分(既述の屈折部分)が削除され、両接合部27,28はともに基板1に固着されている。2つに分離分割されたミラー部分36,37の裏面側に電線(図示されず)が蒸着されている。その電線に電流を流すことにより、ミラー部分36,37の電線に電流を流すことにより、その電流に比例する吸引力又は反発力で、両ミラー部分36,37は互いに引き合い又は互いに反発して、両ミラー部分36,37の反射面体29,31の角度が変更される。ミラー2の周囲に配置される複数の出力側光ファイバ18のいずれかと、同様に配置される複数の入力側光ファイバ18’のいずれかとを選択的に光学的に接続することができる。このようなミラー2は、その変位力が小さくてすみ、変位速度が速い。
【0032】
図12に示されるように、図11の基板1が大基板1’に接合されている。基板1の基板面は、大基板1’の基板面に直交している。このような直交関係で基板1と大基板1’を接合すれば、図11のファイバ18,18’の光軸を大基板1’の基板面に平行に配置することができ、大基板1’で規定される平面上で光スイッチ回路を形成することができる。
【0033】
図13(a),(b)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の実施の更に他の形態を示している。図8に示されるミラー2の頂点部分が削除され、両接合部27,28はともに基板1に固着されている。2つに分離分割されたミラー部分36,37に正負の電位を印加することにより、ミラー部分36,37の角度を変更することができる。図13(a)は、正又は負の同じ極性の電圧印加により、ミラー部分36,37が互いに反発して遠ざかる場合を示し、図13(b)は、正又は負の異なる極性の電圧印加により、ミラー部分36,37が互いに吸引して接近する場合を示している。このようなミラーの駆動により、光スイッチを形成し、又は、光学的回路を自由に多様に形成することができる。
【0034】
図14(a),(b),(c)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の製造方法の更に他の実施の形態を示している。図14(a)に示されるように、図7に示される型で形成される図8のミラー2を基板1に形成することは、既述の通りである。図14(a)で示される状態では、既述の通りのエッチングによりAu膜面は既に露出している。そのミラー2と基板1にそれらの上面側から、スプレー式にレジスト膜41を形成する。レジスト膜41をパターニングして、ミラー2の頂点部分を露出させる。図14(b)に示されるように、イオンビームエッチングにより、ミラー頂点部分を除去する。次いで、図14(c)に示されるように、レジスト膜41を剥離して、図11,12に示される分離分割型のミラー2が形成され得る。反射面体29と反射面体31は、これら両面が反射面として利用され得る。
【0035】
図15は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。ミラー2は、2反射面を持つミラー本体42と、圧電膜43と、電極層44とから形成されている。圧電膜43は、ミラー本体42の下面に積層化されている。電極層44は、圧電膜43の下面に積層化されている。ミラー本体42と、圧電膜43と、電極層44は、既述の図8のミラー2と同様にそれぞれに両側接続部を有し、それらの接続部の3層の積層により基板1に全体として接合されている。基板1に電極45が形成され、電極45とミラー本体42の接続部との間がボンディング46で電気的に接続されている。電極層44の接続部と電極45の間に電圧を印加することにより、図16(a),(b)に示されるように、圧電膜43が歪んで圧電膜43に積層されているミラー本体42の表面の傾斜角度が変更される。ミラー本体42の表面の傾斜角度は、電圧制御により正確に制御され得る。
【0036】
図17(a),(b),(c),(d)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、ミラーの製造方法の更に他の実施の形態を示し、特に、図15のミラー2の製造方法を示している。図2(e)のステップに次いで、型であるシリコンウエハ6に銅スパッタ膜15が形成され、レジストをパターニングして、Auメッキ膜17を銅スパッタ膜15の上面に形成してレジストを剥離する。次に、図17(a)に示されるように、スパッタで圧電膜43をAuメッキ膜17の上面に1μmの厚さで形成し、レジストでパターニングし、ドライエッチングでミラー形成部分にのみパターニングを行う。次に、図17(b)に示されるように、電極層44になる金属を蒸着により圧電膜43の上面に形成し、レジストを剥離する。図17(c)に示されるように、電極層44と圧電膜43とAuメッキ膜17と銅スパッタ膜15とで形成される4層の積層体を基板1の所定位置に転写する。その転写の際には、電極層44の接合部が、基板1に対して半田で接合される。次に、銅スパッタ膜15を既述の通りにエッチングにより除去する。図17(d)に示されるように既述の通りにボンディングを行って、図15に示されるミラー2が基板1に実装されて形成される。
【0037】
このような電歪効果を持つ圧電膜に代えられて、磁歪効果を持つ磁気膜、光磁気的に磁歪効果を持つ光学的磁気膜が用いられ得る。
【0038】
図18は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。大基板1’の上面に小基板1が移動可能に支持されている。基板1に既述のミラー2が接合されている。大基板1’に超音波発生源(例示:圧電素子、レーザーによる超音波励起)45が接合している。図19に示されるように、超音波発生源45により大基板1’に生成される表面弾性波46は、その進行波によりミラー2を目標位置に移動させることができ、その定在波によりそのミラー2をその目標位置に正確に固定させることができる。このようなミラー2の変位駆動により、図18に示されるように、1つの出力側光ファイバ18と複数の入力側光ファイバ18’との間の光学的回路を選択的に変更することができる。
【0039】
図20は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の実施の更に他の形態を示している。基板1上に、2つの電磁石47と1つの永久磁石48とが基板1上に接合している。永久磁石48は、基板1の上面で摺動的に変位・移動自在である。ミラー2は、永久磁石48の上面側に固着されて実装されている。図21(a),(b)に示されるように、永久磁石48の磁気的極性を変えることにより、永久磁石48は一方側の電磁石47又は他方側の電磁石47に吸着又は反発して2位置間で変位し、移動する。永久磁石48のこのような2位置間の移動により、図20に示されるように、出力側光ファイバ18を複数の入力側光ファイバ18’のいずれかとの間の光学的接続回路を選択的に変更することができる。
【0040】
図22(a),(b)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。本実施の形態のミラー2は、頂点部分が分離分割された既述のミラーが使用されている。両ミラー部分36,37に磁気材料が使用され、ミラー部分36とミラー部分37の磁化方向を変えることにより、内側面どうしの同極性と異極性とを選択的に変更することにより、両ミラー部分36,37の離隔と接近を切り換えて、その反射面の角度を変更することができる。
【0041】
図23は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。ミラー2は、反射面を備えるミラー本体49と、ミラー本体49の下面側に積層される形状記憶合金層51とから形成されている。形状記憶合金層51には、通電回路が接続されている。その通電により、形状記憶合金層51の温度は高低の2温度状態を採ることができる。その2温度状態により、図24(a),(b)に示されるように、形状記憶合金層51は初期形状と終期形状の2形状状態を採ることができる。このような2形状状態は、ミラー本体49の反射面が変形され、その反射角度は2状態で選択的に変更され得る。このような選択的変更により、出力側光ファイバ18から出射される光を複数の入力側光ファイバ18’に入射させる複数の光学的回路を選択的に変更することができる。
【0042】
図25は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。基板1の内部に熱変化セル52が設けられている。熱変化セル52の内部には液体53が充填されている。流体を加熱することにより、セル52の内部の圧力が変化して、図26(a),(b)に示されるように、基板1は通常変形と加熱時変形の2変形状態を採ることができる。その2変形状態により、基板1は、初期形状と終期形状の2形状状態を採ることができる。このような2形状状態は、ミラー2の高低位置が変更される。このような選択的変更により、図25に示されるように、出力側光ファイバ18から出射される光を複数の入力側光ファイバ18’に入射させる複数の光学的回路を選択的に変更することができる。液体53とともに光吸収体がセル52の中に充填され、光エネルギーをその光吸収体に吸収させて液体53の温度を変化させることができる。ここで、熱変化セルとして内部に液体を充填させているが、体積を変化させるものであれば良く、気体を充填させ、ポンプにより体積を変化させても良く、ヒータ等の加熱手段によって、体積を膨張させても同様の動作をさせることができ、複数の光学的回路を選択的に変更することができる。
【0043】
図27と図28は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示している。基板1上に回転自在であるマイクロ光車54が設けられている。マイクロ光車54の形状は、回転対称であるが鏡面対称ではない。マイクロ光車54の回転軸心線Lを光軸とする第1レーザーと第2レーザーをマイクロ光車54の表裏面に向かう方向に照射して基板1の表面とマイクロ光車54の裏面との間に光流層を形成し、マイクロ光車54を基板1に対する浮遊状態にトラップする。回転軸心線Lに直交する方向から1つ又は複数の第3レーザーをマイクロ光車54の翼部分に照射することにより、基板1に対して浮いているマイクロ光車54を制御回転位置に固定することができる。
【0044】
図29は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の他の実施の形態を示し、特に、図17に示される製造方法で製造された図16に示されるミラー2の応用を示している。そのようなミラー2が、基板1に接合されている。ミラー2は、既述の通り、表面層であるミラー本体42と中間層である圧電膜43と裏面層である電極層44とから形成されている。基板1の上方位置に受光部55が配置されている。受光部55の下面側に受光素子56が配置されている。
【0045】
熱膨張のような原因により、図30に示されるように、受光素子56に位置ずれが生じれば、図31に示されるように、電極45と電極層44との間に電圧を印加して、ミラー本体42の曲率を変更し、出力側光ファイバ18から出射される光が受光素子56に再び正しく入射するように正確に制御することができる。受光素子56が出力する電圧値又は電流値が変化すれば、印加電圧を正負の両方向に変化させて受光素子56の出力値の増減を検出するフィードバック制御により、出力側光ファイバ18から出る光を常に正しく受光素子56に入させる制御が可能である。このような制御により、光学的回路の光結合効率を最適切に保持することができる。
【0046】
図36は、本発明によるミラーの他の実施の形態である塊形状のミラーを示している。これまでの実施形態では、図36(a)の断面構造を持つ薄膜ミラーによるものであったが、本実施形態では、断面が図36(b)のように詰まっている塊形状のミラーについて示している。塊形状のミラーは図37、図38に示すようにして形成する。最初に、図37のように、ワイヤボンダーを用いて、基板に金バンプ56を形成する。基板の金バンプを形成したい部分に、事前に金パッド55を設けておく。金バンプの底面の直径80μm、高さ90μmで、ほぼ円錐形である。次に、図38(a)のように型57を金バンプに押し当て、300℃の熱と50gの圧力を加えながら金バンプ56を成形して、図38(b)のように、ミラー2を得ることが出来る。ミラー2の高さは42μmで、反射面の大きさは60μm×52μmである。型は、シリコン基板を異方性エッチングしたものや、ステンレス等の金属を加工したものを用いることが出来る。
【0047】
この塊形状のミラー2は、以下の光スイッチに適用することができる。図1の歯車を用いる光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、図18、図19の圧電素子で超音波を発生する光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、図20、図21の磁石を用いる光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、図25、図26の液体を用いる光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子、図27の光圧力を用いる光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の光スイッチに適用することが出来る。この塊形状のミラーを用いる利点は、ミラーの強度が増加して、温度変化等による反射面形状の変化が小さくなり、安定した反射性能が得られることである。ここで、ミラーの形状は、形状が3角柱を任意の平面で切断した構造を示したが、多角錐で底面以外の面の数は3〜10であり、反射面が錐面であるもの、円錐であり反射面が錐面であるもの、三角柱であり反射面が柱体の面であるもの、形状が4角柱であり反射面が柱体の面であるもの、四角柱を任意の平面で切断したものでも良い。また、本実施例では、ミラーの材質を金としたが、これ以外にもアルミニウム、銀、銅、白金、チタン、ニッケルであってもよく、金99%+パラジウム1%のように、1%程度の他金属を混合するようなものであっても、光スイッチとして作用させる事ができる。
【0048】
図39は、本発明の光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の他の実施形態を示している。図39の光スイッチの構造を説明する。光導波路58(58−1,58−2,58−3)が3本あり、その交差部に空間を設けている。その空間にガス60が充填されているとともに、基板1に実装されたマイクロミラー2がある。更に、ヒータが図の位置に設けられている。次にマイクロミラー2の駆動方法を説明する。図39(a)では、上側のヒータ59−1でガスを加熱する。この作用により、マイクロミラー2の上側の空間の圧力が下側の空間の圧力より高くなり、ミラーは図39(a)の位置に固定される。この位置にミラーがあると、左側の光導波路58−1から出た光はマイクロミラー2で反射され、下側の光導波路58−2へ導かれる。逆に、図39(b)では、下側のヒータ59−2でガスを加熱する。この作用により、マイクロミラー2の上側の空間の圧力が下側の空間の圧力より低くなり、ミラー2は図39(b)の位置に固定される。この位置にミラー2があると、左側の光導波路58−1からの入射光は、マイクロミラー2で反射されず右側の光導波路58−3に入る。この動作を用いて、光経路を変えることが出来る。つまり、光スイッチとして用いることが出来る。ここで、マイクロミラー2の移動範囲は、ミラー背面に位置する壁面と図39(a)の位置に固定するための位置決めを設けることにより制御し得る。
【0049】
更に、他のミラー駆動方法について説明する。ヒータ59の代わりに、図40のようにポンプ70(70−1,70−2)を用いる。ポンプ70を用いてガスを吸引又は排出して、ガスの圧力を調整することにより、ミラー2を動かすことが出来る。ガスの代わりに液体を用いることもできる。光導波路間の空間に液体を充填しておく。上側のポンプ70−1から液体を排出し、下側のポンプ70−2から液体を吸引するとミラー2は図40(a)の位置に固定される。上下のポンプの作用を逆にすると、ミラーは図40(b)の位置に固定される。この液体による動作方法を用いても、ガスを用いる場合と同様に光路を切り替えることができる。
【0050】
図41で、ヒータを用いた光スイッチの製造方法を説明する。図41(a)では、光導波路を、化学気層形成法とリアクティブイオンエッチング法により形成する工程を示している。次に、図41(b)のように、ヒータあるいはポンプを実装するために、金属Ti:100A/Au:5000Aをスパッタ法により基板全体に成膜し、レジストを1μm厚で成膜後、ヒータ形状あるいはポンプ形状のパターニングを行う。次に、ドライエッチング法で不要部分の金属を削り取った後、レジストを除去する。再び、図41(c)のように、レジストによりパターニングを行った後、ドライエッチング法を用いて、光導波路の交差部に穴を形成する。その後、図41(d)のように、光導波路の交差部に形成された穴の中に基板に実装されたミラーを図の向きで挿入し、蓋をして、図39および図40の光スイッチを得る事ができる。ここでは、空気をガスとして用いている。また、ミラーは、塊形状のもの、薄膜形状のもののいずれも用いることが出来る。以上の過程で光スイッチを作製することが出来る。
【0051】
【発明の効果】
本発明による光路制御素子、それを用いたミラー搭載発光素子、ミラーは、光路中に設けられたミラーの反射面の角度を任意に設定することができるので、光路を任意に変更する事ができる。
また、本発明による光路制御素子、それを用いたミラー搭載発光素子、ミラーは、光路中に設けられたミラーの光路の発光側からの距離を任意に制御することができるので、光路を任意に変更する事ができる。
本発明のミラーは、少なくとも一層の薄膜より構成された錐体よりなるので、反射面の角度の変更、および反射面の変形が容易にでき、光路を容易に制御する事ができる。
また、本発明のミラーは、金属からなる微小なミラーを容易に得る事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明による光路制御素子の実施の形態を示す正面図である。
【図2】図2(a),(b),(c),(d),(e),(f),(g),(h)は、本発明によるミラーの製造方法の実施の形態のステップをそれぞれに示す断面図である。
【図3】図3は、図2の型の一部の変形例を示す断面図である。
【図4】図4は、図2(g)の平面図である。
【図5】図5(a),(b),(c)は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の製造方法の実施の形態のステップをそれぞれに示す正面図である。
【図6】図6は、図5(b)を更に詳しく示す図5(b)の平面図である。
【図7】図7は、本発明によるミラーの製造方法の実施の他の形態を示す平面図である。
【図8】図8は、本発明による光路制御素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図9】図9(a),(b)は、図8の光路制御素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図10】図10は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す正面図である。
【図11】図11は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す正面図である。
【図12】図12は、本発明による光路制御素子の更に他の実施の形態を示す正面図である。
【図13】図13(a),(b)は、図11の光路制御素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図14】図14(a),(b),(c)は、本発明による光路制御素子の製造方法の更に他の実施の形態のステップをそれぞれに示す断面図である。
【図15】図15は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図16】図16(a),(b)は、図15の光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図17】図17(a),(b),(c),(d)は、本発明による光路制御素子の製造方法の更に他の実施の形態のステップをそれぞれに示す断面図である。
【図18】図18は、本発明によ光路制御素子、およびミラー搭載発光素子るの更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図19】図19は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図20】図20は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図21】図21(a),(b)は、図20の光路制御素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図22】図22(a),(b)は、図11の光路制御素子の他の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図23】図23は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図24】図24(a),(b)は、図23光路制御素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図25】図25は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す断面図である。
【図26】図26(a),(b)は、図25の光路制御素子の2つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図27】図27は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す平面図である。
【図28】図28は、図27の正面図である。
【図29】図29は、本発明による光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す正面図である。
【図30】図30は、図29の光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の1つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図31】図31は、図29の光路制御素子、およびミラー搭載発光素子の他の1つの動作状態をそれぞれに示す断面図である。
【図32】図32は、公知の光回路を示す平面図である。
【図33】図33は、公知の他の光回路を示す正面図である。
【図34】図34は、公知の更に他の光回路を示す正面図である。
【図35】図35は、公知の更に他の光回路を示す正面図である。
【図36】図36は、本発明によるミラーを示す断面図である。
【図37】図37は、図36(右)のミラーの製造方法の実施の形態の第1のステップを示す断面図および上面図である。
【図38】図38は、図36(右)のミラーの製造方法の実施の形態の図37のステップに続くステップを示す図面である。
【図39】図39は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の他の実施の形態を示す平面図である。
【図40】図40は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の更に他の実施の形態を示す平面図である。
【図41】図41は、本発明による光路制御素子、およびそれを用いたミラー搭載発光素子の製造方法の他の実施の形態を示す断面図および平面図である。
【符号の説明】
1…基板
1’…大基板
2,42…ミラー
3…能動体(アクチェータ)
4,43,44、54…支持体
5…斜面
6…型
13…凹面
15…銅層(剥離層)
17…鏡面層
21…能動体
25,26…反射面相当面
25’、26’…接合部相当面
27…第1接合部分
28…第2接合部分
29…第1屈折層(第1能動体、屈折体)
31…第2屈折層(第2能動体、屈折体)
31…第2屈折層
36…第1揺動体
37…第2揺動体
42…第1層
43…第2層
44…第3層
47…第2磁石
48…第1磁石
49…第1層
51…第2層
54…能動体(回転体)
Claims (8)
- 光路中に設けられたミラーの反射面の角度を任意に設定することによって光路の制御を行うことを特徴とする光路制御素子であって、
前記ミラーは少なくとも1層の薄膜より構成された錐体を備え、前記錐体の頂点・頂線部分を分離することで1対以上に分離分割された構造を有し、
外部より物理的変位力を受けて変形する光路制御素子。 - 前記ミラーは多層薄膜構造を有し、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた圧電膜と、更に前記圧電膜の下部に設けられた電極膜とを具備する請求項1記載の光路制御素子。
- 前記ミラーは多層薄膜構造を有し、少なくとも反射面を備える本体と、その下部に設けられた形状記憶合金層とを具備する請求項1記載の光路制御素子。
- 前記ミラーの分離分割された構造のそれぞれに電流を流すことによって生じた吸引力もしくは反発力によってミラーを前記ミラーは変形される請求項1記載の光路制御素子。
- 前記ミラーの分離分割された構造のそれぞれが磁気材料を有し、前記ミラーの分離分割された構造の極性を変更することによってミラーが変形される請求項1記載の光路制御素子。
- 前記ミラーは能動体上に設けられ、前記能動体が変位することによって前記光路の制御が行われる請求項1から3のいずれかに記載の光路制御素子。
- 前記ミラーを形成する薄膜の少なくとも一部が能動体上に設けられ、前記能動体が変位することによって前記ミラーが変形されて前記光路の制御が行われる請求項1から3のいずれかに記載の光路制御素子。
- 請求項1から7のいずれかに記載の光路制御素子と同じ基板上に発光素子が設けられているミラー搭載発光素子。
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