JP3507358B2 - Liquid crystal element and liquid crystal device having the same - Google Patents

Liquid crystal element and liquid crystal device having the same

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JP3507358B2
JP3507358B2 JP07850499A JP7850499A JP3507358B2 JP 3507358 B2 JP3507358 B2 JP 3507358B2 JP 07850499 A JP07850499 A JP 07850499A JP 7850499 A JP7850499 A JP 7850499A JP 3507358 B2 JP3507358 B2 JP 3507358B2
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a liquid crystal element which attains a state with high transmissivity, even in the case a liquid crystal which exhibits a chiral smetic phase is used and a liquid crystal device provided with it. SOLUTION: This liquid crystal element holds a liquid crystal 49, which exhibits a chiral smetic phase and moreover exhibits the first state with its monostabilized average molecular axis when no voltage is applied, of which the average molecular axis gets tilted, when a voltage with a first polarity or a reversed second polarity is applied, from the monostabilized position to the one side or to the reverse side with an angle corresponding to the applied voltage and of which, at the same time, the respective tilt angles of the average molecular axis under the voltage application at the maximum tilted state are identical based on the position of the first state as a reference, between a pair of substrates 81a, 81b. Also at least one of the anisotropy in refractive index of the liquid crystal 85 or the thickness of the liquid crystal layer is set so as to make the retardation under no voltage application larger than the optimum retardation of the liquid crystal 85 set corresponding to the arrangement of polarizing plates 87a, 87b and the wavelength of light transmitted by the liquid crystal layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プリンタ
ー等に用いられるライトバルブに使用される液晶素子及
びこれを備えた液晶表示装置をはじめとする液晶装置に
関し、特にカイラルスメクチック相を示す液晶を用いた
ものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device used for a light valve used in a flat panel display, a projection display, a printer and the like, and a liquid crystal display device including the liquid crystal device, and particularly a chiral smectic. The present invention relates to one using a liquid crystal showing a phase.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、TFT(Thin Film T
ransistor)等の能動素子を用いた表示素子と
して広範に用いられているネマティック液晶表示素子の
代表的な液晶モードとして、たとえばエム・シャット
(M.schadt)とダブリュー・ヘルフリッヒ
(W.Helfrich)著「Applied Phy
sics Letters第18巻、第4号(1971
年2月15日発行)」第127頁から128頁において
示されたツイステッドネマチック(Twisted N
ematic)モードが広く用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a TFT (Thin Film T
A typical liquid crystal mode of a nematic liquid crystal display element that is widely used as a display element using an active element such as a transistor is described in, for example, M. schadt and W. Helfrich ". Applied Phy
sics Letters Volume 18, Issue 4 (1971)
(Published February 15, 2002) "Twisted Nematic shown on pages 127-128.
The electronic mode is widely used.

【0003】一方、最近では横方向電界を利用したイン
プレインスイッチング(In‐Plain Switc
hing)モードや、垂直配向(Vertical A
lignment)モードを用いた液晶ディスプレイが
発表されており、従来型の液晶ディスプレイの欠点であ
った視野角特性の改善がなされている。
On the other hand, recently, in-plane switching (In-Plane Switchc) utilizing a lateral electric field is used.
hing) mode and vertical alignment (Vertical A
A liquid crystal display using a liquid crystal mode has been announced, and the viewing angle characteristic, which has been a drawback of the conventional liquid crystal display, has been improved.

【0004】このように、こうしたネマティック液晶を
用いたTFT表示素子に用いるための液晶モードとして
いくつかのモードが存在するが、そのいずれのモードの
場合にも液晶の応答速度が数十ミリ秒以上と遅く、更な
る応答速度の改善が要求されている。
As described above, there are several liquid crystal modes for use in a TFT display element using such a nematic liquid crystal. In any of these modes, the response speed of the liquid crystal is several tens of milliseconds or more. And it is slow, and further improvement in response speed is required.

【0005】そこで、このような従来型のネマティック
液晶素子の応答速度を改善するものとして、近年、カイ
ラルスメクチック相を示す液晶を用いた液晶モードがい
くつか提案されている。例えば、「ショートピッチタイ
プの強誘電性液晶」、「高分子安定型強誘電性液晶」、
「無閾反強誘電性液晶」などが提案されており、未だ実
用化には至っていないものの、いずれもサブミリ秒以下
の高速応答性が実現できると報告されている。
Therefore, in order to improve the response speed of such a conventional nematic liquid crystal element, some liquid crystal modes using a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase have been proposed in recent years. For example, "short pitch type ferroelectric liquid crystal", "polymer stable ferroelectric liquid crystal",
Although "threshold-free antiferroelectric liquid crystal" has been proposed and has not been put to practical use yet, it is reported that any of them can realize high-speed response of sub-millisecond or less.

【0006】一方、我々は特願平11−39954号に
記載されている素子(以下、先願素子という)を発明し
提案している。ここで、この先願素子は、カイラルスメ
クチックC液晶のスメクチック層がシェブロン構造をと
ること、該シェブロン構造をなすスメクチック層の基板
法線に対する傾斜角δが、少なくも使用温度において該
カイラルスメクチック液晶のチルト角Θと実質的に同じ
か、それ以上であること、電界無印加時では、該カイラ
ルスメクチック液晶の分子の平均分子軸が平均二軸配向
処理軸と実質的に一致し、クロスニコル偏光子間に挟持
した場合の最暗光学軸を1つしか持たない配向状態を有
し、電界印加時では、印加電界の強度変化に応じて該カ
イラルスメクチック液晶の連続的に見かけのチルト角及
び透過光強度が変化するということを特徴とするもので
ある。
On the other hand, we have invented and proposed an element described in Japanese Patent Application No. 11-39954 (hereinafter referred to as prior application element). Here, in this prior application device, the smectic layer of the chiral smectic C liquid crystal has a chevron structure, and the tilt angle δ of the smectic layer forming the chevron structure with respect to the substrate normal is at least the tilt of the chiral smectic liquid crystal at the operating temperature. The angle Θ is substantially equal to or more than that, and when no electric field is applied, the average molecular axis of the molecules of the chiral smectic liquid crystal substantially coincides with the average biaxial alignment treatment axis, and It has an alignment state that has only one darkest optical axis when sandwiched between two, and when an electric field is applied, the apparent tilt angle and transmitted light intensity of the chiral smectic liquid crystal are continuously changed according to the change in the applied electric field strength. Is characterized by changing.

【0007】そして、このような特徴を有する先願素子
は、電界無印加時では、クロスニコル偏光子間に挟持し
た場合の最暗光学軸を1つしか持たない単一の配向状態
を有し、且つ電界印加時では液晶への印加電界に応じて
透過光強度が変化する特性を示し、この特性を利用して
階調表示を実現することができる。
The prior application device having such characteristics has a single alignment state having only one darkest optical axis when sandwiched between crossed Nicols polarizers when no electric field is applied. In addition, when the electric field is applied, the transmitted light intensity changes according to the electric field applied to the liquid crystal, and gradation display can be realized by utilizing this characteristic.

【0008】なお、こうした自発分極による反転スイッ
チングを行う強誘電性液晶や反強誘電性液晶は、いずれ
もカイラルスメクチック液晶相を示す液晶である。即
ち、従来ネマティック液晶が抱えていた応答速度に関す
る問題点を解決できるという意味において、カイラルス
メクティック液晶を用いた液晶素子の実現が期待されて
いる。
Both the ferroelectric liquid crystal and the antiferroelectric liquid crystal that perform such inversion switching by spontaneous polarization are liquid crystals exhibiting a chiral smectic liquid crystal phase. That is, in the sense that the problem regarding the response speed that the conventional nematic liquid crystal has had can be solved, realization of a liquid crystal element using a chiral smectic liquid crystal is expected.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
高速応答性能など次世代のディスプレイ等に階調表示能
を有するスメクティック液晶を用いた液晶素子が期待さ
れているが、この液晶素子設計の最適化、特にセル厚設
計に関する指針が十分に示されていないのが現状であ
る。
However, a liquid crystal element using a smectic liquid crystal having a gradation display capability in next-generation displays such as high-speed response performance is expected, but the optimum design of the liquid crystal element is desired. The current situation is that there are not enough guidelines for cell design, especially cell thickness design.

【0010】こうしたセル厚設計に関して、例えば明暗
2値の状態しか取らないSSFLCの場合には、液晶分
子が基板と平行に配向している場合は液晶材料固有の複
屈折異方性の値(Δn=n//−n⊥)とセル厚dとの積
(Δnd)によって透過状態(白表示状態)での透過光
量が見積もることができる。
With respect to such cell thickness design, for example, in the case of SSFLC which takes only a binary state of brightness and darkness, when the liquid crystal molecules are aligned parallel to the substrate, the birefringence anisotropy value (Δn = N // −n⊥) and the cell thickness d (Δnd) can be used to estimate the amount of transmitted light in the transmissive state (white display state).

【0011】例えばクロスニコル下での透過光量T1
は、 T1=Sin2 (πΔnd/λ)…… [1] で表される。この式を用いて所望の波長−透過率特性と
なるようセル厚を決定することで、液晶素子を最適化す
ることが出来る。
For example, the transmitted light amount T1 under crossed Nicols
Is represented by T1 = Sin 2 (πΔnd / λ) ... [1]. The liquid crystal element can be optimized by determining the cell thickness so as to obtain a desired wavelength-transmittance characteristic using this formula.

【0012】また、SSFLCが大きなプレチルト角を
持つ場合などは、基板水平面から液晶分子の起きあがっ
た角度を考慮することで、液晶素子内での実効的な複屈
折異方性の値(Δneffect)が計算により求められ、そ
れを[1]式に用いることで同様の手法により設計が可
能であるため、液晶素子に最適なセル厚を容易に求める
ことができる。
When the SSFLC has a large pretilt angle, the effective birefringence anisotropy value (Δn effect ) in the liquid crystal element is taken into consideration by considering the rising angle of the liquid crystal molecules from the horizontal plane of the substrate. Can be obtained by calculation and can be designed by the same method by using it in the formula [1]. Therefore, the optimum cell thickness for the liquid crystal element can be easily obtained.

【0013】しかしながら、発明者らが詳細に検討した
ところ、先願素子において上述のような設計指針で素子
を作製すると、同じ強誘電性液晶にも関わらず、実際に
駆動したときの透過率が予測した値とは異なっている結
果となってしまった。つまり、双安定性を有するSSF
LCと、先願素子の単安定性のFLCとは異なった挙動
を示すことが実験により発見された。
However, as a result of a detailed study by the inventors, when a device is manufactured according to the design guideline described above in the prior application device, the transmittance when actually driven is increased despite the same ferroelectric liquid crystal. The result is different from the predicted value. In other words, SSF with bistability
It was discovered by experiments that the LC and the monostable FLC of the prior application device behave differently.

【0014】例えば、先願素子について、プレチルトが
ゼロの素子を作製し、上記のようにΔndを最適化する
べくセル厚設定した場合、上式[1]で計算される所望
の透過光量より低い強度の透過光量しか得られず、かつ
白色の色温度が予測した値より高温側、即ちピーク波長
が単波長側にシフトする結果となった。
For example, in the case of the prior application element, when an element having a zero pretilt is manufactured and the cell thickness is set to optimize Δnd as described above, the amount of transmitted light is lower than the desired transmitted light amount calculated by the above formula [1]. Only the intensity of transmitted light was obtained, and the white color temperature was higher than the predicted value, that is, the peak wavelength was shifted to the single wavelength side.

【0015】そこで、本発明は、このような現状に鑑み
てなされたものであり、カイラルスメクチック相を示す
液晶を用いた場合でも、透過率の高い状態が得られる液
晶素子及びこれを備えた液晶装置を提供することを目的
とするものである。
Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and a liquid crystal element capable of obtaining a high transmittance even when a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase is used, and a liquid crystal including the same. The purpose is to provide a device.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明は、カイラルスメ
クチック相を示す液晶を挟持する一方、該液晶に電圧を
印加する電極を有すると共に、少なくとも一方の基板の
対向面に該液晶を配向させるための一軸性配向処理が施
された一対の基板と、少なくとも一方の基板側に設けら
れた偏光板とを備えた液晶素子であって、前記液晶は、
電圧無印加時では該液晶の平均分子軸が単安定化された
第一の状態を示し、第一の極性の電圧印加時には該液晶
の平均分子軸は印加電圧の大きさに応じた角度で前記単
安定化された位置から一方の側にチルトし、前記第一の
極性とは逆極性の第二の極性の電圧印加時には該液晶の
平均分子軸は該単安定化された位置から第一の極性の電
圧を印加したときとは逆側にチルトすると共に、前記第
一の極性の電圧印加時と第二の極性の電圧印加時の液晶
の平均分子軸の、前記第一の状態における単安定化され
た位置を基準とした最大チルト状態のチルトの角度がそ
れぞれ等しくなるものであり、前記偏光板の配置及び液
晶層を透過させる光の波長に応じて設定される液晶の最
適リタデーション量よりも、電圧無印加時のリタデーシ
ョン量の方が大きくなるよう前記液晶の屈折率異方性の
値及び前記液晶層の厚さの少なくとも一方を設定したこ
とを特徴とするものである。
According to the present invention, a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase is sandwiched, while an electrode for applying a voltage to the liquid crystal is provided, and the liquid crystal is aligned on the facing surface of at least one substrate. A liquid crystal element comprising a pair of substrates that have been subjected to a uniaxial alignment treatment, and a polarizing plate provided on at least one of the substrates, wherein the liquid crystal is
When no voltage is applied, the average molecular axis of the liquid crystal shows a first state in which it is mono-stabilized, and when a voltage of the first polarity is applied, the average molecular axis of the liquid crystal is at an angle corresponding to the magnitude of the applied voltage. The average molecular axis of the liquid crystal is tilted to one side from the mono-stabilized position, and when a voltage having a second polarity opposite to the first polarity is applied, the average molecular axis of the liquid crystal is In addition to tilting to the side opposite to that when a voltage of polarity is applied, the monostable state of the average molecular axis of the liquid crystal during the application of the voltage of the first polarity and the voltage of the second polarity in the first state The tilt angles of the maximum tilt state with respect to the changed position are equal, and the optimum retardation amount of the liquid crystal is set according to the arrangement of the polarizing plate and the wavelength of light transmitted through the liquid crystal layer. , The amount of retardation when no voltage is applied is larger So as it is characterized in that setting the at least one of the thickness values and the liquid crystal layer with a refractive index anisotropy of the liquid crystal.

【0017】また本発明は、前記基板は、アクティブ素
子を有し、アクティブマトリクス駆動を行う駆動回路を
備えていることを特徴とするものである。
Further, the present invention is characterized in that the substrate has an active element and a drive circuit for performing active matrix drive.

【0018】また本発明は、前記液晶は、シェブロン構
造をなすスメクチック層の基板法線に対する傾斜角δ
が、少なくも使用温度においてカイラルスメクチックC
液晶のチルト角Θと実質的に同じかそれより大きいこと
を特徴とするものである。
According to the present invention, the liquid crystal has an inclination angle δ with respect to a substrate normal line of the smectic layer having a chevron structure.
However, chiral smectic C at least at operating temperature
It is characterized in that it is substantially the same as or larger than the tilt angle Θ of the liquid crystal.

【0019】また本発明は、前記液晶はIso−Ch−
SmA−SmC* という相系列を有しており、Ch又は
SmA又はSmC* にて電界印加処理を行うことを特徴
とするものである。
In the present invention, the liquid crystal is Iso-Ch-
It has a phase sequence of SmA-SmC *, and is characterized in that the electric field application process is performed in Ch, SmA, or SmC * .

【0020】また本発明は、前記液晶はIso−Ch−
SmA−SmC* という相系列を有しており、SmA又
はSmC* にて加圧処理を行うことを特徴とするもので
ある。
In the present invention, the liquid crystal is Iso-Ch-
It has a phase sequence of SmA-SmC *, and is characterized in that the pressure treatment is performed with SmA or SmC * .

【0021】また本発明は、前記液晶はIso−Ch−
SmC* という相系列を有しており、Ch又はSmC*
にて電界印加処理を行うことを特徴とするものである。
In the present invention, the liquid crystal is Iso-Ch-
SmC * has a phase sequence that, Ch or SmC *
The method is characterized in that the electric field application process is carried out at.

【0022】また本発明は、前記液晶は、少なくとも使
用温度においてスメクチック層の傾斜角δが、前記カイ
ラルスメクチックC液晶のバルク状態での層間隔の温度
変化から計算される大きさよりも大きい状態であること
を特徴とするものである。
In the present invention, the tilt angle δ of the smectic layer of the liquid crystal is larger than at least the size calculated from the temperature change of the layer spacing in the bulk state of the chiral smectic C liquid crystal at a use temperature. It is characterized by that.

【0023】また本発明は、前記液晶は、電界印加処理
且つ/又は加圧処理により変化した素子内のシェブロン
構造の層傾斜角δが、等方性液体相を示す高温側から冷
却されて形成される初期シェブロン構造の層傾斜角δ0
より大きい状態であることを特徴とするものである。
According to the present invention, the liquid crystal is formed by cooling the layer inclination angle δ of the chevron structure in the element, which is changed by the electric field application process and / or the pressure process, from the high temperature side showing the isotropic liquid phase. Inclination angle δ 0 of the initial chevron structure
It is characterized by being in a larger state.

【0024】また本発明は、前記液晶のバルク状態での
らせんピッチはセル厚の2倍より長いことを特徴とする
ものである。
The present invention is also characterized in that the helical pitch of the liquid crystal in the bulk state is longer than twice the cell thickness.

【0025】また本発明は、液晶素子と、該液晶素子を
駆動するための駆動回路と、バックライト光源とを有す
る透過型の液晶装置において、前記液晶素子が上記いず
れかの発明のものであることを特徴とするものである。
Further, the present invention is a transmissive liquid crystal device having a liquid crystal element, a drive circuit for driving the liquid crystal element, and a backlight light source, wherein the liquid crystal element is one of the above inventions. It is characterized by that.

【0026】また本発明は、液晶素子と、該液晶素子を
駆動するための駆動回路と、反射板とを有する反射型の
液晶装置において、前記液晶素子が上記いずれかに記載
の発明のものであることを特徴とするものである。
Further, the present invention is a reflection type liquid crystal device having a liquid crystal element, a drive circuit for driving the liquid crystal element, and a reflector, wherein the liquid crystal element is the invention described in any one of the above. It is characterized by being.

【0027】また本発明のように、カイラルスメクチッ
ク相を示す一方、電圧無印加時では液晶の平均分子軸が
単安定化された第一の状態を示し、第一の極性或は第一
の極性とは逆極性の第二の極性の電圧印加時には液晶の
平均分子軸が印加電圧の大きさに応じた角度で単安定化
された位置から一方の側或は逆側にチルトすると共に、
第一の極性の電圧印加時と第二の極性の電圧印加時の液
晶の平均分子軸の、第一の状態における単安定化された
位置を基準とした最大チルト状態のチルトの角度がそれ
ぞれ等しくなる液晶を一対の基板により挟持する。ま
た、偏光板の配置及び液晶層を透過させる光の波長に応
じて設定される液晶の最適リタデーション量よりも、電
圧無印加時のリタデーション量の方が大きくなるよう液
晶の屈折率異方性の値及び液晶層の厚さの少なくとも一
方を設定する。
Further, as in the present invention, while exhibiting a chiral smectic phase, it exhibits the first state in which the average molecular axis of the liquid crystal is mono-stabilized when no voltage is applied, and it exhibits the first polarity or the first polarity. When a voltage having a second polarity opposite to that of the above is applied, the average molecular axis of the liquid crystal tilts from the mono-stabilized position to one side or the opposite side at an angle according to the magnitude of the applied voltage,
The tilt angles of the maximum tilt state with respect to the mono-stabilized position in the first state of the average molecular axes of the liquid crystal when the voltage of the first polarity is applied and the voltage of the second polarity are applied are equal. The liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates. In addition, the refractive index anisotropy of the liquid crystal is set so that the retardation amount when no voltage is applied is larger than the optimum retardation amount of the liquid crystal set according to the arrangement of the polarizing plate and the wavelength of light transmitted through the liquid crystal layer. At least one of the value and the thickness of the liquid crystal layer is set.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0029】図1は、本発明の実施の形態に係る液晶素
子を備えた液晶装置の構造を示す断面図であり、同図に
おいて、70は液晶装置、80は互いに偏光軸が直交し
た一対の偏光板87a,87b間に挟装されている液晶
素子である。そして、この液晶素子80は、一対のガラ
ス、プラスチック等透明性の高い材料からなる基板81
a、81b間に液晶85、好ましくはカイラルスメクチ
ック相を呈する液晶を挟持している。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal device equipped with a liquid crystal element according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 70 is a liquid crystal device and 80 is a pair of polarization axes orthogonal to each other. The liquid crystal element is sandwiched between the polarizing plates 87a and 87b. The liquid crystal element 80 has a substrate 81 made of a highly transparent material such as a pair of glass and plastic.
A liquid crystal 85, preferably a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase, is sandwiched between a and 81b.

【0030】ここで、この基板81a,81bには、夫
々液晶85に電圧を印加するためのIn23 、ITO
等の材料からなる電極82a,82bが、例えばストラ
イプ状に設けられており、これらが互いに交差してマト
リックス電極構造を形成している。なお、後述するよう
に一方の基板にドット状の透明電極をマトリックス状に
配置し、各透明電極にTFTやMIM(Metal−I
nsulator−Metal)等のスイッチング素子
を接続し、他方の基板の一面上あるいは所定パターンの
対向電極を設けアクティブマトリックス構造にすること
が好ましい。
Here, the substrates 81a and 81b are provided with In 2 O 3 and ITO for applying a voltage to the liquid crystal 85, respectively.
Electrodes 82a and 82b made of the same material are provided in, for example, a stripe shape, and these intersect with each other to form a matrix electrode structure. As will be described later, dot-shaped transparent electrodes are arranged in a matrix on one substrate, and a TFT or MIM (Metal-I) is provided on each transparent electrode.
It is preferable to connect a switching element such as an insulator-metal) and to provide an active matrix structure by providing a counter electrode on one surface of the other substrate or in a predetermined pattern.

【0031】また、この電極82a,82b上には、必
要に応じてこれらのショートを防止する等の機能を持つ
SiO2 、TiO2 、Ta25 等の材料からなる絶縁
膜83a,83bが夫々設けられ、さらに、絶縁膜83
a,83b上には、液晶85に接し、その配向状態を制
御するべく機能する配向制御膜84a,84bが設けら
れている。
Further, the electrode 82a, On 82b, SiO 2, TiO 2, Ta 2 O consists of 5 such material insulating film 83a having a function such as to prevent these short as necessary, 83 b is Insulating film 83
Alignment control films 84a and 84b which are in contact with the liquid crystal 85 and function to control the alignment state thereof are provided on the a and 83b.

【0032】ここで、この配向制御膜84a,84bの
少なくとも一方には一軸配向処理が施されている。な
お、この配向制御膜84a,84bは、例えば、ポリイ
ミド、ポリイミドアミド、ポリアミド、ポリビニルアル
コール等の有機材料を溶液塗工した膜の表面にラビング
処理を施したもの、あるいはSiO等の酸化物、窒化物
を基板に対し斜め方向から所定の角度で蒸着した無機材
料の斜方蒸着膜にて構成されたものである。
Here, at least one of the orientation control films 84a and 84b is uniaxially oriented. The orientation control films 84a and 84b are, for example, those obtained by applying a rubbing treatment to the surface of a solution-coated film of an organic material such as polyimide, polyimide amide, polyamide, or polyvinyl alcohol, or an oxide such as SiO or nitride. It is composed of an oblique vapor deposition film of an inorganic material in which an object is vapor-deposited from a substrate at a predetermined angle.

【0033】さらに、この配向制御膜84a,84bに
ついては、その材料の選択、処理(一軸配向処理等)の
条件等により、液晶85の分子のプレチルト角(液晶分
子の配向制御膜界面付近で膜面に対してなす角度)が調
整される。
Further, regarding the alignment control films 84a and 84b, the pretilt angle of the molecules of the liquid crystal 85 (the film near the interface of the alignment control film of the liquid crystal molecules) depends on the selection of the material, the condition of the treatment (uniaxial alignment treatment, etc.) and the like. The angle to the surface) is adjusted.

【0034】また、配向制御膜84a,84bがいずれ
も一軸配向処理がなされた膜である場合、夫々の膜の一
軸配向処理方向(特にラビング方向)を、用いる液晶材
料に応じて平行、反平行、あるいは45°以下の範囲で
クロスするように設定することができる。
When the orientation control films 84a and 84b are both uniaxially oriented films, the uniaxial orientation direction of each film (particularly the rubbing direction) is parallel or antiparallel depending on the liquid crystal material used. Alternatively, it can be set to cross in the range of 45 ° or less.

【0035】また、基板81a及び81bは、スペーサ
ー86を介して対向している。かかるスペーサー86
は、基板81a、81bの間の距離(セルギャップ)を
決定するものであり、シリカビーズ等が用いられる。
The substrates 81a and 81b are opposed to each other with the spacer 86 interposed therebetween. Such spacer 86
Is for determining the distance (cell gap) between the substrates 81a and 81b, and silica beads or the like is used.

【0036】ここで、このスペーサー86により決定さ
れるセルギャップについては、液晶材料の違いによって
最適範囲及び上限値が異なるが、均一な一軸配向性、ま
た電圧無印加時に液晶分子の平均分子軸をほぼ配向処理
軸の平均方向の軸と実質的に同一にする配向状態を発現
させるべく、0.3〜10μmの範囲に設定することが
好ましい。さらにこのセル厚の値は後述する電圧無印加
時のリタデーション量となるよう、適宜調整し設定する
ことが好ましい。
Here, regarding the cell gap determined by the spacer 86, the optimum range and the upper limit value differ depending on the liquid crystal material, but the uniform uniaxial orientation and the average molecular axis of the liquid crystal molecules when no voltage is applied. It is preferable to set it in the range of 0.3 to 10 μm in order to develop an alignment state that is substantially the same as the average axis of the alignment treatment axes. Further, it is preferable that the value of the cell thickness is appropriately adjusted and set so as to be a retardation amount when no voltage is applied, which will be described later.

【0037】なお、スペーサー86に加えて基板81a
及び81b間の接着性を向上させ、カイラルスメクチッ
ク相を示す液晶85の耐衝撃性を向上させるべく、エポ
キシ樹脂等の樹脂材料等からなる接着粒子を分散配置す
ることもできる(図示せず)。
In addition to the spacer 86, the substrate 81a
Adhesive particles made of a resin material such as an epoxy resin may be dispersedly arranged (not shown) in order to improve the adhesion between the liquid crystal layer 81 and 81b and to improve the impact resistance of the liquid crystal 85 exhibiting a chiral smectic phase.

【0038】一方、このような液晶素子80では、液晶
85としてカイラルスメクチック相を示す液晶を用いる
場合については、その材料の組成を調整し、更に液晶材
料の処理や素子構成、例えば配向制御膜84a,84b
の材料、処理条件等を適宜設定することにより、電圧無
印加時では、液晶の平均分子軸(液晶分子)が単安定化
されている配向状態を示し、駆動時では一方の極性(第
一の極性)の電圧印加時に印加電圧の大きさに応じて平
均分子軸の単安定化される位置を基準としたチルト角度
が連続的に変化し、他方の極性(第二の極性)の電圧印
加時には液晶の平均分子軸は、印加電圧の大きさに応じ
た角度でチルトするような特性を示すようにする。さら
に、本実施の形態においては、第一の極性の電圧印加に
よる最大チルト角度β1と、第二の極性の電圧印加によ
る最大チルト角度β2とが等しい特性を示すようにす
る。
On the other hand, in such a liquid crystal element 80, when a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase is used as the liquid crystal 85, the composition of the material is adjusted, and further the treatment of the liquid crystal material and the element constitution, for example, the alignment control film 84a. , 84b
By appropriately setting the material, the processing conditions, etc., the average molecular axis (liquid crystal molecule) of the liquid crystal exhibits a mono-stabilized orientation state when no voltage is applied, and one polarity (first When the voltage of (polarity) is applied, the tilt angle based on the mono-stabilized position of the average molecular axis continuously changes according to the magnitude of the applied voltage, and when the voltage of the other polarity (second polarity) is applied. The average molecular axis of the liquid crystal is made to exhibit a characteristic that it tilts at an angle according to the magnitude of the applied voltage. Further, in the present embodiment, the maximum tilt angle β1 due to the voltage application of the first polarity and the maximum tilt angle β2 due to the voltage application of the second polarity exhibit the same characteristic.

【0039】そして、このようなカイラルスメクチック
相を示す液晶材料としては、既述した先願素子の特性
(液晶材料固有の物性値コーン角Θ、スメクチック層の
層間隔d、傾斜角δについての特性)を示すようなビフ
ェニル骨格やフェニルシクロヘキサンエステル骨格、フ
ェニルピリミジン骨格等を有する炭化水素系液晶材料、
ナフタレン系液晶材料、ポリフッ素系液晶材料を適宜選
択して調製した組成物を用いる。
As the liquid crystal material exhibiting such a chiral smectic phase, the characteristics of the above-mentioned prior application device (characteristic value cone angle Θ peculiar to the liquid crystal material, layer spacing d of the smectic layer, inclination angle δ) are described. A hydrocarbon-based liquid crystal material having a biphenyl skeleton, a phenylcyclohexane ester skeleton, a phenylpyrimidine skeleton, or the like,
A composition prepared by appropriately selecting a naphthalene liquid crystal material or a polyfluorine liquid crystal material is used.

【0040】さらに、これらの液晶材料は、 (a) シェブロン構造をなすスメクチック層の基板法
線に対する傾斜角δが、少なくも使用温度においてカイ
ラルスメクチックC液晶のチルト角Θと実質的に同じか
それより大きい。 (b) 少なくとも使用温度においてスメクチック層の
傾斜角δが、カイラルスメクチックC液晶のバルク状態
での層間隔の温度変化から計算される大きさよりも大き
い状態である。 (c) 電界印加処理且つ/又は加圧処理により変化し
た素子内のシェブロン構造の層傾斜角δが、等方性液体
相を示す高温側から冷却されて形成される初期シェブロ
ン構造の層傾斜角δ0 より大きい状態である。 (d) バルク状態でのらせんピッチはセル厚の2倍よ
り長い。
Further, in these liquid crystal materials, (a) whether the inclination angle δ of the smectic layer having the chevron structure with respect to the substrate normal is substantially the same as the tilt angle Θ of the chiral smectic C liquid crystal at the operating temperature or not. Greater than (B) The tilt angle δ of the smectic layer is larger than the size calculated from the temperature change of the layer spacing in the bulk state of the chiral smectic C liquid crystal at least at the use temperature. (C) The layer inclination angle δ of the chevron structure in the element changed by the electric field application treatment and / or the pressure treatment is the layer inclination angle of the initial chevron structure formed by cooling from the high temperature side showing the isotropic liquid phase. The state is larger than δ 0 . (D) The spiral pitch in the bulk state is longer than twice the cell thickness.

【0041】等の特性を示すものである。It shows characteristics such as.

【0042】また、 (a) Iso−Ch−SmA−SmC* という相系列
を有しており、Ch又はSmA又はSmC* にて電界印
加処理を行う。 (b) Iso−Ch−SmA−SmC* という相系列
を有しており、SmA又はSmC* にて加圧処理を行
う。 (c) Iso−Ch−SmC* という相系列を有して
おり、Ch又はSmC*にて電界印加処理を行う。
Further, (a) it has a phase sequence of Iso-Ch-SmA-SmC * , and the electric field application process is performed with Ch, SmA or SmC * . (B) It has a phase sequence of Iso-Ch-SmA-SmC * , and pressure treatment is performed with SmA or SmC * . (C) It has a phase sequence of Iso-Ch-SmC * , and the electric field application process is performed with Ch or SmC * .

【0043】等の処理が行われるものである。Processing such as the above is performed.

【0044】ところで、本実施の形態に係る液晶装置7
0においては、図1に示す液晶素子80に対して階調信
号を供給する駆動回路を設け、既述したような電圧の印
加により液晶の平均分子軸の単安定位置からの連続的な
チルト角度の変化及び液晶素子80からの出射光量が連
続的に変化する特性を利用し、階調表示を行うように構
成している。
Incidentally, the liquid crystal device 7 according to the present embodiment.
0, a drive circuit for supplying a gradation signal to the liquid crystal element 80 shown in FIG. 1 is provided, and by applying the voltage as described above, a continuous tilt angle from the monostable position of the average molecular axis of the liquid crystal is provided. And a characteristic that the amount of light emitted from the liquid crystal element 80 continuously changes are used to perform gradation display.

【0045】例えば、液晶素子80の一方の基板として
既述したようなTFT等を備えたアクティブマトリクス
基板を用い、駆動回路で振幅変調によるアクティブマト
リクス駆動を行うことでアナログ階調表示を可能として
いる。
For example, as one substrate of the liquid crystal element 80, an active matrix substrate provided with the above-mentioned TFT or the like is used, and active matrix driving by amplitude modulation is performed by a driving circuit, thereby enabling analog gradation display. .

【0046】次に、図2〜図4を用いてこのようなアク
ティブマトリクス基板を用いた階調表示について説明す
る。
Next, a gradation display using such an active matrix substrate will be described with reference to FIGS.

【0047】図2は、液晶素子80の一方の基板(アク
ティブマトリクス基板)の構成を模式的に示した図であ
り、同図に示すように、液晶素子に相当するパネル部9
0において、駆動手段である走査信号ドライバ91に連
結した走査線に相当する水平方向のゲート線G1,G2
…,G5と、駆動手段である情報信号ドライバ92に連
結した情報信号線に相当する上下方向のソース線S1,
S2…,S5とが互いに絶縁された状態で直交するよう
に設けられている。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the structure of one substrate (active matrix substrate) of the liquid crystal element 80. As shown in FIG. 2, the panel section 9 corresponding to the liquid crystal element is provided.
0, the horizontal gate lines G1 and G2 corresponding to the scanning lines connected to the scanning signal driver 91 which is the driving unit.
, G5 and the source line S1 in the vertical direction corresponding to the information signal line connected to the information signal driver 92 as the driving means.
S2, ..., S5 are provided so as to be orthogonal to each other while being insulated from each other.

【0048】さらに、これらゲート線G1,G2…,G
5及びソース線S1,S2…,S5各交点の画素に対応
してスイッチング素子に相当する薄膜トランジスタ(T
FT)94及び画素電極95が設けられている(同図で
は簡略化のため5x5画素の領域のみを示す)。なおス
イッチング素子として、TFTの他、MIM素子を用い
ることもできる。
Further, these gate lines G1, G2 ..., G
5 and the source lines S1, S2 ..., S5, corresponding to the pixels at the respective intersections, a thin film transistor (T
FT) 94 and a pixel electrode 95 are provided (only 5 × 5 pixel region is shown in the figure for simplification). As the switching element, an MIM element can be used instead of the TFT.

【0049】また、ゲート線G1,G2…,G5はTF
T94のゲート電極(図示せず)に接続され、ソース線
S1,S2…,S5はTFT94のソース電極(図示せ
ず)に接続され、画素電極15はTFT94のドレイン
電極(図示せず)に接続されている。
Further, the gate lines G1, G2, ..., G5 are TF.
, S5 are connected to the source electrode (not shown) of the TFT 94, and the pixel electrode 15 is connected to the drain electrode (not shown) of the TFT 94. Has been done.

【0050】そして、このような構成の基板において、
走査信号ドライバ91によりゲート線G1,G2…,G
5が、例えば線順次に走査選択されてゲート電圧が供給
されると共に、このゲート線G1,G2…,G5の走査
選択に同期して情報信号ドライバ92から、各画素に書
き込む情報に応じた情報信号電圧がソース線S1,S2
…,S5に供給され、TFT94を介して各画素電極1
5に印加される。
Then, in the substrate having such a structure,
The scanning signal driver 91 causes the gate lines G1, G2, ..., G
5 is, for example, line-sequentially scanned and selected to supply a gate voltage, and in synchronization with the scanning selection of the gate lines G1, G2, ..., G5, the information signal driver 92 outputs information according to information to be written in each pixel. Signal voltage is source line S1, S2
..., each pixel electrode 1 supplied to S5 and via the TFT 94.
5 is applied.

【0051】一方、図3は、図2に示すようなパネル構
成における各画素部分(1ビット分)の断面構造の一例
を示す図であり、同図に示す構造では、TFT94及び
画素電極95を備えるアクティブマトリクス基板20
と、共通電極32を備えた対向基板40との間に、自発
分極を有する液晶層49が挟持され、液晶容量(C1
c)31が構成されている。なお、このアクティブマト
リクス基板20では、TFT94としてアモルファスS
iTFTを用いている。
On the other hand, FIG. 3 is a diagram showing an example of a sectional structure of each pixel portion (for one bit) in the panel structure as shown in FIG. 2. In the structure shown in FIG. 3, the TFT 94 and the pixel electrode 95 are formed. Active matrix substrate 20 provided
And a counter substrate 40 having a common electrode 32, a liquid crystal layer 49 having spontaneous polarization is sandwiched between the liquid crystal capacitor (C1) and
c) 31 is configured. In this active matrix substrate 20, the amorphous S is used as the TFT 94.
iTFT is used.

【0052】ここで、このTFT94は、ガラス等から
なる基板21上に形成され、図2に示すゲート線G1,
G2…,G5に接続したゲート電極22上に窒化シリコ
ン(SiNx)等の材料からなる絶縁膜(ゲート絶縁
膜)23を介してa−Si層24が設けられており、該
a−Si層24上に、夫々n+ a−Si層25、26を
介してソース電極27、ドレイン電極28が互いに離間
して設けられている。
Here, the TFT 94 is formed on the substrate 21 made of glass or the like, and the gate line G1 shown in FIG.
An a-Si layer 24 is provided on the gate electrode 22 connected to G2, ..., G5 via an insulating film (gate insulating film) 23 made of a material such as silicon nitride (SiNx), and the a-Si layer 24. A source electrode 27 and a drain electrode 28 are provided on the upper side of the n + a-Si layers 25 and 26, respectively, separated from each other.

【0053】なお、ソース電極27は図2に示すソース
線S1,S2…,S5に接続し、ドレイン電極28はI
TO膜等の透明導電膜からなる画素電極95に接続して
いる。また、TFT94におけるa−Si層24上をチ
ャネル保護膜29が被覆している。さらに、このTFT
94は、該当するゲート線が走査選択された期間におい
てゲート電極22にゲートパルスが印加されオン状態と
なる。
The source electrode 27 is connected to the source lines S1, S2 ..., S5 shown in FIG. 2, and the drain electrode 28 is I.
It is connected to the pixel electrode 95 made of a transparent conductive film such as a TO film. In addition, the channel protection film 29 covers the a-Si layer 24 of the TFT 94. Furthermore, this TFT
In the period 94, a gate pulse is applied to the gate electrode 22 during a period in which the corresponding gate line is scan-selected, and is turned on.

【0054】一方、アクティブマトリクス基板20にお
いては、画素電極95と、ガラス基板21側に設けられ
た保持容量電極30とによって絶縁膜23(ゲート電極
22上の絶縁膜と連続的に設けられた膜)を挟持した構
造により、保持容量(CS)32が液晶層49と並列の
形で設けられている。なお、この保持容量電極30はそ
の面積が大きい場合、開口率が低下するため、ITO膜
等の透明導電膜により形成される。
On the other hand, in the active matrix substrate 20, the insulating film 23 (a film continuously provided with the insulating film on the gate electrode 22) is formed by the pixel electrode 95 and the storage capacitor electrode 30 provided on the glass substrate 21 side. The holding capacitor (CS) 32 is provided in parallel with the liquid crystal layer 49 due to the structure of sandwiching (1). When the area of the storage capacitor electrode 30 is large, the aperture ratio is lowered, so that the storage capacitor electrode 30 is formed of a transparent conductive film such as an ITO film.

【0055】また、アクティブマトリクス基板20のT
FT94及び画素電極95上には液晶49の配向状態を
制御するための、例えばラビング処理等の一軸配向処理
が施された配向膜43aが設けられており、対向基板4
0のガラス基板41上には全面同様の厚みで共通電極4
2及び配向膜43bが積層されている。なお、図2及び
図3に示すようなパネル構成において、アクティブマト
リクス基板20として、多結晶Si(p−Si)TFT
を備えた基板を用いることができる。
Further, T of the active matrix substrate 20
On the FT 94 and the pixel electrode 95, there is provided an alignment film 43a for controlling the alignment state of the liquid crystal 49, for example, which has been subjected to a uniaxial alignment process such as a rubbing process.
On the glass substrate 41 of 0, the common electrode 4 having the same thickness as the entire surface is formed.
2 and the alignment film 43b are stacked. In the panel structure as shown in FIGS. 2 and 3, a polycrystalline Si (p-Si) TFT is used as the active matrix substrate 20.
A substrate provided with can be used.

【0056】次に、図4及び図5を参照して上記構造の
液晶素子における特性を利用したアクティブマトリクス
駆動について述べる。なお、図4は図3に示すパネルの
画素部分の等価回路を示すものである。また、図5は液
晶素子を駆動する印加電圧及び光学応答を示す図であ
る。
Next, with reference to FIGS. 4 and 5, active matrix driving utilizing the characteristics of the liquid crystal element having the above structure will be described. 4 shows an equivalent circuit of the pixel portion of the panel shown in FIG. Further, FIG. 5 is a diagram showing an applied voltage for driving a liquid crystal element and an optical response.

【0057】ここで、図5(a)は、一画素を着目した
際に、当該画素に接統する走査線となる一ゲート線に印
加される電圧を示す。そして、上記構造の液晶素子で
は、既述したように各フィールド毎にゲート線G1,G
2…,G5が、例えば線順次で選択され、一ゲート線に
は選択期間Tonにおいて所定のゲート電圧Vgが印加
され、ゲート電極22に電圧Vgが加わり、TFT94
がオン状態となる。
Here, FIG. 5A shows a voltage applied to one gate line which is a scanning line connected to the pixel when one pixel is focused. In the liquid crystal element having the above structure, as described above, the gate lines G1 and G are provided for each field.
, G5 are selected, for example, line-sequentially, a predetermined gate voltage Vg is applied to one gate line in the selection period Ton, the voltage Vg is applied to the gate electrode 22, and the TFT 94 is connected.
Turns on.

【0058】なお、他のゲート線が選択されている期間
に相当する非選択期間Toffにはゲート電極22に電
圧が加わらずTFT12は高抵抗状態(オフ状態)とな
り、これによりToff毎に所定の同一のゲート線が選
択されてゲート電極22にゲート電圧Vgが印加され
る。
In the non-selection period Toff corresponding to the period in which another gate line is selected, the voltage is not applied to the gate electrode 22 and the TFT 12 is in a high resistance state (off state), whereby a predetermined Toff is performed. The same gate line is selected and the gate voltage Vg is applied to the gate electrode 22.

【0059】図5(b)は、当該画素の情報信号線(ソ
ース線)に印加される電圧Vsを示す。そして、図5
(a)で示すように各フィールドで選択期間Tonでゲ
ート電極22にゲート電圧が印加された際、これに同期
して当該画素に接続する情報線となるソース線S1,S
2…,S5からソース電極27に、所定のソース電圧
(情報信号電圧)Vs(基準電位を共通電極42の電位
Vcとする)が印加される。
FIG. 5B shows the voltage Vs applied to the information signal line (source line) of the pixel. And FIG.
As shown in (a), when the gate voltage is applied to the gate electrode 22 in the selection period Ton in each field, the source lines S1 and S that become the information lines connected to the pixel in synchronization with this are applied.
, S5 applies a predetermined source voltage (information signal voltage) Vs (the reference potential is the potential Vc of the common electrode 42) to the source electrode 27.

【0060】ここで、1フレームを構成する第一のフィ
ールド(1F)では、当該画素に書込まれる情報、例え
ば用いる液晶に応じた電圧−透過率特性を基に当該画素
で得ようとする光学状態又は表示情報(透過率)に応じ
たレベルVxの正極性のソース電圧(情報信号電圧)が
印加される。
Here, in the first field (1F) constituting one frame, the optics to be obtained in the pixel based on the information written in the pixel, for example, the voltage-transmittance characteristic according to the liquid crystal used. A positive source voltage (information signal voltage) of level Vx according to the state or display information (transmittance) is applied.

【0061】この時、TFT94がオン状態であるた
め、上記ソース電極27に印加される電圧Vxがドレイ
ン電極28を介して画素電極95に印加され、液晶容量
(C1c)31及び保持容量(Cs)32に充電がなさ
れ、画素電極の電位が情報信号電圧Vxになる。
At this time, since the TFT 94 is in the ON state, the voltage Vx applied to the source electrode 27 is applied to the pixel electrode 95 via the drain electrode 28, and the liquid crystal capacitance (C1c) 31 and the storage capacitance (Cs). 32 is charged, and the potential of the pixel electrode becomes the information signal voltage Vx.

【0062】続いて、当該画素の属するゲート線の非選
択期間ToffおいてTFT94は高抵抗(オフ状態)
となるため、この非選択期間には液晶セル(液晶容量C
1c)31及び保持容量(Cs)32では選択期間To
nで充電された電荷が蓄積された状態を維持し、電圧V
xが保持される。これにより、当該画素における液晶層
49に第1フィールド1Fの期間を通して電圧Vxが印
加され、当該画素の液晶部分ではこの電圧値に応じた光
学状態(透過光量)が得られる。
Subsequently, in the non-selection period Toff of the gate line to which the pixel belongs, the TFT 94 has a high resistance (off state).
Therefore, the liquid crystal cell (liquid crystal capacitance C
1c) 31 and the storage capacitor (Cs) 32, the selection period To
The state in which the charge charged by n is accumulated is maintained and the voltage V
x is retained. As a result, the voltage Vx is applied to the liquid crystal layer 49 of the pixel through the period of the first field 1F, and the liquid crystal portion of the pixel obtains an optical state (amount of transmitted light) corresponding to the voltage value.

【0063】一方、このとき液晶の応答速度がゲートオ
ン期間より遅い場合、液晶セル(液晶容量C1c)31
及び保持容量(Cs)32に充電が完了し、ゲートがオ
フされた非選択期間にスイッチングが開始される。そし
て、このような場合は自発分極の反転によって充電され
た電荷が相殺され、図5(c)のように液晶層49に印
加される電圧値VpixがVxより小さいVx’という
値を取る。
On the other hand, if the response speed of the liquid crystal is slower than the gate-on period at this time, the liquid crystal cell (liquid crystal capacitance C1c) 31
The charging of the storage capacitor (Cs) 32 is completed, and switching is started in the non-selection period in which the gate is turned off. Then, in such a case, the charged charges are canceled by the inversion of the spontaneous polarization, and the voltage value Vpix applied to the liquid crystal layer 49 takes a value Vx 'smaller than Vx as shown in FIG. 5C.

【0064】次に、第二のフィールド(2F)の選択期
間Tonでは、第一のフィールド1Fとは極性が逆で実
質的に同様の電圧値Vxを有するソース電圧(−Vx)
がソース電極27に印加される。この時、TFT94が
オン状態であり、画素電極95に電圧−Vxが印加され
て、液晶容量(C1c)31及び保持容量(Cs)32
に充電がなされ、画素電極の電位が情報信号電圧−Vx
になる。
Next, in the selection period Ton of the second field (2F), the source voltage (-Vx) having the polarity value Vx which is opposite in polarity to the first field 1F and has substantially the same voltage value Vx.
Is applied to the source electrode 27. At this time, the TFT 94 is in the ON state, the voltage −Vx is applied to the pixel electrode 95, and the liquid crystal capacitance (C1c) 31 and the storage capacitance (Cs) 32 are provided.
Is charged, and the potential of the pixel electrode is changed to the information signal voltage -Vx.
become.

【0065】続いて、非選択期間ToffにおいてTF
T94は高抵抗(オフ状態)となるため、この非選択期
間には、液晶セル(液晶容量Clc)31及び保持容量
(Cs)32では選択期間Tonで充電された電荷が蓄
積された状態を維持し、電圧−Vxが保持される。
Then, in the non-selection period Toff, TF
Since T94 has a high resistance (off state), during this non-selection period, the liquid crystal cell (liquid crystal capacitance Clc) 31 and the storage capacitor (Cs) 32 maintain the state in which the charge charged during the selection period Ton is accumulated. Then, the voltage −Vx is held.

【0066】そして、当該画素における液晶層49に第
2のフィールド2F期間を通して電圧−Vxが印加さ
れ、当該画素ではこの電圧値に応じた光学状態(出射光
量)が得られる。このときも同様に液晶の応答速度がゲ
ートオン期間より遅い場合、液晶セル(液晶容量C1
c)31及び保持容量(Cs)32に充電が完了し、ゲ
ートがオフされた非選択期間にスイッチングが開始され
る。
Then, the voltage -Vx is applied to the liquid crystal layer 49 of the pixel through the second field 2F period, and the optical state (amount of emitted light) corresponding to the voltage value is obtained in the pixel. At this time as well, when the response speed of the liquid crystal is slower than the gate-on period, the liquid crystal cell (the liquid crystal capacitance C1
c) The charging of 31 and the storage capacitor (Cs) 32 is completed, and switching is started in the non-selected period when the gate is turned off.

【0067】このような場合は自発分極の反転によって
充電された電荷が相殺され、図5(c)のように液晶層
49に印加される電圧値Vpixが−Vxより小さい−
VX’という値を取る。
In such a case, the charged charges are canceled by the reversal of the spontaneous polarization, and the voltage value Vpix applied to the liquid crystal layer 49 is smaller than -Vx, as shown in FIG. 5C.
Takes the value VX '.

【0068】一方、当該画素での液晶の実際の光学応答
(透過型液晶素子した場合での光学応答)は、(d)に
示すように、第一フィールド1FではVx’に応じた階
調表示状態(出射光量)が得られ、第二フィールド2F
では−Vx’に応じた階調表示状態が得られ、これらは
同じ階調レベルとなる。
On the other hand, the actual optical response of the liquid crystal in the pixel (optical response in the case of using a transmissive liquid crystal element) is, as shown in (d), gradation display according to Vx 'in the first field 1F. The state (amount of emitted light) is obtained, and the second field 2F
In, a gradation display state corresponding to -Vx 'is obtained, and these have the same gradation level.

【0069】このように、既述したアクティブマトリク
ス駆動では、カイラルスメクチック相を示す液晶を用い
た場合で良好な高速応答性に基づいた階調表示が可能と
なる。更に、第一及び第二フィールド1F,2Fで同様
のレベルの電圧が極性反転して液晶層49に印加される
ため、液晶層49に実際に印加される電圧が交流化さ
れ、液晶の劣化が防止される。
As described above, in the above-mentioned active matrix driving, it is possible to perform gradation display based on excellent high-speed response when using a liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase. Further, in the first and second fields 1F and 2F, the voltages of the same level are inverted in polarity and applied to the liquid crystal layer 49, so that the voltage actually applied to the liquid crystal layer 49 is converted into an alternating current, which causes deterioration of the liquid crystal. To be prevented.

【0070】なお、このアクティブマトリクス駆動によ
る階調表示は、図1に示すような透光性の基板81a,
81bと、一対の偏光板とを有し、不図示のバックライ
トにより一方の基板側から入射された光を変調し、他方
側に出射するタイプの透過型液晶素子のみならず、少な
くとも一方の基板に偏光板を設けた反射型液晶素子、即
ち基板81a,81bのいずれか一方の側に反射板を設
けるかあるいは一方の基板自体又は基板に設ける部材と
して反射性の材料を用いて、入射光及び反射光を変調
し、入射側と同様の側に光を出射するタイプの素子にも
適用することができる。また、基板81a,81bの一
方に少なくともR,G,Bのカラーフィルタを設けたカ
ラー液晶素子にも適用することができる。
The gradation display by the active matrix driving is performed by the transparent substrate 81a, as shown in FIG.
81b and a pair of polarizing plates, not only a transmissive liquid crystal element of a type that modulates light incident from one substrate side by a backlight (not shown) and emits the light to the other side, but at least one substrate A reflection type liquid crystal element having a polarizing plate provided on the substrate, that is, a reflection plate is provided on one side of the substrates 81a and 81b, or a reflective material is used as one of the substrates itself or a member provided on the substrate. It can also be applied to an element of a type that modulates reflected light and emits light to the same side as the incident side. Further, it can be applied to a color liquid crystal element in which at least one of R, G, and B color filters is provided on one of the substrates 81a and 81b.

【0071】ところで、既述した発明が解決しようとす
る課題で述べた双安定性を有するSSFLCと先願素子
の単安定性のFLCとが異なった挙動をとるという事象
に関し、SSFLCの明状態または中間調表示状態にお
ける配向状態と、先願の階調表示能を有する強誘電性液
晶の駆動中における配向状態との間でもっとも異なる点
は、後者の液晶素子が1秒間に複数のフレームからなる
画像を表示する液晶装置であり、例えば1フレーム毎に
極性の異なる電圧を印加するような交流駆動を行った場
合、各フレーム内において分子配向状態が常に変化する
点と考えられる。
By the way, regarding the phenomenon that the SSFLC having the bistability and the monostable FLC of the prior application element behave differently, which is described in the problem to be solved by the above-mentioned invention, the bright state of the SSFLC or The most different point between the alignment state in the halftone display state and the alignment state in driving the ferroelectric liquid crystal having gradation display capability of the prior application is that the latter liquid crystal element is composed of a plurality of frames per second. It is a liquid crystal device that displays an image, and it is considered that the molecular orientation state is constantly changed in each frame when AC driving is performed such that voltages having different polarities are applied for each frame.

【0072】例えば、SSFLCではメモリ性が存在す
るため、階調情報を維持するための電圧は基本的には不
要であることから、駆動方法として交流駆動を行うこと
は稀である。
For example, since SSFLC has a memory property, a voltage for maintaining gradation information is basically unnecessary, and therefore AC driving is rarely performed as a driving method.

【0073】一方、先願素子などの階調表示能を有する
液晶素子に用いられる単安定型強誘電性液晶はTFT駆
動が前提とされており、印加する電圧値に応じた配向状
態を形成する。なお、このTFT駆動では、液晶層に直
流が印加されると不純物イオンの偏在による焼き付き現
象の原因となるため、既述した交流による駆動が一般的
に用いられる。
On the other hand, a monostable ferroelectric liquid crystal used in a liquid crystal element having a gradation display capability such as a prior application element is premised on TFT driving, and forms an alignment state according to an applied voltage value. . In this TFT driving, if a direct current is applied to the liquid crystal layer, it causes a burn-in phenomenon due to uneven distribution of impurity ions. Therefore, the above-mentioned alternating current driving is generally used.

【0074】しかし、実効値応答するネマチック液晶と
は異なり、自発分極を有するこれらの液晶では印加交流
電圧の極性に応じて配向状態が変化する。つまり、各フ
レーム内には必ずこうした配向状態が変化していく過渡
状態を含み、こうした状態を観測することになる。一般
的に界面近傍の分子よりバルク分子の反転の方が速く行
われる点を鑑みると、こうした過渡状態における分子反
転では必ず液晶分子が捻れた状態を経ることが考えられ
る。
However, unlike the nematic liquid crystal that responds to the effective value, in these liquid crystals having spontaneous polarization, the alignment state changes according to the polarity of the applied AC voltage. In other words, each frame always includes a transient state in which the orientation state changes, and such a state is observed. In view of the fact that the inversion of bulk molecules is generally faster than the inversion of molecules near the interface, it is conceivable that the liquid crystal molecules always undergo a twisted state in the inversion of molecules in such a transient state.

【0075】ここで、この捻れ状態に関して、配向状態
を次のように近似して考えることができる。即ち、単安
定モードでは電圧を印加しても界面近傍は電圧無印加状
態の配向状態を維持すると考えられることから、こうし
た電圧無印加状態の配向状熊を維持している長さをξと
すると、ξ=ξ(V)であり、この値は印加電圧の関数
である。
Here, regarding this twisted state, the orientation state can be approximated as follows. That is, in the monostable mode, it is considered that the vicinity of the interface maintains the alignment state in the state where no voltage is applied even if a voltage is applied. , Ξ = ξ (V), and this value is a function of the applied voltage.

【0076】なお、素子の対称性から電圧がゼロの時は
ξ(0)=d/2であるが、印加電圧の増加に伴いξの
値は減少する。これより、バルクにおいて反転する液晶
層の厚さdswは、 dsw=d−2×ξ(V)…… [3] と表される。
Note that due to the symmetry of the element, ξ (0) = d / 2 when the voltage is zero, but the value of ξ decreases as the applied voltage increases. From this, the thickness d sw of the liquid crystal layer which is inverted in the bulk is expressed as d sw = d−2 × ξ (V) ... [3].

【0077】ここで、クロスニコルのいずれか一方の偏
光軸方向と、電圧無印加状態における平均分子配向方向
とを一致させた素子とした場合、上記ξの距離内に存在
する液晶分子は入射偏光の偏光回転に寄与しない。
Here, in the case of an element in which the polarization axis direction of one of the crossed Nicols and the average molecular orientation direction in the state where no voltage is applied are matched, the liquid crystal molecules existing within the distance of ξ above are incident polarized light. Does not contribute to the rotation of polarized light.

【0078】一方、バルクにおいて反転する液晶層dsw
の範囲にある液晶はスメクチック液晶であり、ネマチッ
ク液晶と比較すると液晶分子の秩序度が高いことや、ス
メクチック液晶素子のセル厚が一般に1〜2μm程度と
非常に薄く、dswも十分小さい値であることから、一様
な配列を保ちながらスイッチングすると近似して考える
ことができる。
On the other hand, the liquid crystal layer d sw inverted in the bulk
The liquid crystal in the range of is a smectic liquid crystal, the order of liquid crystal molecules is higher than that of nematic liquid crystal, the cell thickness of the smectic liquid crystal element is very thin, generally about 1 to 2 μm, and d sw is a sufficiently small value. Therefore, it can be approximated to switching while maintaining a uniform arrangement.

【0079】つまり、印加電圧の大きさを大きくするに
つれてξ(V)の長さが短くなると同時に、dswにおい
て一様に反転しつつスイッチング角が大きくなると言う
反転過程をとると近似できる。
That is, it can be approximated by taking an inversion process in which the length of ξ (V) becomes shorter as the applied voltage becomes larger, and at the same time, the switching angle becomes larger while being uniformly inverted in d sw .

【0080】そして、これらは電圧の関数であると同時
に、過渡応答の現象であるので時間の関数でもある。つ
まり、dswでのスイッチング角をψとすると、時間tに
おける瞬間的な透過率T3は、 T3=sin2 (2ψ)×sin2 (R3/λ)…… [4] と表される。ここで、R3は時間tにおける過渡的リタ
デーション量であり、実効的な屈折率異方性(Δn
effect)とdswとの積である。また、Δneffectは液晶
分子が完全に基板と平行な面でのみ反転する場合は液晶
分子固有のΔnと一致するが、ゴールドストーンモード
に基づく反転として、SmC* 液晶のコーン上をスイッ
チングする場合は基板面から起きあがった角度の分だけ
液晶分子固有のΔnより小さい値になると考えられる。
These are not only a function of voltage but also a function of time because they are transient response phenomena. That is, when the switching angle at d sw is ψ, the instantaneous transmittance T3 at time t is expressed as T3 = sin 2 (2ψ) × sin 2 (R3 / λ) ... [4]. Here, R3 is a transient retardation amount at time t, and is an effective refractive index anisotropy (Δn
effect ) and d sw . Further, the Δn effect matches the Δn peculiar to the liquid crystal molecules when the liquid crystal molecules are inverted only in the plane parallel to the substrate, but as the inversion based on the Goldstone mode, when switching on the cone of the SmC * liquid crystal. It is considered that the angle raised from the substrate surface is smaller than Δn peculiar to liquid crystal molecules.

【0081】いずれにしても過渡的リタデーションR3
及びdswでのスイッチング角ψは印加電圧と時間の関数
であるため、R3=R3(V,t)であり、ψ=ψ
(V,t)である。したがって、1フレーム内において
電圧Vを印加した際の透過光強度Trの平均値は、
In any case, the transient retardation R3
And the switching angle ψ at d sw is a function of the applied voltage and time, so R3 = R3 (V, t), and ψ = ψ
(V, t). Therefore, the average value of the transmitted light intensity Tr when the voltage V is applied within one frame is

【0082】[0082]

【数1】 となる。[Equation 1] Becomes

【0083】なお、ここで、Tは、例えば透過型素子に
おいてバックライトを常時点灯させて用いる場合には1
フレーム期間を表している。また、特願平10−177
145に記載されている素子などのように1フレームが
複数のフィールドでなる場合も同様に、1フレームの全
期間を表している。一方、バックライトを点滅させ表示
する場合には、バックライトの点灯期間を表している。
Here, T is 1 when the backlight is always lit and used in a transmissive element, for example.
It represents the frame period. In addition, Japanese Patent Application No. 10-177
Similarly, in the case where one frame is composed of a plurality of fields such as the element described in 145, the entire period of one frame is represented. On the other hand, when the backlight is displayed by blinking, it represents the lighting period of the backlight.

【0084】以上のことから、液晶素子に用いる液晶材
料及びその配向状態に応じたξの値、さらにそれによっ
て得られるR3の値を考慮した上で、上式[5]を考慮
することで所望の透過光量を得られるよう最適セル厚を
設定することができる。
From the above, by considering the value of ξ depending on the liquid crystal material used for the liquid crystal element and its alignment state, and the value of R3 obtained thereby, it is desirable to consider the above formula [5]. The optimum cell thickness can be set so that the amount of transmitted light can be obtained.

【0085】ところで、駆動中のリタデーション量は上
述のように時間の関数であるが、前記Tの期間内での平
均リタデーション量を考慮する場合、過渡的リタデーシ
ョン量R3に対して透過光に影響を及ぼすリタデーショ
ン量は同じく時間の関数であるスイッチング角ψを考慮
した加重平均を取るべきである。したがって少なくとも
本発明において、前記Tの期間内での平均リタデーショ
ン量という場合は、
By the way, the retardation amount during driving is a function of time as described above, but when the average retardation amount within the period of T is taken into consideration, the transmitted light is affected by the transient retardation amount R3. The amount of retardation to be applied should be a weighted average considering the switching angle ψ which is also a function of time. Therefore, at least in the present invention, when the average retardation amount within the period of T is,

【0086】[0086]

【数2】 の値を示すものと定義する。[Equation 2] Is defined as the value of.

【0087】なお、この式[6]で求められる前記Tの
期間内での平均リタデーション量の値について、本明細
書中では単に「電圧印加時のリタデーション」と表現す
ることもある。
The value of the average retardation amount within the period T obtained by the equation [6] may be simply referred to as "retardation at the time of voltage application" in this specification.

【0088】(過渡的リタデーション量の測定法)上述
したように、スイッチング角ψおよびバルクのリタデー
ションR3は時間の関数であって、この値をリアルタイ
ムで測定することが本発明では必要である。しかしなが
ら、例えばリタデーション量については従来セナルモン
法やベレック法等で求めることが一般的に用いられてき
たが、これらの方式ではリアルタイムでの測定が困難で
ある。そこで発明者らは新たに過渡的なスイッチング角
及びリタデーション量を測定する方法を考案し、それを
用いて測定した。その方法を以下に示す。
(Method of Measuring Transient Retardation Amount) As described above, the switching angle ψ and the bulk retardation R3 are functions of time, and it is necessary in the present invention to measure these values in real time. However, for example, the retardation amount has conventionally been generally used to be obtained by the Senarmont method or Bereck method, but these methods are difficult to measure in real time. Therefore, the inventors newly devised a method for measuring a transitional switching angle and a retardation amount, and measured using the method. The method is shown below.

【0089】先に説明したように、液晶素子に電圧を印
加した際の液晶分子の配向は、入射偏光の偏光回転に寄
与しない界面近傍の液晶層と、偏光回転に寄与する厚さ
swのバルク層とに分けられる。本測定の目的は、この
バルク層における過渡的なスイッチング角及びリタデー
ション量をリアルタイムで求めることにある。
As described above, the orientation of the liquid crystal molecules when a voltage is applied to the liquid crystal element is such that the liquid crystal layer near the interface that does not contribute to the polarization rotation of the incident polarized light and the thickness d sw that contributes to the polarization rotation. It is divided into a bulk layer. The purpose of this measurement is to obtain the transient switching angle and the amount of retardation in this bulk layer in real time.

【0090】そして、発明者らはこれらの値を求めるた
めに位相補償板を用いることで測定可能であると考え
た。即ち、バルク層のリタデーション量と同じ値を有す
る位相補償板を準備し、その光軸方向をバルク層の液晶
分子配向方向と直交させるよう角度調整して積層する。
つまり、これらが完全に直交した場合には、バルク層の
リタデーションが補償され、リタデーション量がゼロと
なる結果偏光回転が生じなくなり、電圧無印加状態の透
過光強度、即ち最暗状態になると考えられる。
The inventors have considered that it is possible to measure by using a phase compensator to obtain these values. That is, a phase compensating plate having the same value as the retardation amount of the bulk layer is prepared, and its angle is adjusted so that the optical axis direction thereof is orthogonal to the liquid crystal molecule alignment direction of the bulk layer and laminated.
That is, when these are completely orthogonal, the retardation of the bulk layer is compensated, the polarization rotation does not occur as a result of the retardation amount becomes zero, it is considered that the transmitted light intensity in the state of no voltage application, that is, the darkest state. .

【0091】そして、このときの位相補償板の配設した
角度を測定することでバルク層のスイッチング角を見積
もることができる。さらにオシロスコープを用いてこの
測定を行って任意の時間での最暗状態となる角度を求め
ることにより、過渡的なスイッチング角をリアルタイム
で求めることができる。
Then, the switching angle of the bulk layer can be estimated by measuring the angle at which the phase compensation plate is arranged at this time. Further, the transitional switching angle can be obtained in real time by performing this measurement using an oscilloscope and obtaining the angle that produces the darkest state at any time.

【0092】さらに上記の位相補償板として、ネマチッ
ク液晶のECBモードのセルで代用することができる。
これによりネマチック液晶セルに印加する電圧を変化さ
せるだけでリタデーション量を変化させることができる
ため、上記の積層角度調整とネマチック液晶セルに印加
する電圧を適宜調整する操作を同時に行いながら、最暗
状態を取る条件を見出すことにより、リタデーション量
とスイッチング角の両方を同時に求めることができる。
Further, as the above-mentioned phase compensating plate, an ECB mode cell of nematic liquid crystal can be substituted.
As a result, the amount of retardation can be changed simply by changing the voltage applied to the nematic liquid crystal cell. Therefore, while performing the above-mentioned operation of adjusting the stacking angle and the voltage applied to the nematic liquid crystal cell at the same time, the darkest state Both the retardation amount and the switching angle can be obtained at the same time by finding the condition that takes

【0093】なお、ネマチック液晶に対し印加する電圧
とリタデーション量との関係は、セナルモンまたはベレ
ックのコンベンセーターにて測定することができる。ま
たこの測定に関しても、オシロスコープを用いてこの測
定を行って任意の時間での最暗状態となる条件を求める
ことにより、過渡的なスイッチング角及びリタデーショ
ン量を同時にリアルタイムで求めることができる。
The relationship between the voltage applied to the nematic liquid crystal and the amount of retardation can be measured with a Senarmont or Bereck conventor. Also regarding this measurement, the transitional switching angle and the retardation amount can be simultaneously obtained in real time by performing the measurement using an oscilloscope and obtaining the condition of the darkest state at an arbitrary time.

【0094】そして、上式[5]によって求められる最
適セル厚になるよう素子設計することによって、所望の
透過特性を得ることが可能となる。
Then, by designing the device so that the optimum cell thickness obtained by the above equation [5] is obtained, it becomes possible to obtain a desired transmission characteristic.

【0095】ところで、既述した構成の本実施の形態に
係る液晶素子80においては、このセル厚は、液晶材料
の有する屈折率異方性の値(Δn)とセル厚との積が最
適リタデーション値となるよう設計されるセル厚の値と
は異なる値にセル厚を決めることが望ましい。
By the way, in the liquid crystal element 80 according to the present embodiment having the above-described structure, the product of the cell thickness is the optimum retardation, which is the product of the refractive index anisotropy value (Δn) of the liquid crystal material. It is desirable to set the cell thickness to a value different from the value of the cell thickness designed to have the above value.

【0096】即ち、該液晶素子80では、電圧無印加状
態でのΔnの値より電圧印加状態での実効的なΔnの値
の方が小さくなることから、液晶材料の有する屈折率異
方性の値(Δn)とセル厚との積が、最適リタデーショ
ン値となるよう設計されるセル厚の値よりも厚くするよ
うセル厚を決めることが望ましい。
That is, in the liquid crystal element 80, the effective Δn value in the voltage applied state is smaller than the Δn value in the no voltage applied state. It is desirable to determine the cell thickness so that the product of the value (Δn) and the cell thickness is larger than the value of the cell thickness designed to have the optimum retardation value.

【0097】なお、ここで言う最適リタデーション値と
は、透過型の液晶素子として用いる場合、クロスニコル
下ではΔnd/λが1/2になる値であるが、この値は
波長に依存する値であるため、最適化すべき波長をあら
かじめ決めておく必要がある。ここで、我々の経験か
ら、カラー表示素子として用いる場合には、白色表示時
の色温度の観点などから最適化すべき中心波長として、
400nm〜480nmが適することがわかっている。
したがって最適リタデーション値は200nm〜240
nmとなる。
The optimum retardation value referred to here is a value at which Δnd / λ becomes 1/2 under crossed Nicols when used as a transmissive liquid crystal element, but this value depends on the wavelength. Therefore, it is necessary to determine the wavelength to be optimized in advance. Here, from our experience, when used as a color display element, as the center wavelength to be optimized from the viewpoint of color temperature during white display,
It has been found that 400 nm to 480 nm is suitable.
Therefore, the optimum retardation value is 200 nm to 240
nm.

【0098】以上から、本実施の形態では、液晶材料の
有する屈折率異方性の値(Δn)とセル厚との積が20
0nm〜240nmの範囲より大きくなるようセル厚を
決めるようにしている。
As described above, in the present embodiment, the product of the refractive index anisotropy value (Δn) of the liquid crystal material and the cell thickness is 20.
The cell thickness is determined so as to be larger than the range of 0 nm to 240 nm.

【0099】つまり、既述した電圧無印加時に液晶が単
安定状態を呈するようなカイラルスメクチック液晶を用
いた液晶素子では電圧無印加時のリタデーション量より
も電圧印加時のリタデーション量の方が小さいため、こ
のような素子を設計する場合、例えば電圧無印加時を黒
表示とする液晶素子とした場合において、最適リタデー
ション量に対して電圧無印加時のリタデーション量を大
きくするよう設計する。
That is, in the liquid crystal element using the chiral smectic liquid crystal in which the liquid crystal exhibits a monostable state when no voltage is applied as described above, the retardation amount when the voltage is applied is smaller than the retardation amount when the voltage is not applied. When designing such an element, for example, in the case of a liquid crystal element that displays black when no voltage is applied, the retardation amount when no voltage is applied is designed to be larger than the optimum retardation amount.

【0100】そして、このように最適リタデーション量
に対して電圧無印加時のリタデーション量、即ち液晶材
料の有する屈折率異方性の値Δnとセル厚dの積を大き
くするよう設計することにより、所望の透過光量を得る
ことができる。
By thus designing the retardation amount when no voltage is applied to the optimum retardation amount, that is, the product of the refractive index anisotropy value Δn of the liquid crystal material and the cell thickness d is increased, A desired amount of transmitted light can be obtained.

【0101】以下、本実施の形態の実施例及び比較例に
ついて説明する。
Examples and comparative examples of the present embodiment will be described below.

【0102】(実施例) (液晶セルの作製)本実施例においては、透明電極とし
て700ÅのIT0膜を形成した厚さ1.1mmの一対
のガラス基板を用意した。該基板の透明電極上に、下記
の繰り返し単位PI−aを有するポリイミド前駆体をス
ピンコート法により塗布し、その後、80℃、5分間の
前乾操を行なった後、200℃で1時間加熱焼成を施
し、膜厚50Åのポリイミド被膜を得た。
(Example) (Production of Liquid Crystal Cell) In this example, a pair of glass substrates having a thickness of 1.1 mm on which a 700 L IT0 film was formed as a transparent electrode were prepared. A polyimide precursor having the following repeating unit PI-a was applied on the transparent electrode of the substrate by a spin coating method, followed by predrying at 80 ° C. for 5 minutes and then heating at 200 ° C. for 1 hour. Firing was performed to obtain a polyimide coating having a film thickness of 50 Å.

【0103】続いて、当該基板上のポリイミド膜に対し
て一軸配向処理としてナイロン布によるラビング処理を
施した。ラビング処理の条件は、径10cmのロールに
ナイロン(NF−77/帝人製)を貼り合わせたラビン
グロールを用い、押し込み量0.3mm、送り速度10
cm/sec、回転数1000rpm、送り回数4回と
した。
Subsequently, the polyimide film on the substrate was subjected to rubbing treatment with a nylon cloth as uniaxial orientation treatment. The condition of the rubbing treatment is a rubbing roll in which nylon (NF-77 / manufactured by Teijin) is bonded to a roll having a diameter of 10 cm, and the pushing amount is 0.3 mm and the feeding speed is 10
cm / sec, the number of revolutions was 1000 rpm, and the number of feeds was 4 times.

【0104】[0104]

【化1】 続いて、一方の基板上にスペーサとして、平均粒径1.
7μmのシリカビーズを散布し、各基板のラビング処理
方向が互いに平行(パラレル)となるように対向させ、
均一なセルギャップのセル(空セル)を得た。そして、
このセルのプレチルト角をクリスタルローテーション法
で測定したところ2.0°であった。
[Chemical 1] Then, as a spacer on one of the substrates, an average particle size of 1.
Disperse 7 μm silica beads and face each other so that the rubbing directions of the substrates are parallel to each other.
A cell having a uniform cell gap (empty cell) was obtained. And
The pretilt angle of this cell was 2.0 ° as measured by the crystal rotation method.

【0105】(液晶組成物の調製)下記液晶性化合物を
下記処方で混合し液晶組成物LC−1を調整した。
(Preparation of Liquid Crystal Composition) The following liquid crystalline compounds were mixed in the following formulation to prepare a liquid crystal composition LC-1.

【0106】[0106]

【化2】 かかる液晶組成物のパラメータを下記に示す。[Chemical 2] The parameters of such a liquid crystal composition are shown below.

【0107】相転移温度(℃) 自発分極(30℃):Ps=0.57nC/cm2 チルト角(30℃):Θ=22.2° Δn(30℃) :0.157 SmC* 相でのらせんピッチ(30℃):20μm以上 上記のプロセスで作製した空セルに液晶組成物LC−1
を等方相の温度で注入し、液晶をカイラルスメクティッ
ク液晶相を示す温度まで徐冷し、液晶素子サンプルAを
作製した。
Phase transition temperature (° C.) Spontaneous polarization (30 ° C.): Ps = 0.57 nC / cm 2 Tilt angle (30 ° C.): Θ = 22.2 ° Δn (30 ° C.): 0.157 SmC * Helical pitch in phase (30 ° C.): 20 μm Liquid crystal composition LC-1 was added to the empty cell prepared by the above process.
Was injected at a temperature of an isotropic phase, and the liquid crystal was gradually cooled to a temperature showing a chiral smectic liquid crystal phase to prepare a liquid crystal element sample A.

【0108】このサンプルAの液晶の初期の配向状態に
ついて偏光顕微鏡観察を行なった結果、室温(30℃)
では2つのドメインが混在した双安定状態であった。
As a result of observing the initial alignment state of the liquid crystal of this sample A with a polarizing microscope, it was found that it was at room temperature (30 ° C.).
Was in a bistable state in which two domains were mixed.

【0109】(電界印加処理)上記サンプルAにおい
て、液晶に室温(30℃)で±50V、10Hzの矩形
波を印加し電界印加処理を行なった後、偏光顕微鏡下で
配向状態の観測を行なったところ、電界印加処理前に観
測された2つのドメインが混在した双安定状態から、ラ
ビング方向に最暗軸を有する均一な配向状態に変化して
いることが観測された。
(Electric field application treatment) In the sample A, a rectangular wave of ± 50 V and 10 Hz was applied to the liquid crystal at room temperature (30 ° C.) to apply an electric field, and then the alignment state was observed under a polarizing microscope. However, it was observed that the bistable state in which two domains were mixed, which was observed before the electric field application process, was changed to a uniform alignment state having the darkest axis in the rubbing direction.

【0110】電界印加処理後のサンプルAについてフォ
トマルチプライヤー付き偏光顕微鏡内で、ラビング方向
に偏光軸をあわせ暗視野となるように配置し、電圧値0
〜±15V、0.1Hzの矩形波を印加した際の光学応
答(透過率)を観測すると、ドメインレスでスイッチン
グを行ない、図6に示すような0Vを中心にしてヒステ
リシスのないV字型のカーブの電圧−透過率曲線V−T
を描くことがわかった。
Sample A after the electric field application treatment was placed in a polarization microscope with a photomultiplier so that the polarization axis was aligned with the rubbing direction to form a dark field, and the voltage value was 0.
Observing the optical response (transmittance) when a rectangular wave of ± 15 V and 0.1 Hz is applied, switching is performed without a domain, and there is no V-shaped hysteresis around 0 V as shown in FIG. Curve voltage-transmittance curve V-T
I found out to draw.

【0111】このセルの電圧透過率特性の飽和電圧は、
正側、負側共に約10.0Vであった。また、このサン
プルAへの電界印加を中止すると、最暗軸がラビング方
向と同一な均一状態に戻り、この液晶素子において分子
の最安定位置はラビング方向と同一な方向にあることが
分かる。
The saturation voltage of the voltage transmittance characteristic of this cell is
Both the positive side and the negative side were about 10.0V. Further, when the application of the electric field to the sample A was stopped, the darkest axis returned to the same uniform state as the rubbing direction, and it was found that the most stable position of the molecule in this liquid crystal element was in the same direction as the rubbing direction.

【0112】なお、このサンプルAでは、図6に示すよ
うな印加電圧に対して連続的な光学応答を示すことか
ら、TFTアクティブマトリックス駆動による振幅変調
によりアナログ階調表示が可能である。
Since the sample A exhibits a continuous optical response to the applied voltage as shown in FIG. 6, analog gray scale display can be performed by amplitude modulation by driving the TFT active matrix.

【0113】(リタデーションの測定)サンプルAにつ
いてリタデーションの測定を行った。なお、測定は電圧
無印加時の値、及び30Hz、±10Vの矩形波交流を
印加中の値の2つについて測定した。また、測定法は電
圧無印加時の値はベレックのコンペンセーターを用い、
電圧印加中の値は本明細書中で記載した駆動中の平均リ
タデーション量の測定方法を用いた。
(Measurement of Retardation) The retardation of Sample A was measured. The measurement was performed on two values, that is, a value when no voltage was applied and a value when a rectangular wave alternating current of 30 Hz and ± 10 V was being applied. In addition, the measurement method uses a Berek compensator for the value when no voltage is applied,
For the value during voltage application, the method for measuring the average retardation during driving described in this specification was used.

【0114】その結果、電圧無印加時のリタデーション
の値は265[nm]であったのに対し、電圧印加時の
リタデーションの値は230[nm]であった。
As a result, the value of retardation when no voltage was applied was 265 [nm], whereas the value of retardation when voltage was applied was 230 [nm].

【0115】(比較例)スペーサーとして、平均粒径
1.4μmのシリカビーズに変更した以外、サンプルA
と全く同様のプロセスにてサンプルBを作製し、同様の
電界印加処理を行った。
Comparative Example Sample A except that silica beads having an average particle size of 1.4 μm were used as the spacer.
Sample B was manufactured by the same process as above, and the same electric field application process was performed.

【0116】(リタデーションの測定)サンプルBにつ
いてリタデーションの測定を行った。なお、測定は電圧
無印加時の値及び30Hz、±10Vの矩形波交流を印
加中の値の2つについて測定した。また、測定法は電圧
無印加時の値はベレックのコンペンセーターを用い、電
圧印加中の値は本明細書中で記載した駆動中の平均リタ
デーション量の測定方法を用いた。
(Measurement of Retardation) The retardation of Sample B was measured. In addition, the measurement was performed on two values, a value when no voltage was applied and a value when a rectangular wave alternating current of 30 Hz and ± 10 V was being applied. In addition, the measurement method used was a Berek compensator for the value when no voltage was applied, and the value during voltage application was the method for measuring the average retardation amount during driving described in this specification.

【0117】その結果、電圧無印加時のリタデーション
の値は220[nm]であったのに対し、電圧印加時の
リタデーションの値は195[nm]であった。
As a result, the retardation value when no voltage was applied was 220 [nm], whereas the retardation value when voltage was applied was 195 [nm].

【0118】次いで、サンプルAとサンプルBを用いた
透過型液晶装置について、明るさ及び色味に関する相対
評価を行った。結果を下表に記す。
Next, the transmission type liquid crystal device using Sample A and Sample B was subjected to relative evaluation with respect to brightness and tint. The results are shown in the table below.

【0119】[0119]

【表1】 この表から、最適リタデーション値(200nm〜24
0nm)よりも電圧無印加時のリタデーションの値の方
が大きくなるようにセル厚dを設定することにより、所
望の透過光量を得ることができることが判る。
[Table 1] From this table, the optimum retardation value (200 nm to 24
It is understood that a desired amount of transmitted light can be obtained by setting the cell thickness d such that the retardation value when no voltage is applied is larger than that of 0 nm).

【0120】なお、これまでの説明においては、透過型
液晶素子を用いた透過型の液晶装置について述べてきた
が、本発明はこれに限らず、既述した反射板を有する反
射型の液晶装置にも適用できることは言うまでもない。
また、このような反射型の液晶装置の場合、電圧無印加
時のリタデーション量の値は、120[nm]以上とな
るようにセル厚dを設定する。
In the above description, a transmissive liquid crystal device using a transmissive liquid crystal element has been described, but the present invention is not limited to this, and a reflective liquid crystal device having the above-described reflector is provided. It goes without saying that it can also be applied to.
In the case of such a reflection type liquid crystal device, the cell thickness d is set so that the value of the retardation amount when no voltage is applied is 120 [nm] or more.

【0121】さらに、これまでの説明において、最適リ
タデーション値(200nm〜240nm)よりも電圧
無印加時のリタデーションの値の方が大きくなるように
セル厚dを設定する場合について述べてきたが、本発明
はこれに限らず、液晶材料を調製することにより、リタ
デーションの値を変化させるようにしてもよい。
Furthermore, in the above description, the case where the cell thickness d is set so that the retardation value when no voltage is applied is larger than the optimum retardation value (200 nm to 240 nm) has been described. The invention is not limited to this, and the retardation value may be changed by preparing a liquid crystal material.

【0122】[0122]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、液
晶の最適リタデーション量よりも、電圧無印加時のリタ
デーション量の方が大きくなるよう液晶の屈折率異方性
の値及び液晶層の厚さの少なくとも一方を設定すること
により、カイラルスメクチック相を示す液晶を用いた場
合でも、透過率の高い状態を得ることができる。
As described above, according to the present invention, the value of the refractive index anisotropy of the liquid crystal and the liquid crystal layer are controlled so that the retardation amount when no voltage is applied is larger than the optimum retardation amount of the liquid crystal. By setting at least one of the thicknesses, a high transmittance state can be obtained even when a liquid crystal showing a chiral smectic phase is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る液晶素子を備えた液
晶装置の構造を示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal device including a liquid crystal element according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記液晶素子の一方の基板の構成を模式的に示
す図。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of one substrate of the liquid crystal element.

【図3】上記一方の基板の画素部分の断面構造を示す
図。
FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional structure of a pixel portion of the one substrate.

【図4】上記画素部分の等価回路図。FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of the pixel portion.

【図5】上記画素部分に印加される駆動信号及び光学特
性を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing drive signals and optical characteristics applied to the pixel portion.

【図6】上記液晶素子の電圧−透過率曲線を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a voltage-transmittance curve of the liquid crystal element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 アクティブマトリクス基板 40 対向基板 43a,43b 配向膜 49 液晶層 80 液晶素子 81a,81b 基板 85 液晶 87a,87b 偏光板 82a,82b 電極 84a,84b 配向制御膜 94 TFT 95 画素電極 20 Active matrix substrate 40 Counter substrate 43a, 43b Alignment film 49 Liquid crystal layer 80 Liquid crystal element 81a, 81b substrate 85 LCD 87a, 87b Polarizing plate 82a, 82b electrodes 84a, 84b Orientation control film 94 TFT 95 pixel electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−242624(JP,A) 特開 平10−307292(JP,A) 特開 平5−107541(JP,A) 特開 平11−311812(JP,A) 特開 平5−203919(JP,A) 特開 平4−212126(JP,A) 特開 平7−334130(JP,A) 特開 平8−95091(JP,A) 特許3403114(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/13 - 1/141 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) Reference JP-A-3-242624 (JP, A) JP-A-10-307292 (JP, A) JP-A-5-107541 (JP, A) JP-A-11- 311812 (JP, A) JP 5-203919 (JP, A) JP 4-212126 (JP, A) JP 7-334130 (JP, A) JP 8-95091 (JP, A) Patent 3403114 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/13-1/141

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 カイラルスメクチック相を示す液晶を挟
持する一方、該液晶に電圧を印加する電極を有すると共
に、少なくとも一方の基板の対向面に該液晶を配向させ
るための一軸性配向処理が施された一対の基板と、少な
くとも一方の基板側に設けられた偏光板とを備えた液晶
素子であって、 前記液晶は、電圧無印加時では該液晶の平均分子軸が単
安定化された第一の状態を示し、第一の極性の電圧印加
時には該液晶の平均分子軸は印加電圧の大きさに応じた
角度で前記単安定化された位置から一方の側にチルト
し、前記第一の極性とは逆極性の第二の極性の電圧印加
時には該液晶の平均分子軸は該単安定化された位置から
第一の極性の電圧を印加したときとは逆側にチルトする
と共に、前記第一の極性の電圧印加時と第二の極性の電
圧印加時の液晶の平均分子軸の、前記第一の状態におけ
る単安定化された位置を基準とした最大チルト状態のチ
ルトの角度がそれぞれ等しくなるものであり、 前記偏光板の配置及び液晶層を透過させる光の波長に応
じて設定される液晶の最適リタデーション量よりも、電
圧無印加時のリタデーション量の方が大きくなるよう前
記液晶の屈折率異方性の値及び前記液晶層の厚さの少な
くとも一方を設定したことを特徴とする液晶素子。
1. A liquid crystal exhibiting a chiral smectic phase is sandwiched, electrodes having a voltage applied to the liquid crystal, and a uniaxial alignment treatment for aligning the liquid crystal on at least one of the opposing surfaces of the substrates. A liquid crystal element comprising a pair of substrates and a polarizing plate provided on at least one of the substrates, wherein the liquid crystal is a first-stabilized average molecular axis of the liquid crystal when no voltage is applied. When a voltage of the first polarity is applied, the average molecular axis of the liquid crystal tilts from the mono-stabilized position to one side at an angle according to the magnitude of the applied voltage, When a voltage having a second polarity opposite to that of the first liquid crystal is applied, the average molecular axis of the liquid crystal tilts from the mono-stabilized position to the opposite side to that when a voltage of the first polarity is applied, and When a voltage of the second polarity is applied and the voltage of the second polarity is applied The tilt angles of the maximum tilt state with respect to the mono-stabilized position in the first state of the average molecular axis of the liquid crystal at the same time are equal to each other. At least the value of the refractive index anisotropy of the liquid crystal and the thickness of the liquid crystal layer so that the retardation amount when no voltage is applied is larger than the optimum retardation amount of the liquid crystal that is set according to the wavelength of light to be made. A liquid crystal device characterized by setting one of them.
【請求項2】 前記基板は、アクティブ素子を有し、ア
クティブマトリクス駆動を行う駆動回路を備えているこ
とを特徴とする請求項1記載の液晶素子。
2. The liquid crystal element according to claim 1, wherein the substrate has an active element and is provided with a drive circuit for performing active matrix drive.
【請求項3】 前記液晶は、シェブロン構造をなすスメ
クチック層の基板法線に対する傾斜角δが、少なくも使
用温度においてカイラルスメクチックC液晶のチルト角
Θと実質的に同じかそれより大きいことを特徴とする請
求項1記載の液晶素子。
3. The liquid crystal is characterized in that a tilt angle δ of a smectic layer having a chevron structure with respect to a substrate normal is substantially equal to or larger than a tilt angle Θ of a chiral smectic C liquid crystal at a working temperature. The liquid crystal element according to claim 1.
【請求項4】 前記液晶はIso−Ch−SmA−Sm
* という相系列を有しており、Ch又はSmA又はS
mC* にて電界印加処理を行うことを特徴とする請求項
1又は3記載の液晶素子。
4. The liquid crystal is Iso-Ch-SmA-Sm.
It has a phase sequence of C * and has Ch or SmA or S
The liquid crystal element according to claim 1 or 3, wherein the electric field application process is performed with mC * .
【請求項5】 前記液晶はIso−Ch−SmA−Sm
* という相系列を有しており、SmA又はSmC*
て加圧処理を行うことを特徴とする請求項1又は3記載
の液晶素子。
5. The liquid crystal is Iso-Ch-SmA-Sm.
The liquid crystal element according to claim 1 or 3, which has a phase sequence of C * and is subjected to a pressure treatment with SmA or SmC * .
【請求項6】 前記液晶はIso−Ch−SmC* とい
う相系列を有しており、Ch又はSmC* にて電界印加
処理を行うことを特徴とする請求項1又は3記載の液晶
素子。
6. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal has a phase sequence of Iso-Ch-SmC * , and the electric field application process is performed with Ch or SmC * .
【請求項7】 前記液晶は、少なくとも使用温度におい
てスメクチック層の傾斜角δが、前記カイラルスメクチ
ックC液晶のバルク状態での層間隔の温度変化から計算
される大きさよりも大きい状態であることを特徴とする
請求項1又は3記載の液晶素子。
7. The liquid crystal has a tilt angle δ of the smectic layer at least at a use temperature larger than a size calculated from a temperature change of the layer spacing in the bulk state of the chiral smectic C liquid crystal. The liquid crystal element according to claim 1 or 3.
【請求項8】 前記液晶は、電界印加処理且つ/又は加
圧処理により変化した素子内のシェブロン構造の層傾斜
角δが、等方性液体相を示す高温側から冷却されて形成
される初期シェブロン構造の層傾斜角δ0 より大きい状
態であることを特徴とする請求項1又は3記載の液晶素
子。
8. The liquid crystal is initially formed when the layer inclination angle δ of the chevron structure in the element, which is changed by an electric field application process and / or a pressure process, is cooled from the high temperature side showing an isotropic liquid phase. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device has a chevron structure having a layer inclination angle larger than δ 0 .
【請求項9】 前記液晶のバルク状態でのらせんピッチ
はセル厚の2倍より長いことを特徴とする請求項1又は
3記載の液晶素子。
9. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the helical pitch of the liquid crystal in the bulk state is longer than twice the cell thickness.
【請求項10】 液晶素子と、該液晶素子を駆動するた
めの駆動回路と、バックライト光源とを有する透過型の
液晶装置において、 前記液晶素子が前記請求項1乃至9のいずれかに記載の
ものであることを特徴とする液晶装置。
10. A transmissive liquid crystal device having a liquid crystal element, a drive circuit for driving the liquid crystal element, and a backlight light source, wherein the liquid crystal element is according to any one of claims 1 to 9. A liquid crystal device characterized by being a thing.
【請求項11】 液晶素子と、該液晶素子を駆動するた
めの駆動回路と、反射板とを有する反射型の液晶装置に
おいて、 前記液晶素子が前記請求項1乃至9のいずれかに記載の
ものであることを特徴とする液晶装置。
11. A reflection type liquid crystal device having a liquid crystal element, a drive circuit for driving the liquid crystal element, and a reflector, wherein the liquid crystal element is according to any one of claims 1 to 9. Is a liquid crystal device.
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