JP3699334B2

JP3699334B2 - Wiring circuit board manufacturing method and photomask

Info

Publication number: JP3699334B2
Application number: JP2000172033A
Authority: JP
Inventors: 健一郎伊藤; 岳史大和
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2000-06-08
Filing date: 2000-06-08
Publication date: 2005-09-28
Anticipated expiration: 2020-06-08
Also published as: JP2001350272A

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a wiring circuit board capable of efficiently forming a terminal by a simple structure and capable of enhancing productivity and to provide a photomask used in the method. SOLUTION: In the method for producing a wiring circuit board by forming a base layer 13 on a supporting substrate 12, forming a conductor layer 14 on the base layer 13, windowing the substrate 12 and the base layer 13 to disclose the surface of the conductor layer 14 and using the disclosed layer 14 as a terminal forming part 36, when the base layer 13 is formed, the thickness of a part 31 of the base layer 13 to be removed so as to disclose the conductor layer 14 is made thinner than that of the other part by exposing the part 31 and the other part with different light exposures using a photomask 32.

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線回路基板の製造方法およびフォトマスク、詳しくは、回路付サスペンション基板の製造に好適に用いられる、配線回路基板の製造方法およびフォトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスクドライブに用いられる回路付サスペンション基板は、例えば、図１１（ｄ）に示すように、ステンレス箔からなる支持基板１と、その支持基板１の上に形成される絶縁体からなるベース層２と、そのベース層２の上に、所定の回路パターンとして形成される導体層３と、その導体層３を被覆する絶縁体からなるカバー層４とを備えている。
【０００３】
また、このような回路付サスペンション基板の端子５は、近年の電子機器の高密度化および小型化に対応すべく、導体層３の片面だけではなく、その両面に形成される、例えば、いわゆるフライングリードとして形成されるものが普及されつつある。
【０００４】
すなわち、この端子５は、図１１（ａ）に示すように、まず、カバー層４における端子５を形成するための開口部７を、フォトレジストなどでカバー層４を形成する時に同時に開口形成して、導体層３の表面を露出させ、次いで、図１１（ｂ）に示すように、支持基板１における端子５を形成するための開口部８を、化学エッチングなどにより形成し、続いて、図１１（ｃ）に示すように、この支持基板１をマスクとして、その開口部８内において露出するベース層２をプラズマエッチングなどにより開口して、ベース層２における端子５を形成するための開口部９を形成し、これによって、導体層３の裏面を露出させ、その後、図１１（ｄ）に示すように、このように露出された導体層３の両面に、金属めっき層６を形成することによって、形成されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、支持基板１およびベース層２をエッチングするには、支持基板１およびベース層２の厚さ分だけの時間がかかるため、例えば、プラズマエッチングによりベース層２をエッチングする場合には、１μｍあたり約１分を要するので、その厚さが約１０μｍであれば、そのエッチングに約１０分もの時間を要し、生産性の向上が図れないという不具合がある。
【０００６】
一方、金属めっき層６を形成する部分において、予めベース層２を形成しないようにすることも考えられるが、ベース層２がない場合には、支持基板１をエッチングする時に導体層３までもがエッチングされてしまうので、現実の実施は困難である。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、その目的とするところは、簡易な構成により、端子を効率よく形成することができ、生産性の向上を図ることができる、配線回路基板の製造方法、および、その配線回路基板の製造方法に用いられるフォトマスクを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、金属支持層の上に絶縁層を形成し、前記絶縁層の上に導体層を形成し、前記金属支持層および前記絶縁層を開口することにより、前記導体層の表面を露出させて、その露出した導体層を、端子を形成するための端子形成部分とする、配線回路基板の製造方法であって、前記絶縁層の形成において、前記絶縁層における前記導体層を露出させるための開口部分の厚さを、前記絶縁層における他の部分の厚さよりも、薄く形成することを特徴としている。
【０００９】
このような方法によると、絶縁層における導体層を露出させる開口部分の厚さが、絶縁層における他の部分の厚さよりも薄く形成されているので、絶縁層を開口する時には、開口部分の厚さが他の部分の厚さよりも薄くなっている分、開口に要する時間を短縮することができる。そのため、導体層を短時間で露出させることができるので、端子を効率よく形成することができ、生産性の向上を図ることができる。
【００１０】
また、この方法では、前記絶縁層における前記開口部分の厚さが、８μｍ以下であることが好ましい。
【００１１】
開口部分の厚さが８μｍ以下であると、例えば、通常の他の部分の厚さが１０μｍである場合には、２μｍ分以上について、開口に要する時間の短縮を図ることができる。
【００１２】
また、この方法では、前記絶縁層を、感光性樹脂の前駆体を硬化させることにより形成し、前記感光性樹脂の前駆体における前記開口部分と前記他の部分とを、異なる露光量で露光させ、これを現像および硬化させることにより、前記絶縁層における前記開口部分の厚さを前記他の部分の厚さよりも薄く形成することが好ましい。
【００１３】
感光性樹脂の前駆体における開口部分と他の部分とを、異なる露光量で露光させて、これを現像および硬化させることにより、絶縁層における開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成すれば、簡易かつ確実に、開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成することができる。
【００１４】
また、この方法では、前記感光性樹脂の前駆体における前記開口部分の照射光の透過率と、前記他の部分の照射光の透過率とが異なるように構成されているフォトマスクを用いて、前記感光性樹脂の前駆体における前記開口部分と前記他の部分とを、異なる露光量で露光させることが好ましい。
【００１５】
このようなフォトマスクを用いて、感光性樹脂の前駆体を露光させれば、簡易かつ確実に、開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成することができる。
【００１６】
この場合には、前記フォトマスクには、前記開口部分に対応する部分において、光透過部分および遮光部分のパターンが形成されており、１つの光透過部分または遮光部分の幅が、６μｍ以下とされていることが好ましい。
【００１７】
１つの光透過部分または遮光部分の幅が６μｍ以下であると、それらの幅が照射光の分解能よりも狭いため、感光性樹脂の前駆体に均一に照射することができ、開口部分の厚さを均一に薄くすることができる。
【００１８】
そして、本発明の配線回路基板の製造方法においては、前記配線回路基板が、回路付サスペンション基板であることが好ましい。
【００１９】
本発明の配線回路基板の製造方法によれば、回路付サスペンション基板を生産効率良く製造することができ、低コストで提供することができる。
【００２０】
また、本発明は、絶縁層を形成するための感光性樹脂の前駆体を露光するために用いられるフォトマスクであって、前記感光性樹脂の前駆体を硬化させた後に開口する開口部分に対応する前記フォトマスクの特定部分に、光透過部分および遮光部分のパターンが、１つの光透過部分または遮光部分の幅が６μｍ以下の格子状の繰り返しパターンで形成されているフォトマスクをも含むものである。
さらに、本発明は、絶縁層を形成するための感光性樹脂の前駆体を露光するために用いられるフォトマスクであって、前記感光性樹脂の前駆体を硬化させた後に開口する開口部分に対応する前記フォトマスクの特定部分に、光透過部分および遮光部分のパターンとして、１つの光透過部分または遮光部分の直径６μｍ以下の円形が千鳥状に配列されているフォトマスクをも含むものである。
【００２１】
このようなフォトマスクを用いれば、１回の露光により確実に開口部分の露光量を調節することができ、しかも、１つの光透過部分または遮光部分の幅または直径が、６μｍ以下であるため、それらの幅が照射光の分解能よりも狭いので、感光性樹脂の前駆体に均一に照射することができ、開口部分の厚さを均一に薄くすることができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の配線回路基板の一実施形態としての回路付サスペンション基板を示す斜視図である。この回路付サスペンション基板１１は、ハードディスクドライブの磁気ヘッド（図示せず）を実装して、その磁気ヘッドを、磁気ヘッドと磁気ディスクとが相対的に走行する時の空気流に抗して、磁気ディスクとの間に微小な間隔を保持しながら支持するものであり、磁気ヘッドと、外部の回路としてのリード・ライト基板とを接続するための配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄが、所定の回路パターンとして一体に形成されている。
【００２３】
図１において、この回路付サスペンション基板１１は、長手方向に延びる金属支持層としての支持基板１２の上に、絶縁体からなる絶縁層としてのベース層１３が形成されており、そのベース層１３の上に、所定の回路パターンとして形成される導体層１４が形成されている。なお、この回路パターンは、互いに所定の間隔を隔てて平行状に配置される複数の配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄとして形成されている。
【００２４】
支持基板１２の先端部には、その支持基板１２を切り込むことによって、磁気ヘッドを実装するためのジンバル１５が形成されている。また、その支持基板１２の先端部には、磁気ヘッドと各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄとを接続するための磁気ヘッド側接続端子１６が形成されるとともに、支持基板１２の後端部には、リード・ライト基板と各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄとを接続するための外部側接続端子１７が形成されている。なお、図１においては、図示されていないが、実際には、導体層１４の上には、絶縁体からなるカバー層１８が被覆されている。
【００２５】
そして、この回路付サスペンション基板１１において、例えば、図２に示すように、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７は、カバー層１８を開口して導体層１４の表面を露出させるとともに、金属基板１２およびベース層１３を開口して導体層３の裏面を露出させることにより、導体層１４の両面を露出させて、この露出した導体層１４の両面に、金属端子層としての金属めっき層１９が形成されることにより、両面が露出した端子、例えば、いわゆるフライングリードとして形成されている。なお、図２においては、後述する下地２０および金属皮膜２２は省略されている。
【００２６】
次に、このような回路付サスペンション基板１１を製造する方法について、図３〜図６を参照して説明する。なお、図３〜図６においては、その右側に、回路付サスペンション基板１１における磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７が形成される部分を、各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄの長手方向に沿う断面として示し、その左側に、回路付サスペンション基板１１の長手方向途中を、各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄの長手方向に直交する方向に沿う断面の一部として示している。
【００２７】
まず、図３に示すように、支持基板１２を用意して、その支持基板１２の上に、所定のパターンでベース層１３を形成する。支持基板１２としては、金属箔または金属薄板を用いることが好ましく、例えば、ステンレス、４２アロイなどが好ましく用いられる。また、その厚さが、１０〜６０μｍ、さらには、１５〜３０μｍ、その幅が、５０〜５００ｍｍ、さらには、１２５〜３００ｍｍのものが好ましく用いられる。
【００２８】
また、ベース層１３を形成するための絶縁体としては、特に制限されず、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂が用いられる。これらのうち、感光性樹脂が好ましく用いられ、感光性ポリイミド樹脂がさらに好ましく用いられる。
【００２９】
そして、例えば、感光性ポリイミド樹脂を用いて、支持基板１２の上に、所定のパターンでベース層１３を形成する場合には、まず、図３（ａ）に示すように、予め用意された支持基板１２上に、図３（ｂ）に示すように、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の溶液を、その支持基板１２の全面に塗工した後、例えば、６０〜１５０℃、好ましくは、８０〜１２０℃で加熱することにより、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜１３ａを形成する。
【００３０】
次に、図３（ｃ）に示すように、その皮膜１３ａを、フォトマスク２４および３２を介して露光させ、必要により露光部分を所定の温度に加熱した後、現像することにより、皮膜１３ａを所定のパターンとする。なお、露光のための照射光は、その露光波長が、３００〜４５０ｎｍ、さらには、３５０〜４２０ｎｍであることが好ましく、その露光積算光量が、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２、さらには、２００〜７００ｍＪ／ｃｍ^２であることが好ましい。また、照射された皮膜１３ａの露光部分は、例えば、１３０℃以上１５０℃未満で加熱することにより、次の現像処理において可溶化（ポジ型）し、また、例えば、１５０℃以上１８０℃以下で加熱することにより、次の現像処理において不溶化（ネガ型）する。また、現像は、例えば、アルカリ現像液などの公知の現像液を用いて、浸漬法やスプレー法などの公知の方法により行なえばよい。なお、この方法においては、ネガ型でパターンを得ることが好ましく、図３においては、ネガ型でパターンニングする態様として示されている。
【００３１】
次いで、図３（ｄ）に示すように、このようにしてパターン化されたポリイミド樹脂の前駆体の皮膜１３ａを、例えば、最終的に２５０℃以上に加熱することによって、硬化（イミド化）させ、これによって、感光性ポリイミドからなるベース層１３を所定のパターンで形成する。
【００３２】
そして、この方法においては、このように、支持基板１２の上に所定のパターンでベース層１３を形成する工程において、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７を形成するために、後の工程において開口され、導体層１４を露出させるための開口部分３１の厚さを、ベース層１３における開口部分３１以外の他の部分の厚さよりも薄く形成する。
【００３３】
ベース層１３における開口部分３１の厚さを、その他の部分の厚さよりも薄く形成するには、例えば、皮膜１３ａにおける開口部分３１の照射光の透過率と、他の部分の照射光の透過率とが異なるように構成されているフォトマスク３２を用いて、このフォトマスク３２を、カバー層１３における開口部分３１の上に配置して、このフォトマスク３２を介して皮膜１３ａを露光させて、皮膜１３ａにおける開口部分３１と他の部分とを、異なる露光量で露光させ、これを現像および硬化させればよい。
【００３４】
このようなフォトマスク３２を用いて、皮膜１３ａにおける開口部分３１と他の部分とを、異なる露光量で露光させることにより、簡易かつ確実に、開口部分３１の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成することができる。
【００３５】
より具体的には、図３（ｃ）および図３（ｄ）に示すように、ネガ型でパターンニングする場合には、皮膜１３ａにおける開口部分３１の照射光の透過率が他の部分の照射光よりも低減するように（好ましくは他の部分の８０％以下に）構成されているフォトマスク３２を用いて、図３（ｃ）に示すように、このフォトマスク３２を、ベース層１３における開口部分３１の上に配置して、フォトマスク３２を介して皮膜１３ａを露光させ、これによって、皮膜１３ａにおける開口部分３１の露光量が、他の部分の露光量よりも低減されるように露光すればよい。そして、これを、上記したように、現像および硬化させれば、図３（ｄ）に示すように、ベース層１３における開口部分３１の厚さを、その他の部分の厚さよりも薄く形成することができる。
【００３６】
フォトマスク３２を、開口部分３１の照射光の透過率と他の部分の照射光の透過率とが異なるように構成するには、例えば、フォトマスク３２における開口部分３１に対応する部分の表面を微細に荒らすことにより、その表面での乱反射成分を増加させて、その部分における透過光成分を減少させるように構成するか、あるいは、例えば、フォトマスク３２における開口部分３１に対応する部分の表面に、照射光を吸収するフィルムを貼着して、その部分における透過光成分を減少させるように構成するか、あるいは、例えば、フォトマスク３２における開口部分３１に対応する部分の表面に、光透過部分および遮光部分のパターンを形成して、その部分における透過光成分を減少させるように構成すればよい。
【００３７】
さらに、例えば、所定の金属薄膜のパターンが形成されているフォトマスク３２において、開口部分３１に対応する部分の表面に、上記の金属薄膜よりも厚みの薄い金属薄膜を形成して、その部分における透過光成分を減少させるように構成してもよい。すなわち、このようなフォトマスク３２は、例えば、開口部分３１に対応する部分には、金属薄膜が形成されていないフォトマスク３２（従来のフォトマスク）を形成し、次いで、その開口部分３１のみが露出するように、そのフォトマスク３２の上にレジストを形成して、上記の金属薄膜より厚みが薄いクロムなどの金属薄膜を蒸着またはめっきにより形成し、その後、レジストを剥離することにより形成することができる。
【００３８】
これらのフォトマスク３２を用いれば、１回の露光により確実に開口部分３１の露光量を調節することができる。
【００３９】
そして、これらのうちでは、開口部分３１に対応する部分の表面に、光透過部分および遮光部分のパターンを形成することが好ましく、より具体的には、例えば、図７〜図１０に示すフォトマスク３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄを用いることが好ましい。
【００４０】
すなわち、図７〜図１０に示すフォトマスク３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄは、厚さ２〜５ｍｍの石英ガラスやソーダガラスなどの板状のガラスからなり、そのガラスにおける開口部分３１に対応する部分に、透過率がその他の部分の透過率よりも低減するような金属薄膜のパターンが形成されている。このような金属薄膜のパターンは、例えば、まず、ガラスの全面に、クロムなどの金属薄膜を蒸着またはめっきした後、その金属薄膜を、レーザーや電子ビームなどを用いてパターン化することにより形成すればよい。このようなフォトマスク３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄを用いれば、簡易な構成で、露光の調整を確実に行なうことができる。
【００４１】
例えば、図７に示すフォトマスク３２ａでは、開口部分３１に対応する部分において、光透過部分および遮光部分のパターンとして、６μｍ以下のピッチ（各光透過部分および各遮光部分の幅）の縞状の繰り返しパターンが形成されており、その開口部分３１の平均透過率が、その他の部分に対して約５０％とされている。
【００４２】
また、例えば、図８に示すフォトマスク３２ｂでは、開口部分３１に対応する部分において、光透過部分および遮光部分のパターンとして、６μｍ以下のピッチ（各光透過部分および各遮光部分の幅）の格子状の繰り返しパターンが形成されており、その開口部分３１の平均透過率が、その他の部分に対して約２５％とされている。
【００４３】
また、例えば、図９に示すフォトマスク３２ｃでは、開口部分３１に対応する部分において、光透過部分および遮光部分のパターンとして、直径６μｍ以下の円形の光透過部分が、それ以外の遮光部分に対して千鳥状に配列されており、その開口部分３１の平均透過率が、その他の部分に対して約２５％とされている。
【００４４】
また、例えば、図１０に示すフォトマスク３２ｄでは、開口部分３１に対応する部分において、光透過部分および遮光部分のパターンとして、直径６μｍ以下の円形の遮光部分が、それ以外の光透過部分に対して千鳥状に配列されており、その開口部分３１の平均透過率が、その他の部分に対して約７０％とされている。
【００４５】
これら図７〜図１０に示すフォトマスク３２ａ、３２ｂ、３２ｃ、３２ｄのなかでは、図７〜図９に示すフォトマスク３２ａ、３２ｂ、３２ｃのように、光透過部分の幅、すなわち、ピッチまたは円の直径が、６μｍ以下とされているものが好ましい。６μｍ以下であると、露光波長が、上記したように３００〜４５０ｎｍの場合には、その照射光が開口部分３１に均一に照射され、開口部分３１の厚さを均一に薄くすることができる。なお、６μｍを超えると、照射光の分解能が上がり、開口部分３１に凹凸が生じて厚さが不均一となり、後の工程において均一にエッチングできない場合がある。光透過部分の幅は、４μｍ以下、とりわけ、３μｍ以下とされているものがさらに好ましい。
【００４６】
また、開口部分３１の平均透過率は、その他の部分に対して５０％以下、さらには、２５％以下とされているものが好ましい。
【００４７】
なお、このようなフォトマスク３２は、上記したパターンニングに用いられるフォトマスク２４と一体として形成されていてもよく、また、別体として形成されていてもよい。
【００４８】
また、ポジ型でパターンニングする場合には、フォトマスク３２を、開口部分３１の照射光の透過率を、その他の部分の照射光の透過率よりも増加させるように構成すればよい。
【００４９】
また、ベース層１３における開口部分３１の厚さを、その他の部分の厚さよりも薄く形成する方法としては、上記したように、開口部分３１の照射光の透過率と他の部分の照射光の透過率とが異なるように構成されているフォトマスク３２を用いる他、例えば、パターンが異なる複数のフォトマスクを用いて、開口部分３１を露光する時と、露光しない時との、少なくとも２回以上の露光を順次行なうようにしてもよい。
【００５０】
さらに、ベース層１３の形成において、感光性樹脂を用いない場合には、例えば、支持基板１２の上に、樹脂を、所定のパターンで、塗工またはドライフィルムとして積層すればよく、この場合において、ベース層１３における開口部分３１の厚さを、ベース層１３におけるその他の部分の厚さよりも薄く形成するには、例えば、樹脂の積層を複数回に分けて行ない、開口部分３１の積層回数を、その他の部分の積層回数よりも少なくなるようにすればよい。
【００５１】
このようにして形成されるベース層１３の厚さは、例えば、２〜３０μｍ、好ましくは、５〜２０μｍであり、通常、１０μｍ程度である。そして、ベース層１３における開口部分３１の厚さは、通常、その他の部分の厚みの８０％以下であり、例えば、８μｍ以下、さらには、５μｍ以下であることが好ましい。開口部分３１の厚さが８μｍ以下であると、上記したように、他の部分の厚さが、通常１０μｍである場合には、２μｍ分について、後の工程において、開口に要する時間の短縮を図ることができる。
【００５２】
なお、ベース層１３における開口部分３１の厚さの下限は、支持基板１２を開口する時に導体層１４のバリヤ層として作用し得る最低限の厚さでよく、例えば、３μｍ、さらには、１μｍ程度でよい。したがって、ベース層１３における開口部分３１の厚さは、例えば、０．１〜８μｍ、さらには、１．０〜５μｍであることが好ましい。
【００５３】
次いで、このベース層１３の上に、所定の回路パターンで導体層１４を形成する。所定の回路パターンとして形成する導体層１４は、導体からなり、そのような導体としては、特に制限されず、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などが用いられ、好ましくは、銅が用いられる。また、所定の回路パターンで導体層１４を形成するには、ベース層１３の表面に、導体層１４を、例えば、サブトラクティブ法、アディティブ法、セミアディティブ法などの公知のパターンニング法によって、所定の回路パターンとして形成すればよい。
【００５４】
サブトラクティブ法では、まず、ベース層１３の表面の全面に、必要により接着剤層を介して導体層１４を積層し、次いで、この導体層１４の上に、所定の回路パターンに対応させてエッチングレジストを形成し、このエッチングレジストをレジストとして、導体層１４をエッチングして、その後に、エッチングレジストを除去するようにする。
【００５５】
また、アディティブ法では、まず、ベース層１３の上に、所定の回路パターンと逆パターンでめっきレジストを形成して、次いで、ベース層１３におけるめっきレジストが形成されていない表面に、めっきにより、所定の回路パターンとして導体層１４を形成し、その後に、めっきレジストを除去するようにする。
【００５６】
また、セミアディティブ法では、まず、ベース層１３の上に下地となる導体の薄膜を形成して、次いで、この下地の上に、所定の回路パターンと逆パターンでめっきレジストを形成した後、下地におけるめっきレジストが形成されていない表面に、めっきにより、所定の回路パターンとして導体層１４を形成し、その後に、めっきレジストおよびそのめっきレジストが積層されていた下地を除去するようにする。
【００５７】
これらのパターンニング法のなかでは、図４に示すように、セミアディティブ法が好ましく用いられる。すなわち、まず、図４（ａ）に示すように、支持基板１２およびベース層１３の全面に、下地２０となる導体の薄膜を形成する。下地２０の形成は、真空蒸着法、とりわけ、スパッタ蒸着法が好ましく用いられる。また、下地２０となる導体は、クロムや銅などが好ましく用いられる。より具体的には、例えば、支持基板１２およびベース層１３の全面に、クロム薄膜と銅薄膜とをスパッタ蒸着法によって、順次形成することが好ましい。なお、クロム薄膜の厚さが、１００〜６００Å、銅薄膜の厚さが、５００〜２０００Åであることが好ましい。
【００５８】
次いで、図４（ｂ）に示すように、その下地２０の上に、所定の回路パターンと逆パターンのめっきレジスト２１を形成する。めっきレジスト２１は、例えば、ドライフィルムレジストなどを用いて公知の方法により、所定のレジストパターンとして形成すればよい。次いで、図４（ｃ）に示すように、下地２０におけるめっきレジスト２１が形成されていない部分に、めっきにより、所定の回路パターンの導体層１４を形成する。めっきは、電解めっき、無電解めっきのいずれでもよいが、電解めっきが好ましく用いられ、なかでも、電解銅めっきが好ましく用いられる。なお、この回路パターンは、例えば、図１に示されるように、互いに所定の間隔を隔てて平行状に配置される、複数の配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄパターンとして形成される。導体層１４の厚さは、例えば、２〜１５μｍ、好ましくは、５〜１０μｍであり、各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄの幅は、例えば、１０〜５００μｍ、好ましくは、３０〜２００μｍであり、各配線１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ間の間隔は、例えば、１０〜２００μｍ、好ましくは、３０〜１００μｍである。
【００５９】
そして、図４（ｄ）に示すように、めっきレジスト２１を、例えば、化学エッチング（ウェットエッチング）などの公知のエッチング法、または剥離によって除去した後、図４（ｅ）に示すように、めっきレジスト２１が形成されていた下地２０を、同じく、化学エッチング（ウェットエッチング）など公知のエッチング法により除去する。これによって、ベース層１３の上に、導体層１４が所定の回路パターンとして形成される。
【００６０】
このようにして形成された導体層１４は、ベース層１３における開口部分３１が、ベース層１３における他の部分よりも薄く形成されていることから、開口部分３１の上に形成される部分、すなわち、後の工程において金属めっき層１９が形成される端子形成部分３６が、導体層１４における他の部分に対して、支持基板１２側に、その薄くなった厚さ分、凹むように形成される。
【００６１】
次いで、図５に示すように、導体層１４の表面を金属皮膜２２により保護した後、この導体層１４を、絶縁体からなるカバー層１８により被覆する。すなわち、まず、図５（ａ）に示すように、導体層１４の表面、および、支持基板１２の表面に、金属皮膜２２を形成する。この金属皮膜２２は、無電解ニッケルめっきによって、硬質のニッケル薄膜として形成することが好ましく、その厚みは、導体層１４の表面が露出しない程度であればよく、例えば、０．０５〜０．１μｍ程度であればよい。
【００６２】
次いで、導体層１４を被覆するためのカバー層１８を、所定のパターンとして形成する。カバー層１８を形成するための絶縁体としては、ベース層１３と同様の絶縁体が用いられ、好ましくは、感光性ポリイミド樹脂が用いられる。
【００６３】
そして、例えば、感光性ポリイミド樹脂を用いて、カバー層１８を形成する場合には、図５（ｂ）に示すように、ベース層１３および金属薄膜２２の上に、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の溶液を、その全面に塗工した後、例えば、６０〜１５０℃、好ましくは、８０〜１２０℃で加熱することにより、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜１８ａを形成し、次に、図５（ｃ）に示すように、その皮膜１８ａを、フォトマスク２５を介して露光させ、必要により露光部分を所定の温度に加熱した後、現像することにより、皮膜１８ａによって、導体層１４が被覆されるようにパターン化する。
【００６４】
なお、図５（ｃ）および図５（ｄ）に示すように、このパターン化においては、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７が形成される部分には、導体層１４の端子形成部分３６の表面に形成される金属薄膜２２が露出するように開口部３３を形成する。この開口部３３は、導体層１４の端子形成部分３６に対向させて、同じ大きさおよび形で形成すればよい。
【００６５】
また、この露光および現像の条件は、ベース層１３を露光および現像する条件と同様の条件でよい。なお、ネガ型でパターンを得ることが好ましく、図５においては、ネガ型でパターンニングする態様として示されている。
【００６６】
そして、このようにしてパターン化されたポリイミド樹脂の前駆体の皮膜１８ａを、図５（ｄ）に示すように、例えば、最終的に２５０℃以上に加熱することによって、硬化（イミド化）させ、これによって、ポリイミド樹脂からなるカバー層１８を、導体層１４の上に形成する。なお、カバー層１８の厚さは、例えば、１〜３０μｍ、好ましくは、２〜５μｍである。
【００６７】
次いで、図６に示すように、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７を、両面が露出した端子、例えば、いわゆるフライングリードとして形成する。
【００６８】
磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７を、両面が露出した端子として形成するには、まず、図６（ａ）に示すように、支持基板１２における磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７が形成される部分、すなわち、カバー層１８の開口部３３に対向する部分にベース層１３の開口部分３１が露出するように開口部３４を形成する。この開口部３４の形成は、公知の方法でよく、例えば、支持基板１２における開口部３４を形成する部分以外をすべてマスキングした後に、化学エッチングすればよい。また、この開口部３４は、ベース層１３における開口部分３１を含むようにして、その開口部分３１よりも大きく形成する。
【００６９】
なお、この開口部３４の形成と同時に、化学エッチングによりジンバル１５を所定の形状に切り抜くようにする。
【００７０】
次いで、図６（ｂ）に示すように、カバー層１８が開口されることにより露出している金属薄膜２２を剥離する。なお、これと同時に、支持基板１２の上に形成されている金属薄膜２２も剥離する。
【００７１】
そして、図６（ｃ）に示すように、支持基板１２の開口部３４内において露出している開口部分３１を含むベース層１３に、導体層１４の端子形成部分３６の裏面に形成される下地２０が露出するように開口部３５を形成する。この開口部３５の形成は、公知の方法でよいが、エッチング、とりわけ、プラズマエッチングにより形成することが好ましい。エッチングによれば、ベース層１３の露出面から、導体層１４の端子形成部分３６の裏面に形成される下地２０までの間のベース層１３を、正確に削ることができ、後の工程において、端子形成部分３６の裏面を損傷させることなく、確実に露出させることができる。
【００７２】
このプラズマエッチングでは、支持基板１２をマスクとして、その支持基板１２の開口部３４に露出する、開口部分３１を含むベース層１３全体をエッチングすればよく、例えば、所定のガスを封入した雰囲気下で対向電極間に、サンプルを配置して、高周波プラズマを発生させるようにする。所定のガスとしては、例えば、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｘｅ、Ｋｒ、Ｎ_２、Ｏ_２、ＣＦ_４、ＮＦ_３などが用いられる。好ましくは、Ａｒ、Ｏ_２、ＣＦ_４、ＮＦ_３が用いられる。これらのガスは、所定の割合で混合して用いてもよい。また、そのガス圧（真空度）は、例えば、０．５〜２００Ｐａ、好ましくは、１０〜１００Ｐａである。また、高周波プラズマを発生させる条件としては、周波数が、例えば、１０ｋＨｚ〜２０ＭＨｚ、好ましくは、１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであり、処理電力が、例えば、０．５〜１０Ｗ／ｃｍ^２、好ましくは、１〜５Ｗ／ｃｍ^２である。周波数が１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであると、プラズマエッチング装置のマッチング（抵抗値のチューニング）がとりやすくなる。そして、このような雰囲気条件下において、例えば、０〜１２０℃、好ましくは、１０〜８０℃に温度管理された電極上にサンプルを配置して、ベース層１３をエッチングする厚さに相当する所定の時間処理すればよい。
【００７３】
そして、このようにして形成されるベース層１３の開口部３５は、支持基板１２をマスクとして形成されるので、支持基板１２の開口部３４と同じ大きさおよび形で形成される。したがって、この開口部３５は、導体層１４における端子形成部分３６よりも大きく形成され、ベース層１３の開口部３５に露出する端子形成部分３６の裏面に形成される下地２０の周端縁と、支持基板１２の開口部３４の周端縁との間には、その厚さ方向において所定の間隔が設けられる。
【００７４】
その後、図６（ｄ）に示すように、ベース層１３の開口部３５に露出する下地２０を剥離することによって、導体層１４の端子形成部分３６の裏面を露出させ、次いで、図６（ｅ）に示すように、このように露出している導体層１４の端子形成部分３６の両面に、金属めっき層１９を、めっきにより同時に形成する。これによって、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７が、両面が露出した状態で形成される。金属めっき層１９の形成は、特に制限されず、電解めっきおよび無電解めっきのいずれの方法を用いてもよく、また、めっきに用いる金属も、特に制限されず、公知の金属を用いることができる。好ましくは、電解ニッケルめっきと電解金めっきとを順次行なうことにより、ニッケルめっき層２６の上に金めっき層２７を形成する。なお、ニッケルめっき層２６および金めっき層２７の厚さは、いずれも、１〜５μｍ程度であることが好ましい。
【００７５】
このようにして形成された金属めっき層１９は、その金属めっき層１９の周端縁と、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４の周端縁との間に、所定の間隔が隔てられている。
【００７６】
このような方法により回路付サスペンション基板１１を製造すると、ベース層１３を形成する工程において、端子形成部分３６を露出させるための開口部分３１の厚さをベース層１３における他の部分の厚さよりも薄く形成するので、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７を形成する工程において、その開口部分３１をエッチングする時には、他の部分の厚さよりも薄くなっている分、導体層１４における端子形成部分３６を露出させるためにエッチングする時間を短縮することができる。そのため、導体層１４の端子形成部分３６を短時間で露出させることができ、磁気ヘッド側接続端子１６および外部側接続端子１７を、両面が露出した状態で効率よく形成することができる。
【００７７】
したがって、このような方法によれば、回路付サスペンション基板を生産効率よく製造することができ、低コストで提供することができる。
【００７８】
また、この方法では、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４が、導体層１４の端子形成部分３６よりも大きく形成されているので、金属めっき層１９の周端縁と、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４の周端縁との間には、所定の間隔が設けられている。そのため、例えば、接続信頼性を向上させるべく金属めっき層１９を厚く形成しても、金属めっき層１９の周端縁と支持基板１２の開口部３４の周端縁とが接触することがなく、金属めっき層１９と支持基板１２との間の接触による短絡を確実に防止することができる。そのため、回路付サスペンション基板１１の接続信頼性および耐電圧特性の向上を図ることができる。
【００７９】
なお、金属めっき層１９の周端縁と支持基板１２の開口部３４の周端縁との間の間隔（図２において、間隔ａで示される。）を、少なくとも１μｍ以上、好ましくは、２〜４０μｍ程度として形成することが好ましい。
【００８０】
また、この方法においては、ベース層１３における開口部分３１が、ベース層１３における他の部分よりも薄く形成されていることから、その開口部分３１の上に形成される端子形成部分３６が、導体層１４における他の部分に対して、支持基板１２側に、その薄くなった厚さ分、凹むように形成される。そのため、支持基板１２の表面から金属めっき層１９の表面までの距離が、他の部分に対して凹んだ分だけ短くなり、金属めっき層１９が、その分、支持基板１２の外側よりに配置されるので、例えば、磁気ヘッドやリード・ライト基板の接続用端子との接続において、金属めっき層１９にその接続用端子を重ね合わせて、ボンディングツールにより超音波振動を与えて接続するような場合においては、良好な圧着性を確保することができ、接続信頼性をより一層向上させることができる。
【００８１】
なお、金属めっき層１９の表面と、ベース層１３および支持基板１２の界面との間の厚さ方向における間隔（図２において、間隔ｂで示される。）が、±６μｍ、さらには、±２μｍとなるように形成することが好ましい。
【００８２】
なお、以上の説明において、本実施形態の方法では、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４を、導体層１４の端子形成部分３６よりも大きく形成することにより、金属めっき層１９の周端縁と、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４の周端縁との間に所定の間隔を設けるようにしたが、その目的および用途によっては、ベース層１３の開口部３５および支持基板１２の開口部３４を、導体層１４の端子形成部分３６と、同じ大きさおよび形で形成してもよい。
【００８３】
【実施例】
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、何ら実施例に限定されることはない。
【００８４】
実施例１
厚さ２５μｍのステンレス箔（ＳＵＳ３０４Ｈ−ＴＡ）の上に、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の溶液を、乾燥後の厚さが２４μｍとなるように塗工した後、１３０℃で乾燥することにより、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を形成した。次いで、皮膜を、フォトマスクを介して露光（４０５ｎｍ、１５００ｍＪ／ｃｍ^２）させ、露光部分を１８０℃に加熱した後、アルカリ現像液を用いて現像することにより、その皮膜をネガ型の画像でパターン化した。次いで、パターン化された感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を、３５０℃で加熱して、硬化（イミド化）させ、これによって、厚さ１０μｍのポリイミド樹脂からなるベース層を所定のパターンで形成した。
【００８５】
また、このベース層の形成においては、露光する時に、光透過部分および遮光部分が、６μｍ以下のピッチで金属薄膜の格子状の繰り返しパターンとして形成されているフォトマスク（図８に示すフォトマスク３２ｂに相当し、開口部分の平均透過率が、その他の部分に対して約２５％とされているもの。）を、皮膜において、後の工程において開口され、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子が形成される部分に導体層を露出させるための開口部分の上に配置して、このフォトマスクを介して皮膜を露光させて、皮膜における開口部分の露光量が、他の部分の露光量よりも低減するように露光させた。そのため、これを現像および硬化させた後においては、ベース層における他の部分の厚さが１０μｍであるところ、その開口部分の厚さを２μｍとして形成することができた。
【００８６】
次いで、ステンレス箔およびベース層の全面に、下地として、厚さ３００Åのクロム薄膜と厚さ７００Åの銅薄膜とをスパッタ蒸着法によって順次形成した後、所定の回路パターンと逆パターンのめっきレジストを、ドライフィルムレジストを用いて形成し、そして、電解銅めっきにより、ベース層におけるめっきレジストが形成されていない部分に、所定の回路パターンの導体層を形成した。このようにして形成された導体層は、ベース層における開口部分が、ベース層における他の部分よりも薄く形成されているので、導体層における開口部分の上に形成される端子形成部分が、導体層における他の部分に対して、ステンレス箔側に、厚さ方向において約８μｍ凹むようにして形成された。なお、この導体層の厚さは２０μｍで、そのパターンを、各配線の幅２０μｍ、各配線間の間隔が３０μｍの、互いに所定の間隔を隔てて平行状に配置される４本の配線パターンとして形成した。
【００８７】
その後、めっきレジストを、化学エッチングによって除去した後、めっきレジストが形成されていたクロム薄膜および銅薄膜を、化学エッチングにより除去した。
【００８８】
次いで、導体層の表面、および、ステンレス箔の表面に、無電解ニッケルめっきによって、厚さ０．１μｍの硬質のニッケル薄膜を形成した後、ニッケル薄膜およびベース層の上に、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の溶液を塗工した後、１３０℃で加熱することにより、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を形成し、次いで、皮膜をフォトマスクを介して露光（４０５ｎｍ、１５００ｍＪ／ｃｍ^２）させ、露光部分を１８０℃に加熱した後、アルカリ現像液を用いて現像することにより、この皮膜によって導体層が被覆されるようにパターン化した。次いで、パターン化された感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を、３５０℃で加熱して、硬化（イミド化）させ、これによって、厚さ３μｍのポリイミド樹脂からなるカバー層を、導体層の上に形成した。
【００８９】
なお、このカバー層の形成においては、パターン化する時に、導体層の端子形成部分の表面に形成される金属薄膜が露出するように開口部を形成した。この開口部は、導体層の端子形成部分に対向させて、同じ大きさおよび形で形成した。
【００９０】
次いで、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子を、両面が露出する状態で形成した。すなわち、まず、ステンレス箔におけるカバー層の開口部に対向する部分に、ベース層の開口部分が露出するように、その開口部分よりも大きな開口部を形成した。このステンレス箔の開口部は、ステンレス箔における開口部を形成する部分以外をすべてマスキングした後に、化学エッチングすることにより形成した。なお、この開口部の形成と同時に、化学エッチングによりジンバルを所定の形状に切り抜いた。
【００９１】
次いで、カバー層が開口されることにより露出している金属薄膜を剥離するとともに、ステンレス箔の上に形成されている金属薄膜を剥離した。
【００９２】
そして、ステンレス箔の開口部内において露出している開口部分を含むベース層を開口して、導体層の端子形成部分の裏面に形成される下地が露出するように開口部を形成した。このベース層の開口部は、プラズマエッチングにより形成した。プラズマエッチングでは、ステンレス箔をマスクとして、そのステンレス箔の開口部に露出する、開口部分を含むベース層全体を、封入ガスとして、ＣＦ_４とＯ_２との混合ガス（ＣＦ_４／Ｏ_２＝２０／８０）を用い、ガス圧（真空度）２５Ｐａ、周波数１３．５ＭＨｚ、処理電力２５００Ｗの条件下において、約２分間処理した。
【００９３】
このようにして形成されるベース層の開口部は、ステンレス箔の開口部と同じ大きさおよび形で形成され、ベース層の開口部に露出する下地の周端縁と、ベース層の開口部およびステンレス箔の開口部の周端縁との間には、約３０μｍの間隔が設けられた。
【００９４】
その後、ベース層の開口部に露出する下地を剥離することによって、導体層の端子形成部分の裏面を露出させた。次いで、このように露出している導体層の端子形成部分の両面に、金属めっき層を、電解ニッケルめっきと電解金めっきとを順次行なって、厚さ２μｍのニッケルめっき層および厚さ１μｍの金めっき層を形成することによって形成した。
【００９５】
このようにして形成された端子形成部分における裏面側の金属めっき層は、その表面が、ベース層とステンレス箔との界面に対して、厚さ方向で、±２μｍで形成され、かつ、その金属めっき層の周端縁と、ベース層の開口部およびステンレス箔の開口部の周端縁との間に、２６μｍの間隔が隔てられるように形成された。
【００９６】
実施例２
感光性ポリイミド樹脂の前駆体を露光する時に、金属薄膜のパターンが形成されたフォトマスクにおいて、ベース層の開口部分に対応する部分の表面に、上記の金属薄膜よりも厚みが薄い金属薄膜が形成されており、その部分における光透過率が、その他の部分に対して約４０％となるように構成されているフォトマスクを用いた以外は、実施例１と同様の操作により、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子が、両面が露出する状態で形成される回路付サスペンション基板を作製した。
【００９７】
なお、このベース層の形成においては、ベース層における他の部分の厚さが１０μｍであるところ、その開口部分の厚さを３μｍとして形成することができた。そのため、この開口部分のプラズマエッチングは、約３分間の処理により行なうことができ、また、導体層の端子形成部分における裏面側の金属めっき層は、その表面が、ベース層とステンレス箔との界面に対して、厚さ方向で、±２μｍで形成された。
【００９８】
実施例３
感光性ポリイミド樹脂の前駆体を露光する時に、まず、ベース層の開口部分に対応する部分の透過光を遮光しないフォトマスクを用いて、露光（４０５ｎｍ、６００ｍＪ／ｃｍ^２）させ、次いで、ベース層の開口部分に対応する部分の透過光を遮光したフォトマスクを用いて、露光（４０５ｎｍ、１５００ｍＪ／ｃｍ^２）させた以外は、実施例１と同様の操作により、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子が、両面が露出する状態で形成される回路付サスペンション基板を作製した。なお、この露光方法では、２回に分けて露光するため、２回目の露光パターンを、１回目の露光パターンに正確に合わせる位置調節を行なう必要があり、また、工数も多くやや煩雑であった。
【００９９】
比較例１
感光性ポリイミド樹脂の前駆体を露光する時に、ベース層の開口部分に対応する部分にフォトマスクを配置せず、ベース層を厚さ１０μｍの均一な層として形成し、その後、金属めっき層を、支持基板をマスクとして開口されるベース層の開口部の全面において露出する導体層の全面に形成した以外は、実施例１と同様の操作により、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子が、両面が露出する状態で形成される回路付サスペンション基板を作製した。
【０１００】
なお、このベース層をプラズマエッチングする時には、約１０分の処理時間を要した。また、このようにして得られた回路付サスペンション基板では、導体層の端子形成部分における裏面側の金属めっき層の周端部と、ベース層および支持基板の開口部の周端縁との厚さ方向における間には隙間がなく、また、金属めっき層の表面が、ベース層とステンレス箔との界面に対して、厚さ方向で、±２μｍで形成された。
【０１０１】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の配線回路基板の製造方法では、絶縁層を迅速に開口して、導体層を短時間で露出させることができるので、端子を効率よく形成することができ、生産性の向上を図ることができる。
【０１０２】
また、この方法において、開口部分の厚さが８μｍ以下であると、例えば、通常の他の部分の厚さが１０μｍである場合には、２μｍ分以上について、開口に要する時間の短縮を図ることができる。
【０１０３】
また、この方法では、感光性樹脂の前駆体における開口部分と他の部分とを、異なる露光量で露光させて、これを現像および硬化させることにより、絶縁層における開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成すれば、簡易かつ確実に、開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成することができ、この場合において、感光性樹脂の前駆体における開口部分の照射光の透過率と、他の部分の照射光の透過率とが異なるように構成されているフォトマスクを用いて、感光性樹脂の前駆体を露光させれば、簡易かつ確実に、開口部分の厚さを他の部分の厚さよりも薄く形成することができる。
【０１０４】
さらに、このフォトマスクとして、開口部分に対応する特定の部分において、光透過部分および遮光部分のパターンが形成され、１つの光透過部分または遮光部分の幅が、６μｍ以下であるものを用いれば、１回の露光により確実に開口部分の露光量を調節することができ、しかも、照射光の分解能を向上させることなく、感光性樹脂の前駆体に均一に照射することができ、開口部分の厚さを均一に薄くすることができる。
【０１０５】
そして、本発明の配線回路基板の製造方法は、回路付サスペンション基板の製造に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の配線回路基板の一実施形態としての、回路付サスペンションを示す斜視図である。
【図２】図１に示す回路付サスペンション基板における、磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子を示す、配線の長手方向に沿う断面図である。
【図３】本発明の配線回路基板の製造方法としての、回路付サスペンション基板の製造方法において、支持基板を用意して、その支持基板の上に、所定のパターンでベース層を形成する工程を示す断面図であって、（ａ）は、支持基板を用意する工程、（ｂ）は、その支持基板の上に、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を形成する工程、（ｃ）は、その皮膜を、フォトマスクを介して露光させて、現像することにより、所定のパターンとする工程、（ｄ）は、パターン化された皮膜を硬化させて、ベース層を形成する工程を示す。
【図４】ベース層の上に、所定の回路パターンで導体層を形成する工程を示す断面図であって、（ａ）は、支持基板およびベース層に、下地を形成する工程、（ｂ）は、下地の上に、所定の回路パターンと逆パターンのめっきレジストを形成する工程、（ｃ）は、ベース層におけるめっきレジストが形成されていない部分に、電解めっきにより、所定の回路パターンの導体層を形成する工程、（ｄ）は、めっきレジストを除去する工程、（ｅ）は、下地を除去する工程を示す。
【図５】回路パターンにおける導体層の表面を金属皮膜により保護した後、カバー層により被覆する工程を示す断面図であって、（ａ）は、導体層の表面に、金属皮膜を形成する工程、（ｂ）は、ベース層および金属皮膜の上に、感光性ポリイミド樹脂の前駆体の皮膜を形成する工程、（ｃ）は、その皮膜を、フォトマスクを介して露光させて、現像することにより、その皮膜をパターン化する工程、（ｄ）は、パターン化された皮膜を硬化させて、カバー層を形成する工程を示す。
【図６】磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子を、両面が露出する状態で形成する工程を示す断面図であって、（ａ）は、支持基板における磁気ヘッド側接続端子および外部側接続端子が形成される部分を開口する工程、（ｂ）は、露出している導体層および支持基板に形成されている金属薄膜を剥離する工程、（ｃ）は、支持基板の開口部において露出しているベース層を、その開口部に対応させて開口する工程、（ｄ）は、ベース層を開口することにより露出した下地を剥離する工程、（ｅ）は、露出している導体層の両面に、金属めっき層を形成する工程を示す。
【図７】図３（ｂ）において、皮膜を露光させるために用いるフォトマスクの一実施形態の概略平面図である。
【図８】図３（ｂ）において、皮膜を露光させるために用いるフォトマスクの一実施形態の概略平面図である。
【図９】図３（ｂ）において、皮膜を露光させるために用いるフォトマスクの一実施形態の概略平面図である。
【図１０】図３（ｂ）において、皮膜を露光させるために用いるフォトマスクの一実施形態の概略平面図である。
【図１１】従来の回路付サスペンション基板の製造方法において、端子を、両面が露出する状態で形成する工程を示す断面図であって、（ａ）は、カバー層における端子を形成するための開口部を形成する工程、（ｂ）は、支持基板における端子を形成するための開口部を形成する工程、（ｃ）は、支持基板の開口部において露出しているベース層を、その開口部に対応させて開口する工程、（ｄ）は、露出された導体層の両面に、金属めっき層を形成する工程を示す。
【符号の説明】
１１回路付サスペンション基板
１２支持基板
１３ベース層
１４導体層
１９金属めっき層
３１開口部分
３２フォトマスク
３４支持基板の開口部
３５ベース層の開口部
３６端子形成部分[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board and a photomask, and more particularly to a method for manufacturing a printed circuit board and a photomask that are preferably used for manufacturing a suspension board with circuit.
[0002]
[Prior art]
For example, as shown in FIG. 11 (d), the suspension board with circuit used in the hard disk drive includes a support substrate 1 made of stainless steel foil, and a base layer 2 made of an insulator formed on the support substrate 1. On the base layer 2, a conductor layer 3 formed as a predetermined circuit pattern and a cover layer 4 made of an insulator covering the conductor layer 3 are provided.
[0003]
Further, the terminal 5 of the suspension board with circuit is formed not only on one side of the conductor layer 3 but also on both sides thereof in order to cope with the recent increase in density and size of electronic devices. What is formed as a lead is becoming widespread.
[0004]
That is, as shown in FIG. 11A, the terminal 5 is first formed with an opening 7 for forming the terminal 5 in the cover layer 4 at the same time when the cover layer 4 is formed with a photoresist or the like. Then, the surface of the conductor layer 3 is exposed, and then, as shown in FIG. 11B, an opening 8 for forming the terminal 5 in the support substrate 1 is formed by chemical etching or the like. 11 (c), using the support substrate 1 as a mask, the base layer 2 exposed in the opening 8 is opened by plasma etching or the like, and an opening for forming the terminal 5 in the base layer 2 is formed. 9, thereby exposing the back surface of the conductor layer 3, and then forming the metal plating layer 6 on both surfaces of the conductor layer 3 thus exposed as shown in FIG. 11 (d). By It is formed.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, etching the support substrate 1 and the base layer 2 takes a time corresponding to the thickness of the support substrate 1 and the base layer 2. For example, in the case of etching the base layer 2 by plasma etching, per 1 μm. Since about 1 minute is required, if the thickness is about 10 μm, the etching takes about 10 minutes, and the productivity cannot be improved.
[0006]
On the other hand, it is conceivable that the base layer 2 is not formed in advance in the portion where the metal plating layer 6 is formed. However, if the base layer 2 is not present, the conductor layer 3 may be removed when the support substrate 1 is etched. Since it will be etched, actual implementation is difficult.
[0007]
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a wired circuit board capable of efficiently forming terminals and improving productivity with a simple configuration. And a photomask used in the method of manufacturing the printed circuit board.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention forms an insulating layer on a metal support layer, forms a conductor layer on the insulating layer, and opens the metal support layer and the insulating layer. A method of manufacturing a printed circuit board, wherein the surface of the conductor layer is exposed, and the exposed conductor layer is used as a terminal formation portion for forming a terminal. In the formation of the insulating layer, the insulating layer The opening portion for exposing the conductor layer is formed thinner than other portions of the insulating layer.
[0009]
According to such a method, since the thickness of the opening portion exposing the conductor layer in the insulating layer is formed thinner than the thickness of the other portion in the insulating layer, the thickness of the opening portion is set when opening the insulating layer. Therefore, the time required for opening can be shortened by the amount that is smaller than the thickness of other portions. Therefore, since the conductor layer can be exposed in a short time, the terminals can be formed efficiently and the productivity can be improved.
[0010]
In this method, it is preferable that the thickness of the opening portion in the insulating layer is 8 μm or less.
[0011]
When the thickness of the opening portion is 8 μm or less, for example, when the thickness of another normal portion is 10 μm, the time required for opening can be reduced for 2 μm or more.
[0012]
In this method, the insulating layer is formed by curing a precursor of a photosensitive resin, and the opening portion and the other portion in the precursor of the photosensitive resin are exposed with different exposure amounts. It is preferable that the thickness of the opening portion in the insulating layer is made thinner than the thickness of the other portion by developing and curing the insulating layer.
[0013]
By exposing and exposing the opening part and other parts in the precursor of the photosensitive resin with different exposure amounts, the thickness of the opening part in the insulating layer is made thinner than the thickness of the other parts. If it forms, the thickness of an opening part can be formed thinner than the thickness of another part simply and reliably.
[0014]
Further, in this method, using a photomask configured such that the transmittance of the irradiation light of the opening portion in the precursor of the photosensitive resin is different from the transmittance of the irradiation light of the other portion, It is preferable to expose the opening portion and the other portion of the photosensitive resin precursor with different exposure amounts.
[0015]
If the photosensitive resin precursor is exposed using such a photomask, the thickness of the opening can be made thinner than the thickness of the other part easily and reliably.
[0016]
In this case, the photomask has a pattern of a light transmitting portion and a light shielding portion at a portion corresponding to the opening portion, and the width of one light transmitting portion or the light shielding portion is 6 μm or less. It is preferable.
[0017]
When the width of one light transmitting portion or light shielding portion is 6 μm or less, the width of the light transmitting portion or the light shielding portion is narrower than the resolution of the irradiation light, so that the photosensitive resin precursor can be uniformly irradiated, and the thickness of the opening portion Can be uniformly thinned.
[0018]
And in the manufacturing method of the wired circuit board of this invention, it is preferable that the said wired circuit board is a suspension board with a circuit.
[0019]
According to the method for manufacturing a wired circuit board of the present invention, the suspension board with circuit can be manufactured with high production efficiency and can be provided at low cost.
[0020]
  Further, the present invention is a photomask used for exposing a photosensitive resin precursor for forming an insulating layer, and corresponds to an opening portion that is opened after the photosensitive resin precursor is cured. The pattern of the light transmitting part and the light shielding part is formed on the specific part of the photomask.,Width of one light transmitting part or light shielding partBut6μm or lessFormed with a repetitive lattice patternIt also includes a photomask that has been used.
  Furthermore, the present invention is a photomask used for exposing a precursor of a photosensitive resin for forming an insulating layer, and corresponds to an opening portion that is opened after the precursor of the photosensitive resin is cured. The specific portion of the photomask includes a photomask in which circular patterns with a diameter of 6 μm or less of one light transmitting portion or light shielding portion are arranged in a staggered pattern as a pattern of the light transmitting portion and the light shielding portion.
[0021]
  If such a photomask is used, the exposure amount of the opening can be reliably adjusted by one exposure, and the width of one light transmitting portion or light shielding portion can be adjusted.Or diameterHowever, since the width is 6 μm or less, their width is narrower than the resolution of the irradiation light, so that the precursor of the photosensitive resin can be uniformly irradiated, and the thickness of the opening portion can be uniformly reduced.
[0022]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 is a perspective view showing a suspension board with circuit as an embodiment of the wired circuit board of the present invention. This suspension board with circuit 11 is mounted with a magnetic head (not shown) of a hard disk drive, and the magnetic head is magnetically resisted against the air flow when the magnetic head and the magnetic disk travel relatively. Wirings 14a, 14b, 14c, and 14d for connecting a magnetic head and a read / write substrate as an external circuit are provided in a predetermined circuit while maintaining a minute gap between the disk and the disk. It is integrally formed as a pattern.
[0023]
In FIG. 1, the suspension board with circuit 11 has a base layer 13 as an insulating layer made of an insulator formed on a support board 12 as a metal support layer extending in the longitudinal direction. A conductor layer 14 formed as a predetermined circuit pattern is formed thereon. The circuit pattern is formed as a plurality of wirings 14a, 14b, 14c, and 14d that are arranged in parallel at predetermined intervals.
[0024]
A gimbal 15 for mounting a magnetic head is formed at the tip of the support substrate 12 by cutting the support substrate 12. In addition, a magnetic head side connection terminal 16 for connecting the magnetic head and each of the wirings 14 a, 14 b, 14 c and 14 d is formed at the front end portion of the support substrate 12, and at the rear end portion of the support substrate 12. Are formed with external connection terminals 17 for connecting the read / write substrate and the respective wirings 14a, 14b, 14c, 14d. Although not shown in FIG. 1, the conductor layer 14 is actually covered with a cover layer 18 made of an insulator.
[0025]
In the suspension board with circuit 11, for example, as shown in FIG. 2, the magnetic head side connection terminals 16 and the external side connection terminals 17 open the cover layer 18 to expose the surface of the conductor layer 14. By opening the metal substrate 12 and the base layer 13 and exposing the back surface of the conductor layer 3, both surfaces of the conductor layer 14 are exposed, and a metal plating layer as a metal terminal layer is formed on both surfaces of the exposed conductor layer 14. 19 is formed as a terminal exposed on both sides, for example, a so-called flying lead. In FIG. 2, a base 20 and a metal film 22 to be described later are omitted.
[0026]
Next, a method for manufacturing such a suspension board with circuit 11 will be described with reference to FIGS. 3 to 6, on the right side, the portion of the suspension board with circuit 11 where the magnetic head side connection terminals 16 and the external side connection terminals 17 are formed is the length of each wiring 14 a, 14 b, 14 c, 14 d. A section along the direction is shown, and on the left side thereof, the middle in the longitudinal direction of the suspension board with circuit 11 is shown as a part of the section along the direction orthogonal to the longitudinal direction of the wires 14a, 14b, 14c, and 14d.
[0027]
First, as shown in FIG. 3, a support substrate 12 is prepared, and a base layer 13 is formed on the support substrate 12 in a predetermined pattern. As the support substrate 12, it is preferable to use a metal foil or a metal thin plate, for example, stainless steel, 42 alloy, or the like is preferably used. Further, those having a thickness of 10 to 60 μm, more preferably 15 to 30 μm, and a width of 50 to 500 mm, further 125 to 300 mm are preferably used.
[0028]
Further, the insulator for forming the base layer 13 is not particularly limited. For example, polyimide resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polyvinyl chloride. A synthetic resin such as a resin is used. Among these, a photosensitive resin is preferably used, and a photosensitive polyimide resin is more preferably used.
[0029]
For example, when the base layer 13 is formed in a predetermined pattern on the support substrate 12 using a photosensitive polyimide resin, first, as shown in FIG. As shown in FIG.3 (b), after apply | coating the solution of the precursor of a photosensitive polyimide resin on the whole surface of the support substrate 12 on the board | substrate 12, for example, 60-150 degreeC, Preferably, 80- By heating at 120 ° C., the film 13a of the precursor of the photosensitive polyimide resin is formed.
[0030]
Next, as shown in FIG. 3 (c), the film 13a is exposed through a photomask 24 and 32, and the exposed portion is heated to a predetermined temperature if necessary, and then developed, whereby the film 13a is developed. A predetermined pattern is used. The exposure light for the exposure has an exposure wavelength of 300 to 450 nm, more preferably 350 to 420 nm, and an exposure integrated light quantity of 100 to 1000 mJ / cm.²Furthermore, 200 to 700 mJ / cm²It is preferable that Moreover, the exposed part of the irradiated film 13a is solubilized (positive type) in the next development process by heating at, for example, 130 ° C. or more and less than 150 ° C., and for example, 150 ° C. or more and 180 ° C. or less. By heating, it is insolubilized (negative type) in the next development process. The development may be performed by a known method such as an immersion method or a spray method using a known developer such as an alkali developer. In this method, it is preferable to obtain a negative pattern, and FIG. 3 shows a negative pattern.
[0031]
Next, as shown in FIG. 3D, the polyimide resin precursor film 13a thus patterned is cured (imidized) by, for example, finally heating to 250 ° C. or higher. Thereby, the base layer 13 made of photosensitive polyimide is formed in a predetermined pattern.
[0032]
In this method, in order to form the magnetic head side connection terminals 16 and the external side connection terminals 17 in the step of forming the base layer 13 with a predetermined pattern on the support substrate 12 as described above, The thickness of the opening portion 31 that is opened in the process and exposes the conductor layer 14 is formed thinner than the thickness of the other portion of the base layer 13 other than the opening portion 31.
[0033]
In order to form the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 thinner than the thickness of the other portions, for example, the transmittance of the irradiation light of the opening portion 31 and the transmittance of the irradiation light of the other portions in the coating 13a. Is arranged on the opening portion 31 in the cover layer 13, and the coating 13a is exposed through the photomask 32. What is necessary is just to expose the opening part 31 and other part in the membrane | film | coat 13a with a different exposure amount, and to develop and harden this.
[0034]
By using such a photomask 32, the opening portion 31 and other portions of the film 13a are exposed with different exposure amounts, so that the thickness of the opening portion 31 is more easily and reliably made than the thickness of the other portions. Can also be formed thin.
[0035]
More specifically, as shown in FIGS. 3 (c) and 3 (d), in the case of patterning with a negative type, the transmittance of the irradiation light of the opening portion 31 in the coating 13a is the irradiation of other portions. As shown in FIG. 3C, the photomask 32 is formed in the base layer 13 by using a photomask 32 configured to reduce light (preferably 80% or less of other portions). It arrange | positions on the opening part 31, and the film | membrane 13a is exposed through the photomask 32, and this exposes so that the exposure amount of the opening part 31 in the film | membrane 13a may be reduced rather than the exposure amount of another part. do it. Then, if this is developed and cured as described above, the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 is made thinner than the thickness of other portions as shown in FIG. Can do.
[0036]
In order to configure the photomask 32 so that the transmittance of the irradiation light of the opening portion 31 and the transmittance of the irradiation light of other portions are different, for example, the surface of the portion corresponding to the opening portion 31 in the photomask 32 is formed. By finely roughening, the diffuse reflection component on the surface is increased to reduce the transmitted light component in the portion, or, for example, on the surface of the portion corresponding to the opening portion 31 in the photomask 32 A film that absorbs the irradiation light is attached to reduce the transmitted light component in the portion, or, for example, a light transmitting portion is formed on the surface of the portion corresponding to the opening portion 31 in the photomask 32. In addition, a pattern of the light shielding part may be formed to reduce the transmitted light component in the part.
[0037]
Further, for example, in a photomask 32 on which a predetermined metal thin film pattern is formed, a metal thin film having a thickness smaller than that of the above metal thin film is formed on the surface of the portion corresponding to the opening portion 31, and You may comprise so that a transmitted light component may be decreased. That is, in such a photomask 32, for example, a photomask 32 (conventional photomask) in which a metal thin film is not formed is formed in a portion corresponding to the opening portion 31, and then only the opening portion 31 is formed. A resist is formed on the photomask 32 so as to be exposed, a metal thin film such as chromium having a thickness smaller than that of the metal thin film is formed by vapor deposition or plating, and then the resist is peeled off. Can do.
[0038]
If these photomasks 32 are used, the exposure amount of the opening portion 31 can be reliably adjusted by one exposure.
[0039]
Of these, it is preferable to form a pattern of a light transmitting part and a light shielding part on the surface of the part corresponding to the opening part 31. More specifically, for example, the photomask shown in FIGS. It is preferable to use 32a, 32b, 32c, 32d.
[0040]
That is, the photomasks 32a, 32b, 32c, and 32d shown in FIGS. 7 to 10 are made of plate-like glass such as quartz glass or soda glass having a thickness of 2 to 5 mm, and are portions corresponding to the opening portions 31 in the glass. In addition, a metal thin film pattern is formed so that the transmittance is lower than the transmittance of other portions. Such a metal thin film pattern is formed, for example, by first depositing or plating a metal thin film such as chromium on the entire surface of glass and then patterning the metal thin film using a laser or an electron beam. That's fine. By using such photomasks 32a, 32b, 32c, and 32d, exposure adjustment can be reliably performed with a simple configuration.
[0041]
For example, in the photomask 32a shown in FIG. 7, in the portion corresponding to the opening portion 31, the pattern of the light transmitting portion and the light shielding portion is a striped pattern with a pitch of 6 μm or less (the width of each light transmitting portion and each light shielding portion). A repetitive pattern is formed, and the average transmittance of the opening portion 31 is about 50% with respect to the other portions.
[0042]
Further, for example, in the photomask 32b shown in FIG. 8, in the portion corresponding to the opening portion 31, the pattern of the light transmitting portion and the light shielding portion has a pitch of 6 μm or less (the width of each light transmitting portion and each light shielding portion). A repetitive pattern is formed, and the average transmittance of the opening portion 31 is about 25% with respect to the other portions.
[0043]
Further, for example, in the photomask 32c shown in FIG. 9, in a portion corresponding to the opening portion 31, a circular light transmitting portion having a diameter of 6 μm or less as a pattern of the light transmitting portion and the light shielding portion is compared with the other light shielding portions. The apertures 31 have an average transmittance of about 25% relative to the other portions.
[0044]
Further, for example, in the photomask 32d shown in FIG. 10, in a portion corresponding to the opening portion 31, a circular light shielding portion having a diameter of 6 μm or less is formed as a pattern of the light transmitting portion and the light shielding portion with respect to the other light transmitting portions. The apertures 31 have an average transmittance of about 70% relative to the other portions.
[0045]
Among the photomasks 32a, 32b, 32c, and 32d shown in FIGS. 7 to 10, the width of the light transmitting portion, that is, the pitch or the circle, as in the photomasks 32a, 32b, and 32c shown in FIGS. The diameter is preferably 6 μm or less. When the exposure wavelength is 6 μm or less, when the exposure wavelength is 300 to 450 nm as described above, the irradiation light is uniformly applied to the opening portion 31, and the thickness of the opening portion 31 can be uniformly reduced. If the thickness exceeds 6 μm, the resolution of the irradiation light is increased, unevenness is generated in the opening 31 and the thickness becomes non-uniform, and it may not be possible to etch uniformly in a later process. More preferably, the width of the light transmitting portion is 4 μm or less, particularly 3 μm or less.
[0046]
The average transmittance of the opening portion 31 is preferably 50% or less, and more preferably 25% or less with respect to the other portions.
[0047]
In addition, such a photomask 32 may be formed integrally with the photomask 24 used for the patterning described above, or may be formed as a separate body.
[0048]
In the case of patterning with a positive type, the photomask 32 may be configured to increase the transmittance of the irradiation light of the opening portion 31 more than the transmittance of the irradiation light of other portions.
[0049]
In addition, as described above, the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 is made thinner than the thickness of other portions, as described above, the transmittance of the irradiation light of the opening portion 31 and the irradiation light of other portions. In addition to using a photomask 32 configured to have a different transmittance, for example, at least two times when the opening portion 31 is exposed and not exposed using a plurality of photomasks having different patterns. These exposures may be sequentially performed.
[0050]
Furthermore, in the formation of the base layer 13, when a photosensitive resin is not used, for example, the resin may be laminated on the support substrate 12 in a predetermined pattern as a coating or dry film. In order to make the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 thinner than the thickness of the other portions in the base layer 13, for example, the resin is laminated in a plurality of times, and the number of times the opening portion 31 is laminated. The number may be less than the number of laminations of other portions.
[0051]
The thickness of the base layer 13 thus formed is, for example, 2 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm, and usually about 10 μm. And the thickness of the opening part 31 in the base layer 13 is normally 80% or less of the thickness of another part, for example, 8 micrometers or less, Furthermore, it is preferable that it is 5 micrometers or less. When the thickness of the opening portion 31 is 8 μm or less, as described above, when the thickness of the other portion is usually 10 μm, the time required for opening in the subsequent process can be reduced for 2 μm. Can be planned.
[0052]
Note that the lower limit of the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 may be a minimum thickness that can act as a barrier layer of the conductor layer 14 when the support substrate 12 is opened, and is, for example, about 3 μm, further about 1 μm. It's okay. Therefore, the thickness of the opening portion 31 in the base layer 13 is preferably 0.1 to 8 μm, and more preferably 1.0 to 5 μm, for example.
[0053]
Next, the conductor layer 14 is formed on the base layer 13 with a predetermined circuit pattern. The conductor layer 14 to be formed as the predetermined circuit pattern is made of a conductor, and such a conductor is not particularly limited. For example, copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof is used. Copper is used. In order to form the conductor layer 14 with a predetermined circuit pattern, the conductor layer 14 is formed on the surface of the base layer 13 by a known patterning method such as a subtractive method, an additive method, or a semi-additive method. The circuit pattern may be formed.
[0054]
In the subtractive method, first, a conductor layer 14 is laminated on the entire surface of the base layer 13 through an adhesive layer if necessary, and then etched on the conductor layer 14 in accordance with a predetermined circuit pattern. A resist is formed, the etching resist is used as a resist, the conductor layer 14 is etched, and then the etching resist is removed.
[0055]
In the additive method, first, a plating resist is formed on the base layer 13 in a pattern reverse to the predetermined circuit pattern, and then the surface of the base layer 13 on which the plating resist is not formed is plated. The conductor layer 14 is formed as a circuit pattern of the above, and thereafter, the plating resist is removed.
[0056]
In the semi-additive method, first, a thin film of a conductor serving as a base is formed on the base layer 13, and then a plating resist is formed on the base in a pattern opposite to a predetermined circuit pattern, The conductor layer 14 is formed as a predetermined circuit pattern by plating on the surface on which the plating resist is not formed, and thereafter, the plating resist and the base on which the plating resist is laminated are removed.
[0057]
Of these patterning methods, the semi-additive method is preferably used as shown in FIG. That is, first, as shown in FIG. 4A, a thin film of a conductor serving as the base 20 is formed on the entire surface of the support substrate 12 and the base layer 13. For the formation of the base 20, a vacuum vapor deposition method, in particular, a sputter vapor deposition method is preferably used. Moreover, chromium, copper, etc. are preferably used for the conductor used as the foundation | substrate 20. FIG. More specifically, for example, it is preferable to sequentially form a chromium thin film and a copper thin film on the entire surface of the support substrate 12 and the base layer 13 by a sputtering deposition method. In addition, it is preferable that the thickness of the chromium thin film is 100 to 600 mm and the thickness of the copper thin film is 500 to 2000 mm.
[0058]
Next, as shown in FIG. 4B, a plating resist 21 having a pattern reverse to the predetermined circuit pattern is formed on the base 20. The plating resist 21 may be formed as a predetermined resist pattern by a known method using, for example, a dry film resist. Next, as shown in FIG. 4C, a conductor layer 14 having a predetermined circuit pattern is formed by plating on a portion of the base 20 where the plating resist 21 is not formed. The plating may be either electrolytic plating or electroless plating, but electrolytic plating is preferably used, and among them, electrolytic copper plating is preferably used. For example, as shown in FIG. 1, the circuit pattern is formed as a plurality of wiring patterns 14a, 14b, 14c, and 14d that are arranged in parallel at a predetermined interval. The thickness of the conductor layer 14 is, for example, 2 to 15 μm, preferably 5 to 10 μm, and the width of each wiring 14a, 14b, 14c, and 14d is, for example, 10 to 500 μm, and preferably 30 to 200 μm. The spacing between the wirings 14a, 14b, 14c, and 14d is, for example, 10 to 200 μm, and preferably 30 to 100 μm.
[0059]
Then, as shown in FIG. 4D, after removing the plating resist 21 by a known etching method such as chemical etching (wet etching) or peeling, as shown in FIG. Similarly, the base 20 on which the resist 21 has been formed is removed by a known etching method such as chemical etching (wet etching). As a result, the conductor layer 14 is formed as a predetermined circuit pattern on the base layer 13.
[0060]
The conductor layer 14 thus formed has a portion formed on the opening portion 31 because the opening portion 31 in the base layer 13 is formed thinner than the other portions in the base layer 13, that is, The terminal forming portion 36 on which the metal plating layer 19 is formed in the subsequent process is formed to be recessed on the support substrate 12 side by the reduced thickness with respect to the other portions of the conductor layer 14. .
[0061]
Next, as shown in FIG. 5, after the surface of the conductor layer 14 is protected by the metal film 22, the conductor layer 14 is covered with a cover layer 18 made of an insulator. That is, first, as shown in FIG. 5A, a metal film 22 is formed on the surface of the conductor layer 14 and the surface of the support substrate 12. The metal film 22 is preferably formed as a hard nickel thin film by electroless nickel plating. The thickness of the metal film 22 only needs to be such that the surface of the conductor layer 14 is not exposed. For example, 0.05 to 0.1 μm Any degree is acceptable.
[0062]
Next, a cover layer 18 for covering the conductor layer 14 is formed as a predetermined pattern. As an insulator for forming the cover layer 18, an insulator similar to that of the base layer 13 is used, and preferably a photosensitive polyimide resin is used.
[0063]
For example, when the cover layer 18 is formed using a photosensitive polyimide resin, the precursor of the photosensitive polyimide resin is formed on the base layer 13 and the metal thin film 22 as shown in FIG. After coating the entire surface of the solution, for example, by heating at 60 to 150 ° C., preferably 80 to 120 ° C., a precursor film 18a of the photosensitive polyimide resin is formed. As shown in FIG. 5 (c), the film 18a is exposed through a photomask 25, and the exposed portion is heated to a predetermined temperature, if necessary, and then developed, whereby the conductor layer 14 is covered with the film 18a. Pattern as you do.
[0064]
As shown in FIGS. 5C and 5D, in this patterning, the terminal of the conductor layer 14 is formed in the portion where the magnetic head side connection terminal 16 and the external side connection terminal 17 are formed. The opening 33 is formed so that the metal thin film 22 formed on the surface of the portion 36 is exposed. The opening 33 may be formed in the same size and shape so as to face the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14.
[0065]
The exposure and development conditions may be the same as the conditions for exposing and developing the base layer 13. In addition, it is preferable to obtain a pattern with a negative type, and in FIG. 5, it is shown as an aspect of patterning with a negative type.
[0066]
Then, the polyimide resin precursor film 18a thus patterned is cured (imidized), for example, by finally heating to 250 ° C. or higher, as shown in FIG. 5 (d). Thus, the cover layer 18 made of polyimide resin is formed on the conductor layer 14. In addition, the thickness of the cover layer 18 is 1-30 micrometers, for example, Preferably, it is 2-5 micrometers.
[0067]
Next, as shown in FIG. 6, the magnetic head side connection terminals 16 and the external side connection terminals 17 are formed as terminals exposed on both sides, for example, so-called flying leads.
[0068]
In order to form the magnetic head side connection terminal 16 and the external side connection terminal 17 as terminals with both surfaces exposed, first, as shown in FIG. 6A, the magnetic head side connection terminal 16 and the external side on the support substrate 12 are formed. The opening 34 is formed so that the opening 31 of the base layer 13 is exposed at the portion where the connection terminal 17 is formed, that is, the portion facing the opening 33 of the cover layer 18. The opening 34 may be formed by a known method. For example, all of the support substrate 12 other than the portion where the opening 34 is formed may be masked and then chemically etched. The opening 34 is formed to be larger than the opening 31 so as to include the opening 31 in the base layer 13.
[0069]
Simultaneously with the formation of the opening 34, the gimbal 15 is cut into a predetermined shape by chemical etching.
[0070]
Next, as shown in FIG. 6B, the metal thin film 22 exposed by opening the cover layer 18 is peeled off. At the same time, the metal thin film 22 formed on the support substrate 12 is also peeled off.
[0071]
Then, as shown in FIG. 6C, the base layer 13 formed on the back surface of the terminal formation portion 36 of the conductor layer 14 on the base layer 13 including the opening portion 31 exposed in the opening 34 of the support substrate 12. Opening 35 is formed so that 20 is exposed. The opening 35 may be formed by a known method, but is preferably formed by etching, particularly plasma etching. According to the etching, the base layer 13 from the exposed surface of the base layer 13 to the base 20 formed on the back surface of the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14 can be precisely shaved. The back surface of the terminal forming portion 36 can be reliably exposed without damaging it.
[0072]
In this plasma etching, the entire base layer 13 including the opening 31 exposed to the opening 34 of the support substrate 12 may be etched using the support substrate 12 as a mask. For example, in an atmosphere filled with a predetermined gas. A sample is disposed between the counter electrodes to generate high-frequency plasma. Examples of the predetermined gas include He, Ne, Ar, Xe, Kr, and N.₂, O₂, CF₄, NF₃Etc. are used. Preferably, Ar, O₂, CF₄, NF₃Is used. These gases may be mixed and used at a predetermined ratio. Moreover, the gas pressure (degree of vacuum) is 0.5-200 Pa, for example, Preferably, it is 10-100 Pa. Moreover, as conditions for generating the high-frequency plasma, the frequency is, for example, 10 kHz to 20 MHz, preferably 10 kHz to 100 kHz, and the processing power is, for example, 0.5 to 10 W / cm.², Preferably 1 to 5 W / cm²It is. When the frequency is from 10 kHz to 100 kHz, matching (resistance tuning) of the plasma etching apparatus is facilitated. Then, under such atmospheric conditions, for example, a sample is disposed on an electrode whose temperature is controlled at 0 to 120 ° C., preferably 10 to 80 ° C., and a predetermined thickness corresponding to the thickness at which the base layer 13 is etched. It is sufficient to process the time.
[0073]
Since the opening 35 of the base layer 13 formed in this way is formed using the support substrate 12 as a mask, it is formed in the same size and shape as the opening 34 of the support substrate 12. Therefore, the opening 35 is formed larger than the terminal formation portion 36 in the conductor layer 14, and the peripheral edge of the base 20 formed on the back surface of the terminal formation portion 36 exposed at the opening 35 of the base layer 13; A predetermined interval is provided in the thickness direction between the peripheral edge of the opening 34 of the support substrate 12.
[0074]
Thereafter, as shown in FIG. 6D, the back surface of the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14 is exposed by peeling off the base 20 exposed in the opening 35 of the base layer 13, and then FIG. As shown in FIG. 5B, the metal plating layer 19 is simultaneously formed on both surfaces of the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14 exposed in this manner by plating. Thereby, the magnetic head side connection terminal 16 and the external side connection terminal 17 are formed in a state where both surfaces are exposed. The formation of the metal plating layer 19 is not particularly limited, and any method of electrolytic plating and electroless plating may be used, and the metal used for plating is not particularly limited, and a known metal can be used. . Preferably, the gold plating layer 27 is formed on the nickel plating layer 26 by sequentially performing electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating. In addition, it is preferable that the thickness of the nickel plating layer 26 and the gold plating layer 27 is about 1 to 5 μm.
[0075]
The metal plating layer 19 formed in this way has a predetermined gap between the peripheral edge of the metal plating layer 19 and the peripheral edge of the opening 35 of the base layer 13 and the opening 34 of the support substrate 12. The intervals are separated.
[0076]
When the suspension board with circuit 11 is manufactured by such a method, in the step of forming the base layer 13, the thickness of the opening portion 31 for exposing the terminal forming portion 36 is made larger than the thickness of other portions in the base layer 13. Since the opening portion 31 is etched in the step of forming the magnetic head side connection terminal 16 and the external side connection terminal 17 because it is formed thinner, the terminal in the conductor layer 14 is thinner than the thickness of the other portions. Etching time for exposing the formation portion 36 can be shortened. Therefore, the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14 can be exposed in a short time, and the magnetic head side connection terminal 16 and the external side connection terminal 17 can be efficiently formed with both surfaces exposed.
[0077]
Therefore, according to such a method, the suspension board with circuit can be manufactured with high production efficiency and can be provided at low cost.
[0078]
Further, in this method, since the opening 35 of the base layer 13 and the opening 34 of the support substrate 12 are formed larger than the terminal formation portion 36 of the conductor layer 14, the peripheral edge of the metal plating layer 19, A predetermined gap is provided between the opening 35 of the base layer 13 and the peripheral edge of the opening 34 of the support substrate 12. Therefore, for example, even if the metal plating layer 19 is formed thick to improve connection reliability, the peripheral edge of the metal plating layer 19 and the peripheral edge of the opening 34 of the support substrate 12 do not come into contact with each other. A short circuit due to contact between the metal plating layer 19 and the support substrate 12 can be reliably prevented. Therefore, it is possible to improve connection reliability and withstand voltage characteristics of the suspension board with circuit 11.
[0079]
In addition, the space | interval (it shows with the space | interval a in FIG. 2) between the peripheral edge of the metal plating layer 19 and the opening part 34 of the support substrate 12 is at least 1 micrometer or more, Preferably, 2- It is preferable to form with a thickness of about 40 μm.
[0080]
Further, in this method, since the opening portion 31 in the base layer 13 is formed thinner than the other portions in the base layer 13, the terminal forming portion 36 formed on the opening portion 31 is a conductor. The other portion of the layer 14 is formed to be recessed on the support substrate 12 side by the reduced thickness. Therefore, the distance from the surface of the support substrate 12 to the surface of the metal plating layer 19 is shortened by the amount recessed relative to the other portions, and the metal plating layer 19 is disposed from the outside of the support substrate 12 correspondingly. Therefore, for example, in connection with a connection terminal of a magnetic head or a read / write substrate, the connection terminal is superimposed on the metal plating layer 19 and is connected by applying ultrasonic vibration with a bonding tool. Can secure a good pressure-bonding property, and can further improve the connection reliability.
[0081]
Note that the distance in the thickness direction between the surface of the metal plating layer 19 and the interface between the base layer 13 and the support substrate 12 (indicated by the distance b in FIG. 2) is ± 6 μm, and further ± 2 μm. It is preferable to form such that
[0082]
In the above description, in the method of the present embodiment, the metal plating layer is formed by forming the opening 35 of the base layer 13 and the opening 34 of the support substrate 12 larger than the terminal formation portion 36 of the conductor layer 14. Although a predetermined interval is provided between the peripheral edge of 19 and the peripheral edge of the opening 35 of the base layer 13 and the opening 34 of the support substrate 12, depending on the purpose and application, the base layer 13 may be provided. The opening 35 and the opening 34 of the support substrate 12 may be formed in the same size and shape as the terminal forming portion 36 of the conductor layer 14.
[0083]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples.
[0084]
Example 1
By coating a solution of a precursor of a photosensitive polyimide resin on a stainless steel foil (SUS304 H-TA) having a thickness of 25 μm so that the thickness after drying becomes 24 μm, and then drying at 130 ° C. A film of a precursor of a photosensitive polyimide resin was formed. The film was then exposed through a photomask (405 nm, 1500 mJ / cm²The exposed portion was heated to 180 ° C. and then developed using an alkaline developer, whereby the film was patterned with a negative image. Next, the patterned photosensitive polyimide resin precursor film is heated at 350 ° C. to be cured (imidized), thereby forming a base layer made of polyimide resin having a thickness of 10 μm in a predetermined pattern. did.
[0085]
Further, in the formation of this base layer, a photomask in which a light transmission portion and a light shielding portion are formed as a repetitive pattern of a metal thin film at a pitch of 6 μm or less at the time of exposure (photomask 32b shown in FIG. 8). In which the average transmittance of the opening portion is about 25% relative to the other portions.) In the coating, the magnetic head side connection terminal and the external side connection terminal are opened in a later step. It is placed on the opening for exposing the conductor layer to the part where the film is formed, and the film is exposed through this photomask. The exposure was also performed so as to reduce the amount. Therefore, after developing and curing this, the thickness of the other part of the base layer was 10 μm, but the thickness of the opening part was 2 μm.
[0086]
Next, a chromium thin film having a thickness of 300 mm and a copper thin film having a thickness of 700 mm are sequentially formed on the entire surface of the stainless steel foil and the base layer by a sputtering vapor deposition method. A conductive film having a predetermined circuit pattern was formed on a portion of the base layer where the plating resist was not formed by electrolytic copper plating. In the conductor layer thus formed, the opening portion in the base layer is formed thinner than the other portions in the base layer, so the terminal forming portion formed on the opening portion in the conductor layer is the conductor. The other part of the layer was formed on the stainless foil side so as to be recessed by about 8 μm in the thickness direction. The thickness of this conductor layer is 20 μm, and the pattern is made up of four wiring patterns arranged in parallel with a predetermined distance from each other, each wiring having a width of 20 μm and a spacing between the wirings of 30 μm. Formed.
[0087]
Thereafter, the plating resist was removed by chemical etching, and then the chromium thin film and the copper thin film on which the plating resist was formed were removed by chemical etching.
[0088]
Next, after forming a hard nickel thin film having a thickness of 0.1 μm on the surface of the conductor layer and the surface of the stainless steel foil by electroless nickel plating, the photosensitive polyimide resin is formed on the nickel thin film and the base layer. After coating the precursor solution, the film of the precursor of the photosensitive polyimide resin is formed by heating at 130 ° C., and then the film is exposed through a photomask (405 nm, 1500 mJ / cm²The exposed portion was heated to 180 ° C., and then developed using an alkaline developer so that the conductor layer was coated with this film. Next, the patterned film of the photosensitive polyimide resin precursor is heated at 350 ° C. to be cured (imidized), whereby a cover layer made of a polyimide resin having a thickness of 3 μm is formed on the conductor layer. Formed.
[0089]
In forming the cover layer, an opening was formed so that the metal thin film formed on the surface of the terminal forming portion of the conductor layer was exposed when patterning. The opening was formed in the same size and shape so as to face the terminal formation portion of the conductor layer.
[0090]
Next, the magnetic head side connection terminal and the external side connection terminal were formed in a state where both surfaces were exposed. That is, first, an opening larger than the opening was formed in a portion of the stainless steel foil facing the opening of the cover layer so that the opening of the base layer was exposed. The opening of the stainless steel foil was formed by chemical etching after masking all parts of the stainless steel foil other than the part forming the opening. Simultaneously with the formation of the opening, the gimbal was cut into a predetermined shape by chemical etching.
[0091]
Next, the metal thin film exposed by opening the cover layer was peeled off, and the metal thin film formed on the stainless steel foil was peeled off.
[0092]
And the base layer containing the opening part exposed in the opening part of stainless steel foil was opened, and the opening part was formed so that the foundation | substrate formed in the back surface of the terminal formation part of a conductor layer might be exposed. The opening of the base layer was formed by plasma etching. In plasma etching, using the stainless steel foil as a mask, the entire base layer including the opening exposed at the opening of the stainless steel foil is filled with CF gas as the sealing gas.₄And O₂And mixed gas (CF₄/ O₂= 20/80), and was processed for about 2 minutes under conditions of a gas pressure (degree of vacuum) of 25 Pa, a frequency of 13.5 MHz, and a processing power of 2500 W.
[0093]
The opening of the base layer formed in this way is formed in the same size and shape as the opening of the stainless steel foil, the peripheral edge of the base exposed in the opening of the base layer, the opening of the base layer, and An interval of about 30 μm was provided between the peripheral edge of the opening of the stainless steel foil.
[0094]
Then, the back surface of the terminal formation part of a conductor layer was exposed by peeling the base | substrate exposed to the opening part of a base layer. Next, a metal plating layer, electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating are sequentially performed on both sides of the terminal forming portion of the conductor layer exposed in this manner, and a nickel plating layer having a thickness of 2 μm and a gold plating having a thickness of 1 μm It formed by forming a plating layer.
[0095]
The metal plating layer on the back surface side of the terminal forming portion formed in this way has a surface of ± 2 μm in the thickness direction with respect to the interface between the base layer and the stainless steel foil, and the metal It formed so that the space | interval of 26 micrometers might be separated between the peripheral edge of a plating layer, and the peripheral edge of the opening part of a base layer, and the opening part of stainless steel foil.
[0096]
Example 2
When a photosensitive polyimide resin precursor is exposed, a metal thin film with a thickness smaller than the above metal thin film is formed on the surface of the portion corresponding to the opening of the base layer in the photomask on which the metal thin film pattern is formed. The magnetic head side connection is performed in the same manner as in Example 1 except that a photomask configured so that the light transmittance at that portion is about 40% with respect to the other portions is used. A suspension board with circuit was produced in which the terminals and the external connection terminals were formed with both surfaces exposed.
[0097]
In the formation of the base layer, the thickness of the other portion of the base layer was 10 μm, but the opening portion could be formed with a thickness of 3 μm. Therefore, the plasma etching of the opening can be performed by a process of about 3 minutes, and the surface of the metal plating layer on the back surface side of the terminal forming portion of the conductor layer is the interface between the base layer and the stainless steel foil. On the other hand, it was formed at ± 2 μm in the thickness direction.
[0098]
Example 3
When exposing the precursor of the photosensitive polyimide resin, first, exposure (405 nm, 600 mJ / cm) is performed using a photomask that does not block the transmitted light corresponding to the opening of the base layer.²And then exposure (405 nm, 1500 mJ / cm) using a photomask that shields the transmitted light in the portion corresponding to the opening portion of the base layer.²The suspension board with circuit was formed by the same operation as in Example 1 except that both the magnetic head side connection terminals and the external side connection terminals were exposed. In this exposure method, since the exposure is performed in two steps, it is necessary to adjust the position of the second exposure pattern to exactly match the first exposure pattern, and the man-hours are large and complicated. .
[0099]
Comparative Example 1
When exposing the precursor of the photosensitive polyimide resin, a base layer is formed as a uniform layer having a thickness of 10 μm without arranging a photomask in a portion corresponding to the opening portion of the base layer, and then a metal plating layer is formed. The magnetic head side connection terminals and the external side connection terminals are formed on both sides by the same operation as in Example 1 except that the support substrate is used as a mask to form the entire surface of the conductive layer exposed on the entire surface of the opening of the base layer. A suspension board with circuit formed in a state where the surface is exposed was prepared.
[0100]
When this base layer was plasma-etched, a processing time of about 10 minutes was required. Further, in the suspension board with circuit thus obtained, the thickness of the peripheral end portion of the metal plating layer on the back surface side in the terminal formation portion of the conductor layer and the peripheral end edge of the opening portion of the base layer and the support substrate There were no gaps in the direction, and the surface of the metal plating layer was formed with a thickness direction of ± 2 μm with respect to the interface between the base layer and the stainless steel foil.
[0101]
【The invention's effect】
As described above, in the method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the insulating layer can be quickly opened and the conductor layer can be exposed in a short time, so that the terminals can be efficiently formed and produced. It is possible to improve the performance.
[0102]
Further, in this method, when the thickness of the opening is 8 μm or less, for example, when the thickness of other normal portions is 10 μm, the time required for opening is shortened for 2 μm or more. Can do.
[0103]
Further, in this method, the opening portion in the precursor of the photosensitive resin and the other portion are exposed with different exposure amounts, and developed and cured, thereby changing the thickness of the opening portion in the insulating layer to the other portion. If it is formed thinner than the thickness of the part, the thickness of the opening part can be easily and surely made thinner than the thickness of the other part. In this case, the irradiation of the opening part in the precursor of the photosensitive resin is performed. By exposing the precursor of the photosensitive resin using a photomask configured so that the transmittance of light and the transmittance of irradiated light in other portions are different, the opening portion can be easily and reliably exposed. The thickness can be made thinner than the thickness of other portions.
[0104]
Furthermore, as this photomask, if a specific portion corresponding to the opening portion is formed with a pattern of a light transmitting portion and a light shielding portion, and the width of one light transmitting portion or the light shielding portion is 6 μm or less, The exposure amount of the opening can be reliably adjusted by one exposure, and the photosensitive resin precursor can be uniformly irradiated without improving the resolution of the irradiation light. The thickness can be reduced uniformly.
[0105]
And the manufacturing method of the wired circuit board of this invention can be used suitably for manufacture of a suspension board with a circuit.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a suspension with circuit as an embodiment of a wired circuit board of the present invention.
2 is a cross-sectional view of the suspension board with circuit shown in FIG. 1 showing a magnetic head side connection terminal and an external side connection terminal along the longitudinal direction of the wiring.
FIG. 3 shows a step of preparing a support substrate and forming a base layer with a predetermined pattern on the support substrate in the method of manufacturing a suspension board with circuit as a method of manufacturing a wired circuit board according to the present invention. (A) is a step of preparing a support substrate, (b) is a step of forming a photosensitive polyimide resin precursor film on the support substrate, (c) The film is exposed through a photomask and developed to form a predetermined pattern, and (d) represents a process of curing the patterned film to form a base layer.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of forming a conductor layer with a predetermined circuit pattern on the base layer, wherein (a) is a step of forming a base on the support substrate and the base layer; A step of forming a plating resist having a reverse pattern to the predetermined circuit pattern on the base; and (c) a conductor having a predetermined circuit pattern by electrolytic plating on a portion of the base layer where the plating resist is not formed. The step of forming a layer, (d) shows the step of removing the plating resist, and (e) shows the step of removing the base.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a process of covering a surface of a conductor layer in a circuit pattern with a metal film and then covering with a cover layer, wherein (a) is a process of forming a metal film on the surface of the conductor layer; (B) is a step of forming a photosensitive polyimide resin precursor film on the base layer and the metal film, and (c) is to develop the film by exposing the film through a photomask. (D) shows the process of curing the patterned film and forming the cover layer.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a process of forming a magnetic head side connection terminal and an external side connection terminal in a state where both surfaces are exposed, (a) is a magnetic head side connection terminal and an external side connection on a support substrate (B) is a step of peeling the exposed conductor layer and the metal thin film formed on the supporting substrate, and (c) is exposed at the opening of the supporting substrate. A step of opening the base layer corresponding to the opening, (d) a step of peeling the exposed base by opening the base layer, and (e) a double-sided surface of the exposed conductor layer. Shows a step of forming a metal plating layer.
FIG. 7 is a schematic plan view of an embodiment of a photomask used for exposing a film in FIG.
FIG. 8 is a schematic plan view of an embodiment of a photomask used for exposing a film in FIG.
FIG. 9 is a schematic plan view of one embodiment of a photomask used for exposing a film in FIG.
FIG. 10 is a schematic plan view of an embodiment of a photomask used for exposing a film in FIG.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a process of forming a terminal with both surfaces exposed in a conventional method of manufacturing a suspension board with circuit, wherein (a) is an opening for forming a terminal in a cover layer; (B) is a step of forming an opening for forming a terminal in the support substrate, (c) is a step of forming a base layer exposed at the opening of the support substrate into the opening. The step of opening correspondingly, (d) shows the step of forming a metal plating layer on both sides of the exposed conductor layer.
[Explanation of symbols]
11 Suspension board with circuit
12 Support substrate
13 Base layer
14 Conductor layer
19 Metal plating layer
31 opening
32 photomask
34 Opening of support substrate
35 Opening of base layer
36 Terminal formation part

Claims

An insulating layer is formed on the metal support layer, a conductor layer is formed on the insulating layer, and the metal support layer and the insulating layer are opened to expose the surface of the conductor layer. A method for manufacturing a printed circuit board, wherein the conductor layer is a terminal forming portion for forming a terminal,
In the formation of the insulating layer, the thickness of the opening portion for exposing the conductor layer in the insulating layer is formed thinner than the thickness of the other portion in the insulating layer, Manufacturing method.

The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein a thickness of the opening in the insulating layer is 8 μm or less.

Forming the insulating layer by curing a precursor of a photosensitive resin;
The opening part and the other part in the precursor of the photosensitive resin are exposed with different exposure amounts, and developed and cured, thereby reducing the thickness of the opening part in the insulating layer. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 1, wherein the wiring circuit board is formed thinner than the thickness of the printed circuit board.

Using a photomask configured such that the transmittance of the irradiation light of the opening portion in the precursor of the photosensitive resin is different from the transmittance of the irradiation light of the other portion,
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 3, wherein the opening portion and the other portion in the precursor of the photosensitive resin are exposed with different exposure amounts.

In the photomask, a pattern of a light transmission part and a light shielding part is formed in a part corresponding to the opening part,
5. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 4, wherein the width of one light transmitting portion or light shielding portion is 6 [mu] m or less.

The method for manufacturing a wired circuit board according to claim 1, wherein the wired circuit board is a suspension board with circuit.

A photomask used for exposing a precursor of a photosensitive resin for forming an insulating layer,
A pattern of a light transmitting portion and a light shielding portion is formed on a specific portion of the photomask corresponding to an opening portion that is opened after the photosensitive resin precursor is cured. A photomask, characterized by being formed in a repetitive lattice pattern.

A photomask used for exposing a precursor of a photosensitive resin for forming an insulating layer,
As a pattern of a light transmitting portion and a light shielding portion, a light transmitting portion or a light shielding portion having a diameter of 6 μm or less is formed on a specific portion of the photomask corresponding to the opening portion opened after the photosensitive resin precursor is cured. A photomask characterized in that circular shapes are arranged in a staggered pattern.