JP3507234B2 - Active vibration isolation device and active vibration isolation method - Google Patents

Active vibration isolation device and active vibration isolation method

Info

Publication number
JP3507234B2
JP3507234B2 JP01923896A JP1923896A JP3507234B2 JP 3507234 B2 JP3507234 B2 JP 3507234B2 JP 01923896 A JP01923896 A JP 01923896A JP 1923896 A JP1923896 A JP 1923896A JP 3507234 B2 JP3507234 B2 JP 3507234B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vibration
signal
vibration isolation
motion mode
active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP01923896A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH09190957A (en
Inventor
武彦 間山
伸二 涌井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP01923896A priority Critical patent/JP3507234B2/en
Publication of JPH09190957A publication Critical patent/JPH09190957A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3507234B2 publication Critical patent/JP3507234B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、除振性能を損なう
ことなく制振性能を向上させることが可能で、特に床な
どの装置設置基礎からの振動の伝達特性を従来に比較し
て大幅に改善した、半導体露光装置等の精密機器搭載用
の能動除振装置および能動除振方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention can improve the vibration damping performance without impairing the vibration isolation performance. In particular, the transmission characteristics of vibration from the equipment installation foundation such as a floor can be significantly improved as compared with the conventional one. The present invention relates to an improved active vibration isolation device and active vibration isolation method for mounting on precision equipment such as a semiconductor exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子顕微鏡、半導体露光装置等の精密機
器の高精度化に伴い、それらを搭載する精密除振装置の
高性能化が求められている。特に半導体露光装置におい
ては、適切かつ迅速な露光を行なうために、床などの装
置設置基礎からの振動をはじめとする外部からの振動を
極力除去した除振台が必要である。これは露光に悪影響
を及ぼす振動が、露光用ステージに発生しないようにし
なければならないからである。
2. Description of the Related Art As precision instruments such as electron microscopes and semiconductor exposure apparatuses have become more precise, higher performance of precision vibration isolation devices equipped with them has been required. Particularly, in a semiconductor exposure apparatus, in order to perform appropriate and quick exposure, a vibration isolation table that eliminates external vibrations including vibrations from the equipment installation foundation such as a floor is necessary. This is because it is necessary to prevent vibration that adversely affects the exposure from occurring on the exposure stage.

【0003】また、ステップ・アンド・リピートという
間欠動作を特徴とする半導体露光装置では、露光用XY
ステージの繰り返しステップ動作が除振台の振動を励起
する。したがって除振台には、床などの装置設置基礎か
らの振動をはじめとする外部振動に対する除振性能と、
除振台に搭載された機器の動作によって発生する振動に
対する制振性能とをバランスよく実現することが求めら
れる。
Further, in a semiconductor exposure apparatus characterized by an intermittent operation called step-and-repeat, an XY for exposure is used.
Repeated step motion of the stage excites vibration of the vibration isolation table. Therefore, the anti-vibration table has anti-vibration performance against external vibration including vibration from the equipment installation foundation such as floor.
It is required to achieve a well-balanced damping performance against vibrations generated by the operation of the equipment mounted on the vibration isolation table.

【0004】ステップ・アンド・リピートに代わる方式
として、スキャン露光方式を採用した半導体露光装置も
あるが、この装置においても、装置設置基礎からの振動
等、外部から伝達する振動を極力除去するとともに、露
光用ステージのスキャン動作により励起される除振台の
振動を瞬時に制振する必要がある。特にスキャン露光装
置では、露光用ステージがスキャン動作をしている状態
で露光を行なうため、外部振動に対する除振性能、除振
台に搭載された機器の動作によって発生する振動に対す
る制振性能それぞれへの要求は厳しく、一段と高性能な
除振装置が不可欠なものとなっている。
There is also a semiconductor exposure apparatus that employs a scan exposure method as an alternative to step-and-repeat. In this apparatus as well, vibration transmitted from the outside such as vibration from the equipment installation foundation is removed as much as possible. It is necessary to instantly suppress the vibration of the vibration isolation table excited by the scanning operation of the exposure stage. In particular, in a scan exposure device, since exposure is performed while the exposure stage is performing a scanning operation, vibration isolation performance against external vibration and vibration suppression performance against vibration generated by the operation of the equipment mounted on the vibration isolation table are required. The demands for are highly demanded, and higher-performance vibration isolation devices have become indispensable.

【0005】このような要求に対しては、除振台の振動
を振動センサで検出し、その出力信号を補償して、除振
台に制御力を加えるアクチュエータにフィードバックす
ることにより、能動的に除振台の振動制御を行なう、能
動除振装置が実用化されている。能動除振装置は、バ
ネ、ダンパなどの受動的な除振要素だけで構成された従
来の除振装置では困難であった除振性能と制振性能との
バランスのとれた実現を可能にする。
In response to such a demand, the vibration of the vibration isolation table is detected by a vibration sensor, the output signal of the vibration sensor is compensated, and the vibration signal is fed back to an actuator that applies a control force to the vibration isolation table. An active vibration isolation device that controls vibration of a vibration isolation table has been put into practical use. The active vibration isolation system enables a well-balanced realization of vibration isolation performance and vibration control performance, which was difficult with the conventional vibration isolation system composed of only passive vibration isolation elements such as springs and dampers. .

【0006】さらに、除振台上に搭載される機器の高精
度化に対応して、能動除振装置において、床などの装置
設置基礎の振動を検出し、その補償信号によって装置設
置基礎からの振動伝達率を低減するようにアクチュエー
タを制御する方法、除振台上に搭載された機器の駆動信
号をもとに、その駆動反力を相殺するようにアクチュエ
ータを制御する方法が提案され、除振装置の性能が飛躍
的に向上した。
Further, in response to the higher precision of the equipment mounted on the vibration isolation table, in the active vibration isolation device, the vibration of the equipment installation foundation such as the floor is detected, and the compensation signal is used to detect the vibration from the equipment installation foundation. A method of controlling the actuator to reduce the vibration transmissibility and a method of controlling the actuator to cancel the driving reaction force based on the drive signal of the equipment mounted on the vibration isolation table have been proposed. The performance of the shaking device has improved dramatically.

【0007】これらの制御方法の中で、装置設置基礎の
振動の補償信号によって除振台に作用するアクチュエー
タを制御する方法は、従来に比較して装置設置基礎振動
の絶縁性能を大幅に向上させ、半導体露光装置の高精細
化や、装置設置基礎の振動規準の緩和を可能にする。
Among these control methods, the method of controlling the actuator acting on the vibration isolation table by the vibration compensation signal of the equipment installation foundation significantly improves the insulation performance of the equipment installation foundation vibration as compared with the conventional method. Higher definition of semiconductor exposure equipment and relaxation of vibration standard of equipment installation foundation.

【0008】装置設置基礎振動の補償信号に基づいて能
動除振装置の制御を行なう方法としては、例えば、特開
平5ー263868号公報「除振台の地動外乱制御方
法」に、アクチュエータ特性を含めた、能動除振装置の
いくつかの実測特性に基づいて設計した装置設置基礎振
動の補償器を用いて制御を行なう方法が開示されてい
る。同公報で開示された方法は、実際の装置の特性を直
接反映させた装置設置基礎振動の補償器を用いること
で、従来の除振台の振動をフィードバックする制御ルー
プのみで構成された能動除振装置と比較して、装置設置
基礎振動の絶縁性能を大幅に改善することができる。
As a method of controlling the active vibration isolator based on the compensation signal of the equipment installed basic vibration, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 263868/1993 "Method for controlling ground motion disturbance of vibration isolation table" includes actuator characteristics. There is also disclosed a method of performing control using a device installation fundamental vibration compensator designed based on some measured characteristics of an active vibration isolation device. The method disclosed in the publication uses an apparatus installation basic vibration compensator that directly reflects the characteristics of an actual apparatus, and thus an active vibration isolation system composed only of a control loop that feeds back the vibration of a conventional vibration isolation table. Compared with the vibration device, the insulation performance of the device installation fundamental vibration can be greatly improved.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述の公報に記載され
た方法も含め、装置設置基礎振動の補償信号に基づいて
振動制御を行なう能動除振装置およびその制御方法に関
してはいくつかの提案がなされている。ところで、これ
らの装置およびその制御方法では、装置設置基礎振動は
並進振動として取り扱われることが一般的である。床な
どの装置設置基礎の振動は通常並進振動が支配的であ
る。したがって、従来、この種の装置では、装置設置基
礎振動を並進振動と考えて制御を行なっていた。
Several proposals have been made for the active vibration isolation device and the control method thereof, which include the method described in the above-mentioned publication, for performing vibration control based on the compensation signal of the device installation basic vibration. ing. By the way, in these devices and their control methods, the device installation fundamental vibration is generally treated as translational vibration. Translational vibration is usually dominant in vibrations of equipment installation foundations such as floors. Therefore, conventionally, in this type of device, control was performed by considering the device installation foundation vibration as translational vibration.

【0010】例えば、特開平5ー99271号公報「除
振台のアクティブ制御方法」で開示された装置では、除
振台と装置設置基礎の相対変位信号を変位センサで検出
し、その出力信号と装置設置基礎の加速度検出信号か
ら、除振台の加速度信号を演算によって導出し、これを
用いて除振台の振動制御を行なっている。
For example, in the apparatus disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 5-99271, "Method for active control of vibration isolation table", a relative displacement signal between the vibration isolation table and the equipment installation foundation is detected by a displacement sensor, and the output signal From the acceleration detection signal of the equipment installation foundation, the acceleration signal of the vibration isolation table is derived by calculation, and this is used to control the vibration of the vibration isolation table.

【0011】同公報で開示された装置では、装置設置基
礎振動を水平・鉛直3自由度の並進振動とみなし、これ
らを3台の加速度センサで検出し、その検出信号と除振
台各部に配置された変位センサで検出した除振台と装置
設置基礎の相対変位信号とに基づいて、除振台各部の加
速度を演算で導出することにより、加速度センサを、装
置設置基礎振動を検出する3台のみに削減している。こ
の装置および制御方法では、装置設置基礎振動が並進振
動主体であることが前提となっている。このように、従
来のこの種の能動除振装置では、装置設置基礎振動を水
平2自由度、鉛直1自由度の並進3自由度の振動として
扱うことが一般的であった。
In the device disclosed in the above publication, the basic vibration of the device installation is regarded as translational vibration of horizontal and vertical three degrees of freedom, these are detected by three acceleration sensors, and the detection signal and the vibration isolation table are arranged in each part. Based on the vibration isolation table detected by the displacement sensor and the relative displacement signal of the equipment installation foundation, the acceleration sensor detects the vibration of the equipment installation foundation by calculating the acceleration of each part of the vibration isolation table. Have reduced to only. In this device and control method, it is premised that the device installation fundamental vibration is mainly a translational vibration. As described above, in the conventional active vibration isolator of this type, it is general to treat the basic vibration of the device installation as a vibration of translational 3 degrees of freedom with horizontal 2 degrees of freedom and vertical 1 degree of freedom.

【0012】従来の能動除振装置でも、装置構成によっ
ては、除振台に対する装置設置基礎の回転振動の影響を
制御可能なものがあるが、装置設置基礎の回転振動成分
の影響に重点をおき、その制御性能に着目して適切に制
御を行なう装置および方法はなかった。
Even in the conventional active vibration isolator, depending on the device configuration, there is a device capable of controlling the influence of the rotational vibration of the device installation foundation on the vibration isolation table, but the influence of the rotational vibration component of the device installation foundation is emphasized. However, there has been no apparatus and method for controlling appropriately by paying attention to its control performance.

【0013】しかし、装置が設置される建物の構造等に
よっては、装置設置基礎振動に回転振動成分が含まれる
場合があり、装置設置基礎の並進振動のみを考慮して振
動制御を行なっても、十分な振動絶縁効果が得られない
場合がある。除振台に搭載する精密機器には、特に回転
振動を嫌うものが数多くあり、こうした装置を搭載する
除振台では、装置設置基礎の回転振動の絶縁が大きな問
題になる。したがって、従来は十分に考慮されていなか
った装置設置基礎の回転振動の絶縁性能を、並進振動の
絶縁性能と同等、またはそれ以上に向上させることが不
可欠となっている。
However, depending on the structure of the building in which the device is installed, the device installation foundation vibration may include a rotational vibration component, and even if vibration control is performed by considering only the translational vibration of the device installation foundation, In some cases, a sufficient vibration isolation effect cannot be obtained. Many precision instruments mounted on a vibration isolation table especially hate rotational vibration, and in a vibration isolation table mounted with such a device, insulation of rotational vibration of the equipment installation foundation becomes a big problem. Therefore, it is indispensable to improve the insulation performance of rotary vibration of the equipment installation foundation, which has not been sufficiently considered in the past, to the same level as or higher than the insulation performance of translational vibration.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の能動除振装置は、除振台と、前記除振台
を加える複数のアクチュエータと、前記除振台を含む
装置が設置されている基礎の振動を検出する複数の第
の振動検出手段と、前記複数のの振動検出手段の出
力信号に基づいて、前記基礎の回転運動モードの振動信
号を抽出し、前記回転運動モードの振動信号に基づいて
前記複数のアクチュエータを制御する制御手段とを備え
る。前記制御手段は、前記複数の振動検出手段の出力信
号に基づいて、前記基礎の回転運動モードを含む各運動
モードの振動信号を抽出し、前記各運動モードの振動信
号に基づいて前記複数のアクチュエータを制御するもの
であることが望ましい。
In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION, active anti-vibration apparatus of the present invention, the anti-vibration table, before Kijo isolation base
It includes a plurality of actuators for applying a force, the pre Kijo vibration table
A plurality of first detecting the vibration of the foundation device that is installed
A vibration detecting means, based on an output signal of said plurality of first vibration detection unit, extracts a vibration signal of the rotational movement mode of the base, <br/> based on said vibration signal of the rotational motion mode And a control means for controlling the plurality of actuators. The control means controls the output signals of the plurality of vibration detection means.
Based on the number, each movement including the rotational movement mode of the foundation
The vibration signal of each mode is extracted and the vibration signal of each motion mode is extracted.
For controlling the plurality of actuators based on
Is desirable.

【0015】また、前記能動除振装置は、前記除振台の
振動を検出する複数の第2の振動検出手段を備えるとと
もに、前記制御手段はさらに、前記複数のの振動検
出手段の出力信号に基づいて、前記除振台の各運動モー
ドの振動信号を抽出し、前記各運動モードの振動信号に
基づいて前記複数のアクチュエータを制御するものであ
ることが望ましい。
Further, the active vibration isolation system is provided on the vibration isolation table.
When a plurality of second vibration detection means for detecting vibration are provided
Moni, wherein said control means further on the basis of the output signal of the plurality of second vibration detection unit, extracts a vibration signal for each motion mode of the anti-vibration table, said the vibration signal for each motion mode
It is desirable to control the plurality of actuators based on the above.

【0016】また、基準位置に対する前記除振台の変位
量を検出する複数の変位検出手段を備え、前記制御手段
はさらに、前記複数の変位検出手段の出力信号に基づい
前記複数のアクチュエータ制御するものであった
り、前記複数の変位検出手段の出力信号に基づいて、前
記除振台の各運動モードの変位信号を抽出し、前記各運
動モードの変位信号に基づいて前記複数のアクチュエー
を制御するものであってもよい。
Further, the control means is provided with a plurality of displacement detection means for detecting a displacement amount of the vibration isolation table with respect to a reference position.
Further based on the output signals of the plurality of displacement detection means
Or be one that controls the plurality of actuators Te, based on the output signal of the plurality of displacement detection means to extract a displacement signal of the motion mode of the anti-vibration table, based on the displacement signals of the respective motion modes It may be one that controls the plurality of actuators.

【0017】また、前記複数のアクチュエータは、電
動リニアモータおよび空気圧制御式アクチュエータ
少なくとも一方を含むことができる。
Further, the plurality of actuators, electrodeposition magnetic <br/> drive Dori linear motors and pneumatic control actuator
At least one can be included.

【0018】さらに、前記複数の第1の振動検出手段
よび前記複数の第2の振動検出手段の少なくとも一方
は、加速度センサを用いることができる。
Further, the abovepluralFirst vibration detecting meansOh
AndThe abovepluralSecond vibration detecting meansAt least one of
Can use an acceleration sensor.

【0019】[0019]

【作用】本発明では、除振台を含む装置が設置されてい
る基礎の振動を複数の第1の振動検出手段で検出し、そ
れらの出力信号から、前記基礎の回転運動モードの振動
信号を抽出し、その回転運動モードの振動信号に基づい
て、前記除振台に力を加える複数のアクチュエータを
する。前記基礎の回転運動モードまたはこの回転運動
モードを含む各運動モードの振動信号を適切に補償し
て、前記複数のアクチュエータの制御に用いることが好
ましい。
According to the present invention, apparatus is installed, including a vibration isolation table
Vibration of the foundation is detected by a plurality of first vibration detecting means,
From these output signals, the vibration signal of the rotary motion mode of the foundation is extracted and based on the vibration signal of the rotary motion mode.
Te, control a plurality of actuators for applying a force to said anti-vibration table
Control . The rotary motion mode of the foundation or this rotary motion
The vibration signal of each motion mode including
Therefore, it is preferable to use it to control the actuators.
Good

【0020】前記除振台に制御力を加えるアクチュエー
タは、ボイスコイルモータなどの電磁駆動アクチュエー
タ、または空気ばねの内部圧力をサーボバルブなどで調
整することによりその発生力を制御する空気圧制御式ア
クチュエータ、またはそれらの双方を用いることができ
る。
The actuator for applying a control force to the vibration isolation table is an electromagnetically driven actuator such as a voice coil motor, or a pneumatic control type actuator for controlling the generated force by adjusting the internal pressure of an air spring with a servo valve, Alternatively, both of them can be used.

【0021】さらに本発明では、前記除振台の振動を複
数の第2の振動検出手段で検出し、それらの検出信号か
前記除振台の各運動モードの振動信号を抽出し、そ
各運動モードの振動信号に基づいて前記複数のアクチ
ュエータ制御する。
[0021] In addition the present invention, the vibration isolation table of the vibration detected by the plurality of second vibration detection unit, extracts a vibration signal for each motion mode of the anti-vibration table from these detection signals, Re their
Controlling said plurality of activator <br/> Yueta based on Luo vibration signal for each motion mode.

【0022】装置設置基礎の並進、回転などの各運動モ
ードの振動信号の補償は、各運動モードごとに行なって
も、除振台の連成振動を考慮して各運動モード相互に信
号をやりとりするものであってもよい。望ましくは、能
動除振装置の力学的特性を考慮し、装置設置基礎振動の
各運動モードの成分から、それらが除振台におよぼす推
力、モーメントまでの特性およびアクチュエータの特性
を、運動モード間の相互作用、連成振動まで考慮して設
計・調整した上で補償演算を行なう。
Even if the vibration signal of each motion mode such as translation and rotation of the equipment installation foundation is compensated for each motion mode, signals are exchanged between each motion mode considering the coupled vibration of the vibration isolation table. It may be one that does. Desirably, in consideration of the mechanical characteristics of the active vibration isolation device, the characteristics of each motion mode of the basic vibration of the device installation to the thrust, the moment to which they act on the vibration isolation table, and the characteristics of the actuator, Compensation calculation is performed after designing and adjusting considering interaction and coupled vibration.

【0023】これにより、装置設置基礎の並進振動とと
もに、従来のこの種の制御方式では十分に確保すること
が困難であった、装置設置基礎の回転振動の絶縁性能を
大幅に向上させることができ、除振台に搭載された精密
機器の性能向上に寄与することができる。
As a result, it is possible to greatly improve the translational vibration of the equipment installation foundation and the insulation performance of the rotation vibration of the equipment installation foundation, which was difficult to sufficiently secure by the conventional control system of this kind. , It is possible to contribute to the performance improvement of the precision equipment mounted on the vibration isolation table.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

[実施形態1]図1は、本発明の第1の実施形態に係る
能動除振装置の構成図であり、本発明の特徴を最もよく
表す図である。以下、この装置について図1を用いて説
明する。なお、この装置は、水平方向に作用する除振装
置であるが、鉛直方向に作用する能動除振装置に対し
て、以下に詳述する手段を適用してもよい。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a configuration diagram of an active vibration isolator according to a first embodiment of the present invention, and is a view best showing the features of the present invention. Hereinafter, this device will be described with reference to FIG. Although this device is a vibration isolator that acts in the horizontal direction, the means detailed below may be applied to an active vibration isolator that acts in the vertical direction.

【0025】また、この装置は、水平面内3自由度の運
動、すなわち水平並進2自由度と鉛直軸まわり回転1自
由度の制御を行なうものであるが、これに残りの3自由
度の剛体運動モード、すなわち鉛直並進1自由度および
水平軸まわり回転2自由度の制御を行なう装置を組合わ
せてもよい。
Further, this apparatus controls the movement of three degrees of freedom in the horizontal plane, that is, the horizontal translation two degrees of freedom and the rotation about the vertical axis of one degree of freedom, and the remaining three degrees of freedom rigid body movement. It is also possible to combine a device for controlling the mode, that is, the vertical translation 1 degree of freedom and the rotation about the horizontal axis 2 degrees of freedom.

【0026】また、本装置のように、水平面内3自由度
の運動の制御だけでなく、並進、回転各3自由度をあわ
せた6自由度の運動モードを本装置と同様に制御する装
置および方法も本発明に含まれる。
Further, like the present apparatus, not only the control of the movement of the three degrees of freedom in the horizontal plane, but also the apparatus of controlling the movement mode of the six degrees of freedom including the translational and rotational three degrees of freedom in the same manner as the present apparatus. Methods are also included in the invention.

【0027】本能動除振装置は、図1に示すように、半
導体露光装置などの精密機器を搭載する除振台1、それ
を防振支持する支持手段と、除振台1に能動的な制御力
を加えるアクチュエータとを備えた能動除振マウント2
a、2b、2c、2d、除振台1の振動を検出する第1
の振動検出手段3a、3b、3c、第1の振動検出手段
3a、3b、3cの出力信号から除振台1の並進、回転
などの各運動モードの振動信号を抽出する除振台振動運
動モード抽出回路4、除振台振動運動モード抽出回路4
で抽出した除振台1の各運動モードの振動信号に適切な
補償演算処理を施す除振台振動補償回路5、床などの装
置設置基礎6の振動を検出する第2の振動検出手段7
a、7b、7c、第2の振動検出手段7a、7b、7c
の出力信号から装置設置基礎6の並進、回転などの各運
動モードの振動信号を抽出する装置設置基礎振動運動モ
ード抽出回路8、装置設置基礎振動運動モード抽出回路
8で抽出した装置設置基礎6の各運動モードの振動信号
に適切な補償演算処理を施す装置設置基礎振動補償回路
9、除振台振動補償回路5と装置設置基礎振動補償回路
9の出力として得られた各運動モードの推力指令信号、
モーメント指令信号を駆動回路11a、11b、11
c、11dに分配する推力分配回路10、推力分配回路
10の出力に基づいて能動除振マウント2a、2b、2
c、2dに組み込まれたアクチュエータの駆動を行なう
駆動回路11a、11b、11c、11dなどにより構
成される。
As shown in FIG. 1, the active vibration isolator comprises an anti-vibration table 1 on which precision equipment such as a semiconductor exposure apparatus is mounted, a supporting means for supporting the same to prevent vibration, and an active anti-vibration table 1. Active vibration isolation mount 2 with actuator for applying control force
a, 2b, 2c, 2d, first for detecting the vibration of the vibration isolation table 1
Vibration isolation table vibration motion mode for extracting vibration signals of motion modes such as translation and rotation of the vibration isolation table 1 from the output signals of the vibration detection means 3a, 3b, 3c and the first vibration detection means 3a, 3b, 3c. Extraction circuit 4, vibration isolation table vibration motion mode extraction circuit 4
Second vibration detecting means 7 for detecting the vibration of the vibration isolation table vibration compensating circuit 5 that performs appropriate compensation calculation processing on the vibration signal of each motion mode of the vibration isolation table 1 extracted in Step 2, and the vibration of the device installation foundation 6 such as the floor.
a, 7b, 7c, second vibration detecting means 7a, 7b, 7c
Of the device installation foundation 6 extracted by the device installation foundation vibration motion mode extraction circuit 8 and the device installation foundation vibration motion mode extraction circuit 8 for extracting the vibration signal of each motion mode such as translation and rotation of the device installation foundation 6 from the output signal of Thrust command signal of each motion mode obtained as the output of the device installation basic vibration compensation circuit 9, the vibration isolation table vibration compensation circuit 5 and the device installation basic vibration compensation circuit 9 that perform appropriate compensation calculation processing on the vibration signal of each motion mode ,
The moment command signal is transmitted to the drive circuits 11a, 11b, 11
c, 11d, the thrust distribution circuit 10, and the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2 based on the output of the thrust distribution circuit 10.
The drive circuits 11a, 11b, 11c, 11d, etc. for driving the actuators incorporated in c and 2d.

【0028】能動除振マウント2a、2b、2c、2d
は、除振台1を防振支持するばね、ダンパ要素、除振台
1に能動的な制御力を加えるアクチュエータ等を備え、
それらが装置設置基礎6と除振台1の間に、力学的に直
列または並列に配置されたものである。能動除振マウン
ト2a、2b、2c、2dに組み込まれ、除振台1に能
動的な制御力を加えるアクチュエータとしては、例えば
ボイスコイルモータなどの電磁駆動アクチュエータ、ま
たは空気ばねの内部圧力をサーボバルブなどで調整する
ことにより、その発生力を制御する空気圧制御式アクチ
ュエータ、またはその双方を用いることができる。ま
た、アクチュエータとして空気圧制御式アクチュエータ
を用いた場合、これを除振台1を支持するばね、ダンパ
要素として兼用することもできる。
Active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d
Is provided with a spring for supporting the vibration isolation table 1 for vibration isolation, a damper element, an actuator for applying an active control force to the vibration isolation table 1, and the like,
They are mechanically arranged in series or in parallel between the equipment installation base 6 and the vibration isolation table 1. As an actuator that is incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d and applies an active control force to the vibration isolation table 1, for example, an electromagnetically driven actuator such as a voice coil motor, or an internal pressure of an air spring is used as a servo valve. It is possible to use an air pressure control type actuator that controls the generated force, or both of them by adjusting with, for example. When a pneumatic control type actuator is used as the actuator, it can also be used as a spring or a damper element for supporting the vibration isolation table 1.

【0029】第1の振動検出手段3a、3b、3c、第
2の振動検出手段7a、7b、7cには、加速度センサ
を用いることができる。
An acceleration sensor can be used for the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c and the second vibration detecting means 7a, 7b, 7c.

【0030】本能動除振装置は、除振台1の振動に着目
して振動制御を行なう除振台振動補償ループと、能動除
振装置を設置する床などの装置設置基礎6から除振台1
への振動伝達に着目して振動制御を行なう装置設置基礎
振動補償ループとからなる。本除振台振動補償ループの
構成およびその動作は以下の通りである。すなわち、能
動除振マウント2a、2b、2c、2dにより、防振支
持された除振台1の振動を、加速度センサなどの第1の
振動検出手段3a、3b、3cで検出し、それらの検出
信号から除振台振動運動モード抽出回路4で、除振台1
の並進、回転などの各運動モードの振動信号を抽出し、
除振台振動補償回路5において、除振台1の各運動モー
ドの振動信号に適切な補償演算処理を施す。そして、後
で詳述する装置設置基礎6の並進、回転などの各運動モ
ードの振動の補償信号と加算し、この信号を推力分配回
路10で駆動回路11a、11b、11c、11dに分
配し、各能動除振マウント2a、2b、2c、2dに組
み込まれたアクチュエータを制御する。
This active vibration isolator comprises a vibration isolation loop for compensating the vibrations of the vibration isolation table 1 and a vibration compensation loop for the vibration isolation table 1. 1
It consists of a device installation basic vibration compensation loop that controls the vibration by focusing on the vibration transmission to the device. The configuration and operation of this vibration isolation table vibration compensation loop are as follows. That is, the vibrations of the vibration isolation table 1 supported by the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d are detected by the first vibration detection means 3a, 3b, 3c such as an acceleration sensor and detected. The vibration isolation table 1 is extracted from the signal by the vibration isolation table vibration motion mode extraction circuit 4.
Extract the vibration signal of each motion mode such as translation and rotation of
In the vibration isolation table vibration compensation circuit 5, an appropriate compensation calculation process is applied to the vibration signal of each motion mode of the vibration isolation table 1. Then, it is added with a compensation signal for vibration of each motion mode such as translation and rotation of the device installation foundation 6 which will be described later in detail, and this signal is distributed to the drive circuits 11a, 11b, 11c, 11d by the thrust distribution circuit 10, It controls the actuators incorporated in each active vibration isolation mount 2a, 2b, 2c, 2d.

【0031】なお、基準位置に対する除振台1の相対変
位を検出する変位検出手段を備え、その変位検出手段の
信号を補償し、各能動除振マウント2a、2b、2c、
2dに組み込まれたアクチュエータにフィードバックす
る除振台変位制御ループを有する能動除振装置も本発明
に含まれる。また、除振台変位制御ループについても、
複数の変位検出手段で検出した除振台1の基準位置に対
する変位信号から、除振台1の並進、回転などの各運動
モードの変位信号を抽出し、その信号を適切に補償し、
それによって得られた各運動モードの補償信号を各能動
除振マウントに分配して制御するものが望ましい。
The active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c are provided with displacement detecting means for detecting the relative displacement of the vibration isolation table 1 with respect to the reference position, compensating the signal of the displacement detecting means.
The present invention also includes an active vibration isolation device having a vibration isolation table displacement control loop that feeds back to the actuator incorporated in 2d. Also, regarding the vibration isolation table displacement control loop,
Displacement signals of each motion mode such as translation and rotation of the vibration isolation table 1 are extracted from the displacement signals of the vibration isolation table 1 detected by the plurality of displacement detection means with respect to the reference position, and the signals are appropriately compensated.
It is desirable that the compensation signal of each motion mode obtained thereby be distributed to each active vibration isolation mount and controlled.

【0032】次に、装置設置基礎振動補償ループについ
て説明する。
Next, the device installation basic vibration compensation loop will be described.

【0033】本装置設置基礎振動補償ループは、能動除
振装置を設置する床などの装置設置基礎6の振動を第2
の振動検出手段7a、7b、7cで検出し、それらの検
出信号から、装置設置基礎振動運動モード抽出回路8に
おいて装置設置基礎6の並進、回転などの各運動モード
の振動信号を抽出し、装置設置基礎振動補償回路9にお
いて、装置設置基礎6の各運動モードの振動信号に適切
な補償演算処理を施す。そして、前述した除振台1の並
進、回転などの各運動モードの振動の補償信号、すなわ
ち除振台振動補償回路5の出力信号と、各運動モードご
とに加算し、これを推力分配回路10で駆動回路11
a、11b、11c、11dに分配し、能動除振マウン
ト2a、2b、2c、2dに組み込まれたアクチュエー
タを制御する。
The apparatus installation foundation vibration compensating loop is provided for the second vibration of the apparatus installation foundation 6 such as the floor on which the active vibration isolator is installed.
Of the vibration detection means 7a, 7b, 7c, and the detection signals from the vibration detection means 7a, 7b, 7c are used to extract the vibration signals of the respective motion modes such as translation and rotation of the device installation foundation 6 in the device installation foundation vibration motion mode extraction circuit 8. In the installation foundation vibration compensation circuit 9, appropriate compensation calculation processing is performed on the vibration signal of each motion mode of the apparatus installation foundation 6. Then, the above-described vibration compensation signals for each motion mode such as translation and rotation of the vibration isolation table 1, that is, the output signal of the vibration isolation table vibration compensation circuit 5, is added for each motion mode, and this is added to the thrust distribution circuit 10. Drive circuit 11
a, 11b, 11c, 11d and controls the actuators incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d.

【0034】除振台振動運動モード抽出回路4、装置設
置基礎振動運動モード抽出回路8で行なう運動モード抽
出の演算式および推力分配回路10の演算式は、第1の
振動検出手段3a、3b、3c、第2の振動検出手段7
a、7b、7cおよび能動除振マウント2a、2b、2
c、2dの幾何的な配置関係などに基づいて決定され
る。
The operation formulas of the motion mode extraction performed by the vibration isolation table vibration motion mode extraction circuit 4, the device installation basic vibration motion mode extraction circuit 8 and the thrust distribution circuit 10 are calculated by the first vibration detection means 3a, 3b. 3c, second vibration detecting means 7
a, 7b, 7c and active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2
It is determined based on the geometrical arrangement relationship of c and 2d.

【0035】例えば、第1の振動検出手段3a、3b、
3cが図2のように配置されていたとする。このとき第
1の振動検出手段3a、3b、3cの振動検出方向がそ
れぞれ矢印80、81、82の向きであるとすると、そ
れらの検出する振動信号α1、α2 、α3 は、除振台1
の直交する水平2方向X、Yの並進振動成分αx 、αY
と、水平面に直交する鉛直軸まわりθZ の回転振動成分
For example, the first vibration detecting means 3a, 3b,
It is assumed that 3c is arranged as shown in FIG. At this time, assuming that the vibration detection directions of the first vibration detection means 3a, 3b, 3c are the directions of arrows 80, 81, 82, respectively, the vibration signals α 1 , α 2 , α 3 detected by them are vibration-isolated. Stand 1
Translational components α x , α Y in two horizontal directions X and Y orthogonal to each other
And the rotational vibration component of θ Z around the vertical axis orthogonal to the horizontal plane.

【0036】[0036]

【外1】 とにより、数1式のように表される。ここで、座標系の
原点Oと第1の振動検出手段3a、3b、3cとの位置
関係は図2に示したようであるとする。
[Outer 1] Is expressed by the equation (1). Here, the positional relationship between the origin O of the coordinate system and the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c is assumed to be as shown in FIG.

【0037】[0037]

【数1】 したがって、各運動モードの振動成分の信号は数1式の
逆行列演算
[Equation 1] Therefore, the signal of the vibration component of each motion mode is calculated by the inverse matrix of the equation (1).

【0038】[0038]

【数2】 により、数3式のように導出できる。[Equation 2] Can be derived as shown in Equation 3.

【0039】[0039]

【数3】 なお、ここでは、第1の振動検出手段3a、3b、3c
の出力信号から、除振台1の水平面内の並進、回転の各
運動モードの振動を抽出する演算式を示したが、同様の
考え方で、鉛直並進、水平軸まわり回転の各運動モード
の振動を抽出する演算式や、剛体6自由度の運動モード
の振動を抽出する演算式を導出することができる。
[Equation 3] Note that, here, the first vibration detection means 3a, 3b, 3c
The calculation formula for extracting the vibrations of the translational and rotational motion modes in the horizontal plane of the vibration isolation table 1 was shown from the output signal of 1. Can be derived, and an arithmetic expression for extracting the vibration of the motion mode of the rigid body 6 degrees of freedom can be derived.

【0040】また、特開平7ー83276号公報「鉛直
方向空気ばね式除振台の制御装置」では、4台のセンサ
出力から、前述したような3自由度の剛体振動成分に加
えて、装置本体の非剛体振動成分を導出する方法が開示
されているが、本発明における装置でも同様の演算を行
なってもよい。また、ここでは座標系の原点Oと各振動
検出手段の検出軸との距離は、図2に示すように、1で
あるとしたが、もちろんそれ以外の場合でも、同様に導
出できる。
Further, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-83276, “Control device for vertical direction air spring type vibration isolation table”, in addition to the rigid vibration components of three degrees of freedom as described above, from the output of four sensors, Although the method of deriving the non-rigid body vibration component of the main body is disclosed, the device of the present invention may perform the same calculation. Further, here, the distance between the origin O of the coordinate system and the detection axis of each vibration detecting means is assumed to be 1 as shown in FIG. 2, but it can be derived similarly in other cases as well.

【0041】これと同様にして、第2の振動検出手段7
a、7b、7cから装置設置基礎の並進、回転などの各
運動モードの振動を導出することができる。例えば、第
2の振動検出手段7a、7b、7cが図3のように配置
され、かつそれらの振動検出方向がそれぞれ矢印83、
84、85の向きであったとすると、装置設置基礎6の
直交する水平2方向X、Yの並進振動成分αx0、αy0
と、鉛直軸まわりθzの回転振動成分
Similarly to this, the second vibration detecting means 7
From a, 7b, 7c, it is possible to derive the vibration of each motion mode such as translation and rotation of the device installation foundation. For example, the second vibration detection means 7a, 7b, 7c are arranged as shown in FIG. 3, and their vibration detection directions are indicated by arrows 83, respectively.
If the directions are 84 and 85, the translational vibration components α x0 and α y0 in the two horizontal directions X and Y orthogonal to the device installation foundation 6 are assumed.
And the rotational vibration component of θ z around the vertical axis

【0042】[0042]

【外2】 は、第2の振動検出手段7a、7b、7cの検出する振
動α10、α20、α30により、数4式の演算式により導出
できる。
[Outside 2] Can be derived from the vibrations α 10 , α 20 and α 30 detected by the second vibration detecting means 7a, 7b and 7c by the arithmetic expression of Formula 4.

【0043】[0043]

【数4】 なお、ここでは、座標系の原点Oと各振動検出手段の検
出軸との距離は、図3に示すように、1であるとした
が、もちろんそれ以外の場合でも、同様に導出できる。
[Equation 4] Note that, here, the distance between the origin O of the coordinate system and the detection axis of each vibration detection means is assumed to be 1 as shown in FIG. 3, but it can be derived similarly in other cases as well.

【0044】また、推力分配回路10の演算式は、能動
除振マウント2a、2b、2c、2dに組み込まれたア
クチュエータの幾何的な配置関係によって決定される。
The arithmetic expression of the thrust distribution circuit 10 is determined by the geometrical arrangement relationship of the actuators incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c and 2d.

【0045】例えば、能動除振マウント2a、2b、2
c、2dが図4のように配置されていたとする。このと
き、能動除振マウント2a、2b、2c、2dに組み込
まれた、除振台1に制御力を加えるアクチュエータ12
a、12b、12c、12dの作用方向がそれぞれ矢印
86、87、88、89の向きであるとすると、それら
の発生推力Fa 、Fb 、Fc 、Fd と、それらの合力に
よる、除振台1の重心Gに作用する直交する水平2方向
X、Yの並進推力Fx 、Fy 、鉛直軸まわりθz の回転
モーメントMz との関係は数5式のようになる。
For example, the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2
It is assumed that c and 2d are arranged as shown in FIG. At this time, the actuator 12 which is incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d and applies a control force to the vibration isolation table 1
a, 12b, 12c, the direction of action of the 12d is assumed to be the direction of the respective arrows 86,87,88,89, their occurrence thrust F a, F b, F c , and F d, according to their resultant force, divided The relationship between the translational thrusts F x and F y in the two horizontal directions X and Y acting on the center of gravity G of the shaking table 1 and the rotational moment M z about the vertical axis θ z is as shown in Formula 5.

【0046】[0046]

【数5】 したがって、この逆演算式[Equation 5] Therefore, this inverse equation

【0047】[0047]

【数6】 によれば、水平2方向X、Yの並進推力Fx 、Fy と、
鉛直軸まわりθz の回転モーメントMz の制御信号を、
アクチュエータ12a、12b、12c、12dすなわ
ち能動除振マウント2a、2b、2c、2dに組み込ま
れた各アクチュエータに分配することができる。なお、
ここでは除振台1の重心Gと各アクチュエータ12a、
12b、12c、12dの作用軸との距離は、図4のよ
うに、1であるとしたが、もちろんそれ以外の場合で
も、同様に導出できる。
[Equation 6] According to the translational thrusts F x and F y in the two horizontal directions X and Y,
The control signal of the rotation moment M z about the vertical axis θ z is
The actuators 12a, 12b, 12c, 12d can be distributed to each actuator incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d. In addition,
Here, the center of gravity G of the vibration isolation table 1 and each actuator 12a,
The distance between the action axes of 12b, 12c and 12d is 1 as shown in FIG. 4, but it can be derived in the same manner in other cases as well.

【0048】除振台振動補償回路5、装置設置基礎振動
補償回路9においては、各運動モードごとに補償演算を
行なう。補償演算としては、PI補償(比例・積分補
償)、ゲイン補償、積分補償、またはそれらを適宜組み
合わせたものなどを適用する。なお、能動除振マウント
2a、2b、2c、2dの配置や除振台1の重心位置な
どによっては、各運動モード相互の連成が起こりうる
が、そのような場合は、それら連成振動を考慮し、図5
に示すような各運動モード相互に干渉項を有する補償演
算を行なうことが望ましい。図5は一例として、並進X
のモードと回転θzのモードが連成するとし、これを考
慮した補償演算回路を示したものである。
In the vibration isolation table vibration compensation circuit 5 and the apparatus installation basic vibration compensation circuit 9, compensation calculation is performed for each motion mode. As the compensation calculation, PI compensation (proportional / integral compensation), gain compensation, integral compensation, or a combination thereof is applied. Depending on the arrangement of the active anti-vibration mounts 2a, 2b, 2c, 2d and the position of the center of gravity of the anti-vibration table 1, mutual motion modes may be coupled with each other. Considering Figure 5
It is desirable to perform a compensation calculation having interference terms between the respective motion modes as shown in FIG. FIG. 5 shows translation X as an example.
It is assumed that the mode of 1 and the mode of rotation θ z are coupled, and the compensation calculation circuit in consideration of this is shown.

【0049】なお、本実施形態では、除振台振動制御ル
ープにおける除振台振動の補償演算を運動モードごとに
行なう装置および方法を説明したが、除振台振動の補償
演算は図6に示したように、各能動除振マウントごとに
行なってもよい。
In the present embodiment, the apparatus and method for performing the compensation calculation of the vibration isolation table vibration in the vibration isolation table vibration control loop has been described for each motion mode. The vibration isolation table vibration compensation calculation is shown in FIG. As described above, it may be performed for each active vibration isolation mount.

【0050】また、本実施形態では説明しなかったが、
除振台1の基準位置に対する変位量を検出する変位検出
手段を備え、変位検出手段の出力信号を補償して能動除
振マウント2a、2b、2c、2dに組み込まれたアク
チュエータにフィードバックする制御ループを備えても
よい。この場合、変位検出手段の出力を補償する手段
は、複数の変位検出手段で検出した除振台1の基準位置
に対する変位信号から、除振台1の並進、回転などの各
運動モードの変位信号を抽出し、その信号を適切に補償
し、それによって得られた各運動モードの補償信号を駆
動回路11a、11b、11c、11dに分配し、能動
除振マウント2a、2b、2c、2dに組み込まれたア
クチュエータを制御するものであってもよい。
Although not described in this embodiment,
A control loop provided with a displacement detecting means for detecting a displacement amount of the vibration isolation table 1 with respect to a reference position, and compensating an output signal of the displacement detecting means to feed back to an actuator incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d. May be provided. In this case, the means for compensating for the output of the displacement detecting means is based on the displacement signals detected by the plurality of displacement detecting means with respect to the reference position of the vibration isolation table 1 and the displacement signals for each motion mode such as translation and rotation of the vibration isolation table 1. Is extracted, the signal is appropriately compensated, and the compensation signal of each motion mode obtained thereby is distributed to the drive circuits 11a, 11b, 11c, 11d, and incorporated in the active vibration isolation mounts 2a, 2b, 2c, 2d. It may be one that controls a separate actuator.

【0051】以上のように、本能動除振装置は、装置設
置基礎の振動を複数の振動検出手段で検出し、それらの
信号から装置設置基礎の並進、回転などの各運動モード
の振動信号を抽出し、それを適切に補償し、それによっ
て得られた各運動モードの補償信号を除振台に制御力を
加えるアクチュエータに分配して制御を行なう。これに
よって、装置設置基礎の並進振動に加え、従来のこの種
の装置では十分に確保することが困難であった装置設置
基礎の回転振動の絶縁性能を大幅に向上させることが可
能となり、特に回転振動を嫌う精密機器を搭載する除振
台として、好適に用いることができる。
As described above, the active vibration isolator detects the vibration of the equipment installation foundation by a plurality of vibration detecting means, and from these signals, the vibration signals of each motion mode such as translation and rotation of the equipment installation foundation. The extraction is performed, the compensation is appropriately performed, and the compensation signals of the respective motion modes obtained thereby are distributed to the actuators that apply the control force to the vibration isolation table to perform the control. As a result, in addition to translational vibration of the equipment installation foundation, it is possible to significantly improve the insulation performance of rotational vibration of the equipment installation foundation, which was difficult to secure sufficiently with conventional equipment of this type. It can be suitably used as an anti-vibration table on which a precision instrument that dislikes vibration is mounted.

【0052】[実施形態2]実施形態1で説明した第2
の振動検出手段としては、通常の加速度センサの他に、
例えば第1の振動検出手段3a、3b、3cと、第1の
振動検出手段3a、3b、3cに近接して配置され、装
置設置基礎6と除振台1の相対変位を検出する複数の変
位センサの信号から装置設置基礎の振動を演算によって
求めるものであってもよい。この場合、第1の振動検出
手段3a、3b、3cと変位センサは可能な限り近くに
配置し、望ましくは双方の検出軸が一致するものであ
る。
[Second Embodiment] The second embodiment described in the first embodiment.
As the vibration detection means of, in addition to the usual acceleration sensor,
For example, the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c and a plurality of displacements arranged close to the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c for detecting relative displacement between the apparatus installation foundation 6 and the vibration isolation table 1 The vibration of the equipment installation foundation may be calculated from the signal of the sensor. In this case, the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c and the displacement sensor are arranged as close to each other as possible, and the detection axes of both are preferably coincident with each other.

【0053】図7は、本実施形態に係る能動除振装置の
構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing the structure of the active vibration isolator according to this embodiment.

【0054】この装置における除振台振動補償ループの
構成および作用は、実施形態1のそれとまったく同じで
あり、除振台振動の補償演算は、運動モードごとに行な
っても、各能動除振マウントごとに行なってもよい。
The structure and operation of the vibration isolation table vibration compensation loop in this apparatus are exactly the same as those of the first embodiment. Even if the vibration isolation table vibration compensation calculation is performed for each motion mode, each active vibration isolation mount is used. You may do it every time.

【0055】次に、この装置における装置設置基礎振動
補償ループについて説明する。
Next, the device installation basic vibration compensation loop in this device will be described.

【0056】この装置設置基礎振動補償ループでは、能
動除振装置を設置する床などの装置設置基礎6の振動
を、例えば第1の振動検出手段3a、3b、3cと、除
振台1の基準位置からの変位量を検出する変位センサ1
3a、13b、13cの出力信号から演算によって求め
る。変位センサ13a、13b、13cは装置設置基礎
6と除振台1の相対変位を検出するものである。変位セ
ンサ13a、13b、13cは、第1の振動検出手段3
a、3b、3cにできるだけ近づけて配置し、望ましく
は双方の検出軸が一致する位置に配置する。
In this equipment installation foundation vibration compensating loop, the vibration of the equipment installation foundation 6 such as the floor on which the active vibration isolator is installed is determined by, for example, the first vibration detection means 3a, 3b, 3c and the vibration isolation table 1. Displacement sensor 1 that detects the amount of displacement from the position
It is calculated from the output signals of 3a, 13b, and 13c. The displacement sensors 13a, 13b, 13c detect relative displacement between the apparatus installation foundation 6 and the vibration isolation table 1. The displacement sensors 13a, 13b, 13c are the first vibration detecting means 3
It is arranged as close to a, 3b, and 3c as possible, preferably at a position where both detection axes match.

【0057】装置設置基礎振動の検出は、以下の通りに
行なう。
The basic vibration of the apparatus is detected as follows.

【0058】第1の振動検出手段3a、3b、3cとし
て加速度センサを用い、それによって、除振台1各部の
加速度αb1、αb2、αb3を検出する。一方、第1の振動
検出手段3a、3b、3cに近接して配置された変位セ
ンサ13a、13b、13cによって除振台1の各部に
おける装置設置基礎6と除振台1の相対変位x1 、x
2 、x3 を検出する。ここで、変位センサ13a、13
b、13cの出力x1 、x2 、x3 は、除振台1各部の
絶対座標系上での変位量xb1、xb2、xb3と装置設置基
礎6の絶対座標系上での変位量xf1、xf2、xf3との差
である。したがって、その信号を2階微分した信号は、
除振台1各部の加速度αb1、αb2、αb3と、変位センサ
13a、13b、13cが配置された位置における装置
設置基礎6の加速度αf1、αf2、αf3との差信号とな
る。
An acceleration sensor is used as the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c, and the accelerations α b1 , α b2 , α b3 of each part of the vibration isolation table 1 are detected by the acceleration sensor. On the other hand, by the displacement sensors 13a, 13b, 13c arranged in proximity to the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c, the relative displacement x 1 between the device installation base 6 and the vibration isolation table 1 at each part of the vibration isolation table 1 , x
2 and x 3 are detected. Here, the displacement sensors 13a, 13
The outputs x 1 , x 2 , x 3 of b, 13c are the displacement amounts x b1 , x b2 , x b3 of each part of the vibration isolation table 1 on the absolute coordinate system and the displacement of the equipment installation foundation 6 on the absolute coordinate system. It is the difference between the quantities x f1 , x f2 and x f3 . Therefore, the signal that is the second-order derivative of that signal is
It is the difference signal between the accelerations α b1 , α b2 , α b3 of each part of the vibration isolation table 1 and the accelerations α f1 , α f2 , α f3 of the equipment installation base 6 at the positions where the displacement sensors 13a, 13b, 13c are arranged. .

【0059】よって、装置設置基礎振動導出手段14
a、14b、14cにおいて、第1の振動検出手段3
a、3b、3cと変位センサ13a、13b、13cの
検出ゲインおよびその幾何的な配置関係を考慮し、かつ
両信号の物理量を加速度に一致させ、その差信号を導出
すれば、装置設置基礎6の振動加速度αf1、αf2、αf3
に対応する信号を抽出することができる。この際、第1
の振動検出手段3a、3b、3cと変位センサ13a、
13b、13cのうち近接して配置されたセンサ同士の
検出軸を一致させておくと、双方の幾何的な配置関係を
考慮する必要がなく、より簡単な演算で装置設置基礎6
の振動を検出できる。
Therefore, the device installation basic vibration deriving means 14
In a, 14b, and 14c, the first vibration detection means 3
a, 3b, 3c and the displacement sensors 13a, 13b, 13c, the detection gains and their geometrical arrangements are taken into consideration, and the physical quantities of both signals are made to coincide with the acceleration, and the difference signal is derived. Vibration acceleration of α f1 , α f2 , α f3
The signal corresponding to can be extracted. At this time, the first
Vibration detection means 3a, 3b, 3c and displacement sensor 13a,
If the detection axes of the sensors arranged close to each other among 13b and 13c are made to coincide with each other, it is not necessary to consider the geometrical arrangement relationship between them, and the device installation foundation 6 can be calculated by a simpler calculation.
Vibration can be detected.

【0060】よって、装置設置基礎振動導出手段14
a、14b、14cにおいて、以上のようにして導出さ
れた装置設置基礎6の振動信号をもとに、装置設置基礎
振動運動モード抽出回路8において装置設置基礎6の並
進、回転などの各運動モードの振動信号を抽出し、装置
設置基礎振動補償回路9において、装置設置基礎6の各
運動モードの振動信号に適切な補償演算処理を施し、こ
れを推力分配回路10で、駆動回路11a、11b、1
1c、11dに分配し、能動除振マウント2a、2b、
2c、2dに組み込まれたアクチュエータの制御を行な
えば、実施形態1と同等の性能を有する能動除振装置を
実現できる。
Therefore, the device installation basic vibration deriving means 14
In a, 14b, and 14c, based on the vibration signal of the device installation foundation 6 derived as described above, each motion mode such as translation and rotation of the device installation foundation 6 in the device installation foundation vibration motion mode extraction circuit 8 The vibration signal is extracted, and the device installation foundation vibration compensation circuit 9 performs appropriate compensation calculation processing on the vibration signal of each motion mode of the device installation foundation 6, and this is applied to the thrust distribution circuit 10 by the drive circuits 11a, 11b. 1
1c, 11d, active isolation mounts 2a, 2b,
By controlling the actuators incorporated in 2c and 2d, an active vibration isolator having the same performance as that of the first embodiment can be realized.

【0061】なお、図7では明示しなかったが、変位セ
ンサ13a、13b、13cは除振台1の基準位置に対
する変位量の制御にも併用することができる。
Although not shown in FIG. 7, the displacement sensors 13a, 13b and 13c can also be used for controlling the displacement amount of the vibration isolation table 1 with respect to the reference position.

【0062】また、本実施形態において、装置設置基礎
振動導出手段14a、14b、14c、装置設置基礎振
動運動モード抽出回路8はともに演算処理手段である
が、これらの演算処理を1つの演算処理手段で一括して
行なってもよい。
Further, in the present embodiment, the apparatus installation basic vibration deriving means 14a, 14b, 14c and the apparatus installation basic vibration motion mode extraction circuit 8 are all arithmetic processing means, but these arithmetic processings are performed by one arithmetic processing means. You may do it all at once.

【0063】これによって、装置設置基礎の並進振動の
みならず、回転振動の除振台への伝達を大幅に抑制する
ことができることに加え、第2の振動検出手段として加
速度センサなどの高価な振動検出手段を用いる必要がな
いので、装置のコストダウンにも寄与することができ
る。
As a result, not only the translational vibration of the equipment installation foundation but also the transmission of rotational vibration to the vibration isolation table can be significantly suppressed, and expensive vibration such as an acceleration sensor as the second vibration detecting means can be suppressed. Since it is not necessary to use the detection means, it is possible to contribute to cost reduction of the device.

【0064】[実施形態3]実施形態2では、装置設置
基礎6の振動を検出する第2の振動検出手段として、第
1の振動検出手段3a、3b、3cと、第1の振動検出
手段3a、3b、3cに近接して配置され、かつ装置設
置基礎6と除振台1の相対変位を検出する複数の変位セ
ンサの信号から演算によって装置設置基礎振動の信号を
導出するものを用いたが、能動除振マウント2a、2
b、2c、2dに組み込まれたアクチュエータにボイス
コイルモータなどの電磁駆動アクチュエータを用いた場
合、これと同様の考え方で、電磁駆動アクチュエータの
逆起電力信号を用いて装置設置基礎6の振動信号を検出
することができる。
[Third Embodiment] In the second embodiment, as the second vibration detecting means for detecting the vibration of the apparatus installation foundation 6, the first vibration detecting means 3a, 3b, 3c and the first vibration detecting means 3a are used. 3b, 3c, which are arranged close to each other, and which derive the signal of the apparatus installation foundation vibration by calculation from the signals of a plurality of displacement sensors that detect the relative displacement of the apparatus installation foundation 6 and the vibration isolation table 1. , Active vibration isolation mounts 2a, 2
When an electromagnetically driven actuator such as a voice coil motor is used for the actuators incorporated in b, 2c, and 2d, the back electromotive force signal of the electromagnetically driven actuator is used to detect the vibration signal of the device installation foundation 6 in a similar manner. Can be detected.

【0065】この場合、電磁アクチュエータの逆起電力
信号は、各能動除振マウントの位置における除振台1と
装置設置基礎6の相対速度に比例するので、その信号を
微分処理して物理量を加速度に一致させ、各能動除振マ
ウントに組み込まれたアクチュエータと第1の振動検出
手段3a、3b、3cとの幾何的な配置関係等を考慮し
て、双方の差信号を抽出すれば、装置設置基礎6の振動
加速度信号を得ることができる。
In this case, since the back electromotive force signal of the electromagnetic actuator is proportional to the relative speed of the vibration isolation table 1 and the apparatus installation base 6 at the position of each active vibration isolation mount, the signal is differentiated to accelerate the physical quantity. When the difference signals of the actuators installed in the respective active vibration isolation mounts and the first vibration detection means 3a, 3b, 3c are extracted in consideration of the geometrical arrangement relationship and the like, the apparatus is installed. The vibration acceleration signal of the foundation 6 can be obtained.

【0066】なお、これ以外の演算処理は、実施形態1
および実施形態2に記載したものと同様に行なえばよ
い。
The arithmetic processing other than this is the same as in the first embodiment.
And it may be performed in the same manner as that described in the second embodiment.

【0067】[0067]

【発明の効果】本発明によれば、装置設置基礎の振動を
検出し、この検出信号から並進および回転の各運動モー
ドの信号を抽出し、この各運動モードの信号に補償を施
し、そしてこの補償信号を分配した信号に基づいて前記
除振台に制御力を加えて除振するようにしたため、装置
設置基礎の並進振動とともに、従来のこの種の能動除振
技術では十分に確保することが困難であった、装置設置
基礎の回転振動の絶縁性能を大幅に向上させ、非常に広
い周波数帯域で装置設置基礎から除振台までの振動伝達
率を0db以下にすることができ、特にヨーイング、ピ
ッチング、ローリングなどの回転振動を嫌う精密機器を
搭載する際の除振に対して、好適に用いることができ
る。
According to the present invention, the vibration of the equipment installation foundation is detected, the signals of the translational and rotational motion modes are extracted from the detected signal, the signals of the respective motion modes are compensated, and Since the control force is applied to the vibration isolation table based on the signal to which the compensation signal is distributed to perform vibration isolation, translational vibration of the equipment installation foundation as well as conventional active vibration isolation technology of this type can be sufficiently secured. It has been possible to significantly improve the insulation performance of the rotary vibration of the equipment installation foundation, which was difficult, and to reduce the vibration transmissibility from the equipment installation foundation to the vibration isolation table to 0 db or less in a very wide frequency band, especially yawing, It can be suitably used for vibration isolation when mounting precision equipment such as pitching and rolling that dislikes rotational vibration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の特徴を最もよく表す能動除振装置の
構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an active vibration isolator that best represents the features of the present invention.

【図2】 図1の装置に適用しうる除振台振動を検出す
るセンサの配置を示す図である。
2 is a diagram showing an arrangement of sensors that detect vibration of a vibration isolation table that can be applied to the apparatus of FIG.

【図3】 図1の装置に適用しうる装置設置基礎振動を
検出するセンサの配置を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an arrangement of sensors for detecting a device installation fundamental vibration that can be applied to the device of FIG.

【図4】 図1の装置に適用しうる能動除振マウントと
それに組み込まれたアクチュエータの配置を示す図であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing an active vibration isolation mount applicable to the apparatus of FIG. 1 and an arrangement of actuators incorporated therein.

【図5】 図1の装置に適用しうる運動モード相互に干
渉項をもたせた補償器を例示する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a compensator having motion mode interference terms that can be applied to the apparatus of FIG. 1;

【図6】 図1の装置の変形例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a modified example of the apparatus of FIG.

【図7】 本発明の第2の実施形態に係る能動除振装置
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing an active vibration isolation device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:除振台、2a,2b,2c,2d:能動除振マウン
ト、3a,3b,3c:第1の振動検出手段、4:除振
台振動運動モード抽出回路、5:除振台振動補償回路、
6:装置設置基礎、7a,7b,7c:第2の振動検出
手段、8:装置設置基礎振動運動モード抽出回路、9:
装置設置基礎振動補償回路、10:推力分配回路、11
a,11b,11c,11d:駆動回路、12a,12
b,12c,12d:アクチュエータ、13a,13
b,13c:変位センサ、14a,14b,14c:装
置設置基礎振動導出手段。
1: Vibration isolation table, 2a, 2b, 2c, 2d: Active vibration isolation mount, 3a, 3b, 3c: First vibration detection means, 4: Vibration isolation table vibration motion mode extraction circuit, 5: Vibration isolation table vibration compensation circuit,
6: device installation foundation, 7a, 7b, 7c: second vibration detecting means, 8: device installation foundation vibration motion mode extraction circuit, 9:
Equipment installation basic vibration compensation circuit, 10: Thrust distribution circuit, 11
a, 11b, 11c, 11d: drive circuits, 12a, 12
b, 12c, 12d: actuators, 13a, 13
b, 13c: displacement sensor, 14a, 14b, 14c: device installation basic vibration deriving means.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−317835(JP,A) 特開 平7−310779(JP,A) 特開 平7−139582(JP,A) 特開 平6−294445(JP,A) 特開 平5−99271(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 F16F 15/00 G12B 5/00 H01L 21/68 G03F 7/20 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-7-317835 (JP, A) JP-A-7-310779 (JP, A) JP-A-7-139582 (JP, A) JP-A-6-294445 (JP , A) JP-A-5-99271 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 F16F 15/00 G12B 5/00 H01L 21/68 G03F 7/20

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 除振台と、前記除振台に力を加える複数
のアクチュエータと、前記除振台を含む装置が設置され
ている基礎の振動を検出する複数の第の振動検出手段
と、前記複数のの振動検出手段の出力信号に基づい
て、前記基礎の回転運動モードの振動信号を抽出し、
記回転運動モードの振動信号に基づいて前記複数のアク
チュエータを制御する制御手段とを備えることを特徴と
する能動除振装置。
1. A vibration isolating table and, before a plurality of actuators applying force to Kijo isolation table, before a plurality of first vibration system comprises detecting the vibration of the foundation that has been installed Kijo vibration table Based on output signals of the detection means and the plurality of first vibration detection means
Te, extracts a vibration signal of the rotational movement mode of the base, before
An active vibration isolation device, comprising: a control unit that controls the plurality of actuators based on a vibration signal in the rotational motion mode .
【請求項2】2. 前記制御手段は、前記複数の振動検出手The control means controls the plurality of vibration detecting hands.
段の出力信号に基づいて、前記基礎の回転運動モードをBased on the output signal of the stage, the rotary motion mode of the foundation is determined.
含む各運動モードの振動信号を抽出し、前記各運動モーThe vibration signal of each motion mode including is extracted, and each motion mode is extracted.
ドの振動信号に基づいて前記複数のアクチュエータを制Control the actuators based on the vibration signal
御することを特徴とする請求項1記載の能動除振装置。The active vibration isolation device according to claim 1, wherein the active vibration isolation device is controlled.
【請求項3】 前記除振台の振動を検出する複数の第2
の振動検出手段を備えるとともに、前記制御手段はさら
に、前記複数のの振動検出手段の出力信号に基づい
、前記除振台の各運動モードの振動信号を抽出し、
各運動モードの振動信号に基づいて前記複数のアクチ
ュエータを制御するものであることを特徴とする請求項
または2記載の能動除振装置。
3. A plurality of second detecting means for detecting vibration of the vibration isolation table.
Together obtain Bei vibration detecting means, said control means further
To, based on an output signal of said plurality of second vibration detection unit
Te, extracts a vibration signal for each motion mode of the anti-vibration table, before
Serial active anti-vibration apparatus according to claim 1 or 2, wherein the one in which the controls a plurality of activator <br/> Yueta based on the vibration signal for each motion mode.
【請求項4】 基準位置に対する前記除振台の変位量を
検出する複数の変位検出手段を備え、前記制御手段はさ
らに、前記複数の変位検出手段の出力信号に基づいて
複数のアクチュエータ制御することを特徴とする請
求項1〜3のいずれか1つに記載の能動除振装置。
4. A plurality of displacement detection means for detecting a displacement amount of the vibration isolation table with respect to a reference position, wherein the control means is provided.
Luo, active anti-vibration apparatus according to any one of claims 1-3, characterized in that for controlling the pre <br/> SL plurality of actuators based on the output signal of the plurality of displacement detection means.
【請求項5】 前記制御手段は、前記複数の変位検出手
の出力信号に基づいて、前記除振台の各運動モードの
変位信号を抽出し、前記各運動モードの変位信号に基づ
いて前記複数のアクチュエータを制御するものであるこ
とを特徴とする請求項記載の能動除振装置。
Wherein said control means based on the output signal of the plurality of displacement detection means to extract a displacement signal of the motion mode of the anti-vibration table, based on the displacement signal of the respective motion modes
Active anti-vibration apparatus according to claim 4, characterized in that for controlling the plurality of actuators are.
【請求項6】 前記複数のアクチュエータは、電磁駆
ニアモータおよび空気圧制御式アクチュエータの少な
くとも一方を含むことを特徴とする請求項1〜5のいず
れか1つに記載の能動除振装置。
Wherein said plurality of actuators, electric磁駆dynamic
Of Li linear motors and pneumatic control actuator small
At least one is included, The one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned.
The active vibration isolation device according to any one of the above.
【請求項7】 前記複数の第1の振動検出手段および
複数の第2の振動検出手段の少なくとも一方は、加速
度センサであることを特徴とする請求項1〜6のいずれ
か1つに記載の能動除振装置。
7. At least one of the plurality of first vibration detection unit and before <br/> SL plurality of second vibration detecting means, any claim 1-6, characterized in that the acceleration sensor
The active vibration isolator according to any one of the above.
【請求項8】 基礎に対して防振支持された除振台の振
動を検出し、この検出信号に補償を施し、この補償信号
に基づく制御力を前記除振台に加えるとともに、前記基
礎の振動を検出し、この検出信号から並進および回転の
運動モードの信号を抽出し、この各運動モード信号に補
償を施し、この補償信号を分配した信号に基づいて制御
力を前記除振台に加えることを特徴とする能動除振方
法。
8. A vibration of an anti-vibration table, which is vibration-isolated with respect to the foundation, is detected, the detected signal is compensated, a control force based on the compensation signal is applied to the anti-vibration table, and Vibration is detected, translational and rotational motion mode signals are extracted from this detection signal, each motion mode signal is compensated, and a control force is applied to the vibration isolation table based on the signal obtained by distributing the compensation signal. An active vibration isolation method characterized by the above.
【請求項9】9. 除振台と前記除振台に力を加える複数のA vibration isolator and a plurality of
アクチュエータとを含む装置が設置されている基礎の振The vibration of the foundation on which the device, including the actuator, is installed
動を検出する複数の第1の振動検出手段の出力信号に基Based on the output signals of the plurality of first vibration detecting means for detecting movement.
づいて、前記基礎の回転運動モードの振動信号を抽出Then, the vibration signal of the rotary motion mode of the foundation is extracted.
し、前記回転運動モードの振動信号に基づいて前記複数Based on the vibration signal of the rotational motion mode,
のアクチュエータを制御することを特徴とする能動除振Vibration isolation characterized by controlling the actuator of the
方法。Method.
【請求項10】10. 前記複数の振動検出手段の出力信号にIn the output signal of the plurality of vibration detection means
基づいて、前記基礎の回転運動モードを含む各運動モーBased on each motion mode including the rotational motion mode of the foundation,
ドの振動信号を抽出し、前記各運動モードの振動信号にThe vibration signal of the motion
基づいて前記複数のアクチュエータを制御することを特Based on controlling the plurality of actuators based on
徴とする請求項9記載の能動除振方法。The active vibration isolation method according to claim 9, which is used as a characteristic.
【請求項11】11. さらに、前記除振台の振動を検出するFurthermore, the vibration of the vibration isolation table is detected.
複数の第2の振動検出手段の出力信号に基づいて、前記Based on the output signals of the plurality of second vibration detection means,
除振台の各運動モードの振動信号を抽出し、前記各運動Extract the vibration signal of each motion mode of the vibration isolation table,
モードの振動信号に基づいて前記複数のアクチュエータThe plurality of actuators based on modal vibration signals
を制御することを特徴とする請求項9または10記載の11. The method according to claim 9 or 10, characterized in that
能動除振方法。Active vibration isolation method.
【請求項12】12. The method according to claim 12, さらに、基準位置に対する前記除振台Furthermore, the vibration isolation table for the reference position
の変位量を検出する複数の変位検出手段の出力信号に基Based on the output signals of a plurality of displacement detection means for detecting the displacement amount of
づいて前記複数のアクチュエータを制御することを特徴Characterized by controlling the plurality of actuators based on
とする請求項9〜11のいずれか1つに記載の能動除振Active vibration isolation according to any one of claims 9 to 11.
方法。Method.
【請求項13】13. 前記複数の変位検出手段の出力信号にThe output signals of the plurality of displacement detection means
基づいて、前記除振台の各運動モードの変位信号を抽出Extraction of displacement signal of each motion mode of the vibration isolation table based on
し、前記各運動モードの変位信号に基づいて前記複数のThen, based on the displacement signal of each of the motion modes,
アクチュエータを制御することを特徴とする請求項1213. An actuator is controlled to control the actuator.
記載の能動除振方法。Active vibration isolation method described.
JP01923896A 1996-01-11 1996-01-11 Active vibration isolation device and active vibration isolation method Expired - Fee Related JP3507234B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01923896A JP3507234B2 (en) 1996-01-11 1996-01-11 Active vibration isolation device and active vibration isolation method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01923896A JP3507234B2 (en) 1996-01-11 1996-01-11 Active vibration isolation device and active vibration isolation method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09190957A JPH09190957A (en) 1997-07-22
JP3507234B2 true JP3507234B2 (en) 2004-03-15

Family

ID=11993822

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01923896A Expired - Fee Related JP3507234B2 (en) 1996-01-11 1996-01-11 Active vibration isolation device and active vibration isolation method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3507234B2 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002227919A (en) * 2001-02-02 2002-08-14 Akashi Corp Vibration eliminator
KR100541740B1 (en) * 2004-02-19 2006-01-11 삼성전자주식회사 Transfer apparatus
JP2006203113A (en) * 2005-01-24 2006-08-03 Nikon Corp Stage device, stage control method, exposure device and method, and device manufacturing method
JP2007100910A (en) * 2005-10-06 2007-04-19 Fujikura Rubber Ltd Vibration-isolating device having function of compensating horizontality
EP2202426A3 (en) * 2008-12-23 2017-05-03 ASML Netherlands B.V. A method for damping an object, an active damping system, and a lithographic apparatus
EP2295829B1 (en) * 2009-09-11 2016-07-13 Integrated Dynamics Engineering Improved active vibration insulation system
JP5442472B2 (en) * 2010-01-28 2014-03-12 倉敷化工株式会社 Active vibration isolator with vibration function
JP5963600B2 (en) 2011-08-09 2016-08-03 キヤノン株式会社 Vibration isolator
JP6198556B2 (en) * 2013-10-09 2017-09-20 倉敷化工株式会社 Active vibration isolator
JP6307101B2 (en) * 2016-02-19 2018-04-04 キヤノン株式会社 Lithographic apparatus and article manufacturing method
JP6864447B2 (en) * 2016-09-06 2021-04-28 キヤノン株式会社 Lithography equipment and manufacturing method of goods

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09190957A (en) 1997-07-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3825869B2 (en) Active vibration isolator
JP3073879B2 (en) Anti-vibration device
US4999534A (en) Active vibration reduction in apparatus with cross-coupling between control axes
US5959427A (en) Method and apparatus for compensating for reaction forces in a stage assembly
JP3507234B2 (en) Active vibration isolation device and active vibration isolation method
JP5557906B2 (en) Active vibration isolation and damping system
US6806606B2 (en) Magnetic bearing device with vibration restraining function, magnetic bearing device with vibration estimating function, and pump device with the magnetic bearing devices mounted thereto
US5750897A (en) Active anti-vibration apparatus and method of manufacturing the same
JP2001271868A (en) Vibration damping device
US5237618A (en) Electronic compensation system for elimination or reduction of inter-channel interference in noise cancellation systems
JP3696928B2 (en) Active vibration isolator and semiconductor exposure apparatus
JP3046696B2 (en) Control device for vertical air spring type anti-vibration table
JP2000120765A (en) Active vibration compensator device
JP2001271871A (en) Active vibration control device
JP2003130128A (en) Active vibration-free apparatus
JP3286186B2 (en) Fine movement positioning control device
JP2886053B2 (en) Active anti-vibration apparatus and control method thereof
JPH10256144A (en) Apparatus for eliminating vibration
JP2003021190A (en) Active vibration resistant device
JP2000136844A (en) Displacement generation type actuator active vibration insulating device
JP2001271870A (en) Active vibration damping device
JP2005315298A (en) Active type vibration isolating device and active type vibration isolating method
JPH1082448A (en) Vibration absorbing device
JP2000136845A (en) Active vibration insulating device and exposure device using it
JPH11141599A (en) Vibration resistant device

Legal Events

Date Code Title Description
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20031218

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131226

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees