JP3535905B2 - COB memory module and method of manufacturing the same - Google Patents

COB memory module and method of manufacturing the same

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JP3535905B2 JP29305994A JP29305994A JP3535905B2 JP 3535905 B2 JP3535905 B2 JP 3535905B2 JP 29305994 A JP29305994 A JP 29305994A JP 29305994 A JP29305994 A JP 29305994A JP 3535905 B2 JP3535905 B2 JP 3535905B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、COB(Chip On Boar
d)化メモリモジュール及びその製造方法に関するもので
ある。
The present invention relates to a COB (Chip On Boar)
d) A memory module and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、メモリモジュールは表面実装用に
プラスチック封止された多数のメモリICをガラエポ基
板等に片面もしくは両面に半田付けした構造である。半
田付け後、フラックス洗浄を行い、その後電気特性チェ
ックを行う。そして、その後不良ICの交換を行い、再
電気特性チェックを行い、不良がなくなるまで繰り返し
行って、完成メモリモジュールを製造するものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, a memory module has a structure in which a large number of memory ICs, which are plastic-sealed for surface mounting, are soldered to a glass epoxy substrate or the like on one side or both sides. After soldering, wash the flux and then check the electrical characteristics. Then, after that, the defective IC is replaced, the electric characteristic is checked again, and the defective memory is eliminated, and the completed memory module is manufactured.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
メモリモジュール及びその製造方法においては、次のよ
うな課題があった。 (1) プラスティック封止されたメモリICを使用す
るためモジュール化によるコストダウンが得られない。
However, the conventional memory module and the manufacturing method thereof have the following problems. (1) Since a plastic-encapsulated memory IC is used, cost reduction due to modularization cannot be obtained.

【0004】(2) プラスティック封止のパッケージ
サイズは標準化されており、モジュールの小型化・薄型
化に対して設計自由度が少ない。
(2) The package size of the plastic encapsulation is standardized, and the degree of freedom in design is small with respect to miniaturization and thinning of the module.

【0005】(3) メモリモジュールをCOB化しよ
うとした場合、品質の確保とコスト低減を両立させるの
が困難であった。
(3) When trying to make the memory module into a COB, it has been difficult to achieve both quality assurance and cost reduction.

【0006】(4) プラスティック封止されたメモリ
ICを使用するため重量の軽減が困難であった。
(4) It is difficult to reduce the weight because a plastic-encapsulated memory IC is used.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のうちの第1の発明では、COB化メモリモ
ジュールにおいて、主表面に配線パターンと複数の凹部
とを有する基板と、前記凹部の底面に形成される金属膜
と、パッドを有し、前記金属膜上に搭載される複数のベ
アなメモリチップ(以下「ベアチップ」という。)と、
前記パッドと前記配線パターンとを電気的に接続するボ
ンディングワイヤと、前記ベアチップを封止する封止樹
脂とを有している。
In order to solve the above-mentioned problems, in the first invention of the present invention, a COB memory memory is used.
Wiring pattern and multiple recesses on the main surface of the joule
And a metal film formed on the bottom surface of the recess.
And a plurality of pads having a pad and mounted on the metal film.
A memory chip (hereinafter referred to as "bare chip"),
A button for electrically connecting the pad and the wiring pattern.
Bonding wire and a sealing tree for sealing the bare chip
It has fat.

【0008】第2の発明では、第1の発明のCOB化メ
モリモジュールにおいて、前記金属膜は、他の凹部に形
成された金属膜とは電気的に接続していない。 第3の
発明では、第1の発明のCOB化メモリモジュールにお
いて、前記金属膜は、銅箔である。第4の発明では、第
1の発明のCOB化メモリモジュールにおいて、前記封
止樹脂上に、メモリICを搭載している。
In the second invention, the COB conversion method of the first invention is used.
In the memory module, the metal film is formed in another recess.
It is not electrically connected to the formed metal film. Third
In the invention, in the COB memory module of the first invention,
In addition, the metal film is a copper foil. In the fourth invention,
In the COB-ized memory module according to the first invention,
A memory IC is mounted on the resin.

【0009】第5の発明では、COB化メモリモジュー
ルにおいて、主表面に配線パターンと複数の凹部とを有
する基板と、前記複数の凹部に搭載され、前記配線パタ
ーンと電気的に接続される複数の第1のベアチップと、
前記第1のベアチップ上に搭載され、前記配線パターン
と電気的に接続される第2のベアチップと、前記第1及
び第2のベアチップを封止する封止樹脂とを有してい
る。
According to a fifth aspect of the invention, a COB memory module is provided.
The main surface has a wiring pattern and multiple recesses.
And the wiring pattern mounted on the plurality of recesses.
A plurality of first bare chips electrically connected to the
The wiring pattern mounted on the first bare chip
A second bare chip electrically connected to the first bare chip;
And a sealing resin that seals the second bare chip.
It

【0010】第6の発明では、第5の発明のCOB化メ
モリモジュールにおいて、前記凹部の底面に金属膜が形
成され、前記第1のベアチップは該金属膜上に搭載され
る。第7の発明では、第6の発明のCOB化メモリモジ
ュールにおいて、前記金属膜は、銅箔である。
According to a sixth aspect of the invention, the COB conversion method of the fifth aspect is used.
In the memory module, a metal film is formed on the bottom of the recess.
And the first bare chip is mounted on the metal film.
It In the seventh invention, the COB memory module of the sixth invention is used.
In the tool, the metal film is a copper foil.

【0011】第8の発明では、COB化メモリモジュー
ルの製造方法において、表面と、該表面に対向する裏面
とを有する基板を準備し、前記表面から前記裏面に向か
って前記基板を削り、該裏面に到達しないように凹部を
形成し、前記凹部の底面に金属膜を形成する。そして、
前記表面に配線パターンを形成し、前記金属膜上に接着
層を形成し、前記接着層上にメモリチップを搭載し、前
記メモリチップと前記配線パターンとをボンディングワ
イヤを用いて電気的に接続し、前記メモリチップを封止
樹脂を用いて封止する。
According to an eighth aspect of the invention, a COB memory module is provided.
In the manufacturing method of a film, a front surface and a back surface facing the front surface.
Prepare a substrate having and facing from the front surface to the back surface.
Then, scrape the substrate and make a recess so that it does not reach the back surface.
Then, a metal film is formed on the bottom surface of the recess. And
Form a wiring pattern on the surface and bond it on the metal film
Forming a layer, mounting a memory chip on the adhesive layer,
The memory chip and the wiring pattern are bonded together.
Electrically connect using ear to seal the memory chip
Seal with resin.

【0012】第9の発明では、第8の発明のCOB化メ
モリモジュールの製造方法において、前記接着層に前記
メモリチップを搭載した後に、該メモリチップの電気的
特性検査を行い、該メモリチップが不良と判断された場
合は該メモリチップ上に他のメモリチップを搭載する。
According to a ninth aspect of the invention, the COB conversion method of the eighth aspect is used.
In the method for manufacturing a memory module, the adhesive layer is
After mounting the memory chip, the electrical
When the characteristic is judged to be defective by the characteristic inspection,
In this case, another memory chip is mounted on the memory chip.

【0013】第10の発明では、第1のCOB化メモリ
モジュールに第2のCOB化メモリモジュールを搭載し
て構成されるCOB化メモリモジュールであって、前記
第1のCOB化メモリモジュールは、主表面と裏表面を
有し、該主表面に第1の配線パターンと複数の第1の凹
部が形成され、該主表面と該裏表面とを貫通する第1の
貫通孔を有する第1の基板と、第1のパッドを有し、前
記複数の第1の凹部に搭載される複数の第1のベアチッ
プと、前記第1のパッドと前記第1の配線パターンとを
電気的に接続する第1のボンディングワイヤと、前記第
1のベアチップを封止する第1の封止樹脂とにより構成
されている。さらに、前記第2のCOB化メモリモジュ
ールは、主表面と裏表面とを有し、該主表面に第2の配
線パターンと複数の第2の凹部が形成され、該主表面と
該裏表面とを貫通する第2の貫通孔を有する第2の基板
と、第2のパッドを有し、前記複数の第2の凹部に搭載
される複数の第2のベアチップと、前記第2のパッドと
前記第2の配線パターンとを電気的に接続する第2のボ
ンディングワイヤと、前記第2のベアチップを封止する
第2の封止樹脂とにより構成されている。そして、前記
第1のCOB化メモリモジュールと前記第2のCOB化
メモリモジュールは、前記第1の貫通孔と前記第2の貫
通孔とを貫く接続ピンにより電気的に接続されている。
第11の発明では、第10の発明のCOB化メモリモジ
ュールにおいて、前記接続ピンは、非塩素系フラックス
入り半田である。
According to a tenth aspect of the invention, there is provided a first COB memory.
The second COB memory module is installed in the module
A COB memory module configured as
The first COB memory module has a main surface and a back surface.
And having a first wiring pattern and a plurality of first recesses on the main surface.
And a first portion penetrating the main surface and the back surface.
A first substrate having a through hole, a first pad, and
The plurality of first bare chips mounted in the plurality of first recesses
And the first pad and the first wiring pattern
A first bonding wire electrically connected to the first bonding wire;
Consists of a first sealing resin for sealing one bare chip
Has been done. Further, the second COB memory module
Has a main surface and a back surface, and has a second surface on the main surface.
A line pattern and a plurality of second recesses are formed, and the main surface and
A second substrate having a second through hole penetrating the back surface
And a second pad, which is mounted in the plurality of second recesses
A plurality of second bare chips and the second pad
A second button for electrically connecting to the second wiring pattern.
The bonding wire and the second bare chip
It is composed of a second sealing resin. And said
First COB conversion memory module and the second COB conversion
The memory module includes the first through hole and the second through hole.
It is electrically connected by a connecting pin penetrating the through hole.
According to an eleventh invention, a COB memory module of the tenth invention is provided.
In the tool, the connection pin is a non-chlorine type flux.
It is solder containing solder.

【0014】[0014]

【作用】本発明によれば、基板側の凹部に、ベアなメモ
リチップであるベアチップが搭載され、該ベアチップが
基板側の配線パターンと電気的に接続された後、樹脂封
止される。そして、基板側の配線パターンにより、ベア
チップに対して入出力が行える。
According to the present invention , a bare memo is formed in the concave portion on the substrate side.
A bare chip, which is a rechip, is mounted , the bare chip is electrically connected to the wiring pattern on the substrate side, and then is sealed with resin. Input / output can be performed with respect to the bare chip by the wiring pattern on the substrate side.

【0015】[0015]

【実施例】(第1の実施例) 図1は、本発明の第1の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの斜視図である。本第1の実施例のCOB化
モリモジュールが従来のメモリモジュールと異なる点
は、ベアなメモリチップであるベアチップをガラエポ基
板1に接着して、ボンデングワイヤによってガラエポ基
板1の配線パターンと接続し、ベアチップをエポキシ封
止樹脂によって気密封止してCOB化メモリモジュール
としたことである。
EXAMPLES (First Embodiment) FIG. 1 is a perspective view of the COB memories model <br/> module showing a first embodiment of the present invention. COB of main of the first embodiment
The difference between the memory module and the conventional memory module is that the bare chip, which is a bare memory chip, is adhered to the glass epoxy substrate 1 and is connected to the wiring pattern of the glass epoxy substrate 1 by the bonding wire, and the bare chip is sealed by the epoxy sealing resin. That is, it is a tightly sealed COB memory module.

【0016】即ち、図1のCOB化メモリモジュールで
は、ガラエポ基板1上にダム枠2が接合されている。ダ
ム枠2は、モジュールの実装密度を高くし、モジュール
の曲げ強度を確保しつつ外形寸法(厚み寸法)を一定値
に保つためのものである。ダム枠2のI/O端子方向以
外の3方向のいずれかに、基板積層時の保持部7a,7
bを形成している。保持部7a,7bは、基板製造の容
易化とモジュールの曲げ強度の向上を計るためのもので
ある。
That is, in the COB memory module of FIG. 1, the dam frame 2 is bonded onto the glass epoxy substrate 1. The dam frame 2 is for increasing the mounting density of the modules and ensuring the bending strength of the modules while keeping the outer dimension (thickness dimension) at a constant value. The holding portions 7a, 7 when the substrates are stacked in any of three directions other than the I / O terminal direction of the dam frame 2
b is formed. The holding portions 7a and 7b are for facilitating the manufacture of the substrate and improving the bending strength of the module.

【0017】図2は、図1中のA−A断面図である。図
2に示すように、ダム枠2内のガラエポ基板1上にはベ
アチップ3a〜3dを搭載するために複数の凹部が設け
られている。この凹部の深さは、ここに搭載するベアチ
ップ3a〜3dの厚みと同じか、もしくは100μm程
度深くしている。各凹部内面には、電気的に独立した金
属膜である銅箔6が全面に形成されている。銅の比熱は
ガラエポ基板1のそれよりも小さいので、銅箔6により
ベアチップ3a〜3dが動作時に発生する熱による熱抵
抗が減少し、放熱性が向上する。
FIG. 2 is a sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIG. 2, a plurality of recesses are provided on the glass epoxy substrate 1 in the dam frame 2 for mounting the bare chips 3a to 3d. The depth of the recess is the same as the thickness of the bare chips 3a to 3d mounted therein, or deeper by about 100 μm. A copper foil 6, which is an electrically independent metal film, is formed on the entire inner surface of each recess. Since the specific heat of copper is smaller than that of the glass epoxy substrate 1, the copper foil 6 reduces the thermal resistance due to the heat generated during the operation of the bare chips 3a to 3d and improves the heat dissipation.

【0018】凹部内には、ベアチップ3a〜3d(例え
ば、各容量が1Mで、合計4Mのメモリ用チップ)が、
その長手方向がガラエポ基板1の長手方向に対して垂直
な方向に接着層であるエポキシ接着剤によって固定され
ている。
In the recess, bare chips 3a to 3d (for example, memory chips each having a capacity of 1M and a total of 4M) are formed.
The longitudinal direction is fixed in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the glass epoxy substrate 1 by an epoxy adhesive which is an adhesive layer.

【0019】ベアチップ3a〜3dの各パッドはボンデ
ィングワイヤ4によって、ガラエポ基板1上に形成され
た配線パターンに接続されている。配線パターンは、ガ
ラエポ基板1の長手方向の端部に設けられたI/O端子
9に電気的に接続されている。外部からのCASライ
ン、RASライン、アドレスライン等がI/O端子9に
接続される。そして、I/O端子9が配線パターン及び
ボディグワイヤ4を通してベアチップ3a〜3dのCA
S端子、RAS端子、アドレス端子などに接続される。
これによって、外部からベアチップ3a〜3dに対して
アクセスが可能となる。
Each pad of the bare chips 3a to 3d is connected by a bonding wire 4 to a wiring pattern formed on the glass epoxy substrate 1. The wiring pattern is electrically connected to the I / O terminal 9 provided at the end portion in the longitudinal direction of the glass epoxy substrate 1. External CAS lines, RAS lines, address lines, etc. are connected to the I / O terminal 9. Then, the I / O terminals 9 pass through the wiring pattern and the body wire 4 and CA of the bare chips 3a to 3d.
It is connected to the S terminal, the RAS terminal, the address terminal, and the like.
As a result, the bare chips 3a to 3d can be accessed from the outside.

【0020】また、ガラエポ基板1の凹部の深さをベア
チップ3a〜3dの厚みと同じ、もしくは深くしている
ので、ベアチップ3c,3eを重ねられる構造となって
いる。これは、後述する中間検査において、ベアチップ
3cが不良チップであることが検出された時に、不良ベ
アチップ3cの上に補充良品ベアチップ3eを搭載し
て、再ワイヤボンディングを行い、補充良品ベアチップ
3eが不良ベアチップ3cの機能代替をするようにして
いる。
Further, since the depth of the concave portion of the glass epoxy substrate 1 is made equal to or deeper than the thickness of the bare chips 3a to 3d, the bare chips 3c and 3e can be stacked. This is because when a bare chip 3c is detected to be a defective chip in an intermediate inspection to be described later, a defective non-defective bare chip 3e is mounted on the defective bare chip 3c and re-wire bonding is performed, and the defective non-defective bare chip 3e is defective. The function of the bare chip 3c is replaced.

【0021】ベアチップ3a〜3eは、エポキシ封止樹
脂5で気密封止されている。エポキシ封止樹脂5は、α
線によるベアチップ3a〜3eのビットエラーの発生及
びベアチップ3a〜3eの光電効果による誤動作を防ぐ
ために放射性同位元素含有率0.1ppb以下の黒色樹
脂を使用している。ガラエポ基板1には、さらにノイズ
マージン向上のために、複数個のデカップリング用コン
デンサ8が半田付けによって実装されている。
The bare chips 3a to 3e are hermetically sealed with an epoxy sealing resin 5. The epoxy sealing resin 5 is α
A black resin having a radioisotope content of 0.1 ppb or less is used in order to prevent occurrence of bit errors of the bare chips 3a to 3e due to lines and malfunction of the bare chips 3a to 3e due to photoelectric effect. A plurality of decoupling capacitors 8 are mounted on the glass epoxy substrate 1 by soldering in order to further improve the noise margin.

【0022】以上説明したように、本第1の実施例によ
れば、以下利点がある。 (a)プラスティク封止されたメモリICを片面に実装
した場合の従来のメモリモジュールの総厚約4.8mm
に対して、COB化技術を適用した本第1の実施例の場
合、約1.9mmと従来に比べて2/5の薄型化される
という利点がある。また、重量にても同様に従来のメモ
リモジュールが17.5gであったのに対して、本第1
の実施例のCOB化メモリモジュールが11.5gとな
り、従来比2/3に軽量化されるという利点がある。
[0022] As described above, according to the first embodiment has the following advantages. (A) The total thickness of the conventional memory module when the plastic-encapsulated memory IC is mounted on one side is about 4.8 mm.
On the other hand, in the case of the first embodiment to which the COB technology is applied, there is an advantage that the thickness is about 1.9 mm, which is 2/5 thinner than the conventional one. Similarly, in terms of weight, the conventional memory module weighs 17.5 g, while the first
The COB memory module of the above embodiment has an advantage of being 11.5 g, which is 2/3 lighter than the conventional one.

【0023】(b)ベアチップ3a〜3dを搭載するガ
ラエポ基板1凹部を設け、ベアチップ3a〜3dのボ
ンディングパット面とガラエポ基板1のポンディグパッ
ドを同一面もしくはベアチップ側を100μm程度下げ
ることにより、不良ベアチップ発見時の改修方法として
不良ベアチップ3cの上部に補充良品ベアチップ3eを
2段重ねし再ワイヤボンディングが可能となる。ボンデ
ィングワイヤ4のワイヤ長は量産性を考慮した場合、高
低差の4倍以上が必要であるので、エポキシ基板1に凹
部を設けない場合は、2倍のチップ厚を想定して実装設
計しなければならず、小型化・薄型化の妨げとなるが、
本第1の実施例では、凹部を設けたので小型化・薄型化
が容易に実現可能となる。
(B) A recess is formed in the glass epoxy substrate 1 on which the bare chips 3a to 3d are mounted, and the bonding pad surfaces of the bare chips 3a to 3d and the ponding pad of the glass epoxy substrate 1 are lowered on the same surface or the bare chip side by about 100 μm. As a method of repairing when a defective bare chip is found, replenishment good bare chips 3e are stacked in two stages on top of the defective bare chip 3c and re-wire bonding becomes possible. In consideration of mass productivity, the wire length of the bonding wire 4 needs to be 4 times or more of the height difference. Therefore, when the epoxy substrate 1 is not provided with a recess, the mounting design should be performed assuming a doubled chip thickness. This hinders downsizing and thinning, but
In the first embodiment, since the concave portion is provided, downsizing and thinning can be easily realized.

【0024】(c)凹部内面全面に銅箔6を設けた事に
より、熱抵抗が減少し放熱効果が向上する。
(C) By providing the copper foil 6 on the entire inner surface of the recess, the thermal resistance is reduced and the heat dissipation effect is improved.

【0025】(d)チップ長辺方向とCOB化メモリ
ジュール長辺方向を直交させた実装とすることにより、
モジュールに加わる応力がベアチップ3a〜3eに加わ
るのを最小にして、モジュールの反り耐量を向上させる
ことができる。
The (d) The by chip long side and COB memories Mo <br/> was perpendicular Joule long side direction mounting,
It is possible to improve the warp resistance of the module by minimizing the stress applied to the module on the bare chips 3a to 3e.

【0026】(図1のCOB化メモリモジュールの製造
方法)図3は、図1のCOB化メモリモジュールの製造
方法を示す製造工程フローの図である。以下、図3を参
照しつつ、図1のCOB化メモリモジュールの製造方法
を説明する。
[0026] Figure 3 (method for manufacturing a COB of the memory module of FIG. 1) is a diagram of a manufacturing process flow illustrating a method of manufacturing COB of the memory module of FIG. Hereinafter, a method of manufacturing the COB memory module of FIG. 1 will be described with reference to FIG.

【0027】まず、凹部となる部分のガラエポ基板を型
抜きする。凹部は搭載するベアチップの厚みよりも深く
するためにガラエポ基板の厚みをベアチップの厚みより
も厚くする。そして、型抜きしたガラエポ基板と表面に
銅箔を形成したもう一枚のガラエポ基板とを加熱プレス
により積層する(これを以下「多層基板の積層工法」と
いう。)。次に、表層にワイヤボンディグ用のソフト金
めっきの配線パターンやI/O端子9などを形成する。
その後、型抜きしたガラエポ基板1を多層基板の積層工
法によりダム枠2をガラエポ基板1に接合する。
First, the glass epoxy substrate of the concave portion is die-cut. In order to make the recess deeper than the thickness of the bare chip to be mounted, the glass epoxy substrate is made thicker than the bare chip. Then, the die-cut glass epoxy substrate and another glass epoxy substrate having a copper foil formed on the surface are laminated by a hot press ( hereinafter referred to as "multilayer substrate lamination method").
Say. ). Next, a wiring pattern of soft gold plating for wire bonding, an I / O terminal 9 and the like are formed on the surface layer.
Then, the die-cut glass epoxy substrate 1 is bonded to the glass epoxy substrate 1 by the method of laminating a multilayer substrate.

【0028】次に、図3中のステップS1において、ガ
ラエポ基板1の凹部表面に接着剤を塗布する。ステップ
S2において、接着剤を塗布したガラエポ基板1の凹部
にベアチップ3a〜3dを搭載する。ステップS3にお
いて、接着剤を熱硬化する。ステップS4において、各
ベアチップ3a〜3dのパッドとガラエポ基板1の配線
パターンとをボンディングワイヤ4により接続する。ス
テップS5において、ベアチップ3a〜3dの電気的接
続チェック、実動作タイミングチェック、高温動作チェ
ックを実施して、製造工程の初期段階で不良ベアチップ
(例えば、3c)を検出する。
Next, in step S1 in FIG. 3, an adhesive is applied to the concave surface of the glass epoxy substrate 1. In step S2, bare chips 3a to 3d are mounted in the recesses of the glass epoxy substrate 1 coated with the adhesive. In step S3, the adhesive is thermoset. In step S4, the pads of the bare chips 3a to 3d and the wiring pattern of the glass epoxy substrate 1 are connected by the bonding wires 4. In step S5, the electrical connection check, the actual operation timing check, and the high temperature operation check of the bare chips 3a to 3d are performed to detect a defective bare chip (for example, 3c) in the initial stage of the manufacturing process.

【0029】図4は、ベアチップの検査装置の主要部の
断面図である。以下、図4を参照しつつ、ステップS5
におけるベアチップ3a〜3dの中間検査を詳細に説明
する。
FIG. 4 is a sectional view of the main part of the bare chip inspection apparatus. Hereinafter, referring to FIG. 4, step S5
The intermediate inspection of the bare chips 3a to 3d will be described in detail.

【0030】ステップS1〜S4の工程を経たテストモ
ジュール50は、加熱ヒータ54上のテフロン絶縁板5
5上に載置される。テストモジュール50は、そのベア
チップ3a〜3dのソフトエラーなどを防止するための
遮光板51によって覆われている。テストモジュール5
0のI/O端子9は、テストプローブピン52a,52
bに接触している。テストプローブピン52a、52b
はテスタに接続されている。
After the steps S1 to S4, the test module 50 has the Teflon insulating plate 5 on the heater 54.
5 is mounted. The test module 50 is covered with a light shielding plate 51 for preventing soft errors of the bare chips 3a to 3d. Test module 5
0 I / O terminal 9 has test probe pins 52a, 52
touching b. Test probe pins 52a, 52b
Is connected to the tester.

【0031】まず、加熱ヒータ54によりテストモジュ
ール50を70゜Cの温度に加熱する。そして、テスト
プローブピン52a,52bよりI/O端子9に所定の
電圧を印加して、テスタによって機能検査、電気特性検
査などを行い、不良ベアチップを検出する。不良ベアチ
ップがなければ、ステップS6に進み、不良ベアチップ
(例えば、3c)があれば、ステップS11に進む。
First, the heater 54 heats the test module 50 to a temperature of 70 ° C. Then, a predetermined voltage is applied to the I / O terminal 9 from the test probe pins 52a and 52b, and a functional test, an electrical characteristic test, and the like are performed by a tester to detect a defective bare chip. If there is no defective bare chip, the process proceeds to step S6. If there is a defective bare chip (for example, 3c), the process proceeds to step S11.

【0032】ステップS6において、ベアチップ3a〜
3dをチクソ性の無い黒色樹脂のエポキシ封止樹脂5に
より気密封止する。ステップS7において、ガラエポ基
板1の反り量を測定し、その反り量と同量だけ逆方向に
反り返す様に治具にセットし、エポキシ封止樹脂5のガ
ラス転移温度を越える150゜Cにて10分以上加熱
後、常温にて冷却し、エポキシ封止樹脂5の硬化収縮応
力とガラエポ基板1の反りとを均衡させて反りを修正す
る。尚、逆反り量はエポキシ封止樹脂重量に比例させて
増加させる。
At step S6, bare chips 3a ...
3d is hermetically sealed with an epoxy sealing resin 5 which is a black resin having no thixotropy. In step S7, the amount of warpage of the glass epoxy substrate 1 is measured and set in a jig so as to be warped in the opposite direction by the same amount as the amount of warpage, and at 150 ° C which exceeds the glass transition temperature of the epoxy sealing resin 5. After heating for 10 minutes or more, it is cooled at room temperature to balance the curing shrinkage stress of the epoxy sealing resin 5 and the warp of the glass epoxy substrate 1 to correct the warp. The amount of reverse warp is increased in proportion to the weight of the epoxy sealing resin.

【0033】ステップS8において、デカップリング用
コンデンサ8を非塩素系フラックス入り半田を用いて半
田付け実装(SMT:サーフェスマウントテクノロジ
ー)を行う。ステップS9において、完成検査を行う。
完成検査の結果、フェイルであればCOB化メモリモジ
ュールを廃棄し、パスであれば、COB化メモリモジュ
ールの完成とする。
In step S8, the decoupling capacitor 8 is solder-mounted (SMT: surface mount technology) using a chlorine-containing flux-containing solder. In step S9, a completion inspection is performed.
Results of the completed test, discard the COB memories modular <br/> Yuru if fail, if the path to the completion of the COB memories module <br/> Lumpur.

【0034】ステップS5における中間検査によって不
良ベアチップ(例えば、3c)が見つかれば、ステップ
S11において、その不良ベアチップ3cのボンディン
グワイヤ4、及び不良ベアチップ3cのパッド上の金ボ
ールを除去して、不良ベアチップ表面の平坦度を50μ
m以下にする。ステップS12において、不良ベアチッ
プ3c上に再び接着剤を塗布する。ステップS13にお
いて、代替ベアチップ3eを搭載する。
If a defective bare chip (for example, 3c) is found by the intermediate inspection in step S5, in step S11, the bonding wire 4 of the defective bare chip 3c and the gold ball on the pad of the defective bare chip 3c are removed to obtain the defective bare chip. Surface flatness of 50μ
m or less. In step S12, the adhesive is applied again on the defective bare chip 3c. In step S13, the alternative bare chip 3e is mounted.

【0035】ステップS13において、接着剤を熱硬化
する。ステップS14において、代替ベアチップ3eに
対して再ワイヤボンディングする。その後、ステップS
5の中間検査に進み、その検査結果に応じて、ステップ
S6〜S8またはステップS11〜S15を繰り返して
行う。
In step S13, the adhesive is thermoset. In step S14, re-wire bonding is performed on the alternative bare chip 3e. After that, step S
The process proceeds to the intermediate inspection of No. 5, and steps S6 to S8 or steps S11 to S15 are repeated according to the inspection result.

【0036】以上説明したように、本実施例では、以下
の利点がある。 (a)凹部の形成は貫通孔であるスルーホールの製法を
応用しているので、従来技術の座ぐり加工によるものよ
り凹部下面の平坦度・平行度の向上、コスト抑制の利点
がある。
As described above, this embodiment has the following advantages. (A) Since the method of forming a through hole, which is a through hole, is applied to the formation of the recess, there are advantages of improving the flatness and parallelism of the bottom surface of the recess and suppressing the cost, as compared with the conventional technique of spot facing.

【0037】(b)非塩素系フラックス入り半田を使用
したので、COB化メモリモジュール全体の洗浄が不要
となる。
(B) Since the chlorine-free flux-containing solder is used, it is not necessary to clean the entire COB memory module.

【0038】(第2の実施例) 図5は、本発明の第2の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの斜視図であり、図6は図5中のB−B断面図
である。
[0038] (Second Embodiment) FIG. 5 is a perspective view of the COB memories model <br/> module showing a second embodiment of the present invention, B-B cross section in FIG. 6 5 It is a figure.

【0039】このCOB化メモリモジュールは、第1の
COB化メモリモジュールであるメインメモリモジュー
ルと、第2のCOB化メモリモジュールであるサブメモ
モジュールとが重ね合わされた構造をしている。メイ
メモリモジュールは図1のCOB化メモリモジュール
とほぼ同様の構造をしており、第1のガラエポ基板11
1上に第1のダム枠112、第1のベアチップ113、
第1のエポキシ封止樹脂115、第1のデカップリング
用コンデンサ、I/O端子119などで構成されてい
る。第1のガラエポ基板111上の第1の配線パターン
と第1のベアチップ113のパッドは第1のボンディン
グワイヤ114によって電気的に接続されている。
[0039] The COB of memory modules, a main memory module <br/> Le a first COB of memory modules, sub-note is a second COB of memory modules
And the re module is a superimposed structure. The main memory module has a substantially similar structure as the COB of the memory module of FIG. 1, the first glass epoxy substrate 11
The first dam frame 112, the first bare chip 113,
It is composed of a first epoxy sealing resin 115, a first decoupling capacitor, an I / O terminal 119 and the like. The first wiring pattern on the first glass epoxy substrate 111 and the pad of the first bare chip 113 are electrically connected by the first bonding wire 114.

【0040】また、サブメモリモジュールも、図1のC
OB化メモリモジュールと同様の構造をしており、第2
のガラエポ基板131上に第2のダム枠132、第2の
ベアチップ133、第2のエポキシ封止樹脂135、第
2のデカップリング用コンデンサ138などで構成され
ている。第2のガラエポ基板131上の第2の配線パタ
ーンと第2のベアチップ133のパッドは、第2のボン
ディングワイヤ134によって電気的に接続されてい
る。サブメモリモジュールは、メインメモリモジュール
のI/O端子119を共用するために、サブメモリモジ
ュールにはI/O端子は設けられていない。
The sub- memory module is also C in FIG.
It has the same structure as the OB memory module.
On the glass epoxy substrate 131, the second dam frame 132, the second bare chip 133, the second epoxy sealing resin 135, the second decoupling capacitor 138 and the like are formed. The second wiring pattern on the second glass epoxy substrate 131 and the pad of the second bare chip 133 are electrically connected by the second bonding wire 134. Sub-memory module, in order to share I / O pins 119 of the main memory module, the sub-memory Mogi <br/> Yuru I / O pins is not provided.

【0041】ガラエポ基板111の左右の端部に位置出
し用基準穴121a,121bがそれぞれ開けられてい
る。ガラエポ基板131の左右の端部にも位置出し用基
準穴141a,141bがそれぞれ開けられている。そ
して、位置出し用基準穴121aと141a、及び位置
出し用基準穴121bと141bとが一致するようにガ
ラエポ基板111と131が重ねられている。
Positioning reference holes 121a and 121b are formed in the left and right ends of the glass epoxy substrate 111, respectively. Positioning reference holes 141a and 141b are also formed in the left and right ends of the glass epoxy substrate 131, respectively. Then, the glass epoxy substrates 111 and 131 are stacked so that the positioning reference holes 121a and 141a and the positioning reference holes 121b and 141b are aligned with each other.

【0042】図6に示すように、メインメモリモジュー
ルのガラエポ基板111のI/O端子119には、第1
の貫通孔であるスルーホール122が開けられている。
また、I/O端子119上のサブメモリモジュールのガ
ラエポ基板131にも、第2の貫通孔であるスルーホー
ル142が開けられている。スルーホール122,14
2には、サブメモリモジュール側上から接続ピン151
が圧入され、メインメモリモジュールとサブメモリモジ
ュールとが電気的・機械的に接続される。接続ピン15
1は、ガラエポ基板111,131との接触部において
突起部153,152を有している。
As shown in FIG. 6, the first I / O terminal 119 of the glass epoxy board 111 of the main memory module is connected to the first memory module.
A through hole 122, which is a through hole, is opened.
Further, the glass epoxy substrate 131 of the sub memory module on the I / O terminal 119 is also provided with a through hole 142 which is a second through hole. Through holes 122, 14
2, the connection pins 151 from the sub memory module side
There is pressed, a main memory module and the sub-memory modular <br/> Yuru is electrically and mechanically connected. Connection pin 15
1 has projections 153 and 152 at the contact portions with the glass epoxy substrates 111 and 131.

【0043】突起部152,153の寸法は、それぞれ
接続ピン151の径の120%、110%と段階的に差
をつけている。スルーホール142,122の孔径も、
接続ピン151の突起部152,153のそれぞれの寸
法に適合する様に、それぞれピン径の113%、112
%と差をつけている。その接続強度は、1Kgf/ピン
以上の確保と安定性とを保持している。
The dimensions of the protrusions 152 and 153 are stepwise different from each other by 120% and 110% of the diameter of the connecting pin 151. The hole diameters of the through holes 142 and 122 are also
113% of the pin diameter, 112%, respectively
It is different from%. The connection strength is secured at 1 Kgf / pin or more and stability is maintained.

【0044】ガラエポ基板111,131の凹部には、
ベアチップ113,133が搭載されている。例えば、
メインメモリモジュールで0.5Mの容量の4ビット構
成のメモリ用チップが8個(合計4Mの容量の32ビッ
ト構成)搭載されており、サブメモリモジュールにも同
様に合計4Mの容量の32ビット構成となっている。メ
インメモリモジュールのガラエポ基板111には、I/
O端子119が設けられており、このI/O端子119
にコネクタなどが接続される。
In the recesses of the glass epoxy substrates 111 and 131,
Bare chips 113 and 133 are mounted. For example,
The main memory module is equipped with eight memory chips each having a 4-bit capacity of 0.5M (32-bit structure having a total capacity of 4M), and the sub- memory module similarly has a 32-bit structure having a total capacity of 4M. Has become. On the glass epoxy board 111 of the main memory module, I /
An O terminal 119 is provided, and this I / O terminal 119
Connector is connected to.

【0045】サブメモリモジュールにはI/O端子が設
けられておらず、外部との接続はI/O端子119によ
って行う。そのため、接続ピン151がI/O端子11
9とサブメモリモジュールとを電気的に接続する。I/
O端子119にはピン番号が規定されており、このI/
O端子119にデータライン、アドレスライン、CAS
ライン、RASラインなどが接続される。メインメモリ
モジュールとサブメモリモジュールとは、データライ
ン、アドレスライン、及びCASラインを共用し、RA
Sラインのみをそれぞれ別々に設けている。
The sub memory module is not provided with an I / O terminal and is connected to the outside by the I / O terminal 119. Therefore, the connection pin 151 has the I / O terminal 11
9 and the sub memory module are electrically connected. I /
A pin number is specified for the O terminal 119.
Data line, address line, and CAS at O terminal 119
Line, RAS line, etc. are connected. The main memory module and the sub memory module share the data line, the address line, and the CAS line, and
Only the S line is provided separately.

【0046】接続ピン151は、メインメモリモジュー
ル及びサブメモリモジュールの配線パターン及びボンデ
ィングワイヤ114,134によってベアチップ11
3,133のアドレス端子などに電気的に接続される。
これにより、外部よりメインメモリモジュールとサブ
モリモジュールのベアチップ113,133に対してア
クセス可能となる。
The connection pins 151 are connected to the bare chip 11 by the wiring patterns of the main memory module and the sub memory module and the bonding wires 114 and 134.
3, 133 are electrically connected to address terminals and the like.
Thus, main memory modules and sub-menu from the external
It becomes accessible to the bare chip 113 and 133 of the memory module.

【0047】このように、メインメモリモジュールとサ
メモリモジュールとの配線パターンの違いは、RAS
ラインの配線パターンのみであり、この部分の配線パタ
ーンを変更したガラエポ基板111,131を作り、2
段重ねにして接続ピン151で接続することにより、2
倍(例えば、4Mメモリモジュールが2つで8Mのメモ
リモジュールとなる)のメモリモジュールの容量とな
る。
As described above, the difference in the wiring pattern between the main memory module and the sub memory module is that the RAS is different.
Only the wiring pattern of the line is made, and the glass epoxy substrates 111 and 131 in which the wiring pattern of this part is changed are made, and 2
By stacking and connecting with connecting pin 151, 2
Times (e.g., 4M memory module is a memory module 2 Tsude 8M) becomes the capacity of the memory modules.

【0048】以上説明したように、本第2の実施例では
以下の利点がある。 (a)第1の実施例のメモリモジュールをメインメモリ
モジュールとし、小型及び若干の配線パターンの変更を
したメモリモジュールをサブメモリモジュールとするこ
とで、2倍以上の容量のCOB化メモリモジュールを低
コストで製作できる。
As described above, the second embodiment has the following advantages. (A) a memory module of the first embodiment as the main memory <br/> module, COB of small and memory modules to change slightly the wiring patterns by a sub memory modules, more than double the capacity The memory module can be manufactured at low cost.

【0049】(b)従来のプラスティック封止品のワイ
ヤボンディング・モールドといったアッセンブリコスト
がCOB化メモリモジュールでは含まれておらず、封止
メモリモジュール一括で行うため、従来品に比較して
製造コストを20%以上低減することができる。
(B) The assembly cost such as wire bonding / molding of the conventional plastic-sealed product is not included in the COB memory module, and the encapsulation is performed by the memory module collectively. Therefore, the manufacturing cost is higher than that of the conventional product. Can be reduced by 20% or more.

【0050】(c)プラスティック封止されたメモリI
Cを搭載する従来のメモリモジュールでは、搭載ICメ
モリは良品であるということを前提に製造工程が組まれ
ており、メモリモジュールの完成検査歩留まりも良好で
ある。これに対して、COB化メモリモジュールでは、
不良ベアチップがある事を前提に製造工程を組むことが
重要であり、中間検査工程でモジュールに要求される検
査を実施し、そこで発見された不良ベアチップを簡便に
改修できる本実施例の実装構造と製造方法によって、C
OB化メモリモジュールを低コストで実現できる。
(C) Plastic-encapsulated memory I
In the conventional memory module in which C is mounted, the manufacturing process is assembled on the assumption that the mounted IC memory is a good product, and the completion inspection yield of the memory module is also good. On the other hand, in the COB memory module,
It is important to set up the manufacturing process on the assumption that there is a defective bare chip, and the mounting structure of this embodiment can perform the inspection required for the module in the intermediate inspection process and easily repair the defective bare chip found there. Depending on the manufacturing method, C
The OB memory module can be realized at low cost.

【0051】(図5のCOB化メモリモジュールの製造
方法) 図7は、図5のCOB化メモリモジュールの製造方法を
示す製造工程フローの図である。以下、図7を参照しつ
つ、図5のCOB化メモリモジュールの製造方法を説明
する。
[0051] (Manufacturing method of COB of the memory module of FIG. 5) FIG. 7 is a diagram of a manufacturing process flow illustrating a method of manufacturing COB of the memory module of FIG. Hereinafter, a method of manufacturing the COB memory module of FIG. 5 will be described with reference to FIG. 7.

【0052】まず、図3のステップS1〜S15の工程
により経て完成検査でパスしたメインメモリモジュール
の良品とサブメモリモジュールの良品とを用意する。た
だし、図3のステップS1の前工程においてメインメモ
モジュールとサブメモリモジュールのガラエポ基板1
11,131に位置出し用基準穴121a,121b,
141a,141b及びスルーホール122,142を
開けておく。
First, a good product of the main memory module and a good product of the sub memory module that have passed the completion inspection through the steps S1 to S15 of FIG. 3 are prepared. However, the main memo in the previous process of step S1 of FIG.
Glass-epoxy board 1 for re- module and sub- memory module
Reference holes 121a, 121b for positioning in 11, 131,
141a, 141b and through holes 122, 142 are opened.

【0053】ステップS21において、メインメモリ
ジュールの位置出し用基準穴121a,121bとサブ
メモリモジュールの位置出し用基準穴141a,141
bとを上下に重ね合わせた後、両モジュールのスルーホ
ール122,142に接続ピン151を上から圧入し
て、両モジュール間の電気的・機械的な接続を行う。ス
テップS22において、完成検査を行う。完成検査の結
果、フェイルであれば廃棄し、パスであれば完成メモリ
モジュールとする。
In step S21, the reference holes 121a and 121b for positioning the main memory module and the sub holes
Reference holes 141a, 141 for positioning the memory module
After vertically overlapping with b, the connection pin 151 is press-fitted into the through holes 122 and 142 of both modules from above to perform electrical / mechanical connection between both modules. In step S22, a completion inspection is performed. If the result of the completion inspection is failure, it is discarded, and if it is a pass, it is regarded as a completed memory module.

【0054】以上説明したように、本実施例では、非塩
素系フラックス入り半田を使用し、接続ビン151を圧
入接続したので、COB化メモリモジュール全体の洗浄
が不要となる。
As described above, in this embodiment, since the chlorine-free flux-containing solder is used and the connection bin 151 is press-fitted and connected, it is not necessary to wash the entire COB memory module.

【0055】(第3の実施例) 図8は、本発明の第3の実施例のCOB化メモリモジュ
ールの断面図である。本第3の実施例のCOB化メモリ
モジュールでは、凹部の深さを、搭載するベアチップ厚
の2〜3倍として、この凹部の底面(B面)に配線パタ
ーンを形成したガラエポ基板201を用いている。ガラ
エポ基板201の凹部には、ベアチップ203をエポキ
シ接着剤によって固定し、ボンディングワイヤ204に
よりベアチップ203と配線パターンとを電気的に接続
している。ベアチップ203は、エポキシ封止樹脂20
5により、該エポキシ封止樹脂205の表面がガラエポ
基板201の上面(A面)より突出しない様に封止され
ている。
(Third Embodiment) FIG. 8 is a sectional view of a COB type memory module according to a third embodiment of the present invention. In the COB memory module of the third embodiment, the glass epoxy substrate in which a wiring pattern is formed on the bottom surface (B surface) of the recess, with the depth of the recess being 2-3 times the thickness of the bare chip to be mounted. 201 is used. The bare chip 203 is fixed to the concave portion of the glass epoxy substrate 201 with an epoxy adhesive, and the bare chip 203 and the wiring pattern are electrically connected by the bonding wire 204. The bare chip 203 is made of the epoxy sealing resin 20.
5, the surface of the epoxy sealing resin 205 is sealed so as not to project from the upper surface (A surface) of the glass epoxy substrate 201.

【0056】ガラエポ基板201のA面にも、配線パタ
ーンが形成されている。A面に搭載されたプラスティッ
ク封止されたメモリIC206のリードと、表面のラン
ド(配線パターン)とが半田付けによって接続されてい
る。ベアチップ203のパッドと配線パターンとのボン
ディグワイヤ204による接続、及びメモリIC206
のリードと配線パターンとの半田付けによる接続によっ
て、これらのベアチップ203とメモリIC206が電
気的に接続される。
A wiring pattern is also formed on the surface A of the glass epoxy substrate 201. The leads of the plastic-encapsulated memory IC 206 mounted on the surface A and the land (wiring pattern) on the surface are connected by soldering. Connection between the pad of the bare chip 203 and the wiring pattern by the bonding wire 204, and the memory IC 206
The bare chip 203 and the memory IC 206 are electrically connected to each other by soldering the leads and the wiring pattern.

【0057】ベアチップ203とメモリIC206は、
実装上の狙いなどに応じてどのようなタイプのものも使
用することができる。A面の配線パターンとB面の配線
パターンを変更するだけでよい。例えば、アドレスライ
ン、RASライン、CASライン、WEラインなどのコ
ントロールラインは、ベアチップ203とメモリIC2
06で共用して、データラインのみを別にすることもで
きる。
The bare chip 203 and the memory IC 206 are
Any type can be used depending on the purpose of implementation. It is only necessary to change the wiring pattern on the A side and the wiring pattern on the B side. For example, the control lines such as the address line, the RAS line, the CAS line, and the WE line are the bare chip 203 and the memory IC 2
It is also possible to share it with 06 and separate only the data line.

【0058】さらに、1M×36(4Mb)の構成でビ
ット0〜31はガラエポ基板201に搭載されたベアチ
ップ203で構成し、ビット32〜35のパリティビッ
トが必要な場合はメモリIC206を使用することがで
きる。これにより、同一のガラエポ基板201で後加工
により別のタイプのメモリモジュールに変更することが
できる。
Further, in a 1M × 36 (4Mb) configuration, bits 0 to 31 are configured by bare chips 203 mounted on the glass epoxy substrate 201, and memory IC 206 is used when parity bits of bits 32 to 35 are required. You can Accordingly, the same glass epoxy substrate 201 can be changed to another type of memory module by post-processing.

【0059】以上説明したように、本第3の実施例によ
れば、以下の利点がある。 (a)ベアチップ203を凹部に埋め込む構造とした事
により、基板表面にエポキシ封止樹脂205などの凸部
が無いために表面実装部品の搭載が可能となり、同一基
板寸法でプラスティック封止のメモリIC206を実装
することにより、2倍のメモリ容量が実現できる。
As described above, the third embodiment has the following advantages. (A) By adopting a structure in which the bare chip 203 is embedded in the concave portion, surface mounting components can be mounted because there is no convex portion such as the epoxy sealing resin 205 on the substrate surface, and the memory IC 206 of the same substrate size is plastic-sealed. By implementing, it is possible to realize double the memory capacity.

【0060】(b)パリティビットを表面実装のメモリ
IC206で分担することにより、同一基板サイズでパ
リティビットを追加できる。
(B) By sharing the parity bit with the surface-mounted memory IC 206, the parity bit can be added with the same substrate size.

【0061】(第4の実施例) 図9は、本発明の第4の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの断面図である。このCOB化メモリモジュー
ルでは、ガラエポ基板211の上面(A面)及び下面
(C面)に、ベアチップ厚の2〜3倍の深さの凹部が設
けられている。A面とB面の凹部の表面には、配線パタ
ーンが形成されている。A面とB面の凹部にベアチップ
213a,213bがエポキシ接着剤によって固定さ
れ、ボンディングワイヤ214a,214bにより、ベ
アチップ213a,213bと配線パターンとが電気的
に接続されている。
[0061] (Fourth Embodiment) FIG. 9 is a cross-sectional view of the COB memories model <br/> module showing a fourth embodiment of the present invention. In this COB memory module, recesses having a depth of 2 to 3 times the bare chip thickness are provided on the upper surface (A surface) and the lower surface (C surface) of the glass epoxy substrate 211. Wiring patterns are formed on the surfaces of the concave portions on the A surface and the B surface. Bare chips 213a and 213b are fixed in the recesses on the A and B sides with an epoxy adhesive, and the bare chips 213a and 213b and the wiring pattern are electrically connected by bonding wires 214a and 214b.

【0062】エポキシ封止樹脂215a,215bによ
り、ガラエポ基板211のA面及びB面より突出しない
様に封止されている。ガラエポ基板211のA、B面に
も配線パターンが形成されている。A、B面において、
ブラスティック封止されたメモリIC216a,216
bのリードとランド(配線パターン)とを半田付けして
接続している。
The epoxy sealing resins 215a and 215b are used to seal the glass epoxy substrate 211 so as not to project from the A and B surfaces. Wiring patterns are also formed on the A and B surfaces of the glass epoxy substrate 211. On sides A and B,
Memory ICs 216a and 216 that are plastic-sealed
The lead of b and the land (wiring pattern) are connected by soldering.

【0063】以上説明したように、本第4の実施例によ
れば、以下の利点がある。 (a)ガラエポ基板211の両面にベアチップ213
a,213b及びメモリIC216a,216bを搭載
するので、同一基板サイズで4倍のメモリ容量が実現で
きる。 (b)容量を同一にしてガラエポ基板サイズを縮小する
ことができる。
As described above, the fourth embodiment has the following advantages. (A) Bare chips 213 on both surfaces of the glass epoxy substrate 211
Since a, 213b and memory ICs 216a, 216b are mounted, a memory capacity four times larger can be realized with the same substrate size. (B) The glass epoxy substrate size can be reduced by making the capacities the same.

【0064】(第5の実施例) 図10は、本発明の第5の実施例を示すCOB化メモリ
モジュールの断面図である。本第5の実施例のCOB化
メモリモジュールでは、第4の実施例のCOB化メモリ
モジュールにおいてガラエポ基板211の上面と下面上
にはプラスティック封止されたメモリICを搭載せずに
厚みを小さくしてある。
(Fifth Embodiment) FIG. 10 is a sectional view of a COB type memory module showing a fifth embodiment of the present invention. COB conversion of the fifth embodiment
The memory module, the upper surface and the lower surface of the glass epoxy substrate 211 in the COB memories <br/> module of the fourth embodiment are reduced in thickness without mounting a memory IC that sealed plastic seal.

【0065】本第5の実施例によれば、厚み寸法を小さ
くでき、さらに第2の実施例と同様に、2枚以上のモジ
ュールを接続ピン151で圧入接続することにより、大
容量化が容易に実現できるという利点がある。
According to the fifth embodiment, it is possible to reduce the thickness dimension, and similarly to the second embodiment, by press-fitting and connecting two or more modules with the connection pins 151, it is easy to increase the capacity. There is an advantage that can be realized.

【0066】(第6の実施例)図11は、本発明の第6
の実施例を示すCOB化メモリモジュールの斜視図であ
る。図12は図11中のC−C断面図、図13は図12
の斜視図である。
(Sixth Embodiment) FIG. 11 shows a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view of a COB-ized memory module showing the embodiment of FIG. 12 is a sectional view taken along line CC in FIG. 11, and FIG. 13 is FIG.
FIG.

【0067】本第6の実施例のCOB化メモリモジュー
ルでは、2枚のメモリモジュールがそれぞれモジュール
単品で検査良品となったものであり、表裏対称構造とな
るように重ね合わせられている。
In the COB-implemented memory module of the sixth embodiment, the two memory modules are the ones that have been inspected by the individual modules, and are stacked so as to have a front-back symmetrical structure. ing.

【0068】下側のメモリモジュールは、第1のガラエ
ポ基板301及びその裏面上の部品により構成されてい
る。上側のメモリモジュールは、第2のガラエポ基板3
21及びその表面上の部品により構成されている。ガラ
エポ基板301の裏面には、第1の実施例と同様に、凹
部内に搭載され、第1のボンディングワイヤによって第
1の配線パターンに接続された第1のベアチップ、第1
のエポキシ封止樹脂、第1のI/O端子309、及び第
1のデカップリング用コンデンサなどにより構成されて
いる。
The lower memory module is composed of the first glass epoxy substrate 301 and the components on the back surface thereof. The upper memory module is the second glass epoxy substrate 3
21 and parts on its surface. On the back surface of the glass epoxy substrate 301, as in the first embodiment, the first bare chip mounted in the recess and connected to the first wiring pattern by the first bonding wire,
The epoxy sealing resin, the first I / O terminal 309, the first decoupling capacitor, and the like.

【0069】ガラエポ基板321の表面には、第1の実
施例と同様に、凹部内に搭載され、第2のボンディング
ワイヤによって第2の配線パターンに接続された第2の
ベアチップ323、第2のエポキシ封止樹脂325、第
2のI/O端子329、及び第2のデカップリング用コ
ンデンサ328などにより構成されている。
On the surface of the glass epoxy substrate 321, as in the first embodiment, the second bare chip 323 mounted in the recess and connected to the second wiring pattern by the second bonding wire, and the second bare chip 323. It is composed of an epoxy sealing resin 325, a second I / O terminal 329, a second decoupling capacitor 328, and the like.

【0070】上下のメモリモジュールを重ね合わせるた
めに、ガラエポ基板301,321の端部に基準穴33
1a,331bが開けられ、この上下の基準穴331
a,331bが一致するように2つのガラエポ基板30
1,321が重ね合わされている。
In order to overlap the upper and lower memory modules, the reference holes 33 are formed at the ends of the glass epoxy substrates 301 and 321.
1a and 331b are opened, and the upper and lower reference holes 331
two glass epoxy substrates 30 so that a and 331b are matched.
1, 321 are overlapped.

【0071】また、ガラエポ基板321の短手方向及び
長手方向の端部には、ガラエポ基板301と電気的・機
械的に接続するために、半円筒形状の端面スルーホール
332a,332b,332cが開けられている。
Further, semi-cylindrical end face through holes 332a, 332b, 332c are opened at the end portions of the glass epoxy substrate 321 in the lateral direction and the longitudinal direction in order to electrically and mechanically connect to the glass epoxy substrate 301. Has been.

【0072】端面スルーホール332a,332b,3
32c内に溶着され、外側に裾が広がった半田333a
によって、ガラエポ基板301のランド(配線パター
ン)と、ガラエポ基板321のランド(配線パターン)
とが電気的・機械的に接続されている。
End face through holes 332a, 332b, 3
Solder 333a that has been welded inside 32c and has a skirt extending outward
The land (wiring pattern) of the glass epoxy substrate 301 and the land (wiring pattern) of the glass epoxy substrate 321
And are electrically and mechanically connected.

【0073】ガラエポ基板301と321のI/O端子
309と319には、別信号が入力されるために、ガラ
エポ基板301と321に搭載されたベアチップ32
3,…を、端面スルーホール332a,332b,33
2c内の半田333a、及び配線パターンを通して電気
的に接続している。
Since different signals are input to the I / O terminals 309 and 319 of the glass epoxy boards 301 and 321, the bare chips 32 mounted on the glass epoxy boards 301 and 321 are input.
3, ... are end face through holes 332a, 332b, 33
Electrical connection is made through the solder 333a in 2c and the wiring pattern.

【0074】以上のように、本第6の実施例では、CO
B化メモリモジュールの基板厚(コネクタ部)寸法が規
定されていて厚み寸法を薄くしたい場合に有効であり、
メモリカードなどをローコストで容易に実現することが
できるという利点がある。
As described above, in the sixth embodiment, CO
This is effective when the board thickness (connector section) of the B memory module is specified and you want to reduce the thickness.
There is an advantage that a memory card or the like can be easily realized at low cost.

【0075】なお、本発明は、上記実施例に限定されず
種々の変形が可能である。その変形例としては、例えば
次のようなものがある。 (1) 図5のCOB化メモリモジュールでは、メイン
メモリモジュールのスルーホール122とサブメモリ
ジュールのスルーホール142とに、接続ピン151を
圧入して機械的に接続したが、メインメモリモジュール
のI/O端子119のスルーホール122に接続ピン1
51を圧入しておき、サブメモリモジュール側にメスソ
ケットを設けることにより、サブメモリモジュールが容
易に着脱できるようになる。これにより、サブメモリ
ジュールを取り替えることにより、メモリモジュールの
容量を容易に変更でき、エンドユーザが一度投資したメ
インメモリモジュールのコストを無駄にすることなく、
エンドユーザ自身により容易にメモリ容量を増設するこ
とができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. The following are examples of such modifications. (1) In the COB memory module of FIG.
In the through hole 122 and the sub-memory mode <br/> module of the through hole 142 of the memory module has been mechanically connected by press-fitting the connecting pin 151, the through hole 122 of the I / O terminals 119 of the main memory modules Connection pin 1
The sub memory module can be easily attached and detached by press-fitting 51 and providing a female socket on the sub memory module side. Thus, by replacing the sub-memory model <br/> module, the capacity of the memory modules can be easily changed, without wasting the cost of the main memory modules end-user investment once,
The memory capacity can be easily increased by the end user himself.

【0076】(2) 第3と第4の実施例では、メモリ
用モジュールに適用したが、基板201,211内にベ
アチップICを埋め込み表面実装部品と組み合わせる事
により、多くの応用例がある。例えば、プラスティック
封止ICをゲートアレイ、CPUなどのディジタルIC
とし、ベアチップをオペアンプ、コンパレータなどのア
ナログICとし、抵抗、コンデンサなどの面実装部品を
実装することにより、高実装密度の機能モジュールを実
現することができる。また、面実装部品をEPROM、
ベアチップをCPU、G/Aなどのカスタム回路とする
ことによりMCMなどへ適用すれば、ユーザでプログラ
ミング可能な機能モジュールとして実現することができ
る。
(2) The third and fourth embodiments are applied to the memory module, but there are many application examples by combining the bare chip ICs in the substrates 201 and 211 with the surface mount components. For example, plastic encapsulation ICs are digital ICs such as gate arrays and CPUs.
By using the bare chip as an analog IC such as an operational amplifier and a comparator and mounting surface mounting components such as resistors and capacitors, it is possible to realize a functional module with a high mounting density. In addition, surface mount parts are EPROM,
If the bare chip is applied to an MCM or the like by using a custom circuit such as a CPU or G / A, it can be realized as a user programmable function module.

【0077】(3) 実施例では、ダム枠2,…を用い
た構成を説明したが、エポキシ封止樹脂5,…にチクソ
性を有したものを用いる場合には、ダム枠2,…がなく
てもベアチップ3a,…を封止することが可能である。
(3) In the embodiment, the construction using the dam frames 2, ... Is described. However, when the epoxy sealing resin 5, .. It is possible to seal the bare chips 3a, ...

【0078】[0078]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1〜第4
の発明によれば、主表面に配線パターンと複数の凹部と
を有する基板と、その凹部の底面に形成される金属膜と
を有し、ベアなメモリチップであるベアチップを基板の
凹部底面の金属膜上に搭載して基板側の配線パターンと
接続した後、樹脂封止してCOB化メモリモジュールと
したので、小型化・薄型化を容易に実現することがで
き、コストを低減できる。しかも、凹部底面に金属膜を
形成したので、熱抵抗が減少し放熱効果が向上する。第
5〜第7の発明によれば、基板に形成された凹部に、ベ
アなメモリチップである第1と第2のベアチップを積層
し、これらの第1及び第2のベアチップを樹脂封止して
COB化メモリモジュールとしたので、小型化・薄型化
を容易に実現することができ、コストを低減できる。さ
らに、例えば、不良ベアチップ発見時の改修方法とし
て、不良ベアチップの上部に補充良品ベアチップを2段
重ねし再結線が可能となる。第8の発明によれば、基板
に凹部を形成してこの凹部の底面に金属膜を形成し、こ
の金属膜上に接着層を介してメモリチップを搭載した
後、樹脂封止するようにしたので、小型かつ薄型で放熱
効果の優れるCOB化メモリモジュールを低コストで容
易に製造できる。第9の発明によれば、凹部底面の金属
膜上に接着層を介してメモリチップを搭載し、このメモ
リチップの電気的特性検査を行い、不良と判断されたと
きには該メモリチップ上に良品のメモリチップを搭載す
るようにしたので、不良メモリチップを簡便に改修で
き、良品の製造歩留まりを向上して製造コストを低減で
きる。第10、第11の発明によれば、基板の凹部にベ
アなメモリチップであるベアチップが搭載されて樹脂封
止された第1のCOB化メモリモジュールと、基板の凹
部にベアなメモリチップであるベアチップが搭載されて
樹脂封止された第2のCOB化メモリモジュールとを重
ね合わせ、これらの第1及び第2のCOB化メモリモジ
ュールを接続ピンにより電気的に接続したので、メモリ
容量を低コストで容易に増加できる。しかも、例えば、
中間検査工程で不良ベアチップが発見されたときには、
この不良ベアチップを簡便に改修でき、良品の製造歩留
まりを向上して低コストのCOB化メモリモジュールを
実現できる。
As described above in detail, the first to the fourth
According to the invention, a wiring pattern and a plurality of recesses are formed on the main surface.
And a metal film formed on the bottom surface of the recess
And a bare chip that is a bare memory chip
Since it is mounted on the metal film on the bottom surface of the recess and connected to the wiring pattern on the substrate side, it is resin-sealed to form a COB memory module, so it is possible to easily realize miniaturization and thinning, and reduce cost. it can. Moreover, a metal film is formed on the bottom of the recess.
Since it is formed, the thermal resistance is reduced and the heat dissipation effect is improved. First
According to the fifth to seventh inventions, the concave portion formed on the substrate is
A stack of first and second bare chips, which are memory chips
Then, seal the first and second bare chips with resin.
Since it is a COB memory module, it is smaller and thinner.
Can be easily realized, and the cost can be reduced. It
In addition, for example, as a repair method when finding a defective bare chip
The defective bare chip on top of the defective bare chip in two stages
Overlapping and reconnection is possible. According to the eighth invention, a substrate
To form a recess on the bottom surface of the recess,
The memory chip was mounted on the metal film via the adhesive layer.
After that, it is sealed with resin, so it is small and thin and radiates heat.
COB memory module with excellent effect can be installed at low cost.
Easy to manufacture. According to the ninth invention, the metal on the bottom surface of the recess is
Mount the memory chip on the film via the adhesive layer,
The electrical characteristics of the rechip were inspected, and it was determined that the chip was defective.
In this case, install a good memory chip on the memory chip.
As a result, defective memory chips can be easily repaired.
To improve the manufacturing yield of non-defective products and reduce the manufacturing cost.
Wear. According to the tenth and eleventh aspects, the recess is formed in the substrate.
A bare chip, which is a memory chip, is mounted and sealed with resin.
The first COB memory module stopped and the recess of the substrate
Bare chip, which is a bare memory chip, is mounted on the
Stacked with the second COB memory module that is resin-sealed
And the first and second COB-based memory modules
Memory is connected electrically by connecting pins
Capacity can be easily increased at low cost. Moreover, for example,
When a defective bare chip is found in the intermediate inspection process,
This defective bare chip can be easily repaired and the yield of good products can be improved.
A low cost COB memory module with improved
realizable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの斜視図である。
1 is a perspective view of the COB memories model <br/> module showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1中のA−A断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA in FIG.

【図3】図1のCOB化メモリモジュールの製造方法を
示す製造工程図である。
3A to 3D are manufacturing process diagrams showing a manufacturing method of the COB memory module of FIG.

【図4】検査装置の主要部を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a main part of the inspection device.

【図5】本発明の第2の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの斜視図である。
5 is a perspective view of the COB memories model <br/> module showing a second embodiment of the present invention.

【図6】図5中のB−B断面図である。6 is a sectional view taken along line BB in FIG.

【図7】図5のCOB化メモリモジュールの製造方法を
示す製造工程図である。
7A to 7C are manufacturing process diagrams showing a manufacturing method of the COB memory module of FIG.

【図8】本発明の第3の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの断面図である。
8 is a cross-sectional view of the COB memories model <br/> module showing a third embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第4の実施例を示すCOB化メモリ
ジュールの断面図である。
9 is a cross-sectional view of the COB memories model <br/> module showing a fourth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第5の実施例を示すCOB化メモリ
モジュールの断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a COB type memory module showing a fifth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第6の実施例を示すCOB化メモリ
モジュールの断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a COB type memory module showing a sixth embodiment of the present invention.

【図12】図11中のC−C断面図である。12 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG.

【図13】図12の斜視図である。FIG. 13 is a perspective view of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,111,131,201,211,301,321
ラエポ基板 2,112,132
ダム枠 3a〜3e,113,133,203,213a,21
3b,323ベアチップ 4,114,134,204,214a,214b
ボンディングワイヤ 5,115,135,205,215a,215b,3
25エポキシ封止樹脂 6
銅箔 7a,7b
保持部 9,119,309,329
I/O端子 121a,121b,141a,141b,331a,
331b基準穴 122,142
スルーホール 151
接続ピン 152,153
突起部 206,216a,216b
メモリIC 332a,332b,332c
端面スルーホール 333a
半田
1,111,131,201,211,301,321
Laepo board 2, 112, 132
Dam frames 3a to 3e, 113, 133, 203, 213a, 21
3b, 323 bare chip 4, 114, 134, 204, 214a, 214b
Bonding wires 5,115,135,205,215a, 215b, 3
25 epoxy sealing resin 6
Copper foil 7a, 7b
Holding parts 9, 119, 309, 329
I / O terminals 121a, 121b, 141a, 141b, 331a,
331b Reference holes 122 and 142
Through hole 151
Connection pins 152,153
Protrusions 206, 216a, 216b
Memory ICs 332a, 332b, 332c
End face through hole 333a
solder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−211763(JP,A) 特開 平6−29422(JP,A) 特開 平6−45517(JP,A) 特開 平2−58356(JP,A) 特開 平2−63141(JP,A) 特開 平1−144664(JP,A) 特開 平1−293555(JP,A) 特開 平3−185753(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 25/04 H01L 25/18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-3-211763 (JP, A) JP-A-6-29422 (JP, A) JP-A-6-45517 (JP, A) JP-A-2- 58356 (JP, A) JP-A-2-63141 (JP, A) JP-A-1-144664 (JP, A) JP-A-1-293555 (JP, A) JP-A-3-185753 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 25/04 H01L 25/18

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】表面と、該表面に対向する裏面とを有する
基板を準備し、 前記表面から前記裏面に向かって前記基板を削り、該裏
面に到達しないように凹部を形成し、 前記凹部の底面に金属膜を形成し、 前記表面に配線パターンを形成し、 前記金属膜上に接着層を形成し、 前記接着層上に第1のメモリチップを搭載し、前記第1のメモリチップの電気的特性検査を行い、該第
1のメモリチップが不良と判断された場合は該第1のメ
モリチップ上に第2のメモリチップを搭載し、 前記第2のメモリチップが搭載されたときは、該第2の
メモリチップと前記配線パターンとをボンディングワイ
ヤを用いて電気的に接続し、 前記第2のメモリチップを封止樹脂を用いて封止するこ
とを特徴とするCOB化メモリモジュールの製造方法。
1. A substrate having a front surface and a back surface facing the front surface is prepared, the substrate is ground from the front surface toward the back surface, and a recess is formed so as not to reach the back surface. A metal film is formed on a bottom surface, a wiring pattern is formed on the surface, an adhesive layer is formed on the metal film, a first memory chip is mounted on the adhesive layer, and an electrical property of the first memory chip is formed. Characteristic test,
If the first memory chip is determined to be defective, the first memory chip is
A second memory chip is mounted on a memory chip, and when the second memory chip is mounted, the second memory chip and the wiring pattern are electrically connected using a bonding wire. Then, the second memory chip is encapsulated with an encapsulating resin to produce a COB memory module.
【請求項2】第1のCOB化メモリモジュールに第2の
COB化メモリモジュールを搭載して構成されるCOB
化メモリモジュールであって、 前記第1のCOB化メモリモジュールは、 主表面と裏表面を有し、該主表面に第1の配線パターン
と複数の第1の凹部が形成され、該主表面と該裏表面と
を貫通する第1の貫通孔を有する第1の基板と、 第1のパッドを有し、前記複数の第1の凹部に搭載され
る複数の第1のベアなメモリチップと、 前記第1のパッドと前記第1の配線パターンとを電気的
に接続する第1のボンディングワイヤと、 前記第1のベアなメモリチップを封止する第1の封止樹
脂とにより構成され、 前記第2のCOB化メモリモジュールは、 主表面と裏表面とを有し、該主表面に第2の配線パター
ンと複数の第2の凹部が形成され、該主表面と該裏表面
とを貫通する第2の貫通孔を有する第2の基板と、 第2のパッドを有し、前記複数の第2の凹部に搭載され
る複数の第2のベアなメモリチップと、 前記第2のパッドと前記第2の配線パターンとを電気的
に接続する第2のボンディングワイヤと、 前記第2のベアなメモリチップを封止する第2の封止樹
脂とにより構成され、 前記第1のCOB化メモリモジュールと前記第2のCO
B化メモリモジュールは、前記第1の貫通孔と前記第2
の貫通孔とを貫く接続ピンにより電気的に接続されるこ
とを特徴とするCOB化メモリモジュール。
2. A COB configured by mounting a second COB-ized memory module on a first COB-ized memory module.
An integrated memory module, wherein the first COB-based memory module has a main surface and a back surface, a first wiring pattern and a plurality of first recesses are formed on the main surface, and the main surface and the back surface are formed. A first substrate having a first through hole penetrating the back surface; a plurality of first bare memory chips having a first pad and mounted in the plurality of first recesses; A first bonding wire that electrically connects the first pad and the first wiring pattern, and a first sealing resin that seals the first bare memory chip, The second COB memory module has a main surface and a back surface, a second wiring pattern and a plurality of second recesses are formed on the main surface, and penetrates the main surface and the back surface. A second substrate having a second through hole, a second pad, and A plurality of second bare memory chips mounted in a plurality of second recesses; a second bonding wire electrically connecting the second pad and the second wiring pattern; And a second encapsulation resin for encapsulating the bare memory chip of the first COB memory module and the second CO
The B-type memory module includes the first through hole and the second through hole.
A COB type memory module, which is electrically connected by a connecting pin penetrating through the through hole.
【請求項3】前記接続ピンは非塩素系フラックス入り半
田であることを特徴とする請求項2記載のCOB化メモ
リモジュール。
3. The COB type memory module according to claim 2, wherein the connection pin is a solder containing chlorine-free flux.
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