JPH05235486A - Multi-beam semiconductor laser device - Google Patents

Multi-beam semiconductor laser device

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JPH05235486A
JPH05235486A JP7275892A JP7275892A JPH05235486A JP H05235486 A JPH05235486 A JP H05235486A JP 7275892 A JP7275892 A JP 7275892A JP 7275892 A JP7275892 A JP 7275892A JP H05235486 A JPH05235486 A JP H05235486A
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semiconductor laser
beam semiconductor
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chip
laser device
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Shogo Takahashi
省吾 高橋
Yasuo Nakajima
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Abstract

PURPOSE:To obtain easily a multi-beam semiconductor laser device of high performance, wherein the effects of the thermal interferences caused between respective single substantial laser elements are reduced, and the temperature of a chip is prevented from rising, and further, it can be kept constant. CONSTITUTION:A plurality of single substantial laser elements 11, 12,..., 13 are integrated in a monolithic way, separating from each other by predetermined distances, and a multi-beam semiconductor laser chip 1 is constituted. A plurality of Peltier elements 41 are provided on the top surface of a submount 2, separating from each other by predetermined distances. Then, the multi-beam semiconductor laser chip 1 is assembled in a joining-up way on the submount 2 via the Peltier elements 41.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はマルチビーム半導体レ
ーザ装置に関し、特に、光ディスクの並列データ転送,
交換機内のATM( Air turbine motor:エアタービン
モータ)ノード配線,スーパーコンピュータのインター
コネクション等に用いられるマルチビーム半導体レーザ
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-beam semiconductor laser device, and more particularly to parallel data transfer of an optical disk,
The present invention relates to a multi-beam semiconductor laser device used for ATM (Air turbine motor) node wiring in an exchange, interconnection of a supercomputer, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、例えば1988年電子通信学会
研究会(OQE88−6,p39−44)にて報告され
た従来の光ディスク用マルチビーム半導体レーザ装置の
組立断面構造図であり、図4(a) はジャンクションアッ
プ組立、図4(b) はジャンクションダウン組立により得
た断面構造を示している。図において、1は複数個の単
体レーザエレメント(LD1,LD2,…,LDn)1
1,12,…,13がモノリシックに集積されたマルチ
ビーム半導体レーザチップ、2は放熱体であるヒートシ
ンク(以下、サブマウントと称す)、3はマルチビーム
半導体レーザチップ1とサブマウント2とを接着するた
めのハンダ材、11,12,…,13はそれぞれ単体レ
ーザからなる各単体レーザエレメント(LD1,LD
2,…,LDn)、31,32,33はそれぞれ各単体
レーザエレメント11,12,…,13の表電極,活性
領域,裏電極である。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is an assembly sectional structural view of a conventional multi-beam semiconductor laser device for an optical disk reported in, for example, 1988 IEICE Research Group (OQE88-6, p39-44). 4 (a) shows the cross-sectional structure obtained by the junction-up assembly, and FIG. 4 (b) shows the cross-sectional structure obtained by the junction-down assembly. In the figure, 1 is a plurality of single laser elements (LD1, LD2, ..., LDn) 1
A multi-beam semiconductor laser chip in which 1, 12, ..., 13 are monolithically integrated, 2 is a heat sink (hereinafter referred to as a submount) which is a radiator, and 3 is a multi-beam semiconductor laser chip 1 and a submount 2 bonded together. .., 13 are soldering materials, respectively. Each of the single laser elements (LD1, LD
2, ..., LDn), 31, 32, and 33 are a front electrode, an active region, and a back electrode of each single laser element 11, 12 ,.

【0003】次に動作について説明する。マルチビーム
半導体レーザ装置は、複数個の単体レーザエレメントを
発光点間隔を数10μm〜250μmの等間隔の位置に
モノリシックに集積した、複数の光出力を行うアレイレ
ーザである。各単体レーザエレメント(LD1,LD
2,…,LDn)11,12,…,13は、それぞれ独
立にp電極31,n電極33を有し、これらに独立に電
流が注入されることにより、単体レーザエレメント1
1,12,…,13は独立に動作し、各活性領域32よ
りレーザ出力することができる。
Next, the operation will be described. The multi-beam semiconductor laser device is an array laser that outputs a plurality of light by monolithically integrating a plurality of single laser elements at positions of light emitting points at equal intervals of several tens of μm to 250 μm. Each single laser element (LD1, LD
, ..., LDn) 11, 12, ..., 13 each independently have a p-electrode 31 and an n-electrode 33, and currents are independently injected into these, so that the single laser element 1
, 12, 13 operate independently and can output laser from each active region 32.

【0004】このようなモノリシックなマルチビーム半
導体レーザ装置は各単体レーザエレメント11,12,
…,13を近接させて集積させているため、各単体レー
ザエレメントが30mW以上の高出力で動作すると、レ
ーザ発振により生ずる発熱によってそれぞれの単体レー
ザエレメント間で熱干渉が生じる。この熱干渉は他の単
体レーザエレメントの光出力,発振波長等に変化を与
え、動作を不安定にするだけでなく、発熱に起因する温
度上昇による各単体レーザエレメントの信頼性の低下を
引き起こす。従って、この熱干渉の低減がマルチビーム
半導体レーザ装置では重要となる。
In such a monolithic multi-beam semiconductor laser device, each single laser element 11, 12,
.., 13 are integrated close to each other, so that when each single laser element operates at a high output of 30 mW or more, heat generated by laser oscillation causes thermal interference between the single laser elements. This thermal interference causes changes in the optical output, oscillation wavelength, etc. of the other single laser elements, making the operation unstable and causing a decrease in reliability of each single laser element due to temperature rise due to heat generation. Therefore, reduction of this thermal interference is important in the multi-beam semiconductor laser device.

【0005】この各単体レーザエレメント間で生ずる熱
干渉は、該マルチビーム半導体レーザ装置の組立方法に
よって変化する。従来の半導体レーザの組立方法には、
図4(a) に示すような、マルチビーム半導体レーザチッ
プ1の基板側の裏電極33とヒートシンク2をハンダ材
3を用いて融着するジャンクションアップ組立(J−u
p組立)と、図4(b) に示すような、活性領域32に近
い側の表電極31表面とヒートシンク2とをハンダ材3
を用いて融着するジャンクションダウン組立(J−do
wn組立)とがある。
The thermal interference generated between the individual laser elements changes depending on the method of assembling the multi-beam semiconductor laser device. Conventional semiconductor laser assembly methods include
As shown in FIG. 4A, a junction-up assembly (Ju) in which the back electrode 33 on the substrate side of the multi-beam semiconductor laser chip 1 and the heat sink 2 are fused by using the solder material 3
p assembly), and as shown in FIG. 4B, the surface of the front electrode 31 near the active region 32 and the heat sink 2 are connected to the solder material 3
Junction down assembly (J-do)
wn assembly).

【0006】図5は従来のマルチビーム半導体レーザ装
置の駆動時における温度上昇を説明するための図であ
る。図5(a) はマルチビーム半導体レーザチップ1上に
集積された各単体レーザエレメントを単体で動作させた
場合及び全単体レーザエレメント(ここでは全単体レー
ザエレメント数を4としている)を動作させた場合の温
度上昇を示している。マルチビーム半導体レーザ装置の
場合(全単体レーザエレメントを動作させた場合)、単
体レーザ装置とは異なり、自己の発熱のみではなく他の
単体レーザエレメントからの発熱による熱干渉により温
度上昇が起こり、特にマルチビーム半導体レーザチップ
1の中央部分に位置する単体レーザエレメントLD2,
LD3では、熱干渉を与えてくる単体レーザエレメント
の数が端部に位置する単体レーザエレメントよりも多く
なるので、温度上昇率は大きい。
FIG. 5 is a diagram for explaining a temperature rise in driving a conventional multi-beam semiconductor laser device. FIG. 5 (a) shows a case where each single laser element integrated on the multi-beam semiconductor laser chip 1 is operated alone, and all single laser elements (here, the total number of single laser elements is 4) are operated. The case shows the temperature rise. In the case of a multi-beam semiconductor laser device (when all the single laser elements are operated), unlike the single laser device, not only the heat generated by itself but also the temperature rise due to heat interference from other single laser elements, A single laser element LD2 located at the center of the multi-beam semiconductor laser chip 1
In the LD3, the number of single laser elements that give rise to thermal interference is larger than that of the single laser elements located at the ends, so the temperature rise rate is large.

【0007】また、図5(b) は、マルチビーム半導体レ
ーザチップ1の中央部分に位置する単体レーザエレメン
ト(中央素子)の温度上昇と、マルチビーム半導体レー
ザチップ1に集積させている単体レーザエレメントの数
との関係を示しており、ここでは、マルチビーム半導体
レーザ装置をP=20mWの出力で動作させた場合につ
いて示している。図に示すように、集積する単体レーザ
エレメント数の増加に伴って中央素子の温度は上昇す
る。また、J−up組立に比べると、発熱源となる活性
領域32に近い面を放熱用のサブマウント2に融着した
J−down組立を行ったものの方が温度上昇率は小さ
くて有利であることがわかる。
FIG. 5B shows the temperature rise of a single laser element (central element) located in the central portion of the multi-beam semiconductor laser chip 1 and the single laser element integrated in the multi-beam semiconductor laser chip 1. , And the case where the multi-beam semiconductor laser device is operated at an output of P = 20 mW is shown here. As shown in the figure, the temperature of the central element rises as the number of integrated single laser elements increases. Further, as compared with the J-up assembly, the J-down assembly in which the surface close to the active region 32 serving as the heat source is fused to the heat-dissipating submount 2 has a smaller temperature increase rate, which is advantageous. I understand.

【0008】図6は半導体レーザの代表的な光学的特性
の1つである光出力−電流特性を示す図であり、ここで
は便宜上、マルチビーム半導体レーザチップ1に集積す
る単体レーザエレメント数は4としている。図6(a) は
各単体レーザエレメントを独立に駆動した場合の光出力
−電流特性を示し、また、図6(b) は全単体レーザエレ
メント(LD1〜LD4)を同時に駆動した場合につい
て示している。該図6に示すように、全エレメントを同
時に駆動すると、各単体レーザエレメントを独立に駆動
させた場合に比べて、同一電流で出力する光出力が低下
していることがわかる。また、特に温度上昇率の高い中
央素子LD2,LD3では、光出力の低下の度合が大き
い。
FIG. 6 is a diagram showing a light output-current characteristic which is one of the typical optical characteristics of a semiconductor laser. Here, for convenience, the number of single laser elements integrated in the multi-beam semiconductor laser chip 1 is four. I am trying. FIG. 6 (a) shows the optical output-current characteristics when each single laser element is driven independently, and FIG. 6 (b) shows the case where all single laser elements (LD1 to LD4) are driven simultaneously. There is. As shown in FIG. 6, it can be seen that when all the elements are driven at the same time, the optical output that is output with the same current is reduced as compared with the case where each single laser element is driven independently. Further, in the central elements LD2 and LD3 having a particularly high rate of temperature rise, the degree of decrease in light output is large.

【0009】上記図5(a) に示したように、マルチビー
ム半導体レーザ装置の場合、自己発熱に加えて他の単体
レーザエレメントからの熱干渉により、マルチビーム半
導体レーザチップ1の中央素子の温度が特に上昇するた
め、上記図6に示すように、全単体レーザエレメントで
の駆動電流が一定であるにも係わらず、中央素子LD
2,LD3に光出力の低下が起きる。そこで、APC
(オートパワーコントロール:auto-power control)駆
動により、全単体レーザエレメントにおいて光出力を一
定に保とうとすると、駆動電流の上昇により、発振波長
のシフトを引き起こす。そこで、一般的にはマルチビー
ム半導体レーザ装置の組み立てには熱干渉が少しでも低
減できるようにJ−down組立を用い、さらに、熱拡
散の効率を良くするためにサブマウント2には熱伝導率
の良い材料を用いている。
As shown in FIG. 5 (a), in the case of the multi-beam semiconductor laser device, the temperature of the central element of the multi-beam semiconductor laser chip 1 is increased due to thermal interference from other single laser elements in addition to self-heating. , The central element LD has a constant driving current in all the single laser elements, as shown in FIG.
2, LD3 causes a decrease in light output. So APC
If an attempt is made to keep the optical output constant in all single laser elements by (auto-power control) driving, an increase in driving current causes a shift in oscillation wavelength. Therefore, in general, a J-down assembly is used for assembling the multi-beam semiconductor laser device so that thermal interference can be reduced as much as possible. Further, in order to improve the efficiency of heat diffusion, the submount 2 has a thermal conductivity. It uses good materials.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】従来のマルチビーム半
導体レーザ装置は以上のように構成されているので、各
単体レーザエレメント間での熱干渉の低減を図るために
J−down組立を行っているが、各単体レーザエレメ
ントが電気的に分離されているマルチビーム半導体レー
ザ装置をJ−down組立するには、サブマウント2側
にも各単体レーザエレメントに対応したパターン電極を
設け、かつ、各単体レーザエレメント間がショートしな
いように精度よく組み立てる必要があるが、その組立精
度はマルチビーム半導体レーザチップ上に集積する単体
レーザエレメント数が増加するにしたがって厳しくなる
という問題点があった。また、J−down組立でも完
全に熱干渉の影響の低減が行えるわけではなく、特に該
マルチビーム半導体レーザの高出力化、あるいは、集積
する単体レーザエレメント数の増加にしたがい、さらに
熱干渉を受けやすくなるので、光出力の低下を招き、発
振波長などにも変化をきたすため、信頼性が低下してし
まうなどの問題点があった。
Since the conventional multi-beam semiconductor laser device is constructed as described above, the J-down assembly is carried out in order to reduce the thermal interference between the individual laser elements. However, in order to J-down assemble a multi-beam semiconductor laser device in which each single laser element is electrically separated, a pattern electrode corresponding to each single laser element is also provided on the submount 2 side, and each single laser element is provided. It is necessary to assemble the laser elements with high precision so as not to short-circuit them, but there has been a problem that the assembling precision becomes strict as the number of single laser elements integrated on the multi-beam semiconductor laser chip increases. Further, the effect of thermal interference cannot be completely reduced even in the J-down assembly. Particularly, as the multi-beam semiconductor laser has a higher output or the number of integrated laser elements is increased, the thermal interference is further reduced. Since it is easy, the optical output is lowered, and the oscillation wavelength is also changed, so that there is a problem that the reliability is lowered.

【0011】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、各単体レーザエレメントが電気
的に分離されて構成されているようなマルチビーム半導
体レーザ装置において、チップ上に集積される単体レー
ザエレメント数が増加しても各単体レーザエレメント間
での熱干渉が増加しないような、かつ、その組立作業が
容易であり、J−up組立を行っても熱拡散が効率良く
行えるようなマルチビーム半導体レーザ装置を得ること
を目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and is integrated on a chip in a multi-beam semiconductor laser device in which individual laser elements are electrically separated from each other. Even if the number of single laser elements to be used increases, thermal interference between the single laser elements does not increase, and the assembling work is easy, and the heat diffusion can be efficiently performed even if the J-up assembly is performed. The object is to obtain such a multi-beam semiconductor laser device.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明に係るマルチビ
ーム半導体レーザ装置は、複数の単体レーザエレメント
を互いに所定の距離を隔ててモノリシックに集積してな
るマルチビーム半導体レーザチップと、その上面に互い
に所定の距離を隔てて設けられた複数のペルチェ素子エ
レメントを有するサブマウントとを備え、該サブマウン
ト上に複数のペルチェ素子エレメントを介してマルチビ
ーム半導体レーザチップをジャンクションアップ組立し
てなるものである。
A multi-beam semiconductor laser device according to the present invention is a multi-beam semiconductor laser chip in which a plurality of single laser elements are monolithically integrated with a predetermined distance from each other, and on the upper surface thereof. A submount having a plurality of Peltier element elements provided at a predetermined distance, and a multi-beam semiconductor laser chip is junction-assembled on the submount via the plurality of Peltier element elements. ..

【0013】また、この発明に係るマルチビーム半導体
レーザ装置は、上記マルチビーム半導体レーザ装置にお
いて、ペルチェ素子エレメントと単体レーザエレメント
の数が同じで位置がそれぞれ等間隔にて相対向する位置
にあるようにしたものである。
Further, in the multi-beam semiconductor laser device according to the present invention, in the above-mentioned multi-beam semiconductor laser device, the number of Peltier element elements and the number of single laser elements are the same, and the positions are opposite to each other at equal intervals. It is the one.

【0014】さらに、この発明に係るマルチビーム半導
体レーザ装置は、複数の単体レーザエレメントを互いに
所定の距離を隔ててモノリシックに集積してなるマルチ
ビーム半導体レーザチップと、その上面の表面領域内に
所定の間隔でpn接合によりペルチェ効果を奏する素子
を形成してなるサブマウントとを備え、該サブマウント
上にマルチビーム半導体レーザチップをジャンクション
アップ組立してなるものである。
Further, the multi-beam semiconductor laser device according to the present invention is a multi-beam semiconductor laser chip in which a plurality of single laser elements are monolithically integrated with a predetermined distance from each other, and a predetermined surface region of the upper surface thereof. And a submount in which elements having the Peltier effect are formed by pn-junctions at intervals, and a multibeam semiconductor laser chip is junction-assembled on the submount.

【0015】また、この発明に係るマルチビーム半導体
レーザ装置は、上記マルチビーム半導体レーザ装置にお
いて、マルチビーム半導体レーザチップの中央部に対応
するペルチェ素子またはペルチェ効果を奏する素子には
最大となる電流を、両端部に対応するものには最小とな
る電流を流すようにしたものである。
Further, in the multi-beam semiconductor laser device according to the present invention, in the above-mentioned multi-beam semiconductor laser device, the maximum current is supplied to the Peltier element corresponding to the central portion of the multi-beam semiconductor laser chip or the element exhibiting the Peltier effect. The current corresponding to both ends is made to flow a minimum current.

【0016】[0016]

【作用】この発明におけるマルチビーム半導体レーザ装
置は、独立に動作させることができる複数個のペルチェ
素子を備えたサブマウントを用いたので、マルチビーム
半導体レーザチップ上に集積された各単体レーザエレメ
ント間もしくは複数に分割されたチップ内の領域で独立
に温度コントロールすることが可能となり、チップ内の
温度分布を一様に保つことができ、また、J−up組立
にてサブマウントにマルチビーム半導体レーザチップを
組み立てたので、組み立てが容易で、かつ信頼性の高い
マルチビーム半導体レーザ装置を得ることができる。
Since the multi-beam semiconductor laser device according to the present invention uses the submount provided with a plurality of Peltier elements which can be independently operated, the inter-unit laser elements integrated on the multi-beam semiconductor laser chip are separated from each other. Alternatively, it is possible to independently control the temperature in a region divided into a plurality of chips, the temperature distribution in the chip can be kept uniform, and a multi-beam semiconductor laser is mounted on a submount by J-up assembly. Since the chips are assembled, a multi-beam semiconductor laser device that is easy to assemble and has high reliability can be obtained.

【0017】[0017]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1は、この発明の一実施例によるマルチビーム
半導体レーザ装置の組立断面構造を示す図であり、図に
おいて、1は複数個の単体レーザエレメント(LD1,
LD2,…,LDn)11,12,…,13がモノリシ
ックに集積されたマルチビーム半導体レーザチップ、2
はその上面に互いに所定の距離を隔てて設けられた複数
個のペルチェ素子エレメント41を有する放熱用のサブ
マウント(ヒートシンク)、3はマルチビーム半導体レ
ーザチップ1とペルチェ素子エレメント41とを、ある
いは、サブマウント2とペルチェ素子エレメント41と
を接着するためのハンダ材、11,12,…,13はそ
れぞれ単体レーザからなる単体レーザエレメントLD
1,LD2,…,LDn、31,32,33は各単体レ
ーザエレメント11,12,…,13の表電極,活性領
域,裏電極、41はマルチビーム半導体レーザチップ1
とサブマウント2との間に挿入されたペルチェ素子エレ
メントである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing an assembled sectional structure of a multi-beam semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention. In the drawing, 1 is a plurality of single laser elements (LD1,
LD2, ..., LDn) 11, 12, ..., 13 are monolithically integrated multi-beam semiconductor laser chips, 2
Is a heat-dissipating submount (heat sink) having a plurality of Peltier element elements 41 provided on the upper surface of the multi-beam semiconductor laser chip 1 and the Peltier element element 41, or Solder material for adhering the submount 2 and the Peltier element 41 to each other, and 11, 12, ...
1, LD2, ..., LDn, 31, 32, 33 are front electrodes, active regions, back electrodes of the individual laser elements 11, 12, ..., 13 and 41 is a multi-beam semiconductor laser chip 1.
And a Peltier element element inserted between the submount 2 and the submount 2.

【0018】図1(a) はマルチビーム半導体レーザチッ
プ1内の単体レーザエレメント数(n個)に比べサブマ
ウント2上に設けたペルチェ素子エレメント41の数が
少ない場合のマルチビーム半導体レーザの断面構造を、
また、図1(b) はペルチェ素子エレメント41の数およ
び位置が各単体レーザエレメントの数および位置に対応
している、即ち両者の数が同じで、位置がそれぞれ等間
隔で相対向する位置にある場合のマルチビーム半導体レ
ーザの断面構造を示している。複数個のペルチェ素子エ
レメント41を介してサブマウント2上に複数個の単体
レーザエレメントが集積されたマルチビーム半導体レー
ザチップ1をJ−up組立する。ペルチェ素子エレメン
ト41は、集積度,ビーム間隔及びレーザの光出力に合
わせて、図1(a) 及び図1(b) に示すように、各単体レ
ーザエレメントの数及び設けられた位置に対応させた
り、もしくは単体レーザエレメント数より少なくして複
数個の単体レーザエレメントに対応させて設ける。
FIG. 1A is a cross section of a multi-beam semiconductor laser in which the number of Peltier element elements 41 provided on the submount 2 is smaller than the number of single laser elements (n) in the multi-beam semiconductor laser chip 1. Structure
Further, in FIG. 1 (b), the number and position of the Peltier device elements 41 correspond to the number and position of the individual laser elements, that is, the numbers of both are the same and the positions are opposite to each other at equal intervals. 1 shows a cross-sectional structure of a multi-beam semiconductor laser in a case. The multi-beam semiconductor laser chip 1 in which a plurality of single laser elements are integrated on the submount 2 via the plurality of Peltier element elements 41 is J-up assembled. The Peltier element 41 is made to correspond to the number and position of each single laser element, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), according to the integration degree, the beam interval, and the laser light output. Or, the number of laser elements is set to be smaller than the number of single laser elements so as to correspond to a plurality of single laser elements.

【0019】次に動作について説明する。ペルチェ素子
エレメント41は、異種の金属を接合させて該金属間に
電流を流した際に両者界面で吸熱,発熱が起こるという
ペルチェ効果を利用したものであり、異種金属の2層構
造となっている。ペルチェ素子エレメント41に電流を
流すことにより、該ペルチェ素子エレメント41の内部
で吸熱反応を起こして冷却される側と、発熱反応を起こ
して昇温する側とが出来、本実施例では該吸熱側になる
方をマルチビーム半導体レーザチップ1に接合させて該
チップ1の発熱による昇温を抑え、一方、発熱側となる
方はサブマウント2側に接合させて、そこで発生する熱
はサブマウント2に放熱されるようにしている。また、
ペルチェ素子エレメント41は、図1に示すマルチビー
ム半導体レーザ装置を側面から見て、該エレメント41
の一方または両側が、半導体レーザチップ1およびサブ
マウント2の外側にはみ出して設けられており、この外
側まで露出した部分の上下面に該エレメント41の+電
極,−電極が設けられている。従って、これら電極間に
流す電流の向きを変えることにより、該ペルチェ素子エ
レメント41を構成する2層金属の所望の一方を発熱
側,吸熱側とすることができ、また、流す電流量によっ
てそのペルチェ効果の度合を調整できる。
Next, the operation will be described. The Peltier device element 41 utilizes the Peltier effect that heat and heat are generated at the interface between different metals when they are joined and an electric current is passed between the metals, and has a two-layer structure of different metals. There is. By passing an electric current through the Peltier element 41, there can be formed a side where an endothermic reaction occurs inside the Peltier element 41 to be cooled and a side where an exothermic reaction occurs to raise the temperature. The heat generating side is bonded to the sub-mount 2 side by bonding the one side to the multi-beam semiconductor laser chip 1 to suppress the temperature rise due to heat generation of the chip 1. The heat is radiated to. Also,
The Peltier device element 41 is formed by observing the multi-beam semiconductor laser device shown in FIG.
One or both sides of the element 41 are provided outside the semiconductor laser chip 1 and the submount 2, and the + and-electrodes of the element 41 are provided on the upper and lower surfaces of the portion exposed to the outside. Therefore, by changing the direction of the current flowing between these electrodes, the desired one of the two-layer metal constituting the Peltier element 41 can be used as the heat generating side or the heat absorbing side, and the Peltier element can be changed depending on the amount of current flowing. You can adjust the degree of effect.

【0020】本実施例において、従来例と同じように各
単体レーザエレメント11,12,…,13には独立に
電流を注入することによりそれぞれ独立に動作させる。
このとき、ペルチェ素子エレメント41はそれぞれ独立
に+電極,−電極を有しているので、各々のエレメント
41に流す電流量及び電流の向きを変えることにより、
マルチビーム半導体レーザチップ1のペルチェ素子エレ
メント41と接触する部分の温度を調節することができ
る。
In this embodiment, as in the conventional example, the individual laser elements 11, 12, ..., 13 are independently operated by injecting currents independently.
At this time, since the Peltier element 41 has a + electrode and a − electrode independently of each other, by changing the amount of current flowing in each element 41 and the direction of the current,
The temperature of the portion of the multi-beam semiconductor laser chip 1 that contacts the Peltier element 41 can be adjusted.

【0021】図2は、この発明の一実施例によるマルチ
ビーム半導体レーザ装置の駆動時における温度上昇とペ
ルチェ素子エレメント41に印加する電流量との関係を
示す図であり、ここでは全エレメント数を8とした8点
ビームレーザに対して、ペルチェ素子エレメント41を
図1(b) に示したように各単体レーザエレメントLD1
〜LD8に対応して8個設けた場合について示してい
る。以下、ペルチェ素子エレメント41による温度上昇
の調節動作について説明する。図2(a) は単体レーザエ
レメントLD1〜LD8を同時に動作させた場合のマル
チレーザ半導体チップ1における温度上昇を示し、ま
た、図2(b) は単体レーザエレメントLD1〜LD8に
対応するペルチェ素子エレメント41に印加する電流量
を示している。該図に示すように、従来はマルチビーム
半導体レーザチップ1の中央部分の単体レーザエレメン
トLD4およびLD5を頂点として温度が上昇してい
た。これに対し、本実施例では図2(b) に示すように、
温度上昇しやすいエレメントLD4およびLD5に対応
するペルチェ素子エレメント41においては最大に、エ
レメントLD1およびLD8に対応するペルチェ素子4
1においては最小となるよう、該ペルチェ素子エレメン
ト41に流す電流量を設定して駆動させるようにしたの
で、マルチビーム半導体レーザチップ1の端部へ行くほ
どペルチェ素子エレメント41の冷却効果が小さくなる
こととなり、結果、該チップ1の中央部分にゆくほど温
度の上昇が抑えられることとなり、全単体レーザエレメ
ントの温度は一定となり、しかも、全体の温度上昇率は
低く抑えられる。
FIG. 2 is a diagram showing the relationship between the temperature rise and the amount of current applied to the Peltier element 41 when the multi-beam semiconductor laser device according to the embodiment of the present invention is driven. 8 point beam laser, the Peltier device element 41 has a single laser element LD1 as shown in FIG. 1 (b).
8 shows the case where eight LDs are provided corresponding to LD8. Hereinafter, the operation of adjusting the temperature rise by the Peltier element 41 will be described. 2 (a) shows the temperature rise in the multi-laser semiconductor chip 1 when the single laser elements LD1 to LD8 are simultaneously operated, and FIG. 2 (b) shows the Peltier element elements corresponding to the single laser elements LD1 to LD8. The amount of current applied to 41 is shown. As shown in the figure, conventionally, the temperature has risen with the single laser elements LD4 and LD5 in the central portion of the multi-beam semiconductor laser chip 1 as apexes. On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG.
In the Peltier element element 41 corresponding to the elements LD4 and LD5 whose temperature easily rises, the Peltier element 4 corresponding to the elements LD1 and LD8 is maximum.
1, the amount of current flowing in the Peltier element element 41 is set so as to be the minimum, and the Peltier element element 41 is driven. Therefore, the cooling effect of the Peltier element element 41 becomes smaller toward the end of the multi-beam semiconductor laser chip 1. As a result, the temperature rise is suppressed toward the central portion of the chip 1, the temperature of all the single laser elements becomes constant, and the temperature rise rate of the whole is kept low.

【0022】このように、上記実施例では、複数のペル
チェ素子エレメント41をサブマウント2に各々独立し
て設け、マルチビーム半導体レーザチップ1中の位置に
よる熱干渉の受けやすさの違いによって、該チップ1内
のその部位で該チップ1部に対応するペルチェ素子エレ
メント41に印加する電流量を調節して、該チップ1の
全部位での温度が一様になるよう該ペルチェ素子41の
冷却効果の度合を調整するようにしたので、動作の安定
した、熱干渉の影響を低減した高性能マルチビーム半導
体レーザ装置を得ることができる。また、J−up組立
にて組み立てを行えるので、マルチビーム半導体レーザ
チップ1に集積する単体レーザエレメントの数が増加し
ても容易に精度良く組み立てることができる。また、各
単体レーザエレメントの数および位置に対応してペルチ
ェ素子エレメント41を設けた図1(b) の本第2の実施
例においては、この数および位置が対応していない図1
(a) の第1の実施例に比し、同一マルチビーム半導体レ
ーザチップ1内における温度の一様化をより精度良く行
うことができる。
As described above, in the above-described embodiment, the plurality of Peltier element elements 41 are independently provided on the submount 2, and the Peltier element elements 41 are different in the susceptibility to thermal interference depending on the position in the multi-beam semiconductor laser chip 1. The cooling effect of the Peltier element 41 is adjusted so that the temperature is uniform in all the parts of the chip 1 by adjusting the amount of current applied to the Peltier device element 41 corresponding to the part of the chip 1 at that part in the chip 1. Since the degree of is adjusted, it is possible to obtain a high-performance multi-beam semiconductor laser device with stable operation and reduced influence of thermal interference. Moreover, since the assembly can be performed by J-up assembly, the assembly can be easily and accurately performed even if the number of single laser elements integrated in the multi-beam semiconductor laser chip 1 increases. Further, in the second embodiment of FIG. 1 (b) in which the Peltier element elements 41 are provided in correspondence with the number and position of each single laser element, the number and position are not shown in FIG.
As compared with the first embodiment (a), the temperature in the same multi-beam semiconductor laser chip 1 can be made more uniform.

【0023】なお、上記実施例では、各ペルチェ素子エ
レメント41をサブマウント2上にハイブリッドに設け
たものを示したが、図3に示すように、サブマウントに
半導体材料(例えばSi)を用い、p型領域及びn型領
域を設けて、モノリシックにペルチェ素子エレメント4
1を集積したものでも同様の効果を示すことができ、こ
のようにしたものにつき、以下説明する。
In the above embodiment, each Peltier element 41 is provided on the submount 2 in a hybrid manner, but as shown in FIG. 3, a semiconductor material (for example, Si) is used for the submount, Providing a p-type region and an n-type region, the Peltier device element 4 is monolithically
The same effect can be exhibited even with a stack of 1s, and a description will be given below of such a stack.

【0024】図3はこの発明の第3の実施例によるマル
チビーム半導体レーザ装置の組立断面構造を示す図であ
り、図中、図1同一符号のものは同一または相当部分を
示す。図3において、52はSiのサブマウントにn型
不純物を拡散して形成したn型領域、51は該n型領域
52中に形成したp型領域であり、単体レーザエレメン
ト11,12,…,13の電極,p型領域51,n型領
域52間に電流を流すと、p型領域51,n型領域52
間でペルチェ効果を生じ、p型領域51,n型領域52
でペルチェ素子エレメント41を形成することになる。
これにより、電流の方向,大きさを調整することによ
り、接合する単体レーザエレメント11,12,…,1
3の裏電極33の温度を調整することができ、その結
果、マルチビーム半導体レーザチップ1の温度を調整す
ることができる。
FIG. 3 is a view showing an assembled sectional structure of a multi-beam semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals in FIG. 1 designate the same or corresponding parts. In FIG. 3, 52 is an n-type region formed by diffusing n-type impurities in a Si submount, 51 is a p-type region formed in the n-type region 52, and the single laser elements 11, 12, ..., When a current is passed between the electrode of 13, the p-type region 51, and the n-type region 52, the p-type region 51 and the n-type region 52
A Peltier effect between the p-type region 51 and the n-type region 52
Thus, the Peltier element 41 is formed.
As a result, by adjusting the direction and magnitude of the current, the single laser elements 11, 12, ...
The temperature of the back electrode 33 of No. 3 can be adjusted, and as a result, the temperature of the multi-beam semiconductor laser chip 1 can be adjusted.

【0025】なお、上記両実施例において、ペルチェ素
子エレメント41に流す電流量は、各単体レーザエレメ
ント11,12,…,13もしくは各ペルチェ素子エレ
メント41にサーミスタを設けて制御する、あるいは、
各単体レーザエレメント11,12,…,13の発振波
長もしくは光出力をモニタしながら制御するようにする
と、より一層、制御精度を向上することができ、熱干渉
の影響を低減した安定したマルチビーム半導体レーザ装
置を得ることができる。
In both of the above embodiments, the amount of current flowing through the Peltier device element 41 is controlled by providing a single thermistor for each single laser element 11, 12, ..., 13 or each Peltier device element 41, or
If the control is performed while monitoring the oscillation wavelength or the optical output of each single laser element 11, 12, ..., 13, the control accuracy can be further improved, and the stable multi-beam in which the influence of thermal interference is reduced. A semiconductor laser device can be obtained.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上のように、この発明に係るマルチビ
ーム半導体レーザ装置によれば、マルチビーム半導体レ
ーザチップを組み立てる際、単体レーザエレメント数と
同程度の数に分割されたペルチェ素子エレメントを有し
たサブマウント上に、マルチビーム半導体レーザチップ
をJ−up組立で組み立てるようにしたので、各ペルチ
ェ素子エレメントを独立に制御,動作させることによっ
て、各単体レーザエレメントを複数に分割された各領域
で独立して温度制御することが可能となり、チップ内の
温度分布を一様に保つことができる。また、J−up組
立を行ってもチップにおける発熱を効率良く拡散するこ
とができ、このため、チップ上に集積する単体レーザエ
レメント数が増大しても組立精度をそれほど要求される
ことがなく、さらに、J−up組立ではJ−down組
立による活性領域へのストレスも軽減され、その結果、
各単体レーザエレメント間で熱干渉の影響を大きく低減
した高性能なマルチビーム半導体レーザ装置を容易に得
ることができる効果がある。
As described above, according to the multi-beam semiconductor laser device of the present invention, when the multi-beam semiconductor laser chip is assembled, the Peltier element elements are divided into the same number as the number of single laser elements. Since the multi-beam semiconductor laser chip is assembled on the submount by J-up assembly, by controlling and operating each Peltier element independently, each single laser element is divided into a plurality of divided regions. The temperature can be controlled independently, and the temperature distribution in the chip can be kept uniform. Further, even if the J-up assembly is performed, the heat generated in the chip can be efficiently diffused. Therefore, even if the number of single laser elements integrated on the chip is increased, the assembly accuracy is not required so much. Further, the J-up assembly reduces the stress on the active region due to the J-down assembly, and as a result,
There is an effect that it is possible to easily obtain a high-performance multi-beam semiconductor laser device in which the influence of thermal interference between the individual laser elements is greatly reduced.

【0027】また、ペルチェ素子エレメントを各ビーム
エレメントの数および位置に対応して設けるようにする
と、温度制御をより一層精度良く行うことができ、さら
に高性能なマルチビーム半導体レーザ装置を得ることが
できる効果がある。
Further, if the Peltier element is provided in correspondence with the number and position of each beam element, temperature control can be performed more accurately, and a high-performance multi-beam semiconductor laser device can be obtained. There is an effect that can be done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例によるマルチビーム半導体
レーザ装置の組立断面構造を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an assembled sectional structure of a multi-beam semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例によるマルチビーム半導体
レーザ装置の駆動時における温度上昇とペルチェ素子エ
レメントに印加する電流量との関係を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a temperature rise and a current amount applied to a Peltier device element during driving of a multi-beam semiconductor laser device according to an embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第2の実施例によるマルチビーム半
導体レーザ装置の組立断面構造を示す図である。
FIG. 3 is a view showing an assembled sectional structure of a multi-beam semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来のマルチビーム半導体レーザ装置の組立断
面構造を示す図である。
FIG. 4 is a view showing an assembled sectional structure of a conventional multi-beam semiconductor laser device.

【図5】従来のマルチビーム半導体レーザ装置の駆動時
における温度上昇を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a temperature rise when a conventional multi-beam semiconductor laser device is driven.

【図6】従来のマルチビーム半導体レーザ装置の光出力
−電流特性を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an optical output-current characteristic of a conventional multi-beam semiconductor laser device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マルチビーム半導体レーザチップ 2 サブマウント(ヒートシンク) 3 ハンダ材 11 単体レーザエレメント(LD1) 12 単体レーザエレメント(LD2) 13 単体レーザエレメント(LDn) 31 表電極 32 活性領域 33 裏電極 41 ペルチェ素子エレメント 51 p型領域 52 n型領域 1 Multi-Beam Semiconductor Laser Chip 2 Submount (Heat Sink) 3 Solder Material 11 Single Laser Element (LD1) 12 Single Laser Element (LD2) 13 Single Laser Element (LDn) 31 Front Electrode 32 Active Region 33 Back Electrode 41 Peltier Element Element 51 p-type region 52 n-type region

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年5月14日[Submission date] May 14, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項3[Name of item to be corrected] Claim 3

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0014】さらに、この発明に係るマルチビーム半導
体レーザ装置は、複数の単体レーザエレメントを互いに
所定の距離を隔ててモノリシックに集積してなるマルチ
ビーム半導体レーザチップと、その上面の表面領域内に
上記半導体レーザチップの裏電極との間でペルチェ効果
を奏するp型領域又はn型領域を形成した半導体材料か
なるサブマウントとを備え、該サブマウント上にマル
チビーム半導体レーザチップをジャンクションアップ組
立してなるものである。
Further, the multi-beam semiconductor laser device according to the present invention includes a multi-beam semiconductor laser chip in which a plurality of single laser elements are monolithically integrated with a predetermined distance from each other, and a surface region of the upper surface thereof.
It is a semiconductor material in which a p-type region or an n-type region having a Peltier effect with the back electrode of the semiconductor laser chip is formed .
A et consisting submount is made by junction-up assembled multi-beam semiconductor laser chip on the submount.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0024】図3はこの発明の第3の実施例によるマル
チビーム半導体レーザ装置の組立断面構造を示す図であ
り、図中、図1同一符号のものは同一または相当部分を
示す。図3において、52はSiのサブマウントにn型
不純物を拡散して形成したn型領域、51は該n型領域
52中に形成したp型領域であり、p型領域51,単体
レーザエレメント11,12,…,13の電極33,
型領域52間に電流を流すと、裏電極33とp型領域
51又はn型領域52間でペルチェ効果を生じ、裏電極
33とp型領域51又はn型領域52でペルチェ素子エ
レメント41を形成することになる。これにより、電流
の方向,大きさを調整することにより、接合する単体レ
ーザエレメント11,12,…,13の裏電極33の温
度を調整することができ、その結果、マルチビーム半導
体レーザチップ1の温度を調整することができる。
FIG. 3 is a view showing an assembled sectional structure of a multi-beam semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals in FIG. 1 designate the same or corresponding parts. In FIG. 3, reference numeral 52 is an n-type region formed by diffusing n-type impurities in a Si submount, 51 is a p-type region formed in the n-type region 52, and the p-type region 51 and the single laser element 11 are shown. , 12, ..., back electrodes 33 of 13 ,
When a current is passed between the n-type regions 52, a Peltier effect is generated between the back electrode 33 and the p-type region 51 or the n-type region 52, and the back electrode
33 and the p-type region 51 or the n-type region 52 form the Peltier element 41. Thus, the temperature of the back electrode 33 of the single laser element 11, 12, ..., 13 to be joined can be adjusted by adjusting the direction and magnitude of the current, and as a result, the multi-beam semiconductor laser chip 1 can be adjusted. The temperature can be adjusted.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の単体レーザエレメントを互いに所
定の距離を隔ててモノリシックに集積してなるマルチビ
ーム半導体レーザチップと、 その上面に互いに所定の距離を隔てて設けられた複数の
ペルチェ素子エレメントを有するサブマウントとを備
え、 上記サブマウント上に上記複数のペルチェ素子エレメン
トを介して上記マルチビーム半導体レーザチップをジャ
ンクションアップ組立してなることを特徴とするマルチ
ビーム半導体レーザ装置。
1. A multi-beam semiconductor laser chip in which a plurality of single laser elements are monolithically integrated with a predetermined distance from each other, and a plurality of Peltier element elements provided on a top surface thereof with a predetermined distance from each other. A multi-beam semiconductor laser device, comprising: a sub-mount having the sub-mount, wherein the multi-beam semiconductor laser chip is junction-up assembled on the sub-mount via the plurality of Peltier element elements.
【請求項2】 請求項1記載のマルチビーム半導体レー
ザ装置において、 上記ペルチェ素子エレメントと単体レーザエレメントの
数が同じで位置がそれぞれ等間隔で相対向する位置にあ
ることを特徴とするマルチビーム半導体レーザ装置。
2. The multi-beam semiconductor laser device according to claim 1, wherein the Peltier element element and the single laser element have the same number and the positions are opposite to each other at equal intervals. Laser device.
【請求項3】 複数の単体レーザエレメントを互いに所
定の距離を隔ててモノリシックに集積してなるマルチビ
ーム半導体レーザチップと、 その上面の表面領域内に所定の間隔でpn接合によりペ
ルチェ効果を奏する素子を形成してなるサブマウントと
を備え、 上記サブマウントの表面に接着させて上記マルチビーム
半導体レーザチップをジャンクションアップ組立してな
ることを特徴とするマルチビーム半導体レーザ装置。
3. A multi-beam semiconductor laser chip in which a plurality of single laser elements are monolithically integrated at a predetermined distance from each other, and an element which exhibits a Peltier effect by a pn junction at a predetermined interval in a surface region of an upper surface thereof. A multi-beam semiconductor laser device, comprising: a sub-mount formed by forming a multi-beam semiconductor laser chip.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかに記載のマ
ルチビーム半導体レーザ装置において、 上記マルチビーム半導体レーザチップの中央部に対応す
るペルチェ素子またはペルチェ効果を奏する素子には最
大となる電流を、両端部に対応するものには最小となる
電流を流すようにしてなることを特徴とするマルチビー
ム半導体レーザ装置。
4. The multi-beam semiconductor laser device according to claim 1, wherein a maximum current is supplied to a Peltier element corresponding to a central portion of the multi-beam semiconductor laser chip or an element exhibiting a Peltier effect. A multi-beam semiconductor laser device characterized in that a minimum current is made to flow to those corresponding to both ends.
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