JP3678910B2 - Scanning electron microscope - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、試料を傾斜させる際、試料の傾斜によっても観察視野の移動をなくすようにした走査電子顕微鏡に関する。
【0002】
【従来の技術】
走査電子顕微鏡では、試料上で電子ビームを2次元的に走査し、試料から発生した2次電子や反射電子を検出し、検出信号を陰極線管に供給して試料の走査像を得るようにしている。
【0003】
このような走査電子顕微鏡において、試料は水平移動、回転移動、Z方向移動(ワーキングディスタンスの移動)、傾斜移動が可能なステージ上に載せられている。そして、これらの移動を行うことにより、視野移動や回転観察、傾斜観察等を行うようにしている。
【0004】
ところで、傾斜ステージを駆動して試料の傾斜観察を行う場合、観察画面の中央が傾斜軸上に位置する条件、すなわち、ユーセントリックの条件を保つ必要がある。試料がユーセントリックの条件から外れていると、観察している視野が傾斜にともなって移動してしまう。
【0005】
図1はこのような状態を示したもので、図1(a)は試料sがユーセントリックの条件を満足している状態であり、水平状態の試料1の観察中心(光軸O上の試料位置)A点と傾斜軸Pとが一致している。この場合には、水平状態の試料を傾斜させて点線の状態としても、光軸O上の試料位置Aは変化せず、傾斜に伴う視野の移動は生じない。
【0006】
図1(b)は試料sがユーセントリックの条件を満足していない状態、すなわち、試料sの高さがずれて、水平状態の試料sの観察中心(光軸O上の試料位置)A点と傾斜軸PがZ方向にずれている状態となっている。この場合には、水平状態の試料を傾斜させて点線の状態とすると、水平状態における観察中心A点は光軸OからずれてA´点となり、その結果、観察視野が変化してしまう。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記したことを考慮し、通常は、観察視野の中心がユーセントリックの位置となるように、試料をステージに装着する際、試料の高さがユーセントリック位置となるように、目視で位置合わせを行う。しかしながら、目視による試料のZ方向の位置合わせには精度的に限界があると共に、面倒な作業となる。
【0008】
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、その目的は、自動的に試料の高さ位置をユーセントリックの条件を満足させるように位置合わせすることができる走査電子顕微鏡を実現するにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明に基づく走査電子顕微鏡は、試料をZ方向移動ステージ上の傾斜ステージ上に載置し、試料上で細かく絞った電子ビームを2次元的に走査し、試料への電子ビームの走査にともなって得られた信号に基づいて画像を表示するようにした走査電子顕微鏡において、Z方向移動ステージのZ方向位置を検出することにより試料のZ方向位置を測定する測定手段と、電子ビームのオートフォーカスを実施する手段とを備え、測定手段によって測定された試料のZ方向位置と、オートフォーカス動作に基づいて得られた試料のZ方向位置との差を求め、その差に応じて試料のZ方向位置の調整を行うようにしたことを特徴としている。
【0010】
本発明では、Z方向移動ステージのZ方向位置を検出することにより試料のZ方向(高さ方向)の位置を測定すると共に、オートフォーカス動作に基づいて試料のZ方向位置を算出し、得られた2種のZ方向位置の差に応じて試料の高さ方向の位置を補正する。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図2は本発明が適用された走査電子顕微鏡を示している。図中1は電子銃であり、電子銃1から発生し加速された電子ビームEBは、コンデンサレンズ2、対物レンズ3により試料4上に細く集束される。対物レンズ3に接近して補助コイル5が配置されているが、対物レンズ3は駆動回路6により駆動され、補助コイル5は駆動回路7により駆動される。
【0012】
更に電子ビームEBは偏向コイル8によりX,Yの2方向に走査される。偏向コイル8には、走査回路9より走査信号が供給されるが、走査回路9は走査制御回路10によって制御される。
【0013】
試料4への電子ビームEBの照射によって試料から発生した2次電子は、2次電子検出器11によって検出される。2次電子検出器11の検出信号は、図示していない陰極線管に供給されると共に、AD変換器12を介してメモリー13に供給されて記憶される。メモリー13に記憶された信号は、1画面分の信号ごとに積算回路14において積算される。
【0014】
試料4はZ方向移動ステージ15上に設けられた傾斜ステージ16上に載せられている。Z方向移動ステージ15は駆動回路17によって駆動され、試料4をZ方向に移動させる。また、傾斜ステージ16は駆動回路18によって駆動され、試料4を傾斜させる。試料のZ方向位置は、Z位置検出手段19によって測定される。
【0015】
前記走査制御回路10、対物レンズ駆動回路6、補助コイル駆動回路7、Z方向移動ステージ駆動回路17、傾斜ステージ駆動回路18は、コンピュータ20によって制御される。また、積算回路14からの積算値は、コンピュータ20に供給される。
【0016】
コンピュータ20は後述するオートフォーカス動作を行い、このオートフォーカス動作に基づいて得られた試料のZ方向位置の信号は比較回路21に供給される。また、Z方向位置検出手段19によって測定されたZ位置の信号も、比較回路21に供給される。コンピュータ20にはメモリー22が設けられており、このメモリー22には比較回路21によって求められたZ方向の位置ずれ量が記憶される。このような構成の動作を次に説明する。
【0017】
まず、通常の走査電子顕微鏡像の観察は、電子銃1から発生し加速された電子ビームEBをコンデンサレンズ2と対物レンズ4によって試料4上に細く集束する。更に走査制御回路10から設定された走査速度と倍率に応じて走査回路9から走査信号を偏向コイル8に供給することにより、試料4上の所定領域で電子ビームを2次元的に走査する。
【0018】
試料4への電子ビームEBの照射によって発生した2次電子は、2次電子検出器11によって検出される。検出器11の検出信号は、図示していない陰極線管に供給されることから、陰極線管には試料の走査像が表示される。
【0019】
次に試料の位置に関し、ユーセントリックの条件を満足させる位置補正動作について説明する。最初に、試料4をステージ上載せた後、Z位置検出手段19により試料のZ位置を測定する。測定された試料のZ位置信号は、コンピュータ20と比較回路21に供給される。
【0020】
コンピュータ20は、供給されたZ位置信号に基づいて対物レンズ駆動回路6を制御し、このZ位置に対応した励磁強度で対物レンズ3を駆動させる。この状態でコンピュータ20は、オートフォーカス動作を実行する。このオートフォーカス動作は、図3に示すように、画像Dに対し、傾斜軸Pに沿った範囲Sで行うように、コンピュータ20は走査制御回路10を制御する。
【0021】
なお、このオートフォーカス動作を行う前には、必ず対物レンズ3のヒステリシス除去を行い、フォーカス高さ位置の精度を高くする必要がある。オートフォーカスは、コンピュータ20により補助コイル駆動回路7を制御し、補助コイル5にステップ上の励磁電流を流し、1ステップごとに試料上の電子ビームの焦点をずらすようにする。この1ステップごとに試料上の範囲Sは電子ビームによって1回走査される。
【0022】
1ステップごとの電子ビームの走査に基づいて、検出器11によって検出された2次電子検出信号は、AD変換器12によってディジタル信号に変換された後、メモリー13に送られて記憶される。メモリー13に記憶された1画面分の検出信号は、積算回路14により積算される。積算回路14の積算信号は、コンピュータ20に供給され、そのときの補助コイル5の励磁電流に対応させて記憶される。
【0023】
このような試料上の範囲Sにおける電子ビームの走査、および、2次電子検出信号の積算処理と記憶を、補助コイル5へのステップ状の励磁電流変化ごとに行うと、コンピュータ20には補助コイル5の各励磁電流ごとの積算結果が得られることになる。コンピュータ20は、各積算結果を比較し、積算値の最大ピーク値が得られた励磁電流を取得し、この励磁電流を補助コイル5に供給するか、対物レンズ5の励磁電流の補正を行って、オートフォーカス合わせを終了させる。
【0024】
さて、このようなオートフォーカス動作にともない、コンピュータ20は積算値の最大ピーク値から試料4のZ方向位置を算出する。算出されたZ方向位置は、比較回路21に供給される。比較回路21では、コンピュータ20から供給されたオートフォーカス動作により求められた試料のZ方向位置と、Z位置検出手段19によって測定されたZ方向位置との差ΔZを求める。
【0025】
この差ΔZの値はコンピュータ20に供給され、コンピュータ20はこの値に基づいてZ方向ステージ駆動回路17を制御し、Z方向移動ステージ15を移動させて試料4の高さ補正を行う。この動作により、試料4はユーセントリックの条件を満足することになり、試料の傾斜観察を行っても、視野の逃げが発生することはない。
【0026】
なお、コンピュータ20によって求められた差分ΔZの値は、メモリー22に送られて記憶される。このメモリー22に記憶されたΔZは、その後ステージを移動させた場合に、試料のZ方向移動誤差分のデフォルト値として使用される。
【0027】
以上本発明の一実施の形態を説明したが、本発明はこの形態に限定されるものではない。例えば、2次電子を検出したが、反射電子を検出するようにしても良い。
【0028】
【発明の効果】
本発明では、Z方向移動ステージのZ方向位置を検出することにより試料のZ方向(高さ方向)の位置を測定すると共に、オートフォーカス動作に基づいて試料のZ方向位置を検出し、得られた2種のZ方向位置の差に応じて試料の高さ方向の位置を補正するようにしたので、ユーセントリックの位置を自動的に検出でき、自動的に、高い精度で試料の高さ位置をユーセントリック位置に設定することができる。その結果、試料を試料ステージ上にセットする場合の誤差の許容範囲が広がることになる。また、試料を移動や回転、傾斜させる5軸ステージをモータコントロールする場合のユーセントリック動作を、自動的に高い精度で実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ユーセントリックの条件を説明するための図である。
【図2】本発明に基づく走査電子顕微鏡の一例を示す図である。
【図3】オートフォーカス時の試料の電子ビームによる走査範囲を説明するための図である。
【符号の説明】
1 電子銃
2 コンデンサレンズ
3 対物レンズ
4 試料
5 補助コイル
6,7,17,18 駆動回路
8 偏向コイル
9 走査回路
10 走査制御回路
11 2次電子検出器
12 AD変換器
13 メモリー
14 積算回路
15 Z方向移動ステージ
16 傾斜ステージ
19 Z位置検出手段
20 コンピュータ
21 比較回路
22 メモリー
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a scanning electron microscope in which the movement of an observation field is eliminated by tilting a sample when the sample is tilted.
[0002]
[Prior art]
In a scanning electron microscope, an electron beam is scanned two-dimensionally on a sample, secondary electrons and reflected electrons generated from the sample are detected, and a detection signal is supplied to a cathode ray tube to obtain a scanned image of the sample. Yes.
[0003]
In such a scanning electron microscope, the sample is placed on a stage that can be moved horizontally, rotated, moved in the Z direction (moving the working distance), and moved in an inclined manner. By performing these movements, visual field movement, rotation observation, tilt observation, and the like are performed.
[0004]
By the way, when the tilt stage is driven to perform the tilt observation of the sample, it is necessary to maintain the condition that the center of the observation screen is located on the tilt axis, that is, the eucentric condition. If the sample deviates from the eucentric condition, the field of view to be observed moves with an inclination.
[0005]
FIG. 1 shows such a state. FIG. 1A shows a state where the sample s satisfies the eucentric condition, and the observation center of the sample 1 in the horizontal state (the sample on the optical axis O). Position) The point A and the tilt axis P coincide with each other. In this case, even if the sample in the horizontal state is tilted so as to be in the dotted line state, the sample position A on the optical axis O does not change and the visual field does not move with the tilt.
[0006]
FIG. 1B shows a state where the sample s does not satisfy Eucentric conditions, that is, the center of observation (sample position on the optical axis O) A of the sample s in the horizontal state with the height of the sample s shifted. And the tilt axis P is shifted in the Z direction. In this case, if the sample in the horizontal state is tilted to be in the dotted line state, the observation center A point in the horizontal state is shifted from the optical axis O to A ′ point, and as a result, the observation field of view changes.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Considering the above, normally, when mounting the sample on the stage so that the center of the observation field is at the eucentric position, alignment is done visually so that the height of the sample is at the eucentric position. Do. However, the alignment of the sample in the Z direction by visual inspection is limited in accuracy and is troublesome.
[0008]
The present invention has been made in view of these points, and an object thereof is to realize a scanning electron microscope capable of automatically aligning the height position of a sample so as to satisfy Eucentric conditions. It is in.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In the scanning electron microscope according to the present invention, a sample is placed on an inclined stage on a Z-direction moving stage, an electron beam finely focused on the sample is two-dimensionally scanned, and the sample is scanned with the electron beam. In a scanning electron microscope configured to display an image based on the obtained signal, a measuring means for measuring the Z-direction position of the sample by detecting the Z-direction position of the Z-direction moving stage, and autofocus of the electron beam The difference between the Z direction position of the sample measured by the measuring means and the Z direction position of the sample obtained based on the autofocus operation is obtained, and the Z direction of the sample is determined according to the difference. It is characterized in that the position is adjusted.
[0010]
In the present invention, the position in the Z direction (height direction) of the sample is measured by detecting the Z direction position of the Z direction moving stage, and the Z direction position of the sample is calculated based on the autofocus operation. The position in the height direction of the sample is corrected according to the difference between the two kinds of Z-direction positions.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2 shows a scanning electron microscope to which the present invention is applied. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an electron gun. An electron beam EB generated from the electron gun 1 and accelerated is finely focused on the sample 4 by the condenser lens 2 and the objective lens 3. Although the auxiliary coil 5 is disposed close to the objective lens 3, the objective lens 3 is driven by the drive circuit 6, and the auxiliary coil 5 is driven by the drive circuit 7.
[0012]
Further, the electron beam EB is scanned in the X and Y directions by the deflection coil 8. A scanning signal is supplied to the deflection coil 8 from the scanning circuit 9, and the scanning circuit 9 is controlled by a scanning control circuit 10.
[0013]
Secondary electrons generated from the sample by irradiation of the sample 4 with the electron beam EB are detected by the secondary electron detector 11. The detection signal of the secondary electron detector 11 is supplied to a cathode ray tube (not shown) and also supplied to the memory 13 via the AD converter 12 and stored therein. The signals stored in the memory 13 are integrated in the integration circuit 14 for each signal for one screen.
[0014]
The sample 4 is placed on an inclined stage 16 provided on the Z-direction moving stage 15. The Z direction moving stage 15 is driven by the drive circuit 17 to move the sample 4 in the Z direction. The tilt stage 16 is driven by the drive circuit 18 to tilt the sample 4. The Z direction position of the sample is measured by the Z position detecting means 19.
[0015]
The scanning control circuit 10, the objective lens driving circuit 6, the auxiliary coil driving circuit 7, the Z-direction moving stage driving circuit 17, and the tilt stage driving circuit 18 are controlled by a computer 20. Further, the integrated value from the integrating circuit 14 is supplied to the computer 20.
[0016]
The computer 20 performs an autofocus operation, which will be described later, and a signal at the Z-direction position of the sample obtained based on the autofocus operation is supplied to the comparison circuit 21. The Z position signal measured by the Z direction position detection means 19 is also supplied to the comparison circuit 21. The computer 20 is provided with a memory 22 in which the amount of misalignment in the Z direction obtained by the comparison circuit 21 is stored. The operation of such a configuration will be described next.
[0017]
First, an ordinary scanning electron microscope image is observed by focusing the electron beam EB generated from the electron gun 1 and accelerated on the sample 4 by the condenser lens 2 and the objective lens 4. Further, by supplying a scanning signal from the scanning circuit 9 to the deflection coil 8 in accordance with the scanning speed and magnification set from the scanning control circuit 10, the electron beam is scanned two-dimensionally in a predetermined region on the sample 4.
[0018]
Secondary electrons generated by irradiation of the sample 4 with the electron beam EB are detected by the secondary electron detector 11. Since the detection signal of the detector 11 is supplied to a cathode ray tube (not shown), a scanning image of the sample is displayed on the cathode ray tube.
[0019]
Next, a position correction operation for satisfying the Eucentric condition regarding the position of the sample will be described. First, after placing the sample 4 on the stage, measuring the Z position of the sample by the Z-position detecting means 19. The Z position signal of the measured sample is supplied to the computer 20 and the comparison circuit 21.
[0020]
The computer 20 controls the objective lens driving circuit 6 based on the supplied Z position signal, and drives the objective lens 3 with the excitation intensity corresponding to this Z position. In this state, the computer 20 executes an autofocus operation. As shown in FIG. 3, the computer 20 controls the scanning control circuit 10 so that the autofocus operation is performed on the image D in a range S along the tilt axis P.
[0021]
Note that before performing this autofocus operation, always perform hysteresis removal of the objective lens 3, is the accuracy of the focus height position requires high Kusuru. In the autofocus, the auxiliary coil drive circuit 7 is controlled by the computer 20, and an excitation current on the step is supplied to the auxiliary coil 5, so that the focus of the electron beam on the sample is shifted for each step. The area S on the sample is scanned once by the electron beam for each step.
[0022]
Based on the scanning of the electron beam for each step, the secondary electron detection signal detected by the detector 11 is converted into a digital signal by the AD converter 12 and then sent to the memory 13 for storage. The detection signals for one screen stored in the memory 13 are integrated by the integration circuit 14. The integration signal of the integration circuit 14 is supplied to the computer 20 and stored in correspondence with the exciting current of the auxiliary coil 5 at that time.
[0023]
When such scanning of the electron beam in the range S on the sample and integration processing and storage of the secondary electron detection signal are performed for each stepwise excitation current change to the auxiliary coil 5, the computer 20 includes the auxiliary coil. 5 is obtained for each excitation current. The computer 20 compares the respective integration results, acquires the excitation current at which the maximum peak value of the integration value is obtained, and supplies this excitation current to the auxiliary coil 5 or corrects the excitation current of the objective lens 5. End autofocusing.
[0024]
With this autofocus operation, the computer 20 calculates the Z direction position of the sample 4 from the maximum peak value of the integrated value. The calculated Z-direction position is supplied to the comparison circuit 21. In the comparison circuit 21, a difference ΔZ between the Z direction position of the sample obtained by the autofocus operation supplied from the computer 20 and the Z direction position measured by the Z position detecting means 19 is obtained.
[0025]
The value of the difference ΔZ is supplied to the computer 20, and the computer 20 controls the Z direction stage drive circuit 17 based on this value and moves the Z direction moving stage 15 to correct the height of the sample 4. By this operation, the sample 4 satisfies the eucentric conditions, and even when the sample is tilted, the field of view does not escape.
[0026]
Note that the value of the difference ΔZ obtained by the computer 20 is sent to the memory 22 and stored therein. The ΔZ stored in the memory 22 is used as a default value for the movement error of the sample in the Z direction when the stage is subsequently moved.
[0027]
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this embodiment. For example, secondary electrons are detected, but reflected electrons may be detected.
[0028]
【The invention's effect】
In the present invention, the position in the Z direction (height direction) of the sample is measured by detecting the Z direction position of the Z direction moving stage, and the Z direction position of the sample is detected based on the autofocus operation. Since the position in the height direction of the sample is corrected according to the difference between the two Z-direction positions, the Eucentric position can be automatically detected, and the height position of the sample can be automatically detected with high accuracy. Can be set to the eucentric position. As a result, the allowable range of error when setting the sample on the sample stage is widened. Further, it is possible to automatically realize a eucentric operation with high accuracy when the 5-axis stage for moving, rotating, and tilting the sample is controlled by a motor.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram for explaining Eucentric conditions;
FIG. 2 is a diagram showing an example of a scanning electron microscope according to the present invention.
FIG. 3 is a diagram for explaining a scanning range of a specimen by an electron beam during autofocus.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electron gun 2 Condenser lens 3 Objective lens 4 Sample 5 Auxiliary coils 6, 7, 17, 18 Drive circuit 8 Deflection coil 9 Scan circuit 10 Scan control circuit 11 Secondary electron detector 12 AD converter 13 Memory 14 Integration circuit 15 Z Direction moving stage 16 Inclined stage 19 Z position detecting means 20 Computer 21 Comparison circuit 22 Memory

Claims (1)

試料をZ方向移動ステージ上の傾斜ステージ上に載置し、試料上で細かく絞った電子ビームを2次元的に走査し、試料への電子ビームの走査にともなって得られた信号に基づいて画像を表示するようにした走査電子顕微鏡において、Z方向移動ステージのZ方向位置を検出することにより試料のZ方向位置を測定する測定手段と、電子ビームのオートフォーカスを実施する手段とを備え、測定手段によって測定された試料のZ方向位置と、オートフォーカス動作に基づいて得られた試料のZ方向位置との差を求め、その差に応じて試料のZ方向位置の調整を行うようにした走査電子顕微鏡。A sample is placed on an inclined stage on a Z-direction moving stage, an electron beam finely focused on the sample is scanned two-dimensionally, and an image is obtained based on a signal obtained by scanning the sample with the electron beam. In the scanning electron microscope, the measuring means is provided with measuring means for measuring the Z-direction position of the sample by detecting the Z-direction position of the Z-direction moving stage, and means for performing autofocus of the electron beam. Scanning in which the difference between the Z direction position of the sample measured by the means and the Z direction position of the sample obtained based on the autofocus operation is obtained, and the Z direction position of the sample is adjusted according to the difference electronic microscope.
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