JP3549186B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置に係わり、特に基板に電源電位や、接地電位とは異なるバイアス電圧を印加する構成を備えたCMOS半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
CMOS半導体装置では、高速動作を維持しつつ消費電力を低減するために、閾値の低い電界効果トランジスタにより集積回路を設計し、これを低電圧で駆動する事が行われている。
この場合、回路が全く動作していない時の電流、いわゆる待機時リーク電流の削減のため、あるいは、回路動作時でも、閾値のはらつきを補償するために、基板あるいはウェル電源電位や接地電位とは異なる基板バイアス電圧を印加する装置も存在する。
このような装置では、基板やウエル電位を与える配線が、電源配線あるいは接地配線に接続されていない。このため、基板電位制御回路の動作が不十分である電源投入時には、基板電位よりも電源電圧が高くなってラッチアップをおこす危険性がある。このような事態を防止する手段として、電源投入から一定期間が経過するまでの間、基板を適当な電位に固定する、という手法が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、後述するように、複数の電源系統を有する場合、電源を投入した直後にラッチアップを起こすという問題があった。
従って、本発明は、電源投入後においてラッチアップの発生を防止することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
この発明による半導体装置は、少なくとも2種類の電源あるいは接地電位のいずれかをソースに印加されて動作する少なくとも1つのMOSFETがそれぞれ異なる複数の半導体層に形成されている半導体装置であって、少なくとも前記電源のいずれかが最初に投入されてから他の全ての電源が投入され安定するまでの所定期間に、前記半導体層のそれぞれの電位を前記半導体層の導電型に応じて、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位あるいは接地電位に固定する手段を含む電位制御部を備え、前記電位制御部には、クロックを出力する発振器と、前記電源のうち最初に投入されてから前記クロックのカウントを開始し、カウント値が最大値に到達したことを知らせる信号を出力するカウンタと、前記半導体層の電位を固定する手段を制御する情報を保持・出力し、前記所定期間が経過して、前記カウンタから前記信号が入力されると前記情報が変化するデータ保持回路とを有する前記所定期間を計測するリセット回路が含まれることを特徴とする。
【0005】
また、この発明による半導体装置は、少なくとも2種類の電源あるいは接地電位のいずれかをソースに印加されて動作する少なくとも1つのMOSFETが形成された少なくとも1つ以上のN型半導体層および少なくとも1つ以上のP型半導体層と、前記N型半導体層に印加する前記MOSFETに与えられるそれぞれの電源電位以上の第1の基板バイアス電圧と、前記P型半導体層に印加する接地電位以下の第2の基板バイアス電圧を出力する基板バイアス回路と、第1の制御電圧に応じて、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位または前記第1の基板バイアス電位を前記N型半導体層に印加する第1のスイッチング素子と、第2の制御電圧に応じて、前記接地電位または前記第2の基板バイアス電位を前記P型半導体層に印加する第2のスイッチング素子と、少なくとも前記電源のいずれかが最初に投入されてから他の全ての電源が投入され安定するまでの期間を含む所定期間を計測し、前記第1および第2の制御電圧を生成するリセット回路と
を備え、前記リセット回路は、クロックを出力する発振器と、前記電源のうち最初に投入された電位が所定電位に到達してから前記クロックのカウントを開始し、カウント値が最大値に到達したことを知らせる信号を出力するカウンタと、前記N型およびP型半導体層の電位を固定する手段を制御するための情報を保持し、前記所定期間が経過して、前記カウンタから前記信号が入力されると前記情報が変化するデータ保持回路とを有し、前記データ保持回路の情報より前記第1および第2の制御電圧を生成することを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。
ここで、図15に示されるような回路構成を備える装置を想定する。基板バイアス回路1は、電源電圧VDD2を供給されて基板バイアス電圧を発生する。内部回路INCKT1に存在する複数の素子(インバータ)IN100、IN101は、基板バイアス回路1が発生した基板バイアス電圧をその基板に印加される。ところが、素子IN100と素子IN101とは、供給される電源が異なっており、素子IN101は基板バイアス回路1に供給される電源電圧VDD2とは異なる電源電圧VDD1を供給されて動作する。
このように別電源を用いる理由は、内部回路では、消費電力低減のためにできるだけ低い電源電圧を使いたいのに対し、基板バイアス回路では、閾値を十分変動させるのに必要な基板バイアス電圧を発生できるように、できるだけ高い電源電圧を使いたいという要望があるからである。従って、ここでVDD1<VDD2となっている。
なお、現在の集積回路では、内部回路の動作電圧よりも、チップ外部に設けられた周辺装置との間でインタフェースを行うインタフェース回路の動作電圧の方が高くなっているのが通常である。例えば、基板バイアス回路の電源として、このインターフェース回路用の電源を利用すれば、基板バイアス回路用に特別の電源を用意する必要はない。
【0008】
さて、このような集積回路で、電源VDD1の方が電源VDD2よりも先に投入されると、内部回路の基板電位が浮遊電位のままとなり、ラッチアップを起こす。図15に示された内部回路INCKT1では、電源VDD2が電源VDD1よりも後から投入されると、素子IN101がラッチアップを起こす。
このようなラッチアップの発生を防止するには、電源VDD1と電源VDD2とを同時あるいは電源VDD1の方をやや遅れて投入する必要がある。しかし、図16に示すように、二つの電源を投入する際には、それぞれの投入のタイミングに時間差τdが生じるのが普通であり、その値は通常数十μsecオーダになる場合もある。
従来の装置では、ラッチアップ防止の手法として、一方の電源(VDD2)を投入してから、容量・抵抗回路によりもたらされるCR時定数で決定される一定期間が経過するまでの間、基板を適当な電位に固定するという手法が用いられていた。
しかし、CR時定数によって数十μsecオーダより長い遅延時間を生成するためには、きわめて大きな容量と抵抗とが必要となる。よって、同一の半導体基板上にこのようなCR回路を作成することは、チップ面積上ほぼ不可能であった。
【0009】
そこで、以下に述べる本発明の実施の形態は、電源投入時におけるラッチアップ防止のために、基板を所定期間、基板バイアス電圧以外の適当な電位(例えば電源電位や接地電位)に固定する場合において、第1の電源が投入されてから他の全ての電源が投入されるまでに必要な時間を含む充分に長い期間、基板を適当な電位に固定する構成を備えている。
以下、本発明の第1〜第7の実施の形態について図面を参照して説明する。
本発明の第1の実施の形態による半導体装置は、図1に示されるような構成を備えている。Nウエル11にPチャネル形MOSトランジスタPTrが形成され、Pウエル12にNチャネル形MOSトランジスタNTrが形成されている。これらのトランジスタPTr、NTrによって、この装置の内部回路が構成されている。そして、PチャネルトランジスタPTrと、NチャネルトランジスタNTrとは相互に接続されており、これによってCMOS論理素子が構成されている。
ここで、Nウエル11には、PまたはN型半導体基板の表面に形成されたN型ウエル、あるいはN型半導体基板の表面部分が含まれ、Pウエル12には、P又はN型半導体基板の表面に形成されたP型ウエル、あるいはP型半導体基板の表面部分が含まれる。
【0010】
Nウエル11が接続されたノードn5と、基板バイアス回路13の基板バイアス電圧Vsub1を出力する一方の出力端子とは、ダイオードD1により接続されている。Pウエル12が接続されたノードn6と、基板バイアス回路13の基板バイアス電圧Vsub2を出力する他方の出力端子とは、ダイオードD2により接続されている。
さらに、電源電圧VDD2端子とノードn5との間に、Pチャネル形MOSトランジスタMP1のソース、ドレインが接続され、そのゲートはノードn3を介して基板バイアス回路13のVsub1を出力する端子に接続されている。接地電圧VSS端子とノードn6との間に、Nチャネル形MOSトランジスタMN1のソース、ドレインが接続され、そのゲートはノードn4を介して基板バイアス回路13のVsub2を出力する端子に接続されている。
ノードn3と接地電圧VSS端子との間に、Nチャネル形MOSトランジスタMN2のドレイン、ソースが接続され、ゲートがノードn1を介してリセット回路14の一方の出力端子に接続されている。ノードn4と電源電圧VDD2端子との間に、Pチャネル形MOSトランジスタMP2のドレイン、ソースが接続され、ゲートがノードn2を介してリセット回路14の他方の出力端子に接続されている。
【0011】
ここで、基板バイアス回路13、リセット回路14、トランジスタMP1、トランジスタMP2には、電源電圧VDD2が供給される。しかし、内部回路の一部の素子を構成するトランジスタPTrには、電源電圧VDD1が供給される。ここで、VDD1<VDD2の関係が成立するものとする。
基板バイアス回路13は、Nウエル11及びPウエル12のそれぞれの基板に印加する基板バイアス電圧を発生するものである。電源VDD2が投入され、電源電圧VDD2が安定して動作状態になると、Nウエル11用に電源電圧VDD2よりも高い基板バイアス電圧Vsub1を発生し、Pウエル12用に接地電圧VSSよりも低い基板バイアス電圧Vsub2を発生する。
リセット回路14は、電源VDD2が投入されてから残りの電源VDD1が投入されるまでの期間、望ましくは、電源VDD2、VDD1が順に投入されてから、両方の電位と、基板バイアス回路13の出力とが安定するまでに至る期間を含んだ所定期間Tが経過するまでの間、出力ノードn1に電源電圧VDD2を出力し、出力ノードn2には接地電圧VSSを出力する。所定期間Tが経過した後は、出力を反転させて、ノードn1に接地電圧VSS、ノードn2に電源電圧VDD2を出力する。
【0012】
次に、この第1の実施の形態におけるリセット回路の具体的な構成のー例について説明する。ここで、図16を用いて上述したように、二種類の電源VDD1、VDD2を用いているため、ラッチアップを起こすことがないように、それぞれの電源VDD1、VDD2を投入するタイミングには制約を設ける必要がある。ラッチアップが発生しないようにするために、電源VDD2を投入してから時間τdが経過した後に電源VDD1を投入する必要があるとした場合、0<τd<Tなる条件を満たすTを導入する。
このTは、本半導体装置における定格として決められている定数である。しかし、あまり短く設定すると電源系の設計が難しくなるので、数十μsec程度以上、例えばT=100μsecというように設定してもよい。
さて、Nウエル11、Pウエル12の基板電位、即ちノードn5、n6の電位は、上述したように、基板バイアス回路13あるいはトランジスタMN1、MP1によって制御される。基板バイアス回路13は、トランジスタMN1、MP1M、MN2、MP2がオフ状態の時には、Nウエル1とノードn3とには電源電圧VDD1よりも高い基板バイアス電圧Vsub1を、Pウエル12及びノードn4には接地電位Vssよりも低い基板バイアス電圧Vsub2を供給する。しかし、トランジスタMN1、MP1、MN2、MP2がオン状態のときは、基板バイアス回路13が発生する基板バイアス電圧にかかわらず、Nウエル11とノードn4とは電源電位VDD2に固定され、Pウエル12とノードn3とは接地電位Vssに固定される必要がある。すなわち、これらのトランジスタによる制御の方が基板バイアス回路13の出力よりも優先されるように、それぞれのトランジスタサイズを選んでおくものとする。
【0013】
また、ダイオードD1、D2は、トランジスタMN2、MP2がオフで、基板バイアス回路13の出力した基板バイアス電圧がウエル11、12に印加されている場合に、トランジスタMP1、MN1が完全にオフ状態となるように、ゲートとソースとの間に必要な電位差を与えるものである。
次に、図2を参照して、リセット回路14の内部の詳細な構成及び動作について説明する。
このリセット回路14は、電源投入時から所定期間Tに渡って、ウエル11、12を電源電圧VDD2又は接地電圧Vssに固定するための信号(図1におけるノードn1及びn2の電位)を提供するものである。ここで、本実施の形態によるリセット回路14の特徴は、所定期間Tを決定するのに、抵抗と容量によりもたらされるCR時定数ではなく、発振器21と、その出力クロックをカウントするカウンタ22とを用いている点にある。これにより、オンチップの容量と抵抗より提供されるCR時定数では実現不可能な長い期間Tに渡って、ウエル11を電源電位VDD2に、ウエル12を接地電位Vssに固定することができる。
従来のようにCR時定数を用いた場合には、10μsec程度の時間を決定するのは、チップ面積上不可能であった。しかし、本実施の形態のリセット回路14では、発振器21の周波数とカウンタ22の段数を適切に設計することにより、msecオーダの期間Tも実現することができる。ここで、図2に示された抵抗Rと容量Cは、時定数RCを設定するために用いられているのではなく、カウンタ22やフリップフロップFFを初期化する信号を生成するためだけに使用される。また、リセット回路14に含まれる全ての素子は、電源電圧VDD2を供給されて動作する。
【0014】
このリセット回路は、抵抗R、容量C、インバータIN1〜IN4、発振器21、カウンタ22、D型フリップフロップFFを有する。ここで、出力1は図1に示されたノードn1を介してトランジスタMN2のゲートに接続され、出力2は図1のノードn2を介してトランジスタMP2のゲートに接続されている。
電源電圧VDD2端子と接地電圧VSS端子との間が抵抗Rと容量Cとで分割されており、この分割するノードnr1の信号が2段のインバータIN1及びIN2によって増幅されて出力ノードnr2から出力される。出力されたこの信号はカウンタ回路22のリセット端子に入力され、さらにフリップフロップFFのリセット端子Rに入力される。
カウンタ22はサイクリック型カウンタで、発振器21からパルスを入力されると0から順次カウントアップしていき、N(Nは1以上の整数)まで到達するとカウント値を0に戻し、再びカウントアップしていく。そして、カウント値がNに到達した時のみ電源電圧VDD2に対応する論理「1」のパルスを出力する。このようなカウンタ22と発振器21との組み合わせにより、発振器21の出力クロックのNサイクル毎にパルスが発生されることになる。
【0015】
フリップフロップFFには、出力2の電圧が記憶されている。電源VDD2が投入された直後は、ノードnr2の電位が接地電圧VSSである。この電位をリセット端子Rに入力されてリセットがかかった状態になり、接地電圧VSSに対応する論理「0」データが保持される。これにより、フリップフロップFFの出力Qは論理「0」になり、リセット回路の出力1は論理「1」、出力2は論理「0」になる。
このリセット回路14を含めた本実施の形態の動作について、電源電位、出力波形のタイムチャートである図3を用いて説明する。
先ず、電源VDD2が投入される前の段階では、図2に示された全ての素子の容量電荷は放電されており、ノードnr1の電位は接地電圧VSSである。ノードnr1は電源電圧VDD2よりもやや遅れて立ち上がる。このノードnr1の電位を2段のインバータIN1及びIN2で増幅すると、ノードnr2の電位は、電源電圧VDD2が安定した時点でも、しばらくの間は接地電圧VSSにあり、その後急激に立ち上がって電源電圧VDD2に到達する。
ノードnr1の電位が接地電圧VSSにある間、カウンタ22及びフリップフロップFFが共にリセットされ、それぞれの内部データは論理「0」になる。この結果、リセット回路14の出力1は論理「1」、出力2は論理「0」になっている。
【0016】
ノードnr2の電位が立ち上がると、カウンタ22が発振器21から与えられたクロックに同期してカウントアップを開始し、カウント値がNに到達すると、カウンタ22の出力ノードnr4から論理「1」のパルスが出力される。出力ノードnr4からパルスが出力されると、フリップフロップFFのクロック端子にこのパルスが入力されて、内部データが論理「1」に書き替わる。これにより、フリップフロップFFの出力Qは論理「1」となり、出力1が論理「0」、出力2が論理「1」に反転する。
カウンタ22の出力は、(N+1)個目のパルスにより、再び「0」になり、パルスをN個カウントするごとに「1」を出力する。しかし、フリップフロップFFの入力端子Dは電源電圧VDD2に固定されている。よって、カウンタ22の出力電圧のいかにかかわらず、フリップフロップFFに保存されているデータはその後変化しない。従って、出力1の電位は、電源投入直後には「1」であり、所定時間Tが経過した後は「0」になり、そのまま変化しない。
また、出力2の電位は、電源VDD2投入直後には「0」であり、所定時間Tが経過した後には「1」になり、そのまま変化しない。このような出力1及び2を、トランジスタMN2、MP2のゲート電圧として用いると、電源VDD2投入直後にはこれらのトランジスタMN2、MP2はオンする。これに従って、トランジスタMN1、MP1もオンする。所定時間Tが経過すると、トランジスタMN1、MN2、MP1、MP2は全てオフし、その後もオフ状態を維持する。従って、ウエル11の電位は、電源VDD2投入直後は電源電位VDD2に固定され、ウエル12の電位は接地電位Vssに固定され、所定時間Tが経過した後は基板バイアス回路13が発生する基板バイアス電圧Vsub1、Vsub2を印加される。
【0017】
上述したように、電源VDD2投入直後は、電源電位VDD2が安定しないので、基板電位発生回路13が安定して動作することができない。また、電源VDD2を投入してから一定の期間τdが経過する前に電源VDD1が投入されると、ラッチアップが発生するおそれがある。しかし、本実施の形態によれば、電源VDD2投入から期間τdを包括する所定期間Tが経過するまでの間は、トランジスタMP1及びMN1をリセット回路14により制御し、Nウエル11を電源電位VDD2に固定し、Pウエル12を接地電位Vssに固定する。これにより、ウエルの電位が浮遊状態にならず、ラッチアップを防止することができる。
次に、上記第1の実施の形態において、リセット回路14の構成のみが図2に示されたものと異なるものを、本発明の第2〜第6の実施の形態として以下に説明する。尚、リセット回路14以外の部分は、図1に示されたものと同一であり、説明を省略する。
図4に、第2の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示す。本実施の形態によるリセット回路では、上記第1の実施の形態によるリセット回路におけるD形フリップフロップFFの替わりに、2つのNANDゲートNA1及びNA2で構成したRSフリップフロップを用いている。
【0018】
カウンタ22は、上記第1の実施の形態におけるものと同様に、Nまでカウントするサイクリックなカウンタである。すなわち、0から順次カウントアップしていき、Nまでカウントすると次は0に戻り、再びカウントアップしていく。
リセット入力が「0」の時は、カウンタ22の内部データは「0」、出力が「1」にリセットされたままでカウントアップしない。リセット入力が「1」になると、発振器21の出力するクロックに同期してカウントアップを始める。カウンタ22の出力は、その内部データがカウントアップされて最大値Nになった時のみ「0」を出力し、それ以外の時は電源電位VDD2を出力する。つまり、発振器21の出力クロックのNサイクル毎に、負のパルスを発生する。
図5に、電源電圧や出力波形のタイムチャートを示す。電源電位VDD2と接地電位Vssとの間を、抵抗Rと容量Cとで分割した点がノードnr1の電位となる。このノードnr1の信号は、2段のインバータIN1及びIN2で増幅されて、ノードnr2の電位に到達し、カウンタ22とRSフリップフロップのリセット端子に入力される。
電源VDD2投入直後は、ノードnr2が「0」、ノードnr4が「1」となっている。よって、RSフリップフロップの出力1は「1」、出力2は「0」になっている。
【0019】
その後、ノードnr2の電位が高くなると、RSフリップフロップは出力1が「1」、出力2が「0」という状態を維持する。また、カウンタ22はリセット状態から解除されて、カウントを始める。N個目のパルスをカウントした時にカウンタ22の出力ノードnr4は「0」から「1」に変化する。よって、RSフリップフロップの出力1は「0」、出力2は「1」に遷移する。
カウンタ22の出力は、(N+1)個目のパルスにより再び「1」になり、パルスをN個カウントするごとに「0」を出力する。しかし、RSフリップフロップの状態は変化しない。よって、カウンタ22の出力電圧によらず、RSフリップフロップに保存されているデータはその後変化しない。
従って、出力1の電位は、電源VDD2投入直後には「1」であり、所定時間Tが経過した後は「0」になり、そのまま変化しない。また、出力2の電位は、電源VDD2投入直後には「0」であり、所定時間Tが経過した後に「1」になりそのまま変化しない。これらの出力1、2を、図1に示されたトランジスタMN2、MP2のゲート電圧として使用すると、電源投入直後にはトランジスタMN2、MP2はオンし、トランジスタMN1、MP1もオンする。所定時間Tが経過すると、トランジスタMN1、MN2、MP1、MP2は全てオフし、その後オフ状態を維持する。
【0020】
上述したように、第1、第2の実施の形態によれば、基板電位は電源投入直後は電源電位VDD2、接地電位Vssに固定され、所定時間Tが経過した後は基板バイアス回路13が発生する基板バイアス電圧がダイオードD1、D2を介して与えられる。このとき、トランジスタMP1のゲートにはNウエル11よりもダイオードD1の順方向電圧分だけ高い電圧が印加され、トランジスタMN1のゲートにはPウエル12よりもダイオードD2の順方向分だけ低い電圧が印加される。これにより、両トランジスタMP1、MN1ともオフ状態を維持する。
以上の第1、第2の実施の形態では、いずれも所定時間Tが経過した後も、発振器21ならびにカウンタ22が動作し続ける。元来、基板バイアス回路を用いる装置では、基板バイアス電位を基板に印加することにより、半導体装置に電源が通電されてはいるが、動作停止状態にある場合のリーク電流を低減することを想定している。従って、必要な期間だけ発振器21とカウンタ22とを動作させると、リーク電流低減効果がより大きくなる。
以下の第3〜第6の実施の形態は、このような点を考慮し、所定時間Tが経過した後はリセット状態を解除するとともに、所定時間Tを決定するために用いた発振器21の発振動作を停止させることによって、無駄な電力消費を抑制するように構成されている。
【0021】
図6に、第3の実施の形態におけるリセット回路の構成を示す。リセット回路以外の構成は、第1、第2の実施の形態と同様であり、説明を省略する。この第3の実施の形態では、発振器21aにイネーブル端子を設け、そこに出力1をイネーブル信号として入力する点に特徴がある。この発振器21aは、イネーブル信号が「0」の間は発振せず、「1」になると発振を開始する。本実施の形態における動作は、ANDゲートAN1が付加された次に述べる第4の実施の形態とほぼ同様である。よって、第3、第4の実施の形態において共通するタイムチャートを用いて両実施の形態における動作をまとめて説明する。
本発明の第4の実施の形態による半導体装置は、図7に示されるような構成を有するリセット回路を備えている。
本実施の形態では、上記第3の実施の形態と比較し、発振器21aのイネーブル信号を、ANDゲートAN1を用いてノードnr2と出力1の論理積演算を行って生成する点が相違する。これにより、電源投入直後に発振器21aとカウンタ22が同時に動作を開始することができる。
図8に、上記第3の実施の形態とこの第4の実施の形態における電源電位、出力波形のタイムチャートを示す。電源電位VDD2と接地電位Vssとを抵抗Rと容量Cとで分割した電位をノードnr1の電位とする。このノードnr1の電位が2段のインバータIN1、IN2で増幅されてノードnr2の電位に達し、カウンタ22とフリップフロップFFのリセット端子に入力される。カウンタ22は、上記第1、第2の実施の形態と同様に、Nまでカウントするサイクリックなカウンタである。すなわち、0から順次カウントアップしていき、Nまでカウントすると0に戻り、再びカウントアップしていく。リセット入力が「0」の間は、その内部データならびに出力が「0」にリセットされたままであり、カウントアップしない。リセット入力が「1」になると、発振器21aの出力するクロックに同期してカウントアップを始める。カウンタ22の出力は、内部データがカウントアップされて最大値Nになった時のみ「1」を出力する。これにより、発振器21aの出カするクロックのNサイクル毎に、カウンタ22がパルスを発生することができる。
【0022】
電源VDD2投入時には、フリップフロップFFにはリセットがかかっており、「0」が保持されている。すなわち、電源投入直後には、出力1は「1」に、出力2は「0」になっている。その後、ノードnr2の電位が高くなると、リセット状態が解除されてカウンタ22がカウントを始める。N個目のパルスをカウントした時にカウンタ22の出力ノードnr4の電位が「0」から「1」に変化する。これにより、フリップフロップFFがトリガされて内部データが「1」に書き換わる。
この結果、出力1は「0」に変化し、出力2は「1」に変化する。この時、発振器21aのイネーブル信号が「0」になり、発振器21aは発振動作を停止する。これに伴い、カウンタ22もカウント動作を停止する。従って、リセット回路はリーク電流に起因する微小電力しか消費しない。
上記第3及び第4の実施の形態は、ともに上記第1の実施の形態の変形例であって、発振器21aにイネーブル信号を導入して、リセット終了後に発振器21a、カウンタ22の動作を停止させ、無駄な電力消費を抑制する効果がある。同様に、上記第2の実施の形態に対しても、発振器にイネーブル信号を導入することにより、発振器及びカウンタの動作を停止させて電力消費を抑制することができる。以下に、この場合の構成を、本発明の第5、第6の実施の形態として説明する。
【0023】
図9に、第5の実施の形態におけるリセット回路の構成を示す。リセット回路以外の部分は、上記第1〜第4の実施の形態と同様である。この第5の実施の形態における特徴は、上記第3及び第4の実施の形態と同様に、発振器21aにイネーブル端子を設け、そこに出力1をイネーブル信号として入力する点にある。この発振器21aは、イネーブル信号が「0」の間は発振せず、「1」になると発振を開始する。本実施の形態における動作は、ANDゲートAN1が付加された次に述べる第6の実施の形態とほぼ同様である。よって、第5、第6の実施の形態において共通するタイムチャートを用いて両実施の形態における動作をまとめて説明する。
第6の実施の形態による半導体装置は、図10に示されるような構成を有するリセット回路を備えている。
本実施の形態では、上記第5の実施の形態と比較し、発振器21aのイネーブル信号を、ANDゲートAN1を用いてノードnr2と出力1の論理積演算を行って生成する点が相違する。これにより、電源投入直後に発振器21aとカウンタ22が同時に動作を開始することができる。
図11に、上記第5の実施の形態とこの第6の実施の形態における電源電位、出力波形のタイムチャートを示す。電源電位VDD2と接地電位Vssとを抵抗Rと容量Cとで分割した電位をノードnr1の電位とする。このノードnr1の電位が2段のインバータIN1、IN2で増幅されてノードnr2の電位に達し、カウンタ22とフリップフロップFFのリセット端子に入力される。カウンタ22は、上記第1、第2の実施の形態と同様に、Nまでカウントするサイクリックなカウンタである。すなわち、0から順次カウントアップしていき、Nまでカウントすると0に戻り、再びカウントアップしていく。リセット入力が「0」の間は、その内部データは「0」、出力が「1」にリセットされたままであり、カウントアップしない。リセット入力が「1」になると、発振器21aの出力するクロックに同期してカウントアップを始める。カウンタ22の出力は、内部データがカウントアップされて最大値Nになった時のみ「0」を出力する。これにより、発振器21aの出カするクロックのNサイクル毎に、カウンタ22が負のパルスを発生することができる。
【0024】
電源VDD2投入直後は、ノードnr2が「0」、ノードnr4が「1」である。よってRSフリップフロップの出力1は「1」に、出力2は「0」になっている。その後、ノードnr2の電位が高くなると、RSフリップフロップは保持状態となり、出力1は「1」、出力2は「0」のままで変化しない。また、カウンタ22がリセット状態を解除されてカウントを始める。N個目のパルスをカウントした時にカウンタ22の出力ノードnr4の電位が「1」から「0」に変化する。これにより、RSフリップフロップの出力1が「0」、出力2が「1」に遷移する。この時、発振器21aのイネーブル信号が「0」になり、発振器21aは発振動作を停止する。これに伴い、カウンタ22もカウント動作を停止する。従って、リセット回路はリーク電流に起因する微小電力しか消費しない。
上述した第1〜第6の実施の形態は、いずれも装置全体の構成は図1に示されたようである。これに対し、以下に述べる本発明の第7の実施の形態は、装置全体の構成が図12に示されるようである。
本実施の形態では、基板バイアス回路13とトランジスタMP1、MN1のゲート電圧を制御する回路とを分離している点に特徴がある。
【0025】
より具体的には、上記第1〜第6の実施の形態と比較し、ダイオードD1及びD2が除去されて、基板バイアス回路13の二つの出力端子とノードn5、n6とが短絡されており、替わりにチャージポンプ15が設けられている。チャージポンプ15は、リセット回路14の出力ノードn2の電位をイネーブル信号として与えられて動作状態を制御され、ノードn3及びn4の電位を制御する。
この場合の各ノードn1〜n4の電位、及びNウエル11及びPウエル12の電位の変化は、上記第1〜第6の実施の形態と同様である。電源VDD2投入から所定期間Tが経過するまでは、リセット回路14の出力ノードn1は電源電圧VDD2、出力ノードn2は接地電圧VSSであり、トランジスタMN2及びMP2が共にオンする。この間、ノードn2が接地電圧VSSであるので、この電位をイネーブル信号として入力されるチャージポンプ15は非動作状態で各出力はハイインピーダンス状態になっている。よって、ノードn3及びn4の電位は、トランジスタMN2及びNP2によって決定される。ノードn3が接地電圧VSS、ノードn4が電源電圧VDDになり、トランジスタMP1及びMN1が共にオンする。
【0026】
トランジスタMN2、MP2、MP1及びMN1が全てオンしている間は、基板バイアス回路13が発生する基板バイアス電圧Vsub1及びVsub 2 にかからわず、Nウエル11とノードn5は電源電圧VDD2に固定され、Pウエル12とノードn6は接地電圧VSSに固定される。
このように、所定期間Tが経過しない間、トランジスタMN2、MP2、MP1及びMN1が全てオンし、Nウエル11は電源電圧VDD2、Pウエル12は接地電圧VSSに固定される。
所定期間Tが経過した後は、リセット回路14の出力ノードn1が接地電圧VSS、出力ノードn2が電源電圧VDD2に変化し、トランジスタMN2及びMP2が共にオフする。チャージポンプ15に電源電圧VDD2のイネーブル信号が入力され、動作状態になる。チャージポンプ15の一方の出力ノードが接続されたノードn3は、電源電圧VDD2よりも高い基板電圧Vsub 1 以上まで上昇し、他方の出力ノードが接続されたノードn4は、接地電圧VSSよりも低い基板電圧Vsub 2 以下に下降する。
このように、所定期間Tが経過した後は、ノードn3及びn4の電位はチャージポンプ15の出力によって決定される。これにより、トランジスタMP1及びMN1がオフする。この結果、基板電位発生回路13が出力する基板バイアス電圧Vsub 1 がNウエル11に印加され、基板バイアス電圧Vsub 2 がPウエルノード1に印加される。
【0027】
このように、本実施の形態では、チャージポンプ15にはイネーブル端子があり、ノードn2に接続されている。このイネーブル信号により、トランジスタMN2及びMP2がオンしているときは、チャージポンプ15が動作を停止し、オフのときはチャージポンプ15が動作する。従って、図1に示された構成のように、トランジスタMN2、MP2がオンのときに、基板バイアス回路13の出力と、トランジスタMN2、MP2のドレイン出力とが、トランジスタMN1、MP1のゲートにおいて衝突することがない。このため、トランジスタMN2、MP2のサイズを小さくすることができる。
次に、リセット回路14の内部で使われている発振器の一例を示す。上記第1〜第6の実施の形態において用いる発振器21、21aは、数MHz以下のような低い周波数で発振させると効果的である。何故なら、これにより、msecオーダのリセット期間Tを実現する場合にも、カウンタを少ない段数で構成することができるからである。
しかし、このような低周波で発振させる場合には、図13(b)に示されたように、インバータへの入力波形の立ち上がりが緩やかになるため、入力波形の雑音の影響を受けやすくなり、出力が本来の周波数よりも大幅に高い周波数で発振する場合もある。このような出力がカウンタに入力されると、この一つ一つのパルスを本来のクロックと誤まってカウントすることとなる。よって、本来の所定時間Tよりも遥かに短い時間でリセットを解除するという誤動作を引き起こすことになる。
【0028】
このような現象を防ぐためには、図14に示されたようなシュミットトリガ機能付きのインバータIN11〜INm(mは3以上の奇数)を用いてリングオシレータを構成することが望ましい。シュミットトリガ機能付きのインバータは、入力波形の立ち上がりと立ち下がりとで異なる閾値を有するので、出力がローレベルからハイレベルに変化する時の入力レベルと、出力がハイレベルからローレベルに立ち下がる時の入力レベルとが異なるという、ヒステリシス特性を有する。このようなインバータを用いることで、各素子の信号波形に雑音が重畳されたような場合であっても、所定期間Tをカウントする動作に誤動作を起こすことが防止される。
上述した実施の形態はいずれもー例であり、本発明を限定するものではない。上記第1〜第7の実施の形態として示された回路構成はー例であって、必要に応じて様々な変形が可能である。例えば、上記第1〜第7の実施の形態におけるリセット回路は、クロック数をカウントすることにより、所定期間Tを計測している。しかしこれに限らず、リセット回路において、電源投入後に電源電圧のモニタを開始し、このレベルが十分に安定したことを検知してから一定時間経過したことを計測するように構成してもよい。
【0029】
【発明の効果】
上記構成を備える本発明の半導体装置によれば、いずれかの電源が投入されてから他の全ての電源が投入されるまでの期間を含む所定期間が経過するまでの間、基板をその導電型に応じて第1の電位又は第2の電位に固定することにより、基板が浮遊状態になってラッチアップが発生することを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態による半導体装置の構成を示した回路図。
【図2】第1の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図3】第1の実施の形態による半導体装置における各ノードの電位の変化を示したタイムチャート。
【図4】第2の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図5】第2の実施の形態による半導体装置における各ノードの電位の変化を示したタイムチャート。
【図6】第3の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図7】第4の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図8】第3及び第4の実施の形態による半導体装置における各ノードの電位の変化を示したタイムチャート。
【図9】第5の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図10】第6の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路の構成を示した回路図。
【図11】第5及び第6の実施の形態による半導体装置における各ノードの電位の変化を示したタイムチャート。
【図12】第7の実施の形態による半導体装置の構成を示した回路図。
【図13】第1〜第7の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路内の発振器で用いられるインバータとして、シュミットトリガ付きでないインバータを用いた場合における問題点を示した説明図。
【図14】第1〜第7の実施の形態による半導体装置におけるリセット回路内の発振器の一例として、シュミットトリガ機能付きのインバータを用いて構成したリングオシレータを示した回路図。
【図15】基板バイアス回路が発生した基板バイアス電位を印加される基板に形成されており、異なる電源電圧を供給されて動作する素子を有する内部回路を示した回路図。
【図16】異なる電源電圧を供給する第1、第2の電源をそれぞれ投入するときの時間差を示した説明図。
【符号の説明】
11 N型基板
12 P型基板
13 基板バイアス回路
14 リセット回路
15 チャージポンプ
21 21a 発振器
22 カウンタ回路
Ptr、MP1、MP2 Pチャネル形MOSトランジスタ
Ntr、MN1、MN2 Nチャネル形MOSトランジスタ
D1、D2 ダイオード
FF D型フリップフロップ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to a CMOS semiconductor device having a structure for applying a bias voltage different from a power supply potential or a ground potential to a substrate.
[0002]
[Prior art]
In a CMOS semiconductor device, in order to reduce power consumption while maintaining high-speed operation, an integrated circuit is designed using a field-effect transistor having a low threshold, and is driven at a low voltage.
In this case, in order to reduce the current when the circuit is not operating at all, that is, the so-called standby leakage current, or to compensate for the fluctuation of the threshold even during the circuit operation, the substrate or well power supply potential or the ground potential is used. Some devices apply different substrate bias voltages.
In such an apparatus, the substrate and the wiring for providing the well potential are not connected to the power supply wiring or the ground wiring. For this reason, at the time of power supply in which the operation of the substrate potential control circuit is insufficient, there is a risk that the power supply voltage becomes higher than the substrate potential and latch-up occurs. As a means for preventing such a situation, a technique of fixing the substrate at an appropriate potential until a certain period elapses after the power is turned on is used.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, as described later, when a plurality of power supply systems are provided, there is a problem that latch-up occurs immediately after the power is turned on.
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of preventing occurrence of latch-up after power-on.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device in which at least one MOSFET that operates by applying at least one of a power supply and a ground potential to a source is formed in a plurality of different semiconductor layers, respectively. During a predetermined period from when one of the power supplies is first turned on to when all other power supplies are turned on and stabilized, the potential of each of the semiconductor layers is changed according to the conductivity type of the semiconductor layer. A potential control unit including a means for fixing the power supply to the highest power supply potential or the ground potential, the potential control unit includes: An oscillator that outputs a clock, a counter that starts counting the clock after the power is first turned on and outputs a signal indicating that the count value has reached a maximum value, and fixes a potential of the semiconductor layer. A data holding circuit that holds and outputs information for controlling the means for performing the predetermined period, and a data holding circuit that changes the information when the signal is input from the counter after the predetermined period has elapsed. included It is characterized by the following.
[0005]
Also, According to the semiconductor device of the present invention, at least one or more N-type semiconductor layers and at least one or more P-type semiconductor layers each having at least one MOSFET formed by operating at least one of a power supply and a ground potential are applied to a source. -Type semiconductor layer, a first substrate bias voltage applied to the N-type semiconductor layer, which is higher than a respective power supply potential applied to the MOSFET, and a second substrate bias voltage lower than the ground potential applied to the P-type semiconductor layer. And a first switching circuit for applying the highest power supply potential or the first substrate bias potential of the at least two types of power supplies to the N-type semiconductor layer in accordance with a first control voltage. Applying the ground potential or the second substrate bias potential to the P-type semiconductor layer according to an element and a second control voltage. A second switching element, Measure at least a predetermined period including a period from when any one of the power supplies is first turned on to when all other power supplies are turned on and stabilized, A reset circuit for generating the first and second control voltages;
With The reset circuit includes: an oscillator that outputs a clock; and a signal that indicates that the count value has reached a maximum value, starting counting the clock after the first applied potential of the power supply reaches a predetermined potential. , And information for controlling the means for fixing the potentials of the N-type and P-type semiconductor layers. When the predetermined period elapses and the signal is input from the counter, the information is stored. And the data control circuit generates the first and second control voltages from information of the data storage circuit. It is characterized by the following.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Here, an apparatus having a circuit configuration as shown in FIG. 15 is assumed. The
The reason for using a separate power supply in this way is that the internal circuit wants to use the lowest possible power supply voltage to reduce power consumption, while the substrate bias circuit generates the substrate bias voltage required to sufficiently change the threshold. This is because there is a demand to use as high a power supply voltage as possible. Therefore, here, VDD1 <VDD2.
In the current integrated circuit, the operating voltage of an interface circuit for performing an interface with a peripheral device provided outside the chip is generally higher than the operating voltage of an internal circuit. For example, if a power supply for the interface circuit is used as a power supply for the substrate bias circuit, it is not necessary to prepare a special power supply for the substrate bias circuit.
[0008]
Now, in such an integrated circuit, when the power supply VDD1 is turned on before the power supply VDD2, the substrate potential of the internal circuit remains at the floating potential and latch-up occurs. In the internal circuit INCKT1 shown in FIG. 15, when the power supply VDD2 is turned on after the power supply VDD1, the element IN101 latches up.
In order to prevent the occurrence of such a latch-up, it is necessary to turn on the power supply VDD1 and the power supply VDD2 at the same time or with the power supply VDD1 slightly delayed. However, as shown in FIG. 16, when two power supplies are turned on, a time difference τd usually occurs between the timings of turning on the two power supplies, and the value may be on the order of several tens μsec.
In a conventional device, as a method of preventing latch-up, a substrate is appropriately mounted between the time when one power supply (VDD2) is turned on and a certain period determined by a CR time constant provided by a capacitance / resistance circuit elapses. A technique of fixing the potential to a certain value has been used.
However, in order to generate a delay time longer than the order of tens of μsec by the CR time constant, an extremely large capacitance and resistance are required. Therefore, it is almost impossible to create such a CR circuit on the same semiconductor substrate due to the chip area.
[0009]
Therefore, the embodiment of the present invention described below is applied to a case where the substrate is fixed to an appropriate potential (for example, a power supply potential or a ground potential) other than the substrate bias voltage for a predetermined period in order to prevent latch-up at power-on. , The substrate is fixed at an appropriate potential for a sufficiently long period of time including the time required from when the first power supply is turned on to when all other power supplies are turned on.
Hereinafter, first to seventh embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The semiconductor device according to the first embodiment of the present invention has a configuration as shown in FIG. A P-channel MOS transistor PTr is formed in the N-
Here, the
[0010]
The node n5 to which the N well 11 is connected and one output terminal of the
Further, the source and drain of the P-channel MOS transistor MP1 are connected between the power supply voltage VDD2 terminal and the node n5, and the gate thereof is connected to the terminal for outputting Vsub1 of the
The drain and source of the N-channel MOS transistor MN2 are connected between the node n3 and the ground voltage VSS terminal, and the gate is connected to one output terminal of the
[0011]
Here, the power supply voltage VDD2 is supplied to the
The
The
[0012]
Next, an example of a specific configuration of the reset circuit according to the first embodiment will be described. Here, as described above with reference to FIG. 16, since two types of power supplies VDD1 and VDD2 are used, restrictions are imposed on the timing of turning on the respective power supplies VDD1 and VDD2 so that latch-up does not occur. Must be provided. In order to prevent latch-up from occurring, if it is necessary to turn on the power supply VDD1 after a lapse of time τd after turning on the power supply VDD2, a T that satisfies the condition of 0 <τd <T is introduced.
This T is a constant determined as a rating in the present semiconductor device. However, if it is set too short, it becomes difficult to design the power supply system. Therefore, it may be set to about several tens μsec or more, for example, T = 100 μsec.
The substrate potentials of the N well 11 and the P well 12, that is, the potentials of the nodes n5 and n6 are controlled by the
[0013]
In addition, when the transistors MN2 and MP2 are off and the substrate bias voltage output from the
Next, a detailed configuration and operation inside the
The
When a CR time constant is used as in the related art, it is impossible to determine a time of about 10 μsec due to the chip area. However, in the
[0014]
This reset circuit has a resistor R, a capacitor C, inverters IN1 to IN4, an
The power supply voltage VDD2 terminal and the ground voltage VSS terminal are divided by a resistor R and a capacitor C. The signal at the node nr1 to be divided is amplified by the two-stage inverters IN1 and IN2 and output from the output node nr2. You. This output signal is input to the reset terminal of the
The
[0015]
The voltage of the
The operation of the present embodiment including the
First, before the power supply VDD2 is turned on, the capacitance charges of all the elements shown in FIG. 2 have been discharged, and the potential of the node nr1 is the ground voltage VSS. The node nr1 rises slightly later than the power supply voltage VDD2. When the potential of the node nr1 is amplified by the two-stage inverters IN1 and IN2, the potential of the node nr2 remains at the ground voltage VSS for a while, even when the power supply voltage VDD2 is stabilized, and then rapidly rises to the power supply voltage VDD2. To reach.
While the potential of the node nr1 is at the ground voltage VSS, both the
[0016]
When the potential of the node nr2 rises, the
The output of the
The potential of the
[0017]
As described above, since the power supply potential VDD2 is not stable immediately after the power supply VDD2 is turned on, the substrate
Next, only the configuration of the
FIG. 4 shows a configuration of a reset circuit in the semiconductor device according to the second embodiment. In the reset circuit according to the present embodiment, an RS flip-flop including two NAND gates NA1 and NA2 is used instead of the D-type flip-flop FF in the reset circuit according to the first embodiment.
[0018]
The
When the reset input is "0", the internal data of the
FIG. 5 shows a time chart of the power supply voltage and the output waveform. A point between the power supply potential VDD2 and the ground potential Vss divided by the resistor R and the capacitor C is the potential of the node nr1. The signal at the node nr1 is amplified by the two-stage inverters IN1 and IN2, reaches the potential at the node nr2, and is input to the
Immediately after the power supply VDD2 is turned on, the node nr2 is “0” and the node nr4 is “1”. Therefore, the
[0019]
Thereafter, when the potential of the node nr2 increases, the RS flip-flop maintains the state where the
The output of the
Therefore, the potential of the
[0020]
As described above, according to the first and second embodiments, the substrate potential is fixed to the power supply potential VDD2 and the ground potential Vss immediately after the power is turned on, and the
In the first and second embodiments, the
In consideration of such a point, the following third to sixth embodiments release the reset state after the lapse of the predetermined time T, and oscillate the
[0021]
FIG. 6 shows a configuration of a reset circuit according to the third embodiment. The configuration other than the reset circuit is the same as in the first and second embodiments, and the description is omitted. The third embodiment is characterized in that an enable terminal is provided in the
The semiconductor device according to the fourth embodiment of the present invention includes a reset circuit having a configuration as shown in FIG.
This embodiment is different from the third embodiment in that the enable signal of the
FIG. 8 shows a time chart of the power supply potential and the output waveform in the third embodiment and the fourth embodiment. A potential obtained by dividing the power supply potential VDD2 and the ground potential Vss by the resistor R and the capacitor C is set as the potential of the node nr1. The potential of the node nr1 is amplified by the two-stage inverters IN1 and IN2, reaches the potential of the node nr2, and is input to the
[0022]
When the power supply VDD2 is turned on, the flip-flop FF is reset and “0” is held. That is, immediately after the power is turned on, the
As a result, the
The third and fourth embodiments are both modifications of the first embodiment. An enable signal is introduced to the
[0023]
FIG. 9 shows a configuration of a reset circuit according to the fifth embodiment. Portions other than the reset circuit are the same as in the first to fourth embodiments. The feature of the fifth embodiment is that, like the third and fourth embodiments, an enable terminal is provided in the
The semiconductor device according to the sixth embodiment includes a reset circuit having a configuration as shown in FIG.
The present embodiment is different from the fifth embodiment in that the enable signal of the
FIG. 11 shows a time chart of the power supply potential and the output waveform in the fifth embodiment and the sixth embodiment. A potential obtained by dividing the power supply potential VDD2 and the ground potential Vss by the resistor R and the capacitor C is set as the potential of the node nr1. The potential of the node nr1 is amplified by the two-stage inverters IN1 and IN2, reaches the potential of the node nr2, and is input to the
[0024]
Immediately after the power supply VDD2 is turned on, the node nr2 is “0” and the node nr4 is “1”. Therefore, the
In each of the first to sixth embodiments described above, the configuration of the entire apparatus is as shown in FIG. On the other hand, in a seventh embodiment of the present invention described below, the configuration of the entire apparatus is as shown in FIG.
The present embodiment is characterized in that the
[0025]
More specifically, compared to the first to sixth embodiments, the diodes D1 and D2 are removed, and the two output terminals of the
In this case, changes in the potentials of the nodes n1 to n4 and the potentials of the N well 11 and the P well 12 are the same as those in the first to sixth embodiments. Until a predetermined period T elapses after the power supply VDD2 is turned on, the output node n1 of the
[0026]
While all of the transistors MN2, MP2, MP1, and MN1 are on, the N well 11 and the node n5 are fixed to the power supply voltage VDD2 regardless of the substrate bias voltages Vsub1 and Vsub2 generated by the
As described above, while the predetermined period T does not elapse, the transistors MN2, MP2, MP1, and MN1 are all turned on, the N well 11 is fixed at the power supply voltage VDD2, and the P well 12 is fixed at the ground voltage VSS.
After the lapse of the predetermined period T, the output node n1 of the
As described above, after the elapse of the predetermined period T, the potentials of the nodes n3 and n4 are determined by the output of the
[0027]
As described above, in the present embodiment, the
Next, an example of an oscillator used inside the
However, when oscillating at such a low frequency, as shown in FIG. 13B, the rising of the input waveform to the inverter becomes gradual, so that the input waveform is easily affected by noise. The output may oscillate at a frequency significantly higher than the original frequency. When such an output is input to the counter, each pulse is erroneously counted as an original clock. Therefore, an erroneous operation of releasing the reset in a much shorter time than the original predetermined time T is caused.
[0028]
In order to prevent such a phenomenon, it is desirable to configure a ring oscillator using inverters IN11 to INm (m is an odd number of 3 or more) with a Schmitt trigger function as shown in FIG. Inverters with a Schmitt trigger function have different thresholds for the rising and falling edges of the input waveform, so the input level when the output changes from low level to high level and when the output drops from high level to low level Has a hysteresis characteristic that the input level is different. By using such an inverter, even when noise is superimposed on the signal waveform of each element, a malfunction in the operation of counting the predetermined period T is prevented.
The above-described embodiments are all examples, and do not limit the present invention. The circuit configurations shown as the first to seventh embodiments are examples, and various modifications can be made as necessary. For example, the reset circuits in the first to seventh embodiments measure the predetermined period T by counting the number of clocks. However, the present invention is not limited to this, and the reset circuit may be configured to start monitoring the power supply voltage after the power is turned on, and to measure that a certain time has elapsed after detecting that the level is sufficiently stabilized.
[0029]
【The invention's effect】
According to the semiconductor device of the present invention having the above-described configuration, the substrate has its conductivity type until a predetermined period including a period from when any power is turned on to when all other powers are turned on elapses. By fixing the potential to the first potential or the second potential according to the above, it is possible to prevent the substrate from floating and latch-up from occurring.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device according to a first embodiment.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in the semiconductor device according to the first embodiment.
FIG. 3 is a time chart showing a change in potential of each node in the semiconductor device according to the first embodiment;
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in a semiconductor device according to a second embodiment.
FIG. 5 is a time chart showing a change in potential of each node in the semiconductor device according to the second embodiment;
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in a semiconductor device according to a third embodiment.
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in a semiconductor device according to a fourth embodiment.
FIG. 8 is a time chart showing a change in potential of each node in the semiconductor device according to the third and fourth embodiments.
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in a semiconductor device according to a fifth embodiment.
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a reset circuit in a semiconductor device according to a sixth embodiment.
FIG. 11 is a time chart showing a change in potential of each node in the semiconductor device according to the fifth and sixth embodiments.
FIG. 12 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device according to a seventh embodiment.
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a problem in a case where an inverter without a Schmitt trigger is used as an inverter used in an oscillator in a reset circuit in the semiconductor device according to the first to seventh embodiments;
FIG. 14 is a circuit diagram showing a ring oscillator configured using an inverter with a Schmitt trigger function as an example of an oscillator in a reset circuit in the semiconductor device according to the first to seventh embodiments;
FIG. 15 is a circuit diagram showing an internal circuit which is formed on a substrate to which a substrate bias potential generated by a substrate bias circuit is applied and has an element which operates by being supplied with a different power supply voltage.
FIG. 16 is an explanatory diagram showing a time difference when first and second power supplies for supplying different power supply voltages are respectively turned on.
[Explanation of symbols]
11 N-type substrate
12 P type substrate
13 Substrate bias circuit
14 Reset circuit
15 Charge pump
21 21a Oscillator
22 Counter circuit
Ptr, MP1, MP2 P-channel MOS transistor
Ntr, MN1, MN2 N-channel MOS transistors
D1, D2 diode
FF D-type flip-flop
Claims (9)
少なくとも前記電源のいずれかが最初に投入されてから他の全ての電源が投入され安定するまでの所定期間に、前記半導体層のそれぞれの電位を前記半導体層の導電型に応じて、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位あるいは接地電位に固定する手段を含む電位制御部を備え、
前記電位制御部には、クロックを出力する発振器と、前記電源のうち最初に投入されてから前記クロックのカウントを開始し、カウント値が最大値に到達したことを知らせる信号を出力するカウンタと、前記半導体層の電位を固定する手段を制御するための情報を保持・出力し、前記所定期間が経過して、前記カウンタから前記信号が入力されると前記情報が変化するデータ保持回路とを有する前記所定期間を計測するリセット回路が含まれることを特徴とする半導体装置。A semiconductor device in which at least one MOSFET operated by applying at least one of a power supply and a ground potential to a source is formed in a plurality of different semiconductor layers, respectively.
During a predetermined period from when at least one of the power supplies is first turned on to when all other power supplies are turned on and stabilized, the potential of each of the semiconductor layers is changed according to the conductivity type of the semiconductor layer. A potential control unit including means for fixing the power supply potential or the ground potential to the highest power supply among the types of power supplies,
The potential control unit includes an oscillator that outputs a clock, a counter that starts counting the clock after the power is first turned on, and outputs a signal indicating that the count value has reached a maximum value, A data holding circuit for holding and outputting information for controlling the means for fixing the potential of the semiconductor layer, and for changing the information when the signal is input from the counter after the predetermined period has elapsed. A semiconductor device including a reset circuit for measuring the predetermined period .
前記基板バイアス回路は、前記MOSFETに与えられるそれぞれの電源電位以上の第1の基板バイアス電圧と、接地電位以下の第2の基板バイアス電圧とを発生し、
前記電位制御部は、前記所定期間経過後は、前記半導体層のそれぞれの電位を前記半導体層の導電型に応じて、前記第1の基板バイアス電圧または第2の基板バイアス電圧に固定する手段を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。The potential control unit includes a substrate bias circuit,
The substrate bias circuit generates a first substrate bias voltage equal to or higher than a respective power supply potential applied to the MOSFET and a second substrate bias voltage equal to or lower than a ground potential.
The potential control unit includes means for fixing each potential of the semiconductor layer to the first substrate bias voltage or the second substrate bias voltage according to a conductivity type of the semiconductor layer after the predetermined period has elapsed. The semiconductor device according to claim 1, further comprising:
前記所定期間には、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位が投入されてから他の全ての電源が投入されるまでの期間が含まれる請求項2記載の半導体装置。The highest power supply potential of the at least two types of power supplies is supplied to the substrate bias circuit,
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the predetermined period includes a period from when a highest power supply potential of the at least two types of power supplies is turned on to when all other power supplies are turned on.
前記リセット回路は、前記所定期間の間は、前記スイッチング素子をオンさせ、前記所定期間経過後は、前記スイッチング素子をオフさせるような制御信号を生成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。The potential control unit includes at least one or more switching elements,
The reset circuit during said predetermined time period, the turns on the switching element, after the predetermined time period, the semiconductor according to claim 1, wherein generating a control signal that turns off the switching element apparatus.
前記N型半導体層に印加する前記MOSFETに与えられるそれぞれの電源電位以上の第1の基板バイアス電圧と、前記P型半導体層に印加する接地電位以下の第2の基板バイアス電圧を出力する基板バイアス回路と、
第1の制御電圧に応じて、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位または前記第1の基板バイアス電位を前記N型半導体層に印加する第1のスイッチング素子と、
第2の制御電圧に応じて、前記接地電位または前記第2の基板バイアス電位を前記P型半導体層に印加する第2のスイッチング素子と、
少なくとも前記電源のいずれかが最初に投入されてから他の全ての電源が投入され安定するまでの期間を含む所定期間を計測し、前記第1および第2の制御電圧を生成するリセット回路と
を備え、
前記リセット回路は、クロックを出力する発振器と、前記電源のうち最初に投入された電位が所定電位に到達してから前記クロックのカウントを開始し、カウント値が最大値に到達したことを知らせる信号を出力するカウンタと、前記N型およびP型半導体層の電位 を固定する手段を制御するための情報を保持し、前記所定期間が経過して、前記カウンタから前記信号が入力されると前記情報が変化するデータ保持回路とを有し、前記データ保持回路の前記情報より前記第1および第2の制御電圧を生成することを特徴とする半導体装置。At least one or more N-type semiconductor layers and at least one or more P-type semiconductor layers formed with at least one MOSFET that operates by applying at least one of a power supply and a ground potential to a source;
A substrate bias for outputting a first substrate bias voltage applied to the MOSFET applied to the N-type semiconductor layer, which is higher than a respective power supply potential, and a second substrate bias voltage applied to the P-type semiconductor layer, which is lower than a ground potential. Circuit and
A first switching element for applying the highest power supply potential or the first substrate bias potential of the at least two types of power supplies to the N-type semiconductor layer according to a first control voltage;
A second switching element for applying the ground potential or the second substrate bias potential to the P-type semiconductor layer according to a second control voltage;
A reset circuit that measures a predetermined period including a period from when at least one of the power supplies is first turned on to when all other power supplies are turned on and stabilizes, and generates the first and second control voltages. Prepare,
The reset circuit includes: an oscillator that outputs a clock; and a signal that indicates that the count value has reached a maximum value, starting counting the clock after the first applied potential of the power supply reaches a predetermined potential. , And information for controlling the means for fixing the potentials of the N-type and P-type semiconductor layers . When the predetermined period elapses and the signal is input from the counter, the information is stored. Wherein the first and second control voltages are generated from the information of the data holding circuit .
前記第1のスイッチング素子は、前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位ノードと前記N型半導体層との間にソース、ドレインが接続され、前記第1の出力端子にゲートが接続された第1のPチャネル形MOSトランジスタと、前記第1のPチャネル形MOSトランジスタのゲートと前記接地電位ノードとの間にドレイン、ソースが接続された第1のNチャネル形MOSトランジスタとを有し、
前記第2のスイッチング素子は、前記P型半導体層と前記接地電位ノードとの間にソース、ドレインが接続され、前記第2の出力端子にゲートが接続された第2のNチャネル形MOSトランジスタと、前記第2のNチャネル形MOSトランジスタのゲートと前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位ノードとの間にドレイン、ソースが接続された第2のPチャネル形MOSトランジスタとを有することを特徴とする請求項6記載の半導体装置。A first diode having an anode connected to a first output terminal for outputting the first substrate bias voltage of the substrate bias circuit, and a cathode connected to the N-type semiconductor layer; A second diode having a cathode connected to a second output terminal for outputting a substrate bias voltage of 2, and an anode connected to the P-type semiconductor layer;
The first switching element has a source and a drain connected between the highest power supply potential node of the at least two types of power supplies and the N-type semiconductor layer, and a gate connected to the first output terminal. A first P-channel MOS transistor; a first N-channel MOS transistor having a drain and a source connected between a gate of the first P-channel MOS transistor and the ground potential node;
A second N-channel MOS transistor having a source and a drain connected between the P-type semiconductor layer and the ground potential node, and a gate connected to the second output terminal; A second P-channel MOS transistor having a drain and a source connected between the gate of the second N-channel MOS transistor and the highest power supply potential node of the at least two types of power supplies. 7. The semiconductor device according to claim 6 , wherein:
前記第2のスイッチング素子は、前記P型半導体層と接地電位ノードとの間にソース、ドレインが接続された第2のNチャネル形MOSトランジスタと、前記第2のNチャネル形MOSトランジスタのゲートと前記少なくとも2種類の電源のうち最も高い電源電位ノードとの間にドレイン、ソースが接続された第2のPチャネル形MOSトランジスタとを有し、
前記リセット回路により制御され、前記第1のPチャネル形MOSトランジスタおよび前記第2のNチャネル形MOSトランジスタのそれぞれのゲートに接続されたチャージポンプ回路と
を備えたことを特徴とする請求項6記載の半導体装置。The first switching element includes a first P-channel MOS transistor having a source and a drain connected between the highest power supply potential node of the at least two types of power supplies and the N-type semiconductor layer; A first N-channel MOS transistor having a drain and a source connected between the gate of one P-channel MOS transistor and the ground potential node;
The second switching element includes a second N-channel MOS transistor having a source and a drain connected between the P-type semiconductor layer and a ground potential node, and a gate of the second N-channel MOS transistor. A second P-channel MOS transistor having a drain and a source connected between the power supply potential node and the highest power supply node among the at least two types of power supplies;
The controlled by a reset circuit, according to claim 6, characterized in that it includes a charge pump circuit connected to the gates of the first P-channel MOS transistor and the second N-channel MOS transistor Semiconductor device.
前記データ保持回路の出力が前記イネーブル端子に与えられることにより、前記データ保持回路の出力が変化すると、前記クロックの出力を停止することを特徴とする請求項1または5記載の半導体装置。The oscillator is provided with an enable terminal,
Wherein by the output of the data holding circuit is applied to said enable terminal, said the output of the data holding circuit is changed, the semiconductor device according to claim 1 or 5, wherein the stopping the output of the clock.
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