JP3600462B2 - Method for manufacturing hologram element - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクシステムたとえばコンパクトディスクやビデオディスクにおいて使用される光ピックアップに組み込まれるホログラム付きレーザに関するものである。
【0002】
これは、ディスクに反射して戻ってきた半導体レーザの光をホログラム素子により分割し、記録信号を正確に読み出すためのトラッキング情報信号と記録信号とを分離して受光素子または受光素子付き信号処理集積回路へ各々導き出力信号を得るための装置に使用される。
【0003】
【従来の技術】
図1および図2に従来例を示す。
【0004】
図1は上面にのみホログラムパターンがある素子の例で、通常ガラスやアクリル樹脂などの光透過特性の良い材料にて作製される。
【0005】
図2に、図1のホログラムパターンにより回折されたレーザ光の経路の一例およびレーザ出射光のうち信号処理に寄与しない部分の経路の一例を模式的に示している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
図2に従来のホログラム素子における回折光の様子を模式的に示している。
【0007】
簡単のためにこの図では屈折による影響を省略している。
【0008】
この例では、ホログラム素子はその0次回折光と1次回折光とを使用している。0次回折光はレーザの出射光をそのまま導き光ディスクを照射するのに使用し、戻ってきた光のプラス1次回折光を受光素子の必要な部位へ落射させている。
【0009】
しかし、ホログラムの特性として特にブレーズ化が困難なガラスのホログラム素子ではマイナス1次光の強度はプラス1次光の強度と同じでありかつ強度は弱いものの高次の回折光も同時に生じる。これらの光は信号処理には寄与せず迷光となる。
【0010】
また、通常半導体レーザからの出射光は一定の広がりと強度分布を持っている。
【0011】
設計では全ての出射光量をホログラムパターンへ導入するわけではなく、対物レンズの開口数にあわせてパターンのサイズを最適化している。
【0012】
このためホログラムパターンを通過しなかった光は不要な光となりホログラム素子界面で反射したものは上述の迷光となりうる。図3にこの様子を模式的に示している。
【0013】
これらの迷光は受光素子へ入り込み信号対雑音比を悪化させる要因となる。
【0014】
ホログラム素子の上面及び下面では反射を低減するため反射防止膜を形成するのが一般的であるが、反射をゼロにすることは不可能である。
【0015】
本発明は、上述する問題点を解決するためになされたもので、迷光の低減を図ることを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るホログラム素子は、半導体レーザのレーザビームの出射軸方向に対して垂直な面に、少なくとも1つのホログラムパターンが配置されたホログラム素子であって、その側面の少なくとも一つに、前記半導体レーザの出射光の波長の光を吸収する光吸収材料層を形成してなることによって、上記の目的を達成する。
【0017】
前記光吸収材料層が、前記ホログラムパターンを除くほぼ全面に形成されてなることによって、上記の目的を達成する。
【0018】
前記光吸収材料層が、前記ホログラムパターンをなす材料と同一の材料であることによって、上記の目的を達成する。
【0019】
前記半導体レーザの出射光に対して透明な材料からなるコア材に、少なくとも前記光吸収材料層と前記ホログラムパターンとが形成されてなり、且つ、前記コア材の上面が、面一であることによって、上記の目的を達成する。
【0020】
前記半導体レーザの出射光に対して透明な材料からなるコア材に、少なくとも前記光吸収材料層と前記ホログラムパターンとが形成されてなり、且つ、前記コア材の上面が、信号処理に用いられるレーザ光の通る領域を除いて傾斜してなることによって、上記の目的を達成する。
【0021】
上記のホログラム素子を製造する際、軸となるランナーで接続された、複数のコア材を一体成型する工程と、前記コア材の少なくとも側面を含む周囲に光吸収材料層を一体成型する工程と、前記ランナーを分割する工程と、からなることによって、上記の目的を達成する。
【0022】
即ち、本発明は、上述の問題点を鑑み、ホログラム素子の側面に光吸収材料の層を形成し側面での反射を低減させる。
【0023】
また、ホログラム素子のコア材となるガラスまたは樹脂の形状を工夫することによりホログラムパターンを通過せず信号処理に寄与しない迷光成分を吸収させることで迷光の低減を図る。
【0024】
以下、本発明の作用を記載する。
【0025】
図4および図5に本発明による光吸収層を側面にもつホログラムの模式図を示す。
【0026】
側面の光吸収層により、コア材内部での複数回の反射による迷光が低減される。
【0027】
この場合、特に吸収層に関して、コア材との界面で屈折率が異なると反射を生じて効果が薄れることから、吸収層の材料は基本的にコア材と同じ材質が望ましい。
【0028】
一方、樹脂でコア材を成型する場合にはガラスを用いた場合よりも形状的に設計の自由度が持てる。このため図6に示すような形状のコア材と、先に述べた吸収層との組み合わせでさらに図3で示すような信号処理で使用する部分以外のレーザ出力光を吸収するような構造のホログラム素子を形成することでより迷光の低減が図れる。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
【0030】
図7は、本発明の実施例を示す図である。同図中、コア材1の上面にホログラムパターン2を備えたものであり、a)はコア材1の側面全体を光吸収材料層3で被った実施例であり、b)はコア材1の2側面のみを光吸収材料層3で被った実施例であり、c)はコア材1上部のホログラムパターン2周辺及び全側面を光吸収材料層3で被った実施例である。
【0031】
光吸収材料で被った場合、図4に示すように光の回折状態が吸収されて迷光が減少し、図5に示すようにホログラム素子内を通過する光束から生じる迷光も減少する。
【0032】
ここで、コア部分6の形状をホログラムパターン2とほぼ面一に形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、図6(a)(b)に示すごとく、コア部分6のホログラムパターン2形成面に、角度をもたせてもよく、また、角度をもたせた分、光吸収材料層3で埋め込むようにし、光吸収材料層3上面とホログラムパターン2形成面とをほぼ面一にしてもよい。
【0033】
図8にホログラム素子の製造方法を示す。図8のa)は従来方法の例、b)は本発明に基づく実施例を示すものである。
【0034】
図8a)に示す従来例においては、硝子板4にホログラムパターン2を複数個作成し(a−1)それをダイシングにより切り出して1つの素子5を作製する(a−2)。
【0035】
一方、図8b)に示す実施例においては、複数のコア部分6をランナー7でつなぐよう一体成型して作製する(b−1)。次に、これに光吸収材料層3を一体成型し(b−2)、その後ダイシング等により切り出して一つの素子5を作製する。ホログラムパターン2と光吸収材料層3とを同一の材料で形成する場合、光吸収材料層3を一体成型するときに同時に形成するのが好ましいが、別工程で形成してもよい。
【0036】
【発明の効果】
本発明により、従来のホログラム素子よりも迷光の低減を図ることが可能となり、このホログラム素子を用いて、ホログラムレーザを成すことにより、信号対雑音比の向上を図ることができ、結果的にレーザの出力も低減できることから、より信頼性が高く高性能のホログラムレーザを提供しうる。
【0037】
また、樹脂を使用したホログラム素子では、光の吸収層をコア材との一体成型で作製することができるため、大量生産が可能となりコストダウンを図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のホログラム素子の例を示す図である。
【図2】図1に示す従来のホログラム素子による信号検出の光の回折状態を示す模式図である。
【図3】図1に示す従来のホログラム素子による、レーザの出力のホログラム素子内を通過する光束の模式図である。
【図4】本発明の1実施例によるホログラム素子の模式図である。
【図5】本発明の1実施例によるホログラム素子の模式図である。
【図6】図4、図5に示すホログラム素子のコア材の形状を変えた場合の本発明の実施例の変形例を示す図である。
【図7】本発明の1実施例を示す図である。
【図8】本発明と従来例の製造方法を比較した図である。
【符号の説明】
1 コア材
2 ホログラムパターン
3 光吸収材料層
4 硝子板
5 素子
6 コア部分
7 ランナー
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a hologram-mounted laser incorporated in an optical pickup used in an optical disk system, for example, a compact disk or a video disk.
[0002]
This is because the hologram element divides the light of the semiconductor laser reflected back to the disk and separates the tracking information signal and the recording signal for accurately reading out the recording signal, and the light receiving element or signal processing integrated with the light receiving element is separated. It is used in an apparatus for guiding each circuit to obtain an output signal.
[0003]
[Prior art]
1 and 2 show a conventional example.
[0004]
FIG. 1 shows an example of an element having a hologram pattern only on the upper surface, which is usually made of a material having good light transmission characteristics such as glass or acrylic resin.
[0005]
FIG. 2 schematically shows an example of a path of a laser beam diffracted by the hologram pattern of FIG. 1 and an example of a path of a portion of the laser emission light that does not contribute to signal processing.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
FIG. 2 schematically shows the state of diffracted light in a conventional hologram element.
[0007]
For simplicity, this figure omits the effects of refraction.
[0008]
In this example, the hologram element uses its 0th-order diffracted light and 1st-order diffracted light. The zero-order diffracted light is used to guide the emitted light of the laser as it is to irradiate the optical disk, and the plus first-order diffracted light of the returned light is projected onto a necessary portion of the light receiving element.
[0009]
However, as a characteristic of the hologram, in a glass hologram element which is particularly difficult to be blazed, the intensity of the minus primary light is the same as that of the plus primary light, and although the intensity is weak, high-order diffracted light is also generated at the same time. These lights do not contribute to signal processing and become stray light.
[0010]
In general, light emitted from a semiconductor laser has a certain spread and intensity distribution.
[0011]
In the design, not all the emitted light amount is introduced into the hologram pattern, but the size of the pattern is optimized according to the numerical aperture of the objective lens.
[0012]
For this reason, light that has not passed through the hologram pattern becomes unnecessary light, and light reflected at the hologram element interface can be the above-mentioned stray light. FIG. 3 schematically shows this state.
[0013]
These stray lights enter the light receiving element and cause a deterioration in the signal-to-noise ratio.
[0014]
Generally, an anti-reflection film is formed on the upper and lower surfaces of the hologram element to reduce reflection, but it is impossible to make the reflection zero.
[0015]
The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and has as its object to reduce stray light.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
The hologram element according to the present onset Ming, in a plane perpendicular to the emission axis of the laser beam of the semiconductor laser, a hologram element in which at least one hologram pattern is disposed on at least one of its sides, the The above object is achieved by forming a light absorbing material layer that absorbs light having the wavelength of the emitted light of the semiconductor laser.
[0017]
The above object is achieved by forming the light absorbing material layer on almost the entire surface except for the hologram pattern.
[0018]
The above object is achieved by the light absorbing material layer being the same material as the material forming the hologram pattern.
[0019]
At least the light absorbing material layer and the hologram pattern are formed on a core material made of a material transparent to the emitted light of the semiconductor laser, and the upper surface of the core material is flush. Achieve the above objectives.
[0020]
At least the light absorbing material layer and the hologram pattern are formed on a core material made of a material transparent to light emitted from the semiconductor laser, and the upper surface of the core material is used for signal processing. The above object is achieved by being inclined except for a region through which light passes.
[0021]
When manufacturing the above-described hologram device, connected by a runner the axis, and a step of integrally molding a light-absorbing material layer around including a step of integrally molding a plurality of the core material, at least side surfaces of said core member, The above object is achieved by the step of dividing the runner.
[0022]
That is, in view of the above problems, the present invention forms a layer of a light absorbing material on the side surface of the hologram element to reduce the reflection on the side surface.
[0023]
Further, by devising the shape of glass or resin serving as a core material of the hologram element, stray light components that do not pass through the hologram pattern and do not contribute to signal processing are absorbed to reduce stray light.
[0024]
Hereinafter, the operation of the present invention will be described.
[0025]
4 and 5 are schematic views of a hologram having a light absorbing layer according to the present invention on the side.
[0026]
The side light absorbing layer reduces stray light due to multiple reflections inside the core material.
[0027]
In this case, particularly with respect to the absorbing layer, if the refractive index is different at the interface with the core material, reflection occurs and the effect is reduced. Therefore, the material of the absorbing layer is preferably basically the same as the core material.
[0028]
On the other hand, when the core material is molded with resin, the degree of design freedom can be increased as compared with the case where glass is used. Therefore, a hologram having a structure in which a combination of the core material having the shape shown in FIG. 6 and the above-described absorption layer further absorbs laser output light other than the portion used in signal processing as shown in FIG. By forming the element, stray light can be further reduced.
[0029]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0030]
FIG. 7 is a diagram showing an embodiment of the present invention. In the figure, a hologram pattern 2 is provided on the upper surface of a core material 1, a) is an example in which the entire side surface of the core material 1 is covered with a light absorbing material layer 3, and b) is an example of the core material 1. This is an embodiment in which only two side surfaces are covered with the light absorbing material layer 3, and c) is an embodiment in which the periphery of the hologram pattern 2 above the core material 1 and all side surfaces are covered with the light absorbing material layer 3.
[0031]
When covered with a light absorbing material, the diffraction state of light is absorbed as shown in FIG. 4 to reduce stray light, and as shown in FIG. 5, stray light generated from a light beam passing through the hologram element is also reduced.
[0032]
Here, the shape of the core portion 6 is formed substantially flush with the hologram pattern 2, but the present invention is not limited to this, and the hologram of the core portion 6 is formed as shown in FIGS. The pattern 2 forming surface may have an angle, and the light absorbing material layer 3 is buried by the angle, so that the upper surface of the light absorbing material layer 3 and the hologram pattern 2 forming surface are substantially flush. Is also good.
[0033]
FIG. 8 shows a method of manufacturing a hologram element. 8A shows an example of a conventional method, and FIG. 8B shows an embodiment based on the present invention.
[0034]
In the conventional example shown in FIG. 8A), a plurality of hologram patterns 2 are formed on a glass plate 4 (a-1) and cut out by dicing to form one element 5 (a-2).
[0035]
On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 8B), the plurality of core portions 6 are integrally formed so as to be connected by the runner 7 (b-1). Next, the light absorbing material layer 3 is integrally molded (b-2), and then cut out by dicing or the like to manufacture one element 5. When the hologram pattern 2 and the light-absorbing material layer 3 are formed of the same material, it is preferable that the hologram pattern 2 and the light-absorbing material layer 3 be formed at the same time when they are integrally molded.
[0036]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to reduce stray light as compared with the conventional hologram element. By using this hologram element to form a hologram laser, the signal-to-noise ratio can be improved, and as a result, the laser Since the output of the hologram laser can be reduced, it is possible to provide a hologram laser with higher reliability and higher performance.
[0037]
Further, in the case of a hologram element using a resin, since the light absorption layer can be formed by integral molding with the core material, mass production becomes possible and cost can be reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an example of a conventional hologram element.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a diffraction state of light for signal detection by the conventional hologram element shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic diagram of a beam of laser output passing through the hologram element by the conventional hologram element shown in FIG. 1;
FIG. 4 is a schematic view of a hologram element according to one embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a schematic view of a hologram element according to one embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing a modification of the embodiment of the present invention when the shape of the core material of the hologram element shown in FIGS. 4 and 5 is changed.
FIG. 7 is a diagram showing one embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a diagram comparing a manufacturing method of the present invention with a conventional manufacturing method.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Core material 2 Hologram pattern 3 Light absorption material layer 4 Glass plate 5 Element 6 Core part 7 Runner

Claims (5)

半導体レーザのレーザビームの出射軸方向に対して垂直な面に、少なくとも1つのホログラムパターンが配置されたホログラム素子であって、その側面の少なくとも一つに、前記半導体レーザの出射光の波長の光を吸収する光吸収材料層を形成してなるホログラム素子を製造する際、軸となるランナーで接続された、複数のコア材を一体成型する工程と、前記コア材の少なくとも側面を含む周囲に光吸収材料層を一体成型する工程と、前記ランナーを分割する工程と、からなることを特徴とするホログラム素子の製造方法。A hologram element in which at least one hologram pattern is arranged on a surface perpendicular to a direction of an emission axis of a laser beam of a semiconductor laser, wherein at least one of side surfaces has light having a wavelength of emission light of the semiconductor laser. When manufacturing a hologram element formed by forming a light absorbing material layer that absorbs light, a step of integrally molding a plurality of core materials connected by a runner serving as an axis, and light around the core material including at least side surfaces of the core material A method for manufacturing a hologram element, comprising: a step of integrally molding an absorbing material layer; and a step of dividing the runner. 半導体レーザのレーザビームの出射軸方向に対して垂直な面に、少なくとも1つのホログラムパターンが配置されたホログラム素子であって、前記ホログラムパターンを除くほぼ全面に、前記半導体レーザの出射光の波長の光を吸収する光吸収材料層を形成してなるホログラム素子を製造する際、軸となるランナーで接続された、複数のコア材を一体成型する工程と、前記コア材の前記ホログラムパターンを除くほぼ全面に光吸収材料層を一体成型する工程と、前記ランナーを分割する工程と、からなることを特徴とするホログラム素子の製造方法。A hologram element in which at least one hologram pattern is arranged on a surface perpendicular to the direction of the emission axis of the laser beam of the semiconductor laser, and the entire surface of the hologram pattern excluding the hologram pattern has a wavelength of the emission light of the semiconductor laser. When manufacturing a hologram element formed by forming a light absorbing material layer that absorbs light, a step of integrally molding a plurality of core materials connected by a runner serving as an axis, and substantially excluding the hologram pattern of the core material A method for manufacturing a hologram element, comprising: a step of integrally molding a light absorbing material layer over the entire surface; and a step of dividing the runner. 前記光吸収材料層は、前記ホログラムパターンをなす材料と同一の材料であることを特徴とする請求項1、又は2に記載のホログラム素子の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the light absorbing material layer is made of the same material as the material forming the hologram pattern. 前記半導体レーザの出射光に対して透明な材料からなるコア材に、少なくとも前記光吸収材料層と前記ホログラムパターンとが形成されてなり、且つ、前記コア材の上面は、面一であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のホログラム素子の製造方法。At least the light absorbing material layer and the hologram pattern are formed on a core material made of a material transparent to the emitted light of the semiconductor laser, and the upper surface of the core material is flush. The method for manufacturing a hologram element according to claim 1, wherein: 前記半導体レーザの出射光に対して透明な材料からなるコア材に、少なくとも前記光吸収材料層と前記ホログラムパターンとが形成されてなり、且つ、前記コア材の上面は、信号処理に用いられるレーザ光の通る領域を除いて傾斜してなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のホログラム素子の製造方法。At least the light absorbing material layer and the hologram pattern are formed on a core material made of a material transparent to the emission light of the semiconductor laser, and the upper surface of the core material is a laser used for signal processing. 4. The method for manufacturing a hologram element according to claim 1, wherein the hologram element is inclined except for a region through which light passes.
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