JP3503125B2 - Method for producing antibacterial / antifungal agent and antibacterial / antifungal agent - Google Patents

Method for producing antibacterial / antifungal agent and antibacterial / antifungal agent

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JP3503125B2
JP3503125B2 JP13403995A JP13403995A JP3503125B2 JP 3503125 B2 JP3503125 B2 JP 3503125B2 JP 13403995 A JP13403995 A JP 13403995A JP 13403995 A JP13403995 A JP 13403995A JP 3503125 B2 JP3503125 B2 JP 3503125B2
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Katayama Chemical Works Co Ltd
Iwasaki Denki KK
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、たとえば病院内で使用
されるプラスチック製の文房具や壁材等に抗菌性及び抗
黴性を付与する抗菌・抗黴性付与材の製造方法及び抗菌
・抗黴性付与材に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material and an antibacterial / antifungal property-imparting material for imparting antibacterial and antifungal properties to plastic stationery and wall materials used in hospitals The present invention relates to a moldability imparting material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、文房具、日用雑貨品や浴室製品等
については、健康衛生面等を考慮し、黴や細菌等の各種
の微生物が繁殖しないように、抗菌・抗黴処理を施して
いる。特に、抗生物質が多用される病院内では、院内感
染を防止する必要から、抗菌・抗黴性を付与したプラス
チック製の文房具や壁材等の需要が非常に多い。
2. Description of the Related Art In recent years, stationery, daily sundries, bathroom products, etc. have been treated with antibacterial and antifungal treatments in consideration of health and hygiene so that various microorganisms such as molds and bacteria do not propagate. There is. In particular, in hospitals where antibiotics are heavily used, there is a great demand for plastic stationery and wall materials with antibacterial / antifungal properties because of the need to prevent nosocomial infections.

【0003】従来、この種の抗菌・抗黴処理は、基材に
使用される樹脂に抗菌・抗黴剤を練り込むことによって
行われている。かかる練り込みは高温で行われるため、
抗菌・抗黴剤として有機系のものを用いると、それが飛
散して抗菌・抗黴効果が弱くなってしまう。このため、
無機系の抗菌・抗黴剤が練り込みに用いられている。通
常、細菌等の微生物は基材の表面で繁殖するので、抗菌
・抗黴剤は、基材の表面又は表層付近に存在させておけ
ば、十分な抗菌・抗黴効果を発揮する。しかし、練り込
む方法では、表面に露出する抗菌・抗黴剤の量が極わず
かであるので、抗菌・抗黴剤を大量に練り込まないと十
分な抗菌・抗黴効果が得られず、この場合、大部分の抗
菌・抗黴剤が無駄になってしまう。また、抗菌・抗黴剤
を大量に入れると、光などで変色してしまうという問題
もある。
Conventionally, this kind of antibacterial / antifungal treatment has been carried out by kneading an antibacterial / antifungal agent into a resin used as a base material. Since such kneading is performed at high temperature,
When an organic antibacterial / antifungal agent is used, it scatters and the antibacterial / antifungal effect is weakened. For this reason,
Inorganic antibacterial and antifungal agents are used for kneading. Usually, microorganisms such as bacteria propagate on the surface of the base material, so that the antibacterial / antifungal agent exerts a sufficient antibacterial / antifungal effect if it is present on the surface of the base material or near the surface layer. However, in the method of kneading, since the amount of the antibacterial / antifungal agent exposed on the surface is extremely small, a sufficient antibacterial / antifungal effect cannot be obtained unless a large amount of the antibacterial / antifungal agent is kneaded. In that case, most of the antibacterial and antifungal agents are wasted. In addition, when a large amount of antibacterial / antifungal agent is added, there is a problem that the color is changed by light or the like.

【0004】そこで、かかる欠点を解消するために、抗
菌・抗黴性付与材の製造方法として、特開平2−145
625に示されたように、放射線重合性のモノマー及び
/又はオリゴマー(放射線硬化樹脂)に含金属抗菌・抗
黴剤を含有させたものを基材の表面に塗布した後、この
塗布した膜に電子線を照射することにより塗布膜を硬化
させて、基材表面に抗菌・抗黴性を付与する方法が提案
されている。この方法では、含金属抗菌・抗黴剤とし
て、たとえば銀等の抗菌・抗黴性を有する金属をゼオラ
イトに担持させたものを使用している。そして、この含
金属抗菌・抗黴剤は、十分な抗菌・抗黴効果を得るため
に、放射線重合性のモノマー及び/又はオリゴマーに
1.5wt%以上添加される。
Therefore, in order to solve the above drawbacks, a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material is disclosed in JP-A-2-145.
As shown in 625, a radiation-polymerizable monomer and / or oligomer (radiation-curable resin) containing a metal-containing antibacterial / antifungal agent is applied to the surface of a substrate, and then the applied film is applied. A method has been proposed in which the coating film is cured by irradiating with an electron beam to impart antibacterial and antifungal properties to the surface of the base material. In this method, as the metal-containing antibacterial / antifungal agent, for example, a material in which a metal having antibacterial / antifungal properties such as silver is supported on zeolite is used. The metal-containing antibacterial / antifungal agent is added to the radiation-polymerizable monomer and / or oligomer in an amount of 1.5 wt% or more in order to obtain a sufficient antibacterial / antifungal effect.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
抗菌・抗黴性付与材の製造方法では、無機金属系の抗菌
・抗黴剤を用いているので、電子線を照射して塗布膜を
硬化させたときに、抗菌・抗黴剤の含有量によっては透
明性が悪くなることがある。また、抗菌・抗黴剤は金属
を含むので、空気中に曝露したとき、金属と反応しやす
い物質、たとえば銀であればハロゲンや硫化物等と反応
することがあり、かかる反応が起こると、抗菌力及び抗
黴力がなくなってしまうし、耐光性が悪い。さらに、こ
の方法で抗菌・抗黴性を付与した製品を燃焼して廃棄す
る場合には残渣が残るという問題もある。そこで、かか
る問題点を除去するために抗菌・抗黴剤として無機金属
系のものを用いる必要がなく、しかも抗菌・抗黴剤を無
駄なく有効に使用することができる抗菌・抗黴性付与材
の製造方法の実現が望まれている。
However, in the method for producing such an antibacterial / antifungal property-imparting material, since an inorganic metal antibacterial / antifungal agent is used, the coating film is cured by irradiation with an electron beam. However, depending on the content of the antibacterial / antifungal agent, the transparency may deteriorate. Further, since the antibacterial / antifungal agent contains a metal, when exposed to the air, a substance that easily reacts with the metal, such as silver, may react with halogen or sulfide, and when such a reaction occurs, Antibacterial and antifungal properties are lost, and light resistance is poor. Further, when a product provided with antibacterial and antifungal properties is burned and discarded by this method, there is a problem that a residue remains. Therefore, in order to eliminate such problems, it is not necessary to use an inorganic metal-based antibacterial / antifungal agent, and the antibacterial / antifungal agent can be effectively used without waste. Is desired to be realized.

【0006】また、特開平7−33892において、有
機系抗菌剤として、有機スズ化合物やクロルヘキシジン
系等のものを用いることが記載されている。しかし、有
機スズ化合物は毒性や臭気が強く、一方、クロルヘキシ
ジンは光により分解しやすいため、これらの化合物を抗
菌剤として用いることは望ましくない。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 7-33892 describes the use of an organic tin compound, a chlorhexidine compound or the like as an organic antibacterial agent. However, since organotin compounds have strong toxicity and odor, while chlorhexidine is easily decomposed by light, it is not desirable to use these compounds as antibacterial agents.

【0007】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、抗菌・抗黴剤として無機金属系のものを用いる
必要がなく、しかも抗菌・抗黴剤を無駄なく有効に使用
することができ、さらに毒性や臭気が少なく、光により
分解しにくい抗菌・抗黴剤を用いた抗菌・抗黴性付与材
の製造方法及び抗菌・抗黴性付与材を提供することを目
的とするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and it is not necessary to use an inorganic metal-based antibacterial / antifungal agent, and the antibacterial / antifungal agent can be effectively used without waste. Further, it is intended to provide a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material and an antibacterial / antifungal property-imparting material using an antibacterial / antifungal agent having less toxicity and odor and being hard to decompose by light. .

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの請求項1記載の発明に係る抗菌・抗黴性付与材の製
造方法は、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメ
ート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′−
(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのうち
少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤を放射線硬化樹脂に
含有させたコーティング剤を基材上に塗布した後、前記
コーティング剤の表面に放射線を照射して前記コーティ
ング剤の硬化被膜を形成することにより前記基材に抗菌
性及び抗黴性を付与することを特徴とするものである。
A method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the invention of claim 1 for achieving the above object is a 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N. -Dimethyl-N'-phenyl-N'-
A coating agent containing a radiation-curable resin containing an antibacterial / antifungal agent containing at least one of (fluorodichloromethylthio) -sulfamide is applied on a substrate, and then the surface of the coating agent is irradiated with radiation to perform the coating. It is characterized by imparting antibacterial and antifungal properties to the substrate by forming a cured film of the agent.

【0009】請求項2記載の発明に係る抗菌・抗黴性付
与材の製造方法は、請求項1記載の発明において、前記
抗菌・抗黴剤を前記放射線硬化樹脂に100〜2000
ppm添加したことを特徴とするものである。
A method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to a second aspect of the present invention is the method according to the first aspect, wherein the antibacterial / antifungal agent is added to the radiation curable resin in an amount of 100 to 2000.
It is characterized by the addition of ppm.

【0010】請求項3記載の発明に係る抗菌・抗黴性付
与材の製造方法は、3−ヨード−2−プロピニルブチル
カーバメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−
N′−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミド
のうち少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤と、光重合開
始剤とを紫外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤を
基材上に塗布した後、前記コーティング剤の表面に紫外
線を照射して前記コーティング剤の硬化被膜を形成する
ことにより前記基材に抗菌性及び抗黴性を付与すること
を特徴とするものである。
The method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the third aspect of the present invention is 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-.
An antibacterial / antifungal agent containing at least one of N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide, and a photopolymerization initiator are coated on a base material, and then the coating agent is applied. The surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays to form a cured coating film of the coating agent, thereby imparting antibacterial and antifungal properties to the substrate.

【0011】請求項4記載の発明に係る抗菌・抗黴性付
与材は、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメー
ト及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのうち少な
くとも一方を含む抗菌・抗黴剤を放射線硬化樹脂に含有
させたコーティング剤を基材上に塗布した後、前記コー
ティング剤の表面に放射線を照射して前記コーティング
剤の硬化被膜を形成したことを特徴とするものである。
The antibacterial / antifungal property-imparting material according to the invention of claim 4 is 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio)-. A coating agent containing an antibacterial / antifungal agent containing at least one of sulfamides in a radiation curable resin is applied on a substrate, and then the surface of the coating agent is irradiated with radiation to form a cured coating film of the coating agent. It is characterized by having done.

【0012】請求項5記載の発明に係る抗菌・抗黴性付
与材は、請求項4記載の発明において、前記抗菌・抗黴
剤を前記放射線硬化樹脂に100〜2000ppm添加
したことを特徴とするものである。
An antibacterial / antifungal property-imparting material according to the invention of claim 5 is characterized in that, in the invention of claim 4, 100 to 2000 ppm of the antibacterial / antifungal agent is added to the radiation curable resin. It is a thing.

【0013】請求項6記載の発明に係る抗菌・抗黴性付
与材は、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメー
ト及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのうち少な
くとも一方を含む抗菌・抗黴剤と、光重合開始剤とを紫
外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤を基材上に塗
布した後、前記コーティング剤の表面に紫外線を照射し
て前記コーティング剤の硬化被膜を形成したことを特徴
とするものである。
The antibacterial / antifungal property-imparting material according to the invention of claim 6 is 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio)-. An antibacterial / antifungal agent containing at least one of sulfamides, and a coating agent containing a photopolymerization initiator in an ultraviolet curable resin are applied on a substrate, and then the surface of the coating agent is irradiated with ultraviolet rays to form a coating solution. It is characterized in that a cured film of a coating agent is formed.

【0014】[0014]

【作用】請求項1記載の発明は前記の構成によって、抗
菌・抗黴剤として3−ヨード−2−プロピニルブチルカ
ーバメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−
N′−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミド
のうち少なくとも一方を含むものを使用し、抗菌・抗黴
剤を放射線硬化樹脂に含有させたコーティング剤を、た
とえば基材フィルムの表面に塗布した後、放射線をコー
ティング剤の表面に照射して、コーティング剤の硬化被
膜を形成することにより、基材フィルムに十分な抗菌性
及び抗黴性を持たせることができる。特に、本発明者等
は、かかる方法で処理した基材フィルムが、抗菌力・抗
黴力というよりも、殺菌力・殺黴力を持つことを確認し
た。また、抗菌・抗黴剤の添加量は微量でよいので、無
駄なく使用することができ、コスト低下を図ることがで
きると共に、コーティング剤の透明度はそれ程低下しな
い。さらに、抗菌・抗黴剤には金属が含まれていないの
で、空気中に曝露したときに空気中の物質の影響を受け
にくくなり、しかも、燃焼して廃棄する場合に残渣がほ
とんど残らず、燃焼処理が容易になるという利点があ
る。
The invention according to claim 1 has the above-mentioned constitution and serves as an antibacterial and antifungal agent, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-.
A coating agent containing N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide containing at least one of N'-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide is used. By irradiating the surface of the coating agent with the coating agent to form a cured coating film of the coating agent, the base film can have sufficient antibacterial and antifungal properties. In particular, the present inventors have confirmed that the base material film treated by such a method has a bactericidal / mold-killing power rather than an antibacterial / mold-proof property. Further, since the addition amount of the antibacterial / antifungal agent may be very small, it can be used without waste, the cost can be reduced, and the transparency of the coating agent does not decrease so much. Furthermore, since the antibacterial / antifungal agent contains no metal, it is less susceptible to the substances in the air when exposed to the air, and when burned for disposal, almost no residue remains. There is an advantage that the burning process becomes easy.

【0015】請求項3記載の発明は前記の構成によっ
て、抗菌・抗黴剤として3−ヨード−2−プロピニルブ
チルカーバメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニ
ル−N′−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファ
ミドのうち少なくとも一方を含むものを使用し、抗菌・
抗黴剤及び光重合開始剤を紫外線硬化樹脂に含有させた
コーティング剤を、たとえば基材フィルムの表面に塗布
した後、紫外線をコーティング剤の表面に照射して、コ
ーティング剤の硬化被膜を形成することにより、基材フ
ィルムに十分な抗菌性及び抗黴性を持たせることができ
る。特に、本発明者等は、かかる方法で処理した基材フ
ィルムが、抗菌力・抗黴力というよりも、殺菌力・殺黴
力を持つことを確認した。また、抗菌・抗黴剤の添加量
は微量でよいので、無駄なく使用することができ、コス
ト低下を図ることができると共に、コーティング剤の透
明度はそれ程低下しない。さらに、抗菌・抗黴剤には金
属が含まれていないので、空気中に曝露したときに空気
中の物質の影響を受けにくくなり、しかも、燃焼して廃
棄する場合に残渣がほとんど残らず、燃焼処理が容易に
なるという利点がある。
According to the third aspect of the present invention, by the above-mentioned constitution, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio) are used as antibacterial and antifungal agents. -Use sulfamide containing at least one of
A coating agent containing an antifungal agent and a photopolymerization initiator in an ultraviolet curable resin is applied to, for example, the surface of a base film, and then the surface of the coating agent is irradiated with ultraviolet rays to form a cured coating film of the coating agent. As a result, the base film can have sufficient antibacterial and antifungal properties. In particular, the present inventors have confirmed that the base material film treated by such a method has a bactericidal / mold-killing power rather than an antibacterial / mold-proof property. Further, since the addition amount of the antibacterial / antifungal agent may be very small, it can be used without waste, the cost can be reduced, and the transparency of the coating agent does not decrease so much. Furthermore, since the antibacterial / antifungal agent contains no metal, it is less susceptible to the substances in the air when exposed to the air, and when burned for disposal, almost no residue remains. There is an advantage that the burning process becomes easy.

【0016】[0016]

【実施例】以下に、本発明の第一実施例について図面を
参照して説明する。図1は本発明の第一実施例である抗
菌・抗黴性付与材の製造方法を説明するための図、図2
はその抗菌・抗黴性付与材の製造方法に使用する電子線
照射装置の概略構成図、図3はその電子線照射装置の電
子線発生部の概略回路図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram for explaining a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the first embodiment of the present invention, FIG.
Is a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus used in the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material, and FIG. 3 is a schematic circuit diagram of an electron beam generation unit of the electron beam irradiation apparatus.

【0017】第一実施例では、抗菌・抗黴性を付与する
基材が高分子フィルム(以下、基材フィルムとも称す
る。)である場合について考える。かかる高分子フィル
ムには、たとえばポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレン、ポリエステル等が使用される。基
材の高分子フィルムの膜厚は、利用する製品に応じて適
宜選択することができるが、5μm〜300μmの範囲
とするのが好ましく、特に、ポリエチレン、ポリ塩化ビ
ニル等のように軟質なものを用いる場合には、50μm
〜200μmの範囲とするのが望ましい。
In the first embodiment, the case where the base material imparting antibacterial / antifungal properties is a polymer film (hereinafter also referred to as a base material film) will be considered. For such a polymer film, for example, polymethylmethacrylate, polycarbonate, polystyrene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene, polyester, etc. are used. The thickness of the polymer film of the base material can be appropriately selected according to the product to be used, but is preferably in the range of 5 μm to 300 μm, and particularly soft such as polyethylene and polyvinyl chloride. 50 μm when using
It is desirable to be in the range of up to 200 μm.

【0018】第一実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方
法では、放射線硬化樹脂の中に有機ハロゲン系の抗菌・
抗黴剤を含有させたものを、基材フィルムの表面に塗布
するコーティング剤として使用する。放射線硬化樹脂の
主要成分は、アクリル系オリゴマーとアクリル系モノマ
ーである。代表的なオリゴマーとしては、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート等を挙げることができる。オリゴマーは、粘度が
高いため、その使用に当たっては適当な希釈剤を選択す
ることが重要である。この希釈剤の役割を果たすのがモ
ノマーである。モノマーの種類としては、単官能のモノ
マーと多官能のモノマーとがある。前者の目的は粘度の
低下や接着性の向上等であり、一方、後者は硬化性を向
上したり、硬度などの特性を得るために使用される。
In the method of manufacturing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the first embodiment, the organic halogen-based antibacterial / antibacterial
A material containing an antifungal agent is used as a coating agent applied to the surface of the base film. The main components of the radiation curable resin are an acrylic oligomer and an acrylic monomer. Representative oligomers include epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate and the like. Because of the high viscosity of oligomers, it is important to select a suitable diluent for its use. The monomer plays the role of this diluent. The types of monomers include monofunctional monomers and polyfunctional monomers. The purpose of the former is to reduce the viscosity and improve the adhesiveness, while the latter is used to improve the curability and obtain properties such as hardness.

【0019】また、有機ハロゲン系の抗菌・抗黴剤とし
ては、有機ヨウ素系又は有機塩素系等のものであって、
放射線硬化樹脂との相溶性が極めて良好なものが用いら
れる。そして、放射線が照射されても抗菌性及び抗黴性
を保持できるものが用いられる。具体的には、抗菌・抗
黴剤として、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバ
メート(IC≡CCH2 OCONHC4 9 )を用い
る。この抗菌・抗黴剤は、放射線硬化樹脂に500pp
m程度添加される。このように、第一実施例では、抗菌
・抗黴剤の添加量が、従来の含金属抗菌・抗黴剤を用い
た方法に比べて、30分の1以下と非常に少なくて済む
という利点がある。一般に、抗菌・抗黴剤の添加量は、
100ppm〜2000ppmの範囲とするのが好まし
く、特に300ppm〜1000ppmの範囲とするの
が望ましい。尚、この有機ハロゲン系の抗菌・抗黴剤に
は、金属が含まれていない。
The organic halogen-based antibacterial / antifungal agents include organic iodine-based or organic chlorine-based agents,
Those having extremely good compatibility with the radiation curable resin are used. A material that can maintain antibacterial properties and antifungal properties even when irradiated with radiation is used. Specifically, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate (IC≡CCH 2 OCONHC 4 H 9 ) is used as an antibacterial / antifungal agent. This antibacterial / antifungal agent has a radiation curing resin content of 500pp
m is added. As described above, in the first embodiment, the added amount of the antibacterial / antifungal agent is 1/30 or less as compared with the conventional method using the metal-containing antibacterial / antifungal agent. There is. Generally, the amount of antibacterial / antifungal agent added is
The range of 100 ppm to 2000 ppm is preferable, and the range of 300 ppm to 1000 ppm is particularly desirable. The organic halogen-based antibacterial / antifungal agent contains no metal.

【0020】第一実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方
法では、まず、図1(a)に示すように、放射線硬化樹
脂12と有機ハロゲン系の抗菌・抗黴剤16を混合した
コーティング剤10を、基材フィルム2の表面に塗布す
る。ここで、図1では、抗菌・抗黴剤16が放射線硬化
樹脂12の中に固形物として存在しているように描かれ
ているが、実際には、抗菌・抗黴剤16は放射線硬化樹
脂12の中によく溶け込んでいる。また、コーティング
剤10を塗布する方法としては、たとえばグラビアコー
ティング法、メイアーロッド法、カーテンコート法等を
用いることができる。
In the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the first embodiment, first, as shown in FIG. 1 (a), a radiation curable resin 12 and an organic halogen antibacterial / antifungal agent 16 are mixed. The coating agent 10 is applied to the surface of the base film 2. Here, in FIG. 1, the antibacterial / antifungal agent 16 is illustrated as being present as a solid in the radiation curable resin 12, but in reality, the antibacterial / antifungal agent 16 is a radiation curable resin. It blends well in 12. As a method of applying the coating agent 10, for example, a gravure coating method, a Meyer rod method, a curtain coating method, or the like can be used.

【0021】次に、図1(b)に示すように、基材フィ
ルム2に塗布したコーティング剤10の表面に電子線を
照射する。すると、ラジカルが生成され、これにより、
モノマー及び/又はオリゴマーの重合反応や架橋反応が
起こって重合体が形成される。その結果、コーティング
剤10の硬化被膜が得られる。ここで、塗布したコーテ
ィング剤10の硬化被膜の膜厚は、1μm〜50μmの
範囲とすることが好ましい。特に、その硬化被膜の膜厚
の下限は、表面耐久性を確保する等のために、2μmと
することが望ましく、一方、その硬化膜厚の上限は、硬
化被膜によって基材フィルム2に大きな反りが生じるの
を防止するために、20μmとすることが望ましい。ま
た、コーティング剤10の表面に照射する電子線の線量
は、10kGy〜150kGyの範囲とすることが好ま
しく、特に20kGy〜100kGyの範囲とすること
が望ましい。上記のようにして、第一実施例の抗菌・抗
黴性付与材の製造方法が終了し、基材フィルム2に抗菌
性及び抗黴性が付与される。
Next, as shown in FIG. 1B, the surface of the coating agent 10 applied to the base film 2 is irradiated with an electron beam. Then, radicals are generated, which causes
Polymerization or crosslinking reaction of the monomers and / or oligomers occurs to form a polymer. As a result, a cured film of the coating agent 10 is obtained. Here, the thickness of the cured coating film of the coating agent 10 applied is preferably in the range of 1 μm to 50 μm. In particular, the lower limit of the film thickness of the cured film is preferably 2 μm in order to ensure the surface durability and the like, while the upper limit of the cured film thickness is a large warp of the base film 2 due to the cured film. It is desirable that the thickness be 20 μm in order to prevent the occurrence of The dose of the electron beam with which the surface of the coating agent 10 is irradiated is preferably in the range of 10 kGy to 150 kGy, and particularly preferably in the range of 20 kGy to 100 kGy. As described above, the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the first example is completed, and the base film 2 is provided with antibacterial property and antifungal property.

【0022】ここで、第一実施例の方法で使用する電子
線照射装置について説明する。かかる電子線照射装置
は、被処理物の表面における重合や架橋処理に使用され
るものであり、図2に示すように、電子線発生部50
と、照射室60と、照射窓部70とを備えるものであ
る。
Now, the electron beam irradiation apparatus used in the method of the first embodiment will be described. Such an electron beam irradiation apparatus is used for polymerization or crosslinking treatment on the surface of the object to be treated, and as shown in FIG.
The irradiation chamber 60 and the irradiation window 70 are provided.

【0023】電子線発生部50は、電子線を発生するタ
ーミナル52と、ターミナル52で発生した電子線を真
空空間(加速空間)で加速する加速管54とを有するも
のである。また、電子線発生部50の内部は、電子が気
体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐため、及
びフィラメント52aの酸化を防止するため、図示しな
いポンプ等により1.3×10-4〜1.3×10-5Pa
の真空に保たれている。ターミナル52は、熱電子を放
出する線状のフィラメント52aと、フィラメント52
aを支持するガン構造体52bと、フィラメント52a
で発生した熱電子をコントロールするグリッド52cと
を有する。
The electron beam generator 50 has a terminal 52 for generating an electron beam and an accelerating tube 54 for accelerating the electron beam generated at the terminal 52 in a vacuum space (acceleration space). In order to prevent the electrons from colliding with the gas molecules to lose energy and to prevent the filament 52a from being oxidized, the inside of the electron beam generating unit 50 is 1.3 × 10 −4 by a pump or the like not shown. 1.3 x 10 -5 Pa
Maintained in a vacuum. The terminal 52 includes a linear filament 52a that emits thermoelectrons and a filament 52a.
gun structure 52b supporting a and filament 52a
And a grid 52c for controlling the thermoelectrons generated in.

【0024】また、図3に示すように、電子線発生部5
0には、フィラメント52aを加熱して熱電子を発生さ
せるための加熱用電源56aと、フィラメント52aと
グリッド52cとの間に電圧を印加する制御用直流電源
56bと、グリッド52cと照射窓部70に設けられた
窓箔72との間に電圧(加速電圧)を印加する加速用直
流電源56cとが設けられている。
Further, as shown in FIG. 3, the electron beam generator 5
0 is a heating power source 56a for heating the filament 52a to generate thermoelectrons, a control DC power source 56b for applying a voltage between the filament 52a and the grid 52c, a grid 52c and an irradiation window portion 70. A DC power source 56c for acceleration that applies a voltage (acceleration voltage) is provided between the window foil 72 and the window foil 72.

【0025】照射室60は、被処理物に電子線を照射す
る照射空間62を含むものである。また、被処理物は照
射室60内をローラ等を用いた搬送手段(不図示)によ
り、図2において左側から右側に移動する。尚、電子線
発生部50及び照射室60の周囲は電子線照射時に二次
的に発生するX線が外部へ漏出しないように、鉛遮蔽が
施されている。
The irradiation chamber 60 includes an irradiation space 62 for irradiating the object to be processed with an electron beam. Further, the object to be processed is moved in the irradiation chamber 60 from the left side to the right side in FIG. 2 by a conveying means (not shown) using rollers or the like. The periphery of the electron beam generator 50 and the irradiation chamber 60 is lead-shielded so that X-rays that are secondarily generated during electron beam irradiation do not leak outside.

【0026】照射窓部70は、金属箔からなる窓箔72
と、窓箔72を冷却すると共に窓箔72を支持する窓枠
構造体74とを有するものである。窓箔72は、電子線
発生部50内の真空雰囲気と照射室60内の照射雰囲気
とを仕切るものであり、また窓箔72を介して照射室6
0内に電子線を取り出すものである。窓箔72に使用さ
れる金属としては、厚さ約10μm程度のTi箔が最も
よく使用されている。
The irradiation window portion 70 is a window foil 72 made of metal foil.
And a window frame structure 74 that supports the window foil 72 while cooling the window foil 72. The window foil 72 separates the vacuum atmosphere in the electron beam generating unit 50 from the irradiation atmosphere in the irradiation chamber 60, and the irradiation chamber 6 is separated by the window foil 72.
The electron beam is taken out within 0. As the metal used for the window foil 72, Ti foil having a thickness of about 10 μm is most often used.

【0027】加熱用電源56aによりフィラメント52
aに電流を通じて加熱するとフィラメント52aは熱電
子を放出し、この熱電子は、フィラメント52aとグリ
ッド52cとの間に印加された制御用直流電源56bの
制御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、
グリッド52cを通過したものだけが電子線として有効
に取り出される。そして、このグリッド52cから取り
出された電子線は、グリッド52cと窓箔72との間に
印加された加速用直流電源56cの加速電圧により加速
管54内の加速空間で加速された後、窓箔72を突き抜
け、照射窓部70の下方の照射室60内を搬送される被
照射物に照射される。尚、通常は、加熱用電源56aと
加速用直流電源56cとを所定の値に設定し、制御用直
流電源56bを可変にすることにより、ビーム電流の調
整を行っている。一般に、電子線照射装置では、被処理
物が吸収する線量はビーム電流に比例する。このため、
ビーム電流を変えることにより、電子線の吸収線量を調
整することができる。
The filament 52 is heated by the heating power source 56a.
When the filament 52a is heated by applying a current to a, the filament 52a emits thermoelectrons, and the thermoelectrons are attracted in all directions by the control voltage of the control DC power supply 56b applied between the filament 52a and the grid 52c. this house,
Only those that have passed through the grid 52c are effectively taken out as electron beams. The electron beam extracted from the grid 52c is accelerated in the acceleration space in the accelerating tube 54 by the acceleration voltage of the accelerating DC power supply 56c applied between the grid 52c and the window foil 72, and then the window foil. The object to be irradiated is irradiated through the irradiation chamber 60 below the irradiation window 70 through the irradiation chamber 72. The beam current is usually adjusted by setting the heating power supply 56a and the acceleration DC power supply 56c to predetermined values and making the control DC power supply 56b variable. Generally, in the electron beam irradiation apparatus, the dose absorbed by the object to be processed is proportional to the beam current. For this reason,
The absorbed dose of the electron beam can be adjusted by changing the beam current.

【0028】このような電子線照射装置を第一実施例の
抗菌・抗黴性付与材の製造方法に使用する場合には、一
般に、加速電圧を100kV〜500kVの範囲内の値
に設定することが好ましい。特に、基材フィルム2に用
いる高分子フィルムが、ポリカーボネートやポリプロピ
レン等のように電子線により劣化しやすいものである場
合には、加速電圧を100kV〜250kVの範囲内の
値に設定することが望ましい。また、第一実施例のよう
に、表面処理を行う場合には、被処理物の周囲に多量の
酸素が存在すると、電子線を照射することで生成された
ラジカルが酸素と反応してしまい、ラジカル重合反応が
阻害される。このため、照射室60内の照射雰囲気を窒
素雰囲気としている。具体的には照射雰囲気の酸素濃度
を1000ppm以下とするのが好ましく、特に500
ppm以下にするのが望ましい。
When such an electron beam irradiation apparatus is used in the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the first embodiment, generally, the acceleration voltage is set to a value within the range of 100 kV to 500 kV. Is preferred. In particular, when the polymer film used as the base film 2 is one that is easily deteriorated by an electron beam such as polycarbonate or polypropylene, it is desirable to set the acceleration voltage to a value within the range of 100 kV to 250 kV. . Further, as in the first embodiment, when a surface treatment is performed, if a large amount of oxygen exists around the object to be treated, the radicals generated by irradiating the electron beam react with oxygen, The radical polymerization reaction is hindered. Therefore, the irradiation atmosphere in the irradiation chamber 60 is a nitrogen atmosphere. Specifically, the oxygen concentration in the irradiation atmosphere is preferably 1000 ppm or less, and particularly 500
It is desirable to set it to ppm or less.

【0029】次に、本発明者等は、第一実施例の抗菌・
抗黴性付与材の製造方法による処理を施した基材フィル
ムについて、抗菌効果を確認する試験と防黴効果を確認
する試験を行った。
Next, the inventors of the present invention carried out the antibacterial
A test for confirming the antibacterial effect and a test for confirming the antifungal effect were performed on the base film treated by the method for producing the antifungal property-imparting material.

【0030】これらの試験では、基材フィルムとして、
東レ(株)製のルミラ(登録商標)(ポリエステルフィ
ルム(PET))を使用した。この基材フィルムの厚さ
は100μmである。また、コーティング剤として、次
の三種類のものを混合して使用した。すなわち、オリゴ
マーとしてのエポキシジアクリレート(PEDA)と、
モノマーとしてのヒドロキシエチルアクリレート(HE
A)と、抗菌・抗黴剤としての3−ヨード−2−プロピ
ニルブチルカーバメート(IC≡CCH2 OCONHC
4 9 )とを混合したものを用いた。ここで、抗菌・抗
黴剤を、オリゴマー30mol%とモノマー70mol
%の混合物(放射線硬化樹脂)に対して500ppmの
濃度になるように添加した。次に、このコーティング剤
を基材フィルムにメイヤーバーコータで、厚さが5μm
になるように塗布した。その後、電子線照射装置の加速
電圧を165kVに、照射室20内の照射雰囲気を酸素
濃度が300ppm以下であるように設定し、塗布した
コーティング剤の表面に電子線を50kGyの線量で照
射することにより、コーティング剤の硬化被膜を形成し
た。尚、電子線照射装置として、岩崎電気(株)製CB
250/15/180Lを使用した。
In these tests, as the base film,
Lumira (registered trademark) (polyester film (PET)) manufactured by Toray Industries, Inc. was used. The base film has a thickness of 100 μm. The following three types of coating agents were mixed and used. That is, epoxy diacrylate (PEDA) as an oligomer,
Hydroxyethyl acrylate as monomer (HE
A) and 3-iodo-2-propynylbutyl carbamate (IC≡CCH 2 OCONHC) as an antibacterial / antifungal agent
4 H 9 ) was used as a mixture. Here, the antibacterial / antifungal agent is composed of 30 mol% of oligomer and 70 mol of monomer.
% Mixture (radiation curable resin) to a concentration of 500 ppm. Next, this coating agent is applied to a base film with a Mayer bar coater to a thickness of 5 μm.
Was applied. After that, the acceleration voltage of the electron beam irradiation device is set to 165 kV, the irradiation atmosphere in the irradiation chamber 20 is set so that the oxygen concentration is 300 ppm or less, and the surface of the applied coating agent is irradiated with an electron beam at a dose of 50 kGy. By this, a cured coating film of the coating agent was formed. As an electron beam irradiation device, CB manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.
250/15 / 180L was used.

【0031】最初に、こうして得られた基材フィルムに
ついて防黴効果を確認する試験を行った。この防黴試験
は、旧ソ連邦国家規格GOST−9049−75の試験
に準拠して行った。ここで、試験黴としては、 ・Aspergillus niger ・Penicillium citrinum ・Alternaria sp. ・Chaetomium globosum ・Cladosporium cladosporioides の五種類の菌種を使用した。まず、上記の処理を行った
基材フィルムを5cm×5cm角に切ったフィルム試験
片A1 と、かかる処理を行っていない基材フィルムを5
cm×5cm角に切ったフィルム試験片B1 とを作製し
た。そして、フィルム試験片A1 ,B1 をそれぞれGO
ST寒天培地に置いた。次に、上記五種類の試験菌種を
混合して得られた混合胞子懸濁液を、培地とフィルム試
験片A1 ,B1 との面に1ml散布し、容器に蓋をして
温度27℃で培養した。そして、各フィルム試験片
1 ,B1 をこのまま放置し、フィルム試験片A1 ,B
1 上の発黴の状態を観察した。この試験結果を図4に示
す。ここで、各フィルム試験片A 1 ,B1 に対しそれぞ
れ三個のサンプルを作製して試験を行ったが、すべて同
一の結果が得られた。図4から、第一実施例の方法によ
る処理を行わなかったフィルム試験片B1 では、放置後
7日目にはまだ黴の発育が認められなかったが、14日
目には黴が発育し、全体面積の三分の一以下を覆ってし
まった。そして、21日目には黴の発育が全体面積の三
分の一を超え、三分の二以下となり、28日目には黴の
発育が全体面積の三分の二を超えてしまった。一方、第
一実施例の方法による処理を行ったフィルム試験片A1
では、放置後28日目でも黴の発育が認められなかっ
た。したがって、第一実施例の方法で処理された基材フ
ィルムは、十分な防黴効果を有することが確認された。
First, the base film thus obtained is
Then, a test was conducted to confirm the antifungal effect. This mildew test
Is a test of the former Soviet Union national standard GOST-9049-75.
It was done according to. Here, as the test mold, ・ Aspergillus niger ・ Penicillium citrinum ・ Alternaria sp. ・ Chaetomium globosum ・ Cladosporium cladosporioides 5 kinds of bacterial strains were used. First, the above processing was performed
Film test with base film cut into 5 cm x 5 cm square
Piece A1And the base film that has not been subjected to such treatment
cm × 5 cm square film test piece B1And make
It was And the film test piece A1, B1GO respectively
Placed on ST agar. Next, add the above 5 test strains
The mixed spore suspension obtained by mixing is used as a medium and film sample.
Specimen A1, B1Sprinkle 1 ml on the side of and cover the container with a lid.
Culture was performed at a temperature of 27 ° C. And each film test piece
A1, B1The film test piece A1, B
1The state of the above mold was observed. The test results are shown in Figure 4.
You Here, each film test piece A 1, B1Against that
Three samples were prepared and tested, but all were the same.
One result was obtained. From FIG. 4, according to the method of the first embodiment,
Film test piece B not treated1Then, after leaving
On the 7th day, mold development was not observed yet, but on the 14th day
Mold grows on the eyes and covers less than one third of the total area.
wait. And on the 21st day, the growth of mold is 3% of the total area.
Over one-third, less than two-thirds, and on the 28th day
Growth has exceeded two-thirds of the total area. On the other hand, the
Film test piece A treated by the method of one embodiment1
Then, mold growth was not recognized even on the 28th day after leaving it.
It was Therefore, the substrate substrate treated by the method of the first embodiment is
It was confirmed that the film has a sufficient antifungal effect.

【0032】また、本発明者等は、3−ヨード−2−プ
ロピニルブチルカーバメートに代えて、銀イオン含有ゼ
オライトを抗菌・抗黴剤として用い、上記と同様にして
処理した基材フィルムについても同様に防黴試験を行っ
た。この試験結果を図4の下段に示す。ここでは、三種
類のフィルム試験片Cを作製した。すなわち、放射線硬
化樹脂に対する銀イオン含有ゼオライトの添加量が1.
0wt%であるものと、銀イオン含有ゼオライトの添加
量が1.5wt%であるものと、銀イオン含有ゼオライ
トの添加量が2.0wt%であるものの三種類である。
図4に示したように、銀イオン含有ゼオライトを2.0
wt%添加した場合でも、放置後二週間経過すると、黴
の発育が認められた。したがって、第一実施例の方法で
は、従来の銀イオン含有ゼオライトを用いた方法に比べ
て、抗菌・抗黴剤の添加量が非常に少ないが、第一実施
例の方法で処理された基材フィルムは、従来の銀イオン
含有ゼオライトを用いた方法で処理されたものに比べ
て、抗黴性の点で優れていることがわかる。
The present inventors also used a substrate film treated in the same manner as above, using silver ion-containing zeolite as an antibacterial / antifungal agent instead of 3-iodo-2-propynylbutyl carbamate. An antifungal test was conducted on. The test results are shown in the lower part of FIG. Here, three types of film test pieces C were produced. That is, the amount of the silver ion-containing zeolite added to the radiation curable resin was 1.
There are three types, one is 0 wt%, the addition amount of silver ion-containing zeolite is 1.5 wt%, and the addition amount of silver ion-containing zeolite is 2.0 wt%.
As shown in FIG.
Even after addition of wt%, mold growth was observed after 2 weeks of standing. Therefore, in the method of the first example, the amount of the antibacterial / antifungal agent added is very small compared to the method using the conventional silver ion-containing zeolite, but the substrate treated by the method of the first example It can be seen that the film is superior in antifungal property as compared with the film treated by the method using the conventional silver ion-containing zeolite.

【0033】次に、上記の方法による処理を行った基材
フィルムについて抗菌効果を確認する試験を行った。こ
こで、試験菌種としては、 ・Staphylococcus aureus (黄色ブドウ球菌) ・Pseudomonas aeruginosa(緑膿菌) ・Escherichia coli(大腸菌) の三種類のものを使用した。まず、上記の方法による処
理を行った基材フィルムを用いて作製したフィルム試験
片A2 と、かかる処理を行っていない基材フィルムを用
いて作製したフィルム試験片B2 とを用意した。次に、
各菌種の培養液を滅菌済の生理食塩水で希釈し、その希
釈した各菌種の培養液0.1mlをそれぞれ二つのシャ
ーレにとった。そして、各菌種の培養液上にそれぞれフ
ィルム試験片A2 ,B2 を置き、一夜放置した。その
後、各シャーレに2mlの滅菌済の生理食塩水を加え、
よく振り混ぜた後、液中の生菌数(X)を測定し、これ
からフィルム下の生菌数を求めた。この試験結果を図5
に示す。図5から、第一実施例の方法による処理を行わ
なかったフィルム試験片B2 では、黄色ブドウ球菌に対
しては、フィルム下の生菌数が9.2×104 個/m
l、緑膿菌に対しては、フィルム下の生菌数が1.6×
105 個/ml、大腸菌に対しては、フィルム下の生菌
数が1.5×105 個/mlであった。一方、第一実施
例の方法による処理を行ったフィルム試験片A2 では、
各菌種に対して、液中の生菌数(X)が検出されなかっ
た。このため、フィルム下では生菌数は測定限界(20
個)以下であると考えられる。したがって、第一実施例
の方法で処理された基材フィルムは、十分な抗菌効果を
有することが確認された。
Next, a test for confirming the antibacterial effect was conducted on the substrate film treated by the above method. Here, three kinds of test bacteria were used: Staphylococcus aureus (Staphylococcus aureus), Pseudomonas aeruginosa (Pseudomonas aeruginosa), and Escherichia coli (Escherichia coli). First, a film test piece A 2 produced using a substrate film treated by the above method and a film test piece B 2 produced using a substrate film not subjected to such treatment were prepared. next,
The culture solution of each bacterial species was diluted with sterilized physiological saline, and 0.1 ml of the diluted culture solution of each bacterial species was put into two Petri dishes. Then, the film test pieces A 2 and B 2 were placed on the culture solutions of the respective bacterial species and left overnight. Then add 2 ml of sterilized saline to each dish,
After shaking well, the viable cell count (X) in the solution was measured, and the viable cell count under the film was determined from this. This test result is shown in FIG.
Shown in. From FIG. 5, in the film test piece B 2 which was not treated by the method of the first example, the viable cell count under the film was 9.2 × 10 4 cells / m for Staphylococcus aureus.
l, Pseudomonas aeruginosa, the number of viable bacteria under the film is 1.6 ×
As for 10 5 cells / ml, the viable cell count under the film was 1.5 × 10 5 cells / ml for E. coli. On the other hand, in the film test piece A 2 treated by the method of the first embodiment,
The viable cell count (X) in the liquid was not detected for each bacterial species. Therefore, the viable cell count under the film is below the measurement limit (20
It is considered to be less than or equal to. Therefore, it was confirmed that the substrate film treated by the method of the first example has a sufficient antibacterial effect.

【0034】第一実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方
法では、抗菌・抗黴剤として3−ヨード−2−プロピニ
ルブチルカーバメートを使用し、抗菌・抗黴剤を放射線
硬化樹脂に含有させたコーティング剤を、たとえば基材
フィルムの表面に塗布した後、電子線をコーティング剤
の表面に照射して、コーティング剤の硬化被膜を形成す
ることにより、基材フィルムに十分な抗菌性及び抗黴性
を持たせることができる。特に、本発明者等が行った試
験によれば、かかる方法で処理した基材フィルムは、抗
菌力・抗黴力というよりも、殺菌力・殺黴力を持つこと
が確認された。
In the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the first embodiment, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate is used as the antibacterial / antifungal agent, and the antibacterial / antifungal agent is contained in the radiation curable resin. For example, after applying the coating agent thus applied to the surface of the base material film, the surface of the coating material is irradiated with an electron beam to form a cured coating film of the coating material, so that the base material film has sufficient antibacterial and antibacterial properties. It can have moldiness. In particular, according to the tests conducted by the present inventors, it was confirmed that the base material film treated by such a method has a bactericidal activity and a fungicidal activity rather than an antibacterial activity and an antifungal activity.

【0035】また、抗菌・抗黴剤の添加量は微量でよい
ので、抗菌・抗黴剤を無駄なく有効に使用することがで
き、コスト低下を図ることができると共に、コーティン
グ剤の透明度はそれ程低下しない。さらに、抗菌・抗黴
剤には金属が含まれていないので、空気中に曝露したと
きに空気中の物質の影響を受けにくくなり、しかも、燃
焼して廃棄する場合に残渣がほとんど残らず、燃焼処理
が容易になるという利点がある。その上、抗菌・抗黴剤
として用いる3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバ
メートは、毒性や臭気が少なく、光により分解しにくい
という特徴もある。
Further, since the addition amount of the antibacterial / antifungal agent may be very small, the antibacterial / antifungal agent can be effectively used without waste, the cost can be reduced, and the transparency of the coating agent is so high. Does not fall. Furthermore, since the antibacterial / antifungal agent contains no metal, it is less susceptible to the substances in the air when exposed to the air, and when burned for disposal, almost no residue remains. There is an advantage that the burning process becomes easy. In addition, 3-iodo-2-propynyl butyl carbamate used as an antibacterial / antifungal agent has the characteristics that it has little toxicity and odor and is hardly decomposed by light.

【0036】次に、本発明の第二実施例について図面を
参照して説明する。図6は本発明の第二実施例である抗
菌・抗黴性付与材の製造方法を説明するための図であ
る。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a diagram for explaining a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the second embodiment of the present invention.

【0037】第二実施例でも、上記第一実施例と同様
に、抗菌・抗黴性を付与する基材が高分子フィルムであ
る場合について考える。第二実施例の抗菌・抗黴性付与
材の製造方法では、紫外線硬化樹脂の中に有機ハロゲン
系の抗菌・抗黴剤と光重合開始剤とを含有させたもの
を、基材の表面に塗布するコーティング剤として使用す
る。ここで、紫外線硬化樹脂の主要成分は、アクリル系
オリゴマーと、アクリル系モノマーである。また、有機
ハロゲン系の抗菌・抗黴剤としては、有機ヨウ素系又は
有機塩素系等のものであって、紫外線硬化樹脂との相溶
性が極めて良好なものが用いられる。具体的には、抗菌
・抗黴剤として、3−ヨード−2−プロピニルブチルカ
ーバメートを用いる。この抗菌・抗黴剤は、紫外線硬化
樹脂に500ppm程度添加される。一般に、抗菌・抗
黴剤の添加量は、100ppm〜2000ppmの範囲
とするのが好ましく、特に300ppm〜1000pp
mの範囲とするのが望ましい。また、光重合開始剤の種
類としては、水素引抜き型開始剤のベンゾフェノンやそ
れ以外ではオルソベンゾイル安息香酸などがあり、また
分子内開裂型開始剤のベンゾインエーテルなどが挙げら
れる。この光重合開始剤は、紫外線硬化樹脂に対して2
wt%程度添加される。
In the second embodiment, as in the first embodiment, the case where the base material imparting antibacterial / antifungal properties is a polymer film will be considered. In the method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the second embodiment, an ultraviolet-curable resin containing an organic halogen-based antibacterial / antifungal agent and a photopolymerization initiator is added to the surface of the base material. Used as a coating agent to be applied. Here, the main components of the ultraviolet curable resin are an acrylic oligomer and an acrylic monomer. As the organic halogen-based antibacterial / antifungal agent, an organic iodine-based or organic chlorine-based agent having extremely good compatibility with the ultraviolet curable resin is used. Specifically, 3-iodo-2-propynylbutyl carbamate is used as an antibacterial / antifungal agent. This antibacterial / antifungal agent is added to the UV curable resin in an amount of about 500 ppm. Generally, the amount of the antibacterial / antifungal agent added is preferably in the range of 100 ppm to 2000 ppm, particularly 300 ppm to 1000 pp.
It is desirable to set it in the range of m. Further, as the type of the photopolymerization initiator, there are benzophenone which is a hydrogen abstraction type initiator and orthobenzoylbenzoic acid other than the above, and benzoin ether which is an intramolecular cleavage type initiator. This photopolymerization initiator is 2
About wt% is added.

【0038】第二実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方
法では、まず、図6(a)に示すように、紫外線硬化樹
脂14、有機ハロゲン系の抗菌・抗黴剤16a及び光重
合開始剤18を混合したコーティング剤10aを、基材
フィルム2の表面に塗布する。ここで、図6では、抗菌
・抗黴剤16a及び光重合開始剤18が紫外線硬化樹脂
14の中に固形物として存在しているように描かれてい
るが、実際には、抗菌・抗黴剤16a及び光重合開始剤
18は紫外線硬化樹脂14の中によく溶け込んでいる。
In the method of manufacturing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the second embodiment, first, as shown in FIG. 6A, the ultraviolet curable resin 14, the organic halogen-based antibacterial / antifungal agent 16a and the photopolymerization are used. The coating agent 10 a mixed with the initiator 18 is applied to the surface of the base film 2. Here, in FIG. 6, the antibacterial / antifungal agent 16a and the photopolymerization initiator 18 are illustrated as being present as solids in the ultraviolet curable resin 14, but in reality, the antibacterial / antifungal agent is actually used. The agent 16a and the photopolymerization initiator 18 are well dissolved in the ultraviolet curable resin 14.

【0039】次に、図6(b)に示すように、基材フィ
ルム2に塗布したコーティング剤10aに紫外線を照射
する。すると、光重合開始剤18によりラジカルが容易
に生成され、これにより、モノマー及び/又はオリゴマ
ーの重合反応や架橋反応が連鎖的に起こって重合体が形
成される。その結果、コーティング剤10aの硬化被膜
が得られる。ここで、塗布したコーティング剤10aの
硬化被膜の膜厚は、1μm〜50μmの範囲とすること
が好ましい。特に、その硬化被膜の膜厚の下限は、表面
耐久性を確保する等のために、2μmとすることが望ま
しく、一方、その硬化膜厚の上限は、硬化被膜によって
基材フィルム2に大きな反りが生じるのを防止するため
に、20μmとすることが望ましい。また、紫外線を照
射する装置においては、たとえばランプ負荷(単位アー
ク長当たりの管入力)が80W/cm〜320W/cm
である高圧水銀灯が用いられる。そして、かかる高圧水
銀灯で紫外線を数秒〜数十秒間照射している。こうし
て、第二実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方法が終了
し、基材フィルム2に抗菌性及び抗黴性が付与される。
Next, as shown in FIG. 6 (b), the coating agent 10a applied to the base film 2 is irradiated with ultraviolet rays. Then, a radical is easily generated by the photopolymerization initiator 18, whereby a polymerization reaction or a cross-linking reaction of the monomer and / or oligomer occurs in a chain to form a polymer. As a result, a cured film of the coating agent 10a is obtained. Here, the thickness of the cured coating film of the applied coating agent 10a is preferably in the range of 1 μm to 50 μm. In particular, the lower limit of the film thickness of the cured film is preferably 2 μm in order to ensure the surface durability and the like, while the upper limit of the cured film thickness is a large warp of the base film 2 due to the cured film. It is desirable that the thickness be 20 μm in order to prevent the occurrence of In an apparatus that irradiates ultraviolet rays, for example, the lamp load (tube input per unit arc length) is 80 W / cm to 320 W / cm.
A high pressure mercury lamp is used. Then, the high-pressure mercury lamp is used to irradiate ultraviolet rays for several seconds to several tens of seconds. Thus, the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material of the second embodiment is completed, and the base film 2 is provided with antibacterial property and antifungal property.

【0040】次に、本発明者等は、第二実施例の抗菌・
抗黴性付与材の製造方法による処理を施した基材フィル
ムについて、抗菌効果を確認する試験と防黴効果を確認
する試験を行った。
Next, the inventors of the present invention carried out the antibacterial treatment of the second embodiment.
A test for confirming the antibacterial effect and a test for confirming the antifungal effect were performed on the base film treated by the method for producing the antifungal property-imparting material.

【0041】これらの試験では、基材フィルムとして、
東レ(株)製のルミラ(登録商標)(ポリエステルフィ
ルム(PET))を使用した。この基材フィルムの厚さ
は100μmである。また、コーティング剤として、上
記第一実施例での試験で用いたコーティング剤に、光重
合開始剤としてのベンゾインイソプロピルエーテルを2
wt%添加したものを用いた。次に、このコーティング
剤を基材フィルムにメイヤーバーコータで、厚さが5μ
mになるように塗布した。その後、岩崎電気(株)製の
高圧水銀灯(ランプ負荷80W/cm)を用いて、塗布
したコーティング剤の表面に、紫外線を高さ10cmの
位置から10秒間照射することにより、コーティング剤
の硬化被膜を形成した。
In these tests, as the base film,
Lumira (registered trademark) (polyester film (PET)) manufactured by Toray Industries, Inc. was used. The base film has a thickness of 100 μm. In addition, as a coating agent, benzoin isopropyl ether as a photopolymerization initiator was added to the coating agent used in the test in the first example.
The thing added wt% was used. Next, apply this coating agent to the base film with a Mayer bar coater to a thickness of 5μ.
It was applied so that it would be m. After that, by using a high pressure mercury lamp (lamp load 80 W / cm) manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., the surface of the applied coating agent is irradiated with ultraviolet rays from a position of 10 cm in height for 10 seconds, whereby a cured coating film of the coating agent is obtained. Was formed.

【0042】そして、こうして得られた基材フィルムに
ついて、防黴試験及び抗菌試験を行った。ここで、かか
る防黴試験及び抗菌試験は、上記第一実施例での防黴試
験及び抗菌試験と同様の方法で行った。このため、その
手順等の詳細な説明は省略する。防黴試験の結果、第二
実施例の方法による処理を行った基材フィルムでは、上
記第一実施例での実験と同様に、放置後28日目でも黴
の発育が認められなかった。また、抗菌試験の結果、第
二実施例の方法による処理を行った基材フィルムでは、
上記第一実施例での実験と同様に、液中の生菌数が検出
されず、したがって、フィルム下では生菌数が測定限界
(20個)以下であると考えられる。このように、第二
実施例の方法で処理された基材フィルムは、十分な抗菌
効果及び抗黴効果を有することが確認された。
Then, the base film thus obtained was subjected to a mildew proof test and an antibacterial test. Here, the antifungal test and the antibacterial test were performed in the same manner as the antifungal test and the antibacterial test in the first example. Therefore, detailed description of the procedure and the like will be omitted. As a result of the mildew proof test, in the substrate film treated by the method of the second example, similar to the experiment in the first example, no mold growth was observed even after 28 days of standing. Further, as a result of the antibacterial test, in the base film treated by the method of the second example,
Similar to the experiment in the above-mentioned first example, the viable cell count in the liquid was not detected, and therefore it is considered that the viable cell count is below the measurement limit (20) under the film. Thus, it was confirmed that the base film treated by the method of the second example had a sufficient antibacterial effect and antifungal effect.

【0043】第二実施例の抗菌・抗黴性付与材の製造方
法では、抗菌・抗黴剤として3−ヨード−2−プロピニ
ルブチルカーバメートを使用し、抗菌・抗黴剤及び光重
合開始剤を紫外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤
を、たとえば基材フィルムの表面に塗布した後、紫外線
をコーティング剤の表面に照射して、コーティング剤の
硬化被膜を形成することにより、基材フィルムに十分な
抗菌性及び抗黴性を持たせることができる。特に、本発
明者等が行った試験によれば、かかる方法で処理した基
材フィルムは、抗菌力・抗黴力というよりも、殺菌力・
殺黴力を持つことが確認された。その他の効果は、上記
第一実施例と同様である。
In the method for producing the antibacterial / antifungal agent of the second embodiment, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate is used as the antibacterial / antifungal agent, and the antibacterial / antifungal agent and the photopolymerization initiator are used. The coating agent contained in the ultraviolet curable resin is applied to the surface of the base material film, for example, and then the surface of the coating material is irradiated with ultraviolet rays to form a cured coating film of the coating material. It can have antibacterial and antifungal properties. In particular, according to the tests conducted by the present inventors, the base film treated by such a method has a bactericidal power, rather than an antibacterial power / antifungal power.
It has been confirmed that it has a sterilizing effect. Other effects are similar to those of the first embodiment.

【0044】尚、本発明は上記の各実施例に限定される
ものではなく、その要旨の範囲内において種々の変形が
可能である。上記の各実施例では、抗菌・抗黴剤として
3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメートを用い
た場合について説明したが、たとえば、抗菌・抗黴剤と
して、有機ハロゲン系のものであって、分解温度が12
0℃で熱安定性が非常によく、防黴塗料などに使用され
るN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′−(フルオ
ロジクロロメチルチオ)−スルファミドを用いてもよ
い。本発明者等は、抗菌・抗黴剤としてN,N−ジメチ
ル−N′−フェニル−N′−(フルオロジクロロメチル
チオ)−スルファミドを用いた場合について、上記の防
黴試験・抗菌試験を行ったところ、同様の結果が得られ
た。また、抗菌・抗黴剤としては、3−ヨード−2−プ
ロピニルブチルカーバメートと、N,N−ジメチル−
N′−フェニル−N′−(フルオロジクロロメチルチ
オ)−スルファミドとを混合させたものを用いてもよ
い。
The present invention is not limited to the above embodiments, but various modifications can be made within the scope of the invention. In each of the above examples, the case where 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate is used as the antibacterial / antifungal agent has been described. For example, the antibacterial / antifungal agent is an organic halogen-based one, and is decomposed. Temperature is 12
N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide, which has a very good thermal stability at 0 ° C. and is used for antifungal paints, may be used. The present inventors conducted the above-mentioned antifungal test / antibacterial test when N, N-dimethyl-N′-phenyl-N ′-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide was used as the antibacterial / antifungal agent. However, similar results were obtained. As antibacterial / antifungal agents, 3-iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-
A mixture of N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide may be used.

【0045】また、上記の第一実施例では、放射線硬化
樹脂としてアクリル系のものを用いた場合について説明
したが、放射線硬化樹脂としては、たとえばメタクリル
系のものを用いてもよい。一般には、放射線のエネルギ
ーにより硬化する樹脂であればよい。また、第二実施例
においても、紫外線硬化樹脂として、たとえばメタクリ
ル系のものを用いてもよい。
In the first embodiment described above, the case where the acrylic resin is used as the radiation curable resin has been described, but the methacrylic resin may be used as the radiation curable resin. Generally, any resin can be used as long as it is cured by the energy of radiation. Also in the second embodiment, as the ultraviolet curable resin, for example, a methacrylic resin may be used.

【0046】更に、上記の第一実施例では、電子線をコ
ーティング剤の表面に照射してコーティング剤の硬化被
膜を形成する場合について説明したが、電子線の代わり
に、たとえばγ線等を用いてもよい。電子線以外の各種
放射線を照射してコーティング剤の硬化被膜を形成する
ことにより、基材に十分な抗菌性及び抗黴性を持たせる
ことができる。ただし、γ線については、その線量率が
電子線の線量率に比べて非常に小さいので、たとえば2
0kGyの線量を得るためにはγ線を数時間照射しなけ
ればならない。このため、本発明による処理をγ線を用
いて行う場合には、インライン化が困難であり、したが
って、現状では、電子線を用いて行うことが望ましいと
思われる。
Further, in the above-mentioned first embodiment, the case where the surface of the coating agent is irradiated with the electron beam to form the cured coating film of the coating agent has been described. However, instead of the electron beam, for example, γ ray or the like is used. May be. By irradiating various kinds of radiation other than the electron beam to form a cured coating film of the coating agent, it is possible to give the substrate sufficient antibacterial and antifungal properties. However, since the dose rate of γ-rays is much smaller than that of electron beams,
To obtain a dose of 0 kGy, gamma rays have to be irradiated for several hours. For this reason, when the process according to the present invention is performed using γ-rays, it is difficult to perform in-line processing. Therefore, at present, it seems desirable to use electron beams.

【0047】[0047]

【発明の効果】以上説明したように請求項1記載の発明
によれば、抗菌・抗黴剤として3−ヨード−2−プロピ
ニルブチルカーバメート及びN,N−ジメチル−N′−
フェニル−N′−(フルオロジクロロメチルチオ)−ス
ルファミドのうち少なくとも一方を含むものを使用し、
抗菌・抗黴剤を放射線硬化樹脂に含有させたコーティン
グ剤を、たとえば基材フィルムの表面に塗布した後、放
射線をコーティング剤の表面に照射して、コーティング
剤の硬化被膜を形成することにより、基材フィルムに十
分な抗菌性及び抗黴性を持たせることができ、また、抗
菌・抗黴剤の添加量は微量でよいので、無駄なく使用す
ることができ、コスト低下を図ることができると共に、
コーティング剤の透明度をそれ程低下させることがな
く、さらに、抗菌・抗黴剤には金属が含まれていないの
で、空気中に曝露したときに空気中の物質の影響を受け
にくくなると共に、燃焼して廃棄する場合に残渣がほと
んど残らず、燃焼処理を容易に行うことができる抗菌・
抗黴性付与材の製造方法を提供することができる。
As described above, according to the invention of claim 1, 3-iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-N'- are used as antibacterial and antifungal agents.
A compound containing at least one of phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide is used,
A coating agent containing an antibacterial / antifungal agent contained in a radiation curable resin, for example, after being applied to the surface of a base film, the surface of the coating agent is irradiated with radiation to form a cured coating film of the coating agent. The base film can have sufficient antibacterial and antifungal properties, and since the addition amount of the antibacterial and antifungal agent can be very small, it can be used without waste and the cost can be reduced. With
It does not significantly reduce the transparency of the coating agent, and since the antibacterial and antifungal agent does not contain any metal, it becomes less susceptible to the substances in the air when exposed to the air and burns. Antibacterial that can be easily burnt with almost no residue when discarded
It is possible to provide a method for producing an antifungal agent.

【0048】請求項3記載の発明によれば、抗菌・抗黴
剤として3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメー
ト及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′−(フ
ルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのうち少な
くとも一方を含むものを使用し、抗菌・抗黴剤及び光重
合開始剤を紫外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤
を、たとえば基材フィルムの表面に塗布した後、紫外線
をコーティング剤の表面に照射して、コーティング剤の
硬化被膜を形成することにより、基材フィルムに十分な
抗菌性及び抗黴性を持たせることができ、また、抗菌・
抗黴剤の添加量は微量でよいので、無駄なく使用するこ
とができ、コスト低下を図ることができると共に、コー
ティング剤の透明度をそれ程低下させることがなく、さ
らに、抗菌・抗黴剤には金属が含まれていないので、空
気中に曝露したときに空気中の物質の影響を受けにくく
なると共に、燃焼して廃棄する場合に残渣がほとんど残
らず、燃焼処理を容易に行うことができる抗菌・抗黴性
付与材の製造方法を提供することができる。
According to the invention of claim 3, 3-iodo-2-propynylbutylcarbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide are used as antibacterial and antifungal agents. Using a coating containing at least one of the above, a coating agent containing an antibacterial / antifungal agent and a photopolymerization initiator in an ultraviolet curable resin, for example, is applied to the surface of the base film, and then ultraviolet rays are applied to the surface of the coating agent By irradiating the substrate with the composition to form a cured coating film of the coating agent, the base film can have sufficient antibacterial and antifungal properties.
Since the addition amount of the antifungal agent may be very small, the antifungal agent can be used without waste, the cost can be reduced, and the transparency of the coating agent is not so deteriorated. Since it contains no metal, it is less susceptible to the substances in the air when exposed to the air, and when burned for disposal, almost no residue remains, and combustion treatment can be performed easily. It is possible to provide a method for producing an antifungal material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第一実施例である抗菌・抗黴性付与材
の製造方法を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to the first embodiment of the present invention.

【図2】その抗菌・抗黴性付与材の製造方法に使用する
電子線照射装置の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an electron beam irradiation apparatus used in the method for producing the antibacterial / antifungal property-imparting material.

【図3】その電子線照射装置の電子線発生部の概略回路
図である。
FIG. 3 is a schematic circuit diagram of an electron beam generator of the electron beam irradiation device.

【図4】本発明の第一実施例の方法による処理を施した
フィルム、及び銀イオン含有ゼオライトを抗菌・抗黴剤
として用いて処理したフィルムについて防黴試験を行っ
た結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing the results of antifungal tests conducted on the film treated by the method of the first embodiment of the present invention and the film treated using silver ion-containing zeolite as an antibacterial / antifungal agent. .

【図5】本発明の第一実施例の方法による処理を施した
フィルムについて抗菌試験を行った結果を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing the results of an antibacterial test performed on the film treated by the method of the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第二実施例である抗菌・抗黴性付与材
の製造方法を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a method for producing an antibacterial / mildewproofing material, which is a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 基材フィルム 10,10a コーティング剤 12 放射線硬化樹脂 14 紫外線硬化樹脂 16,16a 抗菌・抗黴剤 18 光重合開始剤 50 電子線発生部 52 ターミナル 52a フィラメント 52b ガン構造体 52c グリッド 54 加速管 56a 加熱用電源 56b 制御用直流電源 56c 加速用直流電源 60 照射室 62 照射空間 70 照射窓部 72 窓箔 74 窓枠構造体 2 Base film 10,10a coating agent 12 Radiation curable resin 14 UV curable resin 16,16a Antibacterial and antifungal agents 18 Photopolymerization initiator 50 electron beam generator 52 terminal 52a filament 52b Gun structure 52c grid 54 Accelerator 56a Heating power supply 56b Control DC power supply 56c DC power supply for acceleration 60 irradiation room 62 irradiation space 70 Irradiation window 72 Window foil 74 Window frame structure

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐野 陽一 大阪市東淀川区東淡路2丁目10番15号 株式会社片山化学工業研究所内 (56)参考文献 特開 平1−316265(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08J 7/00 C08J 7/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoichi Sano 2-10-15 Higashi-Awaji, Higashiyodogawa-ku, Osaka City Katayama Chemical Research Institute Co., Ltd. (56) Reference JP-A-1-316265 (JP, A) ( 58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C08J 7/00 C08J 7/04

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 3−ヨード−2−プロピニルブチルカー
バメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′
−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのう
ち少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤を放射線硬化樹脂
に含有させたコーティング剤を基材上に塗布した後、前
記コーティング剤の表面に放射線を照射して前記コーテ
ィング剤の硬化被膜を形成することにより前記基材に抗
菌性及び抗黴性を付与することを特徴とする抗菌・抗黴
性付与材の製造方法。
1. 3-Iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '.
A coating agent containing an antibacterial / antifungal agent containing at least one of-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide in a radiation curable resin is applied on a substrate, and then the surface of the coating agent is irradiated with radiation to obtain A method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material, which comprises imparting antibacterial property and antifungal property to the substrate by forming a cured film of a coating agent.
【請求項2】 前記抗菌・抗黴剤を前記放射線硬化樹脂
に100〜2000ppm添加したことを特徴とする請
求項1記載の抗菌・抗黴性付与材の製造方法。
2. The method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material according to claim 1, wherein 100 to 2000 ppm of the antibacterial / antifungal agent is added to the radiation curable resin.
【請求項3】 3−ヨード−2−プロピニルブチルカー
バメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′
−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのう
ち少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤と、光重合開始剤
とを紫外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤を基材
上に塗布した後、前記コーティング剤の表面に紫外線を
照射して前記コーティング剤の硬化被膜を形成すること
により前記基材に抗菌性及び抗黴性を付与することを特
徴とする抗菌・抗黴性付与材の製造方法。
3. 3-Iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '.
-(Fluorodichloromethylthio) -sulfamide antibacterial and antifungal agent containing at least one, and a photopolymerization initiator after coating a coating agent containing ultraviolet curing resin on a substrate, the surface of the coating agent A method for producing an antibacterial / antifungal property-imparting material, which comprises imparting antibacterial properties and antifungal properties to the substrate by irradiating the substrate with ultraviolet rays to form a cured coating film of the coating agent.
【請求項4】 3−ヨード−2−プロピニルブチルカー
バメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′
−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのう
ち少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤を放射線硬化樹脂
に含有させたコーティング剤を基材上に塗布した後、前
記コーティング剤の表面に放射線を照射して前記コーテ
ィング剤の硬化被膜を形成したことを特徴とする抗菌・
抗黴性付与材。
4. 3-Iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '.
A coating agent containing an antibacterial / antifungal agent containing at least one of-(fluorodichloromethylthio) -sulfamide in a radiation curable resin is applied on a substrate, and then the surface of the coating agent is irradiated with radiation to obtain Antibacterial characterized by the formation of a cured film of the coating agent
Antifungal material.
【請求項5】 前記抗菌・抗黴剤を前記放射線硬化樹脂
に100〜2000ppm添加したことを特徴とする請
求項4記載の抗菌・抗黴性付与材。
5. The antibacterial / antifungal agent according to claim 4, wherein the antibacterial / antifungal agent is added to the radiation curable resin in an amount of 100 to 2000 ppm.
【請求項6】 3−ヨード−2−プロピニルブチルカー
バメート及びN,N−ジメチル−N′−フェニル−N′
−(フルオロジクロロメチルチオ)−スルファミドのう
ち少なくとも一方を含む抗菌・抗黴剤と、光重合開始剤
とを紫外線硬化樹脂に含有させたコーティング剤を基材
上に塗布した後、前記コーティング剤の表面に紫外線を
照射して前記コーティング剤の硬化被膜を形成したこと
を特徴とする抗菌・抗黴性付与材。
6. 3-Iodo-2-propynylbutyl carbamate and N, N-dimethyl-N'-phenyl-N '
-(Fluorodichloromethylthio) -sulfamide antibacterial and antifungal agent containing at least one, and a photopolymerization initiator after coating a coating agent containing ultraviolet curing resin on a substrate, the surface of the coating agent An antibacterial / antifungal property-imparting material, characterized in that a cured coating film of the above-mentioned coating agent is formed by irradiating the surface with ultraviolet rays.
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