JP3699919B2 - Optical integrated circuit - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光集積回路及び光伝搬装置に関する。特に本発明は、光導波路を狭い間隔で配置できる光集積回路及び光伝搬装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
誘電体基板に形成された光導波路を伝搬した光を検出する従来の光集積回路として、光導波路の長手方向に対して、フォトダイオードの受光面を垂直に配置することにより、光導波路の端部から放出された光を受光する光集積回路がある。
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、光集積回路において、光導波路を狭い間隔で配置するという課題を解決する。
【0003】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる光集積回路及び光伝搬装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0004】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第1の形態によると、光を検出する光集積回路であって、第1の誘電体基板に形成された、前記光が伝搬する第1及び第2の光導波路と、第2の誘電体基板に、前記第1の光導波路と前記光を受け渡し可能に形成された第3の光導波路と、前記第2の誘電体基板上に、前記第2の光導波路と前記光を受け渡し可能に設けられた光ファイバと、前記第3の光導波路を伝搬する前記光の伝搬方向を、前記第2の誘電体基板の厚さ方向に変化させる光路変換部と、前記光路変換部により伝搬方向が変化した前記光を受光し、電気信号を生成する受光部とを備えたことを特徴とする光集積回路を提供する。
【0005】
前記光路変換部は、前記第3の光導波路の先端面であることが望ましい。また、前記第3の光導波路は、前記第2の誘電体基板に埋設されており、前記光路変換部は、前記第2の誘電体基板に形成された切り込みであってよい。
【0006】
前記光ファイバは、前記切り込みと交叉して設けられることが好ましく、更に好ましくは、切り込みが第3の光導波路に垂直に形成される。また、前記第2の誘電体基板は、前記切り込みと直交して形成された、前記光ファイバを収容する収容溝を有することが好ましい。この場合、前記光ファイバは、前記収容溝に接着されてよい。
【0007】
前記光ファイバは、前記第3の光導波路に対して略平行に設けられてよい。また、前記第2の誘電体基板は、前記第1の誘電体基板と同一の材料により形成されてもよい。
【0008】
前記光路変換部は、前記光の伝搬方向を、前記誘電体基板から離れる方向に変化させてよい。この場合、前記受光部は、前記第2の誘電体基板における前記第3の光導波路が形成された面に対向して設けられるのが望ましい。
【0009】
また、前記光路変換部は、前記光の伝搬方向を、前記誘電体基板を透過する方向に変化させてもよい。この場合、前記受光部は、前記第2の誘電体基板における前記第3の光導波路が形成された面の裏面に対向して設けられるのが望ましい。
【0010】
本発明の第2の形態によれば、光を伝搬する光伝搬装置であって、第1の誘電体基板に形成された、前記光が伝搬する第1及び第2の光導波路と、第2の誘電体基板に、前記第1の光導波路と前記光を受け渡し可能に形成された第3の光導波路と、前記第2の誘電体基板上に、前記第2の光導波路と前記光を受け渡し可能に設けられた光ファイバと、前記第3の光導波路を伝搬する前記光の伝搬方向を、前記第2の誘電体基板の厚さ方向に変化させる光路変換部とを備えたことを特徴とする光伝搬装置を提供する。
【0011】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【0013】
図1は、本発明の一実施形態に係る光集積回路100を示す。図1(a)〜(d)は、それぞれ光集積回路100の平面図、AA’断面図、BB’断面図、及び底面図を示す。また、図1(e)は、光集積回路100を図1(a)における方向Cから見た図を示す。光集積回路100は、光を伝搬する光伝搬装置101と、光伝搬装置101を伝搬した光を受光する受光装置102とを備える。
【0014】
光伝搬装置101は、第1の誘電体基板72と、第1の誘電体基板72に形成された第1の光導波路70及び第2の光導波路74と、第2の誘電体基板22と、第2の誘電体基板22の形成された第3の光導波路20と、第3の光導波路20を伝搬する光の伝搬方向を第2の誘電体基板22の厚さ方向に変化させる光路変換部の一例である切り込み30とを備える。
【0015】
第1の光導波路70及び第2の光導波路74は、第1の誘電体基板72に埋設されるのが好ましい。また、第3の光導波路20は、第2の誘電体基板22に埋設されるのが好ましい。本例において第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板22は、LiNbO3基板である。また、第1の光導波路70及び第2の光導波路74、並びに第3の光導波路20は、それぞれLiNbO3基板である第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板22に、例えばチタンを熱拡散することにより形成される。
【0016】
第1の光導波路70及び第2の光導波路74は、例えば波長分割多重方式の光通信における光信号等の光を伝搬する。第3の光導波路20は、第1の光導波路70と光を受け渡し可能に、第2の誘電体基板22に形成される。第3の光導波路20は、第1の光導波路70と光軸が略一致するように形成されるのが望ましい。
【0017】
第3の光導波路20は、一端が第2の誘電体基板22の端部において、第1の光導波路70と光を受け渡し可能に形成されており、また、他端の先端面32は第3の光導波路20の長手方向に対して斜めに形成される。本例において第3の光導波路20の先端面32は、図1(b)に示すように、切り込み30の一部であって、第2の誘電体基板22及び第3の光導波路20を、例えばダイシングソーを用いて切削することにより形成される。切り込み30は、第3の光導波路20の長手方向と略垂直な方向の断面がV字形状を有することが望ましい。さらに望ましくは、切り込み30は、第3の光導波路20の先端面32が光を全反射する角度、例えば第3の光導波路20の長手方向に対して約45度の角度を持つように形成される。この場合、切り込み30はV字型のブレードを用いて第2の誘電体基板22及び第3の光導波路20を切削することにより形成されるのが好ましい。また、他の例においては切り込み30は、エッチング等のマイクロマシンや半導体プロセスにより形成されてもよい。
【0018】
光ファイバ78は、図1(e)に示すように光を伝搬するコア86と、当該を囲んで設けられ、コア86を伝搬する光を反射するクラッド88とを有する。光ファイバ78は、第2の光導波路74と光を受け渡し可能に、第2の誘電体基板22に設けられる。具体的には、図1(c)に示すように、光ファイバ78の断面の中心が、第1の誘電体基板72に形成された第2の光導波路74の断面の中心と略一致するように、光ファイバ78は第2の誘電体基板22に設けられるのが好ましい。
【0019】
本例において第2の誘電体基板22は、光ファイバ78を収容する収容溝76を有する。収容溝76は、収容される光ファイバ78の光軸が、第1の誘電体基板72に形成された第2の光導波路74の光軸と略一致するような深さに形成される。具体的には、収容溝76は、光ファイバ78の断面の中心が、第2の誘電体基板22の表面近傍に位置するような深さに形成されてよい。例えば第2の光導波路74の断面の中心が、第1の誘電体基板72の表面から約1〜3umの深さに形成されている場合、光ファイバ78の断面の中心は第2の誘電体基板22の表面から当該深さと略一致するように、収容溝76を所定の深さに形成する。
【0020】
収容溝76は、例えばダイシングソーや精密研削装置等の精密機械加工により形成される。また、本例において収容溝76は、図1(e)に示すように、断面がV字形状に形成されており、V字型のブレードを用いて第2の誘電体基板22を切削することにより形成される。また、他の例においては収容溝76は、エッチング等のマイクロマシンや半導体プロセスにより形成されてもよい。また、収容溝76は、図1(c)に示すように、第2の誘電体基板22において切り込み30よりも浅く形成されてよく、また、深く形成されてもよい。
【0021】
収容溝76は、第2の誘電体基板22において、第3の光導波路20と略平行に、第1の誘電体基板72との接触面から、当該接触面と対向する面に渡って形成されるのが好ましい。この場合、光ファイバ78は、当該対向する面において第2の誘電体基板22から突出するように設けられてよい。
【0022】
また、収容溝76は、第2の誘電体基板22において切り込み30と交叉するように形成される。本例において切り込み30は、第3の光導波路20に対して略垂直に形成されており、収容溝76は、切り込み30に対して略垂直に形成される。
【0023】
光ファイバ78は、第2誘電体基板22に対して接着されることにより固定されるのが望ましい。光ファイバ78は、例えば紫外光を照射することにより硬化する紫外線硬化樹脂を接着部材として誘電体基板22に固定されてよい。本例において光ファイバは、図1(e)に示すように、収容溝76において例えば紫外線硬化樹脂等の接着部材87により、第2の誘電体基板22に対して固定される。
【0024】
本実施形態において、一端において光路変換部により伝搬する光の伝搬方向が変化される光導波路に隣接して、光ファイバを設けることにより、光導波路の配置の自由度を大きくすることができる。
【0025】
光伝搬装置101は、第1の誘電体基板72において第1の光導波路70及び第2の光導波路74が形成された面において、第2の誘電体基板22と接合される端部に第1の研磨用部材80を有する。同様に光伝搬装置101は、第2の誘電体基板22において第3の光導波路20が形成された面において、第1の誘電体基板72と接合される端部において第2の研磨用部材82を有する。また、本例において第2の研磨用部材82は、第2の誘電体基板22において収容溝76が形成された領域に対応して、光ファイバ78を挟み込むための溝を有する。
【0026】
第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板22は、接合される面を研磨した後に接合されるのが望ましい。本例においては、まず第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板20に、それぞれ第1の研磨用部材80及び第2の研磨用部材82を接合する。そして、第1の誘電体基板72と第2の誘電体基板とが互いに接合される面、及び第1の研磨用部材80と第2の研磨用部材82とが互いに接合される面が、所定の平坦度を有するように研磨する。この場合、第1の光導波路70及び第2の光導波路74、並びに第3の光導波路20に対して、接合面90がそれぞれ所定の角度を有するように研磨する。
【0027】
本例において第1の研磨用部材80及び第2の研磨用部材82は、第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板22と同一の材料により形成される。そして、第1の誘電体基板72及び第2の誘電体基板22は、接合面90がそれぞれ第1の光導波路70及び第2の光導波路74、並びに第3の光導波路20に対して、約3から7度の角度を有するように研磨される。そして、第1の誘電体基板72及び第2の誘電基板22は、例えば紫外線硬化樹脂等の、光を透過する接合部材を用いて接合される。
【0028】
本実施形態において研磨用部材を用いて誘電体基板を研磨することにより、誘電体基板を接合する接合面と、光導波路が形成された面とが形成する角部を削ることなく接合面を研磨することができる。
【0029】
受光装置102は、光伝搬装置101の切り込み30により伝搬方向が変化した光を受光し、電気信号を生成する受光部の一例であるフォトダイオード10と、生成された電気信号を伝搬する伝送路40とを備える。また、本例において受光装置102は、伝送路40を伝搬した電気信号を増幅する増幅回路基板50を更に備える。
【0030】
フォトダイオード10は、図1(b)及び(d)に示すように、第2の誘電体基板22において第3の光導波路20が設けられる面に対向する面に設けられる。本例においてフォトダイオード10は、半田バンプ60により第2の誘電体基板22に固定される。
【0031】
伝送路40は、フォトダイオード10により生成された電気信号を伝送する。伝送路40は、フォトダイオード10のアノード電極に電気的に接続されたアノード伝送路44と、フォトダイオード10のカソード電極に電気的に接続され、アノード伝送路44を挟んで設けられた複数のカソード伝送路42とを有する。伝送路40は、第2の誘電体基板22を形成する材料の誘電率に応じて、コプレーナ構造やマイクロストリップ構造等により、例えば50Ωといった予め定められたインピーダンスを有するように形成される。増幅用回路基板50は、第2の誘電体基板22において第3の光導波路20に略平行な面に設けられてよく、伝送路40を伝送した電気信号を増幅する増幅回路を有する。
【0032】
光集積回路100の動作について説明する。
第1の光導波路70を伝搬した光は、第1の誘電体基板72と第2の誘電体基板22との接合面90を通過し、第3の光導波路20を伝搬する。そして、第3の光導波路20を伝搬した光は、第3の光導波路20の端部において、光路変換部の一例である切り込み30に形成された第3の光導波路20の先端面32により、第2の誘電体基板22の厚さ方向に光路が変換される。
【0033】
光路が変換された光は、第2の誘電体基板22を透過し、フォトダイオード10に照射される。フォトダイオード10は、照射された光を検出し、照射された光の強度等に基づく電気信号を生成する。そして伝送路40は、当該電気信号を伝送し、増幅用回路基板50に電気信号を供給する。増幅用回路基板50は、電気信号を増幅して、他の外部装置等に増幅された電気信号を供給する。
【0034】
図2は、光集積回路100の他の例を示す。光集積回路100は、第1の誘電体基板72の一端において接合された第3の誘電体基板94と、第3の誘電体基板94に形成された第4の光導波路92と、第4の光導波路92を伝搬する光を発生する発光部の一例である発光素子11と、発光素子11において発生した光を第4の光導波路92に案内する光路変換部の一例である切り込み31及び先端面33とを更に備える。第3の誘電体基板94は、第2の誘電体基板22と同様に、接合面91を介して第1の誘電体基板72と接合されてよい。
【0035】
切り込み31は第3の誘電体基板94に形成される。また、第4の光導波路92は、第1の光導波路70と光を受け渡し可能に形成される。つまり、第4の光導波路92は、第1の光導波路70に対して、第3の光導波路20と同様に形成されてよい。また、光集積回路100は、第3の誘電体基板94に設けられた光ファイバを更に備えてもよい。この場合、当該光ファイバは、第2の誘電体基板22に設けられた光ファイバ78と同様に、第3の誘電体基板94に設けられてよい。
【0036】
発光素子11は、発した光が第3の誘電体基板94の厚さ方向に進行するように配置される。本例において発光素子11は、第3の誘電体基板94において第4の光導波路92が形成された面の裏面に対向して配置される。具体的には、発光素子11は、発した光が第3の誘電体基板94を透過して、光路変換部の一例である先端面33に照射されるように、半田ボール60を介して第3の誘電体基板94に固定される。
【0037】
また、発光素子11は、面型発光素子であってもよい。この場合、光集積回路100は、発光素子11が発した光を集束するレンズを、発光素子11と先端面33との間に備えてもよい。
【0038】
図3は、光集積回路100の更に他の例における、切り込み30の近傍の拡大図を示す。本例においてフォトダイオード10は、第2の誘電体基板22において、第3の光導波路20が形成された光導波路形成面に対向して設けられる。また、フォトダイオード10は、フォトダイオード10に設けられた接合用パッド12と、第2の誘電体基板22に設けられた接合用パッド24と、接合用パッド12及び24の間に挟んで設けられた半田ボール60とにより第2の誘電体基板22に固定される。
【0039】
接合用パッド12及び24は、例えばチタンやクロムと金との積層膜である。第2の誘電体基板24において接合用パッド24は、第3の光導波路20が形成された領域以外の領域に設けられるのが望ましい。
【0040】
本例において光路変換部の一例である先端面32は、第3の光導波路20を伝搬した光が、第2の誘電体基板22の厚さ方向であって、第2の誘電体基板22から離れる方向に光路を変換する。先端面32を形成する切り込み30は、第2の誘電体基板22及び第3の光導波路20が庇形状を有するように形成されるのが好ましい。また、光集積回路100は、第2の誘電体基板22における第3の光導波路20が形成された面において、先端面32近傍を覆うように設けられた反射防止膜34を備えてもよい。反射防止膜34は、光が第3の光導波路20から外部で放射されるときに、屈折率の不整合により第3の光導波路20の表面において反射することを防止する反射防止手段の一例である。
【0041】
第3の光導波路20を伝搬した光は、反射ミラーとして機能する先端面32において反射する。本例において先端面32は、第2の誘電体基板22において第3光導波路20が形成された光導波路形成面に対して約45度に形成されており、先端面32で反射した光は、光導波路形成面に対して約90度の角度で光路が変更される。そして反射防止膜34を通過した光が、フォトダイオード10の受光面に照射されることにより、照射された光が有する情報を電気信号に変換することができる。
【0042】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることができる。そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0043】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば光導波路を狭い間隔で配置することができる光集積回路及び光伝搬装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る光集積回路100を示す。
【図2】 光集積回路100の他の例を示す。
【図3】 光集積回路100の他の例における、切り込み30の近傍の拡大図を示す。
【符号の説明】
10・・・フォトダイオード、11・・・発光素子、12・・・接合用パッド、20・・・第3の光導波路、22・・・第2の誘電体基板、24・・・接合用パッド、30、31・・・切り込み、32、33・・・先端面、34・・・反射防止膜、40・・・伝送路、42・・・カソード伝送路、44・・・アノード伝送路、50・・・増幅回路基板、60・・・半田ボール、70・・・第1の光導波路、72・・・第1の誘電体基板、74・・・第2の光導波路、76・・・収容溝、78・・・光ファイバ、80・・・第1の研磨用部材、82・・・第2の研磨用部材、86・・・コア、87・・・接着部材、88・・・クラッド、90、91・・・接合面、92・・・第4の光導波路、94・・・第3の誘電体基板、100・・・光集積回路、101・・・光伝搬装置、102・・・受光装置
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical integrated circuit and an optical propagation device. In particular, the present invention relates to an optical integrated circuit and an optical propagation device that can arrange optical waveguides at a narrow interval.
[0002]
[Prior art]
As a conventional optical integrated circuit that detects light propagating through an optical waveguide formed on a dielectric substrate, the end of the optical waveguide is arranged by arranging the light receiving surface of the photodiode perpendicular to the longitudinal direction of the optical waveguide. There is an optical integrated circuit that receives light emitted from a light source.
[Problems to be solved by the invention]
The present invention solves the problem of arranging optical waveguides at narrow intervals in an optical integrated circuit.
[0003]
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical integrated circuit and an optical propagation device that can solve the above-described problems. This object is achieved by a combination of features described in the independent claims. The dependent claims define further advantageous specific examples of the present invention.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
In other words, according to the first aspect of the present invention, there is provided an optical integrated circuit for detecting light, the first and second optical waveguides for propagating the light formed on the first dielectric substrate, The second optical waveguide and the third optical waveguide formed so as to be able to deliver the light to and from the first optical waveguide; and the second optical waveguide and the light on the second dielectric substrate. An optical fiber provided so as to be able to deliver, an optical path conversion unit that changes a propagation direction of the light propagating through the third optical waveguide in a thickness direction of the second dielectric substrate, and an optical path conversion unit An optical integrated circuit comprising: a light receiving unit that receives the light whose propagation direction has changed and generates an electrical signal.
[0005]
It is desirable that the optical path conversion unit is a tip surface of the third optical waveguide. The third optical waveguide may be embedded in the second dielectric substrate, and the optical path changing unit may be a notch formed in the second dielectric substrate.
[0006]
The optical fiber is preferably provided so as to cross the cut, and more preferably, the cut is formed perpendicular to the third optical waveguide. Moreover, it is preferable that the second dielectric substrate has an accommodation groove that is formed orthogonal to the notch and that accommodates the optical fiber. In this case, the optical fiber may be bonded to the receiving groove.
[0007]
The optical fiber may be provided substantially parallel to the third optical waveguide. The second dielectric substrate may be formed of the same material as the first dielectric substrate.
[0008]
The optical path changing unit may change the propagation direction of the light in a direction away from the dielectric substrate. In this case, it is preferable that the light receiving portion is provided to face a surface of the second dielectric substrate on which the third optical waveguide is formed.
[0009]
The optical path changing unit may change the propagation direction of the light to a direction that transmits the dielectric substrate. In this case, it is preferable that the light receiving portion is provided to face the back surface of the surface on which the third optical waveguide is formed in the second dielectric substrate.
[0010]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a light propagation device for propagating light, the first and second optical waveguides for propagating the light, formed on a first dielectric substrate, and second The first optical waveguide and the third optical waveguide formed so as to be able to deliver the light to the dielectric substrate, and the second optical waveguide and the light are delivered to the second dielectric substrate. An optical fiber provided in a possible manner, and an optical path changing unit that changes a propagation direction of the light propagating through the third optical waveguide in a thickness direction of the second dielectric substrate, An optical propagation device is provided.
[0011]
The above summary of the invention does not enumerate all necessary features of the present invention, and sub-combinations of these feature groups can also be the invention.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention. However, the following embodiments do not limit the claimed invention, and all combinations of features described in the embodiments are the solution of the invention. It is not always essential to the means.
[0013]
FIG. 1 shows an optical integrated circuit 100 according to an embodiment of the present invention. 1A to 1D are a plan view, an AA ′ cross-sectional view, a BB ′ cross-sectional view, and a bottom view of the optical integrated circuit 100, respectively. FIG. 1E shows the optical integrated circuit 100 viewed from the direction C in FIG. The optical integrated circuit 100 includes a light propagation device 101 that propagates light and a light receiving device 102 that receives light propagated through the light propagation device 101.
[0014]
The light propagation device 101 includes a first dielectric substrate 72, a first optical waveguide 70 and a second optical waveguide 74 formed on the first dielectric substrate 72, a second dielectric substrate 22, The third optical waveguide 20 on which the second dielectric substrate 22 is formed, and an optical path conversion unit that changes the propagation direction of light propagating through the third optical waveguide 20 in the thickness direction of the second dielectric substrate 22 And an incision 30 as an example.
[0015]
The first optical waveguide 70 and the second optical waveguide 74 are preferably embedded in the first dielectric substrate 72. The third optical waveguide 20 is preferably embedded in the second dielectric substrate 22. In this example, the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 are LiNbO 3 substrates. In addition, the first optical waveguide 70, the second optical waveguide 74, and the third optical waveguide 20 are made of, for example, titanium on the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 which are LiNbO 3 substrates, respectively. It is formed by thermal diffusion.
[0016]
The first optical waveguide 70 and the second optical waveguide 74 propagate light such as an optical signal in wavelength division multiplexing optical communication, for example. The third optical waveguide 20 is formed on the second dielectric substrate 22 so as to be able to exchange light with the first optical waveguide 70. The third optical waveguide 20 is desirably formed so that the optical axis of the first optical waveguide 70 substantially coincides.
[0017]
The third optical waveguide 20 is formed so that one end can pass light to the first optical waveguide 70 at the end of the second dielectric substrate 22, and the tip surface 32 at the other end is the third end surface 32. The optical waveguide 20 is formed obliquely with respect to the longitudinal direction. In this example, the tip surface 32 of the third optical waveguide 20 is a part of the notch 30 as shown in FIG. 1B, and the second dielectric substrate 22 and the third optical waveguide 20 are For example, it is formed by cutting using a dicing saw. It is desirable that the cut 30 has a V-shaped cross section in a direction substantially perpendicular to the longitudinal direction of the third optical waveguide 20. More preferably, the notch 30 is formed so that the distal end surface 32 of the third optical waveguide 20 totally reflects light, for example, an angle of about 45 degrees with respect to the longitudinal direction of the third optical waveguide 20. The In this case, the notch 30 is preferably formed by cutting the second dielectric substrate 22 and the third optical waveguide 20 using a V-shaped blade. In another example, the cut 30 may be formed by a micromachine such as etching or a semiconductor process.
[0018]
As shown in FIG. 1E, the optical fiber 78 includes a core 86 that propagates light, and a clad 88 that surrounds the core 86 and reflects light propagating through the core 86. The optical fiber 78 is provided on the second dielectric substrate 22 so as to be able to exchange light with the second optical waveguide 74. Specifically, as shown in FIG. 1C, the center of the cross section of the optical fiber 78 is substantially coincident with the center of the cross section of the second optical waveguide 74 formed on the first dielectric substrate 72. In addition, the optical fiber 78 is preferably provided on the second dielectric substrate 22.
[0019]
In the present example, the second dielectric substrate 22 has an accommodation groove 76 for accommodating the optical fiber 78. The accommodation groove 76 is formed to a depth such that the optical axis of the optical fiber 78 to be accommodated substantially coincides with the optical axis of the second optical waveguide 74 formed on the first dielectric substrate 72. Specifically, the accommodation groove 76 may be formed to a depth such that the center of the cross section of the optical fiber 78 is located near the surface of the second dielectric substrate 22. For example, when the center of the cross section of the second optical waveguide 74 is formed at a depth of about 1 to 3 μm from the surface of the first dielectric substrate 72, the center of the cross section of the optical fiber 78 is the second dielectric. The accommodation groove 76 is formed at a predetermined depth so as to substantially coincide with the depth from the surface of the substrate 22.
[0020]
The housing groove 76 is formed by precision machining such as a dicing saw or a precision grinding apparatus. Further, in this example, as shown in FIG. 1E, the accommodation groove 76 has a V-shaped cross section, and the second dielectric substrate 22 is cut using a V-shaped blade. It is formed by. In another example, the receiving groove 76 may be formed by a micromachine such as etching or a semiconductor process. Further, as shown in FIG. 1C, the accommodation groove 76 may be formed shallower than the notch 30 in the second dielectric substrate 22 or may be formed deeper.
[0021]
The accommodation groove 76 is formed in the second dielectric substrate 22 from the contact surface with the first dielectric substrate 72 to a surface facing the contact surface, substantially parallel to the third optical waveguide 20. It is preferable. In this case, the optical fiber 78 may be provided so as to protrude from the second dielectric substrate 22 on the facing surface.
[0022]
The accommodation groove 76 is formed so as to cross the notch 30 in the second dielectric substrate 22. In this example, the cut 30 is formed substantially perpendicular to the third optical waveguide 20, and the receiving groove 76 is formed substantially perpendicular to the cut 30.
[0023]
The optical fiber 78 is preferably fixed by being bonded to the second dielectric substrate 22. The optical fiber 78 may be fixed to the dielectric substrate 22 using, for example, an ultraviolet curable resin that is cured by irradiation with ultraviolet light as an adhesive member. In this example, as shown in FIG. 1E, the optical fiber is fixed to the second dielectric substrate 22 in the accommodation groove 76 by an adhesive member 87 such as an ultraviolet curable resin.
[0024]
In the present embodiment, by providing an optical fiber adjacent to the optical waveguide in which the propagation direction of the light propagating by the optical path changing unit is changed at one end, the degree of freedom in arranging the optical waveguide can be increased.
[0025]
The light propagation device 101 has a first dielectric substrate 72 on the surface where the first optical waveguide 70 and the second optical waveguide 74 are formed. The polishing member 80 is provided. Similarly, the light propagation device 101 has a second polishing member 82 at the end where the third optical waveguide 20 is formed on the second dielectric substrate 22 at the end where it is joined to the first dielectric substrate 72. Have Further, in this example, the second polishing member 82 has a groove for sandwiching the optical fiber 78 corresponding to the region where the accommodation groove 76 is formed in the second dielectric substrate 22.
[0026]
The first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 are preferably bonded after the surfaces to be bonded are polished. In this example, first, a first polishing member 80 and a second polishing member 82 are bonded to the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 20, respectively. The surface where the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate are bonded to each other, and the surface where the first polishing member 80 and the second polishing member 82 are bonded to each other are predetermined. It grind | polishes so that it may have the flatness of. In this case, the first optical waveguide 70, the second optical waveguide 74, and the third optical waveguide 20 are polished so that the bonding surface 90 has a predetermined angle.
[0027]
In this example, the first polishing member 80 and the second polishing member 82 are formed of the same material as the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22. The first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 have a bonding surface 90 that is approximately equal to the first optical waveguide 70, the second optical waveguide 74, and the third optical waveguide 20, respectively. Polished to have an angle of 3 to 7 degrees. The first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 are bonded using a bonding member that transmits light, such as an ultraviolet curable resin.
[0028]
In this embodiment, by polishing the dielectric substrate using the polishing member, the bonding surface is polished without cutting the corner formed by the bonding surface where the dielectric substrate is bonded and the surface where the optical waveguide is formed. can do.
[0029]
The light receiving device 102 receives the light whose propagation direction has been changed by the notch 30 of the light propagation device 101 and generates an electrical signal. The photodiode 10 is an example of a light receiving unit that generates an electrical signal, and the transmission path 40 that propagates the generated electrical signal. With. In this example, the light receiving device 102 further includes an amplification circuit board 50 that amplifies the electric signal propagated through the transmission path 40.
[0030]
As shown in FIGS. 1B and 1D, the photodiode 10 is provided on a surface of the second dielectric substrate 22 that faces the surface on which the third optical waveguide 20 is provided. In this example, the photodiode 10 is fixed to the second dielectric substrate 22 by solder bumps 60.
[0031]
The transmission path 40 transmits the electrical signal generated by the photodiode 10. The transmission path 40 includes an anode transmission path 44 that is electrically connected to the anode electrode of the photodiode 10 and a plurality of cathodes that are electrically connected to the cathode electrode of the photodiode 10 and sandwiching the anode transmission path 44. A transmission line 42. The transmission line 40 is formed by a coplanar structure, a microstrip structure, or the like so as to have a predetermined impedance of 50Ω, for example, according to the dielectric constant of the material forming the second dielectric substrate 22. The amplifying circuit board 50 may be provided on a surface of the second dielectric substrate 22 substantially parallel to the third optical waveguide 20 and has an amplifying circuit that amplifies the electric signal transmitted through the transmission path 40.
[0032]
The operation of the optical integrated circuit 100 will be described.
The light propagated through the first optical waveguide 70 passes through the bonding surface 90 between the first dielectric substrate 72 and the second dielectric substrate 22 and propagates through the third optical waveguide 20. Then, the light propagated through the third optical waveguide 20 is caused by the distal end surface 32 of the third optical waveguide 20 formed in the notch 30 which is an example of the optical path conversion unit at the end of the third optical waveguide 20. The optical path is converted in the thickness direction of the second dielectric substrate 22.
[0033]
The light whose optical path has been converted passes through the second dielectric substrate 22 and is irradiated to the photodiode 10. The photodiode 10 detects the irradiated light and generates an electrical signal based on the intensity of the irradiated light. The transmission path 40 transmits the electric signal and supplies the electric signal to the amplification circuit board 50. The amplification circuit board 50 amplifies the electrical signal and supplies the amplified electrical signal to another external device or the like.
[0034]
FIG. 2 shows another example of the optical integrated circuit 100. The optical integrated circuit 100 includes a third dielectric substrate 94 bonded at one end of the first dielectric substrate 72, a fourth optical waveguide 92 formed on the third dielectric substrate 94, A light emitting element 11 that is an example of a light emitting unit that generates light propagating through the optical waveguide 92, and a cut 31 and a tip surface that are an example of an optical path changing unit that guides the light generated in the light emitting element 11 to the fourth optical waveguide 92 33 is further provided. The third dielectric substrate 94 may be bonded to the first dielectric substrate 72 via the bonding surface 91 in the same manner as the second dielectric substrate 22.
[0035]
The cut 31 is formed in the third dielectric substrate 94. The fourth optical waveguide 92 is formed so as to be able to exchange light with the first optical waveguide 70. That is, the fourth optical waveguide 92 may be formed in the same manner as the third optical waveguide 20 with respect to the first optical waveguide 70. The optical integrated circuit 100 may further include an optical fiber provided on the third dielectric substrate 94. In this case, the optical fiber may be provided on the third dielectric substrate 94 in the same manner as the optical fiber 78 provided on the second dielectric substrate 22.
[0036]
The light emitting element 11 is arranged so that emitted light travels in the thickness direction of the third dielectric substrate 94. In the present example, the light emitting element 11 is disposed so as to face the back surface of the third dielectric substrate 94 on which the fourth optical waveguide 92 is formed. Specifically, the light-emitting element 11 transmits the third light through the third dielectric substrate 94 and irradiates the front end surface 33 which is an example of the optical path conversion unit via the solder ball 60. 3 is fixed to the dielectric substrate 94.
[0037]
The light emitting element 11 may be a surface light emitting element. In this case, the optical integrated circuit 100 may include a lens that focuses the light emitted from the light emitting element 11 between the light emitting element 11 and the distal end surface 33.
[0038]
FIG. 3 shows an enlarged view of the vicinity of the notch 30 in still another example of the optical integrated circuit 100. In this example, the photodiode 10 is provided on the second dielectric substrate 22 so as to face the optical waveguide forming surface on which the third optical waveguide 20 is formed. The photodiode 10 is provided between the bonding pad 12 provided on the photodiode 10, the bonding pad 24 provided on the second dielectric substrate 22, and the bonding pads 12 and 24. The solder ball 60 is fixed to the second dielectric substrate 22.
[0039]
The bonding pads 12 and 24 are, for example, a laminated film of titanium, chromium, and gold. In the second dielectric substrate 24, the bonding pad 24 is desirably provided in a region other than the region where the third optical waveguide 20 is formed.
[0040]
In this example, the front end surface 32 which is an example of the optical path changing unit is such that the light propagating through the third optical waveguide 20 is in the thickness direction of the second dielectric substrate 22, and from the second dielectric substrate 22. The optical path is changed in the direction of leaving. The notch 30 forming the distal end surface 32 is preferably formed so that the second dielectric substrate 22 and the third optical waveguide 20 have a bowl shape. Further, the optical integrated circuit 100 may include an antireflection film 34 provided so as to cover the vicinity of the front end surface 32 on the surface of the second dielectric substrate 22 on which the third optical waveguide 20 is formed. The antireflection film 34 is an example of an antireflection means for preventing light from being reflected on the surface of the third optical waveguide 20 due to a mismatch in refractive index when light is emitted from the third optical waveguide 20 to the outside. is there.
[0041]
The light that has propagated through the third optical waveguide 20 is reflected by the distal end surface 32 that functions as a reflection mirror. In this example, the front end surface 32 is formed at about 45 degrees with respect to the optical waveguide forming surface on which the third optical waveguide 20 is formed on the second dielectric substrate 22, and the light reflected by the front end surface 32 is The optical path is changed at an angle of about 90 degrees with respect to the optical waveguide forming surface. Then, the light passing through the antireflection film 34 is irradiated onto the light receiving surface of the photodiode 10, whereby information contained in the irradiated light can be converted into an electrical signal.
[0042]
As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. Various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.
[0043]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to provide an optical integrated circuit and an optical propagation device capable of arranging optical waveguides at a narrow interval.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows an optical integrated circuit 100 according to an embodiment of the present invention.
2 shows another example of the optical integrated circuit 100. FIG.
FIG. 3 is an enlarged view of the vicinity of the notch 30 in another example of the optical integrated circuit 100. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Photodiode, 11 ... Light emitting element, 12 ... Bonding pad, 20 ... 3rd optical waveguide, 22 ... 2nd dielectric substrate, 24 ... Bonding pad , 30, 31 ... notches, 32, 33 ... tip surface, 34 ... antireflection film, 40 ... transmission path, 42 ... cathode transmission path, 44 ... anode transmission path, 50 ... Amplification circuit board, 60 ... solder ball, 70 ... first optical waveguide, 72 ... first dielectric substrate, 74 ... second optical waveguide, 76 ... accommodating Groove, 78 ... optical fiber, 80 ... first polishing member, 82 ... second polishing member, 86 ... core, 87 ... adhesive member, 88 ... clad, 90, 91 ... bonding surface, 92 ... fourth optical waveguide, 94 ... third dielectric substrate, 100 ... optical integration Road, 101 ... optical transmitting device, 102 ... receiving device

Claims (13)

第1の誘電体基板に形成された、第1及び第2の光導波路を伝搬する光を受光する光集積回路であって、
第2の誘電体基板の表面に、前記第1の光導波路から前記光を受光可能に形成された第3の光導波路と、
前記第2の誘電体基板の前記表面に形成され、前記第3の光導波路の先端面を一部として含み、前記第3の光導波路を伝搬する前記光の伝搬方向を、前記第2の誘電体基板の厚さ方向に変化させる切り込みと、
前記第2の誘電体基板の前記表面に、前記切り込みと交叉して設けられ、前記第2の光導波路から前記光を受光可能に設けられた光ファイバと、
前記切り込みにより伝搬方向が変化した前記光を受光し、電気信号を生成する受光部と
を備えたことを特徴とする光集積回路。
An optical integrated circuit for receiving light propagating through first and second optical waveguides formed on a first dielectric substrate ,
A third optical waveguide formed on the surface of the second dielectric substrate so as to be able to receive the light from the first optical waveguide;
A direction of propagation of the light propagating through the third optical waveguide, which is formed on the surface of the second dielectric substrate and includes a tip surface of the third optical waveguide as a part, is defined as the second dielectric. Incision to change in the thickness direction of the body substrate,
An optical fiber provided on the surface of the second dielectric substrate so as to cross the notch and capable of receiving the light from the second optical waveguide;
An optical integrated circuit comprising: a light receiving unit that receives the light whose propagation direction has been changed by the cut and generates an electrical signal.
前記第3の光導波路は、前記第2の誘電体基板に埋設されることを特徴とする請求項1に記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 1, wherein the third optical waveguide is embedded in the second dielectric substrate. 前記切り込みが前記第3の光導波路に垂直に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の光集積回路。Optical integrated circuit according to claim 1, wherein the notch is vertically formed in the third optical waveguide. 前記光ファイバは、前記第3の光導波路に対して略平行に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の光集積回路。  The optical integrated circuit according to claim 1, wherein the optical fiber is provided substantially parallel to the third optical waveguide. 前記第2の誘電体基板の前記表面に、前記切り込みと直交して形成された、前記光ファイバを収容する収容溝を有することを特徴とする請求項4に記載の光集積回路。5. The optical integrated circuit according to claim 4 , further comprising an accommodation groove that is formed orthogonal to the notch and accommodates the optical fiber on the surface of the second dielectric substrate. 前記光ファイバは、前記収容溝に接着されたことを特徴とする請求項に記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 5 , wherein the optical fiber is bonded to the receiving groove. 前記第2の誘電体基板は、前記第1の誘電体基板と同一の材料により形成されたことを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 1, wherein the second dielectric substrate is formed of the same material as the first dielectric substrate. 前記切り込みは、前記光の伝搬方向を、前記第2の誘電体基板から離れる方向に変化させることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 1 , wherein the cutting changes a propagation direction of the light in a direction away from the second dielectric substrate . 前記受光部は、前記第2の誘電体基板における前記第3の光導波路が形成された面に対向して設けられたことを特徴とする請求項8に記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 8 , wherein the light receiving portion is provided to face a surface of the second dielectric substrate on which the third optical waveguide is formed. 前記切り込みは、前記光の伝搬方向を、前記第2の誘電体基板を透過する方向に変化させることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の光集積回路。 8. The optical integrated circuit according to claim 1 , wherein the cutting changes a propagation direction of the light to a direction that transmits the second dielectric substrate . 9. 前記受光部は、前記第2の誘電体基板における前記第3の光導波路が形成された面の裏面に対向して設けられたことを特徴とする請求項10に記載の光集積回路。The optical integrated circuit according to claim 10 , wherein the light receiving portion is provided to face a back surface of a surface of the second dielectric substrate on which the third optical waveguide is formed. 第1の誘電体基板に形成された第1及び第2の光導波路に光を受け渡す光集積回路であって、An optical integrated circuit for delivering light to first and second optical waveguides formed on a first dielectric substrate,
第2の誘電体基板の表面に、前記第1の光導波路と前記光を受け渡し可能に形成された第3の光導波路と、  A third optical waveguide formed on the surface of the second dielectric substrate so as to be able to deliver the first optical waveguide and the light;
前記第2の誘電体基板の厚さ方向に進行する光を発する発光部と、  A light emitting unit that emits light traveling in the thickness direction of the second dielectric substrate;
前記第2の誘電体基板の前記表面に形成され、前記第3の光導波路の先端面を一部として含み、前記発光部が発した光を前記第3の光導波路に案内する切り込みと、  A notch that is formed on the surface of the second dielectric substrate, includes a tip surface of the third optical waveguide as a part, and guides the light emitted from the light emitting unit to the third optical waveguide;
前記第2の誘電体基板の表面に、前記切り込みと交叉して設けられ、前記第2の光導波路と前記光を受け渡し可能に設けられた光ファイバと  An optical fiber provided on the surface of the second dielectric substrate so as to cross the cut and provided so as to be able to deliver the light to the second optical waveguide;
を備えたことを特徴とする光集積回路。An optical integrated circuit comprising:
前記第3の光導波路は、前記第2の誘電体基板に埋設されることを特徴とする請求項12に記載の光集積回路The optical integrated circuit according to claim 12 , wherein the third optical waveguide is embedded in the second dielectric substrate.
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