JP3515846B2 - Negative image recording material - Google Patents

Negative image recording material

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JP3515846B2
JP3515846B2 JP33061895A JP33061895A JP3515846B2 JP 3515846 B2 JP3515846 B2 JP 3515846B2 JP 33061895 A JP33061895 A JP 33061895A JP 33061895 A JP33061895 A JP 33061895A JP 3515846 B2 JP3515846 B2 JP 3515846B2
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一良 水谷
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像記録材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の平版印刷版に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image recording material that can be used as an offset printing master, and more particularly to a lithographic printing plate for so-called direct plate making which can be made directly from digital signals of a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのディジタルデータ
から直接製版するシステムとしては、電子写真法によ
るもの、Arレーザによる露光と後加熱の組み合わせ
による光重合系、感光性樹脂上に銀塩感材を積層した
もの、シルバーマスタータイプのもの、放電やレー
ザ光によりシリコーンゴム層を破壊することによるもの
等が提案されている。の電子写真法を用いるものは、
帯電、露光、現像等処理が煩雑であり、装置が複雑で大
がかりなものになる。の方法では後加熱工程を要する
ほか、高感度な版材を要し、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため処理が煩雑に
なり、コストが高くなる欠点がある。また、の方法は
比較的完成度の高い方法であるが、版面に残るシリコー
ン滓の除去に問題点を残している。一方、近年における
レーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発光
領域を持つ固体レーザ、半導体レーザは高出力かつ小型
のものが容易に入手できるようになっている。コンピュ
ータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性画像記録材料は、感光波
長が450nm以下であるため、これらのレーザでは画像
記録ができない。このため、露光光源の波長に依存せず
記録可能な画像記録材料が望まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic method, a photopolymerization system by a combination of Ar laser exposure and post-heating, and a silver salt sensitive material laminated on a photosensitive resin , A silver master type, and a method in which the silicone rubber layer is destroyed by discharge or laser light have been proposed. The one that uses the electrophotographic method of
Processing such as charging, exposure, and development is complicated, and the apparatus becomes complicated and large-scale. This method requires a post-heating step and also requires a highly sensitive plate material, which makes it difficult to handle in a bright room. The methods (1) and (2) have the drawback that the processing becomes complicated and the cost becomes high because a silver salt is used. Further, although the method of (1) is a method with a relatively high degree of perfection, it has a problem in removing the silicone residue remaining on the plate surface. On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared have high output and small size and are easily available. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many practically useful photosensitive image recording materials have a photosensitive wavelength of 450 nm or less, and thus cannot record images with these lasers. Therefore, an image recording material capable of recording without depending on the wavelength of the exposure light source is desired.

【0003】露光光源の波長に依存せず記録可能な技術
として、特開昭52−113219号公報には、光及び
熱で分解する化合物(例えばジアゾニウム化合物)と、
光を吸収し熱に変えることのできる物質粒子と、結着剤
とから成るポジ型画像記録材料が開示されている。これ
は熱によってジアゾニウム化合物を分解し画像を記録す
るものである。また、特開昭58−148792号公報
には、熱可塑性樹脂粒子と、光−熱変換物質と、光架橋
性物質(例えばジアゾニウム化合物)を主成分とするポ
ジ型感光感熱記録材料が開示されている。この場合、熱
により熱可塑性樹脂粒子が画像を形成し、更に光架橋性
物質が光により直接分解することを利用し画像の耐久性
を向上させるものである。直接製版は、レーザ光源のビ
ームをスキャンさせて書き込むが、ネガ型の材料の方が
書き込み時間が短縮できるので好ましい。しかし、コン
ピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露
光光源として近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ、半導体レーザ(熱モード)を用いて熱で記録するこ
とのできるネガ型画像記録材料で良好な記録性を持つも
のはこれまでに知られていない。
As a technique capable of recording without depending on the wavelength of the exposure light source, JP-A-52-113219 discloses a compound (for example, a diazonium compound) which decomposes with light and heat,
A positive image recording material is disclosed which comprises a substance particle capable of absorbing light and converting it into heat, and a binder. In this method, the diazonium compound is decomposed by heat to record an image. Further, JP-A-58-148792 discloses a positive type photosensitive heat-sensitive recording material containing thermoplastic resin particles, a light-heat converting substance and a photo-crosslinking substance (for example, a diazonium compound) as main components. There is. In this case, the durability of the image is improved by utilizing the fact that the thermoplastic resin particles form an image by heat and the photocrosslinking substance is directly decomposed by light. In direct plate making, writing is performed by scanning a beam of a laser light source, but a negative type material is preferable because writing time can be shortened. However, a negative image recording that can be thermally recorded by using a solid-state laser or semiconductor laser (thermal mode) having an emission region from near infrared to infrared as an exposure light source when directly making a plate from digital data of a computer or the like. No material having good recording properties has been known so far.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、露光光源の発光波長に依存せずに記録可能なネガ型
画像記録材料を提供することであり、特に近赤外から赤
外(熱線)領域の光で記録可能なネガ型画像記録材料を
提供することである。更に本発明の目的は、近赤外から
赤外に発光領域を持つ固体レーザ、半導体レーザ(熱モ
ード)を用いて記録することにより、コンピューター等
のディジタルデータから直接製版可能であり、さらに従
来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できるヒートモ
ード書き込み型ダイレクト製版用ネガ型平版印刷版を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a negative image recording material capable of recording without depending on the emission wavelength of an exposure light source, and particularly from near infrared to infrared ( It is an object of the present invention to provide a negative image recording material capable of recording with light in the (heat ray) region. Further, an object of the present invention is to enable plate making directly from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser or semiconductor laser (thermal mode) having a light emitting region from near infrared to infrared. It is an object of the present invention to provide a negative lithographic printing plate for heat mode writing type direct plate making which can directly use a processing device and a printing device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的は下記(1)に
示す本発明の構成により達成できる。 (1)光を吸収し熱を発生する物質、水不溶かつアルカ
リ水可溶性樹脂及び、分子内に4〜8個のベンゼン核、
少なくとも1個のフェノール性水酸基並びに少なくとも
2個の式(I)で表わされる基を有するフェノール誘導
体を含有することを特徴とするネガ型画像記録材料。 −CH2OR1 (I) (式中、R1 は水素原子、アルキル基またはアシル基を
示す)更に、本発明の好ましい実施形態として下記
(2)〜(12)のものが挙げられる。 (2)光を吸収し熱を発生する物質、水不溶かつアルカ
リ水可溶性樹脂及び、分子内に4〜8個のベンゼン核、
少なくとも1個のフェノール性水酸基並びに少なくとも
2個の式(I)で表わされる基を有するフェノール誘導
体を含有することを特徴とするネガ型画像記録材料であ
って、水不溶かつアルカリ水可溶性樹脂が、フェノール
性水酸基またはオレフィン性不飽和結合を有する樹脂で
あることを特徴とするネガ型画像記録材料。
The above object can be achieved by the constitution of the present invention shown in the following (1). (1) A substance that absorbs light and generates heat, a water-insoluble and alkaline water-soluble resin, and 4 to 8 benzene nuclei in the molecule,
A negative image recording material containing a phenol derivative having at least one phenolic hydroxyl group and at least two groups represented by formula (I). —CH 2 OR 1 (I) (In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group) Further, preferred embodiments of the present invention include the following (2) to (12). (2) A substance that absorbs light and generates heat, a water-insoluble and alkaline water-soluble resin, and 4 to 8 benzene nuclei in the molecule,
A negative image recording material comprising a phenol derivative having at least one phenolic hydroxyl group and at least two groups represented by formula (I), wherein the water-insoluble and alkaline water-soluble resin is A negative image recording material comprising a resin having a phenolic hydroxyl group or an olefinically unsaturated bond.

【0006】(3)支持体上に赤外光もしくは近赤外光
を吸収し熱を発生する物質、水不溶かつアルカリ水可溶
性でフェノール性水酸基またはオレフィン性不飽和結合
を有する樹脂及び、分子内に4〜8個のベンゼン核、少
なくとも1個のフェノール性水酸基並びに少なくとも2
個の式(I)で表わされる基を有するフェノール誘導体
を含有することを特徴とするネガ型画像記録材料。 (4)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として染料を用いる上記(3)の画像記録材料。 (5)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として顔料を用いる上記(3)の画像記録材料。 (6)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質としてカーボンブラックを用いる上記(3)の画像記
録材料。
(3) A substance which absorbs infrared light or near infrared light to generate heat on a support, a water-insoluble and alkali-water-soluble resin having a phenolic hydroxyl group or an olefinic unsaturated bond, and an intramolecular substance 4 to 8 benzene nuclei, at least one phenolic hydroxyl group and at least 2
A negative image recording material containing a phenol derivative having one group represented by formula (I). (4) The image recording material according to (3) above, wherein a dye is used as a substance that absorbs infrared light or near infrared light and generates heat. (5) The image recording material according to (3) above, wherein a pigment is used as a substance that absorbs infrared light or near infrared light and generates heat. (6) The image recording material according to the above (3), wherein carbon black is used as a substance that absorbs infrared light or near infrared light and generates heat.

【0007】(7)水不溶かつアルカリ水可溶性でフェ
ノール性水酸基またはオレフィン性不飽和結合を有する
樹脂としてノボラック樹脂を用いる上記(3)の画像記
録材料。 (8)水不溶かつアルカリ水可溶性でフェノール性水酸
基またはオレフィン性不飽和結合を有する樹脂としてア
リル基を有するアクリル樹脂を用いる上記(3)の画像
記録材料。 (9)水不溶かつアルカリ水可溶性でフェノール性水酸
基またはオレフィン性不飽和結合を有する樹脂としてフ
ェノール性水酸基を有するアクリル樹脂を用いる上記
(3)の画像記録材料。 (10)支持体としてポリエステルフィルムを用いる上記
(3)の画像記録材料。 (11)支持体としてアルミニウム板を用いる上記(3)
の画像記録材料。 (12)上記(3)のネガ型画像記録材料を、赤外光もし
くは近赤外光を発するレーザを用いて露光し、その後ア
ルカリ水で現像することを特徴とするネガ型画像記録方
法。 (13)上記(3)で式(I)中のR1 がアルキル基であ
ることを特徴とするネガ型画像記録方法。 (14)上記(3)で式(I)中のR1 がメチル基である
ことを特徴とするネガ型画像記録方法。 (15)上記(3)のネガ型画像記録材料を、赤外光もし
くは近赤外光を発するレーザを用いて露光し、さらに加
熱処理をした後、アルカリ水で現像することを特徴とす
るネガ型画像記録方法。
(7) The image recording material according to the above (3), wherein a novolac resin is used as a resin which is water-insoluble and alkali-water-soluble and has a phenolic hydroxyl group or an olefinic unsaturated bond. (8) The image recording material according to (3) above, wherein an acrylic resin having an allyl group is used as a resin which is water-insoluble and alkali-water-soluble and has a phenolic hydroxyl group or an olefinic unsaturated bond. (9) The image recording material according to (3) above, wherein an acrylic resin having a phenolic hydroxyl group is used as the resin which is water-insoluble and alkali-water-soluble and has a phenolic hydroxyl group or an olefinic unsaturated bond. (10) The image recording material as described in (3) above, which uses a polyester film as a support. (11) Above (3) using an aluminum plate as the support
Image recording material. (12) A negative image recording method, which comprises exposing the negative image recording material of the above (3) using a laser emitting infrared light or near infrared light, and then developing with alkaline water. (13) A negative image recording method, wherein R 1 in the formula (I) in the above (3) is an alkyl group. (14) A negative image recording method, wherein R 1 in the formula (I) in the above (3) is a methyl group. (15) The negative image recording material according to the above (3) is exposed by using a laser emitting infrared light or near infrared light, further heat-treated, and then developed with alkaline water. Type image recording method.

【0008】本発明者らは鋭意研究を進めた結果、分子
内に4〜8個のベンゼン核と少なくとも1個のフェノー
ル性水酸基及び少なくとも2個の式(I)で表わされる
基を有することを特徴とするフェノール誘導体を、水不
溶かつアルカリ水可溶性樹脂及び、光を吸収し熱を発生
する物質と併用することにより、露光光源の波長に依存
しない、特に近赤外光から赤外光でも記録可能なネガ型
記録材料が得られることを見い出し、本発明に到達し
た。本発明は、露光によるエネルギーを熱エネルギーに
変換し、発生した熱エネルギーによりフェノール誘導体
による縮合反応を起こさせて画像記録するものである。
本発明においては、分子内に4〜8個のベンゼン核を有
するフェノール誘導体を用いることにより、分子内に1
〜3個のベンゼン核しか有しないフェノール誘導体を用
いた場合に比べて高感度になり、かつ露光部の膜強度が
高くなるという利点を有する。また、分子内に9個以上
のベンゼン核を有するフェノール誘導体を用いた場合に
は、現像性が低下し汚れやすいという問題が生じるため
好ましくない。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the molecule has 4 to 8 benzene nuclei, at least one phenolic hydroxyl group and at least two groups represented by the formula (I). By using the characteristic phenol derivative in combination with a water-insoluble and alkaline water-soluble resin and a substance that absorbs light and generates heat, it does not depend on the wavelength of the exposure light source, especially recording from near infrared light to infrared light The present invention has been completed by finding that a possible negative recording material can be obtained. In the present invention, the energy of exposure is converted into heat energy, and the generated heat energy causes a condensation reaction with a phenol derivative to record an image.
In the present invention, by using a phenol derivative having 4 to 8 benzene nuclei in the molecule,
As compared with the case of using a phenol derivative having only to 3 benzene nuclei, it has the advantages of higher sensitivity and higher film strength in the exposed area. Further, the use of a phenol derivative having 9 or more benzene nuclei in the molecule is not preferable because it causes a problem that developability is lowered and stains easily occur.

【0009】本発明において、フェノール誘導体が、2
個以上のフェノール性水酸基を有すると、露光後の現像
性の点で好ましく、また、式(I)で表わされる基を4
個以上有すると露光部の膜強度が高くなり好ましい。本
発明において、光を吸収し熱を発生する物質が、赤外光
もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物質であると、
熱モードでの記録を良好にすることができ好ましい。本
発明において、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発
生する物質が染料であると露光後の現像性の点で好まし
く、また、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生す
る物質が顔料であると感度が良好となり好ましく、更に
また、赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質がカーボンブラックであると吸収波長域が広く且つ感
度が高い点で好ましい。
In the present invention, the phenol derivative is 2
It is preferable to have at least 4 phenolic hydroxyl groups from the viewpoint of developability after exposure, and it is preferable that the group represented by the formula (I) be 4 or less.
It is preferable to have more than one because the film strength of the exposed part becomes higher. In the present invention, the substance that absorbs light and generates heat is a substance that absorbs infrared light or near infrared light and generates heat,
It is preferable because recording in the thermal mode can be made good. In the present invention, a substance that absorbs infrared light or near infrared light and generates heat is preferably a dye in terms of developability after exposure, and also absorbs infrared light or near infrared light to generate heat. When the substance that is generated is a pigment, the sensitivity is improved, which is preferable. Furthermore, when the substance that generates heat by absorbing infrared light or near infrared light is carbon black, the absorption wavelength range is wide and the sensitivity is high. preferable.

【0010】本発明において、支持体としてポリエステ
ルフィルムを用いると軽量である点で好ましく、またア
ルミニウム板を用いると寸度安定性が良好であるので好
ましい。本発明のネガ型画像記録材料は、赤外光もしく
は近赤外光を発するレーザを用いて露光し、その後アル
カリ水で現像するネガ型画像記録方法に使用されるのが
好ましい。本発明のネガ型画像記録材料の好ましい例
は、ネガ型感熱性平版印刷版であり、また、ヒートモー
ド書き込み型ダイレクト製版用ネガ型平版印刷版であ
る。ヒートモード書き込みとは、適当な熱線源を用い、
ディジタルデータを基にこの熱線源を制御し、画像記録
材料へ記録することである。この際の熱線源としては、
ファクシミリ等に使用されているサーマルヘッドや赤外
光もしくは近赤外光を発するレーザがあるが、サーマル
ヘッドを用いた場合は画像の解像力が低いため、ダイレ
クト製版用としては、赤外光もしくは近赤外光を発する
レーザが好ましい。
In the present invention, it is preferable to use a polyester film as the support because it is lightweight, and it is preferable to use an aluminum plate because the dimensional stability is good. The negative image recording material of the present invention is preferably used in a negative image recording method of exposing with a laser emitting infrared light or near infrared light and then developing with alkaline water. Preferred examples of the negative image recording material of the present invention are negative type heat-sensitive lithographic printing plates, and also heat mode writing type negative type lithographic printing plates for direct plate making. Heat mode writing uses an appropriate heat ray source,
This heat ray source is controlled based on digital data and recorded on the image recording material. As a heat ray source at this time,
There are thermal heads used in facsimiles and lasers that emit infrared light or near infrared light.However, when a thermal head is used, the resolution of the image is low. Lasers that emit infrared light are preferred.

【0011】本発明は、光−熱変換物質により光を熱に
変え、発生した熱により架橋反応を起こすものであるの
で、基本的には感光性記録材料であると言える。ところ
が、本発明で使用される好ましい光は、紫外線、可視光
線、赤外線であり、この内、赤外線は一般に熱線とも呼
ばれており、赤外線で本発明の記録材料に記録を行なう
場合、本発明の記録材料は感熱性記録材料とも言える。
以下、本発明を詳細に説明する。前記式(I)のR1
おいて、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブ
チル基、sec −ブチル基もしくはt−ブチル基のような
炭素数1〜4のアルキル基が、アシル基としては、ホル
ミル基、アセチル基、ブチリル基、ベンゾイル基、シン
ナモイル基、バレリル基が好ましい。又、メトキシエチ
ル基、メトキシプロピル基、ヒドロキシエチル基、ヒド
ロキシプロピル基などの炭素数1〜4の置換アルキル基
を用いることもできる。
The present invention is basically a photosensitive recording material because it converts light into heat by a light-heat converting substance and causes a crosslinking reaction by the generated heat. However, the preferred light used in the present invention is ultraviolet rays, visible rays, and infrared rays. Among them, infrared rays are generally called heat rays, and when recording on the recording material of the present invention with infrared rays, The recording material can be said to be a heat-sensitive recording material.
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In R 1 of the above formula (I), the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, n
An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group or a t-butyl group, and an acyl group includes a formyl group, an acetyl group and a butyryl group. , Benzoyl group, cinnamoyl group and valeryl group are preferred. Further, a substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methoxyethyl group, methoxypropyl group, hydroxyethyl group and hydroxypropyl group can also be used.

【0012】本発明に使用するフェノール誘導体は、公
知のフェノール化合物、例えば、特開平1−289946号、
特開平3−179353号、特開平3−200252号、特開平3−
128959号、特開平3−200254号、特開平5−158233号、
特開平5−224409号に記載されているフェノール化合物
と、ホルムアルデヒドとを強アルカリ性媒体中で約0〜
80℃、好ましくは10〜60℃の温度で1〜30時間
反応させることによりR1 =Hのものが得られる。その
後、さらに酸性条件下、炭素数1〜4のアルコール、置
換アルコール、酸ハライド、又は酸無水物と、0〜80
℃で、1〜30時間反応させることにより、R1 =アル
キル、アシルのものが得られる。アルコール、置換アル
コールと反応させる際の温度は、20〜80℃が好まし
く、酸ハライド又は酸無水物と反応させる際の温度は、
0〜30℃が好ましい。
The phenol derivative used in the present invention is a known phenol compound, for example, JP-A-1-289946,
JP-A-3-179353, JP-A-3-200252, JP-A-3-
128959, JP-A-3-200254, JP-A-5-158233,
The phenol compound described in JP-A-5-224409 and formaldehyde are mixed in a strongly alkaline medium to about 0.
By reacting at a temperature of 80 ° C., preferably 10 to 60 ° C. for 1 to 30 hours, R 1 ═H can be obtained. Then, under acidic conditions, an alcohol having 1 to 4 carbon atoms, a substituted alcohol, an acid halide, or an acid anhydride, and 0 to 80.
By reacting at 1 ° C. for 1 to 30 hours, R 1 = alkyl and acyl can be obtained. The temperature when reacting with an alcohol or a substituted alcohol is preferably 20 to 80 ° C., and the temperature when reacting with an acid halide or an acid anhydride is
0-30 degreeC is preferable.

【0013】本発明に使用するフェノール誘導体の具体
例としては、下記一般式(II)〜(IX)で表わされる化
合物が挙げられるがこれらに限定されるわけではない。
これらのフェノール誘導体は、単独で用いてもよく、二
種以上混合して用いてもよいが、その際の使用量は、感
光性組成物中、0.2〜60重量%、好ましくは0.5〜2
0重量%である。また、ベンゼン核が1〜3個で、フェ
ノール性ヒドロキシル基と式(I)で表わされる基を有
する化合物は、着肉性、現像許容性の低下を招くため、
本発明の感光性組成物はこれらの化合物を実質的に含ま
ないことが望ましい。より具体的には、感光性組成物に
対して5重量%以下であることが望ましく、更に好まし
くは3重量%以下であり、最も好ましくは0重量%であ
る。
Specific examples of the phenol derivative used in the present invention include, but are not limited to, compounds represented by the following general formulas (II) to (IX).
These phenol derivatives may be used alone or in combination of two or more, and the amount used in that case is 0.2 to 60% by weight in the photosensitive composition, preferably 0. 5-2
It is 0% by weight. Further, a compound having 1 to 3 benzene nuclei and having a phenolic hydroxyl group and a group represented by the formula (I) causes a decrease in inking property and development acceptability.
It is desirable that the photosensitive composition of the present invention be substantially free of these compounds. More specifically, it is preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and most preferably 0% by weight, based on the photosensitive composition.

【0014】[0014]

【化1】 [Chemical 1]

【0015】[0015]

【化2】 [Chemical 2]

【0016】[0016]

【化3】 [Chemical 3]

【0017】[0017]

【化4】 [Chemical 4]

【0018】[0018]

【化5】 [Chemical 5]

【0019】[0019]

【化6】 [Chemical 6]

【0020】式中、R2 〜R4 、R9 、R17、R18は水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を
示し、R5 、R13〜R16は水素原子又はアルキル基を示
し、R6 〜R8 は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル
基を示し、R10〜R12は、単結合、置換基を有してもよ
いアルキレン基、アルケニレン基、フェニレン基、ナフ
チレン基、カルボニル基、エーテル基、チオエーテル
基、アミド結合、又はそれら二種以上の結み合わせを示
し、Yは一般式(I)で表わされる基を示し、a、b、
c、d、x、yは、0〜3の整数を示すが、a+b+c
+d+x+yは2〜16の整数であり、k、l、m、n
は0〜3の整数を示すが、すべてが0になることはな
く、e、f、g、h、p、q、r、s、t、uは0〜3
の整数を示し、zは0又は1を示す。前記一般式(II)
〜(IX)で表わされる化合物のより具体的な例として
は、例えば下記構造のものが挙げられる。
In the formula, R 2 to R 4 , R 9 , R 17 , and R 18 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and R 5 , R 13 to R 16 represent a hydrogen atom or an alkyl group. shown, R 6 to R 8 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, R 10 to R 12 represents a single bond, an optionally substituted alkylene group, an alkenylene group, a phenylene group, a naphthylene group, a carbonyl A group, an ether group, a thioether group, an amide bond, or a combination of two or more thereof, Y represents a group represented by formula (I), a, b,
c, d, x, and y are integers of 0 to 3, but a + b + c
+ D + x + y is an integer of 2 to 16, and k, l, m, n
Represents an integer of 0 to 3, but all are not 0, and e, f, g, h, p, q, r, s, t, and u are 0 to 3.
And the integer z is 0 or 1. The general formula (II)
Specific examples of the compounds represented by- (IX) include those having the following structures.

【0021】[0021]

【化7】 [Chemical 7]

【0022】[0022]

【化8】 [Chemical 8]

【0023】[0023]

【化9】 [Chemical 9]

【0024】[0024]

【化10】 [Chemical 10]

【0025】[0025]

【化11】 [Chemical 11]

【0026】(式中、Y1 〜Y12は、水素原子又は式
(I)で表わされる基を示すが、各化合物中、少なくと
も2個は式(I)で表わされる基を有しており、好まし
くは、すべてが式(I)で表わされる基である。) 本発明においては、光を吸収し熱を発生する物質として
種々の顔料もしくは染料を用いることができる。顔料と
しては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.
I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、
1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、
1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1
984年刊)に記載されている顔料が利用できる。顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリド系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
(In the formula, Y 1 to Y 12 represent a hydrogen atom or a group represented by the formula (I), and at least two of each compound have the group represented by the formula (I). , And preferably all are groups represented by formula (I).) In the present invention, various pigments or dyes can be used as the substance that absorbs light and generates heat. As the pigment, commercially available pigments and color indexes (C.I.
I. ) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association,
1977), "Latest pigment application technology" (CMC Publishing,
1986, "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1
The pigments described in pp. 984) can be used. Examples of types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacrid pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments. , Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.

【0027】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書
房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年
刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、198
6年刊)に記載されている。顔料の粒径は、0.01μm
〜10μm の範囲にあることが好ましく、0.05μm 〜
1μm の範囲にあることがさらに好ましい。顔料を分散
する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いら
れている公知の分散技術が使用できる。分散機として
は、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パール
ミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパ
ーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本
ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載がある。
These pigments may be used without being surface-treated, or may be used after being surface-treated. The surface treatment method includes a method of coating a surface of resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Conceivable. The above-mentioned surface treatment method is described in "Characteristics and Applications of Metal Soap" (Koushobo), "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 198).
6 years). The particle size of the pigment is 0.01 μm
It is preferably in the range of from 10 μm to 0.05 μm
More preferably, it is in the range of 1 μm. As a method of dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. Detail is,
It is described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0028】また、染料としては、市販の染料および文
献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和4
5年刊)に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料などの染料が挙げられる。これらの顔料、もし
くは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するも
のが特に好ましい。赤外光、もしくは近赤外光を吸収す
る顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられる。
As the dye, commercially available dyes and literatures (for example, "Handbook of Dyes" edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, Showa 4)
The publicly known thing described in the 5-year publication can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among these pigments or dyes, those absorbing infrared light or near infrared light are particularly preferable. Carbon black is preferably used as a pigment that absorbs infrared light or near infrared light.

【0029】赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料
としては例えば特開昭58−125246号、同59−
84356号、同59−202829号、同60−78
787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58
−173696号、同58−181690号、同58−
194595号等に記載されているメチン染料、特開昭
58−112793号、同58−224793号、同5
9−48187号、同59−73996号、同60−5
2940号、同60−63744号等に記載されている
ナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記
載されているスクワリリウム色素、英国特許434,87
5号記載のシアニン染料等を挙げることができる。ま
た、米国特許第5,156,938 号記載の近赤外吸収剤も好適
に用いられる。更に、米国特許第3,881,924 号記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号(米国特許第4,327,169 号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475 号に
記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−1
3514号、同5−19702号公報に開示されている
ピリリウム化合物は特に好ましく用いられる。また、特
に好ましい別の例として米国特許第4,756,993 号明細書
中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収
染料を挙げることができる。
Examples of dyes which absorb infrared light or near infrared light include those disclosed in JP-A-58-125246 and 59-59.
84356, 59-202829, 60-78.
Cyanine dyes described in Japanese Patent No. 787, etc., JP-A-58
-173696, 58-181690, 58-
Methine dyes described in 194595 and the like, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, and JP-A-58-224793.
9-48187, 59-73996, 60-5
2940, 60-63744 and the like, naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792 and the like, squarylium dyes, British Patent 434,87.
Examples thereof include cyanine dyes described in No. 5. Further, the near infrared absorber described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used. Further, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924, trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363.
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061, and the pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, cyanine dyes, pentamethine thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication No. 5-1
The pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Nos. 3514 and 5-19702 are particularly preferably used. Another particularly preferable example is the near-infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

【0030】これらの顔料もしくは染料は、画像記録材
料全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%、より好ましくは0.5〜15重量%の割合
で画像記録材料中に添加することができる。添加量が0.
01重量%より少ないと画像が得られず、また、50重
量%より多いと印刷時非画像部に汚れを発生する。これ
らの染料もしくは顔料は、フェノール誘導体と同一の層
に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよ
い。別の層とする場合、フェノール誘導体を含む層に隣
接する層へ添加するのが望ましい。次に、本発明のフェ
ノール誘導体と組み合わせて使用する水不溶かつアルカ
リ水可溶性樹脂について説明する。水不溶かつアルカリ
水可溶性樹脂としては種々の樹脂を用いることができる
が、特に、フェノール性水酸基またはオレフィン性の不
飽和結合を有するものが好ましい。好ましい樹脂の例と
しては下記のノボラック樹脂を挙げることができる。
These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1, based on the total solid content of the image recording material.
-20% by weight, more preferably 0.5-15% by weight, can be added to the image recording material. Addition amount is 0.
If the amount is less than 01% by weight, an image cannot be obtained, and if the amount is more than 50% by weight, stains occur on the non-image portion during printing. These dyes or pigments may be added to the same layer as the phenol derivative, or may be added to another layer provided separately. When it is provided as a separate layer, it is preferably added to the layer adjacent to the layer containing the phenol derivative. Next, the water-insoluble and alkaline water-soluble resin used in combination with the phenol derivative of the present invention will be described. Although various resins can be used as the water-insoluble and alkali-water-soluble resin, those having a phenolic hydroxyl group or an olefinic unsaturated bond are particularly preferable. Examples of preferable resins include the following novolac resins.

【0031】例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−または
m−/p−,m−/o−、o−/p−混合のいずれでも
よい)混合ホルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホル
ムアルデヒド樹脂などが挙げられる。その他レゾール型
のフェノール樹脂類も好適に用いられ、フェノール/ク
レゾール(m−,p−,o−またはm−/p−,m−/
o−、o−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムア
ルデヒド樹脂が、好ましく、特に特開昭61−2170
34号公報に記載されているフェノール樹脂類が好まし
い。また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキ
シスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、特開
昭50−55406号、特開昭51−34711号、特
開昭51−36129号、特開昭52−28401号、
特開昭62−38454号、西独特許3528390
号、西独特許3528929号、米国特許472419
5号、特開平5−230139号、特開平5−2301
40号、特願平6−123895号の各公報または明細
書に記載されているフェノール性水酸基を有するアクリ
ル系樹脂も用いることができる。
For example, phenol formaldehyde resin,
m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / Included are cresol formaldehyde resins such as mixed formaldehyde resins. Other resol type phenolic resins are also preferably used, and phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- /
Mixed formaldehyde resins are preferred, and any of o- and o- / p-mixtures are preferred, and especially JP-A-61-2170.
Phenolic resins described in Japanese Patent No. 34 are preferred. Further, phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, JP-A-50-55406, JP-A-51-34711, JP-A-51-36129, JP-A-52-28401,
JP-A-62-38454, West German patent 3528390
, West German Patent 3528929, US Patent 472419
5, JP-A-5-230139, JP-A-5-2301
No. 40, Japanese Patent Application No. 6-123895, or the acrylic resin having a phenolic hydroxyl group described in the specification can also be used.

【0032】本発明で好ましく用いられるオレフィン性
不飽和結合を有する樹脂の例としては、特公平3−63
740号、米国特許3376138号、米国特許355
6793号、特開昭52−988号、特公昭60−37
123号の各公報または明細書に記載されているものを
挙げることができる。なお、オレフィン性不飽和結合を
有する樹脂に関しては、アルカリ水現像液での現像性を
向上させるために、アルカリ可溶性を有するモノマーを
共重合成分として含有していることが好ましい。アルカ
リ可溶性基としてはpKa が14以下の酸性基が用いら
れ、例えば、−SO 3H、−OP(O)(OH)2、−P(O)(OH)2 、−
COOH、−CONHCO−、−CONHSO2 −、−SO2NH −、フェノ
ール性OH等が挙げられる。これらのアルカリ水可溶性
樹脂は、重量平均分子量が500〜400000で数平
均分子量が200〜150000のものが好ましい。か
かるアルカリ水可溶性樹脂は1種類あるいは2種類以上
を組み合わせて使用してもよく、全感光性組成物固形分
中、5〜99重量%、好ましくは30〜95重量%の添
加量で用いられる。
Olefinicity preferably used in the present invention
As an example of a resin having an unsaturated bond, Japanese Patent Publication No. 3-63
740, US Patent 3,376,138, US Patent 355.
6793, JP-A-52-988, JP-B-60-37.
What is described in each publication or specification of No. 123
Can be mentioned. In addition, olefinic unsaturated bond
For resins that have
In order to improve
It is preferably contained as a copolymerization component. Arca
An acidic group having a pKa of 14 or less is used as the re-soluble group.
, For example, -SO 3H, -OP (O) (OH)2, -P (O) (OH)2,-
COOH, −CONHCO−, −CONHSO2−, −SO2NH-, Feno
OH and the like. These alkaline water soluble
The resin has a weight average molecular weight of 500 to 400,000,
It is preferable that the average molecular weight is 200 to 150,000. Or
One or more kinds of alkalescent water-soluble resin
May be used in combination, and the total solid content of the photosensitive composition
5 to 99% by weight, preferably 30 to 95% by weight
Used in weight.

【0033】本発明の画像記録材料には更に必要に応じ
て、種々の添加剤を添加することができる。例えば、ラ
ジカル重合可能なエチレン性二重結合を分子内に2個以
上有する多官能モノマーを添加することができる。この
様な化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、シエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールおよびジペンタエリスリトールのトリ−、テト
ラ−もしくはヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられ
る。これらの多官能モノマーの添加量は、画像記録材料
中30重量%以下である。また、塗布性を改良するため
のアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、メチ
ルセルロース)、界面活性剤類(例えばフッ素系界面活
性剤)、膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばトリクレジルホスフェート、ジメチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸
トリブチル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール等)を添加することが
できる。これらの添加剤の添加量はその使用目的によっ
て異なるが、一般には画像記録材料の全固形分に対して
0.5〜30重量%である。
If desired, various additives may be added to the image recording material of the present invention. For example, a polyfunctional monomer having two or more radically polymerizable ethylenic double bonds in the molecule can be added. Examples of such compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, cyethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, and triethyl ethane tri (meth) acrylate. Examples thereof include methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol, and dipentaerythritol tri-, tetra-, or hexa (meth) acrylate. The addition amount of these polyfunctional monomers is 30% by weight or less in the image recording material. Also, alkyl ethers (eg, ethyl cellulose, methyl cellulose) for improving coating properties, surfactants (eg, fluorine-based surfactants), plasticizers for imparting film flexibility and abrasion resistance (eg, triacetate). Cresyl phosphate, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, tributyl citrate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc.) can be added. The amount of these additives to be added varies depending on the purpose of use, but generally it is based on the total solid content of the image recording material.
It is 0.5 to 30% by weight.

【0034】また、露光による発熱後直ちに可視像を得
るための焼出し剤として、露光による発熱によって酸を
放出する化合物と塩を形成し得る有機染料の組合せを代
表として挙げることができる。具体的には特開昭50−
36209号公報、特開昭53−8128号公報に記載
されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53−
36223号公報、特開昭54−74728号公報に記
載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料
の組合せを挙げることができる。画像の着色剤として前
記の塩形成性有機染料以外の他の染料も用いることがで
きる。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶
性染料及び塩基染料を挙げることができる。具体的に
は、オイルイエロー#101、オイルイエロー#13
0、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイ
ルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラッ
クBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−50
5(以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリ
アピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(CI42535)、ロー
ダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)等を挙げることができる。これらの焼出し剤及び染
料は、画像記録材料中0〜30重量%の添加量で使用さ
れる。
As a printout agent for obtaining a visible image immediately after heat generation by exposure, a combination of a compound which releases an acid by heat generation by exposure and an organic dye capable of forming a salt can be mentioned as a representative example. Specifically, JP-A-50-
36209 and JP-A-53-8128, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye, and JP-A-53-
The combination of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A-36223 and JP-A-54-74728 can be mentioned. As the image colorant, dyes other than the above-mentioned salt-forming organic dyes can be used. Suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101 and Oil Yellow # 13
0, oil pink # 312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-50
5 (above, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI425
55), methyl violet (CI42535), rhodamine B (CI45170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201).
5) etc. can be mentioned. These print-out agents and dyes are used in an amount of 0 to 30% by weight in the image recording material.

【0035】尚、本発明の光を吸収し熱を発生する物質
により、十分な濃度の可視画像が得られる場合、この様
な染料は添加する必要はないが、架橋反応を促進する目
的で焼き出し剤(酸発生剤)のみを添加することもでき
る。本発明の画像記録材料は、上記各成分を溶解又は分
散する溶媒を用いて支持体上に塗布する。ここで使用す
る溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、t−ブチルアル
コール、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、ア
セトン、メチルエチルケトン、エチレングリコール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−
2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホ
キシド、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル等があ
り、これらの溶媒を単独であるいは混合して使用する。
また、これらの溶媒や混合溶媒に少量の水やトルエン等
のフェノール誘導体や高分子化合物を溶解させない溶媒
を添加した混合溶媒も適当である。尚、上記成分の溶媒
中の濃度(固形分)は、1〜50重量%である。
If a visible image having a sufficient density can be obtained by the substance which absorbs light and generates heat according to the present invention, it is not necessary to add such a dye, but the dye is used for the purpose of promoting the crosslinking reaction. It is also possible to add only the releasing agent (acid generator). The image recording material of the present invention is coated on a support using a solvent that dissolves or disperses the above components. As the solvent used here, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, t-butyl alcohol, ethylene dichloride, cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2- Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-
2-Propyl acetate, N, N-dimethylformamide, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylsulfoxide, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and the like are used, and these solvents may be used alone or as a mixture.
Further, a mixed solvent obtained by adding a small amount of water or a solvent which does not dissolve the phenol derivative such as toluene or the polymer compound to these solvents or the mixed solvent is also suitable. The concentration (solid content) of the above components in the solvent is 1 to 50% by weight.

【0036】これらの溶媒に溶解または分散させた液を
塗布し乾燥させる場合50℃〜120℃で乾燥させるこ
とが望ましい。乾燥方法は始め温度を低くして予備乾燥
した後高温で乾燥させてもよいが、適当な溶媒と濃度を
選ぶことによって直接高温で乾燥させてもよいが、感熱
記録材料であるため150℃以上の高温で乾燥させるこ
とは好ましくない。また、塗布量は用途により異なる
が、例えば感光性平版印刷版(感熱性平版印刷版)につ
いていえば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m2が好
ましい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大になるが、
感光膜の物性は低下する。更に必要に応じて、感光膜の
上にマットまたはマット層を設けても良く、また、下塗
り層を設けてもよい。
When a solution dissolved or dispersed in these solvents is applied and dried, it is desirable to dry at 50 ° C to 120 ° C. The drying method may be such that the temperature is first lowered and pre-dried and then dried at a high temperature, but it may be directly dried at a high temperature by selecting an appropriate solvent and concentration, but since it is a thermosensitive recording material, it is 150 ° C or higher. It is not preferable to dry at high temperature. Although the coating amount varies depending on the use, for example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate (heat-sensitive lithographic printing plate), generally, the solid content is preferably 0.5 to 3.0 g / m 2 . As the coating amount decreases, the photosensitivity increases,
The physical properties of the photosensitive film deteriorate. Further, if necessary, a mat or a mat layer may be provided on the photosensitive film, and an undercoat layer may be provided.

【0037】また本発明の画像記録材料が塗布される支
持体としては、例えば、紙、プラスチック(例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネ
ートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金
も含む)、亜鉛、銅等のような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、
上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙もし
くはプラスチックフィルム等が含まれる。これらの支持
体のうち、ポリエステルフィルムまたはアルミニウム板
を用いることが好ましく、特にアルミニウム板は寸法的
に著しく安定であり好ましい。更に、特公昭48−18
327号公報に記載されているようなポリエチレンテレ
フタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合され
た複合体シートも好ましい。
The support to which the image recording material of the present invention is applied is, for example, paper, paper laminated with plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), for example, aluminum (including aluminum alloy), zinc, Plates of metal such as copper, for example, plastics such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose butyrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Film of
It includes paper or plastic film on which the above metal is laminated or vapor deposited. Among these supports, it is preferable to use a polyester film or an aluminum plate, and an aluminum plate is particularly preferable because it is extremely dimensionally stable. In addition, Japanese Examined Patent Publication
A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded onto a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent No. 327 is also preferable.

【0038】また、金属、特にアルミニウムの表面を有
する支持体の場合には、適当な親水化処理をすることが
望ましい。このような親水化処理としては、例えばアル
ミニウム表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子
のスラリーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブ
ラシグレイニング、ボールグレイニング等の機械的方
法、HFやAlCl3 、HCl をエッチャントとするケミカル
グレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイ
ニングやこれらの粗面化法を複合して行う複合グレイニ
ングによって表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又
はアルカリによりエッチング処理し、引き続き硫酸、リ
ン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸または
これらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行い
アルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けることが好
ましい。
Further, in the case of a support having a surface of metal, especially aluminum, it is desirable to carry out an appropriate hydrophilic treatment. Examples of such a hydrophilic treatment include a mechanical method such as wire brush graining, brush graining in which a surface of an aluminum surface is roughened with a nylon brush while pouring a slurry of abrasive particles, ball graining, HF or AlCl 3 , Graining the surface by chemical graining using HCl as an etchant, electrolytic graining using nitric acid or hydrochloric acid as an electrolytic solution, or complex graining performed by combining these surface roughening methods, and then acidifying as necessary. It is possible to form a strong passivation film on the aluminum surface by etching treatment with alkali, and subsequently by anodizing with sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, boric acid, chromic acid, sulphamic acid or mixed acid of these with direct current or alternating current power supply. preferable.

【0039】このような不動態皮膜自体でアルミニウム
表面は親水化されるが、更に必要に応じて米国特許第2,
714,066 号明細書や米国特許第3,181,461 号明細書に記
載されている珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム)、米国特許第2,946,638号明細書に記載されている
弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,24
7 号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、
英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタ
ネート処理、独国特許第1,091,433 号明細書に記載され
ているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093 号明
細書や英国特許第1,230,447 号明細書に記載されている
ポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公
報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,
951 号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭
58−16893号や特開昭58−18291号の各公
報に記載されている親水性有機高分子化合物と2価の金
属よりなる複合処理、特開昭59−101651号公報
に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の
下塗によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。
その他の親水化処理方法としては米国特許第3,658,662
号明細書に記載されているシリケート電着を挙げること
ができる。
The aluminum surface is hydrophilized by such a passivation film itself, and if necessary, US Pat.
714,066 and U.S. Pat. No. 3,181,461, silicate treatment (sodium silicate, potassium silicate), U.S. Pat. No. 2,946,638, potassium fluorozirconate treatment, U.S. Pat. 3,201,24
Phosphomolybdate treatment described in No. 7,
Alkyl titanate treatment described in British Patent No. 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent No. 1,091,433, described in German Patent Nos. 1,134,093 and British Patent No. 1,230,447 Polyvinylphosphonic acid treatment described in JP-B-44-6409, U.S. Patent No. 3,307,
Phytic acid treatment described in Japanese Patent No. 951 and a composite of a hydrophilic organic polymer compound and a divalent metal described in JP-A-58-16893 and JP-A-58-18291. Those treated with a hydrophilizing treatment by undercoating a water-soluble polymer having a sulfonic acid group described in JP-A-59-101651 are particularly preferable.
Other hydrophilic treatment methods include U.S. Pat. No. 3,658,662.
The silicate electrodeposition described in the specification can be mentioned.

【0040】像露光に用いられる活性光線の光源として
は、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン
ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。
放射線としては、電子線、X線、イオンビーム、遠赤外
線などがある。またg線、i線、Deep−UV光、高密度
エネルギービーム(レーザービーム)も使用できる。レ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミ
ウムレーザー、KrFエキシマレーザー等が挙げられ
る。本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。
Examples of the light source of actinic rays used for image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp and the like.
Radiation includes electron beams, X-rays, ion beams, far infrared rays, and the like. Also, g-line, i-line, Deep-UV light, high-density energy beam (laser beam) can be used. Examples of the laser beam include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, and KrF excimer laser. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0041】本発明のネガ型画像記録材料の現像液およ
び補充液としては従来より知られているアルカリ水溶液
が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭
酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナ
トリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウ
ムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチ
ルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエ
チルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノ
イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソ
プロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モ
ノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミ
ン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなど
の有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は
単独もしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
As the developer and replenisher for the negative image recording material of the present invention, conventionally known aqueous alkali solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, sodium triphosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are mentioned. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkaline agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0042】現像液および補充液には現像性の促進や抑
制、現像ガスの分散および印刷版画像部の親インキ性を
高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙
げられる。更に現像液および補充液には必要に応じて、
ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更
に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることも
できる。これらの現像液の中で特に好ましいものとし
て、例えば特開昭54−62004号、特公昭57−7
427号明細書に記載されているもの、及び特開昭51
−77401号に記載されている、ベンジルアルコー
ル、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる
現像液組成物、特開昭53−44202号に記載されて
いる、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、水
溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特
開昭55−155355号に記載されている、水に対す
る溶解度が常温において10重量%以下である有機溶剤
とアルカリ剤と水とを含有する現像液組成物等が挙げら
れる。
Various surfactants and organic solvents may be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing gas and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher
It is also possible to add a reducing agent such as sodium salt or potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid or bisulfite, and further an organic carboxylic acid, an antifoaming agent or a water softener. Among these developers, particularly preferable ones are, for example, JP-A-54-62004 and JP-B-57-7.
Those described in Japanese Patent No. 427, and JP-A-51
No. 77401, a developer composition comprising benzyl alcohol, an anionic surfactant, an alkali agent and water, and benzyl alcohol, an anionic surfactant described in JP-A-53-44202. A developer composition comprising an aqueous solution containing a water-soluble sulfite, an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkaline agent and water, which are described in JP-A-55-155355. The developer composition etc. which are contained are mentioned.

【0043】本発明の画像記録材料を印刷版として用い
る場合、上記現像液および補充液を用いて現像処理した
後、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理されるこ
とが好ましい。後処理にはこれらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。近年、製版・印刷業界では製
版作業の合理化および標準化のため、印刷版用の自動現
像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に
現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各
処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みの印刷
版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液
をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものであ
る。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中
ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理
する方法も知られている。このような自動処理において
は、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補
充しながら処理することができる。また、実質的に未使
用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用
できる。
When the image recording material of the present invention is used as a printing plate, it is developed using the above-mentioned developing solution and replenishing solution, and then rinsed with water, a rinse solution containing a surfactant, gum arabic and a starch derivative. It is preferably post-treated with a desensitizing solution. Various combinations of these treatments can be used for the post-treatment. In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate, each processing liquid tank and a spraying device, which conveys an exposed printing plate horizontally while pumping it up with each pump. The processing liquid is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing, it is possible to perform processing while supplementing each processing solution with a replenishing solution according to the processing amount, operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.

【0044】[0044]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。(合成例1−1) (化合物(X)の合成a) 1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エ
チル]−4−[α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル]ベンゼン(一般式(X)においてY 1 〜Y
6 がすべて水素原子である化合物)20gを水酸化カリ
ウム水溶液(10%)100mlに溶解させた。この反応
液にホルマリン(37%)60mlを室温で攪拌しながら
1時間かけて滴下した。反応液を室温にてさらに6時間
攪拌した後、硫酸水溶液中に投入し、晶析させた。得ら
れたペースト状沈殿をよく水洗した後、メタノール30
mlを用いて再結晶することにより、白色粉末を得た。収
量20g。得られた化合物は、NMRにより1−[α−
メチル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4
−[α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]
ベンゼンのヘキサメチロール化物(一般式(X)におい
てY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)であ
ることがわかった。逆相HPLC(カラム:Shimpac CL
C-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノール/水=60
/40→90/10)によるヘキサメチロール化物の純
度は92%であった。
The present invention will be described in detail below with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these.(Synthesis example 1-1) (Synthesis a of Compound (X) a) 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) e
Cyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl)
Lu) ethyl] benzene (in the general formula (X), Y 1~ Y
6Is a compound in which all are hydrogen atoms) 20 g of potassium hydroxide
It was dissolved in 100 ml of an aqueous solution of um (10%). This reaction
While stirring 60 ml of formalin (37%) in the liquid at room temperature
It dripped over 1 hour. Allow the reaction solution to continue for 6 hours at room temperature
After stirring, the mixture was poured into a sulfuric acid aqueous solution for crystallization. Got
After thoroughly washing the pasty precipitate formed with water, methanol 30
A white powder was obtained by recrystallization using ml. Income
20g quantity. The obtained compound was analyzed by 1- [α-
Methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4
-[Α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl]
Benzene hexamethylol compound (smell of general formula (X)
Y1~ Y6Is a compound in which all are methylol groups)
I found out that Reversed-phase HPLC (column: Shimapac CL
C-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60
/ 40 → 90/10) pure hexamethylol compound
The degree was 92%.

【0045】(合成例1−2)(化合物(X)の合成
b) 合成例1−1のヘキサメチロール化物(一般式(X)に
おいてY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)
20gをメタノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸
1mlを加え12時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭
酸カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エ
チル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、白
色固体を得た。収量22g。得られた化合物は、NMR
により1−[α−メチル−α−(4−ヒドロキシフェニ
ル)エチル]−4−[α,α−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチル]ベンゼンのヘキサメトキシメチル化物
(一般式(X)においてY1 〜Y6 がすべてメトキシメ
チル基である化合物)であることがわかった。逆相HP
LC(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶
媒:メタノール/水=60/40→90/10)による
ヘキサメトキシメチル化物の純度は90%であった。
(Synthesis Example 1-2) (Synthesis b of Compound (X)) The hexamethylol compound of Synthesis Example 1-1 (a compound in which Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are all methylol groups)
20 g was dissolved in 1000 ml of methanol under heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water and dried, and then the solvent was distilled off to obtain a white solid. Yield 22g. The obtained compound is NMR
Thus, a hexamethoxymethylated product of 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4- [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene (in the general formula (X), Y 1 To Y 6 are all methoxymethyl groups). Reversed phase HP
The purity of hexamethoxymethylated product by LC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) was 90%.

【0046】(合成例1−3)(化合物(X)の合成
c) 合成例1−1のヘキサメチロール化物(一般式(X)に
おいてY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)
20gをエタノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸
1mlを加え12時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭
酸カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エ
チル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、無
色油状物を得た。収量22g。逆相HPLC(カラム:
Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノール
/水=60/40→90/10)によるヘキサエトキシ
メチル化物(一般式(X)においてY1 〜Y6 がすべて
エトキシメチル基である化合物)の純度は70%であっ
た。
(Synthesis Example 1-3) (Synthesis c of Compound (X)) The hexamethylol compound of Synthesis Example 1-1 (a compound in which all of Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are methylol groups)
20 g was dissolved in 1000 ml of ethanol under heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 22g. Reversed phase HPLC (column:
Shimpac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) hexaethoxymethylated compound (a compound of the general formula (X) in which Y 1 to Y 6 are all ethoxymethyl groups) Was 70%.

【0047】(合成例1−4)(化合物(X)の合成
d) 合成例1−1のヘキサメチロール化物(一般式(X)に
おいてY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)
20gを1−メトキシ−2−プロパノール200mlに加
温溶解させ、濃硫酸1mlを加え12時間加熱還流した。
反応液を冷却後、炭酸カリウム2gを加え、さらに攪拌
後、濃縮し、酢酸エチル300mlを加え、水洗、乾燥
後、溶媒を留去し、無色油状物を得た。収量23g。逆
相HPLC(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所
製)、溶媒:メタノール/水=60/40→90/1
0)によるヘキサエーテル化物(一般式(X)において
1 〜Y6 がすべて2−メトキシ−1−メチルエトキシ
メチル基である化合物)の含有率は55%であった。
(Synthesis Example 1-4) (Synthesis d of Compound (X)) The hexamethylol compound of Synthesis Example 1-1 (a compound in which Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are all methylol groups)
20 g was dissolved in 200 ml of 1-methoxy-2-propanol with heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 12 hours.
After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 23g. Reversed phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corp.), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/1
The content of the hexaether compound according to 0) (a compound in which all of Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are 2-methoxy-1-methylethoxymethyl groups) was 55%.

【0048】(合成例1−5)(化合物(X)の合成
e) 合成例1−1のヘキサメチロール化物(一般式(X)に
おいてY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)
20gを塩化メチレン100mlに溶解させ、塩化アセチ
ル10mlを加え25℃で12時間攪拌した。反応液を水
洗、乾燥後、溶媒を留去し、無色油状物を得た。収量2
1g。得られた化合物は、NMRにより1−[α−メチ
ル−α−(4−ヒドロキシフェニル)エチル]−4−
[α,α−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル]ベ
ンゼンのヘキサキスアセトキシメチル化物(一般式
(X)においてY1 〜Y6 がすべてアセトキシメチル基
である化合物)であることがわかった。逆相HPLC
(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:
メタノール/水=60/40→90/10)によるヘキ
サキスアセトキシメチル化物の純度は85%であった。
(Synthesis Example 1-5) (Synthesis e of Compound (X)) A hexamethylol compound of Synthesis Example 1-1 (a compound in which all of Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are methylol groups)
20 g was dissolved in 100 ml of methylene chloride, 10 ml of acetyl chloride was added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 12 hours. The reaction solution was washed with water and dried, and then the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 2
1 g. The obtained compound was analyzed by 1- [α-methyl-α- (4-hydroxyphenyl) ethyl] -4-
It was found to be a hexakisacetoxymethylated product of [α, α-bis (4-hydroxyphenyl) ethyl] benzene (a compound in which all Y 1 to Y 6 in the general formula (X) are acetoxymethyl groups). Reversed phase HPLC
(Column: Shimapac CLC-ODS (Shimadzu), Solvent:
The purity of the hexakisacetoxymethylated product according to methanol / water = 60/40 → 90/10) was 85%.

【0049】(合成例2−1)(化合物(XI)の合成
a) α,α’,α”−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリイソプロピルベンゼン(一般式(XI)
においてY1 〜Y6 がすべて水素原子である化合物)1
7.3gを水酸化ナトリウム水溶液(10%)60gに溶
解させた。この反応液にメタノール15gを添加した
後、ホルマリン(37%)30gを滴下した。滴下終了
後、反応液を40℃に加温して、さらに12時間反応さ
せた後、反応液を酢酸水溶液に晶析して、白色固体を得
た。得られた白色固体をよく水洗した後、室温下減圧乾
燥した。収量20g。得られた化合物は、NMRにより
α,α’,α”−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリイソプロピルベンゼンのヘキサメチロ
ール化物(一般式(XI) においてY1 〜Y6 がすべてメ
チロール基である化合物)であることがわかった。逆相
HPLC(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所
製)、溶媒:メタノール/水=60/40→90/1
0)によるヘキサメチロール化物の純度は90%であっ
た。
(Synthesis Example 2-1) (Synthesis of Compound (XI) a) α, α ′, α ″ -tris (4-hydroxyphenyl)-
1,3,5-triisopropylbenzene (general formula (XI)
In which Y 1 to Y 6 are all hydrogen atoms) 1.
7.3 g was dissolved in 60 g of sodium hydroxide aqueous solution (10%). After adding 15 g of methanol to this reaction liquid, 30 g of formalin (37%) was added dropwise. After completion of the dropping, the reaction solution was heated to 40 ° C. and further reacted for 12 hours, and then the reaction solution was crystallized in an aqueous acetic acid solution to obtain a white solid. The obtained white solid was thoroughly washed with water and then dried under reduced pressure at room temperature. Yield 20g. The resulting compound was analyzed by NMR for α, α ′, α ″ -tris (4-hydroxyphenyl)-
It was found to be a hexamethylol compound of 1,3,5-triisopropylbenzene (a compound in which all of Y 1 to Y 6 in the general formula (XI) are methylol groups). Reversed phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corp.), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/1
The purity of the hexamethylol compound according to 0) was 90%.

【0050】(合成例2−2)(化合物(XI)の合成
b) 合成例2−1のヘキサメチロール化物(一般式(XI)に
おいてY1 〜Y6 がすべてメチロール基である化合物)
20gをメタノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸
1mlを加え9時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭酸
カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エチ
ル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、無色
油状物を得た。収量22g。逆相HPLC(カラム:Sh
impac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノール/
水=60/40→90/10)によるヘキサキスメトキ
シメチル化物(一般式(XI)においてY1 〜Y6 がすべ
てメトキシメチル基である化合物)の純度は83%であ
った。
(Synthesis Example 2-2) (Synthesis b of Compound (XI)) The hexamethylol compound of Synthesis Example 2-1 (a compound in which Y 1 to Y 6 in the general formula (XI) are all methylol groups)
20 g was dissolved in 1000 ml of methanol under heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 9 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 22g. Reversed-phase HPLC (column: Sh
impac CLC-ODS (Shimadzu), solvent: methanol /
The purity of the hexakis methoxymethylated product (a compound in which all of Y 1 to Y 6 in the general formula (XI) are methoxymethyl groups) with water = 60/40 → 90/10 was 83%.

【0051】(合成例3−1)(化合物(XII)の合成
a) α,α,α’,α’−テトラキス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−p−キシレン(一般式(XII)においてY1 〜Y
8 がすべて水素原子である化合物)10gを水酸化ナト
リウム水溶液(15%)25mlに溶解させた。この反応
液にメタノール15mlを添加した後、ホルマリン(37
%)20gを滴下した。滴下終了後、反応液を40℃に
加温して、さらに12時間反応させた後、酢酸水溶液に
晶析した。得られた固体をよく水洗した後、酢酸エチル
100mlでリスラリーして白色粉末を得た。収量11.4
g得られた化合物は、NMRによりα,α,α’,α’
−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジ
メチルベンゼンのオクタメチロール化物(一般式(XII)
においてY1 〜Y8 がすべてメチロール基である化合
物)であることがわかった。逆相HPLC(カラム:Sh
impac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノール/
水=60/40→90/10)によるオクタメチロール
化物の純度は95%であった。
(Synthesis Example 3-1) (Synthesis a of Compound (XII)) α, α, α ′, α′-tetrakis (4-hydroxyphenyl) -p-xylene (in the general formula (XII), Y 1 to Y
10 g of a compound in which all 8 are hydrogen atoms were dissolved in 25 ml of an aqueous sodium hydroxide solution (15%). After adding 15 ml of methanol to this reaction solution, formalin (37
%) 20 g was added dropwise. After the dropping was completed, the reaction solution was heated to 40 ° C., reacted for 12 hours, and then crystallized in an acetic acid aqueous solution. The solid obtained was thoroughly washed with water and then reslurried with 100 ml of ethyl acetate to obtain a white powder. Yield 11.4
g The resulting compound was analyzed by NMR for α, α, α ′, α ′
-Tetrakis (4-hydroxyphenyl) -1,4-dimethylbenzene octamethylol compound (general formula (XII)
In the above, it was found that Y 1 to Y 8 are all methylol groups). Reversed-phase HPLC (column: Sh
impac CLC-ODS (Shimadzu), solvent: methanol /
The purity of the octamethylol compound by water = 60/40 → 90/10) was 95%.

【0052】(合成例3−2)(化合物(XII)の合成
b) 合成例3−1のオクタメチロール化物(一般式(XII)に
おいてY1 〜Y8 がすべてメチロール基である化合物)
20gをメタノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸
1mlを加え10時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭
酸カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エ
チル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、淡
黄色油状物を得た。収量21g。逆相HPLC(カラ
ム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノ
ール/水=60/40→90/10)によるオクタキス
メトキシメチル化物(一般式(XVI)においてY1 〜Y8
がすべてメトキシメチル基である化合物)の純度は87
%であった。
(Synthesis Example 3-2) (Synthesis b of Compound (XII)) The octamethylol compound of Synthesis Example 3-1 (a compound in which all of Y 1 to Y 8 in the general formula (XII) are methylol groups)
20 g was dissolved in 1000 ml of methanol under heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 10 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a pale yellow oily substance. Yield 21g. Reverse phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) octakismethoxymethylated compound (Y 1 to Y 8 in general formula (XVI))
Is a methoxymethyl group) purity is 87
%Met.

【0053】(合成例3−3)(化合物(XII)の合成
c) 合成例3−1のオクタメチロール化物(一般式(XII)に
おいてY1 〜Y8 がすべてメチロール基である化合物)
20gをエタノール800mlに加温溶解させ、濃硫酸1
mlを加え12時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭酸
カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エチ
ル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、無色
油状物を得た。収量23g。逆相HPLC(カラム:Sh
impac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノール/
水=60/40→90/10)によるオクタキスエトキ
シメチル化物(一般式(XII)においてY1 〜Y8 がすべ
てエトキシメチル基である化合物)の純度は72%であ
った。
(Synthesis Example 3-3) (Synthesis c of Compound (XII)) The octamethylol compound of Synthesis Example 3-1 (a compound in which Y 1 to Y 8 in the general formula (XII) are all methylol groups)
Dissolve 20 g in 800 ml of ethanol by heating and add concentrated sulfuric acid 1
ml was added and the mixture was heated under reflux for 12 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 23g. Reversed-phase HPLC (column: Sh
impac CLC-ODS (Shimadzu), solvent: methanol /
The purity of the octakisethoxymethylated product (compound in which all of Y 1 to Y 8 in the general formula (XII) are ethoxymethyl groups) with water = 60/40 → 90/10 was 72%.

【0054】(合成例3−4)(化合物(XII)の合成
d) 合成例3−1のオクタメチロール化物(一般式(XII)に
おいてY1 〜Y8 がすべてメチロール基である化合物)
20gを塩化メチレン100mlに溶解させ、塩化アセチ
ル10mlを加え25℃で12時間攪拌した。反応液を水
洗、乾燥後、溶媒を留去し、無色油状物を得た。収量2
2g。逆相HPLC(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津
製作所製)、溶媒:メタノール/水=60/40→90
/10)によるオクタキスアセトキシメチル化物(一般
式(XII)においてY1 〜Y8 がすべてアセトキシメチル
基である化合物)の純度は75%であった。
(Synthesis Example 3-4) (Synthesis d of Compound (XII)) The octamethylol compound of Synthesis Example 3-1 (a compound in which Y 1 to Y 8 in the general formula (XII) are all methylol groups)
20 g was dissolved in 100 ml of methylene chloride, 10 ml of acetyl chloride was added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 12 hours. The reaction solution was washed with water and dried, and then the solvent was distilled off to obtain a colorless oily substance. Yield 2
2 g. Reversed phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90
/ 10), the purity of the octakisacetoxymethylated compound (a compound in which all Y 1 to Y 8 in the general formula (XII) are acetoxymethyl groups) was 75%.

【0055】(合成例4−1)(化合物(XIII) の合成
a) 1,3,3,5−テトラキス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−ペンタン(一般式(XIII) においてY1 〜Y8
すべて水素原子である化合物)11gを水酸化ナトリウ
ム水溶液(10%)40gに溶解させた。この反応液に
メタノール10gを添加した後、ホルマリン(37%)
20gを滴下した。滴下終了後、反応液を40℃に加温
して、さらに12時間反応させた後、酢酸水溶液に晶析
して白色の粘ちょうな固体を得た。得られた固体をよく
水洗した後、室温下減圧乾燥した。収量13.6g。得ら
れた化合物は、NMRにより1,3,3,5−テトラキ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタンのオクタメチ
ロール化物(一般式(XIII) においてY1〜Y8 がすべ
てメチロール基である化合物)であることがわかった。
逆相HPLC(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所
製)、溶媒:メタノール/水=60/40→90/1
0)によるオクタメチロール化物の純度は93%であっ
た。
(Synthesis Example 4-1) (Synthesis a of Compound (XIII) a) 1,3,3,5-tetrakis (4-hydroxyphenyl) -pentane (in the general formula (XIII), Y 1 to Y 8 are all 11 g of a compound that is a hydrogen atom was dissolved in 40 g of an aqueous sodium hydroxide solution (10%). After adding 10 g of methanol to this reaction solution, formalin (37%)
20 g was added dropwise. After the completion of the dropping, the reaction solution was heated to 40 ° C. and further reacted for 12 hours, and then crystallized in an acetic acid aqueous solution to obtain a white viscous solid. The obtained solid was washed well with water and then dried under reduced pressure at room temperature. Yield 13.6g. The obtained compound is an octamethylol compound of 1,3,3,5-tetrakis (4-hydroxyphenyl) -pentane by NMR (a compound in which Y 1 to Y 8 in the general formula (XIII) are all methylol groups). I knew it was.
Reversed phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corp.), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/1
The purity of the octamethylol compound according to 0) was 93%.

【0056】(合成例4−2)(化合物(XIII) の合成
b) 合成例4−1のオクタメチロール化物(一般式(XIII)
においてY1 〜Y8 がすべてメチロール基である化合
物)20gをメタノール1000mlに加温溶解させ、濃
硫酸1mlを加え10時間加熱還流した。反応液を冷却
後、炭酸カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、
酢酸エチル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去
し、淡黄色油状物を得た。収量21g。逆相HPLC
(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:
メタノール/水=60/40→90/10)によるオク
タキスメトキシメチル化物(一般式(XIII) においてY
1 〜Y8 がすべてメトキシメチル基である化合物)の純
度は85%であった。
(Synthesis Example 4-2) (Synthesis b of Compound (XIII)) The octamethylol compound of Synthesis Example 4-1 (general formula (XIII))
20 g of a compound in which Y 1 to Y 8 are all methylol groups) were dissolved by heating in 1000 ml of methanol, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 10 hours. After cooling the reaction mixture, 2 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further stirred and concentrated,
After adding 300 ml of ethyl acetate, washing with water and drying, the solvent was distilled off to obtain a pale yellow oily substance. Yield 21g. Reversed phase HPLC
(Column: Shimapac CLC-ODS (Shimadzu), Solvent:
Octakis methoxymethylated compound (methanol / water = 60/40 → 90/10) (Y in general formula (XIII))
The purity of the compound in which 1 to Y 8 are all methoxymethyl groups was 85%.

【0057】(合成例5−1)(化合物(XVI)の合成
a) α,α,α’,α’,α”,α”−ヘキサキス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−1,3,5−トリエチルベンゼン
(一般式(XVI)においてY1 〜Y12がすべて水素原子で
ある化合物)15gを水酸化ナトリウム水溶液(15
%)35mlとメタノール25mlの混合液に溶解させた。
この反応液にホルマリン(37%)33gを滴下した。
滴下終了後、反応液を40℃に加温して、さらに20時
間反応させた後、酢酸水溶液中に投入した。水層より、
デカンテーションにより、粘性油状物を分離し、よく水
洗した後、室温下減圧乾燥することにより淡黄色粉末を
得た。収量16.6g 得られた化合物は、NMRによりα,α,α’,α’,
α”,α”−ヘキサキス(4−ヒドロキシフェニル)−
1,3,5−トリエチルベンゼンのドデカメチロール化
物(一般式(XVI)においてY1 〜Y12がすべてメチロー
ル基である化合物)であることがわかった。逆相HPL
C(カラム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶
媒:メタノール/水=60/40→90/10)による
ドデカメチロール化物の純度は80%であった。
(Synthesis Example 5-1) (Synthesis a of Compound (XVI) a) α, α, α ′, α ′, α ″, α ″ -hexakis (4-hydroxyphenyl) -1,3,5-tri 15 g of ethylbenzene (a compound in which all of Y 1 to Y 12 in the general formula (XVI) are hydrogen atoms) was added with an aqueous sodium hydroxide solution (15
%) 35 ml and methanol 25 ml.
33 g of formalin (37%) was added dropwise to this reaction solution.
After completion of the dropping, the reaction solution was heated to 40 ° C., reacted for 20 hours, and then poured into an acetic acid aqueous solution. From the water layer,
The viscous oily substance was separated by decantation, washed well with water, and then dried under reduced pressure at room temperature to obtain a pale yellow powder. Yield: 16.6 g The obtained compound was analyzed by NMR for α, α, α ', α',
α ", α" -hexakis (4-hydroxyphenyl)-
It was found to be a dodecamethylol compound of 1,3,5-triethylbenzene (a compound in which all of Y 1 to Y 12 in the general formula (XVI) are methylol groups). Reversed phase HPL
The purity of the dodecamethylol compound by C (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) was 80%.

【0058】(合成例5−2)(化合物(XVI)の合成
b) 合成例5−1のドデカメチロール化物(一般式(XVI)に
おいてY1 〜Y12がすべてメチロール基である化合物)
20gをメタノール1000mlに加温溶解させ、濃硫酸
1mlを加え13時間加熱還流した。反応液を冷却後、炭
酸カリウム2gを加え、さらに攪拌後、濃縮し、酢酸エ
チル300mlを加え、水洗、乾燥後、溶媒を留去し、淡
黄色油状物を得た。収量21g。逆相HPLC(カラ
ム:Shimpac CLC-ODS (島津製作所製)、溶媒:メタノ
ール/水=60/40→90/10)によるドデカキス
メトキシメチル化物(一般式(XVI)においてY1 〜Y12
がすべてメトキシメチル基である化合物)の純度は75
%であった。
(Synthesis Example 5-2) (Synthesis b of Compound (XVI)) Dodecamethylol compound of Synthesis Example 5-1 (a compound in which Y 1 to Y 12 in the general formula (XVI) are all methylol groups)
20 g was dissolved in 1000 ml of methanol under heating, 1 ml of concentrated sulfuric acid was added, and the mixture was heated under reflux for 13 hours. After cooling the reaction solution, 2 g of potassium carbonate was added, and the mixture was further stirred and concentrated, 300 ml of ethyl acetate was added, washed with water, dried and the solvent was distilled off to obtain a pale yellow oily substance. Yield 21g. Reversed-phase HPLC (column: Shimapac CLC-ODS (manufactured by Shimadzu Corporation), solvent: methanol / water = 60/40 → 90/10) by dodecakis methoxymethylated compound (Y 1 to Y 12 in the general formula (XVI)).
Is a methoxymethyl group), the purity is 75
%Met.

【0059】〔基板の作製〕厚さ0.3ミリのアルミニウ
ム板(材質1050)を溶剤洗浄して脱脂した後、ナイ
ロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用
い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m2であった。次にこの板を7%
硫酸を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/m2
直流酸化被膜を設けた後、水洗乾燥した。次にこのアル
ミニウム板に下記下塗り液を塗布し、80℃、30秒間
乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。 (下塗り液) β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
[Preparation of Substrate] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was solvent-cleaned and degreased, and then a nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension were used to grain the surface. After that, it was washed well with water. This plate was immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds for etching, washed with water, and further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Then this plate is 7%
A sulfuric acid electrolytic solution was used to form a direct current oxide film of 3 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 and then washed with water and dried. Next, the following undercoat liquid was applied to this aluminum plate and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . (Undercoating liquid) β-alanine 0.1 g Phenylphosphonic acid 0.05 g Methanol 40 g Pure water 60 g

【0060】〔カーボンブラック分散液の作製〕下記重
量比による組成物をガラスビーズにより10分間分散し
カーボンブラック分散液を得た。 カーボンブラック 1 重量部 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 1.6重量部 (モル比71:29、重量平均分子量7万) シクロヘキサン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
[Preparation of Carbon Black Dispersion] A composition having the following weight ratio was dispersed with glass beads for 10 minutes to obtain a carbon black dispersion. Carbon black 1 part by weight Copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid 1.6 parts by weight (molar ratio 71:29, weight average molecular weight 70,000) Cyclohexane 1.6 parts by weight Methoxypropyl acetate 3.8 parts by weight

【0061】〔ネガ型平版印刷版の作製〕 (実施例1〜13、比較例1〜4)上記により得られた
アルミニウム板に下記感光液を塗布し、100℃で2分
間乾燥をしてネガ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の
重量は2.0g/m2であった。
[Preparation of negative lithographic printing plate] (Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 4) The aluminum plate obtained above was coated with the following photosensitive solution and dried at 100 ° C for 2 minutes to obtain a negative. A type photosensitive lithographic printing plate was obtained. The weight after drying was 2.0 g / m 2 .

【0062】 感光液 前記カーボンブラック分散液 2.4g フェノール誘導体 (表1に記載のとおり) フェノール−ホルムアルデヒドノボラック (表1に記載のとおり) (重量平均分子量12000) 4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) 0.02g*1 アミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル) −S−トリアジン メガファックF−176(大日本インキ化学工業 0.06g (株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 2−メトキシ−1−プロパノール 12g *1:実施例1、2では添加せず。Photosensitive Solution 2.4 g Phenol derivative (as described in Table 1) Phenol-formaldehyde novolac (as described in Table 1) (Weight average molecular weight 12000) 4- (pN, N-) Bis (ethoxycarbonylmethyl) 0.02g * 1 aminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine Megafac F-176 (Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. 0.06g, fluorine-based interface) Activator) Methyl ethyl ketone 15 g 2-Methoxy-1-propanol 12 g * 1: Not added in Examples 1 and 2.

【0063】[0063]

【表1】 ─────────────────────────────────── ノボラック フェノール誘導体 の使用量 ──────────────────── (g) 一般式 合成例 使用量(g) 印刷枚数 実施例1 2.10 (X) 合成例1−1の化合物 0.21 3 万枚 実施例2 2.00 (X) 合成例1−2の化合物 0.21 2.5万枚 実施例3 2.10 (X) 合成例1−3の化合物 0.20 3 万枚 実施例4 2.05 (X) 合成例1−4の化合物 0.21 2 万枚 実施例5 2.00 (X) 合成例1−5の化合物 0.22 3.5万枚 実施例6 2.07 (XI) 合成例2−1の化合物 0.21 3 万枚 実施例7 2.07 (XI) 合成例2−2の化合物 0.21 3 万枚 実施例8 2.11 (XII) 合成例3−1の化合物 0.21 3 万枚 実施例9 2.11 (XII) 合成例3−2の化合物 0.21 2.5万枚 実施例10 2.10 (XII) 合成例3−3の化合物 0.21 3 万枚 実施例11 2.08 (XIII) 合成例4−1の化合物 0.21 2.5万枚 実施例12 2.08 (XIII) 合成例4−2の化合物 0.21 2.5万枚 実施例13 2.05 (XVI) 合成例5−1の化合物 0.20 3 万枚 ─────────────────────────────────── 比較例1 2.10 − − 添加せず 画像形成せず 比較例2 2.09 (X) 合成例1の原料 0.20 画像形成せず 比較例3 2.12 (XXI) − 0.22 画像形成せず 比較例4 2.10 (XXII) − 0.22 1 万枚 ───────────────────────────────────[Table 1] ─────────────────────────────────── Amount of novolak phenol derivative used ───── ─────────────── (g) General formula Synthesis amount Usage (g) Number of prints Example 1 2.10 (X) Compound of Synthesis Example 1-1 0.21 30,000 sheets Example 2 2.00 (X) Compound of Synthesis Example 1-2 0.21 25,000 sheets Example 3 2.10 (X) Compound of Synthesis Example 1-3 0.20 30,000 sheets Example 4 2.05 (X) Compound of Synthesis Example 1-4 0.21 20,000 sheets Example 5 2.00 (X) Synthesis example 1-5 compound 0.22 350,000 sheets Example 6 2.07 (XI) Synthesis example 2-1 compound 0.21 30,000 sheets Example 7 2.07 (XI) Synthesis example 2-2 Compound 0.21 30,000 sheets Example 8 2.11 (XII) Synthesis Example 3-1 compound 0.21 30,000 sheets Example 9 2.11 (XII) Synthesis Example 3-2 compound 0.21 25,000 sheets Example 10 2.10 (XII) Compound of Synthesis Example 3-3 0.21 30,000 sheets Example 11 2.08 (XII) I) Compound of Synthesis Example 4-1 0.21 25,000 sheets Example 12 2.08 (XIII) Compound of Synthesis Example 4-2 0.21 250,000 sheets Example 13 2.05 (XVI) Compound of Synthesis Example 5-1 0.20 30,000 sheets ─────────────────────────────────── Comparative Example 1 2.10 − − Image formation without addition No Comparative Example 2 2.09 (X) Raw material of Synthesis Example 1 0.20 No image formed Comparative Example 3 2.12 (XXI) − 0.22 No image formed Comparative Example 4 2.10 (XXII) − 0.22 10,000 sheets ─────── ────────────────────────────

【0064】比較例2に用いた化合物は一般式(X)に
おいてY1 〜Y6 がすべて水素原子である化合物であ
り、また、比較例3、4に用いた化合物(XXI)、(XXII)
は、それぞれベンゼン核を1、2個有する下記構造のも
のであり、特公平1−49932号公報記載の化合物で
ある。
The compound used in Comparative Example 2 is a compound in which Y 1 to Y 6 are all hydrogen atoms in the general formula (X), and the compounds (XXI) and (XXII) used in Comparative Examples 3 and 4
Is a compound having the following structure each having one or two benzene nuclei and is a compound described in JP-B-1-49932.

【0065】[0065]

【化12】 [Chemical 12]

【0066】得られたネガ型感光性平版印刷版を版面出
力700mWに調節したYAGレーザで露光した後、富
士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、
リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通
して処理したところ、ネガ画像が得られた。この平版印
刷版をハイデルSOR−KZ機で印刷した結果を表1に
示した。本発明のフェノール誘導体を用いた実施例1〜
13においては、いずれも良好な印刷物が得られた。一
方、本発明のフェノール誘導体を用いなかった比較例に
おいては画像形成せず、画像形成した比較例4において
も印刷枚数は低かった。
The negative photosensitive lithographic printing plate thus obtained was exposed with a YAG laser adjusted to a plate surface output of 700 mW, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd., DP-4 (1: 8),
When processed through an automatic processor equipped with rinse solution FR-3 (1: 7), a negative image was obtained. The results of printing the planographic printing plate with a Heidel SOR-KZ machine are shown in Table 1. Example 1 using the phenol derivative of the present invention
In No. 13, good printed matter was obtained. On the other hand, no image was formed in the comparative example in which the phenol derivative of the present invention was not used, and the number of printed sheets was also low in the comparative example 4 in which the image was formed.

【0067】(比較例5)実施例1の感光液組成中、カ
ーボンブラック分散液を用いなかったこと以外は実施例
1と同様にして、ネガ型感光性平版印刷版を作製した。
この感光性平版印刷版を、実施例1と同様に露光し現像
処理を行ったところ、感光膜がすべて現像液に溶解して
しまい画像は得られなかった。 (実施例14〜19、比較例6〜7)実施例1〜13で
使用したアルミニウム板に下記感光液を塗布し、100
℃で2分間乾燥してネガ型感光性平版印刷版を得た。乾
燥後の重量は2.0g/m2であった。 感光液 前記カーボンブラック分散液 2.2g 合成例1−2のフェノール化合物 0.25g 下記のアルカリ可溶性樹脂 2.05g メガファックF−176(大日本インキ 0.06g 化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 2−メトキシ−1−プロパノール 12g
Comparative Example 5 A negative photosensitive lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the carbon black dispersion was not used in the photosensitive liquid composition of Example 1.
When this photosensitive lithographic printing plate was exposed and developed in the same manner as in Example 1, all the photosensitive film was dissolved in the developing solution, and no image was obtained. (Examples 14 to 19 and Comparative Examples 6 to 7) The aluminum plate used in Examples 1 to 13 was coated with the following photosensitive solution, and 100
It was dried at ℃ for 2 minutes to obtain a negative photosensitive lithographic printing plate. The weight after drying was 2.0 g / m 2 . Photosensitive liquid 2.2 g of the carbon black dispersion liquid Phenol compound of Synthesis Example 1-2 0.25 g Alkali-soluble resin 2.05 g Megafac F-176 (Dainippon Ink 0.06 g Chemical Industry Co., Ltd., fluorine-based) Surfactant) Methyl ethyl ketone 15 g 2-Methoxy-1-propanol 12 g

【0068】[0068]

【化13】 [Chemical 13]

【0069】[0069]

【化14】 [Chemical 14]

【0070】得られたネガ型感光性平版印刷版を版面出
力700mWに調節したYAGレーザで露光した後、炭
酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムを含む水溶液で現像
処理した結果、フェノール環やアリル基を有するアクリ
ル樹脂を用いた実施例14〜19においては、いずれも
ネガ画像が得られた。一方、フェノール環やアリル基を
有しないアクリル樹脂を用いた比較例6〜7においては
感光膜がすべて現像液に溶解してしまい画像は得られな
かった。
The negative-working photosensitive lithographic printing plate thus obtained was exposed to a YAG laser adjusted to a plate surface output of 700 mW and then developed with an aqueous solution containing sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate. As a result, an acrylic resin having a phenol ring or an allyl group was obtained. In each of Examples 14 to 19 using the resin, a negative image was obtained. On the other hand, in Comparative Examples 6 to 7 in which the acrylic resin having no phenol ring or allyl group was used, the photosensitive film was completely dissolved in the developing solution and no image was obtained.

【0071】(実施例20〜22、比較例8〜9)実施
例1で用いたカーボンブラック分散液の代わりに表2に
記載の染料を用いた感光液を、実施例1と同様の操作に
より塗布、乾燥してネガ型感光性平版印刷版を得た。 感光液 表2に記載の染料 0.2g 合成例1−2のフェノール化合物 (表2に記載のとおり) フェノール−ホルムアルデヒドノボラック 2.0g (重量平均分子量12000) 4−(p−N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル) 0.02g*2 アミノフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル) −S−トリアジン メガファックF−176(大日本インキ 0.06g 化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) メチルエチルケトン 15g 2−メトキシ−1−プロパノール 12g *2 実施例21では添加せず。
(Examples 20 to 22, Comparative Examples 8 to 9) The carbon black dispersion used in Example 1 was replaced with a photosensitive solution containing the dyes shown in Table 2 by the same procedure as in Example 1. After coating and drying, a negative photosensitive lithographic printing plate was obtained. Photosensitive solution Dye described in Table 2 0.2 g Phenol compound of Synthesis Example 1-2 (as described in Table 2) Phenol-formaldehyde novolac 2.0 g (weight average molecular weight 12000) 4- (p-N, N-bis) (Ethoxycarbonylmethyl) 0.02 g * 2 Aminophenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine Megafac F-176 (Dainippon Ink 0.06 g Chemical Industry Co., Ltd., fluorine-based surfactant Agent) Methyl ethyl ketone 15 g 2-methoxy-1-propanol 12 g * 2 Not added in Example 21.

【0072】[0072]

【表2】 ───────────────────────────────── 染 料 フェノール化合物の使用量(g) 印刷枚数 実施例20 0.35 2.5 万枚 実施例21 0.34 2.0 万枚実施例22 0.35 2.5 万枚 比較例8 添加せず 0.34 画像形成せず比較例9 添加せず 画像形成せず [Table 2] ───────────────────────────────── Dyeing amount of phenolic compound (g) Number of printed sheets Example 20 0.35 25,000 sheets Example 21 0.34 20 thousand sheets Example 22 0.35 25,000 sheets Comparative Example 8 No addition 0.34 No image formation Comparative Example 9 No addition No image formation

【0073】[0073]

【化15】 [Chemical 15]

【0074】得られたネガ型感光性平版印刷版を半導体
レーザ(波長825nm、スポット径:1/e2 =11.9
μ)を用い、線速度8m/sec で版面出力110mWに
調節し、露光した。次に実施例1と同様の現像処理を行
ったところ、実施例20〜22では線幅10μの細線が
形成できた。得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製
SOR−KZ型印刷機で市販のインキを用いて上質紙に
印刷した。結果を表2にあわせて示した。本発明のフェ
ノール誘導体を染料と組み合わせて用いた実施例20〜
22においては、いずれも良好な印刷物が得られた。一
方、染料を加えなかった比較例8、本発明のフェノール
誘導体を用いなかった比較例9においては画像形成しな
かった。
The negative-working photosensitive lithographic printing plate thus obtained was applied to a semiconductor laser (wavelength 825 nm, spot diameter: 1 / e 2 = 11.9).
μ) was used to adjust the plate surface output to 110 mW at a linear velocity of 8 m / sec for exposure. Next, when the same developing treatment as in Example 1 was carried out, in Examples 20 to 22, fine lines having a line width of 10 μ could be formed. The lithographic printing plate thus obtained was printed on high-quality paper with a commercially available ink using a SOR-KZ type printer manufactured by Heidelberg. The results are also shown in Table 2. Examples 20-using the phenol derivatives of the invention in combination with dyes
In No. 22, good printed matter was obtained. On the other hand, no image was formed in Comparative Example 8 in which no dye was added and Comparative Example 9 in which the phenol derivative of the present invention was not used.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明のネガ型画像記録材料は、露光光
源の発光波長に依存せずに記録可能であり、特に近赤外
から赤外(熱線)領域の光で記録可能である。更に本発
明の記録材料は、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体
レーザ・半導体レーザ(熱モード)を用いて記録するこ
とにより、コンピュータ等のディジタルデータから直接
製版可能であり、さらに従来の処理装置や印刷装置をそ
のまま利用できるヒートモード書き込み型ダイレクト製
版により平版印刷版を得ることができる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The negative image recording material of the present invention can be recorded without depending on the emission wavelength of the exposure light source, and in particular, can be recorded with light in the near infrared to infrared (heat ray) region. Further, the recording material of the present invention can be directly plate-made from digital data of a computer or the like by recording using a solid-state laser / semiconductor laser (thermal mode) having an emission region from near infrared to infrared. It is possible to obtain a lithographic printing plate by the heat mode writing type direct plate making which can directly use the processing device and the printing device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−245049(JP,A) 特開 昭52−46902(JP,A) 米国特許3628953(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41C 1/05 G03F 7/00 G03F 7/038 G03F 7/20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-245049 (JP, A) JP-A-52-46902 (JP, A) US Pat. No. 3628953 (US, A) (58) Fields investigated (Int .Cl. 7 , DB name) B41C 1/05 G03F 7/00 G03F 7/038 G03F 7/20

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発
生する物質、水不溶かつアルカリ水可溶性樹脂及び、分
子内に4〜8個のベンゼン核、少なくとも1個のフェノ
ール性水酸基並びに少なくとも2個の式(I)で表わさ
れる基を有するフェノール誘導体を含有することを特徴
とするネガ型画像記録材料。 −CH2OR1 (I) (式中、R1 は水素原子、アルキル基またはアシル基を
示す)
1. A substance which absorbs infrared light or near infrared light to generate heat, a water-insoluble and alkali-water-soluble resin, 4 to 8 benzene nuclei in the molecule, at least one phenolic hydroxyl group, and A negative image recording material comprising a phenol derivative having at least two groups represented by formula (I). —CH 2 OR 1 (I) (in the formula, R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group)
【請求項2】 請求項1記載のネガ型画像記録材料を、2. The negative image recording material according to claim 1,
赤外光もしくは近赤外光を発するレーザを用いて露光Exposure using a laser that emits infrared light or near infrared light
し、その後アルカリ水現像液で現像するネガ型画像記録Negative image recording by developing with alkaline water developer
方法。Method.
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