JP3579850B2

JP3579850B2 - Ozone water wastewater treatment method and treatment system

Info

Publication number: JP3579850B2
Application number: JP10198496A
Authority: JP
Inventors: 健一三森
Original assignee: Alps Electric Co Ltd; Organo Corp
Current assignee: Organo Corp; Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1996-03-31
Filing date: 1996-03-31
Publication date: 2004-10-20
Anticipated expiration: 2016-03-31
Also published as: JPH09267087A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶表示装置用ガラス基板や半導体基板のような極めて清浄な表面を得ることが求められる分野において、従来よりも清浄度の高い表面を得るために用いられるオゾン水による洗浄工程を経て生じるオゾン水排水の処理方法及び処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置用ガラス基板のウエット処理は、例えば以下の技術を用いて行われている。
【０００３】
すなわち、有機溶媒、水溶性界面活性剤溶液、超純水および紫外線やオゾン等を組み合わせ用い、基板表面に付着している有機物、微粒子を主に除去する工程により行われる。
【０００４】
例えば、浸漬処理式では次の手順で洗浄が行われる。
（１）界面活性剤／超音波洗浄１／５分
（２）界面活性剤／超音波洗浄２／５分
（３）超純水／超音波洗浄１／５分
（４）超純水／超音波洗浄２／５分
（５）超純水／浸漬洗浄／５分
（６）乾燥／ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）ベーパー乾燥
また、枚葉式では次の手順で洗浄が行われる。
（１）界面活性剤／ブラシスクラブ／０．５分
（２）超純水すすぎ／０．５分
（３）超純水高圧ジェット／０．５分
（４）超純水／超音波シャワー洗浄／０．５分
（５）紫外線オゾン洗浄／０．５分
（６）乾燥／スピン乾燥／０．５分
しかし、現在のような高集積化が進む半導体の分野ではより清浄度の高い洗浄技術が求められている。
【０００５】
そこで、本発明者は、従来よりもより高清浄な洗浄が可能なウエット処理方法及び図９に示す処理装置を別途開発している。
【０００６】
すなわち、オゾン水による洗浄工程、
電解イオン水によるブラシ洗浄工程、
電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、
電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、
電解イオン水による洗浄工程、
乾燥工程、
を順に有するウエット処理方法である。
【０００７】
また、オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズルと、
超純水を供給するための超純水用ノズルと、
電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズルと、
被処理物をブラッシングするためのブラシと、
を少なくとも有する第１の槽５０３と、
被処理物に電解イオン水を高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズルと、超純水を被処理物に供給するための超純水用ノズルと、
を少なくとも有する第２の槽５０４と、
電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射するための手段と、
を少なくとも有する第３の槽５０５と、
電解イオン水を導入するためのノズルを有する被処理物の乾燥を行うための第４の槽５０６と、
を少なくとも有するウエット処理装置である。
【０００８】
ところが、上記ウエット処理方法を含め、オゾン水を使用するウエット処理方法においては、洗浄後のオゾン水排水の処理が問題となる。
【０００９】
一般に洗浄後の排水を排出する排出配管には塩化ビニール製の配管が用いられる。ところが、塩化ビニール製の排出配管をオゾン水排水を流すために用いると排出配管はアッタクされてしまう。
【００１０】
そこで、図９に示すようにオゾン水排水を排出配管へ排出する前にオゾン水排水を大量の水で希釈しオゾン濃度を低減せしめてから塩化ビニール製の排出配管に排出することが行われる。また、活性炭素層を通したてから塩化ビニール製の排出配管に排出することが試みられる。
【００１１】
しかし、かかる処理方法では大量の水を必要とするし、また、活性炭素の使用によるコストアップを招いてしまう。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、オゾン水排水中のオゾン濃度を低コストで希釈することが可能であり塩化ビニール製の排出配管への排出をも可能としたオゾン水排水の処理方法及び処理システムを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係るオゾン水排水処理方法は、オゾン水排水に、カソード水排水及び／又は電解カソード水原水を混合することにより該オゾン水排水中のオゾン濃度を低下させるため、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
請求項２に係るオゾン水排水処理方法は、前記オゾン水排水及びカソード排水は、
オゾン水による洗浄工程、
電解イオン水によるブラシ洗浄工程、
電解イオン水による高圧ジェット洗浄工程、
電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射して行う超音波洗浄工程、
電解イオン水による洗浄工程、
乾燥工程、
を有するウエット処理方法から生ずるオゾン水排水及びカソード排水であるため、洗浄工程において高い洗浄性が得られるともに塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。また、本来排水として破棄されるカソード水排水の有効利用を図ることができる。
【００１４】
請求項３に係るオゾン水排水処理方法は、オゾン水排水に、アンモニア水を混合することにより該オゾン水排水中のオゾン濃度を低下させるため、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
【００１５】
請求項４に係るオゾン水排水処理システムは、オゾン水による洗浄工程を行うオゾン水洗浄槽のオゾン水排水の排出口と、電解カソード水による洗浄工程を行うカソード水洗浄槽のカソード水排水の排出口及び／又は電解イオン水装置とに排水処理槽が接続されているため、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
【００１６】
請求項５に係るオゾン水排水処理システムは、
前記オゾン水洗浄槽は、オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズルと、
超純水を供給するための超純水用ノズルと、
電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズルと、
被処理物をブラッシングするためのブラシと、
を少なくとも有する第１の槽であり、
前記と、カソード水洗浄槽は、次の第２の槽、第３の槽、第４の槽のいずれか一つであるため、高い洗浄性が得られるともに塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。また、本来排水として破棄されるカソード水排水の有効利用を図ることができる。
【００１７】
被処理物に電解イオン水を高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズルと、超純水を被処理物に供給するための超純水用ノズルと、
を少なくとも有する第２の槽。
【００１８】
電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射するための手段と、
を少なくとも有する第３の槽。
【００１９】
電解イオン水を導入するためのノズルを有する被処理物の乾燥を行うための第４の槽。
【００２０】
請求項６に係るオゾン水排水処理システムは、オゾン水による洗浄工程を行うオゾン水洗浄槽のオゾン水排水の排出口と、アンモニア水源とに排水処理槽が続されているため、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００２２】
図１に一つの実施の形態を示す。
【００２３】
図１に示すオゾン水排水処理システムは、オゾン水による洗浄工程を行うオゾン水洗浄槽（第１の槽５０３）のオゾン水排水の排出口と、電解カソード水による洗浄工程を行うカソード水洗浄槽（第２の槽５０４、第３の槽５０５、第４の槽５０５）のカソード水排水の排出口及び／又は電解イオン水装置とに排水処理槽５５０が接続されている。
【００２４】
第１の槽はオゾン水による洗浄工程を行うオゾン水洗浄槽であり、その排出口５２０ａと排水処理槽５５０とは配管５３０（ａ）により接続されている。
【００２５】
第１の槽５０３の内部は、図２に示すように、オゾン水を供給するためのオゾン水用ノズル１１６，１２１と、
超純水を供給するための超純水用ノズル１１７，１２０と、
電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズル１２２〜１２５と、
被処理物をブラシングするブラシ１０２，１０３とを有する。
【００２６】
また、超純水を供給するための超純水用ノズル１１７，１２０は超純水導出配管１０９を介して、超純水供給源（図示せず）に接続されている。
【００２７】
また、電解イオン水を供給するための電解イオン水供給用ノズル１２２〜１２５は電解イオン水導出配管１１１，１１２を介して、電解イオン水製造装置５０８に接続されている。
【００２８】
さらに、本例では上下に一対のブラシが設けてある。このブラシ１０２，１０３は被処理物１１５の表面及び裏面をブラッシングする。
【００２９】
そして、上記ノズルの一端は、被処理物１１５の面に各純水あるいはオゾン水が供給され得る位置に配置されている。
【００３０】
なお、本例では、界面活性剤を供給するためのノズル１１８，１１９を単独で設けてある。この界面活性剤を供給するためのノズル１１８，１１９を設けず、オゾン水あるいは超純水に添加することにより界面活性剤を供給してもよい。
【００３１】
また、本例では、上側のブラシ１０２を洗浄するための上ブラシ超音波洗浄槽１０４と下側のブラシ１０３を洗浄するための下ブラシ超音波洗浄槽１０５を設けてある。上ブラシ超音波洗浄槽１０４と下ブラシ超音波洗浄槽１０５にはそれぞれ、超音波発振子１０６，１０７が設けられている。なお、この超音波発振子は７５０ｋＨｚ〜４ＭＨｚの発振が可能である。ブラシ１０２，１０３の洗浄が必要なときは、上ブラシ超音波洗浄槽１０４、下ブラシ超音波洗浄槽１０５内に適宜の処理水（例えば、オゾン水、電解イオン水、超純水）を配管１１３，１１４を介して供給し、ブラシ１０２，１０３を上ブラシ超音波洗浄槽１０４、下ブラシ超音波洗浄槽１０５内に移動させ（移動させるための手段は特に図示はしていないが適宜の手段によればよい）、超音波を与えつつ洗浄を行えばよい。
【００３２】
なお、第１の槽１０１の内面は、鉄酸化物のないクロム酸化物からなる不動態膜が表面に形成されたステンレス鋼により形成することが好ましい。
【００３３】
また、被処理物が回動可能な構成とすることが好ましい。被処理物を回転し、かつ、表面（裏面）に洗浄液を供給すればより一層清浄度の高い洗浄が可能となる。
【００３４】
第１の槽１０１は主に、オゾン水による洗浄、電解イオン水（カソード水、アノード水）によるブラシ洗浄を行うための槽である。これらの洗浄を行うことにより、有機物、１０μｍ以上の大きさのパーティクル、金属の除去が可能となる。
【００３５】
なお、ブラシは、被洗浄物表面を傷つけず、また、汚染源とならにものであればよく、例えばナイロン製のものが用いることができる。
【００３６】
第２の槽では、被処理物に電解イオン水を高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズル２１０，２１１が電解イオン水高圧ジェット導出配管２０１に接続されている。
【００３７】
第２の槽５０４は、図３に示すように被処理物に電気分解イオンを高圧噴射するための電解イオン水高圧ジェットノズル２１０，２１１と、超純水を被処理物１１５に供給するための超純水用ノズル２０６，２０９とを少なくとも有する。
【００３８】
第２の槽２０４は、主に、電解イオン水を高圧噴射するための槽であり、これにより、１０μｍ以下１μｍ以上の大きさのパーティクルの除去が可能となる。
【００３９】
なお、噴射圧力としては、５ｋｇｗ／ｃｍ^２〜５０ｋｇｗ／ｃｍ^２が洗浄効果をより一層高める上から好ましい。
【００４０】
本例では、さらに、超純水を導入するためのノズル２０６，２０９と、他の電解イオン水を導入するための電解イオン水導入ノズル２０７，２０８を設けてある。これらのノズルから導入される超純水あるいは電解イオン水はリンスのために使用することができる。
【００４１】
なお、ノズル２１０，２１１は、クロム酸化物を主成分とする不動態膜が表面に形成されたステンレス鋼により構成することがノズルからのパーティクルの発生を防止でき、また、耐食性の点から好ましい。
【００４２】
一方、超純水導入ノズル２０６，２０９、電解イオン水導入ノズル２０７，２０８には、白金を用いることが、純水の帯電防止の点から好ましい。
【００４３】
第３の槽５０５は、図４に示すように電解イオン水を導入するための手段と、該電解イオン水に３０ｋＨｚ以上の超音波を照射するための手段である超音波振動子３０３，３０４とを少なくとも有する。
【００４４】
第３の槽３０９は、主に、電解イオン水を用いて超音波洗浄を行うための槽である。電解イオン水を用いて超音波洗浄を行うことにより、１ミクロン以下の大きさのパーティクルの除去が行われる。
【００４５】
図４に示す本例では、第３の槽３０９の内部にさらに石英製超音波洗浄槽３０１が設けられており、その中には電解イオン水３０６が電解イオン水導出配管３０７を介して供給されている。この超音波洗浄槽３０１は、超音波伝達用液体３０５を介して超音波槽３０２内に収納されている。３０３，３０４は超音波振動子であり、本例では、被処理物に対し水平方向に超音波が付与される。超音波振動子３０３からの超音波は、超音波伝達用液体３０５を介して超音波洗浄槽３０１内の電解イオン水３０６内に浸漬された被処理物１１５に伝達される。
【００４６】
また、第４の槽５０６は、図５に示すように、電解イオン水を導入するためのノズル４１５を少なくとも有し、被処理物１１５の乾燥が行われる。
【００４７】
第４槽４０２は、主に、電解イオン水による仕上げ洗浄（主に金属の除去、パーティクルの除去）及び乾燥を行うための槽である。４０１、４０４、４１２、４０３は上記の仕上げ洗浄を行うための超音波洗浄機である。４０４は超音波が印加された処理水を導出するための超音波処理水導出部である。この超音波処理水導出部４０４の長さａは被処理物（基板）の対角線の長さより大きくすることが好ましい。これにより、被処理物が回転したときであっても常に噴射水が基板全体にかかるようにすることができ、パーティクルの再付着等を防止することができる。
【００４８】
また、乾燥は、表面に酸化膜が形成されることを防止するため、不活性ガスを被処理物の表面に吹き付けながら行うことが好ましい。本例でも不活性ガスを導入するためのガス導入口４０５を設けてある。このガスは水分等の不純物濃度が数ｐｐｂ以下のガスを用いることが好ましい。経済的観点からは窒素ガスが好ましい。
【００４９】
なお、乾燥速度を速めるために、ガスをヒータ４０６で加熱することが好ましい。
【００５０】
また、電解イオン水による洗浄工程と乾燥工程との間に超純水によるリンスを超音波しながら行うことが清浄度を高める観点から好ましい。
【００５１】
なお、各槽において、被処理物をスピン回転させながら洗浄を行うと、洗浄液が面を均一に覆うとともに、被洗浄面には絶えず新しい洗浄液が供給され、しかも汚染物質は遠心力により面上から持ち去られるため、非常に清浄な洗浄を行うことができる。従って、各槽において、被処理物を回動可能な構成とすることが好ましい。
【００５２】
第１の槽５０３はオゾン水による洗浄を行うオゾン水洗浄槽であり、第２の槽５０４、第３の槽５０５、第４の槽５０６は電解カソード水による洗浄工程を行うカソード水洗浄槽であり、その各排出口５２０ｂ，５２０ｃ，５２０ｄと排水処理槽とは配管５３０ｂ，５３０ｃ，５３０ｄにより接続されている。
【００５３】
また、本例では、カソード水原水を直接排水処理槽５５０に供給できるように電解イオン水装置５０８と排水処理槽５５０とを配管５３０ｅにより接続してある。
【００５４】
電解イオン水による洗浄により、金属、有機物、酸化膜の除去が行われる。
【００５５】
排水処理槽５５０を図６に示す。図６（ａ）は正面断面図であり、図６（ｂ）は側面図である。排水処理槽５５０は、オゾン水排水を内部に導入するためのオゾン水排水導入口６０１とカソード水排水を内部に導入するためのカソード水排水導入口６０２と、導出口６０５とを有している。
【００５６】
本例では、内部は仕切板６０６ａ，６０６ｂ，６０６ｃでいくつかの空間に仕切られており、導入口から導出口に向かい仕切板６０６ａ，６０６ｂ，６０６ｃの高さは低くなっている。なお、６０３はオゾン水排水、カソード水排水を内部に導入しやすくするための通気口６０３である。
【００５７】
次に排水処理手順を説明する。
【００５８】
排水処理槽の例として、槽容量２０Ｌ（リットル）、処理水量１５Ｌ（リットル）の排水処理槽を用いるとする。
【００５９】
まず、第２の槽、第３の槽で生じたカソード水排水を排水処理槽５５０内に、カソード水導入口６０２を介して２Ｌほど貯める。
【００６０】
次にオゾン水排水を２Ｌ／ｍｉｎの割合でオゾン水排水導入口６０１を介して排水処理槽５５０内に導入する。さらに第２の槽、第３の槽から合計で３Ｌ／ｍｉｎの流量でカソード水排水を排水処理槽５５０内に導入すると処理が行われる。
【００６１】
なお、排水する際は排水処理槽５５０内に前日の処理水が一定量（例えば２０Ｌタンクの場合１５Ｌ）残っているのでカソード水原水あるいはカソード水排水を最初貯めずに流してもよい。
【００６２】
図７に他の実施形態例を示す。
【００６３】
図１に示した形態例と異なる点は、第２の槽、第３の槽、第４の槽と排水処理槽とは接続されてはおらず、その代わりに、アンモニア水源５７０と排水処理槽５５０とが配管５３０ｆにより接続されている。
【００６４】
【実施例】
図面に示すウエット処理装置を用いて液晶表示基板の洗浄を行った。手順は次の通りである。
【００６５】
第１槽
▲１▼オゾン水による洗浄
オゾン濃度：７ｐｐｍ
洗浄時間：３０ｓｅｃ
純水リンス５ｓｅｃ
この処理により有機物、金属が除去されていた。
【００６６】
▲２▼電解イオン水によるブラシ洗浄
電解イオン水
カソード水
ｐＨ８
酸化還元電位：−５００ｍＶ
洗浄時間：２０ｓｅｃ
ブラシは専用の超音波洗浄槽により洗浄して使用した。超音波洗浄には７５０ｋＨｚ以上のメガヘルツ帯を使用し、数μｍから１μｍ以下の大きさのパーティクルを十分に除去しておき、基板表面の比較的大きなパーティクルを除去した。
【００６７】
大きなパーティクルは処理水の効果により（すなわち、ｐＨコントロール及び酸化還元電位コントロールにより、パーティクルの極性をブラシ材の極性と同じ極性とすることができるため）ブラシへの再付着は起こらなかった。
【００６８】
この処理によりパーティクル１０μｍ以上の大きさのパーティクルは除去された。
【００６９】
第２槽
▲１▼電解イオン水による高圧ジェット洗浄５０ｓｅｃ
電解イオン水
カソード水
ｐＨ８
酸化還元電位−５００ｍＶ
洗浄時間：５０ｓｅｃ
▲２▼純水リンス：１０ｓｅｃ
この処理により１０μｍ以下１μｍ以上の大きさのパーティクルは除去された。
【００７０】
静電気は電解イオン水により帯電除去を実施した。
【００７１】
第３の槽
▲１▼電解イオン水による超音波洗浄
電解イオン水
カソード水
ｐＨ８
酸化還元電位−５００ｍＶ
洗浄時間：５０ｓｅｃ
この処理により１ミクロン以下の大きさのパーティクルが除去された。
【００７２】
第４槽
▲１▼電解イオン水による洗浄
電解イオン水
アノード水
ＨＦ添加
ｐＨ３
酸化還元電位：１０００ｍＶ
ＨＦ添加ｐＨ３酸化還元電位１０００ｍＶ
▲２▼超音波リンス
リンス時間：２０ｓｅｃ
超音波：９５０ｋＨｚ
▲３▼スピン乾燥：窒素ブロー（中心部）
この処理により金属、有機物、酸化膜が除去された。
【００７３】
以上の洗浄処理終了後Ａｌ_２Ｏ_３粒子（１μｍ）について清浄度を調べた。
【００７４】
【表１】

上記洗浄により生じたオゾン水排水を排水処理槽５５０を用いてカソード水排水により処理を行った。
【００７５】
排水処理槽に、第１の槽から排出されたオゾン水排水１０Ｌ（リットル）を排水処理槽内にオゾン水排水導入口６０１を介して槽内に導入した。このオゾン水排水中におけるオゾン濃度は６ｐｐｍであった。
【００７６】
次に、第２の槽と第３の槽から排出された１０Ｌのカソード水排水をカソード水導入口６０２を介して排水処理槽５５０の槽内に導入した。導入したカソード水排水のｐＨは８であった。
【００７７】
カソード水排水導入後オゾン濃度を経時に測定した。その結果を●印で図８に示す。
（実施例２）
本例では、第２槽における洗浄にアンモニアイオンを添加したｐＨ１０のカソード水を用いた。
【００７８】
排水処理装置５５０へのカソード水排水は第２槽において排出されたカソード水排水のみを用いた。
【００７９】
その他の点は実施例１と同様とした。
【００８０】
本例における測定結果を▲印として図８に示す。
【００８１】
（実施例３）
本例では、図７に示す装置を用いて洗浄及びオゾン水排水の処理を行った。
【００８２】
洗浄工程は実施例１と同様とした。
【００８３】
本例では、排水処理槽５５０にアンモニア水源５７０からアンモニア水を導入した。アンモニア水の導入量は１ＬでありｐＨ＝８，ｐＨ＝１０に調製した。
【００８４】
他の点は実施例１と同様とした。
【００８５】
その結果を△印（ｐＨ＝１０）と○印（ｐＨ＝８）で図８に示す。
【００８６】
なお、図８には無処理の場合を□印で示してある。
【００８７】
図８から明かなように、カソード水排水を混合することにより極めて短時間でオゾン濃度を０．１ｐｐｍのレベルに低減せしめることができる。
【００８８】
（実施例４）
本例では、カソード水排水ではなく、カソード水原水を、電解イオン水装置５０８から配管５３０ｅを介して排水処理槽に導入した。
【００８９】
他の点は実施例１と同様とした。本例においても実施例１と同様の結果が得られた。
【００９０】
【発明の効果】
（請求項１、請求項３、請求項４、請求項６）
短時間でオゾン含有量を低減せしめることができ、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
【００９１】
（請求項２、請求項５）
洗浄工程において高い洗浄性が得られるともに塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。また、本来排水として破棄されるカソード水排水の有効利用を図ることができる。
【００９２】
また、請求項３及び請求項６に係るオゾン水排水処理方法及び処理システムは、オゾン水排水に、アンモニア水を混合することにより該オゾン水排水中のオゾン濃度を低下させるため、塩化ビニール製の排出配管へのオゾン水排水の排出を排出配管の腐食などを伴わずに可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示す洗浄システム図である。
【図２】図１における第１槽の内部を示す断面図である。
【図３】図１における第２槽の内部を示す断面図である。
【図４】図１における第３槽の内部を示す断面図である。
【図５】図１における第４槽の内部を示す断面図である。
【図６】図１における排水処理槽を示す正面断面図（ａ）と側面図（ｂ）である。
【図７】本発明の他の実施形態を示す洗浄システム図である。
【図８】実施例１〜実施例４における実験結果を示すグラフである。
【図９】先行例に係る洗浄システム図である。
【符号の説明】
１０１第１槽、
１０２上ブラシ、
１０３下ブラシ、
１０４上ブラシ超音波洗浄槽、
１０５下ブラシ超音波洗浄槽、
１０６、１０７超音波発振子、
１０８オゾン水導出配管系、
１０９超純水導出配管系、
１１０界面活性剤導出配管系、
１１１電解イオン水・アノード水導出配管系、
１１２電解イオン水・カソード水導出配管系、
１１３、１１４ブラシ洗浄槽超純水導入配管系、
１１５被処理物（ガラス基板）
１１６〜１２５処理水、静電気除去用配管系、
２０１電解イオン水高圧ジェット導出配管系、
２０２超純水導出配管系、
２０３電解イオン水導出配管系、
２０４第２槽、
２０６〜２０９処理水、静電気除去用配管系、
３０１超音波洗浄槽、
３０２超音波槽、
３０３、３０４超音波振動子、
３０５超音波伝達用液体、
３０６処理水（電解イオン水、カソード水、アノード水、超純水）、
３０７電解イオン水導出配管系、
３０８超純水導出配管系、
３０９第３槽、
３１０排水配管系、
３１１被処理物上下機構、
３１３超音波伝達用液体導出配管系、
４０１超純水導出配管系、
４０２第４槽、
４０３超音波振動子、
４０４超音波印加処理水導出部、
４０５ウルトラクリーンＮ_２ガス導入口、
４０６Ｎ_２温度コントロール用ヒーター、
４０７被処理物回転乾燥機構ホルダー部、
４０８被処理物回転乾燥機構軸部、
４１０超純水導出配管系、
４１１電解イオン水、アノード水、
４１３〜４１６処理水、静電気帯電防止用配管系、
４１７オゾン水導出配管系、
５０１ウエット処理装置本体、
５０２ローダー、
５０３第１槽、
５０４第２槽、
５０５第３槽、
５０６第４槽、
５０７アンローダー、
５０８電解イオン水製造装置、
５０９オゾン水製造装置、
５１０電解イオン供給配管系、
５１１、５１３ウエット処理装置からの戻り用配管系、
５１２オゾン水供給配管系。
５２０Ａ阿、５２０ｂ、５２０ｃ、５２０ｄ排出口、
５３０ａ，５３０ｂ，５３０ｃ，５３０ｄ，５３０ｅ，５３０ｆ配管、
５５０排水処理槽、
５６０排水配管、
５７０アンモニア水源、
６０１オゾン水排水導入口、
６０２カソード水導入口、
６０３通気口、
６０５排出口、
６０６ａ，６０６ｂ，６０６ｃ仕切板、[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning step using ozone water used for obtaining a surface having a higher degree of cleanliness than in the past, for example, in a field where an extremely clean surface such as a glass substrate for a liquid crystal display device or a semiconductor substrate is required. The present invention relates to a treatment method and a treatment system for ozone water drainage generated through the above.
[0002]
[Prior art]
The wet processing of a glass substrate for a liquid crystal display device is performed using, for example, the following technology.
[0003]
That is, the organic solvent and the water-soluble surfactant solution, ultrapure water, ultraviolet rays, ozone and the like are used in combination to remove organic substances and fine particles adhering to the substrate surface.
[0004]
For example, in the immersion treatment method, cleaning is performed in the following procedure.
(1) Surfactant / ultrasonic cleaning 1/5 min (2) Surfactant / ultrasonic cleaning 2/5 min (3) Ultrapure water / ultrasonic cleaning 1/5 min (4) Ultrapure water / ultra Sonic cleaning 2/5 minutes (5) Ultrapure water / immersion cleaning / 5 minutes (6) drying / IPA (isopropyl alcohol) vapor drying In single wafer processing, cleaning is performed according to the following procedure.
(1) Surfactant / brush scrub / 0.5 min (2) Ultrapure water rinse / 0.5 min (3) Ultrapure water high pressure jet / 0.5 min (4) Ultrapure water / ultrasonic shower cleaning /0.5 min. (5) Ultraviolet ozone cleaning / 0.5 min. (6) Drying / spin drying / 0.5 min. Is required.
[0005]
Therefore, the inventor has separately developed a wet processing method capable of performing higher-purity cleaning than in the past and a processing apparatus illustrated in FIG. 9.
[0006]
That is, a cleaning process using ozone water,
Brush cleaning process with electrolytic ionic water,
High pressure jet cleaning process with electrolytic ion water,
An ultrasonic cleaning step performed by irradiating ultrasonic waves of 30 kHz or more to the electrolytic ionized water,
Washing process with electrolytic ionic water,
Drying process,
In order.
[0007]
Also, an ozone water nozzle for supplying ozone water,
An ultrapure water nozzle for supplying ultrapure water,
A nozzle for supplying electrolytic ionic water for supplying electrolytic ionic water,
A brush for brushing the object,
A first tank 503 having at least:
An electrolytic ion water high-pressure jet nozzle for injecting electrolytic ion water at high pressure to the object to be treated, and a nozzle for ultrapure water for supplying ultrapure water to the object to be treated,
A second tank 504 having at least:
Means for introducing electrolytic ionic water, means for irradiating the electrolytic ionic water with ultrasonic waves of 30 kHz or more,
A third tank 505 having at least:
A fourth tank 506 for drying an object to be processed having a nozzle for introducing electrolytic ion water,
Is a wet processing apparatus having at least:
[0008]
However, in a wet treatment method using ozone water, including the above-mentioned wet treatment method, treatment of ozone water wastewater after cleaning becomes a problem.
[0009]
Generally, a pipe made of vinyl chloride is used as a discharge pipe for discharging waste water after washing. However, if the discharge pipe made of vinyl chloride is used for flowing the ozone water drainage, the discharge pipe is attacked.
[0010]
Therefore, as shown in FIG. 9, before discharging the ozone water wastewater to the discharge pipe, the ozone water wastewater is diluted with a large amount of water to reduce the ozone concentration, and then discharged to the vinyl chloride discharge pipe. In addition, it is attempted to discharge the liquid into a vinyl chloride discharge pipe after passing through the activated carbon layer.
[0011]
However, such a treatment method requires a large amount of water and increases the cost due to the use of activated carbon.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a method and a system for treating ozone water wastewater, which can dilute the ozone concentration in the ozone water wastewater at low cost and can also discharge the ozone water to a vinyl chloride discharge pipe. Aim.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In the method for treating ozone water wastewater according to claim 1, the ozone water wastewater is mixed with cathode water wastewater and / or electrolytic cathode water raw water to reduce the ozone concentration in the ozone water wastewater. Ozone water drainage can be discharged to the pipe without corroding the discharge pipe.
The ozone water wastewater treatment method according to claim 2, wherein the ozone water wastewater and the cathode wastewater are:
Cleaning process with ozone water,
Brush cleaning process with electrolytic ionic water,
High pressure jet cleaning process with electrolytic ion water,
An ultrasonic cleaning step performed by irradiating ultrasonic waves of 30 kHz or more to the electrolytic ionized water,
Washing process with electrolytic ionic water,
Drying process,
Since it is ozone water drainage and cathode drainage generated from a wet treatment method having high water resistance, high cleaning properties can be obtained in the cleaning process, and the ozone water drainage can be discharged to the vinyl chloride discharge pipe without corroding the discharge pipe. It becomes possible. In addition, it is possible to effectively utilize the cathode water drainage that is originally discarded as wastewater.
[0014]
In the ozone water drainage treatment method according to claim 3, the ozone water drainage is discharged to a vinyl chloride discharge pipe in order to reduce the ozone concentration in the ozone water drainage by mixing the ozone water drainage with ammonia water. This is possible without corroding the discharge piping.
[0015]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an ozone water drainage treatment system, wherein an ozone water drain outlet of an ozone water cleaning tank for performing a cleaning process using ozone water and a cathode water drainage drain for a cathode water cleaning tank for performing a cleaning process using electrolytic cathode water. Since the drainage treatment tank is connected to the outlet and / or the electrolytic ion water device, it is possible to discharge the ozone water drainage to the drainage pipe made of vinyl chloride without corroding the drainage pipe.
[0016]
The ozone water wastewater treatment system according to claim 5,
The ozone water cleaning tank is an ozone water nozzle for supplying ozone water,
An ultrapure water nozzle for supplying ultrapure water,
A nozzle for supplying electrolytic ionic water for supplying electrolytic ionic water,
A brush for brushing the object,
A first tank having at least
As described above, since the cathode water washing tank is one of the following second tank, third tank, and fourth tank, high washability can be obtained and ozone to the discharge pipe made of vinyl chloride can be obtained. It is possible to discharge water drainage without corroding discharge pipes. In addition, it is possible to effectively utilize the cathode water drainage that is originally discarded as wastewater.
[0017]
An electrolytic ion water high-pressure jet nozzle for injecting electrolytic ion water at high pressure to the object to be treated, and a nozzle for ultrapure water for supplying ultrapure water to the object to be treated,
A second tank having at least:
[0018]
Means for introducing electrolytic ionic water, means for applying ultrasonic waves of 30 kHz or more to the electrolytic ionic water,
A third tank having at least:
[0019]
A fourth tank for drying an object to be processed having a nozzle for introducing electrolytic ion water.
[0020]
In the ozone water wastewater treatment system according to claim 6, since the wastewater treatment tank is connected to the outlet of the ozone water wastewater of the ozone water washing tank that performs the washing step with ozone water and the ammonia water source, the ozone water wastewater treatment system is made of vinyl chloride. The ozone water drainage can be discharged to the discharge pipe without corroding the discharge pipe.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0022]
FIG. 1 shows one embodiment.
[0023]
The ozone water drainage treatment system shown in FIG. 1 includes an ozone water drainage outlet of an ozone water cleaning tank (first tank 503) for performing a cleaning step using ozone water, and a cathode water cleaning tank for performing a cleaning step using electrolytic cathode water. The drainage treatment tank 550 is connected to the discharge outlet of the cathode water drainage (the second tank 504, the third tank 505, and the fourth tank 505) and / or the electrolytic ionic water device.
[0024]
The first tank is an ozone water cleaning tank that performs a cleaning step using ozone water, and its outlet 520a and the wastewater treatment tank 550 are connected by a pipe 530 (a).
[0025]
As shown in FIG. 2, the inside of the first tank 503 includes

ozone water nozzles

116 and 121 for supplying ozone water.

Ultrapure water nozzles

117 and 120 for supplying ultrapure water,
Nozzles 122 to 125 for supplying electrolytic ion water for supplying electrolytic ion water,

Brushes

102 and 103 for brushing the object to be processed.
[0026]

Ultrapure water nozzles

117 and 120 for supplying ultrapure water are connected to an ultrapure water supply source (not shown) via an ultrapure water outlet pipe 109.
[0027]
In addition, the electrolytic ion water supply nozzles 122 to 125 for supplying the electrolytic ion water are connected to the electrolytic ion water producing device 508 via the electrolytic ion

water outlet pipes

111 and 112.
[0028]
Further, in this example, a pair of brushes is provided on the upper and lower sides. The

brushes

102 and 103 brush the front and back surfaces of the object 115.
[0029]
One end of the nozzle is located at a position where pure water or ozone water can be supplied to the surface of the processing object 115.
[0030]
In this example, the

nozzles

118 and 119 for supplying the surfactant are provided independently. The surfactant may be supplied by adding to ozone water or ultrapure water without providing the

nozzles

118 and 119 for supplying the surfactant.
[0031]
In this example, an upper brush ultrasonic cleaning tank 104 for cleaning the upper brush 102 and a lower brush ultrasonic cleaning tank 105 for cleaning the lower brush 103 are provided.

Ultrasonic oscillators

106 and 107 are provided in the upper brush ultrasonic cleaning tank 104 and the lower brush ultrasonic cleaning tank 105, respectively. Note that this ultrasonic oscillator can oscillate at 750 kHz to 4 MHz. When the

brushes

102 and 103 need to be cleaned, appropriate treatment water (for example, ozone water, electrolytic ion water, ultrapure water) is piped into the upper brush ultrasonic cleaning tank 104 and the lower brush ultrasonic cleaning tank 105. , 114, and move the

brushes

102, 103 into the upper brush ultrasonic cleaning tank 104 and the lower brush ultrasonic cleaning tank 105 (means for moving are not particularly shown, but appropriate means). Cleaning may be performed while applying ultrasonic waves.
[0032]
Note that the inner surface of the first tank 101 is preferably formed of stainless steel having a passivation film made of chromium oxide without iron oxide formed on the surface.
[0033]
Further, it is preferable that the object to be processed be configured to be rotatable. If the object to be processed is rotated and a cleaning liquid is supplied to the front surface (back surface), cleaning with even higher cleanliness can be performed.
[0034]
The first tank 101 is a tank for mainly performing cleaning with ozone water and brush cleaning with electrolytic ionic water (cathode water, anode water). By performing these washings, it becomes possible to remove organic substances, particles having a size of 10 μm or more, and metals.
[0035]
The brush may be any brush that does not damage the surface of the object to be cleaned and is only a source of contamination. For example, a brush made of nylon can be used.
[0036]
In the second tank, high-pressure electrolytic ionic

water jet nozzles

210 and 211 for high-pressure injection of electrolytic ionic water to the object to be processed are connected to the electrolytic ionic water high-pressure jet lead-out pipe 201.
[0037]
The second tank 504 includes, as shown in FIG. 3, high

pressure jet nozzles

210 and 211 for injecting electrolytic ions at a high pressure to the object to be treated, and supplies ultrapure water to the object 115 to be treated. It has at

least nozzles

206 and 209 for ultrapure water.
[0038]
The second tank 204 is a tank for mainly injecting electrolytic ion water at a high pressure, and thereby, particles having a size of 10 μm or less and 1 μm or more can be removed.
[0039]
The injection pressure is preferably 5 kgw / cm ^{2 to} 50 kgw / cm ² from the viewpoint of further improving the cleaning effect.
[0040]
In this example,

nozzles

206 and 209 for introducing ultrapure water and electrolytic ion

water introduction nozzles

207 and 208 for introducing other electrolytic ion water are further provided. Ultrapure water or electrolytic ionic water introduced from these nozzles can be used for rinsing.
[0041]
The

nozzles

210 and 211 are preferably made of stainless steel on the surface of which a passivation film containing chromium oxide as a main component can prevent generation of particles from the nozzles, and is preferable in terms of corrosion resistance.
[0042]
On the other hand, it is preferable to use platinum for the ultrapure

water introduction nozzles

206 and 209 and the electrolytic ionized

water introduction nozzles

207 and 208 from the viewpoint of preventing electrification of pure water.
[0043]
The third tank 505 includes, as shown in FIG. 4, means for introducing electrolytic ionic water, and

ultrasonic vibrators

303 and 304 which are means for irradiating ultrasonic waves of 30 kHz or more to the electrolytic ionic water. At least.
[0044]
The third tank 309 is a tank for mainly performing ultrasonic cleaning using electrolytic ionized water. By performing ultrasonic cleaning using electrolytic ion water, particles having a size of 1 micron or less are removed.
[0045]
In the present example shown in FIG. 4, an ultrasonic cleaning tank 301 made of quartz is further provided inside the third tank 309, into which electrolytic ionic water 306 is supplied via an electrolytic ionic water outlet pipe 307. ing. The ultrasonic cleaning tank 301 is housed in an ultrasonic tank 302 via an ultrasonic transmission liquid 305.

Reference numerals

303 and 304 denote ultrasonic vibrators, and in this example, ultrasonic waves are applied to an object to be processed in a horizontal direction. Ultrasonic waves from the ultrasonic vibrator 303 are transmitted to the object 115 immersed in the electrolytic ionic water 306 in the ultrasonic cleaning tank 301 via the ultrasonic transmission liquid 305.
[0046]
Further, as shown in FIG. 5, the fourth tank 506 has at least a nozzle 415 for introducing electrolytic ion water, and the object 115 is dried.
[0047]
The fourth tank 402 is a tank for mainly performing finish cleaning (mainly removing metals and particles) with electrolytic ionized water and drying.

Reference numerals

401, 404, 412, and 403 denote ultrasonic cleaners for performing the above-described finish cleaning. Reference numeral 404 denotes an ultrasonically treated water deriving unit for deriving treated water to which ultrasonic waves have been applied. It is preferable that the length a of the ultrasonically treated water lead-out portion 404 is larger than the length of the diagonal line of the object (substrate). Thus, even when the object to be processed is rotated, the spray water can be constantly sprayed on the entire substrate, so that reattachment of particles and the like can be prevented.
[0048]
The drying is preferably performed while blowing an inert gas onto the surface of the object to be processed in order to prevent an oxide film from being formed on the surface. Also in this example, a gas inlet 405 for introducing an inert gas is provided. As this gas, it is preferable to use a gas having an impurity concentration of several ppb or less such as moisture. From an economic viewpoint, nitrogen gas is preferable.
[0049]
Note that the gas is preferably heated by the heater 406 in order to increase the drying speed.
[0050]
In addition, it is preferable to perform rinsing with ultrapure water while ultrasonicating between the washing step with electrolytic ionized water and the drying step from the viewpoint of increasing cleanliness.
[0051]
In each tank, when cleaning is performed while spinning the object to be processed, the cleaning liquid uniformly covers the surface, and the surface to be cleaned is constantly supplied with a new cleaning liquid, and contaminants are removed from the surface by centrifugal force. Because it is taken away, very clean washing can be performed. Therefore, it is preferable that each of the tanks has a configuration in which the object to be processed can be rotated.
[0052]
The first tank 503 is an ozone water washing tank for washing with ozone water, and the second tank 504, the third tank 505, and the fourth tank 506 are cathode water washing tanks for performing a washing step using electrolytic cathode water. Each of the outlets 520b, 520c, 520d is connected to a wastewater treatment tank by piping 530b, 530c, 530d.
[0053]
Further, in this example, the electrolytic ionic water device 508 and the wastewater treatment tank 550 are connected by a pipe 530e so that the raw cathode water can be directly supplied to the wastewater treatment tank 550.
[0054]
The metal, organic matter, and oxide film are removed by washing with electrolytic ionized water.
[0055]
The wastewater treatment tank 550 is shown in FIG. FIG. 6A is a front sectional view, and FIG. 6B is a side view. The drainage treatment tank 550 has an ozone water drainage inlet 601 for introducing ozone water drainage therein, a cathode water drainage inlet 602 for introducing cathode water drainage therein, and an outlet 605. .
[0056]
In this example, the inside is partitioned into several spaces by

partition plates

606a, 606b, and 606c, and the height of the

partition plates

606a, 606b, and 606c decreases from the inlet to the outlet. Reference numeral 603 denotes a vent 603 for easily introducing ozone water drainage and cathode water drainage into the inside.
[0057]
Next, the drainage treatment procedure will be described.
[0058]
As an example of the wastewater treatment tank, a wastewater treatment tank having a tank capacity of 20 L (liter) and a treated water volume of 15 L (liter) is used.
[0059]
First, about 2 L of cathode water drainage generated in the second tank and the third tank is stored in the wastewater treatment tank 550 via the cathode water inlet 602.
[0060]
Next, ozone water drainage is introduced into the wastewater treatment tank 550 at a rate of 2 L / min through the ozone water drainage inlet 601. Further, when the cathode water drainage is introduced into the wastewater treatment tank 550 at a flow rate of 3 L / min from the second tank and the third tank in total, the treatment is performed.
[0061]
When draining, since a certain amount (eg, 15 L in the case of a 20 L tank) of the treated water remains in the waste water treatment tank 550, the cathode water raw water or the cathode water drainage may be flown without first being stored.
[0062]
FIG. 7 shows another embodiment.
[0063]
The difference from the embodiment shown in FIG. 1 is that the second tank, the third tank, the fourth tank, and the wastewater treatment tank are not connected, and instead, the ammonia water source 570 and the wastewater treatment tank 550 are provided. Are connected by a pipe 530f.
[0064]
【Example】
The liquid crystal display substrate was cleaned using a wet processing apparatus shown in the drawing. The procedure is as follows.
[0065]
First tank (1) Washing with ozone water Ozone concentration: 7 ppm
Washing time: 30 sec
Pure water rinse 5sec
Organic substances and metals were removed by this treatment.
[0066]
(2) Brush cleaning with electrolytic ionic water Electrolytic ionic water Cathode water pH 8
Redox potential: -500 mV
Washing time: 20 sec
The brush was used after being cleaned by a dedicated ultrasonic cleaning tank. For the ultrasonic cleaning, a megahertz band of 750 kHz or more was used, particles having a size of several μm to 1 μm were sufficiently removed, and relatively large particles on the substrate surface were removed.
[0067]
The large particles did not reattach to the brush due to the effect of the treated water (ie, the polarity of the particles could be made the same as the polarity of the brush material by pH control and redox potential control).
[0068]
By this processing, particles having a size of 10 μm or more were removed.
[0069]
Second tank (1) High pressure jet cleaning with electrolytic ion water 50 sec
Electrolyzed ion water Cathode water pH 8
Redox potential -500 mV
Cleaning time: 50 sec
(2) Pure water rinse: 10 sec
By this treatment, particles having a size of 10 μm or less and 1 μm or more were removed.
[0070]
Static electricity was removed by electrolytic ionic water.
[0071]
Third tank (1) Ultrasonic cleaning with electrolytic ionic water Electrolytic ionic water Cathode water pH 8
Redox potential -500 mV
Cleaning time: 50 sec
This treatment removed particles having a size of 1 micron or less.
[0072]
4th tank (1) Washing with electrolytic ionic water Electrolytic ionic water Anode water HF added pH 3
Redox potential: 1000 mV
HF addition pH3 Redox potential 1000mV
(2) Ultrasonic rinsing Rinse time: 20 sec
Ultrasonic wave: 950kHz
(3) Spin drying: nitrogen blow (center)
By this treatment, metals, organic substances, and oxide films were removed.
[0073]
After the completion of the above cleaning treatment, the cleanliness of the Al ₂ O ₃ particles (1 μm) was examined.
[0074]
[Table 1]

The ozone water drainage generated by the above washing was treated with cathode water drainage using a drainage treatment tank 550.
[0075]
Into the wastewater treatment tank, 10 L (liter) of ozone water wastewater discharged from the first tank was introduced into the wastewater treatment tank via the ozone water wastewater inlet 601. The ozone concentration in the ozone water drainage was 6 ppm.
[0076]
Next, 10 L of cathode water drainage discharged from the second and third tanks was introduced into the drainage treatment tank 550 via the cathode water inlet 602. The pH of the introduced cathode water drainage was 8.
[0077]
After the introduction of the cathode water drainage, the ozone concentration was measured over time. The results are shown in FIG.
(Example 2)
In the present example, the pH of the cathode water to which ammonia ions were added was used for washing in the second tank.
[0078]
As the cathode water drainage to the wastewater treatment device 550, only the cathode water drainage discharged in the second tank was used.
[0079]
The other points were the same as in Example 1.
[0080]
The measurement results in this example are shown in FIG.
[0081]
(Example 3)
In this example, cleaning and treatment of ozone water drainage were performed using the apparatus shown in FIG.
[0082]
The washing process was the same as in Example 1.
[0083]
In this example, ammonia water was introduced into the wastewater treatment tank 550 from the ammonia water source 570. The introduced amount of ammonia water was 1 L, and the pH was adjusted to 8 and pH = 10.
[0084]
The other points were the same as in Example 1.
[0085]
The results are shown in FIG. 8 with a mark (pH = 10) and a mark (pH = 8).
[0086]
In FIG. 8, the case of no processing is indicated by a square mark.
[0087]
As is clear from FIG. 8, the ozone concentration can be reduced to a level of 0.1 ppm in a very short time by mixing the cathode water drainage.
[0088]
(Example 4)
In this example, not the cathode water drainage but the raw cathode water was introduced from the electrolytic ionic water device 508 into the drainage treatment tank via the pipe 530e.
[0089]
The other points were the same as in Example 1. In this example, the same result as in Example 1 was obtained.
[0090]
【The invention's effect】
(Claim 1, Claim 3, Claim 4, Claim 6)
The ozone content can be reduced in a short time, and ozone water drainage can be discharged to a discharge pipe made of vinyl chloride without corroding the discharge pipe.
[0091]
(Claims 2 and 5)
In the cleaning process, high cleaning properties can be obtained, and ozone water drainage can be discharged to the discharge pipe made of vinyl chloride without corroding the discharge pipe. In addition, it is possible to effectively utilize the cathode water drainage that is originally discarded as wastewater.
[0092]
In addition, the ozone water wastewater treatment method and treatment system according to claim 3 and claim 6 reduce the ozone concentration in the ozone water wastewater by mixing ammonia water with the ozone water wastewater. The ozone water drainage can be discharged to the discharge pipe without corroding the discharge pipe.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating a cleaning system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view showing the inside of a first tank in FIG.
FIG. 3 is a sectional view showing the inside of a second tank in FIG.
FIG. 4 is a sectional view showing the inside of a third tank in FIG.
FIG. 5 is a sectional view showing the inside of a fourth tank in FIG. 1;
FIG. 6 is a front sectional view (a) and a side view (b) showing the wastewater treatment tank in FIG.
FIG. 7 is a diagram illustrating a cleaning system according to another embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a graph showing experimental results in Examples 1 to 4.
FIG. 9 is a diagram of a cleaning system according to a conventional example.
[Explanation of symbols]
101 first tank,
102 Upper brush,
103 Lower brush,
104 upper brush ultrasonic cleaning tank,
105 lower brush ultrasonic cleaning tank,
106, 107 ultrasonic oscillator,
108 Ozone water outlet piping system,
109 ultrapure water outlet piping system,
110 surfactant outgoing piping system,
111 Electrode ionized water / anode water outlet piping system,
112 Electrode ionized water / cathode water outlet piping system,
113, 114 Brush cleaning tank ultrapure water introduction piping system,
115 Object to be processed (glass substrate)
116-125 treated water, piping system for removing static electricity,
201 Electrode ionized water high-pressure jet lead-out piping system
202 Ultrapure water outlet piping system,
203 Electrolyzed deionized water outlet piping system,
204 second tank,
206-209 treated water, piping system for removing static electricity,
301 ultrasonic cleaning tank,
302 ultrasonic bath,
303, 304 ultrasonic transducer,
305 liquid for ultrasonic transmission,
306 treated water (electrolytic ion water, cathode water, anode water, ultrapure water),
307 Electrode ionized water outlet piping system,
308 Ultrapure water outlet piping system,
309 third tank,
310 drainage piping system,
311 Workpiece vertical mechanism,
313 Liquid delivery piping system for ultrasonic transmission,
401 Ultrapure water outlet piping system,
402 fourth tank,
403 ultrasonic transducer,
404 ultrasonic application treatment water derivation unit,
405 ultra-clean _{N 2} gas inlet,
406 N ₂ temperature control for the heater,
407 Workpiece rotating and drying mechanism holder,
408 workpiece rotation drying mechanism shaft,
410 Ultrapure water outlet piping system,
411 electrolytic ion water, anode water,
413 to 416 treated water, piping system for preventing static electricity,
417 ozone water outlet piping system,
501 wet processing device main body,
502 loader,
503 first tank,
504 second tank,
505 third tank,
506 fourth tank,
507 unloader,
508 electrolytic ionized water production equipment,
509 ozone water production equipment,
510 electrolytic ion supply piping system,
511, 513 Return piping system from the wet processing device,
512 Ozone water supply piping system.
520A, 520b, 520c, 520d outlet,
530a, 530b, 530c, 530d, 530e, 530f piping,
550 wastewater treatment tank,
560 drainage piping,
570 ammonia water source,
601 ozone water drainage inlet,
602 cathode water inlet,
603 vent,
605 outlet,
606a, 606b, 606c partition plate,

Claims

Wastewater containing ozone after the washing process with ozone water (hereinafter referred to as “ozone water wastewater”), wastewater containing electrolytic cathode water after undergoing the washing process with electrolytic cathode water (hereinafter “cathode water wastewater”) and A method for treating ozone water wastewater, wherein the ozone concentration in the ozone water wastewater is reduced by mixing raw water of electrolytic cathode water.

The ozone water drainage and the cathode drainage,
Cleaning process with ozone water,
Brush cleaning process with electrolytic ionic water,
High pressure jet cleaning process with electrolytic ion water,
An ultrasonic cleaning step performed by irradiating ultrasonic waves of 30 kHz or more to the electrolytic ionized water,
Washing process with electrolytic ionic water,
Drying process,
The method for treating ozone water wastewater according to claim 1, wherein the wastewater is ozone water wastewater and cathode wastewater produced from a wet treatment method having the following.

A method for treating ozone water wastewater, wherein the ozone concentration in the ozone water wastewater is reduced by mixing the ozone water wastewater with ammonia water.

Effluent treatment at the outlet of ozone water drainage of the ozone water washing tank that performs the washing step with ozone water, and the outlet of cathode water drainage of the cathode water washing tank that performs the washing step with electrolytic cathode water, and / or the electrolytic ionic water device An ozone water drainage treatment system, wherein a tank is connected.

The ozone water cleaning tank is an ozone water nozzle for supplying ozone water,
An ultrapure water nozzle for supplying ultrapure water,
A nozzle for supplying electrolytic ionic water for supplying electrolytic ionic water,
A brush for brushing the object,
A first tank having at least
The ozone water drainage system according to claim 4, wherein the cathode water cleaning tank is any one of the following second tank, third tank, and fourth tank.
An electrolytic ion water high-pressure jet nozzle for injecting electrolytic ion water at high pressure to the object to be treated, and a nozzle for ultrapure water for supplying ultrapure water to the object to be treated,
A second tank having at least:
Means for introducing electrolytic ionic water, means for irradiating the electrolytic ionic water with ultrasonic waves of 30 kHz or more,
A third tank having at least:
A fourth tank for drying an object to be processed having a nozzle for introducing electrolytic ion water.

An ozone water drainage treatment system, wherein a drainage treatment tank is connected to an ozone water drainage outlet of an ozone water washing tank that performs a washing step using ozone water, and an ammonia water source.