JP3582173B2 - Semiconductor laser device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は大出力のレ−ザ光を得ることが可能な半導体レーザ装置に関し、より詳細には、ロボットの目やレ−ザレ−ダシステム等を構成する測距用の半導体レ−ザ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体レ−ザに於いて、素子の上部電極とステムのリ−ドとの接続はワイヤボンディングによって行われている。通常、単一ストライブ電極構造の場合、図5(a)若しくは図5(b)に示されるように構成されている。
【0003】
図5(a)を参照すると、ステム1に設けられたヒートシンク2上に、所定のストライプ幅を有した半導体レーザ素子3が接合されている。そして、この半導体レーザ素子3は、ストライプ構造の電極の中央にボンディングされたワイヤ4、ステムリード5、及びステムリード6を介して駆動回路7に接続されている。
【0004】
また、図5(b)に示される構成の半導体レーザ装置では、半導体レーザ素子3の活性層へのダメ−ジを避けるために、活性層領域外の左右2箇所にワイヤ4a及び4bがボンディングされている。
【0005】
しかしながら、図5(a)及び(b)に示された何れの半導体レーザ装置の場合も、レ−ザ素子1個について駆動回路は1個設けられているだけである。そして、図5(b)の構成の半導体レーザ装置の場合でも、左右のワイヤ4a、4bには均等に電流が流れる。
【0006】
また、レーザビ−ムを偏向させる手段として、従来は例えば特公平1−22753号公報に開示されているように、独立した2つの注入電極を有する半導体レ−ザを形成し、上記2つの電極へ注入する電流比を変化させることによって、ビ−ムを偏向させる技術が提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、図5(a)及び(b)に示されるような、半導体レ−ザ素子1個に対して駆動回路が1個の構成の半導体レーザ装置の場合、レ−ザのビ−ムを偏向させることはできないものであった。また、特公平1−22753号公報に開示されているような技術では、1つのレ−ザ素子に対し注入電極を2つ形成しなければならず、工程、素子構造共に複雑になるという問題を有していた。
【0008】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、その目的は1つのレ−ザ素子に対し注入電極を2つ形成することなく、ビ−ムを偏向可能な半導体レーザ装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、水平ビ−ム形状が上部電極の抵抗成分による水平方向の電流分布に関係していることを見出した。特に、大出力パルスレ−ザとして用いられるストライプ幅が100μm以上の半導体レ−ザに於いては、この傾向が強く現れることを見出した。
【0010】
そこで、請求項1に記載の発明は、半導体基板上に活性層を含む複数の半導体レ−ザ構成要素が積層され、ストライプ構造の1つの上部電極を有する半導体レ−ザと、この半導体レーザに接続された電流供給手段と、この電流供給手段に接続され、上記半導体レーザに駆動電流を供給して上記半導体レーザを発光させる駆動手段とを具備する半導体レーザ装置に於いて、上記電流供給手段は、上記上部電極のストライプ構造の発光面に対し、劈開面に平行な両端部の2箇所に接続された第1及び第2の電流供給手段から成り、上記駆動手段は、上記第1及び第2の電流供給手段に接続されて上記半導体レーザに独立して駆動電流を供給する第1及び第2の駆動手段とから成ることを特徴とする。
【0011】
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明に於いて、上記活性層に於ける発光領域のストライプ幅が100μm以上を有することを特徴とする。
【0012】
更に、請求項3に記載の発明は、請求項1及び2に記載の発明に於いて、上記ストライプ電極をCr/Auで構成することを特徴とする。
【0013】
そして、請求項1に記載の発明によれば、上部電極のストライプ構造の発光面に対し、劈開面に平行な両端部の2箇所に接続されたワイヤに流す電流を独立して制御することにより、ビ−ムの偏向を制御することができる。図3(b)、(c)に示されるように、2本のワイヤに流す電流を非対称にすると、上部電極の抵抗成分により活性層内の注入電流密度に傾斜ができ、水平ビ−ム形状が電流密度分布の低密度側に偏向する。
【0014】
請求項2に記載の発明によれば、パルス駆動に於いて光出力が数十Wクラスの大出力半導体レ−ザに適用することができる。また、ストライプ幅が広いことによって電流密度分布がより顕著になり、水平ビ−ムの偏向を大きくすることができる。
【0015】
また、請求項3に記載の発明によれば、Cr/Au電極の熱処理の条件によってシ−ト抵抗値を制御することができる。ここで、シ−ト抵抗値を、例えば150〜200mΩ/□程度と比較的大きくすると、2本のワイヤに均等に電流を流した状態に於いても、図3(a)に示されるように、活性層内の電流密度分布に傾斜ができ、中央部の電流密度が小さくなる。このような状態で、2本のワイヤに流す電流値を変化させると、水平ビ−ムの偏向がより顕著に起こる。このように、シ−ト抵抗値を制御することにより、ビ−ムの偏向度合いを制御することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明による実施の形態を説明する。
【0017】
図1及び図2は、本発明による第1の実施の形態を示すもので、図1は大出力ビ−ム偏向半導体レ−ザ装置の構成図、図2は図1の半導体レ−ザの発光面から見た断面図である。
【0018】
図1及び図2に於いて、ステム10に、金メッキが表面に施された銅製のヒートシンク11が設けられている。そして、所定のストライプ幅を有した半導体レーザ素子12が、ヒ−トシンク11上に接合材13を用いて接合されている。
【0019】
上記半導体レ−ザ素子12は、接合材13上に、下部電極14、クラッド層15、活性層(発光層)16、クラッド層17、絶縁膜18及び上部電極19が形成されて構成されている。そして、半導体レ−ザ素子12に外部から電極を供給するために、劈開面に対して平行なストライプ構造の上部電極19の端部2箇所に、金製のワイヤ20a及び20bがボンディングされて、それぞれステムリ−ド21及び22に電気的に接続されている。また、下部電極14は、ヒ−トシンク11を通じてステムリ−ド23と電気的に接続されている。
【0020】
上記半導体レ−ザは、通常良く知られた半導体レ−ザ素子の製造方法により製造される。すなわち、上述したように、半導体基板上に活性層を含む複数の半導体レ−ザ構成要素を積層した後、素子の上下に上部電極19及び下部電極14を形成し、ヒ−トシンク11上に接合材13を用いて接合される。尚、本発明者等は、接合材13として電子ビ−ム蒸着によって作製したAu/Snはんだを用いた。
【0021】
また、半導体レ−ザ素子12は、ダイボンディング装置で該素子12に約400℃の温度で接合材13を溶融してヒ−トシンク12に接合される。その後、半導体レ−ザ素子1 2の上部電極19のストライプ電極領域外の左右両側2箇所に、ワイヤ20a及び20bがワイヤボディング装置にて接合され、他方はそれぞれステムリ−ド21及び22に接合される。
【0022】
上記ステムリ−ド21及び23には、半導体レ−ザ素子12を発光させるための駆動回路24が電気的に接続されている。同様に、ステムリ−ド22及び23には、駆動回路25が電気的に接続されている。この2つの駆動回路24及び25を用いて、左右のワイヤ20a及び20bに独立に電流を流すことにより、ビ−ムを偏向させることができる。
【0023】
この半導体レーザ装置に於いて、左右のワイヤ20a及び20bに対して、駆動回路24及び25が電流を均等に流すと、図3(a)に示されるように、ビ−ムは対称形となる。ここでは、上部電極19としてCr/Auを用いているが、この金属では熱処理の条件によってシ−ト抵抗値を50〜200mΩ/□と変化させることができる。
【0024】
例えば、360℃、2分間の熱処理条件では、シ−ト抵抗値を150〜200mΩ/□程度と大きくすることができ、電流密度分布が均一ではなく、素子中央部の電流密度が小さくなる。これを反映して、水平ビ−ム形状は中央が窪んだ双峰性となっている。
【0025】
次に、左右のワイヤ20a及び20bに流す電流値を非対称にする場合を考える。駆動回路24及び25をそれぞれ独立に制御して、左右のワイヤ20a及び20bに流す電流値を非対称にする。すると、図3(b)、(c)に示されるように、電流密度分布が傾斜し、ビ−ムは電流密度の低い方へ偏向する。このように、上部電極19の左右の電流を、駆動回路24及び25でそれぞれ独立に制御することによって、ビ−ムを所望の方向に偏向させることができる。
【0026】
また、上部電極として、例えば、Cr/Pt/Au、Ti/Pt/Au等の金属を用いてもよい。この場合、熱処理によっても電極の抵抗値はほとんど変化せずに低抵抗となるため、電流密度分布が均一に近くなる。したがって、水平ビ−ム形状は単峰性となり、ビ−ム偏向の度合いは小さくなる。
【0027】
このように、上部電極の熱処理の条件を変えることによって、或いは上部電極の材料及び膜厚を変えることで、電極の抵抗値を変化させ、これにより、ビ−ムの偏向度合いを制御することができる。
【0028】
次に、本発明の第2実施の形態を説明する。
【0029】
この第2の実施の形態では、説明の重複を避けるため、上述した第1実施の形態との相違点を中心に説明する。
【0030】
図4は、第2の実施の形態による半導体レ−ザ素子の断面図である。
【0031】
本実施の形態では活性層16が、半導体レ−ザ素子12′のメサ形状(台形状)部に形成されていることが特徴である。このメサ部に、クラッド層17′、絶縁膜18′、上部電極19′が形成されている。
【0032】
この場合に於いても、ストライプ幅を有する上部電極19′の左右両側2箇所に、ワイヤ20a及び20bがボンディングされている。そして、上述した第1の実施の形態と同様に、図1に示されるような構成で駆動回路24及び25に電気的に接続されることで、それぞれのワイヤ20a及び20bに流れる電流を制御することができる。したがって、第1の実施の形態と同様に、ビ−ムを偏向することができる。
【0033】
また、第2の実施の形態では、活性層16がメサ部に形成されているため、素子化を行う際、側面からダメ−ジが活性層16に入るのを防止することができ、信頼性を向上させることができる。
【0034】
尚、上述した実施の形態では、上部電極としてCr/Auを用いた場合について説明したが、これに限定されるものではなく、例えばCr/Pt/Au、Ti/Pt/Au、Ti/Ni/Au等、通常GaAsのp型電極として用いられるものであれば何を用いてもよいものである。
【0035】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、ストライプ構造の上部電極に接続された2本のワイヤに独立に電流を制御することにより、ビ−ムを偏向可能な半導体レーザを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による第1の実施の形態を示すもので、大出力ビ−ム偏向半導体レ−ザ装置の構成図である。
【図2】本発明による第1の実施の形態を示すもので、図1の半導体レ−ザ装置の発光面から見た断面図である。
【図3】電流密度分布と水平ビ−ムの偏向の関係を説明する特性図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態の構成を示す半導体レ−ザ素子の断面図である。
【図5】従来の半導体レ−ザ装置の構成を示した図である。
【符号の説明】
1、10…ステム、2、11…ヒートシンク、3、12、12′…半導体レ−ザ素子、4、4a、4b、20a、20b…ワイヤ、5、6、21、22、23…ステムリード、7、24、25…駆動回路、13…接合材、14…下部電極、15、17、17′…クラッド層、16…活性層(発光層)、18、18′…絶縁膜、19、19′…上部電極。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor laser device capable of obtaining high-power laser light, and more particularly to a semiconductor laser device for distance measurement that constitutes a robot eye, a laser radar system, or the like. Things.
[0002]
[Prior art]
In a semiconductor laser, the connection between the upper electrode of the element and the lead of the stem is made by wire bonding. Usually, in the case of a single stripe electrode structure, it is configured as shown in FIG. 5A or FIG. 5B.
[0003]
Referring to FIG. 5A, a
[0004]
Further, in the semiconductor laser device having the structure shown in FIG. 5B,
[0005]
However, in each of the semiconductor laser devices shown in FIGS. 5A and 5B, only one drive circuit is provided for one laser element. Then, even in the case of the semiconductor laser device having the configuration shown in FIG. 5B, current flows evenly through the left and
[0006]
As means for deflecting the laser beam, a semiconductor laser having two independent injection electrodes is conventionally formed as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 1-22753, and the laser beam is applied to the two electrodes. A technique for deflecting a beam by changing the current ratio to be injected has been proposed.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of a semiconductor laser device having one drive circuit for one semiconductor laser element as shown in FIGS. 5A and 5B, the beam of the laser is deflected. It couldn't be done. Further, in the technique disclosed in Japanese Patent Publication No. 1-22753, two injection electrodes must be formed for one laser element, and the process and the element structure become complicated. Had.
[0008]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor laser device capable of deflecting a beam without forming two injection electrodes for one laser element. is there.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have found that the horizontal beam shape is related to the current distribution in the horizontal direction due to the resistance component of the upper electrode. In particular, it has been found that this tendency appears strongly in a semiconductor laser having a stripe width of 100 μm or more used as a high-output pulse laser.
[0010]
Therefore, the invention according to
[0011]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, a stripe width of a light emitting region in the active layer is 100 μm or more.
[0012]
Further, the invention according to
[0013]
According to the first aspect of the present invention, the current flowing through the wires connected to the two positions at both ends parallel to the cleavage plane is independently controlled with respect to the light emitting surface of the stripe structure of the upper electrode. , Beam deflection can be controlled. As shown in FIGS. 3B and 3C, when the currents flowing through the two wires are made asymmetric, the injection current density in the active layer can be inclined by the resistance component of the upper electrode, and the horizontal beam shape can be obtained. Is deflected to the lower density side of the current density distribution.
[0014]
According to the second aspect of the present invention, it is possible to apply the present invention to a high-power semiconductor laser having an optical output of several tens of watts in pulse driving. Further, the current density distribution becomes more remarkable due to the wide stripe width, and the deflection of the horizontal beam can be increased.
[0015]
According to the third aspect of the present invention, the sheet resistance can be controlled by the conditions of the heat treatment of the Cr / Au electrode. Here, if the sheet resistance value is relatively large, for example, about 150 to 200 mΩ / □, as shown in FIG. 3A, even when the current flows evenly through the two wires. Then, the current density distribution in the active layer is inclined, and the current density in the central portion is reduced. In such a state, when the value of the current flowing through the two wires is changed, the deflection of the horizontal beam occurs more remarkably. Thus, by controlling the sheet resistance value, the degree of beam deflection can be controlled.
[0016]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0017]
1 and 2 show a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a configuration diagram of a high-power beam deflecting semiconductor laser device, and FIG. 2 is a diagram of the semiconductor laser of FIG. It is sectional drawing seen from the light emitting surface.
[0018]
1 and 2, a
[0019]
The
[0020]
The above-mentioned semiconductor laser is usually manufactured by a well-known method for manufacturing a semiconductor laser device. That is, as described above, after laminating a plurality of semiconductor laser components including an active layer on a semiconductor substrate, an
[0021]
The
[0022]
A
[0023]
In this semiconductor laser device, when the
[0024]
For example, under a heat treatment condition of 360 ° C. for 2 minutes, the sheet resistance value can be increased to about 150 to 200 mΩ / □, the current density distribution is not uniform, and the current density in the central portion of the element decreases. Reflecting this, the horizontal beam shape has a bimodal shape with a concave center.
[0025]
Next, a case is considered in which the current values flowing through the left and
[0026]
Further, a metal such as Cr / Pt / Au or Ti / Pt / Au may be used as the upper electrode. In this case, even if the heat treatment is performed, the resistance value of the electrode hardly changes and the resistance becomes low, so that the current density distribution becomes nearly uniform. Therefore, the horizontal beam shape becomes unimodal, and the degree of beam deflection is reduced.
[0027]
As described above, by changing the conditions of the heat treatment of the upper electrode, or by changing the material and thickness of the upper electrode, the resistance value of the electrode can be changed, thereby controlling the degree of beam deflection. it can.
[0028]
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
[0029]
In the second embodiment, in order to avoid repetition of the description, the description will focus on the differences from the first embodiment.
[0030]
FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor laser device according to the second embodiment.
[0031]
This embodiment is characterized in that the
[0032]
Also in this case,
[0033]
Further, in the second embodiment, since the
[0034]
In the above-described embodiment, the case where Cr / Au is used as the upper electrode has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, Cr / Pt / Au, Ti / Pt / Au, Ti / Ni / Any material such as Au may be used as long as it is normally used as a GaAs p-type electrode.
[0035]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor laser capable of deflecting a beam by controlling currents independently of two wires connected to an upper electrode having a stripe structure. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention and is a configuration diagram of a high-power beam deflecting semiconductor laser device.
FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention and is a cross-sectional view of the semiconductor laser device of FIG. 1 as viewed from the light emitting surface.
FIG. 3 is a characteristic diagram for explaining a relationship between a current density distribution and horizontal beam deflection.
FIG. 4 is a sectional view of a semiconductor laser device showing a configuration of a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a conventional semiconductor laser device.
[Explanation of symbols]
1, 10, stem, 2, 11, heat sink, 3, 12, 12 ', semiconductor laser element, 4, 4a, 4b, 20a, 20b, wire, 5, 6, 21, 22, 23, stem lead, 7, 24, 25 drive circuit, 13 bonding material, 14 lower electrode, 15, 17, 17 'clad layer, 16 active layer (light emitting layer), 18, 18' insulating film, 19, 19 ' ... the upper electrode.
Claims (3)
上記電流供給手段は、上記上部電極のストライプ構造の発光面に対し、劈開面に平行な両端部の2箇所に接続された第1及び第2の電流供給手段から成り、
上記駆動手段は、上記第1及び第2の電流供給手段に接続されて上記半導体レーザに独立して駆動電流を供給する第1及び第2の駆動手段とから成ることを特徴とする半導体レ−ザ装置。A plurality of semiconductor laser including an active layer on a semiconductor substrate - The components are stacked, semiconductor laser having one upper electrode of the stripe structure - The a, a current supply means connected to the semiconductor laser, the current A driving means connected to a supply means, and a driving means for supplying a driving current to the semiconductor laser and causing the semiconductor laser to emit light,
The current supply means includes first and second current supply means connected to two places at both ends parallel to the cleavage plane with respect to the light emitting surface of the stripe structure of the upper electrode,
Wherein the driving means comprises first and second driving means connected to the first and second current supply means and supplying a driving current independently to the semiconductor laser. The equipment.
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