JP3562910B2

JP3562910B2 - Filter for substrate processing equipment

Info

Publication number: JP3562910B2
Application number: JP19947596A
Authority: JP
Inventors: 正美大谷; 豊秀林
Original assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Screen Holdings Co Ltd; Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-07-30
Filing date: 1996-07-30
Publication date: 2004-09-08
Anticipated expiration: 2016-07-30
Also published as: JPH1033920A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称する）に対して、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂，ＳＯＧ（ＳｐｉｎＯｎＧｌａｓｓ，シリカ系被膜形成材とも呼ばれる）液，現像液，洗浄液，純水などの処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置に係り、特に、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタを構成する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基板処理装置としては、フォトレジスト液を基板表面に塗布処理する基板塗布装置や、基板表面に被着された露光済みの感光性被膜に現像液を供給して現像処理を施す基板現像装置や、基板に純水などの処理液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置などが挙げられる。
【０００３】
これらの装置では、処理液を貯留している処理液タンクから処理液供給ノズルまで配管を介して処理液を圧送し、処理液供給ノズルから基板の表面に処理液を供給するようになっている。当然のことながら、基板に供給される処理液にパーティクルが含まれていると基板に対して悪影響を及ぼすので、通常、それを除去するために配管にフィルタを介在させている。つまり、パーティクル除去作用を有するパーティクル除去膜を内蔵したフィルタによって処理液中のパーティクルを除去し、処理液を清浄にして供給するようになっている。
【０００４】
しかしながら、処理液には上記のパーティクルの他に、処理液を圧送する際のエア噛みに起因する気泡や、最初から溶け込んでいる非常に粒径の小さな気泡が存在している場合がある。このように気泡が処理液に溶存している場合には、気泡が基板表面に付着して処理に悪影響を及ぼすことがある。
例えば、基板塗布装置では、基板の表面に供給されたフォトレジスト液に気泡が含まれていると、その塗布部位の膜厚が極端に薄くなるか、あるいは全くフォトレジスト液のない部位（いわゆるピンホ─ル）が生じて塗布不良となる。また、基板現像装置では、気泡が付着した部位に現像液が触れないので、その部分に現像不良が生じる。特に、最近の半導体プロセスは極めて微細化が進んでいるので、上記のように非常に粒径が小さな気泡であっても、その影響は非常に大きなものとなる。
【０００５】
そこで、上記の問題を回避するため上記のフィルタとは別に、気体のみを透過する気体透過作用を有する気体透過膜（気体交換膜，気体浸透膜，脱気膜とも呼ばれる）を内蔵した脱気モジュールを配管に介在させて、処理液中の気泡を除去（脱気）するようにしている。具体的には、気体透過膜の気室に真空ポンプなどを接続して一定の圧力に減圧しておいて、処理液を気体透過膜の液室に流通させる。これにより処理液に溶存している気泡を脱気することができるので、上記のような気泡に起因する不都合を回避することができる。
【０００６】
また、基板洗浄装置のように純水を処理液として使用する装置では、上述したようなフィルタを用いて純水中のパーティクル除去を行っているが、純水は比抵抗値が極めて大きく帯電し易いので、例えば、純水を基板に供給した際に静電破壊によって、基板上に形成された回路パターンなどにダメージを与えることがある。
【０００７】
そこで、このような不具合が生じないように、純水の比抵抗値を下げて帯電を防止して供給することが行われる。具体的には、純水に誘電率の高い気体、例えば、二酸化炭素（ＣＯ_２）を純水に溶存させることによって、その比抵抗値を低下させる。このように高誘電率の気体を純水に溶存させるためには、上述した気体透過膜を内蔵したモジュール（以下、その機能から溶存モジュールと称することにする）を利用する。つまり、気体透過膜の気室に二酸化炭素を供給しつつ、気体透過膜の液室に純水を流通させることによって純水に二酸化炭素を溶存させる。これにより純水の帯電を防止することができるので、静電破壊に起因する上記の不都合を回避することができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
まず、既に装置メーカーから納入して使用している装置に、上述したような脱気モジュールまたは溶存モジュールを追加して取り付ける場合には、当然のことながらそのモジュール分だけ装置内に余分なスペースを必要とするが、装置内には余分なスペースがほとんどないので、追加取付け作業が非常に困難であるか、あるいは取り付けることができないといった問題がある。また、もし仮に脱気モジュールまたは溶存モジュールを取り付けることができたとしても、配管付近に余分なスペースがあるとは限らないので、配管の取り回しが複雑になったり、また、同一機種の装置であっても他の装置とは配管経路が異なるものになって互換性が無くなるといった問題が生じる。
【０００９】
また、上述したような装置を新規に設計する場合には、フィルタの他に脱気モジュールまたは溶存モジュールを取り付けるので、装置内に余分なスペースを確保する必要があるとともに、その分だけ装置の製造コストが高くなるという問題がある。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、パーティクル除去部材と気体透過部材とを一体化することによって、コンパクト化を図ることができるとともに、極めて容易に配管へ取り付けることができ、さらには装置の互換性を保つことができる基板処理装置のフィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタは、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、パーティクル除去作用を有する筒状のパーティクル除去部材と、気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有し、前記パーティクル除去部材の外径よりも大きな内径を有する筒状の気体透過部材とを備え、前記パーティクル除去部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、前記パーティクル除去部材を前記容器内に配設して、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記パーティクル除去部材を前記気体透過部材の中空部分に収容して横断面同心円状に、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記気体透過部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とするものである。
【００１２】
また、請求項２に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１３】
また、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項１に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１４】
また、請求項４に記載の基板処理装置のフィルタは、処理液が流通する配管に介在する基板処理装置のフィルタであって、内部に連通した第１流通路と、第２流通路と、第３流通路とを有する容器と、気室と液室とを有し、前記気室から前記液室または前記液室から前記気室へ気体のみを透過する気体透過作用を有する筒状の気体透過部材と、パーティクル除去作用を有し、前記気体透過部材の外径よりも大きな内径を有する筒状のパーティクル除去部材とを備え、前記気体透過部材の中空部分が前記第１流通路に連通し、かつ、前記第２流通路に前記気室が連通し、かつ、前記気体透過部材を前記容器内に配設して、前記気体透過部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞するとともに、前記気体透過部材を前記パーティクル除去部材の中空部分に収容して横断面同心円状となるように、かつ、前記パーティクル除去部材のうち前記第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して前記容器内に前記パーティクル除去部材を配設し、前記第１流通路と前記第３流通路とを介して前記配管に取り付けたことを特徴とするものである。
【００１５】
また、請求項５に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に減圧手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１６】
また、請求項６に記載の基板処理装置のフィルタは、請求項３に記載の基板処理装置のフィルタであって、前記第２流通路に気体供給手段を接続したことを特徴とするものである。
【００１７】
【作用】
請求項１に記載の作用は次のとおりである。
筒状のパーティクル除去部材はその中空部分が第１流通路に連通して容器内に配設され、その反対側の中空部分が閉塞されている。気体透過部材は、その中空部の内径がパーティクル除去部材の外径よりも大きい筒状に形成されているので、その中空部内にパーティクル除去部材を収納することができる。つまり、パーティクル除去部材と気体透過部材とを横断面同心円状に配置することができるので、それぞれの機能を有するモジュールを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に長さを短縮することができる。パーティクル除去部材を中空部分に収容した気体透過部材は、その気室が第２流通路に連通し、かつ、第１流通路の反対側の中空部分を閉塞して容器内に配設される。したがって、第１流通路と第３流通路とを介して配管に容器を取り付けると、第１流通路からパーティクル除去部材の中空部分と、その外側の気体透過部材の液室と、第３流通路とを経て処理液の流通経路が形成される。例えば、容器の第３流通路が処理液の流れの上流側に、第１流通路が下流側に取り付けられた場合には、上記の流通経路を通る間に、まず気体透過部材の液室および気室を介して脱気あるいは気体の溶存が行われ、次いでパーティクルが除去される。
【００１８】
また、請求項２に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して減圧手段により気体透過部材の気室を減圧して処理液を脱気することができる。
【００１９】
また、請求項３に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して気体供給手段により気体透過部材の気室に気体を供給して処理液に気体を溶存させることができる。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明の作用は次のとおりである。
筒状の気体透過部材はその中空部分が第１流通路に連通し、かつ、気室が第２流通路に連通し、かつ、第１流通路の反対側の中空部分が閉塞されて容器内に配設されている。パーティクル除去部材は、その中空部分の内径が気体透過部材の外径よりも大きい筒状に形成されているので、その中空部内に気体透過部材を収容することができる。つまり、気体透過部材とパーティクル除去部材とを横断面同心円状に配置することができるので、それらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に長さを短縮することができる。気体透過部材を収納したパーティクル除去部材は、第１流通路の反対側の中空部分を閉塞されて容器内に配設される。したがって、第１流通路と第３流通路とを介して配管に容器を取り付けると、第１流通路から気体透過部材の液室と、その外側のパーティクル除去部材と、第３流通路とを経て処理液の流通経路が形成される。例えば、容器の第１流通路が処理液の流れの上流側に、第３流通路が下流側に取り付けられた場合には、上記の流通経路を通る間に、まず気体透過部材の液室および気室を介して脱気あるいは気体の溶存が行われ、次いでパーティクルが除去される。
【００２１】
また、請求項５に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して減圧手段により気体透過部材の気室を減圧して処理液の脱気を行うことができる。
【００２２】
また、請求項６に記載の発明によれば、容器の第２流通路を介して気体供給手段により気体透過部材の気室に気体を供給して処理液に気体を溶存させることができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
＜第１実施例＞
図１は、基板処理装置の一例である回転式基板現像装置の現像液供給系の概略構成を示す図である。なお、以下の実施例では、ガスの圧力によって現像液を圧送する構成で説明するが、ポンプなどにより圧送する構成であってもよい。
【００２４】
図中、符号１は、現像液を貯留する密閉容器である。この密閉容器１には、その上部から密閉容器１内の上部空間に所定圧力で窒素ガスを供給するための窒素供給配管３が配設されている。また、密閉容器１には、現像液が流通する配管５の一端側が、その底部付近にまで延びるように配設されている。
【００２５】
配管５の他端側には、現像液を基板Ｗに対して吐出するための吐出ノズル７が配設されている。この実施例装置では、基板Ｗの下面をスピンチャック９に吸着支持した状態で、鉛直軸周りに所定の回転数で回転しつつ吐出ノズル７から現像液を吐出して現像処理を施すようになっている。
【００２６】
密閉容器１から吐出ノズル７までの配管５には、密閉容器１側から順に、現像液に含まれるパーティクルを除去するパーティクル除去作用および現像液に溶存している気泡を脱気する気体透過作用を有するフィルタ１１と、配管５を流通する現像液の流量を確認するための流量計１３と、配管５に流通する現像液の流量を制御するためのエアー開閉弁１５とが配設されている。フィルタ１１には、後述する気体透過部材の気室に、減圧手段である真空ポンプ１７が連通接続されている。なお、この真空ポンプ１７に代えてクリーンルームに配備されている真空ユーティリティを接続するようにしてもよい。
【００２７】
図２を参照して、フィルタ１１について詳細に説明する。
このフィルタ１１は、円筒状の容器２０内に、筒状のパーティクル除去部材２１と、このパーティクル除去部材２１の外径よりも大きな内径を有する筒状の気体透過部材２２とを内蔵している。容器２０は、その上面の中央部付近に下向き凸形状の開口２０ａが形成されている。この開口２０ａは、その内周部にネジ部２０ｂが形成されているとともに、その下部にはＯリング２０ｃが配設されている。
【００２８】
パーティクル除去部材２１は、現像液に含まれているパーティクルを除去する作用を有するパーティクル除去膜によって筒状に構成されており、側面に多数の貫通孔２１ａを有する中空配管２１ｂがその中空部分に嵌め込まれている。パーティクル除去部材２１の下端部は、その中空部分を含めて閉塞部材２１ｃによって閉塞されている。その上端部は、容器２０の開口２０ａにほぼ一致する下向き凸形状に形成されるとともに、外周部にネジ部が形成された取付け部材２１ｄの下端部に固着されている。中空配管２１ｂは、その上端部が取付け部材２１ｄから突出するように配設されており、この上端部を第１流通路２１ｅと称することにする。パーティクル除去部材２１は、上述した中空配管２１ｂと、閉塞部材２１ｃと、取付け部材２１ｄとともに一体的に容器２０に取り付けられており、パーティクル除去作用が低下した場合にはこれらの部材とともに一体的に交換されるようになっている。これは、パーティクル除去部材２１が、後述する気体透過部材２２に比較して目詰まりしやすくその交換頻度が高いので、交換が容易にできるようにするためである。
【００２９】
容器２０の内面であって開口２０ａの周囲には、内部に開口した環状の凹部２０ｄが形成され、この凹部２０ｄの一部位には第２流通路２０ｅが容器２０の上部に向けて突出形成されている。また、容器２０の底部には、内部に連通する第３流通路２０ｆが突出形成されている。気体透過部材２２は、図３の模式図に示すように、例えば、ポリエチレン系樹脂からなる気体透過膜材によって形成された多数の細管２２ａを束ねるようにして形成されている。各細管２２ａは、気体を透過しても液体を透過しない透過孔２２ｂを多数有しており、細管２２ａの外部である液室２２Ｌから細管２２ａの内部である気室２２Ｇへ気泡を形成している気体のみを透過するようになっている。気体透過部材２２は、図４に示すように、その中空部に上述したパーティクル除去部材２１を収容して横断面同心円状になるように、かつ、その気室２２Ｇが第２流通路２０ｅに連通するように、凹部２０ｄに嵌め込まれている。また、第１流通路２１ｅの反対側の中空部分は閉塞部材２２ｃによって閉塞されているが、その下方に位置する第３流通路２０ｆを塞がないように少し離間して配設されている。
【００３０】
このように構成されたフィルタ１１は、その容器２０に形成されている第３流通路２０ｆが配管５の上流側、つまり密閉容器１側に、第１流通路２１ｅが配管５の下流側、つまり流量計１３側になるように図示しない管継手を介して取り付けられる。また、上述した真空ポンプ１７は、フィルタ１１の第２流通路２０ｅに連通接続されて気体浸透部材２２の気室２２Ｇを所定圧力に減圧するようになっている。したがって、このようにフィルタ１１を配管５に配設した場合には、図２中に実線矢印で示すように、第３流通路２０ｆから流入した現像液が気体透過部材２２の液室２２Ｌと、気体透過部材２２の中空部分に配設されたパーティクル除去部材２１と、中空配管２１ｂとを経て第１流通路２１ｅから流出するように流通経路が形成される。その結果、密閉容器１から配管５を介して吐出ノズル７より基板Ｗに対して吐出される現像液は、まず、溶存している気泡が気体透過部材２２によって除去され、次いで、パーティクル除去部材２１によってパーティクルが除去される。そして、気泡が除去され、かつ、清浄にされた現像液が吐出ノズル７を介して基板Ｗに対して吐出されるようになっている。
【００３１】
上述したようにパーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とは、横断面同心円状で容器２０内に配設されているので、これらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に容器２０の長さを短くすることができる。例えば、従来からある既存の回転式基板現像装置において、パーティクル除去を行うだけでは現像不良が発生するような場合には、既にあるフィルタに加えてさらに気体透過作用を有する脱気モジュールを取り付ける必要がある。しかし、通常このような装置では、内部に余分な空間がないので、脱気モジュールを追加取付けすることは非常に困難を伴うかあるいは取り付けることが不可能である。しかしながら、上述したように構成されたフィルタ１１では、その長さが大幅に短くコンパクトにできるので、上述したような場合であっても極めて容易に取り付けることができる。さらに、従来の装置に脱気モジュールを取り付けることができたとしても、脱気モジュールを取り付けるスペースが配管５の近くにあるとは限らないので、配管５から取付け配管が複雑に入り組むことが多い。つまり、既存の装置に脱気モジュールを追加取付けすると、同一機種の装置であって脱気モジュールを取り付けていない装置と配管が異なったものになるので、同一機種の装置間において互換性が維持できなくなる。しかし、上記のパーティクル除去作用と気体透過作用とを有するフィルタ１１を取り付ける場合には、従来からあるパーティクル除去作用のみを有するフィルタと交換するだけで気体透過作用を付加することが可能であるので、そのような不都合が生じることを防止することができる。したがって、上述した現像不良の発生を抑制できるので、より好適に基板に対して現像処理を施すことができる。
【００３２】
また、新規に設計する装置に脱気モジュールを取り付ける場合には、パーティクル除去作用を有するフィルタに、これとは別体の脱気モジュールをさらに取り付けることになるので、装置の製造コストが高くなる。しかし、上記のフィルタ１１は、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とを一体的に内蔵しているので、コスト的に有利である。
【００３３】
また、上述したような構成のフィルタ１１では、目詰まりしたパーティクル除去部材２１のみを容器２０から取り外して新たなパーティクル除去部材２１と容易に交換することができるので、メンテナンスも容易であって、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とを内蔵した容器２０ごと交換する場合に比較してランニングコストをも低く抑えることができる。
【００３４】
なお、上記の説明においては、フィルタ１１の第３流通路２０ｆを配管５の上流側に取付け、第１流通路２１ｅを配管５の下流側に取り付けるようにしたが、その逆に取り付けてもよい。この場合には、図２中に点線矢印で示すように現像液の流通経路が形成されて、まず、パーティクル除去部材２１によりパーティクルが除去され、次いで気体透過部材２２によって現像液の脱気が行われる。このようにフィルタ１１を配管５に取り付けても気泡のない清浄な現像液を基板Ｗに供給することができる。
【００３５】
＜第２実施例＞
次に、図５および図６を参照して、フィルタ１１の別実施例について説明する。第１実施例では中心側にパーティクル除去部材２１を配置し、その外側に気体透過部材２２を配置したが、本実施例では、その逆に中心側に気体透過部材２２を配置し、その外側にパーティクル除去部材２１を配置している点において相違する。
【００３６】
筒状の気体透過部材２２は、その中空部分に、多数の貫通孔２１ａを有する中空配管２１ｂを挿通されている。この中空配管２１ｂは、容器２０の底部中心付近から底部から下方に突出して配設されており、その開口は第１流通路２１ｅに相当する。容器２０の底部内面には、中空配管２１ｂを中心にして同心円状に環状の凹部２０ｄが形成され、この一部位で連通した第２流通路２０ｅが下方に突出形成されている。気体透過部材２２の中空部分は、中空配管２１ｂによって第１流通路２１ｅに連通し、その気室２２Ｇは凹部２０ｄを通って第２流通路２０ｅに連通するように配設されている。さらに、気体透過部材２２の、第１流通路２１ｅの反対側は、その中空部分を含めて閉塞部材２２ｃによって閉塞されている。
【００３７】
中空部分の内径が上記気体透過部材２２の外径よりも大きく形成されている筒状のパーティクル除去部材２１は、上記気体透過部材２２をその中空部分に収容し、その一端側が容器２０の内面底部に当接するように、かつ、第１流通路２１ｅの反対側の中空部分が閉塞部材２１ｃによって閉塞された状態で容器２０内に配設されている。つまり、気体透過部材２２とパーティクル除去部材２１とは、図６に示すように、横断面同心円状に配設されている。また、両閉塞部材２１ｃ，２２ｃは、容器２０の上部に形成されている第３流通路２０ｆを塞ぐことのないように容器２０の内面上部より下方に離間した状態で配設されている。
【００３８】
このように構成されたフィルタ１１は、その容器２０に形成されている第１流通路２１ｅが配管５の上流側、つまり密閉容器１側に、第３流通路２０ｆが配管５の下流側、つまり流量計１３側になるように取り付けられる。また、真空ポンプ１７は、フィルタ１１の第２流通路２０ｅに連通接続される。したがって、このようにフィルタ１１を配管５に配設した場合には、図５中に実線矢印で示すように、第１流通路２１ｅから流入した現像液が、中空配管２１ｂと、気体透過部材２２の液室２２Ｌと、気体透過部材２２の外側に配設されたパーティクル除去部材２１とを経て第３流通路２０ｆから流出するように流通経路が形成される。その結果、上記の第１実施例と同様に、まず、脱気された後にパーティクルが除去される。
【００３９】
上述したように第１実施例と同様に、気体透過部材２２とパーティクル除去部材２１とは、横断面同心円状で容器２０内に配設されているので、これらを長手方向に直列的に配置するのに比較して大幅に容器２０の長さを短くすることができる。したがって、上記の第１実施例と同様の効果を得ることができる。
【００４０】
なお、上記の説明においては、フィルタ１１の第１流通路２１ｅを配管５の上流側に取付け、第３流通路２０ｆを配管５の下流側に取り付けるようにしたが、その逆に取り付けてもよい。この場合には、図５中に点線矢印で示すように現像液の流通経路が形成されて、まず、パーティクルが除去され、次いで脱気が行われる。このようにフィルタ１１を配管５に取り付けてもよいことは、上述した第１実施例と同様である。
【００４１】
＜第３実施例＞
図７を参照し、第３実施例について説明する。なお、本実施例は、上記の第１実施例の変形例であるので、その詳細な説明については省略する。
【００４２】
第１実施例と異なる点は、主として容器２０に形成された第３流通路２０ｆの位置である。上記第１実施例では、容器２０の底部中心付近に第３流通路２０ｆが形成されていたが、本実施例では、底部の端に形成されている。さらに、第１実施例におけるフィルタ１１は、気体透過部材２２の中空部分を閉塞する閉塞部材２２ｃが、第３流通路２０ｆを塞がないように容器２０の底面から離間して配設されていたが、本実施例では容器２０の内面底部に当接した状態で配設されている。したがって、フィルタ１１の太さは多少太くなるが、その一方でフィルタ１１の容器２０の長手方向の長さをさらに短縮することができる。したがって、既存の装置に取り付けられているフィルタが、その長手方向に短いものであっても容易にこのフィルタ１１と置換することができる。
【００４３】
なお、図７中において実線矢印で示す流通経路は、第３流通路２０ｆを配管５の上流側に取付け、第１流通路２１ｅを配管５の下流側に取り付けた場合のものであり、点線矢印で示す流通経路は、その逆に取り付けた場合のものである。
【００４４】
また、上記各実施例では、回転式基板現像装置を例に採って、各フィルタ１１の第２流通路２０ｅに真空ポンプ１７を連通接続した構成で説明したが、例えば、基板洗浄装置などの純水を基板Ｗに供給する装置では、減圧手段である真空ポンプ１７に代えて次のような気体供給手段を連通接続するようにすればよい。
【００４５】
すなわち、図１中に点線矢印で示すように、例えば、液化した二酸化炭素が充填されたガスボンベ３０を、その液化二酸化炭素を気化させるガス発生器３２を介して第２流通路２０ｅに連通接続する。これにより気体透過部材２２の気室２２Ｇに二酸化炭素を供給することができ、液室２２Ｌを流通する純水に二酸化炭素を溶存させることができる。したがって、純水の比抵抗を下げて基板Ｗに供給することができるので、静電破壊に起因する回路パターンの破壊を防止することができる。なお、純水の比抵抗を低下させるために二酸化炭素を溶存させたが、誘電率が高い気体であれば他のものを溶存させるようにしてもよい。
【００４６】
なお、パーティクル除去部材２１と気体透過部材２２とは、横断面同心円状に配置されていればよく、上述したように完全に同心円になっている必要はない。つまり、上記両部材２１，２２を、多少偏心した状態で配置するようにしてもよい。
【００４７】
また、上記の各実施例では、パーティクル除去部材２１および気体透過部材２２をそれぞれ横断面円形の筒状に形成しているが、一方の部材をその中空部分に収容して両部材を横断面同心円状に配置できる形状であれば、円筒状に限らず種々の横断面形状の部材を採用することができる。
【００４８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、筒状のパーティクル除去部材を気体透過部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置したので、これらを直列的に配置した場合に比較して、大幅に長さを短くすることができる。したがって、フィルタをコンパクトにすることができる。また、１つの容器でパーティクル除去作用および気体透過作用を有するので、従来のパーティクル除去作用を有するフィルタと交換するだけで、パーティクル除去作用に加えて脱気や溶存といった気体透過作用を付加することができる。したがって、既存の装置に極めて容易に取り付けることができるとともに、配管の取り回しが最小限で済むので、装置の互換性を保つことができる。また、新規の装置に組み込む場合には、上記両部材を一体化しているので、コスト的に有利である。
【００４９】
また、請求項２に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液の脱気を行うことができる。したがって、処理液の気泡に起因する悪影響を防止することができる。
【００５０】
また、請求項３に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液に気体を溶存させることができる。したがって、純水などの処理液の帯電を防止することができて、静電破壊に起因する不都合を防止することができる。
【００５１】
また、請求項４に記載の発明によれば、筒状の気体透過部材をパーティクル除去部材の中空部分に収容して横断面同心円状に配置したので、これらを直列的に配置した場合に比較して、大幅に長さを短くすることができる。したがって、請求項１に記載の発明と同様の効果を得ることができる。
【００５２】
また、請求項５に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液の脱気を容易に行うことができる。したがって、処理液の気泡に起因する悪影響を防止することができる。
【００５３】
また、請求項６に記載の発明によれば、パーティクルの除去に加えて処理液に気体を容易に溶存させることができる。したがって、純水などの処理液の帯電を防止することができて、静電破壊に起因する不都合を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例に係る回転式基板現像装置の現像液供給系の概略構成を示す図である。
【図２】第１実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【図３】気体透過部材の説明に供する図である。
【図４】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図５】第２実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図７】第３実施例に係るフィルタの概略構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
Ｗ … 基板
１ … 密閉容器
５ … 配管
７ … 吐出ノズル
１１ … フィルタ
１３ … 流量計
１５ … エアー開閉弁
１７ … 真空ポンプ（減圧手段）
２０ … 容器
２０ｅ … 第２流通路
２０ｆ … 第３流通路
２１ … パーティクル除去部材
２１ｅ … 第１流通路
２２ … 気体透過部材
２２Ｇ … 気室
２２Ｌ … 液室
３０ … ガスボンベ（気体供給手段）
３２ … ガス発生器（気体供給手段）[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a photoresist liquid, polyimide resin, SOG (Spin On) for a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for an optical disk, and the like (hereinafter, simply referred to as a substrate). The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing a predetermined process by supplying a processing solution such as a glass, a silica-based film forming material), a developing solution, a cleaning solution, and pure water, and in particular, a substrate interposed in a pipe through which the processing solution flows. The present invention relates to a technique for configuring a filter of a processing device.
[0002]
[Prior art]
As a substrate processing apparatus, a substrate coating apparatus for applying a photoresist liquid to a substrate surface, a substrate developing apparatus for supplying a developing solution to an exposed photosensitive film applied to a substrate surface and performing a developing process, A substrate cleaning apparatus for supplying a processing liquid such as pure water to the substrate to clean the substrate may be used.
[0003]
In these apparatuses, the processing liquid is pressure-fed via a pipe from the processing liquid tank storing the processing liquid to the processing liquid supply nozzle, and the processing liquid is supplied from the processing liquid supply nozzle to the surface of the substrate. . As a matter of course, if particles are contained in the processing liquid supplied to the substrate, the substrate is adversely affected, so that a filter is usually provided in the piping to remove the particles. That is, particles in the processing liquid are removed by a filter having a particle removing film having a particle removing action, and the processing liquid is supplied after being cleaned.
[0004]
However, in addition to the above-described particles, the processing liquid may include air bubbles caused by air entrapment when the processing liquid is pumped, and air bubbles having a very small particle diameter that are dissolved from the beginning. When the bubbles are dissolved in the processing liquid as described above, the bubbles may adhere to the substrate surface and adversely affect the processing.
For example, in a substrate coating apparatus, if air bubbles are contained in the photoresist liquid supplied to the surface of the substrate, the thickness of the applied portion becomes extremely thin, or a portion having no photoresist liquid (a so-called pinch photoresist) is used. ─) occurs and coating failure occurs. Further, in the substrate developing device, since the developing solution does not come into contact with the portion to which the air bubble has adhered, development failure occurs at that portion. In particular, since the recent semiconductor process has been extremely miniaturized, even if the bubbles have a very small particle size as described above, the influence is extremely large.
[0005]
Therefore, in order to avoid the above-mentioned problem, a degassing module incorporating a gas permeable membrane (also referred to as a gas exchange membrane, a gas permeable membrane, or a degassing membrane) having a gas permeable function that allows only gas to pass, separately from the above-mentioned filter. Is interposed in the piping to remove (degas) bubbles in the processing liquid. Specifically, a vacuum pump or the like is connected to the gas chamber of the gas permeable membrane to reduce the pressure to a constant pressure, and the processing liquid is allowed to flow through the liquid chamber of the gas permeable membrane. Thus, the bubbles dissolved in the processing liquid can be degassed, so that the above-mentioned inconvenience caused by the bubbles can be avoided.
[0006]
In an apparatus using pure water as a processing liquid, such as a substrate cleaning apparatus, particles in pure water are removed using the above-described filter, but pure water has an extremely large specific resistance and is charged. For example, a circuit pattern formed on a substrate may be damaged due to electrostatic breakdown when pure water is supplied to the substrate.
[0007]
Therefore, in order to prevent such a problem from occurring, the supply of pure water is performed by lowering the specific resistance value to prevent charging. Specifically, a gas having a high dielectric constant, such as carbon dioxide (CO ₂ ) Is dissolved in pure water to lower its specific resistance. In order to dissolve a gas having a high dielectric constant in pure water in this way, a module having a gas-permeable film as described above (hereinafter, referred to as a dissolved module based on its function) is used. That is, carbon dioxide is dissolved in pure water by supplying pure water to the liquid chamber of the gas permeable membrane while supplying carbon dioxide to the gas chamber of the gas permeable membrane. As a result, the pure water can be prevented from being charged, so that the above-described inconvenience caused by electrostatic breakdown can be avoided.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional example having such a configuration has the following problem.
First, when adding the degassing module or dissolved module as described above to the equipment already delivered and used from the equipment manufacturer, of course, extra space is required in the equipment for that module. Although necessary, there is little extra space in the device, so there is a problem that the additional mounting operation is very difficult or impossible. Also, even if the degassing module or dissolved module can be installed, there is not always an extra space near the piping, so the piping management becomes complicated and the equipment must be of the same model. However, there is a problem that the piping route is different from that of other devices, and compatibility is lost.
[0009]
In addition, when a new device is designed as described above, a degassing module or a dissolving module is installed in addition to the filter. There is a problem that the cost increases.
[0010]
The present invention has been made in view of such circumstances, and by integrating a particle removing member and a gas permeable member, it is possible to achieve downsizing and to attach the member to a pipe very easily. It is another object of the present invention to provide a filter for a substrate processing apparatus that can maintain the compatibility of the apparatus.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has the following configuration to achieve such an object.
That is, the filter of the substrate processing apparatus according to the first aspect is a filter of the substrate processing apparatus interposed in the pipe through which the processing liquid flows, and the first flow path, the second flow path, and the second flow path that communicate with each other. A container having three flow paths, a cylindrical particle removing member having a particle removing action, an air chamber and a liquid chamber, and only gas from the air chamber to the liquid chamber or from the liquid chamber to the gas chamber. A cylindrical gas permeable member having an inner diameter larger than an outer diameter of the particle removing member, wherein a hollow portion of the particle removing member communicates with the first flow passage. And Disposing the particle removing member in the container, Of the particle removing member While closing the hollow portion on the opposite side of the first flow passage, the particle removing member Of the gas permeable member Concentric circular cross section accommodated in hollow part To And the air chamber communicates with the second flow passage. And ,And, Of the gas permeable members The gas permeable member is disposed in the container by closing a hollow portion on the opposite side of the first flow passage, and attached to the pipe via the first flow passage and the third flow passage. Was It is characterized by the following.
[0012]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a filter for a substrate processing apparatus according to the first aspect, wherein a pressure reducing unit is connected to the second flow passage.
[0013]
Further, a filter of the substrate processing apparatus according to claim 3 is the filter of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a gas supply unit is connected to the second flow passage. .
[0014]
Further, the filter of the substrate processing apparatus according to claim 4 is a filter of the substrate processing apparatus interposed in a pipe through which the processing liquid flows, wherein the filter has a first flow path, a second flow path, and a second flow path. A cylindrical gas permeator having a container having three flow paths, a gas chamber and a liquid chamber, and having a gas permeation function of transmitting only gas from the gas chamber to the liquid chamber or from the liquid chamber to the gas chamber. A member having a cylindrical particle removing member having an inner diameter larger than an outer diameter of the gas permeable member, wherein a hollow portion of the gas permeable member communicates with the first flow passage. And And the air chamber communicates with the second flow passage. And Disposing the gas permeable member in the container, Of the gas permeable members While closing the hollow portion on the opposite side of the first flow passage, the gas permeable member Of the particle removing member Housed in a hollow part so as to be concentric in cross section, and Of the particle removing member The particle removing member is disposed in the container by closing a hollow portion on the opposite side of the first flow passage, and attached to the pipe via the first flow passage and the third flow passage. Was It is characterized by the following.
[0015]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a filter for a substrate processing apparatus according to the third aspect, wherein a pressure reducing means is connected to the second flow passage.
[0016]
The filter of the substrate processing apparatus according to claim 6 is the filter of the substrate processing apparatus according to claim 3, wherein a gas supply unit is connected to the second flow passage. .
[0017]
[Action]
The operation described in claim 1 is as follows.
The hollow part of the cylindrical particle removing member communicates with the first flow passage. do it It is arranged in a container, and the hollow part on the opposite side is closed. Since the gas permeable member is formed in a cylindrical shape in which the inner diameter of the hollow portion is larger than the outer diameter of the particle removing member, the particle removing member can be stored in the hollow portion. In other words, since the particle removing member and the gas permeable member can be arranged concentrically in cross section, the length is greatly reduced as compared with arranging modules having the respective functions in series in the longitudinal direction. be able to. The gas permeable member containing the particle removing member in the hollow portion has its air chamber communicating with the second flow passage. And And, the hollow portion on the opposite side of the first flow passage is closed and disposed in the container. Therefore, when the container is attached to the pipe via the first flow path and the third flow path, the hollow portion of the particle removing member from the first flow path, the liquid chamber of the gas permeable member outside the first flow path, and the third flow path Thus, a flow path of the processing liquid is formed. For example, when the third flow passage of the container is mounted on the upstream side of the flow of the processing liquid and the first flow passage is mounted on the downstream side, first, the liquid chamber of the gas permeable member and Degassing or gas dissolution is performed through the air chamber, and then particles are removed.
[0018]
According to the second aspect of the present invention, the processing liquid can be degassed by depressurizing the gas chamber of the gas permeable member by the pressure reducing means through the second flow passage of the container.
[0019]
According to the third aspect of the present invention, the gas can be supplied to the gas chamber of the gas permeable member by the gas supply means via the second flow passage of the container, and the gas can be dissolved in the processing liquid.
[0020]
The operation of the invention described in claim 4 is as follows.
The hollow portion of the cylindrical gas permeable member communicates with the first flow passage. And And the air chamber communicates with the second flow passage. And The hollow portion on the opposite side of the first flow passage is closed and disposed in the container. Since the particle removing member is formed in a cylindrical shape in which the inner diameter of the hollow portion is larger than the outer diameter of the gas permeable member, the gas permeable member can be accommodated in the hollow portion. That is, since the gas permeable member and the particle removing member can be arranged concentrically in cross section, the length can be significantly reduced as compared with the case where they are arranged in series in the longitudinal direction. The particle removing member accommodating the gas permeable member is disposed in the container with the hollow portion opposite to the first flow passage closed. Therefore, when the container is attached to the pipe via the first flow path and the third flow path, the first flow path passes through the liquid chamber of the gas permeable member, the particle removing member outside the liquid chamber, and the third flow path. A circulation path for the processing liquid is formed. For example, when the first flow path of the container is attached to the upstream side of the flow of the processing liquid and the third flow path is attached to the downstream side, first, the liquid chamber of the gas permeable member and Degassing or gas dissolution is performed through the air chamber, and then particles are removed.
[0021]
According to the fifth aspect of the invention, the processing chamber can be degassed by depressurizing the gas chamber of the gas permeable member by the decompression means through the second flow passage of the container.
[0022]
According to the sixth aspect of the present invention, the gas can be supplied to the gas chamber of the gas permeable member by the gas supply means via the second flow passage of the container, and the gas can be dissolved in the processing liquid.
[0023]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
<First embodiment>
FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a developing solution supply system of a rotary substrate developing device that is an example of a substrate processing apparatus. In the following embodiments, a configuration in which the developer is pumped by gas pressure will be described, but a configuration in which the developer is pumped by a pump or the like may be used.
[0024]
In the figure, reference numeral 1 denotes a closed container for storing a developer. The sealed container 1 is provided with a nitrogen supply pipe 3 for supplying nitrogen gas from above to an upper space in the sealed container 1 at a predetermined pressure. Further, in the sealed container 1, one end of a pipe 5 through which the developer flows is disposed so as to extend to near the bottom thereof.
[0025]
At the other end of the pipe 5, a discharge nozzle 7 for discharging the developer to the substrate W is provided. In this embodiment, the developing process is performed by discharging the developer from the discharge nozzle 7 while rotating at a predetermined number of revolutions around the vertical axis while the lower surface of the substrate W is suction-supported by the spin chuck 9. ing.
[0026]
The pipe 5 from the closed vessel 1 to the discharge nozzle 7 has a particle removing action for removing particles contained in the developer and a gas permeating action for degassing bubbles dissolved in the developer in order from the closed vessel 1 side. A filter 11, a flow meter 13 for checking the flow rate of the developer flowing through the pipe 5, and an air opening / closing valve 15 for controlling the flow rate of the developer flowing through the pipe 5 are provided. The filter 11 is connected to a vacuum chamber 17 of a gas permeable member to be described later. Note that a vacuum utility provided in a clean room may be connected instead of the vacuum pump 17.
[0027]
The filter 11 will be described in detail with reference to FIG.
The filter 11 contains a cylindrical particle removing member 21 and a cylindrical gas permeable member 22 having an inner diameter larger than the outer diameter of the particle removing member 21 in a cylindrical container 20. The container 20 has a downwardly convex opening 20a formed near the center of the upper surface. The opening 20a has a screw portion 20b formed in the inner peripheral portion thereof, and an O-ring 20c is provided below the opening 20a.
[0028]
The particle removing member 21 is formed in a cylindrical shape by a particle removing film having an action of removing particles contained in the developer, and a hollow pipe 21b having a large number of through holes 21a on its side is fitted into the hollow portion. Have been. The lower end of the particle removing member 21 is closed by a closing member 21c including the hollow portion. The upper end thereof is formed in a downwardly convex shape substantially coinciding with the opening 20a of the container 20, and is fixed to the lower end of a mounting member 21d having a threaded portion formed on the outer periphery. The hollow pipe 21b is provided so that its upper end protrudes from the mounting member 21d, and this upper end is referred to as a first flow passage 21e. The particle removing member 21 is integrally attached to the container 20 together with the hollow pipe 21b, the closing member 21c, and the attaching member 21d. When the particle removing operation is reduced, the particle removing member 21 is integrally replaced with these members. It is supposed to be. This is because the particle removing member 21 is easily clogged as compared with a gas permeable member 22 described later, and the replacement frequency is high, so that the replacement can be easily performed.
[0029]
On the inner surface of the container 20 and around the opening 20a, there is formed an annular concave portion 20d which is opened inside, and a second flow passage 20e is formed at one portion of the concave portion 20d so as to protrude toward the upper part of the container 20. ing. In addition, a third flow passage 20 f communicating with the inside is formed to project from the bottom of the container 20. As shown in the schematic diagram of FIG. 3, the gas permeable member 22 is formed by bundling a large number of thin tubes 22a formed of, for example, a gas permeable film material made of polyethylene resin. Each of the thin tubes 22a has a large number of permeation holes 22b that do not transmit liquid even when gas passes therethrough, and bubbles are formed from a liquid chamber 22L outside the thin tube 22a to an air chamber 22G inside the thin tube 22a. Only the gas that is present. As shown in FIG. 4, the gas permeable member 22 accommodates the above-described particle removing member 21 in a hollow portion thereof so that the gas permeable member 22 has a concentric circular cross section, and the gas chamber 22G communicates with the second flow passage 20e. So that it is fitted into the recess 20d. Further, the hollow portion on the opposite side of the first flow passage 21e is closed by a closing member 22c, but is disposed a little apart so as not to block the third flow passage 20f located below.
[0030]
In the filter 11 configured as described above, the third flow passage 20f formed in the container 20 is on the upstream side of the pipe 5, that is, on the closed container 1 side, and the first flow path 21e is on the downstream side of the pipe 5, that is, It is attached via a pipe joint (not shown) so as to be on the flow meter 13 side. The above-described vacuum pump 17 is connected to the second flow passage 20 e of the filter 11 so as to reduce the pressure in the gas chamber 22 G of the gas permeable member 22 to a predetermined pressure. Therefore, when the filter 11 is disposed in the pipe 5 in this manner, the developer flowing from the third flow passage 20f flows into the liquid chamber 22L of the gas permeable member 22, as indicated by a solid line arrow in FIG. A flow path is formed so as to flow out of the first flow path 21e via the particle removing member 21 disposed in the hollow portion of the gas permeable member 22 and the hollow pipe 21b. As a result, in the developer discharged from the closed vessel 1 to the substrate W from the discharge nozzle 7 via the pipe 5, first, dissolved bubbles are removed by the gas permeable member 22, and then the particle removing member 21 Removes particles. Then, the developing solution from which bubbles have been removed and which has been cleaned is discharged to the substrate W through the discharge nozzle 7.
[0031]
As described above, the particle removing member 21 and the gas permeable member 22 are disposed in the container 20 in a concentric circular cross section. 20 can be shortened. For example, in the case of a conventional existing rotary substrate developing apparatus, if the development failure occurs only by removing particles, it is necessary to attach a degassing module having a gas permeation function in addition to the existing filter. is there. However, it is usually very difficult or impossible to install additional degassing modules in such devices, since there is no extra space inside. However, in the filter 11 configured as described above, the length can be significantly reduced and the filter can be made compact, so that the filter 11 can be mounted very easily even in the case described above. Furthermore, even if the degassing module can be attached to the conventional apparatus, the space for installing the degassing module is not always near the pipe 5, so that the mounting pipe often becomes complicated from the pipe 5. . In other words, if an additional degassing module is installed on an existing device, the piping will be different from that of the same type of device but without the degassing module, so compatibility can be maintained between devices of the same type. Disappears. However, when the filter 11 having the above-described particle removing action and gas permeating action is attached, the gas permeating action can be added simply by replacing the filter with the conventional filter having only the particle removing action. Such an inconvenience can be prevented from occurring. Therefore, the occurrence of the above-described development failure can be suppressed, so that the substrate can be more appropriately subjected to the development processing.
[0032]
In addition, when a degassing module is attached to a newly designed device, a separate degassing module is additionally attached to a filter having a particle removing action, which increases the manufacturing cost of the device. However, the filter 11 is advantageous in terms of cost because the particle removing member 21 and the gas permeable member 22 are integrally incorporated.
[0033]
Further, in the filter 11 having the above-described configuration, only the clogged particle removing member 21 can be removed from the container 20 and easily replaced with a new particle removing member 21. The running cost can be reduced as compared with the case where the entire container 20 including the removing member 21 and the gas permeable member 22 is replaced.
[0034]
In the above description, the third flow path 20f of the filter 11 is mounted on the upstream side of the pipe 5, and the first flow path 21e is mounted on the downstream side of the pipe 5. However, the reverse flow path may be mounted. . In this case, a flow path of the developing solution is formed as shown by a dotted arrow in FIG. 2, and the particles are first removed by the particle removing member 21, and then the developing solution is degassed by the gas permeable member 22. Is As described above, even when the filter 11 is attached to the pipe 5, a clean developer without bubbles can be supplied to the substrate W.
[0035]
<Second embodiment>
Next, another embodiment of the filter 11 will be described with reference to FIGS. In the first embodiment, the particle removing member 21 is disposed on the center side and the gas permeable member 22 is disposed outside the particle removing member 21. However, in the present embodiment, the gas permeable member 22 is disposed on the center side and the gas permeable member 22 is disposed on the outside. The difference is that the particle removing member 21 is disposed.
[0036]
The hollow gas permeable member 22 has a hollow portion through which a hollow pipe 21b having a large number of through holes 21a is inserted. This hollow pipe 21b is a container 20 Is arranged so as to protrude downward from the bottom from the vicinity of the center of the bottom, and its opening corresponds to the first flow passage 21e. On the inner surface of the bottom of the container 20, an annular concave portion 20d is formed concentrically with the hollow pipe 21b as a center, and a second flow passage 20e communicating at a part thereof is formed to protrude downward. The hollow portion of the gas permeable member 22 communicates with the first flow passage 21e through a hollow pipe 21b, and the air chamber 22G is arranged to communicate with the second flow passage 20e through the recess 20d. Further, the side of the gas permeable member 22 opposite to the first flow passage 21e is closed by a closing member 22c including its hollow portion.
[0037]
A cylindrical particle removing member 21 in which the inner diameter of the hollow portion is formed larger than the outer diameter of the gas permeable member 22 accommodates the gas permeable member 22 in the hollow portion, and one end of which is a container. 20 In a state in which the hollow portion opposite to the first flow passage 21e is closed by the closing member 21c so as to contact the inner bottom surface of the container. 20 It is arranged in. That is, as shown in FIG. 6, the gas permeable member 22 and the particle removing member 21 are arranged in a concentric circular cross section. The closing members 21c and 22c are disposed below the inner surface of the container 20 so as not to block the third flow passage 20f formed on the upper portion of the container 20.
[0038]
In the filter 11 configured as described above, the first flow passage 21e formed in the container 20 is on the upstream side of the pipe 5, that is, on the closed container 1 side, and the third flow path 20f is on the downstream side of the pipe 5, that is, It is attached so as to be on the flow meter 13 side. Further, the vacuum pump 17 is connected to the second flow passage 20 e of the filter 11. Therefore, when the filter 11 is disposed in the pipe 5, the developer flowing from the first flow passage 21e is supplied to the hollow pipe 21b and the gas permeable member 22 as indicated by a solid arrow in FIG. A flow path is formed so as to flow out of the third flow path 20f through the liquid chamber 22L and the particle removing member 21 disposed outside the gas permeable member 22. As a result, similarly to the above-described first embodiment, particles are first removed after being degassed.
[0039]
As described above, as in the first embodiment, the gas permeable member 22 and the particle removing member 21 are disposed in the container 20 in a concentric circular cross section, so that they are arranged in series in the longitudinal direction. The length of the container 20 can be greatly shortened as compared with the case of FIG. Therefore, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
[0040]
In the above description, the first flow passage 21e of the filter 11 is mounted on the upstream side of the pipe 5 and the third flow path 20f is mounted on the downstream side of the pipe 5, but may be mounted on the reverse. . In this case, a flow path of the developing solution is formed as shown by a dotted arrow in FIG. 5, particles are first removed, and then degassing is performed. As described above, the filter 11 may be attached to the pipe 5 as in the first embodiment.
[0041]
<Third embodiment>
A third embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment is a modification of the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.
[0042]
The difference from the first embodiment is mainly the position of the third flow passage 20f formed in the container 20. In the first embodiment, the third flow passage 20f is formed near the center of the bottom of the container 20, but in the present embodiment, it is formed at the end of the bottom. Further, the filter 11 in the first embodiment is configured such that the closing member 22c for closing the hollow portion of the gas permeable member 22 does not block the third flow passage 20f. 20 In this embodiment, the container 20 is disposed in contact with the bottom of the inner surface of the container 20. Therefore, although the thickness of the filter 11 is slightly increased, the length of the filter 11 in the longitudinal direction of the container 20 can be further reduced. Therefore, even if a filter attached to an existing device is short in the longitudinal direction, it can be easily replaced with the filter 11.
[0043]
In FIG. 7, the flow paths indicated by solid arrows are those in which the third flow path 20f is mounted on the upstream side of the pipe 5 and the first flow path 21e is mounted on the downstream side of the pipe 5. The distribution channel indicated by is the case where the device is mounted in the opposite manner.
[0044]
Further, in each of the above embodiments, the rotary substrate developing device is taken as an example, and the configuration in which the vacuum pump 17 is connected to the second flow passage 20e of each filter 11 is described. In the apparatus for supplying water to the substrate W, the following gas supply means may be connected and connected instead of the vacuum pump 17 which is a pressure reducing means.
[0045]
That is, as shown by a dotted arrow in FIG. 1, for example, a gas cylinder 30 filled with liquefied carbon dioxide is connected to the second flow passage 20e through a gas generator 32 that vaporizes the liquefied carbon dioxide. . Thereby, carbon dioxide can be supplied to the air chamber 22G of the gas permeable member 22, and the carbon dioxide can be dissolved in pure water flowing through the liquid chamber 22L. Therefore, since the specific resistance of pure water can be reduced and supplied to the substrate W, the destruction of the circuit pattern due to the electrostatic destruction can be prevented. Although carbon dioxide is dissolved to reduce the specific resistance of pure water, other gases may be dissolved as long as the gas has a high dielectric constant.
[0046]
Note that the particle removing member 21 and the gas permeable member 22 need only be arranged concentrically in cross section, and need not be completely concentric as described above. That is, the two members 21 and 22 may be arranged in a slightly eccentric state.
[0047]
Further, in each of the above embodiments, the particle removing member 21 and the gas permeable member 22 are each formed in a cylindrical shape having a circular cross section. As long as it can be arranged in a shape, it is not limited to a cylindrical shape, and members having various cross-sectional shapes can be adopted.
[0048]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, the cylindrical particle removing member is accommodated in the hollow portion of the gas permeable member and arranged in a concentric circular cross section. The length can be greatly reduced as compared with the case where the arrangement is made. Therefore, the filter can be made compact. In addition, since one container has a particle removing action and a gas permeating action, it is possible to add a gas permeating action such as degassing or dissolving in addition to the particle removing action simply by replacing the filter with a conventional filter having a particle removing action. it can. Therefore, it can be attached to an existing device very easily, and the piping management can be minimized, so that the compatibility of the device can be maintained. In addition, when incorporated in a new device, the above members are integrated, which is advantageous in cost.
[0049]
According to the second aspect of the present invention, the processing liquid can be degassed in addition to removing the particles. Therefore, it is possible to prevent an adverse effect caused by bubbles of the processing liquid.
[0050]
According to the third aspect of the present invention, it is possible to dissolve a gas in the processing liquid in addition to removing the particles. Therefore, it is possible to prevent the processing liquid such as pure water from being charged, thereby preventing inconvenience caused by electrostatic breakdown.
[0051]
According to the fourth aspect of the present invention, since the cylindrical gas permeable member is accommodated in the hollow portion of the particle removing member and arranged concentrically in cross section, it is compared with a case where these are arranged in series. Thus, the length can be greatly reduced. Therefore, the same effect as the first aspect can be obtained.
[0052]
According to the fifth aspect of the present invention, the processing solution can be easily degassed in addition to removing the particles. Therefore, it is possible to prevent an adverse effect caused by bubbles of the processing liquid.
[0053]
According to the sixth aspect of the present invention, in addition to the removal of particles, the gas can be easily dissolved in the processing liquid. Therefore, it is possible to prevent the processing liquid such as pure water from being charged, thereby preventing inconvenience caused by electrostatic breakdown.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration of a developer supply system of a rotary substrate developing apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of a filter according to a first embodiment.
FIG. 3 is a diagram provided for explanation of a gas permeable member.
FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 2;
FIG. 5 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of a filter according to a second embodiment.
6 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 5;
FIG. 7 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of a filter according to a third embodiment.
[Explanation of symbols]
W… Substrate
1 ... closed container
5 ... piping
7 ... Discharge nozzle
11… Filter
13 ... Flow meter
15… Air on-off valve
17… vacuum pump (decompression means)
20 ... container
20e: Second flow path
20f ... 3rd flow passage
21… Particle removal member
21e: 1st flow path
22 ... gas permeable member
22G… air chamber
22L ... liquid chamber
30 ... gas cylinder (gas supply means)
32 ... gas generator (gas supply means)

Claims

A filter of the substrate processing apparatus interposed in the pipe through which the processing liquid flows,
A container having a first flow passage, a second flow passage, and a third flow passage communicating with the inside;
A cylindrical particle removing member having a particle removing action,
Having a gas chamber and a liquid chamber, having a gas permeation function of transmitting only gas from the gas chamber to the liquid chamber or from the liquid chamber to the gas chamber, and having an inner diameter larger than the outer diameter of the particle removing member. A cylindrical gas permeable member having
And communicating with the hollow portion in the first flow path of the particle removal member, by disposing the particle removal member into the vessel, closing the hollow portions of the opposite side of the first flow path of the particle removal member as well as, the particle removal member is disposed in the transverse plane concentrically housed in the hollow portion of said gas permeable member and said air chamber is communicated with the second flow passage, and, among the gas permeable member That the gas permeable member is disposed in the container by closing a hollow portion on the opposite side of the first flow passage, and attached to the pipe via the first flow passage and the third flow passage. Features Filters for substrate processing equipment.

2. The filter for a substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a pressure reducing unit is connected to said second flow passage.

2. The filter of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a gas supply unit is connected to the second flow passage. 3.

A filter of the substrate processing apparatus interposed in the pipe through which the processing liquid flows,
A container having a first flow passage, a second flow passage, and a third flow passage communicating with the inside;
A cylindrical gas permeable member having a gas chamber and a liquid chamber, and having a gas permeable function of transmitting only gas from the gas chamber to the liquid chamber or the liquid chamber to the gas chamber;
Having a particle removing action, comprising a cylindrical particle removing member having an inner diameter larger than the outer diameter of the gas permeable member,
And communicating with the hollow portion in the first flow passage of the gas permeable member and said air chamber is communicated with the second flow path, and, by disposing the gas permeable member into the container, the gas with closing the hollow portions of the opposite side of the first flow path of the transmitting member, disposed on the cross section concentrically accommodating the gas-permeable member into the hollow portion of the particle removal member, and the particle removal member And closing the hollow portion on the opposite side of the first flow passage, disposing the particle removing member in the container, and attaching the particle removal member to the pipe via the first flow passage and the third flow passage . A filter for a substrate processing apparatus, comprising:

4. The filter for a substrate processing apparatus according to claim 3, wherein a pressure reducing unit is connected to the second flow passage.

4. The filter for a substrate processing apparatus according to claim 3, wherein a gas supply unit is connected to said second flow passage.