JP3577978B2 - エチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、エチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物に関するものである。更に詳しくは、本発明は、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物に関するものである。尚、ここで言う「ランダム共重合体」とは学術的表現として「講談社 エッセンシャル高分子科学、中浜 精一等著 21頁」に相当する。
【0002】
【従来の技術】
従来、エチレン−イソプレンランダム共重合体としては、特公昭48−56775号公報において、塩化バナジウム化合物を用いたエチレン−イソプレン無定形共重合体の製造方法が開示されている。また、DONG−HOLEE等は、Et(Ind)2ZrCl2/MAOを用いる技術を開示している(Eur.Polym.J.Vol.33,No.4,pp447,1997)。しかしながら、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体は知られていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
かかる現状において、本発明が解決しようとする課題は、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物を提供する点に存するものである。なお、加硫速度が速いことによって加硫工程又はその後処理工程におけるコストダウンが可能となり、かつ加硫促進剤の使用量の削減も可能となる。また、加硫密度が高い場合、高発泡で高剛性のスポンジゴムを得ることができること、低温セット性及び耐油性に優れること、高充填が可能となりコストダウンが可能となること等の利点を有する。
【0004】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明のうち第一の発明は、イソプレンの含有量が1〜45モル%であり、数平均分子量(Mn)/重量平均分子量(Mw)の比であるQ値が3.5以下であり、温度70℃におけるキシレン溶媒による極限粘度[η]が0.3以上であり、下記(A)と、下記(B)及び/又は下記(C)とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合して得られ、かつイソプレン部分の1,4結合が93〜100モル%であり、かつイソプレン部分のシス含量が43〜51モル%であるエチレン−イソプレンランダム共重合体に係るものである。
(A): 下記一般式[I]〜[ III ]で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
(上記一般式[I]〜[ III ]においてそれぞれ、M 1 は元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を示し、Aは元素の周期律表の第16族の原子を示し、Jは元素の周期律表の第14族の原子を示す。Cp 1 はシクロペンタジエン形アニオン骨
格を有する基を示す。X 1 、X 2 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は2置換アミノ基を示す。X 3 は元素の周期律表の第16族の原子を示す。R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 は任意に結合して環を形成してもよい。二つのM 1 、A、J、Cp 1 、X 1 、X 2 、X 3 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。)
(B):下記(B1)〜(B3)から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物 (B1)一般式 E 1 a AlZ 3-a で示される有機アルミニウム化合物
(B2)一般式 {−Al(E 2 )−O−} b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
(B3)一般式 E 3 {−Al(E 3 )−O−} c AlE 3 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
(但し、E 1 、E 2 及びE 3 は、それぞれ炭化水素基であり、全てのE 1 、全てのE 2 及び全てのE 3 は同じであっても異なっていてもよい。Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのZは同じであっても異なっていてもよい。aは0<a≦3を満足する数を、bは2以上の整数を、cは1以上の整数を表す。)
(C):下記(C1)〜(C3)のいずれかのホウ素化合物
(C1)一般式 BQ 1 Q 2 Q 3 で表されるホウ素化合物、
(C2)一般式 G + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物、
(C3)一般式 (L−H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物
(但し、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q 1 〜Q 4 はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。G + は無機又は有機のカチオンであり、Lは中性ルイス塩基であり、(L−H) + はブレンステッド酸である。)
【0005】
また、本発明のうち第二の発明は、上記第一の発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体100重量部、無機充填剤及び/又はカーボンブラック5〜400重量部及び架橋剤0.1〜20重量部を含有するエラストマー組成物に係るものである。
【0006】
更に、本発明のうち第三の発明は、上記第二の発明のエラストマー組成物を架橋して得られる架橋エラストマー組成物に係るものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体のうち一の共重合体は、イソプレンの含有量が1〜45モル%であるエチレン−イソプレンランダム共重合体であり、好ましくは該含有量が1.2〜40モル%であるエチレン−イソプレンランダム共重合体である。イソプレンの含有量が過少であると加硫が十分ではなくなり、一方イソプレンの含有量が過多であると触媒活性や分子量の低下、及び加硫密度の低下を生じる。
【0008】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体のうち他の共重合体は、数平均分子量(Mn)/重量平均分子量(Mw)の比であるQ値が3.5以下であるエチレン−イソプレンランダム共重合体であり、好ましくは1.8〜3.5のものであり、更に好ましくは1.8〜2.5のものである。Q値が過大であると、たとえばフィルム等の用途に使用した場合には、強度の低下、ブリ−ド成分の増加、抽出成分の増加によるフィルムのべたつき等の問題が発生し、また低密度のゴムとして使用した場合には、架橋物性、たとえば圧縮永久歪み、引っ張り剛性等が劣るといったように実用物性上の問題点が発生する。
【0009】
分子量分布はゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法(たとえば、Waters社製、150C/GPC装置)により行う。溶出温度は140℃、使用カラムは、たとえば昭和電工社製Shodex Packed ColumnA−80M、分子量標準物質はポリスチレン(たとえば、東ソー社製、分子量68−8,400,000)を用いる。得られたポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、更にこの比(Mw/Mn)を分子量分布とする。測定サンプルは約5mgの重合体を5mlのo−ジクロロベンゼンに溶解、約1mg/mlの濃度とする。得られたサンプル溶液の400μlをインジェクションし、溶出溶媒流速は1.0ml/minとし、屈折率検出器にて検出する。
【0010】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体は、低分子量領域から高分子量領域までの分子量分布に対するエチレンとイソプレンの含量の比はほとんど均一であって、組成分布が狭い特徴を有する。
【0011】
本発明のα−オレフィン−共役ポリエン共重合体は、温度70℃におけるキシレン溶媒による極限粘度[η]が0.3以上であり、好ましくは0.5以上である。該極限粘度が低すぎると、得られるエチレン−イソプレンランダム共重合体の物性及び加工性に劣る場合がある。極限粘度[η]の測定は、70℃キシレン中でウベローデ粘度計を用いて行う。サンプルは300mgを100mlキシレンに溶解し、3mg/mlの溶液を調整した。更に当該溶液を1/2、1/3、1/5に希釈し、それぞれを70℃(±0.1℃)の恒温水槽中で測定する。それぞれの濃度で3回繰り返し測定し、得られた値を平均して用いる。
【0012】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体は、下記(A)と、下記(B)及び/又は下記(C)とを用いてなるオレフィン重合用触媒を用いて製造され得る。すなわち、ポリマー内への触媒残渣の混入が少なく、特に塩素含有量が従来のチーグラー・ナッタ触媒を使用していた時と比較して、格段に低下する。このことは、ポリマーの変色を抑制し、また食品用途等への用途拡大にも効果をおよぼし、最適に製造することを意味する。
(A): 下記一般式[I]〜[ III ]で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
(上記一般式[I]〜[ III ]においてそれぞれ、M 1 は元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を示し、Aは元素の周期律表の第16族の原子を示し、Jは元素の周期律表の第14族の原子を示す。Cp 1 はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を示す。X 1 、X 2 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は2置換アミノ基を示す。X 3 は元素の周期律表の第16族の原子を示す。R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 は任意に結合して環を形成してもよい。二つのM 1 、A、J、Cp 1 、X 1 、X 2 、X 3 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。)
(B):下記(B1)〜(B3)から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物 (B1)一般式 E 1 a AlZ 3-a で示される有機アルミニウム化合物
(B2)一般式 {−Al(E 2 )−O−} b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
(B3)一般式 E 3 {−Al(E 3 )−O−} c AlE 3 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
(但し、E 1 、E 2 及びE 3 は、それぞれ炭化水素基であり、全てのE 1 、全てのE 2 及び全てのE 3 は同じであっても異なっていてもよい。Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのZは同じであっても異なっていてもよい。aは0<a≦3を満足する数を、bは2以上の整数を、cは1以上の整数を表す。)
(C):下記(C1)〜(C3)のいずれかのホウ素化合物
(C1)一般式 BQ 1 Q 2 Q 3 で表されるホウ素化合物、
(C2)一般式 G + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物、
(C3)一般式 (L−H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物
(但し、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q 1 〜Q 4 はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。G + は無機又は有機のカチオンであり、Lは中性ルイス塩基であり、(L−H) + はブレンステッド酸である。)
【0013】
上記の製造方法により、ポリマー内への触媒残渣の混入が少なく、特に塩素含有量が従来のチーグラー・ナッタ触媒を使用していた時と比較して、格段に低下する。このことは、ポリマーの変色を抑制し、また食品用途等への用途拡大にも効果をおよぼし、最適に製造することを意味する。
【0014】
以下、上記の製造法について、更に詳しく説明する。
(A)遷移金属錯体について説明する。
遷移金属錯体(A)は一般式[I]、[II]又は[III]で表される。
一般式[I]、[II]又は[III]において、M1で示される遷移金属原子とは、元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)の第4族の遷移金属元素を示し、たとえばチタニウム原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子などがあげられる。好ましくはチタニウム原子又はジルコニウム原子である。
一般式[I]、[II]又は[III]においてAとして示される元素の周期律表の第16族の原子としては、たとえば酸素原子、硫黄原子、セレン原子などがあげられ、好ましくは酸素原子である。
一般式[I]、[II]又は[III]においてJとして示される元素の周期律表の第14族の原子としては、たとえば炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などがあげられ、好ましくは炭素原子又はケイ素原子である。
【0015】
置換基Cp1として示されるシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基としては、たとえばη5−(置換)シクロペンタジエニル基、η5−(置換)インデニル基、η5−(置換)フルオレニル基などである。具体的に例示すれば、たとえばη5−シクロぺンタジエニル基、η5−メチルシクロペンタジエニル基、η5−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5−エチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−プロピルシクロペンタジエニル基、η5−イソプロピルシクロペンタジエニル基、η5−n−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−sec−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−tert−ブチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η5−ネオペンチルシクロぺンタジエニル基、η5−n−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、η5−n−オクチルシクロぺンタジエニル基、η5−フェニルシクロぺンタジエニル基、η5−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η5−トリメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η5−インデニル基、η5−メチルインデニル基、η5−ジメチルインデニル基、η5−エチルインデニル基、η5−n−プロピルインデニル基、η5−イソプロピルインデニル基、η5−n−ブチルインデニル基、η5−sec−ブチルインデニル基、η5−tert−ブチルインデニル基、η5−n−ペンチルインデニル基、η5−ネオペンチルインデニル基、η5−n−ヘキシルインデニル基、η5−n−オクチルインデニル基、η5−n−デシルインデニル基、η5−フェニルインデニル基、η5−メチルフェニルインデニル基、η5−ナフチルインデニル基、η5−トリメチルシリルインデニル基、η5−トリエチルシリルインデニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルインデニル基、η5−テトラヒドロインデニル基、η5−フルオレニル基、η5−メチルフルオレニル基、η5−ジメチルフルオレニル基、η5−エチルフルオレニル基、η5−ジエチルフルオレニル基、η5−n−プロピルフルオレニル基、η5−ジ−n−プロピルフルオレニル基、η5−イソプロピルフルオレニル基、η5−ジイソプロピルフルオレニル基、η5−n−ブチルフルオレニル基、η5−sec−ブチルフルオレニル基、η5−tert−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−n−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−sec−ブチルフルオレニル基、η5−ジ−tert−ブチルフルオレニル基、η5−n−ペンチルフルオレニル基、η5−ネオペンチルフルオレニル基、η5−n−ヘキシルフルオレニル基、η5−n−オクチルフルオレニル基、η5−n−デシルフルオレニル基、η5−n−ドデシルフルオレニル基、η5−フェニルフルオレニル基、η5−ジ−フェニルフルオレニル基、η5−メチルフェニルフルオレニル基、η5−ナフチルフルオレニル基、η5−トリメチルシリルフルオレニル基、η5−ビス−トリメチルシリルフルオレニル基、η5−トリエチルシリルフルオレニル基、η5−tert−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などがあげられ、好ましくはη5−シクロペンタジエニル基、η5−メチルシクロペンタジエニル基、η5−tert−ブチルシクロペンタジエニル基、η5−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5−インデニル基、又はη5−フルオレニル基である。
【0016】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され、好ましくは塩素原子又は臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。
【0017】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、たとえばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル基などがあげられ、より好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基又はアミル基である。
【0018】
これらのアルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜20のアルキル基としては、たとえばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシル基などがあげられる。
またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0019】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアラルキル基としては、炭素原子数7〜20のアラルキル基が好ましく、たとえばベンジル基、(2−メチルフェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチルフェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メチル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジメチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、(n−ドデシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などがあげられ、より好ましくはベンジル基である。
これらのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0020】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアリール基としては、炭素原子数6〜20のアリール基が好ましく、たとえばフェニル基、2−トリル基、3−トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などがあげられ、より好ましくはフェニル基である。
これらのアリール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0021】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6における置換シリル基とは炭化水素基で置換されたシリル基であって、ここで炭化水素基としては、たとえばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数1〜10のアルキル基、フェニル基などのアリール基などがあげられる。かかる炭素原子数1〜20の置換シリル基としては、たとえばメチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原子数1〜20の1置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子数2〜20の2置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、トリ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−n−ペンチルシリル基、トリ−n−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数3〜20の3置換シリル基などがあげられ、好ましくはトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、又はトリフェニルシリル基である。
これらの置換シリル基はいずれもその炭化水素基が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0022】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアルコキシ基としては、炭素原子数1〜20のアルコキシ基が好ましく、たとえばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ基、n−イコソキシ基などがあげられ、より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、又はtert−ブトキシ基である。
これらのアルコキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0023】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアラルキルオキシ基としては、炭素原子数7〜20のアラルキルオキシ基が好ましく、たとえばベンジルオキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メトキシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などがあげられ、より好ましくはベンジルオキシ基である。
これらのアラルキルオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0024】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6におけるアリールオキシ基としては、炭素原子数6〜20のアリールオキシ基が好ましく、たとえばフェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノキシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメチルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメチルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメチルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基などがあげられる。
これらのアリールオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【0025】
置換基X1、X2、R1、R2、R3、R4、R5又はR6における2置換アミノ基とは2つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水素基としては、たとえばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数1〜10のアルキル基、フェニル基などの炭素原子数6〜10のアリール基、炭素原子数7〜10のアラルキル基などがあげられる。かかる炭素原子数1〜10の炭化水素基で置換された2置換アミノ基としては、たとえばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、ジ−sec−ブチルアミノ基、ジ−tert−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、tert−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−n−ヘキシルアミノ基、ジ−n−オクチルアミノ基、ジ−n−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−tert−ブチルジメチルシリルアミノ基などがあげられ、好ましくはジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基である。これらの2置換アミノ基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基又はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
置換基R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、任意に結合して環を形成していてもよい。
好ましいR1としては、アルキル基、アラルキル基、アリール基及び置換シリル基をあげることができる。
好ましいX1及びX2としては、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基及び2置換アミノ基をあげることができ、更に好ましいものとしては、ハロゲン原子及びアルコキシ基をあげることができる。
一般式[II]又は[III]においてX3として示される元素の周期律表の第16族の原子としては、たとえば酸素原子、硫黄原子、セレン原子などがあげられ、好ましくは酸素原子である。
【0026】
一般式[I]で表される遷移金属錯体としては、たとえばメチレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレ
ン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、メチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−トリメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムをジルコニウム、又はハフニウムに変更した化合物、ジクロライドをジブロミド、ジアイオダイド、ビス(ジメチルアミド)、ビス(ジエチルアミド)、ジ−n−ブトキシド、又はジイソプロポキシドに変更した化合物、(シクロペンタジエニル)を(ジメチルシクロペンタジエニル)、(トリメチルシクロペンタジエニル)、(n−ブチルシクロペンタジエニル)、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)、又は(インデニル)に変更した化合物、(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)を(2−フェノキシ)、(3−メチル−2−フェノキシ)、(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)、(3−フェニル−5−メチル−2−フェノキシ)、(3−tert−ブチルジメチルシリル−2−フェノキシ)、又は(3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)に変更した化合物などといった一般式[I]におけるJが炭素原子である遷移金属錯体ならびに、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(シクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(メチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(n−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(インデニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3,5−ジメチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3,5−ジ−tert−ブチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(5−メチル−3−フェニル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−tert−ブチルジメチルシリル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(5−メチル−3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−メトキシ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3−tert−ブチル−5−クロロ−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(フルオレニル)(3,5−ジアミル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド、ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(1−ナフトキシ−2−イル)チタンジクロライドなどや、これらの化合物の(シクロペンタジエニル)を(ジメチルシクロペンタジエニル)、(トリメチルシクロペンタジエニル)、(エチルシクロペンタジエニル)、(n−プロピルシクロペンタジエニル)、(イソプロピルシクロペンタジエニル)、(sec−ブチルシクロペンタジエニル)、(イソブチルシクロペンタジエニル)、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)、(フェニルシクロペンタジエニル)、(メチルインデニル)、又は(フェニルインデニル)に変更した化合物、(2−フェノキシ)を(3−フェニル2−フェノキシ)、(3−トリメチルシリル−2−フェノキシ)、又は(3−tert−ブチルジメチルシリル−2−フェノキシ)に変更した化合物、ジメチルシリルをジエチルシリル、ジフェニルシリル、又はジメトキシシリルに変更した化合物、チタニウムをジルコニウム、又はハフニウムに変更した化合物、ジクロライドをジブロミド、ジアイオダイド、ビス(ジメチルアミド)、ビス(ジエチルアミド)、ジ−n−ブトキシド、又はジイソプロポキシドに変更した化合物といった一般式[I]におけるJが炭素原子以外の元素の周期律表の第14族の原子である遷移金属錯体があげられる。
【0027】
一般式[II]で表される遷移金属錯体としては、たとえば
μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムクロライド}、
μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムメトキシド}、などがあげられる。
【0028】
一般式[III]で表される遷移金属錯体としては、たとえば
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(メチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2−フェノキシ)チタニウム}、
ジ−μ−オキソビス{ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウム}、
などがあげられる。
【0029】
上記一般式[I]で表される遷移金属錯体は、たとえばWO97/03992号公開明細書に記載の方法で製造できる。また上記一般式[II]又は[III]で表される遷移金属錯体は、上記一般式[I]で表される遷移金属錯体と1当量又は2当量の水とを反応させることにより製造できる。
【0030】
(B)アルミニウム化合物について説明する。
アルミニウム化合物(B)としては、下記(B1)〜(B3)から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物である。
(B1)一般式 E1 aAlZ3−aで示される有機アルミニウム化合物
(B2)一般式 {−Al(E2)−O−}bで示される構造を有する環状のアルミノキサン
(B3)一般式 E3{−Al(E3)−O−}cAlE3 2で示される構造を有する線状のアルミノキサン
(但し、E1、E2、及びE3は、それぞれ炭化水素基であり、全てのE1、全てのE2及び全てのE3は同じであっても異なっていてもよい。Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのZは同じであっても異なっていてもよい。aは0<a≦3を満足する数を、bは2以上の整数を、cは1以上の整数を表す。)
E1、E2、又はE3における炭化水素基としては、炭素数1〜8の炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【0031】
一般式 E1 aAlZ3−aで示される有機アルミニウム化合物(B1)の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。
好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、又はトリイソブチルアルミニウムである。
【0032】
一般式 {−Al(E2)−O−}bで示される構造を有する環状のアルミノキサン(B2)、一般式 E3{−Al(E3)−O−}cAlE3 2で示される構造を有する線状のアルミノキサン(B3)における、E2、E3の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。bは2以上の整数であり、cは1以上の整数である。好ましくは、E2及びE3はメチル基、又はイソブチル基であり、bは2〜40、cは1〜40である。
【0033】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。たとえば、トリアルキルアルミニウム(たとえば、トリメチルアルミニウムなど)を適当な有機溶剤(ベンゼン、脂肪族炭化水素など)に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム(たとえば、トリメチルアルミニウムなど)を結晶水を含んでいる金属塩(たとえば、硫酸銅水和物など)に接触させて作る方法が例示できる。
【0034】
(C)ホウ素化合物について説明する。
ホウ素化合物(C)としては、(C1)一般式 BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物、(C2)一般式 G+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるホウ素化合物、(C3)一般式 (L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるホウ素化合物のいずれかを用いることができる。
【0035】
一般式 BQ1Q2Q3で表されるホウ素化合物(C1)において、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q1〜Q3はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。Q1〜Q3は好ましくは、ハロゲン原子、1〜20個の炭素原子を含む炭化水素基、1〜20個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基、1〜20個の炭素原子を含む置換シリル基、1〜20個の炭素原子を含むアルコキシ基又は2〜20個の炭素原子を含むアミノ基であり、より好ましいQ1〜Q3はハロゲン原子、1〜20個の炭素原子を含む炭化水素基、又は1〜20個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基である。更に好ましくはQ1〜Q4は、それぞれ少なくとも1個のフッ素原子を含む炭素原子数1〜20のフッ素化炭化水素基であり、特に好ましくはQ1〜Q4は、それぞれ少なくとも1個のフッ素原子を含む炭素原子数6〜20のフッ素化アリール基である。
【0036】
化合物(C1)の具体例としては、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4−トリフルオロフェニル)ボラン、フェニルビス(ペンタフルオロフェニル)ボラン等があげられるが、最も好ましくは、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボランである。
【0037】
一般式 G+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるホウ素化合物(C2)において、G+は無機又は有機のカチオンであり、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q1〜Q4は上記の(C1)におけるQ1〜Q3と同様である。
【0038】
一般式 G+(BQ1Q2Q3Q4)−で表される化合物における無機のカチオンであるG+の具体例としては、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるG+としては、トリフェニルメチルカチオンなどがあげられる。G+として好ましくはカルベニウムカチオンであり、特に好ましくはトリフェニルメチルカチオンである。(BQ1Q2Q3Q4)−としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,4−トリフルオロフェニル)ボレート、フェニルトリス(ペンタフルオロフェニル)ボレ−ト、テトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレートなどがあげられる。
【0039】
これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、1,1’−ジメチルフェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、銀テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレートなどをあげることができるが、最も好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである。
【0040】
また、一般式(L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表されるホウ素化合物(C3)においては、Lは中性ルイス塩基であり、(L−H)+はブレンステッド酸であり、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q1〜Q4は上記のルイス酸(C1)におけるQ1〜Q3と同様である。
【0041】
一般式(L−H)+(BQ1Q2Q3Q4)−で表される化合物におけるブレンステッド酸である(L−H)+の具体例としては、トリアルキル置換アンモニウム、N,N−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどがあげられ、(BQ1Q2Q3Q4)−としては、前述と同様のものがあげられる。
【0042】
これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどをあげることができるが、最も好ましくは、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、もしくは、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである。
【0043】
共重合に際しては、遷移金属錯体(A)と、上記(B)及び/又は上記(C)とを用いてなるオレフィン重合用触媒を用いる。(A)、(B)2成分よりなるオレフィン重合用触媒を用いる際は、(B)としては、前記の環状のアルミノキサン(B2)及び/又は線状のアルミノキサン(B3)が好ましい。また他に好ましいオレフィン重合用触媒の態様としては、上記(A)、(B)及び(C)を用いてなるオレフィン重合用触媒があげられ、その際の該(B)としては前記の(B1)が使用しやすい。
【0044】
各成分の使用量は通常、(B)/(A)のモル比が0.1〜10000で、好ましくは5〜2000、(C)/(A)のモル比が0.01〜100で、好ましくは0.5〜10の範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
【0045】
各成分を溶液状態もしくは溶媒に懸濁状態で用いる場合の濃度は、重合反応器に各成分を供給する装置の性能などの条件により、適宜選択されるが、一般に、(A)が、通常0.01〜500μmol/gで、より好ましくは、0.05〜100μmol/g、更に好ましくは、0.05〜50μmol/g、(B)が、Al原子換算で、通常0.01〜10000μmol/gで、より好ましくは、0.1〜5000μmol/g、更に好ましくは、0.1〜2000μmol/g、(C)は、通常0.01〜500μmol/gで、より好ましくは、0.05〜200μmol/g、更に好ましくは、0.05〜100μmol/gの範囲にあるように各成分を用いることが望ましい。
【0046】
化合物(A)で表される遷移金属錯体及び化合物(B)、あるいは更に化合物(C)を、重合時に任意の順序で投入し使用することができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いてもよい。
【0047】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体を製造するには、たとえば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。重合温度は、−70〜350℃の範囲を取り得るが、特に−50〜220℃の範囲が好ましく、更に好ましくは−20〜120℃の範囲が好ましい。重合圧力は、大気圧〜350MPaの範囲を取り得るが、好ましくは大気圧〜100MPa、更に好ましくは大気圧〜10MPaの範囲が好ましい。重合時間は、一般的に、使用する触媒の種類、反応装置により適宜決定されるが、1分間〜20時間の範囲を取ることができる。また、重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【0048】
次に、本発明のエラストマー組成物について説明する。本発明のエラストマー組成物は、本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体100重量部、無機充填剤及び/又はカーボンブラック5〜400重量部及び架橋剤0.1〜20重量部を含有するエラストマー組成物である。
【0049】
エチレン−イソプレンランダム共重合体100重量部あたりの無機充填剤及び/又はカーボンブラックの含有量は5〜400重量部であり、好ましくは10〜200重量部である。該含有量が過少であると十分な補強効果が得られずとなり、一方該含有量が過多であると組成物の粘度が上昇し、加工性に劣る。なお、上記の充填剤の量は、無機充填剤及び/又はカーボンブラックを併用した場合は、全充填剤量を基準とする。
【0050】
無機充填剤の具体例としては、ガラスフレーク、カオリン、クレイ、シリカ、ガラスバルーン、ガラスビーズ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、酸化チタン、チタン酸カリウムウィスカー、硫酸バリウム、シラスバルーン、アエロジル等を例示することができる。
【0051】
エチレン−イソプレンランダム共重合体組成物に使用され得る架橋剤としては、各種の架橋剤から用途に応じて任意に1種又は2種以上選択することが可能である。かかる架橋剤としては、硫黄系架橋剤、無機架橋剤、ポリアミン架橋剤、樹脂架橋剤、硫黄化合物系架橋剤、オキシム−ニトロソアミン系架橋剤、有機過酸化物系架橋剤、その他の架橋剤等があげられる。かかる架橋剤の具体例として、硫黄系架橋剤の具体例としては、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄、非汚染性硫黄ドナ−等をあげることができ、無機架橋剤の具体例としては、セレニウム、テルリウム、酸化マグネシウム、リサ−ジ(一酸化鉛)、亜鉛華等をあげることができ、ポリアミン架橋剤の具体例としては、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミンカルバメ−ト、N、N’ジシンナミリデン−1,6−ヘキサンジアミン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)カルバメ−ト、4,4’−メチレンビス−(2ークロロアニリン)等をあげることができ、樹脂架橋剤の具体例としてはアルキルフェノ−ルホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、トリアジンホルムアルデヒド縮合物、硫化−P−第三ブチルフェノ−ル樹脂、アルキルフェノ−ルスルフィド樹脂、ヘキサメトキシメチルメラミン樹脂等をあげることができ、硫黄化合物系架橋剤の具体例としては、1塩化硫黄、2塩化硫黄、モルフォリンジスルフィド、アルキルフェノ−ルジスルフィド、高分子多硫化物、硫黄を含む加硫促進剤等をあげることができ、オキシム−ニトロソアミン系架橋剤の具体例としてはp−キノンジオキシム、p、p’−ジベンゾイルキノンジオキシム、テトラクロロ−p−ベンゾキノン、ポリ−p−ジニトロソベンゼン等をあげることができ、有機過酸化物系架橋剤の具体例としては、第三ブチルヒドロペルオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロペルオキサイド、p− メンタンヒドロペルオキサイド、クメンヒドロペルオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン2,5−ジヒドロペルオキサイド、ジ−第三ブチルペルオキサイド、ジクミルペルオキサイド、第三ブチルクミルペルオキサイド、1,1−ビス(第三ブチルペルオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(第三ブチルペルオキシ)オクタン、1,1−ジ−第三ブチルペルオキシシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(第三ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−(第三ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、1,3−ビス(第三ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、1,1−ビス(第三ブチルペルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(第三ブチルペルオキシ)バレレ−ト、ベンゾイルペルオキシド、m−トルイルペルオキサイド、p−クロロベンゾイルペルオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルペルオキサイド、第三ブチルペルオキしシイソブトレ−ト、第三ブチルペルオキシ2−エチルヘキサノエ−ト、第三ブチルペルオキシベンゾエ−ト、第三ブチルペルオキシイソプロピルカルボナ−ト、第三ブチルペルオキシアリルカルボナ−ト、アクリル系架橋剤をあげることができ、その他の架橋剤としては、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト、多官能性メタクリレ−トモノマ−、多価アルコ−ルメタクリレ−ト、N、N’−m−フェニレンビスマレイミド、安息香酸アンモニウム、シリカ系充填剤含有モノマ−、トリアリルイソシアヌレ−ト、含金属モノマ−、メタクリル酸亜鉛、メタクリル酸マグネシウム、ジメタクリル酸亜鉛、ジメタクリル酸マグネシウム、2,4,6−トリメルカプト−S−トリアジン、N、N’−ビス(2−メチル−2−ニトロプロピル)−1,6−ヘキサンジアミン、イソシアヌル酸、チアジアゾ−ル誘導体、カチオン系活性剤、特殊混合加硫剤、高純度工業用石鹸等をあげることができる。なお、これらの架橋剤は用途に応じて任意に選択される。架橋剤の使用量も、必要とする架橋速度、架橋体の必要特性等に応じて任意に選択されるが、エチレン−イソプレンランダム共重合体100重量部あたりの架橋剤の含有量は通常0.1〜20重量部であり、好ましくは0.2〜10重量部である。該含有量が過少であると架橋がほとんど進行しない場合があり、一方該含有量が過多であると加硫物の物性が損なわれる場合がある。
【0052】
本発明のエラストマー組成物は必要に応じて公知(便覧ゴム・プラスチック配合薬品改訂第2版ラバ−ダイジェスト社編)の様々な添加剤を混合添加しておくことが可能である。かかる添加剤の例としては、加硫促進剤、加硫促進助剤、活性剤、スコ−チ防止剤、老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、素練り促進剤、粘着付与剤、可塑剤、ゴム軟化剤、ゴム補強剤、充填剤、強化剤、発泡剤、発泡助剤、滑剤、スリップ剤、内部離型剤、防曇剤、難燃剤、練りこみ用帯電防止剤、着色剤、カップリング剤、防腐剤、防カビ剤等が例示される。以下に、公知文献(便覧ゴム・プラスチック配合薬品改訂第2版ラバ−ダイジェスト社編)に記載されている各添加剤の具体例、もしくは、分類の1部を列挙する。まず、加硫促進剤の具体例としては、グアニジン系、アルデヒド−アンモニア系、アルデヒド−アミン系、チアゾ−ル系、スルファミンアミド系、チオ尿素系、チウラム系、ジチオカルバメ−ト系、ザンテ−ト系等の分類の化合物が、加硫促進助剤−活性剤の具体例としては、金属酸化物、金属炭酸塩、脂肪酸とその誘導体、アミン類の化合物が、スコ−チ防止剤の具体例としては、有機酸、ニトロソ化合物が、老化防止剤−酸化防止剤−オゾン劣化防止剤の具体例としては、ナフチルアミン系、ジフェニルアミン系、p−フェニレンジアミン系、キノリン系、ヒドロキノン誘導体、モノフェノ−ル系、ビス、トリスフェノ−ル系、チオビスフェノ−ル系、ヒンダ−ドフェノ−ル系、亜燐酸エステル系、ワックス類、銅害防止剤等が、紫外線吸収剤や光安定剤の具体例としては、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾ−ル系、ヒンダ−ドアミン系等が、素練り促進剤の具体例としてはペンタクロロチオフェノ−ルと活性添加物の混合品、ペンタクロロチオフェノ−ルの亜鉛塩、混合ジアルルジスルフィド等が、粘着付与剤の具体例としては、クマロン・インデン樹脂、フェノ−ル・ホルムアルデヒド樹脂、キシレン、ホルムアルデヒド樹脂、ポリテルペン樹脂、石油系炭化水素樹脂、ロジン酸エステル等が、可塑剤の具体例としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、セバシン酸誘導体、ドデカン−2−酸誘導体、マレイン酸誘導体、フマル酸誘導体、トリメリット酸誘導体、ピロメリット酸誘導体、クエン酸誘導体、イタコン酸誘導体、オレイン酸誘導体、リシノ−ル酸誘導体、ステアリン酸誘導体、その他の脂肪酸誘導体、スルホン酸誘導体、燐酸誘導体、グルタ−ル酸誘導体、モノエステル系可塑剤、グリコ−ル誘導体、グリセリン誘導体、パラフィン誘導体、エポキシ誘導体、ポリエステル、ポリエ−テル、ポリ−α−メチルスチレン、低分子量ポリスチレン、液状ポリクロロプレン、解重合ゴム、等が、ゴム軟化剤の具体例としては、鉱物油系軟化剤、植物油系軟化剤、サブ(ファクチス)、脂肪酸及び脂肪酸塩、等が、ゴム補強剤の具体例としては、カ−ボンブラック、無機補強剤、有機補強剤が、充填剤や強化剤の具体例としては、無機充填剤、有機充填剤、プラスチック強化剤が、発泡剤や発泡助剤の具体例としては、無機発泡剤、ニトロソ化合物、アゾ化合物、スルホニル・ヒドラジド等が、滑剤やスリップ剤や内部離型剤や防曇剤や難燃剤の具体例としては、パラフィン及び炭化水素樹脂、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪酸アルコ−ル、脂肪酸と多価アルコ−ルの部分エステルが、練り込み用帯電防止剤の具体例としては、カチオン系活性剤、第4級アンモニウム塩、ステアロアミドプロピルジメチル−β−ヒドロキシエチルアンモニウム等が、着色剤の具体例としては、無機顔料、有機顔料、有機蛍光顔料、真珠箔等が、カップリング剤の具体例としては、シラン系、アルミニウム系、チタネ−ト系のカップリング剤が例示される。これらの添加剤の添加量は、用途・目的に応じて適宜調製される為、特に制限はない。又、これらの添加剤は、通常、ブラベンダ−、バンバリ−ミキサ−、ニ−ダ−、オ−プンロ−ル等により、架橋反応前に予め混合することにより、本発明のエラストマーゴム組成物が得られる。
【0053】
本発明のエラストマーゴム組成物は、目的に応じて押出成形機、カレンダーロール又はプレスにより意図する形状に成形され、加硫工程を経て、成形された加硫ゴム組成物とされる。加硫は、通常120℃以上、好ましくは130〜200℃の温度、圧力大気圧〜15MPaの加熱下で約1〜60分間一次加硫し、更に必要に応じて130〜200℃の温度で1〜20時間、2次加硫する。
【0054】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物は、樹脂や他のゴム等とブレンドすることもできる。たとえは高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、LLDPE (直鎖状低密度ポリエチレン)等のポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリ−4−メチル−ペンテン−1、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリオレフィン系樹脂、エチレン−α−オレフィン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−非共役ジエン共重合体ゴム、エチレン−α−オレフィン−非共役ジエン共重合体ゴム、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体ゴム、スチレン−ブタジエンランダム共重合体ゴム、部分水添スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体ゴム、部分水添スチレン−ブタジエンランダム共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体ゴム、部分水添スチレン−イソプレンブロック共重合体ゴム、ポリアクリロニトリルゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、部分水添アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、シリコンゴム、ウレタンゴム、天然ゴムなどと行ってもよい。また必要に応じて過酸化物もしくは硫黄等の架橋剤の添加により架橋反応を行うことも可能である。更に、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、顔料、充填剤、難燃剤を配合してもよい。
【0055】
本発明のエラストマーゴム組成物と樹脂や他のゴムとのブレンド物を得る方法として、各成分を、二軸押出機、バンバリーミキサーなどにより溶融混練する方法をあげることができる。
【0056】
本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体、エラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物は、上記の各所で述べたとおりの特徴を有するものであり、各種樹脂の改質材、自動車部品用途、電気部品用途、工業部品用途、建材部品用途等の分野において最適に使用され得る。
【0057】
【実施例】
[I]測定方法
測定は、下記のとおり行った。
(1)極限粘度[η]
70℃キシレン中でウベローデ粘度計を用いて行った。サンプルは300mgを100mlキシレンに溶解し、3mg/mlの溶液を調整した。更に当該溶液を1/2、1/3、1/5に希釈し、それぞれを70℃(±0.1℃)の恒温水槽中で測定した。それぞれの濃度で3回繰り返し測定し、得られた値を平均して用いた。
(2)分子量分布
ゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法(Waters社製、150C/GPC装置)により行った。溶出温度は140℃、使用カラムは昭和電工社製Sodex Packed ColumnA−80M、分子量標準物質はポリスチレン(東ソー社製、分子量68−8,400,000)を用いた。得られたポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、さらにこの比(Mw/Mn)を分子量分布とする。測定サンプルは約5mgの重合体を5mlのo−ジクロロベンゼンに溶解、約1mg/mlの濃度とする。得られたサンプル溶液の400μlをインジェクションした。溶出溶媒流速は1.0ml/minとし、屈折率検出器にて検出した。
(3)GPC−IRの測定
ゲルパーエミッションクロマトグラフ法(ダイアインスツルメンツ(株)社製、CFCT−150A装置)/フーリエ変換赤外分光測定(ニコレー(株)社製、Magna550 FTIR 装置)を用いた。溶出温度は140℃、使用カラムは昭和電工(株)社製、UT−806Mを2本用いて、重合体100mgを25mlのo−ジクロロベンゼンに溶解させ、得られたサンプル溶液の0.8mlをインジェクションした。そしてその結果として生じる溶液をFT−IR装置に入れ2842−2982cm−1のCH伸縮振動に基づく吸収ピークを解析する。
(4)密度
JIS K−6760に従って求めた(23℃の値)。
(5)よう素価
滴定法によって求め、その値から計算してイソプレン含量(mol%)を求めた。
(6)共重合体中に含まれるイソプレンの構造
核磁気共鳴スペクトルの各帰属したシグナルの面積強度から計算した。
trans−1,4 1.62−1.65(3H)
cis−1,4 1.71−1.73(3H)
1,2 4.90(2H)
3,4 4.81(2H)
trans1.4+cis1.4 5.24(2H)
【0058】
[II]重合用触媒の調製
(1)遷移金属錯体(ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド)の合成
(a)1−ブロモ−3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノールの合成
窒素雰囲気下、撹拌機を備えた500ml4つ口フラスコ中で、2−tert−ブチル−4−メチルフェノール20.1g(123mmol)をトルエン150mlに溶かし、続いてtert−ブチルアミン25.9ml(18.0g、246mmol)を加えた。この溶液を−70℃に冷却し、そこへ臭素10.5ml(32.6g、204mmol)を加えた。この溶液を−70℃に保ち、2時間撹拌した。その後、室温まで昇温し、1回につき、10%希塩酸100mlを加えて、3回洗浄した。洗浄後得られる有機層を、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、エバポレーターを使用して溶媒を除去した後、シリカゲルカラムを用いて精製し、無色のオイルである1−ブロモ−3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノール 18.4g(75.7mmol)を得た。収率は、62%であった。
【0059】
(b)1−ブロモ−3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルベンゼンの合成
窒素雰囲気下、撹拌機を備えた100ml4つ口フラスコ中で、上記(1)で合成した1−ブロモ−3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノール13.9g(57.2mmol)をアセトニトリル40mlに溶かし、続いて水酸化カリウム3.8g(67.9mmol)を加えた。さらに、ヨウ化メチル17.8ml(40.6g、286mmol)を加え、12時間撹拌を続けた。その後、エバポレーターで溶媒を除去し、残さにヘキサン40mlを加え、ヘキサン可溶分を抽出した。抽出は3回繰り返した。抽出分から溶媒を除去し、淡黄色のオイルである1−ブロモ−3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルベンゼン 13.8g(53.7mmol)を得た。収率は、94%であった。
【0060】
(c)(3−tret−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)クロロジメチルシランの合成
テトラヒドロフラン(31.5ml)、ヘキサン(139ml)及び上記(2)で合成した1−ブロモ−3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルベンゼン(45g)からなる溶液に、−40℃で、n−ブチルリチウムの1.6モル/リットルのヘキサン溶液(115ml)を20分かけて滴下した。得られた混合物を−40℃にて1時間保温した後、テトラヒドロフラン(31.5ml)を滴下した。
ジクロロジメチルシラン(131g)及びヘキサン(306ml)からなる溶液中に、−40℃で、上で得た混合物を滴下した。得られた混合物を室温まで2時間かけて昇温し、更に室温にて12時間撹拌した。
反応混合物から減圧下にて溶媒及び余剰のジクロロジメチルシランを留去し、残さからヘキサンを用いてヘキサン可溶分を抽出し、得られたヘキサン溶液から溶媒を留去して、淡黄色オイル状の(3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)クロロジメチルシラン 41.9gを得た。収率は、84%であった。
【0061】
(d)(3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シランの合成
上記(c)で合成した(3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)クロロジメチルシラン(5.24g)及びテトラヒドロフラン(50ml)からなる溶液中に、−35℃にて、テトラメチルシクロペンタジエニル リチウム(2.73g)を添加し、2時間かけて室温まで昇温し、更に室温にて10時間撹拌した。
得られた反応混合物から減圧下に溶媒を留去し、残さから、ヘキサンを用いてヘキサン可溶分を抽出し、得られたヘキサン溶液から減圧下に溶媒を留去して、黄色オイル状の(3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン 6.69gを得た。収率は、97%であった。
【0062】
(e)ジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドの合成
上記(d)で合成した(3−tert−ブチル−2−メトキシ−5−メチルフェニル)ジメチル(テトラメチルシクロペンタジエニル)シラン(10.04g)とトルエン(100ml)とトリエチルアミン(6.30g)とからなる溶液に、−70℃で、n−ブチルリチウムの1.63モル/リットルのヘキサン溶液(19.0ml)を滴下し、その後、2時間かけて室温まで昇温し、更に室温で12時間保温した。
窒素雰囲気下に0℃で、四塩化チタニウム(4.82g)のトルエン溶液(50ml)に、上で得られた混合物を滴下し、その後、1時間かけて室温まで昇温した後、10時間加熱還流した。
反応混合物を濾過し、濾液から溶媒を留去し、残さをトルエン−ヘキサン混合溶媒から再結晶して、橙色柱状結晶のジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−tert−ブチル−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライド 3.46gを得た。収率は、27%であった。
スペクトルデータは次のとおりであった。
1H−NMR(CDCl3) δ 0.57(s,6H)、1.41(s,9H)、2.15(s,6H)、2.34(s,6H)、2.38(s,3H)、7.15(s,1H)、7.18(s,1H)
13C−NMR(CDCl3) δ 1.25、14.48、16.28、22.47、31.25、36.29、120.23、130.62、131.47、133.86、135.50、137.37、140.82、142.28、167.74
マススペクトル(CI、m/e)458
【0063】
[III]重合反応
実施例1
攪拌器、温度計、滴下ロート、還流冷却器を設けた容量2Lのセパラブルフラスコ反応器を減圧して後窒素ガスを導入し、内部を窒素ガス置換した。このフラスコに乾燥したヘキサン1Lを重合溶媒として導入した。ここにエチレン(8L/min)を大気圧にて連続フィードし、恒温水槽を用いて溶媒の温度を0℃とした。そこへ、イソプレン(25mmol)を添加した。次いで、TIBAのヘキサン溶液(0.5mmol/Al)を重合溶媒へ添加した。続いてジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−第3級−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドのヘキサン溶液(0.002mmol/Ti)を重合溶媒中に添加し、トリスペンタフルオロフェニルボレートのトルエン溶液(0.01mmol/B)を添加した。30分間攪拌した後、メタノールを添加して反応を停止させ、溶媒を回収して7.4gのエチレン−イソプレンランダム共重合体が得られた。得たれたエチレン−イソプレンランダム共重合体のイソプレン構造を1H NMRから求めた結果、1,4結合は99mol%以上であった。
【0064】
実施例2〜3
実施例1において、基本的に同様操作で行った。詳細な重合条件と共重合体の評価結果を表1に示した。
【0065】
実施例4
充分に窒素置換を行ったオートクレーブにヘキサン800mlを仕込み、これを0℃に冷却した。そこへイソプレン50mmolとエチレンを2g投入した。次いで、TIBAのヘキサン溶液(1.5mmol/Al)を重合溶媒へ添加した。続いてジメチルシリル(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3−第3級−5−メチル−2−フェノキシ)チタニウムジクロライドのヘキサン溶液(0.005mmol/Ti)を重合溶媒中に添加し、トリスペンタフルオロフェニルボレートのトルエン溶液(0.025mmol/B)と添加した。エチレンの圧力は重合中0.1MPa(ゲージ圧)に保った。7分間攪拌した後、メタノールを添加して反応を停止させ、溶媒を回収して4.8gのエチレン−イソプレンランダム共重合体が得られた。得たれたエチレン−イソプレンランダム共重合体のイソプレン構造を1H NMRから求めた結果、1,4結合は99mol%以上であった。
【0066】
実施例5〜11
実施例4において、基本的に同様操作で行った。詳細な重合条件と共重合体の評価結果を表1に示した。
【0067】
比較例1
実施例5と同様な操作でモノマーとしてエチレンを使用せず、イソプレンのみを添加して、重合をおこなった。その結果、ポリマーは生成しなかった。
【0068】
[IV]組成物の調製及び評価
次に実施例9及び実施例12で合成したエチレン−イソプレンランダム共重合体を下記の配合で8インチオープンロールを用いて混練し、エラストマー組成物を得た。
該エラストマー組成物の加硫速度と加硫密度を東洋精機社製オシレーティングディスクレオメータを用いて145℃の条件にて測定した。
配合(重量部) ポリマー:100、HAF−カーボンブラック:50、芳香族系プロセスオイル:5、老化防止剤:1、酸化亜鉛:5、ステアリン酸:2、ジベンゾチアジル・ジスルフィド:0.8、テトラメチルチウラム・ジスルフィド:0.3、イオウ:2
結果から次の事がわかる。本発明の条件を充足するエチレン−イソプレンランダム共重合体は、市販のEPDM−ENB又は合成イソプレンラバーと比較をおこなったところ、合成イソプレンラバー並みの加硫速度を持ち、しかも加硫密度はEPDM−ENBや合成イソプレンラバーよりもはるかに高かった。
【0069】
【表1】
【0071】
【表2】
【0072】
【表3】
【0073】
【表4】
【0074】
【0075】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明により、加硫速度が速く、かつ加硫密度が高いという特徴を有するエチレン−イソプレンランダム共重合体、該エチレン−イソプレンランダム共重合体を用いたエラストマー組成物及び架橋エラストマー組成物を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のエチレン−イソプレンランダム共重合体の製造方法の例を示すフロー図である。
【図2】実施例11及び実施例8の共重合体についてのオッシレーティングディスクレオメータ測定結果を示す図である。
【図3】実施例5の共重合体についてのGPC−IR測定結果を示す図である。
【図4】実施例5の共重合体についての1H NMR測定結果を示す図である。
Claims (10)
- イソプレンの含有量が1〜45モル%であり、数平均分子量(Mn)/重量平均分子量(Mw)の比であるQ値が3.5以下であり、温度70℃におけるキシレン溶媒による極限粘度[η]が0.3以上であり、下記(A)と、下記(B)及び/又は下記(C)とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合して得られ、かつイソプレン部分の1,4結合が93〜100モル%であり、かつイソプレン部分のシス含量が43〜51モル%であるエチレン−イソプレンランダム共重合体。
(A): 下記一般式[I]〜[ III ]で表される遷移金属錯体のうちの少なくとも一種
(上記一般式[I]〜[ III ]においてそれぞれ、M 1 は元素の周期律表の第4族の遷移金属原子を示し、Aは元素の周期律表の第16族の原子を示し、Jは元素の周期律表の第14族の原子を示す。Cp 1 はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を示す。X 1 、X 2 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は2置換アミノ基を示す。X 3 は元素の周期律表の第16族の原子を示す。R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 は任意に結合して環を形成してもよい。二つのM 1 、A、J、Cp 1 、X 1 、X 2 、X 3 、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。)
(B):下記(B1)〜(B3)から選ばれる1種以上のアルミニウム化合物 (B1)一般式 E 1 a AlZ 3-a で示される有機アルミニウム化合物
(B2)一般式 {−Al(E 2 )−O−} b で示される構造を有する環状のアルミノキサン
(B3)一般式 E 3 {−Al(E 3 )−O−} c AlE 3 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
(但し、E 1 、E 2 及びE 3 は、それぞれ炭化水素基であり、全てのE 1 、全てのE 2 及び全てのE 3 は同じであっても異なっていてもよい。Zは水素原子又はハロゲン原子を表し、全てのZは同じであっても異なっていてもよい。aは0<a≦3を満足する数を、bは2以上の整数を、cは1以上の整数を表す。)
(C):下記(C1)〜(C3)のいずれかのホウ素化合物
(C1)一般式 BQ 1 Q 2 Q 3 で表されるホウ素化合物、
(C2)一般式 G + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物、
(C3)一般式 (L−H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - で表されるホウ素化合物
(但し、Bは3価の原子価状態のホウ素原子であり、Q 1 〜Q 4 はハロゲン原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は2置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。G + は無機又は有機のカチオンであり、Lは中性ルイス塩基であり、(L−H) + はブレンステッド酸である。) - 一般式[I]、[II]又は[III]におけるAが、酸素原子である請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 一般式[II]又は[III]におけるX3が、酸素原子である請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 一般式[I]、[II]又は[III]におけるR1が、アルキル基、アラルキル基、アリール基又は置換シリル基である請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 一般式[I]、[II]又は[III]におけるX1及びX2が、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基又は2置換アミノ基である請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 化合物(B)が、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム又はメチルアルミノキサンである請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 化合物(C)が、ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート又はトリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートである請求項1記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 請求項1記載の(A)と、(B)及び(C)とを用いてなるオレフィン重合用触媒の存在下、α−オレフィンと共役ポリエンを重合する請求項1〜3のうちの一の請求項記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体。
- 請求項1〜8のうちの一の請求項に記載のエチレン−イソプレンランダム共重合体100重量部、無機充填剤及び/又はカーボンブラック5〜400重量部及び架橋剤0.1〜20重量部を含有するエラストマー組成物。
- 請求項9記載のエラストマー組成物を架橋して得られる架橋エラストマー組成物。
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