JP3509623B2 - Temperature detection structure of semiconductor switch element chip, temperature detection device, and semiconductor relay - Google Patents

Temperature detection structure of semiconductor switch element chip, temperature detection device, and semiconductor relay

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JP3509623B2 JP11770399A JP11770399A JP3509623B2 JP 3509623 B2 JP3509623 B2 JP 3509623B2 JP 11770399 A JP11770399 A JP 11770399A JP 11770399 A JP11770399 A JP 11770399A JP 3509623 B2 JP3509623 B2 JP 3509623B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体スイッチ素
子チップの温度検出構造および温度検出装置並びに半導
体リレーに関し、詳しくは、半導体スイッチ素子が形成
されたチップ上に形成され該チップの温度を検出可能な
温度検出構造および半導体スイッチ素子が形成されたチ
ップの温度を検出する温度検出装置並びに半導体スイッ
チ素子が形成されたチップの温度に基づいてオン状態の
該半導体スイッチ素子をオフする半導体リレーに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a temperature detecting structure for a semiconductor switch element chip, a temperature detecting device, and a semiconductor relay. More specifically, it is possible to detect the temperature of the chip formed on the chip on which the semiconductor switch element is formed. The present invention relates to a temperature detecting structure, a temperature detecting device for detecting the temperature of a chip on which a semiconductor switch element is formed, and a semiconductor relay for turning off the semiconductor switch element in the on state based on the temperature of the chip on which the semiconductor switch element is formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の半導体リレーとしては、
リレー出力端間に接続された半導体スイッチ素子近傍に
温度検出素子を設け、この温度検出素子からの信号によ
って半導体スイッチ素子をオフするものが提案されてい
る(例えば、特開平10−233669号公報など)。
この半導体リレーでは、温度検出素子として負の温度−
電圧特性をもつダイオードを用いており、このダイオー
ドの電圧降下が低くなると、半導体スイッチ素子がオフ
されるよう構成されている。即ち、半導体スイッチ素子
に大電流が流れてその温度が上昇すると、ダイオードの
電圧降下が低くなって、半導体スイッチ素子がオフされ
るのである。この構造を採ることにより、半導体スイッ
チ素子に過電流が流れることに起因する半導体スイッチ
素子の熱破壊を防止している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of semiconductor relay,
It has been proposed that a temperature detecting element is provided in the vicinity of a semiconductor switching element connected between relay output terminals, and the semiconductor switching element is turned off by a signal from the temperature detecting element (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-233669). ).
In this semiconductor relay, negative temperature
A diode having a voltage characteristic is used, and when the voltage drop of this diode becomes low, the semiconductor switch element is turned off. That is, when a large current flows through the semiconductor switching element and its temperature rises, the voltage drop of the diode decreases and the semiconductor switching element is turned off. By adopting this structure, thermal destruction of the semiconductor switch element due to overcurrent flowing through the semiconductor switch element is prevented.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、こうし
た半導体リレーでは、半導体スイッチ素子に大電流が流
れていなくてもオフされる場合を生じるという問題があ
った。温度検出素子としてのダイオードの電圧降下は
0.7V程度であり、その温度−電圧特性は、半導体ス
イッチ素子のオフを考慮する温度領域では、−1.5〜
−2.4[mV/℃]の負の特性である。したがって、
こうしたダイオードを用いた温度検出構造は、その出力
電圧レベルが低いために外来ノイズの影響を受けやすい
ものとなり、ノイズによる誤動作を招いてしまう。
However, such a semiconductor relay has a problem that it may be turned off even when a large current does not flow through the semiconductor switching element. The voltage drop of the diode as the temperature detecting element is about 0.7 V, and its temperature-voltage characteristic is -1.5 to
The negative characteristic is −2.4 [mV / ° C.]. Therefore,
Since the temperature detection structure using such a diode has a low output voltage level, the temperature detection structure is easily affected by external noise, which causes a malfunction due to noise.

【0004】本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構
造は、ノイズの影響の少ない温度検出構造を提供するこ
とを目的の一つとする。また、本発明の半導体スイッチ
素子の温度検出構造は、この温度検出構造を備えること
により生じるチップの大型化を低減することを目的の一
つとする。本発明の半導体スイッチ素子の温度検出装置
は、上述の本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構造
の目的の他、ノイズの影響を受けずに半導体スイッチ素
子が形成されたチップの温度をより正確に検出すること
を目的の一つとする。本発明の半導体リレーは、上述の
本発明の半導体スイッチ素子の温度検出装置の目的の
他、ノイズに起因する誤動作を防止することを目的の一
つとする。
One of the objects of the temperature detecting structure of the semiconductor switch element of the present invention is to provide a temperature detecting structure which is less affected by noise. Another object of the temperature detecting structure of the semiconductor switch element of the present invention is to reduce the size increase of the chip caused by providing the temperature detecting structure. The temperature detecting device for a semiconductor switch element of the present invention is intended to more accurately measure the temperature of a chip on which a semiconductor switch element is formed without being affected by noise, in addition to the purpose of the temperature detecting structure of the semiconductor switch element of the present invention described above. One of the purposes is to detect. Another object of the semiconductor relay of the present invention is to prevent a malfunction caused by noise, in addition to the above-mentioned object of the temperature detecting device for a semiconductor switch element of the present invention.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段およびその作用・効果】本
発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出構造および
温度検出装置並びに半導体リレーは、上述の目的の少な
くとも一部を達成するために以下の手段を採った。
MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS AND OPERATIONS AND EFFECTS THEREOF The present invention provides a temperature detecting structure for a semiconductor switch element chip, a temperature detecting device, and a semiconductor relay, in order to achieve at least a part of the above objects, the following means are provided. I took it.

【0006】本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構
造は、半導体スイッチ素子が形成されたチップの温度を
検出し、前記検出した温度に基づく電圧を発生する温度
検出構造であって、前記温度検出構造は、前記半導体ス
イッチ素子が形成されたチップ上に形成され温度の変
化に対して所定の電圧特性を有する温度電圧特性素子
と、該温度電圧特性素子に接続され、前記温度電圧特性
素子に発生した電圧信号の高周波成分を除去するローパ
スフィルタとを備え、前記ローパスフィルタは、前記温
度電圧特性素子に直列に接続された抵抗と、該温度電圧
特性素子と並列に接続されたコンデンサとから構成され
てなるフィルタであることを要旨とする。
The temperature detecting structure of the semiconductor switching element of the present invention detects the temperature of the chip on which the semiconductor switching element is formed.
Temperature to detect and generate voltage based on the detected temperature
The temperature detection structure is formed on a chip on which the semiconductor switch element is formed, and has a temperature-voltage characteristic element having a predetermined voltage characteristic with respect to a change in temperature, and the temperature-voltage characteristic element. Connected , said temperature-voltage characteristic
A low-pass filter for removing high-frequency components of the voltage signal generated in the element , wherein the low-pass filter is the temperature controller.
And a resistance connected in series with the temperature-voltage characteristic element and the temperature-voltage characteristic element.
It consists of a characteristic element and a capacitor connected in parallel.
The main point is that the filter is

【0007】この本発明の半導体スイッチ素子の温度検
出構造では、温度電圧特性素子に接続されたローパスフ
ィルタが高周波のノイズを除去する。これにより、温度
電圧特性素子から的確な温度の変化に対して所定の電圧
特性を取り出すことができる。また、こうすれば、チッ
プに容易にフィルタを構成することができる。
In the temperature detecting structure of the semiconductor switching element of the present invention, the low-pass filter connected to the temperature-voltage characteristic element removes high frequency noise. As a result, a predetermined voltage characteristic can be taken out from the temperature-voltage characteristic element with respect to an accurate temperature change. Also, if you do this,
The filter can be easily configured in the group.

【0008】こうした本発明の半導体スイッチ素子の温
度検出構造において、前記チップは、前記温度検出構造
の出力信号を外部に電気的接続をするためのボンディン
グパッドをチップ上面に備え、前記コンデンサは、前記
ボンディングパッドの下に形成されるものとすることも
できる。こうすれば、全体として小型化を図ることがで
きる。
In such a temperature detecting structure for a semiconductor switch element of the present invention, the chip is the temperature detecting structure.
Bonding for electrical connection of the output signal of the
Is provided on the upper surface of the chip, and the capacitor is
It may be formed under the bonding pad . By doing this, the overall size can be reduced.
Wear.

【0009】こうした本発明の半導体スイッチ素子の温
度検出構造において、前記温度電圧特性素子はダイオー
ドであるものとすることもできるし、前記温度電圧特性
素子は抵抗であるものとすることもできる。
In such a temperature detecting structure for a semiconductor switching element of the present invention, the temperature-voltage characteristic element is a diode.
The temperature-voltage characteristics described above can also be used.
The element can also be a resistor.

【0010】こうした本発明の半導体スイッチ素子の温
度検出構造において、前記半導体スイッチ素子は、電界
効果トランジスタまたはバイポーラトランジスタである
ものとすることもできる。
The temperature of the semiconductor switching device of the present invention as described above
In the degree detection structure, the semiconductor switch element has an electric field
Is an effect transistor or a bipolar transistor
It can also be one.

【0011】こうした本発明の半導体スイッチ素子の温
度検出構造において、前記コンデンサは、半導体酸化膜
を、ポリシリコンにより形成された第1の電極と前記チ
ップ基板に高濃度ドーピングし形成された第2の電極と
によって挟持する構造であるとすることもできる。ま
た、こうした本発明の半導体スイッチ素子の温度検出構
造において、前記半導体スイッチ素子は、電界効果トラ
ンジスタであり、前記半導体酸化膜は、前記電界効果ト
ランジスタのゲート酸化膜として形成した酸化膜の一部
を用いているものとすることもできる。こうすれば大容
量のコンデンサを構成することができる。
In the temperature detecting structure for a semiconductor switch element according to the present invention, the capacitor is a semiconductor oxide film.
A first electrode formed of polysilicon and
A second electrode formed by high-concentration doping on the substrate.
It is also possible to have a structure of sandwiching by. Well
In addition, such a temperature detection structure of the semiconductor switch element of the present invention is
In the fabrication, the semiconductor switch element is a field effect transistor.
The semiconductor oxide film is a field effect transistor.
Part of oxide film formed as gate oxide film of transistor
Can also be used. If you do this
A quantity of capacitors can be constructed.

【0012】本発明の半導体スイッチ素子チップの温度
検出装置は、半導体スイッチ素子が形成されたチップの
温度を検出し、前記検出した温度に基づく信号を出力
る温度検出装置であって、前述の各態様のいずれかの本
発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出構造と、前
記温度電圧特性素子に所定の電流を供給する電流供給部
と、前記温度電圧特性素子の電圧降下に基づく電圧を検
出する電圧検出部とを備えることを要旨とする。
A temperature detecting device for a semiconductor switch element chip of the present invention is a temperature detecting device for detecting a temperature of a chip on which a semiconductor switch element is formed and outputting a signal based on the detected temperature. Based on the temperature detection structure of the semiconductor switch element chip of the present invention in any one of the aforementioned aspects, a current supply unit for supplying a predetermined current to the temperature-voltage characteristic element, and a voltage drop of the temperature-voltage characteristic element. The gist of the present invention is to include a voltage detection unit that detects a voltage.

【0013】本発明の半導体スイッチ素子チップの温度
検出装置では、本発明の半導体スイッチ素子チップの温
度検出構造が、高周波のノイズの除去に基づいて温度電
圧特性素子から的確な温度の変化に対して所定の電圧特
性を取り出すことを可能とするから、チップの温度をよ
り正確に検出することができる。しかも、電流供給部か
ら温度電圧特性素子に所定の電流を供給するから、電流
の変化に起因して生じる温度−電圧特性の変化を防止す
ることができる。
In the semiconductor switch element chip temperature detection device of the present invention, the semiconductor switch element chip temperature detection structure of the present invention is adapted to prevent an accurate temperature change from the temperature-voltage characteristic element based on the removal of high frequency noise. Since the predetermined voltage characteristic can be taken out, the temperature of the chip can be detected more accurately. Moreover, since a predetermined current is supplied from the current supply unit to the temperature-voltage characteristic element, it is possible to prevent a change in the temperature-voltage characteristic caused by a change in the current.

【0014】こうした本発明のスイッチ素子チップの温
度検出装置において、前記電圧検出部は、前記温度電圧
特性素子の電圧降下に基づく電圧と所定電圧とを比較
し、いずれの電圧が高いかを2値の信号で出力する比較
器であるものとすることもできる。温度電圧特性素子
は、温度の変化に対して所定の電圧特性を有するから、
チップの温度がこの特性における所定電圧に対応する温
度以上になったことを判定することができる。
In such a temperature detecting device for a switch element chip according to the present invention, the voltage detecting section compares the voltage based on the voltage drop of the temperature-voltage characteristic element with a predetermined voltage, and determines which voltage is higher by a binary value. It is also possible to use a comparator that outputs the signal of. Since the temperature-voltage characteristic element has a predetermined voltage characteristic with respect to a change in temperature,
It can be determined that the temperature of the chip has risen above the temperature corresponding to the predetermined voltage in this characteristic.

【0015】本発明の半導体リレーは、半導体スイッチ
素子が形成されたチップの温度に基づいてオン状態の該
半導体スイッチ素子をオフする半導体リレーであって、
前述した本発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出
装置と、前記半導体スイッチ素子のオンオフを司る信号
を出力するオンオフ信号出力部と、前記電圧検出部によ
り検出された電圧が所定電圧以下または以上になったと
き、前記オンオフ信号出力部から前記半導体スイッチ素
子をオフする信号が出力されるよう該オンオフ信号出力
部にオフ信号を出力するオフ信号出力部とを備えること
を要旨とする。
The semiconductor relay of the present invention is a semiconductor relay which turns off the semiconductor switch element in the on state based on the temperature of the chip on which the semiconductor switch element is formed,
The semiconductor switch element chip temperature detection device of the present invention described above, an ON / OFF signal output section for outputting a signal for controlling ON / OFF of the semiconductor switch element, and the voltage detected by the voltage detection section is equal to or lower than a predetermined voltage. In this case, the on / off signal output section outputs an off signal to the on / off signal output section so that a signal for turning off the semiconductor switching element is output.

【0016】この本発明の半導体リレーでは、本発明の
半導体スイッチ素子チップの温度検出装置が、高周波の
ノイズの除去に基づいて温度電圧特性素子から的確な温
度の変化に対して所定の電圧特性を取り出し、チップの
温度をより正確に検出するから、ノイズにより誤動作す
ることなく、チップの温度に基づいてオン状態の半導体
スイッチ素子をオフすることができる。
In this semiconductor relay of the present invention, the temperature detecting device for the semiconductor switch element chip of the present invention provides a predetermined voltage characteristic to an appropriate temperature change from the temperature-voltage characteristic element based on the removal of high frequency noise. Since the temperature of the chip is taken out and detected more accurately, the semiconductor switch element in the on state can be turned off based on the temperature of the chip without malfunction due to noise.

【0017】こうした本発明の半導体リレーにおいて、
温度検出装置は前記電圧検出部が前記比較器であり、前
記オフ信号出力部は前記2値の信号の一方をオフ信号と
する前記温度検出装置が備える比較器であるものとする
こともできる。
In such a semiconductor relay of the present invention,
In the temperature detection device, the voltage detection unit may be the comparator, and the OFF signal output unit may be a comparator included in the temperature detection device that outputs one of the binary signals as an OFF signal.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例を用いて説明する。図1は、本発明の一実施例である
半導体スイッチ素子チップの温度検出構造を備える半導
体リレー20の構成の概略を示す構成図である。実施例
の半導体リレー20は、図示するように、Nチャンネル
パワーMOS(電界効果トランジスタ)32と温度検出
部40とが形成された半導体チップ30と、パワーMO
S32に駆動信号を出力する駆動部56と半導体チップ
30の温度検出部40からの信号を処理する温度処理部
52とを有する駆動回路50とを備える。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, embodiments of the present invention will be described with reference to examples. FIG. 1 is a configuration diagram showing an outline of a configuration of a semiconductor relay 20 including a temperature detection structure for a semiconductor switch element chip which is an embodiment of the present invention. As shown in the figure, the semiconductor relay 20 of the embodiment includes a semiconductor chip 30 in which an N-channel power MOS (field effect transistor) 32 and a temperature detector 40 are formed, and a power MO.
The drive circuit 50 includes a drive unit 56 that outputs a drive signal to S32 and a temperature processing unit 52 that processes a signal from the temperature detection unit 40 of the semiconductor chip 30.

【0019】パワーMOS32は、そのドレイン33が
負荷48に接続されており、ソース35は接地されてい
る。負荷48の他端は、負荷駆動用電源49に接続され
ている。パワーMOS32のゲート34は、駆動回路5
0の駆動部56に接続されている。したがって、パワー
MOS32は、駆動部56からの駆動信号によりオンオ
フし、負荷48の駆動スイッチとして機能する。
The drain 33 of the power MOS 32 is connected to the load 48, and the source 35 is grounded. The other end of the load 48 is connected to a load driving power source 49. The gate 34 of the power MOS 32 has the drive circuit 5
0 drive unit 56. Therefore, the power MOS 32 is turned on / off by the drive signal from the drive unit 56 and functions as a drive switch for the load 48.

【0020】パワーMOS32と同一のチップに形成さ
れた温度検出部40は、半導体チップ30の温度を検出
するためのダイオード41と、このダイオード41と直
列に接続された抵抗42と、ダイオード41と並列に接
続されたコンデンサ43とから構成されている。ダイオ
ード41は、順方向バイアス電流が一定であれば、順方
向電圧が−1.5〜−2.4mV/℃の負の線形性の高
い温度電圧特性を示す一般的なダイオードとして構成さ
れており、抵抗42とコンデンサ43は、ダイオード4
1の端子間電圧に対してローパスフィルタとして機能す
るよう構成されている。
The temperature detecting section 40 formed on the same chip as the power MOS 32 includes a diode 41 for detecting the temperature of the semiconductor chip 30, a resistor 42 connected in series with the diode 41, and a diode 41 in parallel. And a capacitor 43 connected to the. If the forward bias current is constant, the diode 41 is configured as a general diode that exhibits a highly negative temperature-voltage characteristic with a forward voltage of −1.5 to −2.4 mV / ° C. , Resistor 42 and capacitor 43 are diode 4
It is configured to function as a low-pass filter with respect to the voltage of one terminal.

【0021】駆動回路50の温度処理部52は、入力端
子の一方がパッド45を介して温度検出部40の抵抗4
2に接続されたコンパレータ53と、このコンパレータ
53の他方の入力端子に接続される温度に依存しない基
準電圧源54とから構成されている。コンパレータ53
は、基準電圧源54からの基準電圧とダイオード41の
順方向電圧とを比較し、その大小によって定まる2値の
信号を駆動部56に出力する。即ち、コンパレータ53
から駆動部56の出力は、ダイオード41の順方向電圧
が基準電圧より高いときにはHIであり、逆にダイオー
ド41の順方向電圧が基準電圧以下になるとLOWとな
る。基準電圧源54は、負荷48やパワーMOS32が
正常に動作しているときの温度より高い異常と判定すべ
き温度のときのダイオード41の順方向電圧が基準電圧
となるよう構成されている。したがって、コンパレータ
53の出力がHIからLOWに転じたときは、半導体チ
ップ30が異常過熱の状態にあるときを意味する。な
お、半導体チップ30のパッド46は、駆動回路50を
介して接地されている。
In the temperature processing unit 52 of the drive circuit 50, one of the input terminals is connected to the resistor 4 of the temperature detection unit 40 via the pad 45.
2 and a reference voltage source 54 independent of temperature which is connected to the other input terminal of the comparator 53. Comparator 53
Compares the reference voltage from the reference voltage source 54 with the forward voltage of the diode 41, and outputs a binary signal determined by its magnitude to the drive unit 56. That is, the comparator 53
Therefore, the output of the driving unit 56 is HI when the forward voltage of the diode 41 is higher than the reference voltage, and is LOW when the forward voltage of the diode 41 is lower than the reference voltage. The reference voltage source 54 is configured so that the forward voltage of the diode 41 becomes the reference voltage when the temperature is higher than the temperature when the load 48 and the power MOS 32 are operating normally and should be determined to be abnormal. Therefore, when the output of the comparator 53 changes from HI to LOW, it means that the semiconductor chip 30 is in an abnormally overheated state. The pad 46 of the semiconductor chip 30 is grounded via the drive circuit 50.

【0022】駆動部56は、コンパレータ53から入力
される信号がHIのときには、図示しない回路からの信
号に基づいてパワーMOS32のゲート34に駆動信号
を出力し、コンパレータ53から入力される信号がHI
からLOWに転じると、そのときまでパワーMOS32
のゲート34に出力していた駆動信号に拘わらず、パワ
ーMOS32をオフするオフ信号をゲート34に出力す
るよう構成されている。したがって、半導体チップ30
が過熱状態となってダイオード41の順方向電圧が基準
電圧以下になると、コンパレータ53からの信号がLO
Wとなり、駆動部56がパワーMOS32をオフする。
When the signal input from the comparator 53 is HI, the drive unit 56 outputs a drive signal to the gate 34 of the power MOS 32 based on a signal from a circuit (not shown), and the signal input from the comparator 53 is HI.
When it changes from LOW to LOW, the power MOS32
Irrespective of the drive signal output to the gate 34, an off signal for turning off the power MOS 32 is output to the gate 34. Therefore, the semiconductor chip 30
Is overheated and the forward voltage of the diode 41 becomes equal to or lower than the reference voltage, the signal from the comparator 53 becomes LO.
Then, the drive unit 56 turns off the power MOS 32.

【0023】次に、半導体チップ30の温度検出部40
を構成するローパスフィルタの配置について説明する。
図2は、半導体チップ30のパッド46を含む断面を例
示する断面図である。図示するように、温度検出部40
を構成するローパスフィルタのコンデンサ43は、P+
のボディ31に形成されたゲート酸化膜43bをポリシ
リコンにより形成された電極43aとボディ31に形成
されたN+の電極43cとによって挟持するものとし
て、パッドワイヤ46aに接続されるパッド46の直下
に形成されている。カットオフ周波数の低いローパスフ
ィルタを構成するには、抵抗42かコンデンサ43を大
きくする必要があるが、いずれかを大きくすると、それ
に伴ってチップのサイズも大きくなる。一方、パワーM
OS系の素子のボンディングパッドは、通常、大電流に
対応できるよう太いワイヤを打つために大きなものが用
いられ、パッドの下には素子は配置されない。したがっ
て、実施例では、コンデンサ43を容量の大きなものを
用いるものとし、これを通常何も配置されないパッドの
下に形成することにより、カットオフ周波数の低いロー
パスフィルタを構成すると共にチップの小型化を図って
いる。
Next, the temperature detecting section 40 of the semiconductor chip 30.
Arrangement of the low-pass filters constituting the above will be described.
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a cross section including the pad 46 of the semiconductor chip 30. As shown, the temperature detection unit 40
The low-pass filter capacitor 43 constituting
The gate oxide film 43b formed on the body 31 is sandwiched between the electrode 43a formed of polysilicon and the N + electrode 43c formed on the body 31 so as to be directly below the pad 46 connected to the pad wire 46a. Has been formed. To form a low-pass filter with a low cutoff frequency, it is necessary to increase the size of the resistor 42 or the capacitor 43, but if either of them is increased, the size of the chip also increases accordingly. On the other hand, power M
A bonding pad for an OS-based element is usually a large one for hitting a thick wire so that it can handle a large current, and no element is arranged below the pad. Therefore, in the embodiment, the capacitor 43 having a large capacitance is used, and the capacitor 43 is formed under the pad where nothing is normally arranged, thereby forming a low-pass filter having a low cutoff frequency and reducing the chip size. I am trying.

【0024】なお、図1に例示する温度検出部40は本
発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出構造の一実
施例を構成するものであり、温度検出部40と温度処理
部52は本発明の半導体スイッチ素子チップの温度検出
装置の一実施例を構成するものである。
The temperature detecting section 40 illustrated in FIG. 1 constitutes one embodiment of the temperature detecting structure of the semiconductor switch element chip of the present invention, and the temperature detecting section 40 and the temperature processing section 52 are the same as those of the present invention. It constitutes an embodiment of a temperature detecting device for a semiconductor switch element chip.

【0025】以上説明したように実施例の半導体リレー
20によれば、温度検出部40がローパスフィルタを備
えることにより、電磁傷害としての外来ノイズを除去す
ることができ、コンパレータ53の誤動作を防止するこ
とができる。この結果、誤動作によるパワーMOS32
のオフを防止することができる。しかも、通常、素子を
配置しないボンディングパッドの下に容量の大きなコン
デンサ43を形成するから、カットオフ周波数の低いロ
ーパスフィルタを構成することができると共にチップの
小型化を図ることができる。
As described above, according to the semiconductor relay 20 of the embodiment, since the temperature detecting section 40 is provided with the low pass filter, the external noise as electromagnetic damage can be removed and the malfunction of the comparator 53 can be prevented. be able to. As a result, the power MOS 32 due to malfunction
Can be prevented from turning off. Moreover, since the capacitor 43 having a large capacitance is usually formed under the bonding pad on which no element is arranged, a low-pass filter having a low cutoff frequency can be configured and the chip can be downsized.

【0026】この他、実施例の半導体リレー20によれ
ば、ゲート酸化膜を用いてコンデンサ43を構成したか
ら、コンデンサ43の特性を測定することにより、半導
体チップ30のゲート酸化膜の特性(例えば、膜厚な
ど)を推定することができる。この結果、パワーMOS
32のカットオフ電圧や応答時間特性などを推定するこ
とができる。また、ローパスフィルタを接続したパッド
45,46には大きな容量のコンデンサ43が接続され
るから、パッド45,46に印加された静電気は分圧さ
れ、内部の素子に印加されるエネルギも減衰される。こ
の結果、ローパスフィルタを接続した端子の静電気破壊
耐量を向上させることができる。
In addition, according to the semiconductor relay 20 of the embodiment, since the capacitor 43 is formed by using the gate oxide film, the characteristics of the gate oxide film of the semiconductor chip 30 (for example, by measuring the characteristics of the capacitor 43). , Film thickness, etc.) can be estimated. As a result, power MOS
It is possible to estimate the cutoff voltage of 32, the response time characteristic, and the like. Further, since the large capacity capacitor 43 is connected to the pads 45 and 46 to which the low-pass filter is connected, the static electricity applied to the pads 45 and 46 is divided, and the energy applied to the internal elements is also attenuated. . As a result, it is possible to improve the electrostatic breakdown resistance of the terminal to which the low-pass filter is connected.

【0027】実施例の半導体リレー20では、Nチャン
ネルのパワーMOS32が形成された半導体チップ30
に温度検出部40を形成したが、ゲート酸化膜を持つ構
成であれば如何なる半導体チップでもコンデンサ43を
構成することができるから、他の半導体スイッチ素子が
形成された半導体チップに温度検出部40を形成するも
のとしてもよい。例えば、図3に例示するPチャンネル
のパワーMOS32Bが形成された半導体チップ30B
に温度検出部40を形成した構成や、図4に例示するN
チャンネルのIGBT32Cが形成された半導体チップ
30Cに温度検出部40を形成した構成としてもよい。
なお、ゲート酸化膜を持たないタイプの半導体チップに
も温度検出部40を形成することもでき、このタイプの
半導体スイッチ素子にも適用することができる。この場
合、酸化膜を用いないタイプのコンデンサによりローパ
スフィルタを形成してもいいし、酸化膜を形成してコン
デンサを構成し、このコンデンサによりローパスフィル
タを構成するものとしてもよい。
In the semiconductor relay 20 of the embodiment, the semiconductor chip 30 in which the N-channel power MOS 32 is formed
Although the temperature detecting unit 40 is formed on the semiconductor chip, the capacitor 43 can be formed on any semiconductor chip as long as it has a gate oxide film. Therefore, the temperature detecting unit 40 can be formed on a semiconductor chip on which another semiconductor switch element is formed. It may be formed. For example, the semiconductor chip 30B in which the P-channel power MOS 32B illustrated in FIG. 3 is formed.
The structure in which the temperature detection unit 40 is formed, and the N illustrated in FIG.
The temperature detecting unit 40 may be formed in the semiconductor chip 30C in which the channel IGBT 32C is formed.
The temperature detection unit 40 can be formed on a semiconductor chip of a type that does not have a gate oxide film, and can be applied to a semiconductor switch element of this type. In this case, the low-pass filter may be formed by a type of capacitor that does not use an oxide film, or an oxide film may be formed to form a capacitor, and this capacitor may form a low-pass filter.

【0028】実施例の半導体リレー20では、半導体チ
ップ30の温度を検出する素子としてダイオード41を
用いたが、温度電圧特性を有するものであれば、如何な
る素子をも用いることができる。例えば、図5に例示す
るセンスソースに接続されたセンスソースの検出用の抵
抗41Dを温度検出用の素子として用いる半導体チップ
30Dとしてもよい。
In the semiconductor relay 20 of the embodiment, the diode 41 is used as an element for detecting the temperature of the semiconductor chip 30, but any element having a temperature-voltage characteristic can be used. For example, the semiconductor chip 30D that uses the sense source detection resistor 41D connected to the sense source illustrated in FIG. 5 as an element for temperature detection may be used.

【0029】さらに、実施例の半導体リレー20では、
抵抗42とコンデンサ43とによりローパスフィルタを
構成したが、図6に例示する半導体チップ30Eのよう
に、パッド46とローパスフィルタとの間に抵抗44を
挿入するものとしてもよい。即ち、外来ノイズを除去で
きればローパスフィルタを如何なる構成としてもよい。
Further, in the semiconductor relay 20 of the embodiment,
Although the low-pass filter is configured by the resistor 42 and the capacitor 43, the resistor 44 may be inserted between the pad 46 and the low-pass filter as in the semiconductor chip 30E illustrated in FIG. That is, the low-pass filter may have any configuration as long as external noise can be removed.

【0030】実施例の半導体リレー20では、温度処理
部52を比較器であるコンパレータ53により構成した
が、ダイオード41の順方向電圧により半導体チップ3
0の温度を演算する回路により構成し、所定の温度にな
ったら駆動部56にLOW信号を出力するものとしても
よい。
In the semiconductor relay 20 of the embodiment, the temperature processing section 52 is composed of the comparator 53 which is a comparator, but the semiconductor chip 3 is formed by the forward voltage of the diode 41.
It may be configured by a circuit that calculates a temperature of 0, and outputs a LOW signal to the drive unit 56 when a predetermined temperature is reached.

【0031】以上、本発明の実施の形態について実施例
を用いて説明したが、本発明はこうした実施例に何等限
定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
内において、種々なる形態で実施し得ることは勿論であ
る。
Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various embodiments are possible without departing from the gist of the present invention. Of course, it can be implemented in.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例である半導体スイッチ素子
チップの温度検出構造を備える半導体リレー20の構成
の概略を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a semiconductor relay 20 including a temperature detection structure for a semiconductor switch element chip that is an embodiment of the present invention.

【図2】 半導体チップ30のパッド46を含む断面を
例示する断面図である。
2 is a cross-sectional view illustrating a cross section including a pad 46 of the semiconductor chip 30. FIG.

【図3】 変形例の半導体チップ30Bの概略の構成を
示す構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip 30B of a modified example.

【図4】 変形例の半導体チップ30Cの概略の構成を
示す構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip 30C of a modified example.

【図5】 変形例の半導体チップ30Dの概略の構成を
示す構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip 30D of a modified example.

【図6】 変形例の半導体チップ30Eの概略の構成を
示す構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip 30E of a modified example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 半導体リレー、30,30B,30C,30D,
30E 半導体チップ、31 ボディ、32 パワーM
OS、32B PチャンネルのパワーMOS、32C
NチャンネルのIGBT、33 ドレイン、34 ゲー
ト、35 ソース、40 温度検出部、41 ダイオー
ド、42 抵抗、43 コンデンサ、44 抵抗、4
5,46 パッド、46a パッドワイヤ、50 駆動
回路、52温度処理部、53 コンパレータ、54 基
準電圧源、56 駆動部。
20 semiconductor relays, 30, 30B, 30C, 30D,
30E semiconductor chip, 31 body, 32 power M
OS, 32B P-channel power MOS, 32C
N-channel IGBT, 33 drain, 34 gate, 35 source, 40 temperature detector, 41 diode, 42 resistor, 43 capacitor, 44 resistor, 4
5, 46 pad, 46a pad wire, 50 drive circuit, 52 temperature processing unit, 53 comparator, 54 reference voltage source, 56 drive unit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−73756(JP,A) 特開 平6−260911(JP,A) 特開 平2−204814(JP,A) 特開 平7−115354(JP,A) 特開 平10−325761(JP,A) 特開 平9−133734(JP,A) 特開 平8−236709(JP,A) 特開 平8−213441(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03K 17/14 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) References JP-A-64-73756 (JP, A) JP-A-6-260911 (JP, A) JP-A-2-204814 (JP, A) JP-A-7- 115354 (JP, A) JP 10-325761 (JP, A) JP 9-133734 (JP, A) JP 8-236709 (JP, A) JP 8-213441 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H03K 17/14

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体スイッチ素子が形成されたチップ
の温度を検出し、前記検出した温度に基づく電圧を発生
する温度検出構造であって、 前記温度検出構造は、前記 半導体スイッチ素子が形成さ
れたチップ上に形成され 温度の変化に対して所定の電圧特性を有する温度電圧特
性素子と、 該温度電圧特性素子に接続され、前記温度電圧特性素子
に発生した電圧信号の高周波成分を除去するローパスフ
ィルタとを備え 前記ローパスフィルタは、前記温度電圧特性素子に直列
に接続された抵抗と、該温度電圧特性素子と並列に接続
されたコンデンサとから構成されてなるフィルタである
ことを特徴とする 温度検出構造。
1. A chip on which a semiconductor switch element is formed.
Temperature and generates voltage based on the detected temperature
A temperature sensing structure, the temperature detecting structure, the semiconductor switching element is formed on the formed chip, a temperature voltage characteristic element having a predetermined voltage characteristic with respect to changes in temperature, the temperature-voltage characteristic The temperature-voltage characteristic element connected to the element
And a low pass filter for removing high frequency components of the voltage signal generated in the low pass filter in series with the temperature-voltage characteristic element
Connected in parallel with the resistance connected to the temperature-voltage characteristic element
It is a filter that is composed of
A temperature detection structure characterized in that
【請求項2】 請求項1に記載の温度検出構造であっ
て、前記チップは、前記温度検出構造が発生した電圧を
外部に電気的接続をするためのボンディングパッドをチ
ップ上面に備え、 前記コンデンサは、前記ボンディングパッドの下に形成
されることを特徴とする 温度検出構造。
2. The temperature detecting structure according to claim 1.
Then, the chip detects the voltage generated by the temperature detection structure.
Check the bonding pad for electrical connection to the outside.
The top surface of the bonding pad, the capacitor is formed under the bonding pad.
Temperature detection structure characterized by being
【請求項3】 請求項1または2に記載の温度検出構造
であって、 前記温度電圧特性素子は、ダイオードであることを特徴
とする温度検出構造。
3. The temperature detecting structure according to claim 1 or 2.
A is the temperature voltage characteristic element, characterized in that a diode
And temperature detection structure.
【請求項4】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
温度検出構造であって、 前記温度電圧特性素子は、抵抗であることを特徴とする
温度検出構造。
4. The method according to any one of claims 1 to 3.
The temperature detecting structure, wherein the temperature-voltage characteristic element is a resistor .
【請求項5】 請求項1から4のいずれか1項に記載の
温度検出構造であって、 前記半導体スイッチ素子は、電界効果トランジスタまた
はバイポーラトランジスタであることを特徴とする 温度
検出構造。
5. The method according to any one of claims 1 to 4.
In the temperature detection structure, the semiconductor switch element is a field effect transistor or
Is a bipolar transistor . Temperature detection structure.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1項に記載の
温度検出構造であって、 前記コンデンサは、半導体酸化膜を、ポリシリコンによ
り形成された第1の電極と前記チップ基板に高濃度ドー
ピングし形成された第2の電極とによって挟持する構造
であることを特徴とする 温度検出構造。
6. The method according to any one of claims 1 to 5.
In the temperature detection structure, the capacitor has a semiconductor oxide film made of polysilicon.
On the chip substrate and the first electrode formed by
Structure sandwiched by a second electrode formed by pinging
A temperature detection structure characterized by:
【請求項7】 請求項6に記載の温度検出構造であっ
て、 前記半導体スイッチ素子は、電界効果トランジスタであ
り、 前記半導体酸化膜は、前記電界効果トランジスタのゲー
ト酸化膜として形成した酸化膜の一部を用いていること
を特徴とする 温度検出構造。
7. The temperature detecting structure according to claim 6,
The semiconductor switch element is a field effect transistor.
The semiconductor oxide film is a gate of the field effect transistor.
Use part of the oxide film formed as the oxide film
Features a temperature detection structure.
【請求項8】 半導体スイッチ素子が形成されたチップ
の温度を検出し、前記検出した温度に基づく信号を出力
する温度検出装置であって、 請求項1から7のいずれか1項に記載の温度検出構造
と、 前記温度電圧特性素子に所定の電流を供給する電流供給
部と、 前記温度電圧特性素子の電圧降下に基づく電圧を検出す
る電圧検出部とを備える温度検出装置。
8. A temperature detecting device for detecting a temperature of a chip having a semiconductor switch element formed thereon, and outputting a signal based on the detected temperature, wherein the temperature detecting device is any one of claims 1 to 7. temperature sensing apparatus comprising a temperature detection structure, a current supply unit for supplying a predetermined current to the temperature voltage characteristic element, a voltage detection unit that detects a voltage based on the voltage drop of the temperature-voltage characteristic element according to.
【請求項9】 前記電圧検出部は、前記温度電圧特性素
子の電圧降下に基づく電圧と所定電圧とを比較し、いず
れの電圧が高いかを2値の信号で出力する比較器である
請求項8記載の温度検出装置。
9. The voltage detection unit is a comparator that compares a voltage based on a voltage drop of the temperature-voltage characteristic element with a predetermined voltage and outputs which voltage is higher as a binary signal. 8. The temperature detection device according to 8.
【請求項10】 半導体スイッチ素子が形成されたチッ
プの温度に基づいてオン状態の該半導体スイッチ素子を
オフする半導体リレーであって、 請求項8または9記載の温度検出装置と、 前記半導体スイッチ素子のオンオフを司る信号を出力す
るオンオフ信号出力部と、 前記電圧検出部により検出された電圧が所定電圧以下ま
たは以上になったとき、前記オンオフ信号出力部から前
記半導体スイッチ素子をオフする信号が出力されるよう
該オンオフ信号出力部にオフ信号を出力するオフ信号出
力部とを備える半導体リレー。
10. A semiconductor relay for turning off the semiconductor switch element in an on state based on the temperature of a chip on which the semiconductor switch element is formed, the temperature detecting device according to claim 8 or 9, and the semiconductor switch element. An on / off signal output section that outputs a signal that controls the on / off of the semiconductor device, and a signal that turns off the semiconductor switch element is output from the on / off signal output section when the voltage detected by the voltage detection section becomes equal to or lower than a predetermined voltage. And an off signal output part for outputting an off signal to the on / off signal output part.
【請求項11】 前記オフ信号出力部は、前記2値の信
号の一方をオフ信号とする前記温度検出装置が備える比
較器である請求項9記載の温度検出装置を備える請求項
10記載の半導体リレー。
11. The semiconductor device according to claim 10, wherein the off-signal output unit is a comparator included in the temperature detection device that outputs one of the binary signals as an off signal. relay.
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