JP3511376B2 - Muffle furnace - Google Patents
Muffle furnaceInfo
- Publication number
- JP3511376B2 JP3511376B2 JP2001090301A JP2001090301A JP3511376B2 JP 3511376 B2 JP3511376 B2 JP 3511376B2 JP 2001090301 A JP2001090301 A JP 2001090301A JP 2001090301 A JP2001090301 A JP 2001090301A JP 3511376 B2 JP3511376 B2 JP 3511376B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- muffle
- downstream
- upstream
- contact zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、マッフル炉に係
り、特にワークに対し複数の処理を施すのに好適なマッ
フル炉に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a muffle furnace, and more particularly to a muffle furnace suitable for subjecting a work to a plurality of treatments.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子部品にあっては、焼き付け,焼結な
どの処理を行う場合、その処理のための専用の炉を用い
ているが、それ以外として、例えば種々のガスと化学反
応させたり、酸化を防止させたりする処理を行うマッフ
ル炉を用いる場合がある。このようなマッフル炉は、通
常は、他のガスと混合されるのを避けるため、一台のマ
ッフル炉が単一のガスを使用するようになっている。2. Description of the Related Art For electronic parts, when a process such as baking or sintering is performed, a dedicated furnace is used for the process. However, other than that, for example, a chemical reaction with various gases, In some cases, a muffle furnace that performs a process to prevent oxidation is used. In such a muffle furnace, usually one muffle furnace uses a single gas in order to avoid mixing with other gases.
【0003】図6は従来のマッフル炉の一例を示してい
る。同図に示すマッフル炉は、マッフル本体1の上下部
に上部ヒータ2,下部ヒータ3が設置され、また、マッ
フル本体1の出口1b側の端部にガス流入口4が設けら
れると共に、入口1a側の端部にガス流出口5が設けら
れている。さらに、ワーク搬送機構6が設置され、ワー
ク搬送機構6がベルトコンベア7をz方向へ駆動するこ
とにより、ベルトコンベア7上のワークWがマッフル本
体1の入口1aからマッフル本体1内に搬入され、かつ
マッフル本体1内を通過して出口1bから搬出されるよ
うになっている。FIG. 6 shows an example of a conventional muffle furnace. In the muffle furnace shown in the figure, an upper heater 2 and a lower heater 3 are installed at the upper and lower parts of the muffle body 1, and a gas inlet 4 is provided at the end of the muffle body 1 on the outlet 1b side, and an inlet 1a is provided. A gas outlet 5 is provided at the end on the side. Further, the work transfer mechanism 6 is installed, and the work transfer mechanism 6 drives the belt conveyor 7 in the z direction, so that the work W on the belt conveyor 7 is carried into the muffle body 1 from the inlet 1a of the muffle body 1, Moreover, it passes through the inside of the muffle body 1 and is carried out from the outlet 1b.
【0004】そして、マッフル本体1が上部ヒータ2お
よび下部ヒータ3によって処理温度に加熱され、またガ
ス流入口4からマッフル本体1内に処理用のガスが供給
され、そのガスがマッフル本体1内で長さ方向に沿って
充満し、その排気ガスが入口1a側のガス流出口5から
排気されるガス雰囲気が生成された状態にあるとき、ワ
ーク搬送機構6によってワークWがマッフル本体1内に
搬入され、そのワークWがマッフル本体1内でガスに触
れることにより、例えば酸化防止用等の処理が施される
こととなる。Then, the muffle body 1 is heated to the processing temperature by the upper heater 2 and the lower heater 3, and a processing gas is supplied from the gas inlet 4 into the muffle body 1. When the exhaust gas is filled along the length direction and a gas atmosphere is generated in which the exhaust gas is exhausted from the gas outlet 5 on the inlet 1a side, the work W is carried into the muffle body 1 by the work transfer mechanism 6. Then, the work W is exposed to the gas in the muffle body 1 to be subjected to, for example, a treatment for preventing oxidation.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記に示す
従来のマッフル炉は、一台のマッフル本体1で取り扱う
ガスは単一のものであって、ワークWに対し一台で一つ
の処理しか行うことができないものである。そのため、
ワークWに複数の処理を施す場合には、それに対応する
数のガス雰囲気を生成しなければならないので、複数台
のマッフル本体1を用意し、それら各マッフル本体1を
工程順に直列に配置しておき、各マッフル本体1にワー
クWを順次搬送することにより、ワークWに複数の処理
を施すようにしている。By the way, in the conventional muffle furnace described above, one muffle body 1 handles a single gas, and the work W carries out only one treatment. It is something that cannot be done. for that reason,
When performing a plurality of processes on the work W, it is necessary to generate a gas atmosphere of a number corresponding thereto, so prepare a plurality of muffle main bodies 1 and arrange the muffle main bodies 1 in series in the order of steps. Every time, the work W is sequentially conveyed to each muffle body 1 so that the work W is subjected to a plurality of processes.
【0006】しかしながら、マッフル本体1を直列に複
数台配置すると、かなりのスペースを要し、しかもその
分の長さを有するワーク搬送機構6を製作しなければな
らないばかりでなく、ヒータ電力の増大を招き、さらに
はマッフル本体の保守点検等に手間がかかる等という問
題があった。However, when a plurality of muffle main bodies 1 are arranged in series, a considerable space is required, and moreover, not only the work transfer mechanism 6 having a length corresponding thereto has to be manufactured, but also the heater power is increased. There was also a problem that it was time-consuming to inspect and maintain the muffle body.
【0007】本発明は、上記従来技術の問題点を解消
し、ワークに対し一台で複数の処理を施工することがで
きるマッフル炉を提供することを課題とする。It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a muffle furnace capable of performing a plurality of treatments on a work by one unit.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明においては、以下の手段を採用した。本発明で
は、マッフル本体と、マッフル本体内を加熱する加熱手
段と、ワークをマッフル本体に搬送するワーク搬送機構
とを備えたマッフル炉において、マッフル本体内に搬送
方向に沿いそれぞれ異なる種類のガスによって生成さ
れ、かつワークの処理に必要なガス雰囲気からなる複数
の接触ゾーンと、マッフル本体内にそれぞれ形成され、
各接触ゾーンの上流部及び下流部を仕切る複数のガスバ
リアとを備えたことを特徴とする。また、前記複数の接
触ゾーンの各々は、マッフル本体内に特定種類のガスを
供給するゾーン用ガス供給口と、対応接触ゾーンの排ガ
スを吸引するゾーン用ガス排出口とを有する複数の給排
機構によって形成されることを特徴とする。前記複数の
ガスバリアは、マッフル本体の上部に設置され、かつマ
ッフル本体内の各接触ゾーンの上流部および下流部をそ
れぞれ吸引するガス吸引部によって形成されることを特
徴とする。前記複数のガスバリアは、マッフル本体内の
上流側に生成された接触ゾーンの上流部を仕切る上流側
ガスバリアと、マッフル本体内の下流側に生成された接
触ゾーンの下流部を仕切る下流側ガスバリアと、マッフ
ル本体内に互いに隣列して生成された接触ゾーンのう
ち、一方の上流側の接触ゾーンの下流部と他方の下流側
の接触ゾーンの上流部を共に仕切る中間側ガスバリアと
からなることを特徴とする。前記上流側ガスバリアを形
成するガス吸引部と前記下流側ガスバリアを形成するガ
ス吸引部とのそれぞれに、前記マッフル本体内にバリア
用ガスを供給する供給口を有することを特徴とする。前
記複数のガスバリアの各々は、マッフル本体内の炉幅と
ほぼ同様の幅をもっていることを特徴とする。そして、
マッフル本体内の各ガスバリアに起立して取り付けられ
た仕切板を備えていることを特徴とする。前記仕切板
は、マッフル本体内の炉幅とほぼ同様の幅を有すること
を特徴とする。前記仕切板は、マッフル本体内におい
て、搬送されるワークの上部近傍に設けられ、ワークの
上部から天井までの高さの1/5以上の高さをもってい
ることを特徴とする。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present invention employs the following means. In the present invention, in a muffle furnace provided with a muffle body, a heating means for heating the inside of the muffle body, and a work transfer mechanism for transferring the work to the muffle body, in the muffle body by different types of gas along the transfer direction. Generated and formed in the muffle body with a plurality of contact zones consisting of the gas atmosphere necessary for processing the workpiece,
A plurality of gas barriers for partitioning the upstream part and the downstream part of each contact zone are provided. Further, each of the plurality of contact zones has a plurality of zone gas supply ports for supplying a specific type of gas into the muffle body, and a plurality of zone gas discharge ports for sucking the exhaust gas of the corresponding contact zones. It is characterized by being formed by. The plurality of gas barriers may be installed at an upper portion of the muffle body, and may be formed by gas suction portions that respectively suck an upstream portion and a downstream portion of each contact zone in the muffle body. The plurality of gas barriers, an upstream gas barrier partitioning the upstream part of the contact zone generated on the upstream side in the muffle body, and a downstream gas barrier partitioning the downstream part of the contact zone generated on the downstream side in the muffle body, Of the contact zones generated next to each other in the muffle body, the downstream side of one upstream contact zone and the upstream side of the other downstream contact zone are separated from each other, and an intermediate gas barrier is formed. And A gas suction portion that forms the upstream gas barrier and a gas suction portion that forms the downstream gas barrier.
Barrier inside the muffle body
It is characterized by having a supply port for supplying a gas for use . Each of the plurality of gas barriers has a width substantially similar to a furnace width in the muffle body. And
It is characterized in that it is provided with a partition plate which is erected and attached to each gas barrier in the muffle body. The partition plate has a width substantially similar to the width of the furnace in the muffle body. The partition plate is provided in the muffle body in the vicinity of the upper part of the conveyed work and has a height of ⅕ or more of the height from the upper part of the work to the ceiling.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
〜図5に基づいて説明する。図1は本発明によるマッフ
ル炉の一実施形態を示す全体の縦断面図、図2は要部を
示す拡大図である。図1に示すように、本実施形態のマ
ッフル炉10は、マッフル本体11の上下部に加熱手段
としての上部ヒータ12aおよび下部ヒータ12bが配
設され、またマッフル本体11に対しワークWを搬送す
るワーク搬送機構13を有している。ワーク搬送機構1
3は、例えばベルト車14,15と、その両ベルト車1
4,15間に掛け渡されたベルトコンベア16とを具備
し、ベルトコンベア16の上流部にワークWが供給され
ると、ベルト車14,15の回転によってベルトコンベ
ア16が矢印z方向に駆動されることにより、ワークW
を下流側に搬送できるようになっている。そのため、ベ
ルト車14,15のうち、何れか一方が図示しない駆動
源と連結されているが、これに限らず、双方が駆動源と
連結されて同期回転するように構成してもよい。なお、
下部ヒータ12bは、マッフル本体11の下部に設けら
れ、その熱がマッフル本体11の底壁およびベルトコン
ベア16を介し、該ベルトコンベア16上のワークWに
効率的に伝わるようになっている。そのため、ベルトコ
ンベア16は、通常では金網で構成されているが、例え
ば線材をメッシュ状に形成したもので構成してもよい。
このようなマッフル本体11は、図示していないが、断
熱材からなるカバーで覆われている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIG.
~ It demonstrates based on FIG. FIG. 1 is an overall longitudinal sectional view showing an embodiment of a muffle furnace according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view showing a main part. As shown in FIG. 1, in the muffle furnace 10 of the present embodiment, an upper heater 12a and a lower heater 12b as heating means are arranged on the upper and lower parts of a muffle body 11, and a work W is conveyed to the muffle body 11. It has a work transfer mechanism 13. Work transfer mechanism 1
3 is, for example, belt wheels 14 and 15 and both belt wheels 1
When the work W is supplied to the upstream portion of the belt conveyor 16, the belt conveyor 16 is driven in the arrow z direction by the rotation of the belt wheels 14 and 15. Work W
Can be transported to the downstream side. Therefore, either one of the belt wheels 14 and 15 is connected to a drive source (not shown), but the present invention is not limited to this, and both may be connected to the drive source so as to rotate synchronously. In addition,
The lower heater 12b is provided below the muffle body 11, and its heat is efficiently transmitted to the work W on the belt conveyor 16 via the bottom wall of the muffle body 11 and the belt conveyor 16. Therefore, the belt conveyor 16 is usually formed of a wire mesh, but may be formed of, for example, a wire material formed in a mesh shape.
Although not shown, the muffle body 11 is covered with a cover made of a heat insulating material.
【0010】そして、マッフル本体11内に処理に必要
なガス雰囲気にあって、かつ上部ヒータ12a,下部ヒ
ータ12bによって加熱されているとき、ベルトコンベ
ア16が駆動されると、ベルトコンベア16上のワーク
Wがマッフル本体11の入口11aからマッフル本体1
1内に搬入され、内部を通過しながら処理されて出口1
1bより搬出されるようになっており、そのため、マッ
フル本体11にはワークWの処理に必要な複数の接触ゾ
ーンA〜Cが形成されている。When the belt conveyor 16 is driven when the muffle body 11 is in a gas atmosphere required for processing and is heated by the upper heater 12a and the lower heater 12b, the work on the belt conveyor 16 is driven. W is from the inlet 11a of the muffle body 11 to the muffle body 1
1 is carried in, processed while passing through the inside, and exit 1
Therefore, the muffle body 11 is formed with a plurality of contact zones A to C necessary for processing the work W.
【0011】複数の接触ゾーンA〜Cは、それぞれ異な
る種類のガスによってガス雰囲気をそれぞれ生成するた
めのものであって、例えば第1給排機構17〜第3給排
機構19からなっている。第1給排機構17は、マッフ
ル本体11の入口11a寄りの上部に設けられたゾーン
用ガス供給口としての上流入口17aおよび、それより
下流側に配置されたゾーン用ガス供給口としての下流入
口17bと、その流入口17aおよび17b間に設けら
れたゾーン用ガス排出口としての流出口17cとからな
っている。上流入口17aおよび下流入口17bは図示
しないガス供給源と接続され、流出口17cは図示しな
い吸引手段と接続されている。The plurality of contact zones A to C are for generating gas atmospheres by different kinds of gases, and are composed of, for example, a first supply / discharge mechanism 17 to a third supply / discharge mechanism 19. The first supply / discharge mechanism 17 includes an upstream inlet 17a as a zone gas supply port provided at an upper portion of the muffle body 11 near the inlet 11a, and a downstream inlet as a zone gas supply port disposed downstream thereof. 17b and an outlet 17c as a zone gas outlet provided between the inlets 17a and 17b. The upstream inlet 17a and the downstream inlet 17b are connected to a gas supply source (not shown), and the outlet 17c is connected to a suction means (not shown).
【0012】そして、上流入口17a,下流入口17b
の双方からマッフル本体11内にガスが供給されると共
に、それら両者間の流出口17cから排ガスが吸引され
ることにより、マッフル本体11内の上流側で図1に示
すように、矢印a,a′間の範囲からなるガス雰囲気が
生成され、これによって接触ゾーンAを形成するように
なっている。The upstream inlet 17a and the downstream inlet 17b
By supplying the gas into the muffle body 11 from both of them and sucking the exhaust gas from the outflow port 17c between them, as shown in FIG. A gas atmosphere consisting of the region between the two'is created, thereby forming the contact zone A.
【0013】第2給排機構18は、マッフル本体11の
前記第1給排機構17より下流側の上部、つまりマッフ
ル本体11の中央側の上部に設けられたゾーン用ガス供
給口としての上流入口18aおよび、それより下流側に
配置されたゾーン用該流入口としての下流入口18b
と、その上流入口18aおよび下流入口18b間に設け
られたゾーン用ガス排出口としての流出口18cとから
なっている。上流入口18aおよび下流入口18bは図
示しないガス供給源と接続され、流出口18cは図示し
ない吸引手段と接続されている。そして、上流入口18
a,下流入口18bの双方からマッフル本体11内にガ
スが供給されると共に、それら両者間の流出口18cか
ら排ガスが吸引されることにより、マッフル本体11内
の中央側で図1に示すように、矢印b,b′間の範囲か
らなるガス雰囲気が生成され、これによって接触ゾーン
Bを形成するようになっている。The second supply / discharge mechanism 18 is provided at an upper part of the muffle body 11 on the downstream side of the first supply / discharge mechanism 17, that is, on an upper part of the center side of the muffle body 11 as an upstream inlet as a zone gas supply port. 18a and a downstream inlet 18b as the inlet for the zone arranged downstream thereof.
And an outlet 18c serving as a zone gas outlet provided between the upstream inlet 18a and the downstream inlet 18b. The upstream inlet 18a and the downstream inlet 18b are connected to a gas supply source (not shown), and the outlet 18c is connected to a suction means (not shown). And the upstream entrance 18
Gas is supplied into the muffle body 11 from both the a and the downstream inlets 18b, and the exhaust gas is sucked from the outflow port 18c between the two, so that the central portion of the muffle body 11 has a central side as shown in FIG. , A gas atmosphere having a range between the arrows b and b'is generated, thereby forming the contact zone B.
【0014】第3給排機構19は、マッフル本体11の
前記第2給排機構18より下流側、つまりマッフル本体
11の出口11b側の上部に設けられたゾーン用ガス供
給口としての上流入口19aおよび下流入口19bと、
その上流入口19aおよび下流入口19b間に設けられ
たゾーン用ガス排出口としての流出口19cとからなっ
ている。これら上流入口19aおよび下流入口19bも
図示しないガス供給源と接続され、流出口19cも図示
しない吸引手段と接続されている。そして、上流入口1
9a,下流入口19bの双方からマッフル本体11内に
ガスが供給されると共に、流出口19cからその排ガス
が吸引されることにより、マッフル本体11の下流側で
図1に示すように矢印c,c′の範囲でガス雰囲気が生
成されることにより、接触ゾーンCを形成するようにな
っている。The third feeding / discharging mechanism 19 is provided on the downstream side of the second feeding / discharging mechanism 18 of the muffle body 11, that is, on the upper portion of the muffle body 11 on the outlet 11b side, as an upstream inlet 19a as a zone gas supply port. And a downstream inlet 19b,
It comprises an outlet 19c as a zone gas outlet provided between the upstream inlet 19a and the downstream inlet 19b. The upstream inlet 19a and the downstream inlet 19b are also connected to a gas supply source (not shown), and the outlet 19c is also connected to a suction means (not shown). And upstream entrance 1
The gas is supplied into the muffle body 11 from both the inlet 9a and the downstream inlet 19b, and the exhaust gas is sucked from the outlet 19c, so that the arrows c and c are provided on the downstream side of the muffle body 11 as shown in FIG. The contact zone C is formed by generating the gas atmosphere in the range of '.
【0015】つまり、第1給排機構17〜第3給排機構
19は、互いに異なるガスを給排することによってそれ
ぞれ特定種類のガス雰囲気からなる接触ゾーンA〜Cを
生成し、その各接触ゾーンA〜C内のガスにワークWが
接触することにより、ワークWにそれぞれ異なった処理
を施すようになっている。したがって、第1給排機構1
7,第2給排機構18,第3給排機構19は、それぞれ
異なった専用のガスをマッフル本体11内に流入出する
ことにより、種類の異なったガス雰囲気からなる接触ゾ
ーンA〜Cを形成する。That is, the first supply / discharge mechanism 17 to the third supply / discharge mechanism 19 generate contact zones A to C each made of a gas atmosphere of a specific type by supplying and discharging different gases, and the respective contact zones. When the work W comes into contact with the gases in A to C, the work W is subjected to different treatments. Therefore, the first supply / discharge mechanism 1
7, the second supply / discharge mechanism 18 and the third supply / discharge mechanism 19 form contact zones A to C having different kinds of gas atmospheres by flowing different exclusive gases into and out of the muffle body 11. To do.
【0016】また、第1〜第3給排機構17〜19の上
流入口17a,下流入口17bと、上流入口18a,下
流入口18bと、上流入口19a,下流入口19bと
は、マッフル本体11内の炉幅とほぼ同様の幅を有して
おり、また流出口17c,18c,19cも同様の幅と
なっている。The upstream inlet 17a, the downstream inlet 17b, the upstream inlet 18a, the downstream inlet 18b, the upstream inlet 19a, and the downstream inlet 19b of the first to third supply / discharge mechanisms 17-19 are in the muffle body 11. It has a width substantially similar to the furnace width, and the outlets 17c, 18c, 19c also have the same width.
【0017】さらに、このマッフル炉10は、接触ゾー
ンA〜Cのそれぞれのガスが互いに入り交じることがな
いよう各接触ゾーンA〜Cを仕切るガスバリアを備えて
いる。そして、このガスバリアは、第1〜第4ガスバリ
ア21〜24からなっている。Further, the muffle furnace 10 is equipped with a gas barrier for partitioning the contact zones A to C so that the gases in the contact zones A to C do not mix with each other. And this gas barrier consists of the 1st-4th gas barriers 21-24.
【0018】そのうち、第1ガスバリア21は、接触ゾ
ーンAとマッフル本体11の入口11a間を仕切るた
め、マッフル本体11の上部において第1給排機構17
より上流側に設けられたガス吸引部21aによって形成
されている。ガス吸引部21aは図示しない吸引手段と
接続されている。そして、第1ガスバリア21は、接触
ゾーンAの上流入口17aよりガスが供給されたとき、
その排ガスをガス吸引部21aが図1および図2に示す
矢印dのように吸引することにより、マッフル本体11
内で接触ゾーンAと入口11a側との間を仕切るように
形成されている。以下、第1ガスバリア21を上流側ガ
スバリア21と称す。Among them, the first gas barrier 21 separates the contact zone A from the inlet 11a of the muffle body 11, so that the first gas supply / discharge mechanism 17 is provided at the upper part of the muffle body 11.
It is formed by the gas suction portion 21a provided on the more upstream side. The gas suction part 21a is connected to a suction means (not shown). When the gas is supplied from the upstream inlet 17a of the contact zone A, the first gas barrier 21 is
The exhaust gas is sucked by the gas suction portion 21a as shown by an arrow d in FIGS.
It is formed so as to partition the interior between the contact zone A and the inlet 11a side. Hereinafter, the first gas barrier 21 will be referred to as the upstream gas barrier 21.
【0019】また、上流側ガスバリア21に設けられた
ガス吸引部21aは、これより上流部にバリア用ガス供
給部としての供給口21bを有している。この供給口2
1bは、図示しないガス供給源と接続されており、ガス
をマッフル本体11内の下方に向かって供給したとき、
そのガスが接触ゾーンA内の上流部の排ガスと共にガス
吸引部21aから排出されることにより、接触ゾーンA
のガスがマッフル本体11の入口11aから外部に漏れ
るのを防ぐようになっている。そのため、供給口21b
から供給されるガスの吐出圧および吐出量は、接触ゾー
ンAのガスを遮断し得るよう、マッフル本体11内の圧
力およびガス吸引部21aの吸引圧等に応じ適宜選定さ
れている。Further, the gas suction part 21a provided in the upstream gas barrier 21 has a supply port 21b as a barrier gas supply part upstream thereof. This supply port 2
1b is connected to a gas supply source (not shown), and when the gas is supplied downward in the muffle body 11,
The gas is discharged from the gas suction portion 21a together with the exhaust gas at the upstream portion in the contact zone A, so that the contact zone A
This gas is prevented from leaking from the inlet 11a of the muffle body 11 to the outside. Therefore, the supply port 21b
The discharge pressure and discharge amount of the gas supplied from are appropriately selected according to the pressure in the muffle body 11 and the suction pressure of the gas suction portion 21a so that the gas in the contact zone A can be blocked.
【0020】なお、供給口21bから供給されるガスと
しては、マッフル本体11の入口11aの近くに配置さ
れることから、万一、マッフル本体11の入口11aか
ら外部に漏れたとしても、悪影響のない種類のものであ
って、かつ接触ゾーンAのガスに影響を与えることのな
い種類のものに選定されるのが好ましい。Since the gas supplied from the supply port 21b is arranged near the inlet 11a of the muffle body 11, even if it leaks to the outside from the inlet 11a of the muffle body 11, it has a bad effect. It is preferable to select a type that does not affect the gas in the contact zone A.
【0021】第2ガスバリア22は、マッフル本体11
の上部において、第1給排機構17の下流入口17bと
第2給排機構18の上流入口18aとの間に設けられた
ガス吸引部22aによって形成される。このガス吸引部
22aも図示しない吸引手段と接続されている。そし
て、第2ガスバリア22は、マッフル本体11内に接触
ゾーンAの下流入口17bからガスが供給されると共
に、接触ゾーンBの流入口18aからガスが供給された
とき、それら両者の排ガスをガス吸引部22aが図1に
示す矢印eのように両側から吸引することにより、接触
ゾーンAと接触ゾーンBとのガスが互いに混じり合うこ
となく仕切ることができるように形成されている。以
下、第2ガスバリア22を中間側ガスバリア22と称
す。The second gas barrier 22 is the muffle body 11
Is formed by a gas suction portion 22a provided between the downstream inlet 17b of the first supply / discharge mechanism 17 and the upstream inlet 18a of the second supply / discharge mechanism 18. This gas suction portion 22a is also connected to a suction means (not shown). Then, when the gas is supplied from the downstream inlet 17b of the contact zone A into the muffle body 11 and the gas is supplied from the inlet 18a of the contact zone B into the muffle body 11, the second gas barrier 22 sucks the exhaust gases of both of them. The portion 22a is formed so that the contact zone A and the contact zone B can be partitioned without being mixed with each other by sucking from both sides as indicated by arrow e in FIG. Hereinafter, the second gas barrier 22 will be referred to as the intermediate gas barrier 22.
【0022】第3ガスバリア23は、マッフル本体11
の上部において、第2給排機構18の下流入口18bと
第3給排機構19の上流入口19aとの間に設けられた
ガス吸引部23aによって形成される。このガス吸引部
23aも図示しない吸引手段と接続されている。この第
3ガスバリア23は、マッフル本体11内に接触ゾーン
Bの下流入口18bからガスが供給されると共に、接触
ゾーンCの上流入口19aからガスが供給されたとき、
それら両者の排ガスをガス吸引部23aが図1に示す矢
印fのように両側から吸引することにより、接触ゾーン
Bと接触ゾーンCとのガスが互いに混じる合うことなく
仕切ることができるように形成されている。以下、第3
ガスバリア23を中間側ガスバリア23と称す。The third gas barrier 23 is the muffle body 11
Is formed by the gas suction portion 23a provided between the downstream inlet 18b of the second supply / discharge mechanism 18 and the upstream inlet 19a of the third supply / discharge mechanism 19. This gas suction portion 23a is also connected to a suction means (not shown). When the gas is supplied from the downstream inlet 18b of the contact zone B into the muffle body 11 and the gas is supplied from the upstream inlet 19a of the contact zone C to the third gas barrier 23,
It is formed so that the gas in the contact zone B and the gas in the contact zone C can be partitioned without being mixed with each other by sucking the both exhaust gases by the gas suction portion 23a from both sides as shown by an arrow f in FIG. ing. Below, the third
The gas barrier 23 is referred to as an intermediate gas barrier 23.
【0023】第4ガスバリア24は、前記上流側ガスバ
リア21に準じた構成となっている。即ち、この第4ガ
スバリア24は、マッフル本体11の上部において第3
給排機構19より下流側に設けられたガス吸引部24a
によって形成される。このガス吸引部24aも図示しな
い吸引手段と接続されている。この下流側ガスバリア2
4は、接触ゾーンCの下流入口19bからガスが供給さ
れたとき、その排ガスをガス吸引部24aが図1に示す
矢印gのように吸引することにより、マッフル本体11
内で接触ゾーンCと出口11b側との間を仕切るように
形成されている。以下、この第4ガスバリア24を下流
側ガスバリア24と称す。The fourth gas barrier 24 has a structure similar to that of the upstream gas barrier 21. That is, the fourth gas barrier 24 is provided on the upper portion of the muffle body 11 with the third gas barrier 24.
Gas suction unit 24a provided on the downstream side of the supply / discharge mechanism 19
Formed by. This gas suction unit 24a is also connected to a suction means (not shown). This downstream gas barrier 2
When the gas is supplied from the downstream inlet 19b of the contact zone C, the gas suction part 24a sucks the exhaust gas as indicated by an arrow g in FIG.
It is formed so as to partition the interior between the contact zone C and the outlet 11b side. Hereinafter, the fourth gas barrier 24 will be referred to as the downstream gas barrier 24.
【0024】また、下流側ガスバリア24は、下流側ガ
スバリア24に設けられたガス吸引部24aより下流部
にバリア用ガス供給部としての供給口24bを有してい
る。この供給口24bも図示しないガス供給源と接続さ
れている。この供給口24bは、ガスをマッフル本体1
1内に供給したとき、そのガスが接触ゾーンC内のガス
と共にガス吸引部24aによって矢印g'のように吸引
されることにより、接触ゾーンCのガスがマッフル本体
11の出口11bから外部に漏れるのを防ぐようになっ
ている。[0024] In addition, the downstream side of the gas barrier 24, the downstream side moth
A supply port 24b serving as a barrier gas supply unit is provided downstream of the gas suction unit 24a provided in the sub barrier 24. This supply port 24b is also connected to a gas supply source (not shown). This supply port 24b is used for supplying gas to the muffle body 1
1, the gas in the contact zone C is sucked together with the gas in the contact zone C by the gas suction portion 24a as indicated by an arrow g ', so that the gas in the contact zone C leaks from the outlet 11b of the muffle body 11 to the outside. It is designed to prevent
【0025】そのため、供給口24bから供給されるガ
スの吐出圧および吐出量は、供給口21bから供給され
るガスと同様、接触ゾーンCのガスを遮断し得るよう、
マッフル本体11内の圧力およびガス吸引部24aの吸
引圧等に応じ適宜選定されている。また供給口24bか
ら供給されるガスとしては、マッフル本体11の出口1
1bの近くに配置されることから、万一、その出口11
bから外部に漏れたとしても、悪影響のない種類のもの
であって、かつ接触ゾーンCのガスに影響を与えること
のない種類のものに選定されるのが好ましい。Therefore, the discharge pressure and the discharge amount of the gas supplied from the supply port 24b can shut off the gas in the contact zone C like the gas supplied from the supply port 21b.
It is appropriately selected according to the pressure inside the muffle body 11 and the suction pressure of the gas suction portion 24a. The gas supplied from the supply port 24b is the outlet 1 of the muffle body 11.
As it is located near 1b, its exit 11
Even if it leaks to the outside from b, it is preferable to select a type that does not have an adverse effect and that does not affect the gas in the contact zone C.
【0026】さらに、上記ガスバリア21〜24の各々
は、第1〜第3給排機構17〜19の炉幅に対応し、マ
ッフル本体11内の炉幅とほぼ同様の幅をなしている。Further, each of the gas barriers 21 to 24 corresponds to the furnace width of the first to third supply / discharge mechanisms 17 to 19 and has a width substantially similar to the furnace width in the muffle body 11.
【0027】本実施形態のマッフル炉10は、上記のよ
うに構成されているので、まず、ワークWの処理に際
し、マッフル本体11の内部が加熱手段としての上部ヒ
ータ12aおよび下部ヒータ12bによって加熱され、
また第1〜第3給排機構17〜19と接続されたガス供
給源および吸引手段が駆動されると共に、ガス吸引部2
1a,22a,23a,24aと接続された吸引手段が
駆動されることにより、マッフル本体11内に以下のガ
ス雰囲気が生成される。Since the muffle furnace 10 of this embodiment is constructed as described above, first, when processing the work W, the inside of the muffle body 11 is heated by the upper heater 12a and the lower heater 12b as heating means. ,
The gas supply source and suction means connected to the first to third supply / discharge mechanisms 17 to 19 are driven, and the gas suction unit 2
The following gas atmosphere is generated in the muffle body 11 by driving the suction means connected to the la, 22a, 23a, and 24a.
【0028】即ち、マッフル本体11内において、第1
給排機構17の上流入口17a,下流入口17bから所
望種類のガスが供給されると共に、上流入口17a,下
流入口17b間の流出口17cより吸引されているの
で、供給されたガスが下方に向かってワークWの搬送経
路内を充満した後、互いに引き合うように吸引されて流
出口17cから排出されることにより、図1及び図2に
示す矢印a,a′方向に至るガス経路となり、その矢印
a,a′間の範囲のガス雰囲気をなす接触ゾーンAが生
成される。That is, in the muffle body 11, the first
A desired type of gas is supplied from the upstream inlet 17a and the downstream inlet 17b of the supply / discharge mechanism 17 and is sucked from the outlet 17c between the upstream inlet 17a and the downstream inlet 17b, so that the supplied gas is directed downward. After the work W is filled in the conveyance path, the work W is sucked so as to attract each other and discharged from the outlet 17c, thereby forming a gas path extending in the directions of arrows a and a ′ shown in FIGS. 1 and 2. A contact zone A having a gas atmosphere in the range between a and a'is created.
【0029】また、第2給排機構18および第3給排機
構19も第1給排機構17と同様の作用となり、第2給
排機構18の上流入口18a,下流入口18b,流出口
18cにより、矢印b,b′間の範囲のガス雰囲気をな
す接触ゾーンBが生成される一方、第3給排機構19の
上流入口19a,下流入口19b,流出口19cにより
矢印c,c′間の範囲のガス雰囲気をなす第3接触ゾー
ンCが生成される。Also, the second supply / discharge mechanism 18 and the third supply / discharge mechanism 19 have the same operation as the first supply / discharge mechanism 17, and the upstream inlet 18a, the downstream inlet 18b, and the outlet 18c of the second supply / discharge mechanism 18 are used. , The contact zone B forming a gas atmosphere in the range between the arrows b and b ′ is generated, while the range between the arrows c and c ′ by the upstream inlet 19a, the downstream inlet 19b, and the outlet 19c of the third supply / discharge mechanism 19. The third contact zone C forming the gas atmosphere is generated.
【0030】その際、ガス吸引部21a,22a,23
a,24aと接続された吸引手段が駆動されているの
で、これらにより上記各接触ゾーンA〜Cの上流部およ
び下流部をそれぞれ仕切る各ガスバリア21〜24が形
成される。即ち、マッフル本体11内において、接触ゾ
ーンAが形成されているとき、ガス吸引部21aが、接
触ゾーンAの排ガスを矢印dのように吸引することによ
ってその部分に上流側ガスバリア21が形成され、この
上流側ガスバリア21により接触ゾーンAの上流部が仕
切られる。At this time, the gas suction portions 21a, 22a, 23
Since the suction means connected to a and 24a are driven, these form gas barriers 21 to 24 for partitioning the upstream and downstream portions of the contact zones A to C, respectively. That is, when the contact zone A is formed in the muffle body 11, the gas suction portion 21a sucks the exhaust gas in the contact zone A as shown by the arrow d to form the upstream gas barrier 21 in that portion. The upstream gas barrier 21 partitions the upstream portion of the contact zone A.
【0031】しかも、ガス吸引部21aは、その上流側
にゾーン用ガス供給部としての供給口21bを有し、こ
の供給口21bからガスを下方に供給することによって
接触ゾーンAの遮蔽壁として機能させ、そのガスが排ガ
スと共にガス吸引部21aによって矢印d′のように吸
引されると、接触ゾーンAのガスがマッフル本体11の
入口11aから外部に漏出するのを防止することができ
る。Moreover, the gas suction part 21a has a supply port 21b as a zone gas supply part on the upstream side thereof, and functions as a shielding wall of the contact zone A by supplying gas downward from the supply port 21b. Then, when the gas is sucked together with the exhaust gas by the gas suction portion 21a as shown by the arrow d ', it is possible to prevent the gas in the contact zone A from leaking to the outside from the inlet 11a of the muffle body 11.
【0032】一方、ガス吸引部22aは、接触ゾーンA
の下流部の排ガスを矢印eのように吸引すると共に、上
流入口18aから供給された接触ゾーンBの上流部の排
ガスを吸引することにより、そこに中間側ガスバリア2
2が形成され、この中間側ガスバリア22によって接触
ゾーンAの下流部と接触ゾーンBの上流部との間が仕切
られる。On the other hand, the gas suction portion 22a has a contact zone A
By sucking the exhaust gas of the downstream portion of the contact zone B as shown by the arrow e and sucking the exhaust gas of the upstream portion of the contact zone B supplied from the upstream inlet 18a, the intermediate gas barrier 2
2 is formed, and the intermediate side gas barrier 22 partitions the downstream portion of the contact zone A from the upstream portion of the contact zone B.
【0033】また、ガス吸引部23aは、接触ゾーンB
の下流部の排ガスを矢印fのように吸引すると同時に、
接触ゾーンCの上流部の排ガスをも吸引することによ
り、そこに中間側ガスバリア23が形成され、この中間
側ガスバリア23によって接触ゾーンBの下流部と接触
ゾーンCの上流部との間が仕切られる。Further, the gas suction portion 23a has a contact zone B
At the same time as sucking the exhaust gas in the downstream part of
By sucking the exhaust gas in the upstream portion of the contact zone C as well, an intermediate gas barrier 23 is formed there, and the intermediate gas barrier 23 partitions the downstream portion of the contact zone B from the upstream portion of the contact zone C. .
【0034】さらに、ガス吸引部24aは、接触ゾーン
Cの下流部の排ガスを矢印gのように吸引し、そこに下
流側ガスバリア24が形成されるので、この下流側ガス
バリア24により接触ゾーンCの下流部を仕切ることが
できる。しかも、ガス吸引部24aは、その下流側にゾ
ーン用ガス供給部としての供給口24bを有し、この供
給口24bからガスを下方に供給することによって接触
ゾーンCの遮蔽壁として機能させ、そのガスを接触ゾー
ンCの排ガスと共にガス吸引部24aによって矢印g′
のように吸引するので、接触ゾーンCのガスがマッフル
本体11の出口11bから外部に漏出するのを防止する
ことができる。Further, the gas suction portion 24a sucks the exhaust gas in the downstream portion of the contact zone C as shown by the arrow g, and the downstream gas barrier 24 is formed there. The downstream part can be partitioned. Moreover, the gas suction part 24a has a supply port 24b as a zone gas supply part on the downstream side, and by supplying gas downward from this supply port 24b, it functions as a shielding wall of the contact zone C, and The gas is introduced together with the exhaust gas in the contact zone C by the gas suction unit 24a into an arrow g '.
As described above, the gas in the contact zone C can be prevented from leaking to the outside from the outlet 11b of the muffle body 11.
【0035】本実施形態は、上述したように、第1〜第
3給排機構17〜19によってマッフル本体11内に接
触ゾーンA〜Cをそれぞれ形成すると共に、ガス吸引部
21a,22a,23a,24aによって形成された上
流側ガスバリア21と中間側ガスバリア22,23と下
流側ガスバリア24とにより、各接触ゾーンA〜Cの上
流部および下流部をそれぞれ仕切ることができ、したが
って、接触ゾーンA〜Cの各々のガスが隣列するガスと
互いに入り交じることがない。しかも、供給口21bか
らガスを供給することにより、接触ゾーンAの排ガスが
マッフル本体11の入口11aから漏出するのを防止す
ることができると共に、供給口24bからガスを供給す
ることにより、接触ゾーンCの排ガスがマッフル本体1
1の出口11bから漏出するのを防止することができ
る。In this embodiment, as described above, the contact zones A to C are formed in the muffle body 11 by the first to third supply / discharge mechanisms 17 to 19, respectively, and the gas suction portions 21a, 22a, 23a, and The upstream gas barrier 21, the intermediate gas barriers 22 and 23, and the downstream gas barrier 24 formed by 24a can partition the upstream and downstream portions of the contact zones A to C, respectively, and thus the contact zones A to C. Each gas of the above does not mix with the adjacent gas. Moreover, by supplying the gas from the supply port 21b, it is possible to prevent the exhaust gas in the contact zone A from leaking out from the inlet 11a of the muffle body 11, and by supplying the gas from the supply port 24b, the contact zone Exhaust gas of C is the muffle body 1
It is possible to prevent the leakage from the first outlet 11b.
【0036】そのため、マッフル本体11で各接触ゾー
ンA〜Cがそれぞれ形成された状態にあるとき、ワーク
搬送機構13によってワークWをマッフル本体11に搬
送されると、ワークWが各接触ゾーンA〜Cを順次通過
することにより、それぞれ異った処理が逐次行われるこ
ととなり、一台のマッフル炉10で複数の処理を的確に
実施することができる。Therefore, when the work W is transferred to the muffle body 11 by the work transfer mechanism 13 while the contact zones A to C are formed on the muffle body 11, the work W is transferred to the contact zones A to C. By sequentially passing through C, different treatments are sequentially performed, and a plurality of treatments can be accurately performed in one muffle furnace 10.
【0037】その結果、マッフル炉10内のワークWに
複数の処理を施す場合、従来技術のように複数台のマッ
フル炉を直列に接続することが不要になるので、スペー
スを大幅に削減することができ、またワーク搬送機構と
して専用の長いものを製作することが不要になるばかり
でなく、加熱手段の電力を大幅に低減することができ、
さらには保守点検のようなメインテナンス等も容易とな
る。As a result, when the work W in the muffle furnace 10 is subjected to a plurality of treatments, it is not necessary to connect a plurality of muffle furnaces in series as in the prior art, so that the space is greatly reduced. Not only is it unnecessary to manufacture a long dedicated work transfer mechanism, but also the power of the heating means can be greatly reduced.
Furthermore, maintenance such as maintenance and inspection becomes easy.
【0038】また、本実施形態においては、ガス吸引部
21aが供給口21bを有すると共に、ガス吸引部24
aが供給口24bを有するので、漏出が問題となるガス
を用いた場合には、ガス漏出を確実に回避することがで
き、安全性を高めることができる。Further, in this embodiment, the gas suction portion 21a has the supply port 21b, and the gas suction portion 24 is provided.
Since a has the supply port 24b, when a gas that causes a problem of leakage is used, it is possible to reliably avoid the gas leakage, and it is possible to improve safety.
【0039】図3は本発明にマッフル炉の第2の実施形
態を示している。前述した実施形態では、接触ゾーン
A,接触ゾーンCのガスがマッフル本体11の外部に漏
出しないようにした例を示したが、本実施形態において
は、接触ゾーンA,接触ゾーンCのガスが多少漏出して
も、悪影響を与えるおそれのないガスを使用した場合に
適用したものである。即ち、この実施形態の場合は、図
3に示すように、上流側のガス吸引部21aが、前述し
た実施形態の供給口21bを用いず、接触ゾーンAから
の排ガスだけを吸引するようにしている。この場合、下
流側のガス吸引部24aも前述した実施形態の供給口2
4bを用いず、接触ゾーンCからの排ガスだけを吸引す
るようにしている。FIG. 3 shows a second embodiment of the muffle furnace according to the present invention. In the above-described embodiment, an example is shown in which the gas in the contact zone A and the contact zone C is prevented from leaking to the outside of the muffle body 11, but in the present embodiment, the gas in the contact zone A and the contact zone C is slightly different. It is applied when a gas that does not have a bad influence even if it leaks is used. That is, in the case of this embodiment, as shown in FIG. 3, the upstream gas suction unit 21a sucks only the exhaust gas from the contact zone A without using the supply port 21b of the above-described embodiment. There is. In this case, the gas suction unit 24a on the downstream side is also the supply port 2 of the above-described embodiment.
4b is not used, and only the exhaust gas from the contact zone C is sucked.
【0040】この実施形態では、マッフル本体11内
に、第1給排機構17によって接触ゾーンAが生成され
たとき、ガス吸引部21aが接触ゾーンAの排ガスを吸
引するが、その際、ガス吸引部21aによって形成され
ている上流側ガスバリア21が、接触ゾーンAの排ガス
の一部をマッフル本体11の入口11aから外部に漏出
させることにより、外部空気が入口11aからマッフル
本体11内に侵入するのを防止することができる。In this embodiment, when the contact zone A is generated in the muffle body 11 by the first supply / discharge mechanism 17, the gas suction portion 21a sucks the exhaust gas in the contact zone A. The upstream gas barrier 21 formed by the portion 21a leaks a part of the exhaust gas in the contact zone A from the inlet 11a of the muffle body 11 to the outside, so that external air enters the muffle body 11 from the inlet 11a. Can be prevented.
【0041】また、ガス吸引部24aも上述と同様に構
成されているので、接触ゾーンCの排ガスがガス吸引部
24aから吸引された際、その接触ゾーンCの排ガスの
一部が、ガス吸引部24aによって形成されている下流
側ガスバリア24を通過してマッフル本体11の出口1
1bから外部に漏出し、その漏出した排ガスにより、外
部空気が出口11bからマッフル本体11内に侵入する
のを防止することができる。Further, since the gas suction section 24a is also constructed in the same manner as described above, when the exhaust gas in the contact zone C is sucked from the gas suction section 24a, a part of the exhaust gas in the contact zone C is partially absorbed in the gas suction section. The outlet 1 of the muffle body 11 passes through the downstream gas barrier 24 formed by 24a.
It is possible to prevent external air from entering the muffle body 11 through the outlet 11b due to the leaked exhaust gas from the 1b.
【0042】したがって、この実施形態によれば、上流
側ガスバリア21が接触ゾーンAのガスを入口11aか
ら少量だけ漏出させると共に、下流側ガスバリア24が
接触ゾーンCのガスを出口11bから少量だけ漏出さ
せ、外部空気がマッフル本体11内に侵入しないように
構成したので、外部空気による影響を防止することがで
き、ワークWに対する処理を安定したものとすることが
できる。このような多少漏れても影響のないガスとして
は、例えば窒素ガスなどからなっている。しかも、上流
側および下流側ガスバリア21,24がガス吸引部21
a,24aによってのみ形成されているので、一実施形
態に比較すると、それだけ構成の簡素化を図ることがで
きる。Therefore, according to this embodiment, the upstream gas barrier 21 leaks a small amount of gas in the contact zone A from the inlet 11a, and the downstream gas barrier 24 leaks a small amount of gas in the contact zone C from the outlet 11b. Since the external air does not enter the muffle body 11, the influence of the external air can be prevented and the processing of the work W can be stabilized. The gas that has no effect even if it leaks to some extent is, for example, nitrogen gas. Moreover, the upstream and downstream gas barriers 21 and 24 are connected to the gas suction unit 21.
Since it is formed only by a and 24a, the configuration can be simplified by that much as compared with the one embodiment.
【0043】なお、ガス吸引部21a,24aの吸引力
は、接触ゾーンA,Cのガス雰囲気の圧力、上流入口1
7a,19aや下流入口17b,19bのガス供給圧、
流出口17c,19cの吸引圧等に応じ選定され、その
大きさを変えることにより、漏出させるガス量を調整す
ることも可能である。The suction force of the gas suction portions 21a and 24a is the pressure of the gas atmosphere in the contact zones A and C, and the upstream inlet 1
7a, 19a and the gas supply pressure of the downstream inlets 17b, 19b,
It is also possible to adjust the amount of gas to be leaked out by selecting it according to the suction pressure of the outlets 17c, 19c and the like, and changing its size.
【0044】図4および図5は本発明による他の実施形
態をそれぞれ示している。図4に示す実施形態は、図3
の実施形態に適用したものであって、マッフル本体11
内において、仕切板25が上流側ガスバリア21内に起
立して取り付けられている。4 and 5 show other embodiments according to the present invention, respectively. The embodiment shown in FIG.
Which is applied to the embodiment of FIG.
A partition plate 25 is erected inside the upstream gas barrier 21.
【0045】そして、マッフル本体11内では、接触ゾ
ーンAの排ガスが上流側ガスバリア21によって吸引さ
れるが、その際、吸引される排ガスを仕切板25に沿い
上昇させて吸引流を形成し、上流側ガスバリア21に対
する吸引作用を促進させることにより、接触ゾーンAか
ら排気されるガスが不用意に入口11aから外部に漏出
したりするのを防止し、ガスバリアとしての機能を高め
るようにしている。Then, in the muffle body 11, the exhaust gas in the contact zone A is sucked by the upstream gas barrier 21. At that time, the sucked exhaust gas is raised along the partition plate 25 to form a suction flow, By promoting the suction action on the side gas barrier 21, the gas exhausted from the contact zone A is prevented from accidentally leaking to the outside from the inlet 11a, and the function as a gas barrier is enhanced.
【0046】そのため、仕切板25は、マッフル本体1
1内のガス吸引部21aの下方に取り付けられており、
接触ゾーンAのガスの排出を促進し得るよう所望の高さ
Lおよび幅をなし、例えば、ワークWの上部近傍に設け
られ、ワークWの上面からマッフル本体11の天井11
cまでの高さをHとすれば、H/5以上の高さLで、か
つマッフル本体11内の炉幅とほぼ同程度の幅をなして
いることが好ましい。なお、仕切板25の材質として
は、接触ゾーンAに使用されるガスや加熱等に対して耐
食性を有し、かつワークWに影響を与えることのないも
ので形成するのが望ましい。Therefore, the partition plate 25 is the muffle body 1
It is attached below the gas suction part 21a in
It has a desired height L and width so as to promote the discharge of gas from the contact zone A, and is provided, for example, near the upper part of the work W, and from the top surface of the work W to the ceiling 11 of the muffle body 11.
If the height up to c is H, it is preferable that the height L is H / 5 or more, and the width is almost the same as the furnace width in the muffle body 11. The partition plate 25 is preferably made of a material that has corrosion resistance to the gas used in the contact zone A, heating, etc. and that does not affect the work W.
【0047】このような仕切板25は、本例ではマッフ
ル本体11内の入口11a側にのみ配置された例を示し
たが、出口11b側である下流側ガスバリア24にも設
けるとより効果的であり、さらには中間側ガスバリア2
2および23にも設けるといっそうの効果を得ることが
できる。即ち、図示していないが、中間側ガスバリア2
2,23に仕切板を設ける場合には、マッフル本体11
内において、仕切板を、ガス吸引部22aおよび23a
の下方に起立してそれぞれ取り付ける。そして、中間側
ガスバリア22用の仕切板が接触ゾーンAの下流側の排
ガスと接触ゾーンBの上流側の排ガスとの吸引作用を促
進する一方、中間側ガスバリア23用の仕切板が接触ゾ
ーンBの下流側の排ガスと接触ゾーンCの上流側の排ガ
スとの吸引作用を促進させることにより、隣列する接触
ゾーンのガスが互いに入り交じるのを確実に防止し、し
かも接触ゾーン間を明確に仕切ることができる。In this example, the partition plate 25 is arranged only on the inlet 11a side in the muffle body 11, but it is more effective if it is also arranged on the downstream gas barrier 24 on the outlet 11b side. Yes, and also the middle gas barrier 2
Further effects can be obtained by providing 2 and 23 as well. That is, although not shown, the intermediate gas barrier 2
When a partition plate is provided on 2, 23, the muffle body 11
In the inside, the partition plate is provided with the gas suction portions 22a and 23a.
Stand underneath and attach each. The partition plate for the intermediate gas barrier 22 promotes the suction action between the exhaust gas on the downstream side of the contact zone A and the exhaust gas on the upstream side of the contact zone B, while the partition plate for the intermediate gas barrier 23 operates in the contact zone B. By promoting the suction action between the exhaust gas on the downstream side and the exhaust gas on the upstream side of the contact zone C, it is possible to reliably prevent the gases in the adjacent contact zones from intermingling with each other, and to clearly partition the contact zones. You can
【0048】図5に示す実施形態は、供給口21bを有
して構成されたガス吸引部21aに適用したものであ
り、この場合も、仕切板25がマッフル本体11内の上
流側ガスバリア21に起立して取り付けられている。仕
切板25の高さLは前述した寸法である。The embodiment shown in FIG. 5 is applied to a gas suction portion 21a having a supply port 21b, and in this case as well, the partition plate 25 is provided on the upstream gas barrier 21 in the muffle body 11. It is installed upright. The height L of the partition plate 25 is the dimension described above.
【0049】この実施形態によれば、上流側ガスバリア
21により、接触ゾーンAの排ガスを吸引すると共に、
供給口21bからのガスも吸引するが、その際、仕切板
25に沿って双方のガスを吸引し、しかも仕切板25が
存在することにより、ヴエルヌーイの式から接触ゾーン
A側の圧力を高圧にすることができるので、接触ゾーン
Aのガスが入口11a側へ漏出するのを確実に防止でき
るようにしている。According to this embodiment, the exhaust gas in the contact zone A is sucked by the upstream gas barrier 21, and
The gas from the supply port 21b is also sucked, but at that time, both gases are sucked along the partition plate 25, and since the partition plate 25 is present, the pressure on the contact zone A side is made high by the Werneuy equation. Therefore, the gas in the contact zone A can be reliably prevented from leaking to the inlet 11a side.
【0050】したがって、接触ゾーンAのガスが入口1
1aからマッフル本体11外に漏出するのを確実に防止
できるので、処理ガスの漏洩に対する安全性を高めるこ
とができる。このような仕切板25は、本例ではマッフ
ル本体11内の上流側ガスバリア21にのみ設けられた
例を示したが、下流側ガスバリア24には勿論、中間側
ガスバリア22,23にも設けるとより効果的である。Therefore, the gas in the contact zone A is at the inlet 1
Since it is possible to reliably prevent the leakage of the gas from the muffle body 11 from the la, it is possible to enhance the safety against the leakage of the processing gas. In the present example, such a partition plate 25 is provided only on the upstream gas barrier 21 in the muffle body 11, but it is better to provide not only the downstream gas barrier 24 but also the intermediate gas barriers 22 and 23. It is effective.
【0051】なお、図示実施形態では、種類の異なる三
種類のガスを用い、それらにより互いに異なるガス雰囲
気をなす接触ゾーンA〜Cが設けられた例を示したが、
本発明においてはその数に限定されるものではなく、要
は、少なくとも二つの接触ゾーンが設けられていればよ
い。In the illustrated embodiment, an example in which three different kinds of gases are used and the contact zones A to C which form different gas atmospheres from each other are provided is shown.
In the present invention, the number is not limited, and the point is that at least two contact zones are provided.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、マ
ッフル本体内に接触ゾーンをそれぞれ形成すると共に、
複数のガスバリアにより、各接触ゾーンの上流部および
下流部をそれぞれ仕切り、一台のマッフル炉で複数の処
理を的確に実施することができる結果、従来技術のよう
に複数台のマッフル炉を直列に接続することが不要にな
り、スペースの大幅な削減、ワーク搬送機構として専用
の長いものを製作することが不要になるばかりでなく、
加熱手段の電力を大幅に低減することができ、さらには
保守点検のようなメインテナンス等も容易となり、実用
上極めて大なる効果がある。As described above, according to the present invention, each contact zone is formed in the muffle body, and
Multiple gas barriers can be used to partition the upstream and downstream parts of each contact zone, and multiple treatments can be performed accurately with one muffle furnace.As a result, multiple muffle furnaces can be connected in series as in the prior art. Not only is it unnecessary to connect, it is not only a great reduction in space, it is not necessary to manufacture a long dedicated work transfer mechanism,
The electric power of the heating means can be greatly reduced, and maintenance such as maintenance and inspection can be facilitated, which is extremely effective in practice.
【図1】本発明によるマッフル炉の一実施形態を示す全
体の縦断面図である。FIG. 1 is an overall vertical sectional view showing an embodiment of a muffle furnace according to the present invention.
【図2】同じくマッフル炉の要部を示す拡大図である。FIG. 2 is also an enlarged view showing a main part of the muffle furnace.
【図3】本発明によるマッフル炉の第2の実施形態を示
す要部の拡大図である。FIG. 3 is an enlarged view of an essential part showing a second embodiment of the muffle furnace according to the present invention.
【図4】本発明によるマッフル炉の他の実施形態を示す
要部拡大の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of an enlarged main part showing another embodiment of the muffle furnace according to the present invention.
【図5】本発明によるマッフル炉のさらに他の実施形態
を示す要部拡大の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of an enlarged main part showing still another embodiment of the muffle furnace according to the present invention.
【図6】従来のマッフル炉の一例を示す全体の縦断面図
である。FIG. 6 is an overall vertical sectional view showing an example of a conventional muffle furnace.
10 マッフル炉 11 マッフル本体 11a 入口 11b 出口 11c 天井 12a 加熱手段としての上部ヒータ 12b 加熱手段としての下部ヒータ 13 ワーク搬送機構 14,15 ベルト車 16 ベルトコンベア 17 第1給排機構 17a ゾーン用ガス供給口としての上流入口 17b ゾーン用ガス供給口としての下流入口 17c ゾーン用ガス排出口としての流出口 18 第2給排機構 18a ゾーン用ガス供給口としての上流入口 18b ゾーン用ガス供給口としての下流入口 18c ゾーン用ガス排出口としての流出口 19 第3給排機構 19a ゾーン用ガス供給口としての上流入口 19b ゾーン用ガス供給口としての下流入口 19c ゾーン用ガス排出口としての流出口 21 上流側ガスバリア(第1ガスバリア) 21a ガス吸引部 21b 供給口 22 中間側ガスバリア(第2ガスバリア) 22a ガス吸引部 23 中間側ガスバリア(第3ガスバリア) 23a ガス吸引部 24 下流側ガスバリア(第4ガスバリア) 24a ガス吸引部 24b 供給口 25 仕切板 A 接触ゾーン B 接触ゾーン C 接触ゾーン L 仕切板の高さ W ワーク 10 muffle furnace 11 muffle body 11a entrance 11b exit 11c ceiling 12a Upper heater as heating means 12b Lower heater as heating means 13 Work transfer mechanism 14,15 Belt car 16 belt conveyor 17 First supply / discharge mechanism 17a upstream inlet as zone gas supply port 17b Downstream inlet as zone gas supply port 17c Outlet as a gas outlet for the zone 18 Second supply / discharge mechanism 18a upstream inlet as zone gas supply port 18b Downstream inlet as zone gas supply port 18c Outlet as zone gas outlet 19 Third supply / discharge mechanism 19a upstream inlet as zone gas supply port 19b Downstream inlet as zone gas supply port Outlet as a 19c zone gas outlet 21 Upstream gas barrier (first gas barrier) 21a Gas suction section 21b Supply port 22 Middle gas barrier (second gas barrier) 22a Gas suction section 23 Intermediate gas barrier (third gas barrier) 23a Gas suction section 24 Downstream gas barrier (4th gas barrier) 24a gas suction section 24b supply port 25 dividers A contact zone B contact zone C contact zone L Partition plate height W work
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード シー.アリ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95076,ワトソンビレ ウエストリッジ ドライブ 200 シエラサーモプロダ クション ファーネス インコーポレー テッド内 (72)発明者 トーマス アール.スチュワート アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95076,ワトソンビレ ウエストリッジ ドライブ 200 シエラサーモプロダ クション ファーネス インコーポレー テッド内 (56)参考文献 特開 平4−236398(JP,A) 特開 平10−237541(JP,A) 特開 昭52−114567(JP,A) 特開 平6−347175(JP,A) 特開 平2−254289(JP,A) 特開 平6−82162(JP,A) 実開 平3−89390(JP,U) 特公 昭40−10421(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F27B 9/04 F27B 5/10 F27D 7/06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Richard C. Ali United States California 95076 Watsonville Westridge Drive 200 Sierra Thermo Productions Furnace Incorporated (72) Inventor Thomas Earl. Stewart United States California 95076 Watsonville Westridge Drive 200 Sierra Thermo Productions in Furnace Incorporated (56) References JP-A-4-236398 (JP, A) JP-A-10-237541 (JP, A) JP-A 52-114567 (JP, A) JP-A-6-347175 (JP, A) JP-A-2-254289 (JP, A) JP-A-6-82162 (JP, A) Actual Kaihei 3-89390 (JP, U) Japanese Patent Publication No. 40-10421 (JP, B1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) F27B 9/04 F27B 5/10 F27D 7/06
Claims (9)
する加熱手段と、ワークをマッフル本体に搬送するワー
ク搬送機構とを備えたマッフル炉において、マッフル本
体内に搬送方向に沿いそれぞれ異なる種類のガスによっ
て生成され、かつワークの処理に必要なガス雰囲気から
なる複数の接触ゾーンと、マッフル本体内にそれぞれ形
成され、各接触ゾーンの上流部及び下流部を仕切る複数
のガスバリアとを備えたことを特徴とするマッフル炉。1. A muffle furnace equipped with a muffle body, heating means for heating the inside of the muffle body, and a work transfer mechanism for transferring a work to the muffle body. And a plurality of gas barriers that are formed in the muffle body and partition the upstream and downstream portions of each contact zone. And a muffle furnace.
ル本体内に特定種類のガスを供給するゾーン用ガス供給
口と、対応接触ゾーンの排ガスを吸引するゾーン用ガス
排出口とを有する複数の給排機構によって形成されるこ
とを特徴とする請求項1記載のマッフル炉。2. Each of the plurality of contact zones has a plurality of zone gas supply ports for supplying a specific type of gas into the muffle body, and a plurality of zone gas discharge ports for sucking the exhaust gas of the corresponding contact zones. The muffle furnace according to claim 1, wherein the muffle furnace is formed by a supply / discharge mechanism.
の上部にそれぞれ設置され、かつマッフル本体内の各接
触ゾーンの上流部および下流部をそれぞれ吸引するガス
吸引部によって形成されることを特徴とする請求項1記
載のマッフル炉。3. The plurality of gas barriers are respectively installed on an upper portion of the muffle body, and are formed by gas suction portions respectively sucking an upstream portion and a downstream portion of each contact zone in the muffle body. The muffle furnace according to claim 1.
内の上流側に生成された接触ゾーンの上流部を仕切る上
流側ガスバリアと、マッフル本体内の下流側に生成され
た接触ゾーンの下流部を仕切る下流側ガスバリアと、マ
ッフル本体内に互いに隣列して生成された接触ゾーンの
うち、一方の上流側の接触ゾーンの下流部と他方の下流
側の接触ゾーンの上流部を共に仕切る中間側ガスバリア
とからなることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項
記載のマッフル炉。4. The plurality of gas barriers partition an upstream gas barrier partitioning an upstream part of a contact zone generated upstream of the muffle body and a downstream part of a contact zone generated downstream of the muffle body. A downstream gas barrier, and an intermediate gas barrier that partitions both the downstream part of one upstream contact zone and the other downstream contact zone of the contact zones generated next to each other in the muffle body. The muffle furnace according to any one of claims 1 to 3, wherein the muffle furnace comprises:
引部と前記下流側ガスバリアを形成するガス吸引部との
それぞれに、前記マッフル本体内にバリア用ガスを供給
する供給口を有することを特徴とする請求項4記載のマ
ッフル炉。5. A gas suction part forming the upstream gas barrier and a gas suction part forming the downstream gas barrier.
Supplying a barrier gas into the muffle body
Muffle furnace according to claim 4, characterized in that it has a supply port.
ル本体内の炉幅とほぼ同様の幅をもっていることを特徴
とする請求項3記載のマッフル炉。6. The muffle furnace of claim 3, wherein each of the plurality of gas barriers has a width substantially similar to the width of the furnace inside the muffle body.
て取り付けられた仕切板を備えていることを特徴とする
請求項1〜6の何れか一項記載のマッフル炉。7. The muffle furnace according to any one of claims 1 to 6, further comprising a partition plate which is erected and attached to each gas barrier in the muffle body.
ほぼ同様の幅を有することを特徴とする請求項7記載の
マッフル炉。8. The muffle furnace according to claim 7, wherein the partition plate has a width substantially similar to the width of the furnace in the muffle body.
て、搬送されるワークの上部近傍に設けられ、ワークの
上部から天井までの高さの1/5以上の高さをもってい
ることを特徴とする請求項7または8の何れか一項記載
のマッフル炉。9. The partition plate is provided in the muffle body in the vicinity of an upper portion of a conveyed work, and has a height of ⅕ or more of a height from an upper portion of the work to a ceiling. The muffle furnace according to any one of claims 7 and 8.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001090301A JP3511376B2 (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Muffle furnace |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001090301A JP3511376B2 (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Muffle furnace |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002286374A JP2002286374A (en) | 2002-10-03 |
JP3511376B2 true JP3511376B2 (en) | 2004-03-29 |
Family
ID=18945103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001090301A Expired - Fee Related JP3511376B2 (en) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | Muffle furnace |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3511376B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5688216B2 (en) * | 2009-09-18 | 2015-03-25 | 光洋サーモシステム株式会社 | Heat treatment equipment |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090301A patent/JP3511376B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002286374A (en) | 2002-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2023052066A (en) | Device and method for thermally or thermochemically treating material | |
TWI389617B (en) | Reflow oven | |
KR100417886B1 (en) | Gas flow control devices and soldering devices using them | |
EP1543282A2 (en) | Convection furnace thermal profile enhancement | |
KR20010020166A (en) | Process and Apparatus for the Treatment of Flat-form Material, especially of Printed Circuit Boards | |
JP3511376B2 (en) | Muffle furnace | |
JP2006217917A (en) | Method for processing food and continuous furnace for the same | |
KR101835922B1 (en) | Heat treatment furnace | |
JP4594400B2 (en) | Plate cooling device and heat treatment system | |
TWI431335B (en) | A cooling device for a plate-shaped treated body, and a heat treatment system incorporated in the apparatus | |
TWI736059B (en) | Heat treatment device | |
TWI803847B (en) | Heat treatment apparatus | |
JP2009014256A (en) | Continuous baking furnace | |
RU2403519C2 (en) | System of thermal treatment with slot aerators | |
JP2003077398A (en) | Manufacturing method of plasma display panel and furnace equipment for same | |
JP2008512633A5 (en) | ||
JPH01139986A (en) | Walking beam heating furnace | |
JP2006351570A (en) | Reflow furnace | |
JP3969975B2 (en) | Reflow soldering equipment | |
KR101506726B1 (en) | Furnace with gas nozzle | |
JP2018017425A (en) | Heat treatment furnace | |
JPH09256069A (en) | Continuous heat treatment furnace using different kinds of atmospheric gases and continuous heat treatment | |
JP2005175288A (en) | Heating device, reflow furnace having the same and heating method of circuit substrate | |
JPH02302583A (en) | Heat treating furnace | |
CN118532931A (en) | Tunnel furnace, method for operating a tunnel furnace, and use of a tunnel furnace |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20031224 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3511376 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120116 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130116 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140116 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |