JP3707674B2 - Pattern inspection apparatus and method - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント基板等の配線パターンを光学的に検査するパターン検査装置及び方法に関し、より特定的には、プリント基板に形成されている穴部の位置を認識して、高精度なパターン検査を可能とする装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、電子部品等が実装されるプリント基板の表面には、所定の回路を構成するのに必要な導体配線がパターンによって形成されている。また、パターンのランド部には、電子部品のリードを挿入するスルーホール等のプリント基板を貫通する穴(以下、貫通孔と記す)が形成されている。
【0003】
従来、上述のような貫通孔が形成されたプリント基板のパターンに欠陥が存在するか否かの検査は、例えば次のようにして行われる。
まず、検査すべきパターンが形成された面を上側にして、プリント基板が透明なガラス板上に載置される。載置されたプリント基板は、端部がクランプ機構によってクランプされることでガラス板に固定される。次に、ガラス板上のプリント基板の上方に配置された落射照明用光源から、プリント基板の上面に照明光が照射される。また、ガラス板の下方に配置された透過照明用光源から、ガラス板を介してプリント基板の下面に照明光が照射される。
ガラス板上に載置されたプリント基板の上方には、撮像カメラが配置されている。この撮像カメラは、落射照明用光源からの照明光がプリント基板の上面で反射した光に基づく反射光画像と、透過照明用光源からの照明光のうち、プリント基板の貫通孔を透過した光に基づく透過光画像とを撮像する。次に、撮像された反射光画像内の貫通孔に対応する位置に透過光画像を合成させることで、穴部が埋め込み処理された画像を生成する。そして、この穴埋め処理された画像に対して、パターンマッチング法やデザインルールチェック法等に基づく処理が施されて、パターンの欠陥が検出される。
【0004】
上述のように、画像の穴埋め処理を行うことによって、反射光画像のみに基づいて欠陥を検出するよりも、正確に欠陥を検出することができる。すなわち、反射光画像のみを画像処理すると、反射光画像を得るための2値化処理のしきい値によって反射光画像の形状(貫通孔部分の画像の大きさ)が変化する。このような形状の変化に起因して、2値化処理のしきい値が正確に設定されていないと、欠陥部分が反射光画像上に現れずに欠陥が検出できないという問題が発生する。この問題を解決するために上述のような穴埋め処理を行って、2値化処理に起因する不安定さを補完しているのである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、次のような場合、上述した透過光に基づく透過光画像を利用した検査を実行できないという問題がある。
第1に、ある製造工程においては、貫通孔が樹脂等の特定物質で穴埋めされているプリント基板が用いられることがあり、このような基板を検査する場合、透過照明用光源からの照明光が樹脂等で遮られ、透過光画像が得られない。
第2に、多層のプリント基板においては、プリント基板を貫通せず、表面から数層分だけの深さを持つバイアホール等の穴(以下、不貫通孔と記す)が形成されている場合がある。このような不貫通孔については、その部分に対応した透過光画像を得ることは不可能である。
第3に、上述したように、端部をクランプしてプリント基板をガラス板上に固定させる構成では、固定されたプリント基板の中央部分がたわむことがある。このたわみによって、欠陥検査が正確に行えないという問題が生じる。従って、この問題を解決するために、クランプ機構に代えてプリント基板の下面全面を真空吸着力によって保持する吸着台を採用する構成が考えられる。しかし、吸着台の載置面に多数の吸引穴を形成したり、その内部に吸引した空気の排気用通路を形成する必要があるという構造の都合上、吸着台は金属製となり不透明である。この結果、プリント基板の下面に照明光を照射できず、透過光画像を得ることができない。
【0006】
それ故に、本発明の目的は、上述のような点に鑑み、貫通孔の穴埋めや不貫通孔の存在等が原因で、透過光画像を利用できない場合であっても、プリント基板に形成されたパターン上の欠陥の有無を正確に検査できるパターン検査装置及び方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
第1の発明は、被検査物上に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、
被検査物の被検査面に、照明光を照射する照明部と、
照明光が被検査面で反射した光に基づく反射光画像を、撮像する撮像部と、
反射光画像を2値化処理して、被検査物上に形成されたパターンに対応するパターン画像を生成する2値化処理部と、
パターン画像の穴部に相当する領域内に、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像をそれぞれ配置し、当該穴位置画像を、それを囲むパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させた、膨張穴位置画像を生成する膨張処理部と、
パターン画像と膨張穴位置画像とを合成させた検査用画像に基づいて、パターンを検査する検査部とを備える。
【0008】
上記のように、第1の発明によれば、被検査物による反射光から得られるパターン画像と所定の穴位置画像とを用い、穴位置画像をパターン画像の穴部に相当する部分に埋め込んだ検査用画像を生成して、この画像によってパターン検査を行う。これにより、貫通孔の穴埋めや不貫通孔の存在等が原因で、透過光画像を利用できない場合であっても、プリント基板に形成されたパターン上の欠陥の有無を正確に検査できる。
【0009】
第2の発明は、第1の発明に従属する発明であって、
所定の穴位置画像は、設計パターンにおける実際の穴部の大きさよりも小さい画像であることを特徴とする。
【0010】
上記のように、第2の発明によれば、穴位置画像の大きさを設計値の穴径よりも小さく設定するので、撮像されたパターン画像にある程度ズレが生じていても処理することが可能となる。
【0011】
第3の発明は、第1及び第2の発明に従属する発明であって、
被検査物の被検査面と反対面側から、被検査物を吸着保持する吸着台をさらに備えることを特徴とする。
【0012】
上記のように、第3の発明によれば、反射光だけを利用するので、プリント基板の被検査面と反対側の全面を吸着力によって保持する吸着台を採用することが可能となり、プリント基板のたわみによって欠陥検査が不正確となることを回避することできる。
【0013】
第4の発明は、第1〜第3の発明に従属する発明であって、
膨張処理部は、パターン画像を所定の量だけ膨張させた後、配置された穴位置画像を、それを囲む膨張させたパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させ、当該膨張させた穴位置画像を、さらに所定の量だけ膨張させて膨張穴位置画像を生成することを特徴とする。
【0014】
上記のように、第4の発明によれば、予めパターン画像を所定の量だけ膨張させた後で、穴位置画像を膨張させることにより、ランドパターン幅が狭い等に起因する、穴位置画像がパターン画像を越えて膨張してしまう現象を回避することができる。
【0015】
第5の発明は、被検査物上に形成されたパターンを検査するパターン検査方法であって、
被検査物の検査対象となる被検査面に照明光を照射し、当該照明光が被検査物の表面で反射した光に基づく反射光画像を撮像するステップと、
反射光画像を2値化処理して、被検査物上に形成されたパターンに対応するパターン画像を生成するステップと、
パターン画像の穴部に相当する領域内に、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像をそれぞれ配置するステップと、
穴位置画像を、それを囲むパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させた、膨張穴位置画像を生成するステップと、
パターン画像と膨張された穴位置画像とを合成させた検査用画像に基づいて、パターンを検査するステップとを備える。
【0016】
上記のように、第5の発明によれば、被検査物による反射光から得られるパターン画像と所定の穴位置画像とを用い、穴位置画像をパターン画像の穴部に相当する部分に埋め込んだ検査用画像を生成して、この画像によってパターン検査を行う。これにより、貫通孔の穴埋めや不貫通孔の存在等が原因で、透過光画像を利用できない場合であっても、プリント基板に形成されたパターン上の欠陥の有無を正確に検査できる。
【0017】
第6の発明は、第5の発明に従属する発明であって、
所定の穴位置画像は、設計パターンにおける実際の穴部の大きさよりも小さい画像であることを特徴とする。
【0018】
上記のように、第6の発明によれば、穴位置画像の大きさを設計値の穴径よりも小さく設定するので、撮像されたパターン画像にある程度ズレが生じていても処理することが可能となる。
【0019】
第7の発明は、第5及び第6の発明に従属する発明であって、
膨張穴位置画像を生成するステップは、
パターン画像を所定の量だけ膨張させるステップと、
配置された穴位置画像を、それを囲む膨張させたパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させるステップと、
膨張させた穴位置画像を、さらに所定の量だけ膨張させるステップとを含むことを特徴とする。
【0020】
上記のように、第7の発明によれば、予めパターン画像を所定の量だけ膨張させた後で、穴位置画像を膨張させることにより、ランドパターン幅が狭い等に起因する、穴位置画像がパターン画像を越えて膨張してしまう現象を回避することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の一実施形態に係るパターン検査装置の構成を示す図である。図1において、本実施形態のパターン検査装置は、撮像部1及び検査部2で構成される。撮像部1は、吸着台11と、照明部12と、撮像カメラ13とを備える。検査部2は、2値化処理部21と、パターン画像記憶部22と、穴位置画像記憶部23と、検査用画像生成部24と、検査部25と、出力部26とを備える。
まず、撮像部1及び検査部2の各構成の概要を、以下に説明する。
【0022】
撮像部1において、吸着台11は、処理対象となるプリント基板10を載置させるテーブルであり、真空吸着力によってこの載置されたプリント基板を固定する機能を有する。照明部12は、吸着台11の載置面より上方に配置され、吸着台11に載置されたプリント基板10に向けて所定の照明光を照射する。撮像カメラ13は、吸着台11の載置面より上方に配置され、照明部12から照射された照明光がプリント基板10の表面(被検査面10a)で反射する光に基づく反射光画像を撮像する。この撮像された反射光画像は、検査部2の2値化処理部21へ出力される。
検査部2において、2値化処理部21は、撮像カメラ13から入力される反射光画像を、所定の基準に基づいて画素単位で2値化する。この2値化された反射光画像は、パターン画像としてパターン画像記憶部22に記憶される。穴位置画像記憶部23には、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像が予め記憶されている。検査用画像生成部24は、パターン画像と穴位置画像とを用いて、パターン画像内の穴部に該当するであろう画素部分に穴位置画像から得られる画素を埋め込んだ、検査用画像を生成する。検査部25は、検査用画像生成部24において生成された検査用画像を用いて、所望の検査を実行する。出力部26は、ディスプレイ等の表示装置であって、検査部25で行われた検査の結果を出力する。
【0023】
次に、図2〜図9をさらに参照して、本実施形態のパターン検査装置で行われる検査方法を説明する。図2は、本発明の一実施形態に係るパターン検査装置で行われる検査方法の処理手順を示すフローチャートである。
まず始めに、処理対象となるプリント基板が、吸着台11上に載置される(ステップS110)。この吸着台11の基板載置面には多数の吸引穴が設けられており(図示せず)、これらの吸引穴から空気を吸引させることによって、プリント基板を吸着台11上に真空吸着力によって密着させる。これにより、たわませることなくプリント基板を吸着台11上に載置させることができる。
【0024】
次に、照明部12から吸着台11上に載置されたプリント基板に向けて、照明光が照射され、撮像カメラ13においてプリント基板で反射される光による反射光画像が撮像される(ステップS120)。このとき、パターン部分、基板材料部分、穴部分(穴部)では、材質や表面処理等の違いによって光の反射率がそれぞれ異なるため、撮像カメラ13で撮像される反射光のレベルは、それぞれの部分において異なることになる。一般的には、パターン部分が導体金属で形成されているため、その部分の反射光レベルが最も高くなる。ここで、「穴部」とは、スルーホール等の貫通孔が形成された部分、又はバイアホール等の不貫通孔が形成された部分、若しくは貫通孔や不貫通孔が樹脂等で穴埋めされた部分をいう。
【0025】
2値化処理部21は、撮像カメラ13で撮像された反射光画像を入力し、所定の基準に基づいて反射光画像を画素単位で「0」又は「1」の値に2値化して、パターン画像を生成する(ステップS130)。ここで、上述したように反射光画像の中でパターン部分の反射光レベルが最も高くなる場合、パターン部分が値「1」にその他の部分が値「0」になるような反射光レベルのしきい値を、所定の基準として設定すればよい。これにより、処理対象となるプリント基板中のパターン部分のみを特定したパターン画像を生成することができる。このパターン画像は、パターン画像記憶部22に記憶される。
図3に、反射光画像の2値化処理によって生成されたパターン画像Pの一部分を例示する。図中、網掛け部分の画素値が「1」となる。
【0026】
一方、穴位置画像記憶部23には、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像Hが予め記憶されている。この穴位置画像Hは、図4に示すように、プリント基板上に設計された各々の穴部について、設計された穴径より小さい所定領域にある画素(図中の斜線領域)をそれぞれ値「1」と、その他の領域にある画素を全て値「0」とした2値化画像である。なお、各穴部に設定される所定領域の大きさは、後述する膨張処理との兼ね合いにより任意に設定することが可能である。
この穴位置画像Hは、設計パターンを作成するためのCADデータから生成してもよいし、穴部のパターンが設計値(設計パターン)に基づいて描画されたフィルムをスキャン入力して取り込んでもよい。
【0027】
次に、検査用画像生成部24は、パターン画像記憶部22に記憶されたパターン画像Pと、穴位置画像記憶部23に記憶された穴位置画像Hとを用いて、以下のように検査用画像を生成する(ステップS140)。このステップS140のさらに詳細な処理手順を図5に示す。
図5を参照して、検査用画像生成部24は、まずパターン画像を所定の量だけ膨張させる処理(膨張処理A)を行う(ステップS141)。この膨張(以下に説明する膨張も同様)は、画素単位で行われ、その手法には、画像処理分野で周知の4連結膨張及び/又は8連結膨張が用いられる。従って、ここでいう所定の量とは、4連結膨張及び/又は8連結膨張を何回行ったかで表されることとなる。なお、4連結膨張とは、ある画素に対して隣接する上下左右の4つの画素に関して膨張させる手法であり、8連結膨張とは、ある画素に対して隣接する8つ全ての画素に関して膨張させる手法である。例えば、図6(a)に示す位置関係でパターン画像Pと穴位置画像Hとが存在する場合、膨張処理Aを実行することによって、パターン画像Pが図6(b)のように膨張画素Ea分だけ膨張する。図6(b)の例では、4連結膨張を1回行った場合を示している。
【0028】
この膨張処理Aは、図6(a)のようにパターン画像のランドパターンが1画素幅で描かれている部分P1(右上部分)がある場合に、後述するステップS142で行う穴位置画像の膨張処理Bにおいて、穴位置画像がパターン画像内の穴部HPに該当する部分を越えて膨張するのを防ぐために行われる。従って、パターン画像のランドパターンが2画素幅以上で描かれている場合には、このような膨張が生じないので膨張処理Aを省略することができる。
【0029】
次に、検査用画像生成部24は、膨張処理Aによって膨張されたパターン画像PEに基づいて、穴位置画像Hをパターン画像PEに達するまで膨張させる処理(膨張処理B)を行う(ステップS142)。この膨張処理Bは、パターン画像PEで得られた穴部HPだと思われる部分を穴部HPとして確定させるために行われる。例えば、図6(b)に示す画像に膨張処理Bを実行することによって、穴位置画像が、パターン画像に達するまで、すなわち同図中の空白部分(パターン画像における値「0」の部分)が無くなるまで膨張画素Eb分だけ膨張される(図6(c))。この膨張処理Bでは、穴位置画像を構成する各画素の膨張を、パターン画像PEに達した時点でそれぞれ終了させる制御が行われる。
ちなみに、膨張処理Aを実行しないパターン画像P(図6(a))に基づいて膨張処理Bを実行した場合には、図6(d)のようにパターン画像Pを越えて穴位置画像HEeが膨張してしまうことが生じる。このような越境膨張は、パターン検査において欠陥と認識されてしまい問題となる。
【0030】
次に、検査用画像生成部24は、膨張処理Bによって膨張させた膨張穴位置画像HE1が、実際のパターン画像の穴部HPに一致するように、所定の量だけさらに膨張させる処理(膨張処理C)を行う(ステップS143)。この膨張処理Cは、上記膨張処理Aにおいてパターン画像を仮想的に膨張させた穴部側の画素部分(図6(e)の穴部内の空白部分HS)を、最終的に膨張穴位置画像HE2によって埋めるために、膨張画素Ec分だけ膨張させる処理が行われる(図6(f))。
ここで、所定の量とは、膨張処理Aにおける所定の量に対応して次のように決定される。膨張処理Aによって行われた膨張が4連結膨張で終了している場合、膨張処理Cでは、膨張処理Aと同一の膨張を行う。膨張処理Aによって行われた膨張が8連結膨張で終了している場合、膨張処理Cでは、膨張処理Aと同一の膨張を行った後さらに4連結膨張を1回行う。
なお、上述した理由で膨張処理Aを行わなかった場合には、この膨張処理Cを行う必要はない。
【0031】
上記膨張処理A〜Cによって、実際のパターン画像Pの穴部HPに一致する膨張穴位置画像HE2が生成されると、検査用画像生成部24は、この膨張穴位置画像HE2とパターン画像Pとを合成させて検査用の画像(すなわち、図6(f)の画像)を生成すると共に、必要であれば検査禁止情報を生成する(ステップS144)。ここで、検査禁止情報とは、パターン画像内にランドパターンが途切れている部分がある等の不具合が生じている場合に、この部分を検査対象外とするように指示を与える情報である。この検査禁止情報は、該当する穴位置画像部分を予め設定された量だけ膨張(膨張処理D)させた画像HE3に基づいて生成される。
なお、上述した各処理を機能ブロックで構成させると、図7のように表せる。図7において、位相調整は、パターン画像Pと膨張処理された膨張穴位置画像HE2との合成に際し、各膨張処理によって発生した遅延時間を調整するために用いられる。なお、図7中のP’は、位相調整後のパターン画像を示す。
【0032】
また、上述した4連結膨張及び8連結膨張を実行する各膨張処理A〜Dに用いられる具体的な構成例を、図8に示す。図8(a)は、膨張処理A,C及びDの構成例であり、図8(b)は、膨張処理Bの構成例である。この構成では、フリップフロップ(FF)及びラインメモリを用いて、入力画像から膨張処理の対象となる画素(B1)に隣接する8つの画素値(図9を参照)が抽出される。そして、膨張処理A,C及びDでは、各画素値を連結数に応じて下記の論理処理を行い、膨張によって得られる画像PE,HE2,HE3を出力する。なお、下記の論理式及び図8中、EXは、膨張させる/膨張させないの指示を与える入力であり、多段接続の場合においてどれだけ膨張させるかを制御するのに利用される。また、動作に必要なクロックは、省略している。
4連結膨張論理:Y=B1or(EXand(A1orB0orB2orC1))
8連結膨張論理:Y=B1or(EXand(A0orA1orA2orB0orB2orC0orC1orC2))
一方、膨張処理Bでは、膨張を停止させる判断となる膨張禁止用画像(=膨張処理Aを終えたパターン画像PE、膨張処理Aを行わない場合はP)を加えており、膨張させようとする画素が膨張禁止用画像(PE又はP、以下の論理式ではDPと表す)に該当する場合には、膨張させないようにしている。
4連結膨張論理:Y=B1or(notDPandEXand(A1orB0orB2orC1))
8連結膨張論理:Y=B1or(notDPandEXand(A0orA1orA2orB0orB2orC0orC1orC2))
これらの構成を縦列に多段接続させることにより、複数段の膨張処理を実現することができる。
【0033】
再び図2を参照して、検査部25は、検査用画像生成部24において生成された検査用画像を用いて、パターンマッチング法やデザインルールチェック法等に基づく所望の検査を実行し(ステップS150)、出力部26を介して検査の結果を出力する(ステップS160)。
【0034】
以上のように、本発明の一実施形態に係るパターン検査装置及び方法によれば、反射光から得られるパターン画像と所定の穴位置画像とを用い、穴位置画像をパターン画像の穴部に相当する部分に埋め込んだ検査用画像を生成して、パターン検査を行う。これにより、貫通孔の穴埋めや不貫通孔の存在等が原因で、透過光画像を利用できないプリント基板であっても、プリント基板に形成されたパターン上の欠陥の有無を正確に検査できる。
また、反射光だけを利用するので、プリント基板の下面全面を真空吸着力によって保持する吸着台を採用することが可能となり、プリント基板のたわみによって欠陥検査が不正確となることを回避することできる。なお、プリント基板の下面全面を静電吸着力によって保持する吸着台を採用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るパターン検査装置の構成を示す図である。
【図2】本発明の一実施形態に係るパターン検査装置で行われる検査方法の処理手順を示すフローチャートである。
【図3】パターン画像Pの一部分を例示した図である。
【図4】穴位置画像Hの一部分を例示した図である。
【図5】図2に示すステップS140のさらに詳細な処理手順を示すフローチャートである。
【図6】パターン画像及び穴位置画像に施される膨張処理を説明するための図である。
【図7】図5に示す各処理を機能ブロックで表した図である。
【図8】膨張処理A〜Dを実行するための具体的な構成を示すブロック図である。
【図9】4連結膨張及び8連結膨張の概念を説明する図である。
【符号の説明】
1…撮像部
2…検査部
10…プリント基板
11…吸着台
12…照明部
13…撮像カメラ
21…2値化処理部
22…パターン画像記憶部
23…穴位置画像記憶部
24…検査用画像生成部
25…検査部
26…出力部
Ea,Eb,Ec…膨張画素
P…パターン画像
H…穴位置画像
HE1,HE2…膨張穴位置画像
HP…穴部
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a pattern inspection apparatus and method for optically inspecting a wiring pattern such as a printed circuit board, and more specifically, highly accurate pattern inspection by recognizing the position of a hole formed in a printed circuit board. The present invention relates to an apparatus and a method for enabling
[0002]
[Prior art]
As is well known, on the surface of a printed board on which electronic components and the like are mounted, conductor wiring necessary for constituting a predetermined circuit is formed by a pattern. Further, a hole (hereinafter referred to as a through hole) penetrating a printed board such as a through hole into which a lead of an electronic component is inserted is formed in the land portion of the pattern.
[0003]
Conventionally, the inspection of whether or not there is a defect in the pattern of a printed circuit board in which the above-described through holes are formed is performed, for example, as follows.
First, the printed circuit board is placed on a transparent glass plate with the surface on which the pattern to be inspected is formed facing upward. The mounted printed circuit board is fixed to the glass plate by the end portion being clamped by a clamp mechanism. Next, illumination light is irradiated on the upper surface of the printed circuit board from a light source for epi-illumination arranged above the printed circuit board on the glass plate. Moreover, illumination light is irradiated to the lower surface of a printed circuit board from the light source for transmitted illumination arrange | positioned under the glass plate through a glass plate.
An imaging camera is arranged above the printed circuit board placed on the glass plate. In this imaging camera, the reflected light image based on the light reflected from the upper surface of the printed circuit board and the light transmitted through the through hole of the printed circuit board among the transmitted light from the transmitted light source. Based on the transmitted light image. Next, an image in which the hole is embedded is generated by synthesizing the transmitted light image at a position corresponding to the through hole in the captured reflected light image. Then, processing based on a pattern matching method, a design rule check method, or the like is performed on the hole-filled image, and a pattern defect is detected.
[0004]
As described above, by performing the hole filling process of the image, it is possible to detect the defect more accurately than detecting the defect based only on the reflected light image. That is, when only the reflected light image is processed, the shape of the reflected light image (the size of the image of the through-hole portion) changes depending on the threshold value of the binarization process for obtaining the reflected light image. Due to such a change in shape, if the threshold value for the binarization process is not set correctly, a problem that the defect cannot be detected without the defect portion appearing on the reflected light image occurs. In order to solve this problem, the above-described hole filling process is performed to compensate for the instability caused by the binarization process.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the following cases, there is a problem that the inspection using the transmitted light image based on the transmitted light described above cannot be executed.
First, in a certain manufacturing process, a printed circuit board in which a through hole is filled with a specific substance such as a resin may be used. When inspecting such a board, illumination light from a light source for transmitted illumination is emitted. It is blocked by resin or the like and a transmitted light image cannot be obtained.
Second, in a multilayer printed circuit board, there are cases where holes such as via holes (hereinafter referred to as non-through holes) having a depth of several layers from the surface are formed without penetrating the printed circuit board. is there. For such a non-through hole, it is impossible to obtain a transmitted light image corresponding to that portion.
Thirdly, as described above, in the configuration in which the end portion is clamped and the printed board is fixed on the glass plate, the central portion of the fixed printed board may bend. This deflection causes a problem that the defect inspection cannot be performed accurately. Therefore, in order to solve this problem, a configuration that employs a suction table that holds the entire lower surface of the printed circuit board with a vacuum suction force instead of the clamp mechanism is conceivable. However, the suction table is made of metal and is opaque because of the structure that it is necessary to form a large number of suction holes on the mounting surface of the suction table and to form an exhaust passage for the sucked air inside. As a result, illumination light cannot be irradiated on the lower surface of the printed circuit board, and a transmitted light image cannot be obtained.
[0006]
Therefore, in view of the above points, the object of the present invention is formed on a printed circuit board even when a transmitted light image cannot be used due to the filling of through holes or the presence of non-through holes. It is an object of the present invention to provide a pattern inspection apparatus and method capable of accurately inspecting the presence or absence of defects on a pattern.
[0007]
[Means for Solving the Problems and Effects of the Invention]
1st invention is a pattern inspection apparatus which inspects the pattern formed on the to-be-inspected object,
An illumination unit that irradiates illumination light onto the surface to be inspected;
An imaging unit that captures a reflected light image based on light reflected by the surface to be inspected by illumination light;
A binarization processing unit that binarizes the reflected light image and generates a pattern image corresponding to the pattern formed on the inspection object;
Predetermined hole position images representing the positions of the hole portions in the design pattern are arranged in the area corresponding to the hole portions of the pattern image, and the hole position images are expanded until reaching the pattern image surrounding the hole position image. An expansion processing unit for generating an expansion hole position image;
An inspection unit that inspects the pattern based on the inspection image obtained by combining the pattern image and the expansion hole position image is provided.
[0008]
As described above, according to the first invention, the pattern image obtained from the reflected light from the inspection object and the predetermined hole position image are used, and the hole position image is embedded in the portion corresponding to the hole of the pattern image. An inspection image is generated, and pattern inspection is performed using this image. Thereby, even when the transmitted light image cannot be used due to the filling of the through holes or the presence of the non-through holes, it is possible to accurately inspect for the presence or absence of defects on the pattern formed on the printed circuit board.
[0009]
The second invention is an invention subordinate to the first invention,
The predetermined hole position image is an image smaller than an actual hole size in the design pattern.
[0010]
As described above, according to the second invention, since the size of the hole position image is set smaller than the hole diameter of the design value, it is possible to process even if a certain amount of deviation occurs in the captured pattern image. It becomes.
[0011]
A third invention is an invention subordinate to the first and second inventions,
It further comprises a suction stand for sucking and holding the inspection object from the side opposite to the inspection surface of the inspection object.
[0012]
As described above, according to the third invention, since only reflected light is used, it is possible to employ a suction stand that holds the entire surface of the printed board opposite to the surface to be inspected by suction force. It can be avoided that the defect inspection becomes inaccurate due to the deflection.
[0013]
The fourth invention is an invention subordinate to the first to third inventions,
The expansion processing unit expands the pattern image by a predetermined amount, expands the arranged hole position image until reaching the expanded pattern image surrounding the pattern image, and further expands the expanded hole position image. The expansion hole position image is generated by being expanded by a predetermined amount.
[0014]
As described above, according to the fourth invention, after the pattern image is expanded by a predetermined amount in advance, the hole position image is expanded by expanding the hole position image. The phenomenon of expanding beyond the pattern image can be avoided.
[0015]
A fifth invention is a pattern inspection method for inspecting a pattern formed on an object to be inspected,
Illuminating illumination light onto the surface to be inspected of the inspection object, and imaging a reflected light image based on the light reflected by the surface of the inspection object;
Binarizing the reflected light image to generate a pattern image corresponding to the pattern formed on the inspection object;
Placing each predetermined hole position image representing the position of the hole in the design pattern in an area corresponding to the hole in the pattern image;
Generating an expanded hole position image in which each of the hole position images is expanded until a pattern image surrounding the hole position image is reached;
And a step of inspecting the pattern based on the inspection image obtained by combining the pattern image and the expanded hole position image.
[0016]
As described above, according to the fifth invention, the pattern image obtained from the reflected light from the object to be inspected and the predetermined hole position image are used, and the hole position image is embedded in the portion corresponding to the hole of the pattern image. An inspection image is generated, and pattern inspection is performed using this image. Thereby, even when the transmitted light image cannot be used due to the filling of the through holes or the presence of the non-through holes, it is possible to accurately inspect for the presence or absence of defects on the pattern formed on the printed circuit board.
[0017]
The sixth invention is an invention subordinate to the fifth invention,
The predetermined hole position image is an image smaller than an actual hole size in the design pattern.
[0018]
As described above, according to the sixth invention, since the size of the hole position image is set smaller than the hole diameter of the design value, it is possible to process even if a certain amount of deviation occurs in the captured pattern image. It becomes.
[0019]
A seventh invention is an invention subordinate to the fifth and sixth inventions,
The step of generating the expansion hole position image includes:
Inflating the pattern image by a predetermined amount;
Expanding each of the arranged hole position images until reaching an expanded pattern image surrounding it;
And expanding the expanded hole position image by a predetermined amount.
[0020]
As described above, according to the seventh invention, after the pattern image is expanded by a predetermined amount in advance, the hole position image is expanded by expanding the hole position image. The phenomenon of expanding beyond the pattern image can be avoided.
[0021]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a pattern inspection apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the pattern inspection apparatus according to the present embodiment includes an imaging unit 1 and an inspection unit 2. The imaging unit 1 includes an adsorption table 11, an illumination unit 12, and an imaging camera 13. The inspection unit 2 includes a binarization processing unit 21, a pattern image storage unit 22, a hole position image storage unit 23, an inspection image generation unit 24, an inspection unit 25, and an output unit 26.
First, the outline | summary of each structure of the imaging part 1 and the test | inspection part 2 is demonstrated below.
[0022]
In the imaging unit 1, the suction table 11 is a table on which the printed board 10 to be processed is placed, and has a function of fixing the placed printed board by a vacuum suction force. The illumination unit 12 is disposed above the placement surface of the suction table 11 and irradiates predetermined illumination light toward the printed circuit board 10 placed on the suction table 11. The imaging camera 13 is disposed above the mounting surface of the suction table 11 and captures a reflected light image based on light reflected from the surface of the printed board 10 (surface 10a to be inspected) by illumination light emitted from the illumination unit 12. To do. The captured reflected light image is output to the binarization processing unit 21 of the inspection unit 2.
In the inspection unit 2, the binarization processing unit 21 binarizes the reflected light image input from the imaging camera 13 on a pixel basis based on a predetermined reference. This binarized reflected light image is stored in the pattern image storage unit 22 as a pattern image. The hole position image storage unit 23 stores in advance a predetermined hole position image representing the position of the hole in the design pattern. The inspection image generation unit 24 uses the pattern image and the hole position image to generate an inspection image in which pixels obtained from the hole position image are embedded in a pixel portion that will correspond to the hole in the pattern image. To do. The inspection unit 25 performs a desired inspection using the inspection image generated by the inspection image generation unit 24. The output unit 26 is a display device such as a display, and outputs the result of the inspection performed by the inspection unit 25.
[0023]
Next, an inspection method performed by the pattern inspection apparatus of the present embodiment will be described with further reference to FIGS. FIG. 2 is a flowchart showing a processing procedure of an inspection method performed by the pattern inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.
First, a printed circuit board to be processed is placed on the suction table 11 (step S110). A number of suction holes (not shown) are provided in the substrate mounting surface of the suction table 11, and by sucking air from these suction holes, the printed board is placed on the suction table 11 by a vacuum suction force. Adhere closely. Thereby, a printed circuit board can be mounted on the suction stand 11 without bending.
[0024]
Next, illumination light is irradiated from the illumination unit 12 toward the printed circuit board placed on the suction table 11, and a reflected light image is captured by light reflected by the printed circuit board in the imaging camera 13 (step S120). ). At this time, the pattern portion, the substrate material portion, and the hole portion (hole portion) have different light reflectivities depending on the material, surface treatment, and the like. It will be different in parts. Generally, since the pattern portion is formed of a conductive metal, the reflected light level of that portion is the highest. Here, the “hole portion” means a portion where a through hole such as a through hole is formed, a portion where a non-through hole such as a via hole is formed, or a through hole or a non-through hole is filled with a resin or the like. Say part.
[0025]
The binarization processing unit 21 inputs a reflected light image captured by the imaging camera 13, binarizes the reflected light image into a value of “0” or “1” in units of pixels based on a predetermined reference, A pattern image is generated (step S130). Here, as described above, when the reflected light level of the pattern portion is the highest in the reflected light image, the reflected light level is such that the pattern portion has the value “1” and the other portions have the value “0”. The threshold value may be set as a predetermined reference. Thereby, the pattern image which specified only the pattern part in the printed circuit board used as processing object can be generated. This pattern image is stored in the pattern image storage unit 22.
FIG. 3 illustrates a part of the pattern image P generated by the binarization process of the reflected light image. In the figure, the pixel value of the shaded portion is “1”.
[0026]
On the other hand, the hole position image storage unit 23 stores in advance a predetermined hole position image H representing the position of the hole in the design pattern. As shown in FIG. 4, the hole position image H has, for each hole portion designed on the printed circuit board, a pixel (a hatched area in the drawing) in a predetermined area smaller than the designed hole diameter. 1 ”and all the pixels in other areas are binary images. It should be noted that the size of the predetermined area set in each hole can be arbitrarily set by taking into account the later-described expansion process.
The hole position image H may be generated from CAD data for creating a design pattern, or a film in which a hole pattern is drawn based on a design value (design pattern) may be scanned in and captured. .
[0027]
Next, the inspection image generation unit 24 uses the pattern image P stored in the pattern image storage unit 22 and the hole position image H stored in the hole position image storage unit 23 as follows. An image is generated (step S140). A more detailed processing procedure of this step S140 is shown in FIG.
Referring to FIG. 5, the inspection image generation unit 24 first performs a process (expansion process A) for expanding the pattern image by a predetermined amount (step S141). This expansion (the same applies to the expansion described below) is performed on a pixel-by-pixel basis, and a 4-connected expansion and / or an 8-connected expansion known in the image processing field is used as the technique. Therefore, the predetermined amount referred to here is expressed by how many times the 4-connected expansion and / or the 8-connected expansion is performed. Note that the 4-connected expansion is a technique for expanding four pixels adjacent to a certain pixel in the vertical and horizontal directions, and the 8-connected expansion is a technique for expanding all eight pixels adjacent to a certain pixel. It is. For example, when the pattern image P and the hole position image H exist in the positional relationship shown in FIG. 6A, the pattern image P is expanded pixel Ea as shown in FIG. Inflates by the amount. In the example of FIG.6 (b), the case where 4 connection expansion is performed once is shown.
[0028]
In the expansion processing A, when there is a portion P1 (upper right portion) where the land pattern of the pattern image is drawn with a width of one pixel as shown in FIG. 6A, the expansion of the hole position image performed in step S142 described later. In the process B, it is performed to prevent the hole position image from expanding beyond a portion corresponding to the hole HP in the pattern image. Therefore, when the land pattern of the pattern image is drawn with a width of 2 pixels or more, such expansion does not occur, and the expansion process A can be omitted.
[0029]
Next, based on the pattern image PE expanded by the expansion process A, the inspection image generation unit 24 performs a process of expanding the hole position image H until reaching the pattern image PE (expansion process B) (step S142). . This expansion process B is performed in order to determine a portion that is considered to be a hole HP obtained from the pattern image PE as the hole HP. For example, by executing the expansion process B on the image shown in FIG. 6B, the hole position image reaches the pattern image, that is, the blank portion (the portion of the value “0” in the pattern image) in FIG. The pixel is expanded by the expansion pixel Eb until it disappears (FIG. 6C). In the expansion process B, control is performed so that the expansion of each pixel constituting the hole position image ends when the pattern image PE is reached.
Incidentally, when the expansion process B is executed based on the pattern image P that does not execute the expansion process A (FIG. 6A), the hole position image HEe exceeds the pattern image P as shown in FIG. It will expand. Such cross-border expansion becomes a problem because it is recognized as a defect in pattern inspection.
[0030]
Next, the inspection image generating unit 24 further expands a predetermined amount (expansion process) so that the expansion hole position image HE1 expanded by the expansion process B matches the hole HP of the actual pattern image. C) is performed (step S143). In this expansion process C, the pixel part (blank part HS in the hole part of FIG. 6E) where the pattern image is virtually expanded in the expansion process A is finally converted into the expansion hole position image HE2. In order to fill in, the process of expanding by the expansion pixel Ec is performed (FIG. 6F).
Here, the predetermined amount is determined as follows corresponding to the predetermined amount in the expansion process A. In the case where the expansion performed by the expansion process A has been completed by four-connection expansion, the expansion process C performs the same expansion as the expansion process A. In the case where the expansion performed by the expansion process A has been completed with eight connected expansions, the expansion process C performs the same expansion as the expansion process A, and then performs four connected expansions once.
If the expansion process A is not performed for the reason described above, the expansion process C need not be performed.
[0031]
When the expansion hole position image HE2 that matches the hole HP of the actual pattern image P is generated by the expansion processes A to C, the inspection image generation unit 24 generates the expansion hole position image HE2 and the pattern image P. Are combined to generate an inspection image (that is, the image shown in FIG. 6F), and if necessary, inspection prohibition information is generated (step S144). Here, the inspection prohibition information is information that gives an instruction to exclude this portion from the inspection target when there is a defect such as a portion where the land pattern is interrupted in the pattern image. The inspection prohibition information is generated based on an image HE3 obtained by expanding the corresponding hole position image portion by a predetermined amount (expansion process D).
In addition, when each process mentioned above is comprised by a functional block, it can represent as FIG. In FIG. 7, the phase adjustment is used to adjust the delay time generated by each expansion process when the pattern image P and the expansion hole position image HE2 subjected to the expansion process are combined. Note that P ′ in FIG. 7 indicates a pattern image after phase adjustment.
[0032]
Moreover, the specific structural example used for each expansion process AD which performs 4 connection expansion mentioned above and 8 connection expansion is shown in FIG. 8A is a configuration example of the expansion processes A, C, and D, and FIG. 8B is a configuration example of the expansion process B. In this configuration, eight pixel values (see FIG. 9) adjacent to the pixel (B1) to be expanded are extracted from the input image using the flip-flop (FF) and the line memory. In the expansion processes A, C, and D, the following logical processing is performed on each pixel value according to the number of connections, and images PE, HE2, and HE3 obtained by expansion are output. Note that EX in the following logical expression and FIG. 8 is an input for giving an instruction to inflate / not inflate, and is used to control how much to inflate in the case of multistage connection. Also, clocks necessary for operation are omitted.
4-connected expansion logic: Y = B1or (EXand (A1orB0orB2orC1))
8-connected expansion logic: Y = B1or (EXand (A0orA1orA2orB0orB2orC0orC1orC2))
On the other hand, in the expansion process B, an expansion prohibition image (= pattern image PE after the expansion process A is finished, P if the expansion process A is not performed) is added, and an attempt is made to expand the expansion process B. In the case where a pixel corresponds to an expansion prohibiting image (PE or P, represented by DP in the following logical expression), the pixel is not expanded.
4-connected expansion logic: Y = B1or (notDPandEXand (A1orB0orB2orC1))
8-connected expansion logic: Y = B1or (notDPandEXand (A0orA1orA2orB0orB2orC0orC1orC2))
A multi-stage expansion process can be realized by connecting these configurations in multiple stages in cascade.
[0033]
Referring to FIG. 2 again, the inspection unit 25 uses the inspection image generated by the inspection image generation unit 24 to execute a desired inspection based on a pattern matching method, a design rule check method, or the like (step S150). ), And outputs the inspection result via the output unit 26 (step S160).
[0034]
As described above, according to the pattern inspection apparatus and method according to one embodiment of the present invention, the pattern image obtained from the reflected light and the predetermined hole position image are used, and the hole position image corresponds to the hole portion of the pattern image. An inspection image embedded in a portion to be generated is generated, and pattern inspection is performed. Thereby, even if it is a printed circuit board which cannot utilize a transmitted light image due to the filling of a through hole or the existence of a non-through hole, it is possible to accurately inspect the presence or absence of a defect on a pattern formed on the printed circuit board.
In addition, since only reflected light is used, it is possible to employ a suction stand that holds the entire lower surface of the printed circuit board with a vacuum suction force, and avoids inaccurate defect inspection due to deflection of the printed circuit board. . An adsorption stand that holds the entire lower surface of the printed circuit board with an electrostatic adsorption force may be employed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a pattern inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a flowchart showing a processing procedure of an inspection method performed by the pattern inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram illustrating a part of a pattern image P;
4 is a diagram illustrating a part of a hole position image H. FIG.
FIG. 5 is a flowchart showing a more detailed processing procedure of step S140 shown in FIG.
FIG. 6 is a diagram for explaining an expansion process performed on a pattern image and a hole position image.
FIG. 7 is a diagram illustrating each process illustrated in FIG. 5 as a functional block.
FIG. 8 is a block diagram showing a specific configuration for executing expansion processing A to D;
FIG. 9 is a diagram illustrating the concept of 4-connected expansion and 8-connected expansion.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Imaging part 2 ... Inspection part 10 ... Printed circuit board 11 ... Suction stand 12 ... Illumination part 13 ... Imaging camera 21 ... Binarization processing part 22 ... Pattern image storage part 23 ... Hole position image storage part 24 ... Image generation for inspection Section 25 ... Inspection section 26 ... Output sections Ea, Eb, Ec ... Expansion pixel P ... Pattern image H ... Hole position image HE1, HE2 ... Expansion hole position image HP ... Hole

Claims (7)

被検査物上に形成されたパターンを検査するパターン検査装置であって、
前記被検査物の被検査面に、照明光を照射する照明部と、
前記照明光が前記被検査面で反射した光に基づく反射光画像を、撮像する撮像部と、
前記反射光画像を2値化処理して、前記被検査物上に形成されたパターンに対応するパターン画像を生成する2値化処理部と、
前記パターン画像の穴部に相当する領域内に、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像をそれぞれ配置し、当該穴位置画像を、それを囲む前記パターン画像に達するまでそれぞれ膨張させた、膨張穴位置画像を生成する膨張処理部と、
前記パターン画像と前記膨張穴位置画像とを合成させた検査用画像に基づいて、パターンを検査する検査部とを備える、パターン検査装置。
A pattern inspection apparatus for inspecting a pattern formed on an inspection object,
An illumination unit that irradiates illumination light onto the surface to be inspected of the inspection object;
An imaging unit that captures a reflected light image based on the light reflected by the surface to be inspected by the illumination light;
A binarization processing unit that binarizes the reflected light image and generates a pattern image corresponding to a pattern formed on the inspection object;
Predetermined hole position images representing the positions of the holes in the design pattern are arranged in the area corresponding to the holes in the pattern image, and the hole position images are expanded until reaching the pattern image surrounding them. An expansion processing unit for generating an expansion hole position image,
A pattern inspection apparatus provided with the test | inspection part which test | inspects a pattern based on the image for a test | inspection which synthesize | combined the said pattern image and the said expansion hole position image.
前記所定の穴位置画像は、設計パターンにおける実際の穴部の大きさよりも小さい画像であることを特徴とする、請求項1に記載のパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the predetermined hole position image is an image smaller than an actual hole size in a design pattern. 前記被検査物の被検査面と反対面側から、被検査物を吸着保持する吸着台をさらに備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載のパターン検査装置。The pattern inspection apparatus according to claim 1, further comprising a suction stand for sucking and holding the inspection object from a surface opposite to the inspection surface of the inspection object. 前記膨張処理部は、前記パターン画像を所定の量だけ膨張させた後、配置された前記穴位置画像を、それを囲む前記膨張させたパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させ、当該膨張させた穴位置画像を、さらに所定の量だけ膨張させて膨張穴位置画像を生成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載のパターン検査装置。The expansion processing unit expands the pattern image by a predetermined amount, expands the arranged hole position image until reaching the expanded pattern image surrounding the pattern image, and expands the hole position. The pattern inspection apparatus according to claim 1, wherein the image is further expanded by a predetermined amount to generate an expansion hole position image. 被検査物上に形成されたパターンを検査するパターン検査方法であって、
前記被検査物の検査対象となる被検査面に照明光を照射し、当該照明光が被検査物の表面で反射した光に基づく反射光画像を撮像するステップと、
前記反射光画像を2値化処理して、前記被検査物上に形成されたパターンに対応するパターン画像を生成するステップと、
前記パターン画像の穴部に相当する領域内に、設計パターンにおける穴部の位置を表した所定の穴位置画像をそれぞれ配置するステップと、
前記穴位置画像を、それを囲む前記パターン画像に達するまでそれぞれ膨張させた、膨張穴位置画像を生成するステップと、
前記パターン画像と前記膨張された穴位置画像とを合成させた検査用画像に基づいて、パターンを検査するステップとを備える、パターン検査方法。
A pattern inspection method for inspecting a pattern formed on an inspection object,
Illuminating an inspection surface to be inspected of the inspection object with illumination light, and capturing a reflected light image based on the light reflected by the surface of the inspection object;
Binarizing the reflected light image to generate a pattern image corresponding to a pattern formed on the inspection object;
Placing each predetermined hole position image representing the position of the hole in the design pattern in an area corresponding to the hole in the pattern image;
Generating expanded hole position images, each expanded until the hole position image reaches the pattern image surrounding the hole position image;
A pattern inspection method comprising: inspecting a pattern based on an inspection image obtained by combining the pattern image and the expanded hole position image.
前記所定の穴位置画像は、設計パターンにおける実際の穴部の大きさよりも小さい画像であることを特徴とする、請求項5に記載のパターン検査方法。The pattern inspection method according to claim 5, wherein the predetermined hole position image is an image smaller than an actual hole size in a design pattern. 前記膨張穴位置画像を生成するステップは、
前記パターン画像を所定の量だけ膨張させるステップと、
配置された前記穴位置画像を、それを囲む前記膨張させたパターン画像に達するまでそれぞれ膨張させるステップと、
前記膨張させた穴位置画像を、さらに所定の量だけ膨張させるステップとを含むことを特徴とする、請求項5又は6に記載のパターン検査方法。
The step of generating the expansion hole position image includes:
Inflating the pattern image by a predetermined amount;
Expanding each of the arranged hole position images until reaching the expanded pattern image surrounding it;
The pattern inspection method according to claim 5, further comprising a step of expanding the expanded hole position image by a predetermined amount.
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